KR101824035B1 - backlight unit and display apparatus using the same - Google Patents

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Abstract

백라이트 유닛 및 그를 이용한 디스플레이 장치에 관한 것으로, 제 1 리플렉터(reflector)와, 제 2 리플렉터와, 제 1, 제 2 리플렉터 사이에 배치되는 적어도 하나의 광원(light source)을 포함하고, 제 2 리플렉터는 정반사영역(specular reflection area)과 난반사영역(diffuse reflection area)을 포함하며, 난반사영역은 입사광을 램버시안 분포(lambertian distribution) 및 가우시안 분포(gaussian distribution) 중 적어도 어느 하나로 반사하고, 난반사영역의 모든 지점(point)은, 각 지점으로 입사되는 광의 입사각이 각 지점을 지나는 법선을 기준으로 적어도 55도 이상일 수 있다.The present invention relates to a backlight unit and a display device using the same and includes a first reflector, a second reflector, and at least one light source disposed between the first and second reflectors, A specular reflection area and a diffuse reflection area. The irregular reflection area reflects the incident light to at least one of a lambertian distribution and a gaussian distribution, the point of incidence of light incident on each point may be at least 55 degrees relative to the normal passing through each point.

Description

백라이트 유닛 및 그를 이용한 디스플레이 장치{backlight unit and display apparatus using the same}BACKLIGHT UNIT AND DISPLAY APPARATUS USING THE SAME

실시예는 백라이트 유닛 및 그를 이용한 디스플레이 장치에 관한 것이다.An embodiment relates to a backlight unit and a display device using the same.

일반적으로, 대표적인 대형 디스플레이 장치로는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 등이 있다.Typically, typical large-sized display devices include a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and the like.

자발광 방식의 PDP와는 다르게 LCD는 자체적인 발광소자의 부재로 인해 별도의 백라이트 유닛이 필수적이다.Unlike a self-luminous PDP, a backlight unit is indispensable because of the absence of its own light emitting device.

LCD에 사용되는 백라이트 유닛은 광원의 위치에 따라 엣지(edge) 방식의 백라이트 유닛과 직하 방식의 백라이트 유닛으로 구분되는데, 엣지 방식은 LCD 패널의 좌우 측면 또는 상하 측면에 광원을 배치하고 도광판을 이용하여 빛을 전면에 고르게 분산시키므로 빛의 균일성이 좋고 패널 두께의 초박형화가 가능하다.The backlight unit used in the LCD is divided into an edge type backlight unit and a direct-type backlight unit according to the position of the light source. In the edge type, a light source is disposed on the right and left sides or upper and lower sides of the LCD panel, Since the light is uniformly distributed over the surface, uniformity of light is good and the thickness of the panel can be made very thin.

직하 방식은 보통 20인치 이상의 디스플레이에 사용되는 기술로써, 패널 하부에 광원을 복수 개로 배치하므로 엣지 방식에 비해 광효율이 우수한 장점이 있어 고휘도를 요구하는 대형 디스플레이에 주로 사용된다.The direct-type method is generally used for a display of 20 inches or more, and since the light source is arranged at a lower portion of the panel, the light efficiency is higher than that of the edge method. Thus, it is mainly used for a large display requiring high brightness.

기존 엣지 방식이나 직하 방식의 백라이트 유닛의 광원으로는 CCFL(Cold Cathode Fluorescent Lamp)를 이용하였다.CCFL (Cold Cathode Fluorescent Lamp) is used as a light source of the backlight unit of the conventional edge method or direct-down type.

그러나, CCFL을 이용한 백라이트 유닛은 항상 CCFL에 전원이 인가되므로 상당량의 전력이 소모되며, CRT에 비해 약 70% 수준의 색 재현율, 수은이 첨가됨에 따른 환경 오염 문제들이 단점으로 지적되고 있다.However, since the backlight unit using CCFL is always supplied with power to the CCFL, a considerable amount of power is consumed, and a color reproduction ratio of about 70% as compared with CRT and environmental pollution problems caused by the addition of mercury are pointed out as disadvantages.

상기 문제점을 해소하기 위한 대체품으로 현재 LED(Light Emitting diode)를 이용한 백라이트 유닛에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있다.BACKGROUND ART [0002] As a substitute product for solving the above problem, researches on a backlight unit using an LED (Light Emitting Diode) have been actively conducted.

LED를 백라이트 유닛으로 사용하는 경우, LED 어레이의 부분적인 온/오프가 가능하여 소모전력을 획기적으로 줄일 수 있으며, RGB LED의 경우, NTSC (National Television System Committee) 색 재현 범위 사양의 100%를 상회하여 보다 생생한 화질을 소비자에게 제공할 수 있다.When the LED is used as a backlight unit, it is possible to partially turn on / off the LED array, thereby drastically reducing the power consumption. In the case of the RGB LED, the color reproduction range specification exceeding 100% of the National Television System Committee (NTSC) So that a more vivid image quality can be provided to the consumer.

또한, 반도체 공정으로 제작되는 LED는 환경에 무해한 것이 특징이다.In addition, the LED manufactured by the semiconductor process is characterized by being harmless to the environment.

현재 상기와 같은 장점을 가진 LED를 채용한 LCD제품들이 속속들이 출시되고 있으나, 기존 CCFL 광원과 구동 메커니즘이 상이하므로, 구동 드라이버, PCB 기판 등이 고가이다.Currently, LCD products employing LEDs having the above advantages are being marketed extensively. However, since the conventional CCFL light source is different from the driving mechanism, driving drivers and PCB substrates are expensive.

따라서, LED 백라이트 유닛은 아직 고가의 LCD 제품에만 적용되고 있다.Therefore, the LED backlight unit is only applied to expensive LCD products.

실시예는 정반사 영역과 난반사 영역을 갖는 리플렉터를 이용하여, 에어 가이드(air guide)를 갖는 백라이트 유닛 및 그를 이용한 디스플레이 장치를 제공하고자 한다.The embodiment is intended to provide a backlight unit having an air guide and a display device using the same, by using a reflector having a regular reflection area and a diffusive reflection area.

실시예는 제 1 리플렉터(reflector)와, 제 2 리플렉터와, 제 1, 제 2 리플렉터 사이에 배치되는 적어도 하나의 광원(light source)을 포함하고, 제 2 리플렉터는 정반사영역(specular reflection area)과 난반사영역(diffuse reflection area)을 포함하며, 난반사영역은 입사광을 램버시안 분포(lambertian distribution) 및 가우시안 분포(gaussian distribution) 중 적어도 어느 하나로 반사하고, 난반사영역의 모든 지점(point)은, 각 지점으로 입사되는 광의 입사각이 각 지점을 지나는 법선을 기준으로 적어도 55도 이상일 수 있다.An embodiment includes a first reflector, a second reflector, and at least one light source disposed between the first and second reflectors, wherein the second reflector includes a specular reflection area The diffuse reflection region reflects the incident light to at least one of a lambertian distribution and a gaussian distribution, and all the points of the diffuse reflection region are located at each point The incidence angle of incident light may be at least 55 degrees relative to the normal passing through each point.

여기서, 난반사영역은 제 2 리플렉터의 전체 영역 중 50 - 95%를 차지할 수 있다.Here, the diffuse reflection area may occupy 50 to 95% of the entire area of the second reflector.

또는, 난반사영역은 제 2 리플렉터의 전체 영역 중 70 - 80%를 차지할 수도 있다.Alternatively, the diffuse reflection area may occupy 70 to 80% of the entire area of the second reflector.

이어, 제 2 리플렉터의 정반사영역과 난반사영역의 면적 비율은 1 : 1 - 20일 수 있다.Then, the area ratio of the regular reflection area to the irregular reflection area of the second reflector may be 1: 1 - 20.

다음, 난반사영역은, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어진 제 1 층과, 제 1 층 위에 형성되고, TiO2 및 SiO2 중 적어도 어느 한 입자들로 이루어진 제 2 층을 포함할 수도 있다.Next, the diffuse reflection region may include a first layer made of polyethylene terephthalate (PET) and a second layer formed on the first layer and made of at least one of TiO2 and SiO2.

그리고, 난반사영역과 광원 사이의 거리는 정반사영역과 광원 사이의 거리보다 더 멀 수 있다.The distance between the diffuse reflection region and the light source may be longer than the distance between the regular reflection region and the light source.

또한, 정반사영역은 제 1 리플렉터와 중첩될 수 있다.Further, the regular reflection area can be overlapped with the first reflector.

이어, 제 2 리플렉터는 적어도 하나의 경사면(inclined surface)과 적어도 하나의 평면(flat surface)을 포함하고, 제 2 리플렉터의 평면은 제 1 리플렉터와 평행한 면일 수 있다.Then, the second reflector may include at least one inclined surface and at least one flat surface, and the plane of the second reflector may be a plane parallel to the first reflector.

또는, 제 2 리플렉터는 적어도 하나의 변곡점을 갖는 적어도 2개 경사면을 포함하고, 변곡점을 중심으로 인접하는 제 1, 제 2 경사면의 곡률은 서로 다를 수 있다.Alternatively, the second reflector includes at least two inclined surfaces having at least one inflection point, and curvatures of the first and second inclined surfaces adjacent to each other around the inflection point may be different from each other.

다음, 제 2 리플렉터로부터 일정 간격으로 공간을 두고 배치되는 광학 부재(optical member)를 더 포함하고, 제 2 리플렉터와 상기 광학 부재 사이의 공간에는 에어 가이드가 형성될 수도 있다.Next, an air guide may be formed in a space between the second reflector and the optical member, and an optical member disposed at a predetermined distance from the second reflector.

다른 실시예는, 제 1 리플렉터(reflector)와, 제 2 리플렉터와, 제 1, 제 2 리플렉터 사이에 배치되는 적어도 하나의 광원(light source)을 포함하고, 제 2 리플렉터는 정반사영역(specular reflection area)과 제 1, 제 2 난반사영역(diffuse reflection area)들을 포함하며, 제 1, 제 2 난반사영역들은 입사광을 램버시안 분포(lambertian distribution) 및 가우시안 분포(gaussian distribution) 중 적어도 어느 하나로 반사하고, 제 1 난반사영역의 모든 지점(point)은, 각 지점으로 입사되는 광의 입사각이 각 지점을 지나는 법선을 기준으로 적어도 55도 이상이며, 제 2 난반사영역의 모든 지점(point)은, 각 지점으로 입사되는 광의 입사각이 각 지점을 지나는 법선을 기준으로 적어도 60도 이상일 수 있다.Another embodiment includes a first reflector, a second reflector, and at least one light source disposed between the first and second reflectors, wherein the second reflector includes a specular reflection area And first and second diffuse reflection areas. The first and second diffusive reflection areas reflect incident light to at least one of a lambertian distribution and a gaussian distribution, 1 All points in the diffuse reflection region are at least 55 degrees with respect to the normal line passing through each point of light incident on each point and all points of the second diffraction reflection region are incident on each point The angle of incidence of light may be at least 60 degrees relative to the normal passing through each point.

여기서, 제 1 난반사영역은 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많고, 제 2 난반사영역은 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 램버시안 분포로 반사하는 광량이 더 많을 수 있다.Here, the first diffusely reflective region has a greater amount of light reflected by the Gaussian distribution than the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution, and the second diffusive region has a larger amount of light reflected by the Lambertian distribution and a Gaussian distribution The amount of light reflected by the Lambertian cyan distribution may be larger.

그리고, 제 1 난반사영역과 제 2 난반사영역의 면적 비율은 1 : 1 - 5일 수 있다.The area ratio of the first diffusive region and the second diffusive region may be 1: 1-5.

이어, 정반사영역과 제 1 난반사영역의 면적 비율은 1 : 1 - 4일 수도 있다.Then, the area ratio between the regular reflection area and the first diffusive area may be 1: 1-4.

다음, 정반사영역과 제 2 난반사영역의 면적 비율은 1 : 1 - 20일 수 있다.Next, the area ratio of the specular reflection area to the second diffusive reflection area may be 1: 1 - 20.

또한, 제 1 난반사영역은 정반사영역과 제 2 난반사영역 사이에 위치할 수 있다.In addition, the first irregular reflection region may be located between the specular reflection region and the second irregular reflection region.

그리고, 정반사영역과 광원 사이의 거리는 제 1 난반사영역과 광원 사이의 거리보다 더 가깝고, 제 1 난반사영역과 광원 사이의 거리는 제 2 난반사영역과 광원 사이의 거리보다 더 가까울 수 있다.The distance between the regular reflection region and the light source is closer to the distance between the first irregular reflection region and the light source, and the distance between the first diffusive reflection region and the light source may be closer to the distance between the second diffusive reflection region and the light source.

이어, 제 1, 제 2 난반사영역은, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어진 제 1 층과, 제 1 층 위에 형성되고, TiO2 및 SiO2 중 적어도 어느 한 입자들로 이루어진 제 2 층을 포함하고, 제 1 난반사영역에 포함되는 입자량은 제 2 난반사영역에 포함되는 입자량보다 더 적을 수 있다.Next, the first and second diffuse reflection regions include a first layer made of polyethylene terephthalate (PET), a second layer formed on the first layer and made of at least one of TiO2 and SiO2, 1 The amount of particles included in the diffuse reflection region may be smaller than the amount of particles included in the second diffusive reflection region.

실시예들은 정반사영역(specular reflection area)과 난반사영역(diffuse reflection area)을 갖도록 에어 가이드용 리플렉터를 형성함으로써, 무게가 가볍고, 제작단가가 저렴하며, 균일한 휘도를 제공할 수 있다.By forming the reflector for the air guide so as to have a specular reflection area and a diffuse reflection area, the embodiments are light in weight, low in manufacturing cost, and can provide uniform brightness.

따라서, 백라이트 유닛의 경제성 및 신뢰성이 향상될 수 있다.Therefore, the economical and reliability of the backlight unit can be improved.

도 1a 및 도 1b는 제 1 실시예에 따른 백라이트 유닛을 설명하기 위한 도면
도 2는 광의 정반사 특성과 난반사 특성을 설명하기 위한 도면
도 3은 도 1a의 난반사영역에서 반사되는 광의 분포를 보여주는 도면
도 4는 제 2 리플렉터의 난반사영역의 구성을 보여주는 단면도
도 5는 난반사영역의 광반사 특성을 보여주는 그래프
도 6a 및 도 6b는 제 2 리플렉터의 정반사영역에 중첩되는 제 1 리플렉터를 보여주는 도면
도 7a 내지 도 7c는 경사면과 평면을 포함하는 제 2 리플렉터를 보여주는 도면
도 8a 내지 도 8c는 다수의 경사면을 포함하는 제 2 리플렉터를 보여주는 도면
도 9는 단일층 구조의 제 2 리플렉터를 보여주는 단면도
도 10는 이중층 구조의 제 2 리플렉터를 보여주는 단면도
도 11a 및 도 11b는 제 2 실시예에 따른 백라이트 유닛을 설명하기 위한 도면
도 12a는 제 1 난반사영역의 광반사 특성을 보여주는 그래프
도 12b는 제 2 난반사영역의 광반사 특성을 보여주는 그래프
도 13은 2 에지 타입(two edge type)의 제 2 리플렉터를 보여주는 도면
도 14 및 도 15는 4 에지 타입(four edge type)의 제 2 리플렉터를 보여주는 도면
도 16은 광학 부재를 포함하는 백라이트 유닛을 보여주는 도면
도 17는 광학 부재의 형상을 일예로 보여주는 도면
도 18는 제 2 리플렉터의 하부면에 형성된 보강 리브를 보여주는 도면
도 19은 제 2 리플렉터의 상부면에 형성된 지지핀을 보여주는 도면
도 20은 실시예에 따른 백라이트 유닛을 갖는 디스플레이 모듈을 보여주는 도면
도 21 및 도 22는 실시예에 따른 디스플레이 장치를 나타낸 도면
1A and 1B are views for explaining a backlight unit according to the first embodiment;
2 is a diagram for explaining the regular reflection characteristic and the diffuse reflection characteristic of light;
3 is a view showing the distribution of light reflected in the irregular reflection region of FIG. 1A
4 is a cross-sectional view showing the configuration of a diffusive reflective area of the second reflector
5 is a graph showing the light reflection characteristic of the diffusive region
6A and 6B are views showing a first reflector superimposed on the regular reflection area of the second reflector
7A to 7C are views showing a second reflector including an inclined plane and a plane
8A to 8C are views showing a second reflector including a plurality of inclined surfaces
9 is a cross-sectional view showing a second reflector of a single-
10 is a cross-sectional view showing a second reflector of a double-
11A and 11B are views for explaining the backlight unit according to the second embodiment;
12A is a graph showing the light reflection characteristic of the first diffusive region
12B is a graph showing the light reflection characteristic of the second diffusive reflective area
13 is a view showing a second reflector of two edge type
Figs. 14 and 15 are views showing a second reflector of four edge type
16 is a view showing a backlight unit including an optical member
17 is a view showing an example of the shape of the optical member
18 is a view showing a reinforcing rib formed on the lower surface of the second reflector
19 is a view showing a support pin formed on the upper surface of the second reflector
20 is a view showing a display module having a backlight unit according to an embodiment
21 and 22 are views showing a display device according to an embodiment

이하 실시예들을 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. Hereinafter, embodiments will be described with reference to the accompanying drawings.

본 실시예의 설명에 있어서, 각 구성요소(element)의 "상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두 개의 구성요소(element)가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 구성요소(element)가 상기 두 구성요소(element) 사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다.In the description of the present embodiment, in the case of being described as being formed "on or under" of each element, the upper (upper) or lower (lower) on or under includes both the two elements being directly in contact with each other or one or more other elements being indirectly formed between the two elements.

또한 "상(위) 또는 하(아래)(on or under)"로 표현되는 경우 하나의 구성요소(element)를 기준으로 위쪽 방향 뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.Also, when expressed as "on or under", it may include not only an upward direction but also a downward direction with respect to one element.

도 1a 및 도 1b는 제 1 실시예에 따른 백라이트 유닛을 설명하기 위한 도면으로서, 도 1a는 단면도이고, 도 1b는 상면 사시도이다.1A and 1B are views for explaining a backlight unit according to the first embodiment, wherein FIG. 1A is a sectional view and FIG. 1B is a top perspective view.

도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이, 백라이트 유닛은 적어도 하나의 광원(110)을 포함하는 광원 모듈(100), 제 1 리플렉터(reflector)(200) 및 제 2 리플렉터(300)를 포함할 수 있다.1A and 1B, the backlight unit may include a light source module 100 including at least one light source 110, a first reflector 200, and a second reflector 300 have.

여기서, 광원(110)을 포함하는 광원 모듈(100)은 제 1 리플렉터(200)와 제 2 리플렉터(300) 사이에 위치하고, 제 1 리플렉터(200) 또는 제 2 리플렉터(300)에 인접하여 배치될 수 있다.The light source module 100 including the light source 110 is disposed between the first reflector 200 and the second reflector 300 and disposed adjacent to the first reflector 200 or the second reflector 300 .

경우에 따라, 광원 모듈(100)은 제 1 리플렉터(200)에 접촉됨과 동시에 제 2 리플렉터(300)로부터 일정간격 떨어져 배치될 수 있거나, 또는 제 2 리플렉터(300)에 접촉됨과 동시에 제 1 리플렉터(200)로부터 일정간격 떨어져 배치될 수 있다.In some cases, the light source module 100 may be spaced apart from the second reflector 300 at the same time that the light source module 100 contacts the first reflector 200, or may be disposed at a distance from the first reflector 300 200 at regular intervals.

또는, 광원 모듈(100)은 제 1 리플렉터(200)와 제 2 리플렉터(300)로부터 일정간격 떨어져 배치될 수 있거나, 또는 제 1 리플렉터(200)와 제 2 리플렉터(300)에 동시에 접촉될 수도 있다.Alternatively, the light source module 100 may be spaced apart from the first reflector 200 and the second reflector 300, or may be in contact with the first reflector 200 and the second reflector 300 at the same time .

그리고, 광원 모듈(100)은 전극 패턴을 갖는 회로기판 및 광을 생성하는 발광 소자를 포함할 수 있다.The light source module 100 may include a circuit board having an electrode pattern and a light emitting device for generating light.

이때, 회로기판은 적어도 하나의 발광 소자가 실장될 수 있으며, 전원을 공급하는 어댑터와 발광 소자을 연결하기 위한 전극 패턴이 형성되어 있을 수 있다.At this time, at least one light emitting element may be mounted on the circuit board, and an electrode pattern for connecting the adapter supplying the power and the light emitting element may be formed.

예를 들어, 회로기판의 상면에는 발광 소자와 어댑터를 연결하기 위한 탄소나노튜브 전극 패턴이 형성될 수 있다.For example, a carbon nanotube electrode pattern for connecting the light emitting device and the adapter may be formed on the upper surface of the circuit board.

이러한 회로기판은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 유리, 폴리카보네이트(PC) 또는 실리콘(Si) 등으로 이루어져 복수의 광원들(100)이 실장되는 PCB(Printed Circuit Board) 기판일 수 있으며, 필름 형태로 형성될 수 있다.Such a circuit board may be a PCB (Printed Circuit Board) substrate made of polyethylene terephthalate (PET), glass, polycarbonate (PC), silicon (Si) or the like and mounted with a plurality of light sources 100, .

또한, 기판은 단층 PCB, 다층 PCB, 세라믹 기판, 메탈 코아 PCB 등을 선택적으로 사용할 수 있다.In addition, the substrate may be a single layer PCB, a multilayer PCB, a ceramic substrate, a metal core PCB, or the like.

한편, 발광 소자는 발광 다이오드 칩(LED chip)일 수 있으며, 발광 다이오드 칩은 블루 LED 칩 또는 자외선 LED 칩으로 구성되거나 또는 레드 LED 칩, 그린 LED 칩, 블루 LED 칩, 엘로우 그린(Yellow green) LED 칩, 화이트 LED 칩, UV LED 칩 중에서 적어도 하나 또는 그 이상을 조합한 패키지 형태로 구성될 수도 있다.The light emitting diode may be a blue LED chip or an ultraviolet LED chip or a red LED chip, a green LED chip, a blue LED chip, a yellow green LED, Chip, a white LED chip, and a UV LED chip.

그리고, 화이트 LED는 블루 LED 상에 옐로우 인광(Yellow phosphor)을 결합하거나, 블루 LED 상에 레드 인광(Red phosphor)과 그린 인광(Green phosphor)를 동시에 사용하여 구현할 수 있고, 블루 LED 상에 옐로우 인광(Yellow phosphor), 레드 인광(Red phosphor) 및 그린 인광(Green phosphor)를 동시에 사용하여 구현할 수도 있다.The white LED may be realized by combining a yellow phosphor on a blue LED or by simultaneously using a red phosphor and a green phosphor on a blue LED, (Yellow phosphor), Red phosphor (Phosphor) and Green phosphor (Phosphor).

다음, 제 1 리플렉터(200)와 제 2 리플렉터(300) 사이의 빈 공간에는 기존에 사용하던 도광판 없이 에어 가이드(air guide)을 갖도록, 제 1 리플렉터(200)와 제 2 리플렉터(300)는 일정 간격 떨어져 서로 마주볼 수 있다.The first reflector 200 and the second reflector 300 are arranged in a space between the first reflector 200 and the second reflector 300 so as to have an air guide without a light guide plate They can face each other apart.

그리고, 제 1 리플렉터(200)는 반사 코팅 필름 및 반사 코팅 물질층 중 어느 하나로 형성되어, 광원 모듈(100)로부터 생성된 광을 제 2 리플렉터(300) 방향으로 반사시키는 역할을 수행할 수 있다.The first reflector 200 may be formed of one of a reflective coating film and a reflective coating material layer to reflect light generated from the light source module 100 toward the second reflector 300.

또한, 제 1 리플렉터(200)의 표면 중 광원 모듈(100)에 마주보는 표면 위에는 톱니형태의 반사 패턴이 형성되고, 반사 패턴의 표면은 평면 또는 곡면일 수도 있다.In addition, a sawtooth-shaped reflection pattern may be formed on the surface of the first reflector 200 facing the light source module 100, and the surface of the reflection pattern may be flat or curved.

제 1 리플렉터(200)의 표면에 반사 패턴을 형성하는 이유는 광원 모듈에서 생성된 광을 제 2 리플렉터(300)의 중앙영역으로 반사시킴으로써, 백라이트 유닛의 중앙영역에 휘도를 증가시키기 위함이다.The reason for forming the reflection pattern on the surface of the first reflector 200 is to increase the brightness in the central region of the backlight unit by reflecting the light generated by the light source module to the central region of the second reflector 300.

다음, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(specular reflection area)(300a)과 난반사영역(diffuse reflection area)(300b)을 포함한다.Next, the second reflector 300 includes a specular reflection area 300a and a diffuse reflection area 300b.

여기서, 정반사영역(300a)은 입사되는 광을 정반사하는 역할을 수행하고, 난반사영역(300b)는 입사되는 광을 난반사하는 역할을 수행할 수 있으며, 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)의 광 반사율은 약 50 - 99.99%일 수 있다.Here, the regular reflection area 300a serves to regularly reflect the incident light, and the irregular reflection area 300b can diffuse the incident light irregularly. The regular reflection area 300a and the irregular reflection area 300b The light reflectance may be about 50 - 99.99%.

그리고, 난반사영역(300b)은 입사되는 광을 램버시안 분포(lambertian distribution) 및 가우시안 분포(gaussian distribution) 중 적어도 어느 하나로 반사할 수 있다.The irregular reflection region 300b may reflect the incident light to at least one of a lambertian distribution and a gaussian distribution.

여기서, 난반사영역(300b)의 모든 지점(point)은, 각 지점으로 입사되는 광의 입사각이 각 지점을 지나는 법선으로부터 적어도 55도 이상일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많을 수도 있고, 또는 램버시안 분포로 반사하는 광량이 더 많을 수도 있다.Here, all the points in the diffusive reflection region 300b are arranged such that when the incident angle of the light incident on each point is at least 55 degrees from the normal line passing through each point, the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution , The amount of light reflected by the Gaussian distribution may be larger, or the amount of light reflected by the Lambertian distribution may be larger.

예를 들면, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에는 정반사 특성을 갖는 반사시트를 배치하고, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)에는 난반사 특성을 갖는 반사시트를 배치할 수 있다.For example, a reflection sheet having regular reflection characteristics may be disposed in the regular reflection area 300a of the second reflector 300, and a reflection sheet having diffuse reflection characteristics may be disposed in the irregular reflection area 300b of the second reflector 300 have.

즉, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)에는 램버시안 분포 및 가우시안 분포로 반사하는 난반사 특성들을 갖는 반사시트를 배치할 수 있다.That is, the reflective sheet having the diffuse reflection characteristics that reflects in the lambda cyan distribution and the Gaussian distribution can be disposed in the irregular reflection area 300b of the second reflector 300. [

여기서, 난반사영역(300b)에 배치되는 반사시트는 입사하는 광의 입사각이 법선으로부터 약 55도 이상일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많이 나타나는 난반사 특성을 가질 수 있다.Here, when the incident angle of the incident light is about 55 degrees or more from the normal, the amount of light reflected by the Gaussian distribution among the amounts of light reflected by the Lambertian distribution and the Gaussian distribution is smaller than the amount of light reflected by the Gaussian distribution It can have many diffuse reflection characteristics.

경우에 따라, 난반사영역(300b)에 배치되는 반사시트는 입사하는 광의 입사각이 법선으로부터 약 60도 이상일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많이 나타나는 난반사 특성을 가질 수도 있다.In some cases, the reflection sheet disposed in the diffusive reflection region 300b may reflect the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution when the incident angle of the incident light is about 60 degrees or more from the normal line May have more diffuse reflection characteristics.

도 2는 광의 정반사 특성과 난반사 특성을 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining the regular reflection characteristic and the diffusive reflection characteristic of light.

도 2에 도시된 바와 같이, 광은 리플렉터(reflector)의 표면 특성에 따라서, 정반사(specular reflection)와 난반사(diffuse reflection)될 수 있다.As shown in FIG. 2, the light may be specular reflection and diffuse reflection depending on the surface characteristics of the reflector.

그리고, 난반사는 가우시안 반사(gaussian reflection), 램버시안 반사(lambertian reflection), 및 혼합 반사(mixed reflection)를 포함할 수 있다.The diffuse reflection may include gaussian reflections, lambertian reflections, and mixed reflections.

일반적으로, 정반사는 광이 리플렉터의 어느 한 지점(point)에 입사할 때, 해당 지점을 지나는 법선과 입사광의 광축 사이의 각도와 법선과 반사광의 광축 사이의 각도가 동일한 반사를 의미한다.Generally, a specular reflection means a reflection where the angle between the normal line passing through the point and the optical axis of the incident light and the angle between the normal line and the optical axis of the reflected light are the same when the light is incident on a point of the reflector.

그리고, 가우시안 반사는 리플렉터 표면의 각에 따른 반사광의 세기가 법선과 반사광의 방향 사이의 각이 가우시안 함수값으로 변하는 반사를 의미한다.The Gaussian reflection means a reflection in which the intensity of the reflected light along the angle of the surface of the reflector changes from the normal to the direction of the reflected light to a Gaussian function value.

이어, 램버시안 반사는 리플렉터 표면의 각에 따른 반사광의 세기가 법선과 반사광의 방향 사이의 각이 코사인 함수값으로 변하는 반사를 의미한다.Next, the reflection of the lambs cyan reflects the reflection of the reflected light according to the angle of the surface of the reflector, and the angle between the normal and the direction of the reflected light changes as a cosine function value.

다음, 혼합 반사는 정반사, 가우시안 반사, 및 램버시안 반사 중 적어도 하나 이상이 혼합된 반사를 의미한다.Next, the mixed reflection means reflection in which at least one of the specular reflection, the Gaussian reflection, and the Lamberber reflection is mixed.

따라서, 본 실시예에서는 제 2 리플렉터(300)의 표면 특성을 조절함으로써, 광의 반사 특성을 제어할 수 있다.Therefore, in this embodiment, the reflection characteristic of the light can be controlled by adjusting the surface characteristics of the second reflector 300. [

도 3은 도 1a의 난반사영역에서 반사되는 광의 분포를 보여주는 도면이다.FIG. 3 is a view showing a distribution of light reflected in the irregular reflection region of FIG. 1A.

도 3에 도시된 바와 같이, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에서, 입사광이 제 1 지점으로 입사할 때, 입사광의 광축과 제 1 지점을 지나는 법선 사이의 각도 θ1은 제 1 지점으로부터 반사되는 반사광의 광축과 법선 사이의 각도 θ2와 동일할 수 있다.3, in the specular reflection region 300a of the second reflector 300, when the incident light is incident on the first point, the angle? 1 between the optical axis of the incident light and the normal passing through the first point is the first point 2 between the optical axis of the reflected light reflected from the light source and the normal line.

그리고, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)에서, 입사광이 제 2 지점으로 입사할 때, 제 2 지점으로부터 반사되는 반사광은 램버시안 분포(lambertian distribution) 및 가우시안 분포(gaussian distribution)로 반사할 수 있다.When the incident light enters the second point in the irregular reflection region 300b of the second reflector 300, the reflected light reflected from the second point is reflected by the lambertian distribution and the gaussian distribution can do.

여기서, 제 2 지점으로 입사하는 입사광의 광축과 제 2 지점을 지나는 법선 사이의 각도 θ가 약 55도 이상일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많을 수 있다.Here, when the angle? Between the optical axis of the incident light incident at the second point and the normal line passing through the second point is about 55 degrees or more, the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution are reflected by the Gaussian distribution The amount of light can be more.

경우에 따라서는 제 2 지점으로 입사하는 입사광의 광축과 제 2 지점을 지나는 법선 사이의 각도 θ가 약 60도 이상일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많을 수도 있다.The amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution when the angle &thetas; between the optical axis of the incident light incident on the second point and the normal passing through the second point is about 60 degrees or more, The amount of reflected light may be larger.

이와 같이, 광반사 특성을 갖도록 제 2 리플렉터(300)를 제작하는 이유는 광원(110)에 인접한 영역과 광원(110)으로부터 멀리 떨어진 영역과의 휘도 차이를 줄이기 위함이다.The reason why the second reflector 300 is fabricated to have the light reflection characteristic is to reduce the luminance difference between the region adjacent to the light source 110 and the region far from the light source 110.

즉, 광원(110)에 인접한 정반사영역(300a)은 광을 정반사하여 휘도가 약한 백라이트의 중앙영역으로 보내는 역할을 수행하고, 광원(110)으로부터 멀리 떨어진 난반사영역(300b)은 광을 난반사하여 약한 휘도를 보상할 수 있다.That is, the regular reflection area 300a adjacent to the light source 110 serves to regularly reflect the light to the central area of the backlight having a weak luminance, and the diffusive reflection area 300b far from the light source 110 diffusely reflects light, The brightness can be compensated.

따라서, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)의 광반사 특성을 적절하게 조절함으로써, 전체적으로 균일한 휘도를 제공할 수 있다.Therefore, the second reflector 300 can provide uniform overall brightness by appropriately adjusting the light reflection characteristics of the regular reflection area 300a and the irregular reflection area 300b.

여기서, 제 2 리플렉터(300)는 알루미늄(Al), 은(Ag), 금(Au), 이산화 티타늄(TiO2) 등과 같이 높은 반사율을 가지는 금속 또는 금속 산화물을 포함하여 구성될 수 있는데, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)에 형성되는 물질이 서로 다를 수도 있고, 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)의 표면 거칠기가 서로 다를 수도 있다.The second reflector 300 may include a metal or metal oxide having a high reflectivity such as aluminum (Al), silver (Au), gold (Au), titanium dioxide (TiO 2 ) The reflector 300 may have different materials formed in the regular reflection region 300a and the irregular reflection region 300b and may have different surface roughnesses in the regular reflection region 300a and the irregular reflection region 300b.

즉, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)은 동일한 물질로 형성됨과 동시에, 표면 거칠기가 서로 다를 수 있다.That is, in the second reflector 300, the regular reflection area 300a and the irregular reflection area 300b may be formed of the same material, and the surface roughness may be different from each other.

또는, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)은 서로 다른 물질로 형성됨과 동시에, 표면 거칠기가 서로 다를 수 있다.Alternatively, in the second reflector 300, the regular reflection area 300a and the irregular reflection area 300b may be formed of different materials, and the surface roughness may be different from each other.

예를 들면, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어진 제 1 층과, 제 1 층 위에 형성되고 TiO2 및 SiO2 중 적어도 어느 한 입자들로 이루어진 제 2 층을 포함할 수도 있다.For example, the irregular reflection region 300b of the second reflector 300 may include a first layer made of polyethylene terephthalate (PET), a second layer formed on the first layer and made of at least one of TiO2 and SiO2 .

도 4는 제 2 리플렉터의 난반사영역의 구성을 보여주는 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing the configuration of a diffusely reflecting region of the second reflector.

도 4에 도시된 바와 같이, 제 2 리플렉터의 난반사영역은 제 1 층(302)과 제 2 층(304)이 적층된 구조일 수 있다.As shown in FIG. 4, the irregular reflection region of the second reflector may be a structure in which the first layer 302 and the second layer 304 are laminated.

여기서, 제 1 층(302)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어지고, 제 2 층(304)은 TiO2 및 SiO2 중 적어도 어느 한 입자(304a)들로 이루어질 수 있다.Here, the first layer 302 may be made of polyethylene terephthalate (PET), and the second layer 304 may be made of at least one of the particles 304a of TiO2 and SiO2.

제 2 층(304)의 입자(304a)는 크기가 서로 동일할 수도 있고, 크기가 서로 다를 수도 있다.The particles 304a of the second layer 304 may be of the same size or may have different sizes.

이때, 제 2 층(304)의 입자(304a)는 제 1 층(302)의 전체 면적 중 약 20 - 90%를 차지할 수 있다.At this time, the particles 304a of the second layer 304 may occupy about 20-90% of the total area of the first layer 302.

또한, 입자(304a)의 크기는 약 5 - 50um 일 수 있다.Also, the size of the particles 304a may be about 5-50 um.

그리고, 제 2 층(304) 위에 보호층이 추가적으로 더 형성될 수도 있다.Further, a protective layer may be additionally formed on the second layer 304. [

이와 같이, 제 2 리플렉터는 난반사영역의 제 2 층(304)에 포함되는 입자량을 조절함으로써, 난반사영역(300b)의 광반사 특성을 제어할 수 있다.Thus, the second reflector can control the light reflection characteristic of the irregular reflection region 300b by controlling the amount of particles contained in the second layer 304 in the irregular reflection region.

도 5는 난반사영역의 광반사 특성을 보여주는 그래프이다.5 is a graph showing light reflection characteristics of a diffusely reflecting region.

도 5에 도시된 바와 같이, 난반사영역으로 입사하는 광의 입사각이 법선으로부터 약 57.5도 일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량의 비가 5:5로 나타남을 알 수 있다.As shown in FIG. 5, when the incident angle of the light incident on the diffuse reflection region is about 57.5 degrees from the normal, the ratio of the amount of light reflected by the Lambertian distribution to the amount of light reflected by the Gaussian distribution is 5: 5.

여기서, 제 2 리플렉터의 난반사영역에 포함되는 TiO2 및 SiO2 중 적어도 어느 한 물질의 입자량이 난반사영역의 전체 면적 중 약 50% 일 때, 광의 입사각에 따른 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량은 하기 표 1과 같다.Here, when the amount of particles of at least one of TiO 2 and SiO 2 contained in the diffuse reflection region of the second reflector is about 50% of the total area of the diffusive reflection region, the amount of light reflected by the Lamberaian distribution according to the incident angle of light, The amount of light to be emitted is shown in Table 1 below.

입사각(°)Incidence angle (°) 램버시안 분포 광량(%)Lambertian distribution of light intensity (%) 가우시안 분포 광량(%)Gaussian distribution light intensity (%) 00 9191 99 1010 9292 88 2020 9090 1010 3030 8686 1414 4040 7878 2222 5050 6565 3535 6060 4545 5555 7070 1717 8383

따라서, 상기 표 1과 같이, 본 실시예는 난반사영역의 광반사 특성을 제어함으로써, 광의 입사각에 따라, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 램버시안 분포로 반사하는 광량보다 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많은 난반사영역을 제작할 수도 있고, 또는 가우시안 분포로 반사하는 광량보다 램버시안 분포로 반사하는 광량이 더 많은 난반사영역을 제작할 수도 있다.Accordingly, as shown in Table 1, the present embodiment controls the light reflection characteristic of the diffusely reflecting region so that the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Lambertian distribution It is possible to fabricate a diffusive region having a greater amount of light reflected by the Gaussian distribution or a diffusive region having a larger amount of light reflected by the Lamberian distribution than the amount of light reflected by the Gaussian distribution.

한편, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)은 제 2 리플렉터(300)의 전체 영역 중 약 50 - 95%를 차지할 수 있다.On the other hand, the irregular reflection region 300b of the second reflector 300 can occupy about 50-95% of the entire area of the second reflector 300. [

경우에 따라, 난반사영역(300b)은 제 2 리플렉터(300)의 전체 영역 중 약 70 - 80%를 차지할 수도 있다.In some cases, the irregular reflection region 300b may occupy about 70 - 80% of the entire area of the second reflector 300.

또한, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)의 면적 비율은 1 : 1 - 20일 수도 있다.The area ratio of the regular reflection area 300a to the irregular reflection area 300b of the second reflector 300 may be 1: 1 to 20.

이와 같이, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)의 면적 비율을 정하는 이유는, 광원(110)에 인접한 영역과 광원(110)으로부터 멀리 떨어진 영역과의 휘도 차이를 줄이기 위함이다.The reason why the area ratio between the regular reflection area 300a and the irregular reflection area 300b of the second reflector 300 is determined is that the difference in luminance between the area adjacent to the light source 110 and the area far from the light source 110 To reduce it.

즉, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)의 면적 비율을 적절하게 조절함으로써, 전체적으로 균일한 휘도를 제공할 수 있다.That is, the second reflector 300 can provide a uniform luminance as a whole by appropriately adjusting the area ratio between the regular reflection area 300a and the irregular reflection area 300b.

그리고, 도 1a에 도시된 바와 같이, 정반사영역(300a)은 광원(110)에 인접하여 배치되고, 난반사영역(300b)은 광원(110)으로 떨어져 배치될 수 있다.1A, the regular reflection area 300a may be disposed adjacent to the light source 110, and the irregular reflection area 300b may be disposed apart from the light source 110. [

즉, 난반사영역(300b)과 광원(110) 사이의 거리는 정반사영역(300a)과 광원(110) 사이의 거리보다 더 멀 수 있다.That is, the distance between the irregular reflection region 300b and the light source 110 may be longer than the distance between the regular reflection region 300a and the light source 110. [

이어, 광원(110) 및 제 1 리플렉터(200) 중 적어도 어느 하나는 정반사영역(300a)과 중첩될 수 있다.At least one of the light source 110 and the first reflector 200 may overlap the regular reflection region 300a.

즉, 제 1 리플렉터(200)는 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 일부만 중첩될 수도 있고, 완전히 중첩될 수도 있다.That is, the first reflector 200 may be partially overlapped with the regular reflection area 300a of the second reflector 300, or may be completely overlapped.

이와 같이, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)은 광원 모듈(100)에 인접하여 위치하고, 광원(110)으로부터 출사된 광을 제 2 리플렉터(300)의 중앙영역으로 반사시키는 역할을 수행하고, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)은 제 2 리플렉터(300)의 중앙영역에 위치하여 입사되는 광을 확산시키는 역할을 수행할 수 있다.The regular reflection area 300a of the second reflector 300 is located adjacent to the light source module 100 and reflects the light emitted from the light source 110 to the central area of the second reflector 300 And the irregular reflection region 300b of the second reflector 300 is located in the central region of the second reflector 300 and can diffuse the incident light.

또한, 제 2 리플렉터(300)는 적어도 하나의 경사면(inclined surface)과 적어도 하나의 평면(flat surface)을 포함할 수 있다.In addition, the second reflector 300 may include at least one inclined surface and at least one flat surface.

여기서, 제 2 리플렉터(300)의 경사면은 제 1 리플렉터(200)에 대해 일정 각도로 경사진 면일 수 있고, 제 2 리플렉터(300)의 평면은 제 1 리플렉터(200)와 평행한 면일 수 있다.Here, the inclined surface of the second reflector 300 may be inclined at an angle with respect to the first reflector 200, and the plane of the second reflector 300 may be parallel to the first reflector 200.

그리고, 제 2 리플렉터(300)의 경사면(inclined surface)은 전체 영역이 정반사영역일 수 있고, 또는 일부 영역만이 정반사영역일 수 있으며, 광원(110) 및 제 1 리플렉터(200) 중 적어도 어느 하나와 중첩될 수 있다.The inclined surface of the second reflector 300 may be a regular reflection area or only a part of the regular reflection area may be a regular reflection area and may include at least one of the light source 110 and the first reflector 200 Lt; / RTI >

도 6a 및 도 6b는 제 2 리플렉터의 정반사영역에 중첩되는 제 1 리플렉터를 보여주는 도면으로서, 도 6a는 제 2 리플렉터의 정반사영역에 일부 중첩되는 제 1 리플렉터를 보여주는 도면이고, 도 6b는 제 2 리플렉터의 정반사영역에 완전 중첩되는 제 1 리플렉터를 보여주는 도면이다.6A is a view showing a first reflector partially overlapping a regular reflection area of a second reflector, and FIG. 6B is a view showing a first reflector superimposed on a regular reflection area of a second reflector, And the first reflector is completely overlapped with the regular reflection area of the first reflector.

도 6a에 도시된 바와 같이, 제 1 리플렉터(200)는 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 일부만 중첩될 수도 있다.6A, the first reflector 200 may be partially overlapped with the regular reflectance region 300a of the second reflector 300. As shown in FIG.

여기서, 광원(100)은 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 일부만 중첩되거나 또는 완전 중첩될 수도 있다.Here, the light source 100 may be partially overlapped or partially overlapped with the regular reflection area 300a of the second reflector 300. [

그리고, 도 6b에 도시된 바와 같이, 제 1 리플렉터(200)는 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 완전 중첩될 수도 있다.6B, the first reflector 200 may be completely overlapped with the regular reflection area 300a of the second reflector 300. In this case,

여기서, 광원(100)은 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 일부만 중첩되거나 또는 완전 중첩될 수도 있다.Here, the light source 100 may be partially overlapped or partially overlapped with the regular reflection area 300a of the second reflector 300. [

도 7a 내지 도 7c는 경사면과 평면을 포함하는 제 2 리플렉터를 보여주는 도면이다.7A to 7C are views showing a second reflector including an inclined plane and a plane.

도 7a는 경사면이 편평한 표면을 가지고, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 포함될 수 있다.7A, the inclined surface has a flat surface and can be included in the regular reflection area 300a of the second reflector 300. [

그리고, 도 7b는 경사면이 오목한 곡면을 가지고, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 포함될 수 있으며, 도 7c는 경사면이 볼록한 곡면을 가지고, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 포함될 수 있다.7C shows a case where the inclined plane has a convex curved surface and the regular reflection area 300a of the second reflector 300 has a curved surface with a concave curved surface and can be included in the regular reflection area 300a of the second reflector 300. FIG. ).

이어, 도 7a 내지 도 7c에 도시된 바와 같이, 제 1 리플렉터(200)와 평행한 제 2 리플렉터(300)의 평면은 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)에 포함될 수 있다.7A to 7C, the plane of the second reflector 300 parallel to the first reflector 200 may be included in the diffusive reflection area 300b of the second reflector 300. [

한편, 제 2 리플렉터(300)는 적어도 하나의 변곡점을 갖는 적어도 2개 경사면을 포함하고, 변곡점을 중심으로 인접하는 제 1, 제 2 경사면의 곡률은 서로 다를 수도 있다.On the other hand, the second reflector 300 includes at least two inclined surfaces having at least one inflection point, and curvatures of the first and second inclined surfaces adjacent to each other around the inflection point may be different from each other.

도 8a 내지 도 8c는 다수의 경사면을 포함하는 제 2 리플렉터를 보여주는 도면이다.8A to 8C are views showing a second reflector including a plurality of inclined surfaces.

도 8a는 서로 인접하는 두 경사면이 편평한 표면을 가지고, 하나의 경사면은 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 포함되고, 나머지 경사면은 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)에 포함될 수 있다.8A shows a case where two adjacent inclined surfaces have a flat surface and one inclined surface is included in the regular reflection area 300a of the second reflector 300 and the remaining inclined surfaces are included in the diffuse reflection area 300b of the second reflector 300 .

경우에 따라, 나머지 경사면은 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 일부 포함될 수도 있다.In some cases, the remaining inclined surfaces may be partially included in the regular reflection area 300a of the second reflector 300. [

그리고, 도 8b는 서로 인접하는 두 경사면이 오목한 곡면을 가지고, 두 경사면의 곡률은 서로 다를 수도 있으며, 도 8c는 서로 인접하는 두 경사면이 볼록한 곡면을 가지고, 두 경사면의 곡률은 서로 다를 수도 있다.8B shows two concave curved surfaces adjacent to each other having concave curved surfaces, and curvatures of two inclined surfaces may be different from each other. FIG. 8C shows that two adjacent inclined surfaces have convex curved surfaces, and curvatures of the two inclined surfaces may be different from each other.

여기서, 하나의 경사면은 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 포함되고, 나머지 경사면은 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)에 포함될 수 있다.Here, one inclined surface may be included in the regular reflection area 300a of the second reflector 300, and the remaining inclined surfaces may be included in the irregular reflection area 300b of the second reflector 300. [

경우에 따라, 나머지 경사면은 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에 일부 포함될 수도 있다.In some cases, the remaining inclined surfaces may be partially included in the regular reflection area 300a of the second reflector 300. [

이와 같이, 제 2 리플렉터(300)의 경사면은 오목면(concave surface), 볼록면(convex surface), 평면(flat surface) 중 적어도 어느 하나일 수 있다.As such, the inclined surface of the second reflector 300 may be at least one of a concave surface, a convex surface, and a flat surface.

한편, 제 2 리플렉터(300)은 단일층(single layer)일 수도 있고, 이중층(double layer)일 수도 있다.Meanwhile, the second reflector 300 may be a single layer or a double layer.

즉, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)을 포함하는 단일층(single layer)일 수도 있고, 난반사층과, 난반사층의 일부분이 노출되도록 난반사층 위에 형성되는 정반사층을 포함하는 이중층(double layer)일 수도 있다.That is, the second reflector 300 may be a single layer including the regular reflection region 300a and the irregular reflection region 300b, and may include a diffusive layer and a regular reflection layer formed on the diffusive layer so that a part of the diffusive reflection layer is exposed. Or a double layer including a layer.

도 9는 단일층 구조를 갖는 제 2 리플렉터를 보여주는 단면도로서, 도 9는 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)이 서로 중첩되지 않는 구조이다.9 is a cross-sectional view showing a second reflector having a single layer structure, and FIG. 9 is a structure in which the regular reflection area 300a and the irregular reflection area 300b of the second reflector 300 are not overlapped with each other.

도 9에 도시된 바와 같이, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)은 정반사층이 형성되고, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)은 난반사층이 형성될 수 있다.9, the regular reflection region 300a of the second reflector 300 is formed with a regular reflection layer, and the irregular reflection region 300b of the second reflector 300 is formed with a diffusive layer.

여기서, 정반사층과 난반사층은 동일한 평면 상에 배열되고, 정반사층의 두께 t1과 난반사층의 두께 t2는 서로 동일할 수 있다.Here, the regular reflection layer and the diffusive reflection layer are arranged on the same plane, and the thickness t1 of the regular reflection layer and the thickness t2 of the diffusive reflection layer may be equal to each other.

그리고, 정반사층과 난반사층은 알루미늄(Al), 은(Ag), 금(Au), 이산화 티타늄(TiO2) 등과 같이 높은 반사율을 가지는 금속 또는 금속 산화물을 포함하여 구성될 수 있는데, 정반사층과 난반사층의 물질은 서로 동일하거나 또는 서로 다를 수도 있고, 그들의 표면 거칠기는 서로 다를 수도 있다.The regular reflection layer and the diffusive reflection layer may include a metal or metal oxide having a high reflectance such as aluminum (Al), silver (Ag), gold (Au), titanium dioxide (TiO 2 ) The materials of the diffusive layer may be the same or different from each other, and their surface roughness may be different from each other.

또한, 정반사층과 난반사층은 몰드 바디(mold body) 또는 금속 바디에 반사 필름이 부착된 구조일 수도 있고, 정반사면 또는 난반사면을 갖는 몰드 바디 자체일 수도 있다.In addition, the specular reflection layer and the diffusive reflective layer may be a structure in which a reflective film is attached to a mold body or a metal body, or may be a mold body itself having a regular reflection surface or a diffusely reflecting surface.

경우에 따라, 정반사층 및 난반사층은 사출 성형이 가능하도록 플라스틱 등과 같은 고분자 수지로 제작할 수 있다.In some cases, the regular reflection layer and the diffusive reflection layer may be made of a polymer resin such as a plastic or the like to enable injection molding.

여기서, 반사 필름은 금속 또는 금속 산화물 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 예를 들어, 알루미늄(Al), 은(Ag), 금(Au) 또는 이산화 티타늄(TiO2)과 같이 높은 반사율을 가지는 금속 또는 금속 산화물을 포함하여 구성될 수 있다.Here, the reflective film may include at least one of a metal or a metal oxide, and may be a metal having a high reflectivity such as aluminum (Al), silver (Ag), gold (Au), or titanium dioxide (TiO 2 ) Or a metal oxide.

그리고, 정반사층으로 이루어진 정반사영역(300a)과 난반사층으로 이루어진 난반사영역(300b)의 경계면에는 접착제 또는 결합 부재 등이 형성되어, 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)이 서로 연결될 수 있다.An adhesive or bonding member may be formed on the interface between the regular reflection area 300a made of the regular reflection layer and the irregular reflection area 300b made of the diffusive layer so that the regular reflection area 300a and the irregular reflection area 300b can be connected to each other.

도 10은 이중층 구조의 제 2 리플렉터를 보여주는 단면도이다.10 is a cross-sectional view showing a second reflector of a double-layer structure.

도 10에 도시된 바와 같이, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)이 서로 중첩되는 구조이다.As shown in FIG. 10, the second reflector 300 has a structure in which the regular reflection area 300a and the irregular reflection area 300b are overlapped with each other.

여기서, 제 2 리플렉터(300)는 난반사층과, 난반사층의 일부분이 노출되도록 난반사층 위에 형성되는 정반사층을 포함하는 이중층(double layer)으로 이루어질 수 있다.Here, the second reflector 300 may be a double layer including a diffusive layer and a regular reflection layer formed on the diffusive layer so that a part of the diffusive layer is exposed.

즉, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)은 난반사층 위에 정반사층이 형성된 구조이고, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)은 난반사층이 노출된 구조이다.That is, the specular reflection region 300a of the second reflector 300 has a structure in which a specular reflection layer is formed on the diffusive layer, and the diffusive reflection region 300b of the second reflector 300 has a structure in which the diffusive layer is exposed.

이때, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)은 제 2 리플렉터(300)의 전체 영역 중 약 70 - 80%를 차지할 수 있고, 경우에 따라, 제 2 리플렉터(300)에서, 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)의 면적 비율은 약 1 : 1 - 20일 수 있다.At this time, the irregular reflection region 300b of the second reflector 300 may occupy about 70-80% of the entire area of the second reflector 300, and in some cases, the second reflector 300 may reflect the regular reflection region 300a and the irregular reflection region 300b may be about 1: 1 - 20.

도 11a 및 도 11b는 제 2 실시예에 따른 백라이트 유닛을 설명하기 위한 도면으로서, 도 11a는 단면도이고, 도 11b는 상면 사시도이다.11A and 11B are views for explaining the backlight unit according to the second embodiment, wherein FIG. 11A is a sectional view and FIG. 11B is a top perspective view.

도 11a 및 도 11b에 도시된 바와 같이, 백라이트 유닛은 적어도 하나의 광원(110)을 포함하는 광원 모듈(100), 제 1 리플렉터(reflector)(200) 및 제 2 리플렉터(300)를 포함할 수 있다.11A and 11B, the backlight unit may include a light source module 100 including at least one light source 110, a first reflector 200, and a second reflector 300 have.

여기서, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)을 포함하고, 난반사영역(300b)은 제 1 난반사영역(300b1) 및 제 2 난반사영역(300b2)을 포함할 수 있다.The second reflector 300 may include a specular reflection region 300a and a diffusive reflection region 300b and the diffusive reflection region 300b may include a first diffusive reflection region 300b1 and a second diffusive reflection region 300b2 .

여기서, 정반사영역(300a)은 입사되는 광을 정반사하는 역할을 수행하고, 난반사영역(300b)는 입사되는 광을 난반사하는 역할을 수행할 수 있으며, 정반사영역(300a)과 난반사영역(300b)의 광 반사율은 약 50 - 99.99%일 수 있다.Here, the regular reflection area 300a serves to regularly reflect the incident light, and the irregular reflection area 300b can diffuse the incident light irregularly. The regular reflection area 300a and the irregular reflection area 300b The light reflectance may be about 50 - 99.99%.

그리고, 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)은 입사되는 광을 램버시안 분포(lambertian distribution) 및 가우시안 분포(gaussian distribution) 중 적어도 어느 하나로 반사할 수 있다.The first and second diffusely reflective regions 300b1 and 300b2 may reflect the incident light to at least one of a lambertian distribution and a gaussian distribution.

여기서, 제 1 난반사영역(300b1)의 모든 지점(point)은, 각 지점으로 입사되는 광의 입사각이 각 지점을 지나는 법선으로부터 적어도 약 55도 이상일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많을 수 있다.Here, all the points of the first diffusely reflecting region 300b1 are arranged such that when the incident angle of the light incident on each point is at least about 55 degrees or more from the normal line passing through each point, the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the The amount of light reflected by the Gaussian distribution may be larger.

그리고, 제 2 난반사영역(300b2)의 모든 지점(point)은, 각 지점으로 입사되는 광의 입사각이 각 지점을 지나는 법선으로부터 적어도 약 60도 이상일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많을 수 있다.All points of the second diffusive reflective area 300b2 are arranged such that when the incident angle of the light incident on each point is at least about 60 degrees or more from the normal line passing through each point, the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution The amount of light reflected by the Gaussian distribution may be larger.

이때, 제 1 난반사영역(300b1)은 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많을 수 있다.At this time, the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution may be larger in the first diffusely reflective region 300b1 than in the Gaussian distribution.

그리고, 제 2 난반사영역(300b2)은 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 램버시안 분포로 반사하는 광량이 더 많을 수 있다.The amount of light reflected by the lambda cyan distribution and the amount of light reflected by the lambda cyan distribution among the amount of light reflected by the Gaussian distribution may be larger in the second diffusive reflective area 300b2.

예를 들면, 제 2 리플렉터(300)의 정반사영역(300a)에는 정반사 특성을 갖는 반사시트를 배치하고, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)에는 난반사 특성을 갖는 반사시트를 배치할 수 있다.For example, a reflection sheet having regular reflection characteristics may be disposed in the regular reflection area 300a of the second reflector 300, and a reflection sheet having diffuse reflection characteristics may be disposed in the irregular reflection area 300b of the second reflector 300 have.

즉, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)에는 램버시안 분포 및 가우시안 분포로 반사하는 난반사 특성들을 갖는 반사시트를 배치할 수 있다.That is, the reflective sheet having the diffuse reflection characteristics that reflects in the lambda cyan distribution and the Gaussian distribution can be disposed in the irregular reflection area 300b of the second reflector 300. [

여기서, 제 1 난반사영역(300b1)에 배치되는 반사시트는 입사하는 광의 입사각이 법선으로부터 약 55도 이상일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많은 난반사 특성을 가질 수 있다.Here, the reflective sheet disposed in the first diffusely reflecting region 300b1 has a light amount that is reflected by the Gaussian distribution among the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution when the incident angle of the incident light is about 55 degrees or more from the normal Can have more diffuse reflection characteristics.

그리고, 제 2 난반사영역(300b2)에 배치되는 반사시트는 입사하는 광의 입사각이 법선으로부터 약 60도 이상일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많은 난반사 특성을 가질 수 있다.When the incident angle of incident light is about 60 degrees or more from the normal, the reflective sheet disposed in the second diffusive reflective area 300b2 has a light quantity reflected by the Lambertian distribution and a light quantity reflected by the Gaussian distribution Can have more diffuse reflection characteristics.

이때, 제 1 난반사영역(300b1)은 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많은 난반사 특성을 가질 수 있다.At this time, the first irregular reflection region 300b1 may have more diffuse reflection characteristics than the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution, among the amount of light reflected by the Gaussian distribution.

그리고, 제 2 난반사영역(300b2)은 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 램버시안 분포로 반사하는 광량이 더 많은 난반사 특성을 가질 수 있다.The second diffusely reflective region 300b2 may have a more diffuse reflection characteristic than the Lambler cyan distribution and the Lambler cyan distribution among the amount of light reflected by the Gaussian distribution.

이와 같이, 난반사 특성을 갖도록 제 2 리플렉터(300)를 제작하는 이유는 광원(110)에 인접한 영역과 광원(110)으로부터 멀리 떨어진 영역과의 휘도 차이를 줄이기 위함이다.The reason why the second reflector 300 is fabricated so as to have the diffuse reflection characteristic is to reduce the luminance difference between the region adjacent to the light source 110 and the region far from the light source 110.

즉, 광원(110)에 인접한 정반사영역(300a)은 광을 정반사하여 휘도가 약한 백라이트의 중앙영역으로 보내는 역할을 수행하고, 광원(110)으로부터 멀리 떨어진 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)은 광을 난반사하여 약한 휘도를 보상할 수 있다.That is, the regular reflection region 300a adjacent to the light source 110 serves to regularly reflect light to the central region of the backlight having a weak luminance, and to reflect the first and second diffusely reflective regions 300b1 and 300b2 ) Can diffuse light to compensate for weak luminance.

따라서, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)의 광반사 특성을 적절하게 조절함으로써, 전체적으로 균일한 휘도를 제공할 수 있다.Accordingly, the second reflector 300 can provide a uniform luminance as a whole by appropriately adjusting the light reflection characteristics of the regular reflection area 300a and the first and second irregular reflection areas 300b1 and 300b2.

여기서, 제 2 리플렉터(300)는 알루미늄(Al), 은(Ag), 금(Au), 이산화 티타늄(TiO2) 등과 같이 높은 반사율을 가지는 금속 또는 금속 산화물을 포함하여 구성될 수 있는데, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)에 형성되는 물질이 서로 다를 수도 있고, 정반사영역(300a)과 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)의 표면 거칠기가 서로 다를 수도 있다.Here, the second reflector 300 may include a metal or metal oxide having a high reflectance such as aluminum (Al), silver (Ag), gold (Au), titanium dioxide (TiO 2 ) The reflector 300 may be formed of a material that differs from the regular reflection area 300a and the first and second irregular reflection areas 300b1 and 300b2 and may include a regular reflection area 300a and first and second diffusely reflective areas 300b1 and 300b2 ) May have different surface roughnesses.

즉, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)은 동일한 물질로 형성됨과 동시에, 표면 거칠기가 서로 다를 수 있다.That is, in the second reflector 300, the regular reflection area 300a and the first and second irregular reflection areas 300b1 and 300b2 may be formed of the same material and have different surface roughnesses.

또는, 제 2 리플렉터(300)는 정반사영역(300a)과 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)은 서로 다른 물질로 형성됨과 동시에, 표면 거칠기가 서로 다를 수 있다.Alternatively, in the second reflector 300, the regular reflection area 300a and the first and second irregular reflection areas 300b1 and 300b2 may be formed of different materials, and the surface roughness may be different from each other.

예를 들면, 제 2 리플렉터(300)의 난반사영역(300b)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어진 제 1 층과, 제 1 층 위에 형성되고 TiO2 및 SiO2 중 적어도 어느 한 입자들로 이루어진 제 2 층을 포함할 수도 있다.For example, the irregular reflection region 300b of the second reflector 300 may include a first layer made of polyethylene terephthalate (PET), a second layer formed on the first layer and made of at least one of TiO2 and SiO2 .

여기서, 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)에는 서로 동일한 물질이 포함되고, 해당 물질의 입자량은 서로 다를 수 있다.Here, the first and second irregular reflection regions 300b1 and 300b2 include the same material, and the amount of the material may be different from each other.

즉, 제 1 난반사영역(300b1)에 포함되는 물질의 입자량은 제 2 난반사영역(300b2)에 포함되는 물질의 입자량보다 더 적을 수 있다.That is, the amount of the substance contained in the first diffusely reflecting region 300b1 may be smaller than the amount of the substance contained in the second diffusely reflecting region 300b2.

그 이유는 입자량에 따라, 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)의 표면 거칠기가 달라질 수 있기 때문이다.This is because the surface roughness of the first and second diffusely reflective regions 300b1 and 300b2 may vary depending on the amount of particles.

여기서, 제 1 난반사영역(300b1)에 포함되는 물질의 입자량은 제 1 난반사영역(300b1)의 전체 면적 중 약 20 - 90%를 차지할 수 있다.Here, the amount of the substance included in the first irregular reflection region 300b1 may account for about 20-90% of the total area of the first irregular reflection region 300b1.

그리고, 제 2 난반사영역(300b2)에 포함되는 물질의 입자량은 제 2 난반사영역(300b2)의 전체 면적 중 약 20 - 90%를 차지할 수도 있다.The amount of the material contained in the second diffusive reflective area 300b2 may be about 20 to 90% of the total area of the second diffusive reflective area 300b2.

또한, 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)에는 서로 동일한 물질이 동일한 양으로 포함되고, 해당 물질의 입자 크기는 서로 다를 수도 있다.In addition, the first and second diffusely reflective regions 300b1 and 300b2 include the same materials in the same amount, and the particle sizes of the materials may be different from each other.

여기서, 제 1 난반사영역(300b1)에 포함되는 물질의 입자 크기는 약 5 - 50um 일 수 있다.Here, the particle size of the substance included in the first diffusely reflective region 300b1 may be about 5 to 50 mu m.

이와 같이, 제 2 리플렉터는 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)에 포함되는 물질의 입자량 또는 입자 크기를 조절함으로써, 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)의 광반사 특성을 제어할 수 있다.As described above, the second reflector adjusts the light reflection characteristics of the first and second irregular reflection regions 300b1 and 300b2 by adjusting the particle amount or the particle size of the substance included in the first and second irregular reflection regions 300b1 and 300b2 Can be controlled.

한편, 제 1 난반사영역(300b1)의 면적은 제 2 난반사영역(300b2)의 면적과 동일하거나, 또는 더 작을 수 있다.On the other hand, the area of the first diffusive reflection area 300b1 may be equal to or smaller than the area of the second diffusive reflection area 300b2.

경우에 따라, 제 1 난반사영역(300b1)과 제 2 난반사영역(300b2)의 면적 비율은 1 : 1 - 5일 수 있다.In some cases, the area ratio of the first diffusive reflection area 300b1 and the second diffusive reflection area 300b2 may be 1: 1-5.

그리고, 정반사영역(300a)의 면적은 제 1 난반사영역(300b1)의 면적과 동일하거나, 또는 더 작을 수 있다.The area of the regular reflection area 300a may be equal to or smaller than the area of the first irregular reflection area 300b1.

경우에 따라, 정반사영역(300a)과 제 1 난반사영역(300b1)의 면적 비율은 1 : 1 - 4일 수 있다.In some cases, the area ratio of the regular reflection area 300a to the first irregular reflection area 300b1 may be 1: 1-4.

이어, 정반사영역(300a)의 면적은 제 2 난반사영역(300b2)의 면적과 동일하거나, 또는 더 작을 수 있다.Then, the area of the regular reflection area 300a may be equal to or smaller than the area of the second irregular reflection area 300b2.

경우에 따라, 정반사영역(300a)과 제 2 난반사영역(300b2)의 면적 비율은 1 : 1 - 20일 수 있다.In some cases, the area ratio of the regular reflection area 300a to the second diffusive reflection area 300b2 may be 1: 1 to 20.

또한, 제 1 난반사영역(300b1)은 정반사영역(300a)과 제 2 난반사영역(300b2) 사이에 위치할 수 있다.In addition, the first irregular reflection region 300b1 may be positioned between the regular reflection region 300a and the second irregular reflection region 300b2.

그리고, 정반사영역(300a)과 광원(110) 사이의 거리는 제 1 난반사영역(300b1)과 광원(110) 사이의 거리보다 더 가깝고, 제 1 난반사영역(300b1)과 광원(110) 사이의 거리는 제 2 난반사영역(300b2)과 광원(110) 사이의 거리보다 더 가까울 수 있다.The distance between the regular reflection region 300a and the light source 110 is closer to the distance between the first irregular reflection region 300b1 and the light source 110 and the distance between the first diffusive reflection region 300b1 and the light source 110 is 2 < / RTI > diffuse reflection region 300b2 and the light source 110, as shown in FIG.

도 12a는 제 1 난반사영역의 광반사 특성을 보여주는 그래프이고, 도 12b는 제 2 난반사영역의 광반사 특성을 보여주는 그래프이다.FIG. 12A is a graph showing the light reflection characteristic of the first irregular reflection region, and FIG. 12B is a graph showing the light reflection characteristic of the second irregular reflection region.

도 12a에 도시된 바와 같이, 제 1 난반사영역으로 입사하는 광의 입사각이 법선으로부터 약 57.5도 일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량의 비가 5:5로 나타남을 알 수 있다.As shown in FIG. 12A, when the incident angle of the light incident on the first diffusive region is about 57.5 degrees from the normal, the ratio of the amount of light reflected by the Lambertian distribution to the amount of light reflected by the Gaussian distribution is 5: 5 have.

여기서, 제 2 리플렉터의 제 1 난반사영역에 포함되는 TiO2 및 SiO2 중 적어도 어느 한 물질의 입자량이 제 1 난반사영역의 전체 면적 중 약 50% 일 때, 광의 입사각에 따른 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량은 하기 표 2와 같다.Here, when the amount of particles of at least one of TiO2 and SiO2 contained in the first diffusely reflective region of the second reflector is about 50% of the total area of the first diffusive reflection region, the amount of light reflected by the Lamberaian distribution along the incident angle of light The amount of light reflected by the Gaussian distribution is shown in Table 2 below.

입사각(°)Incidence angle (°) 램버시안 분포 광량(%)Lambertian distribution of light intensity (%) 가우시안 분포 광량(%)Gaussian distribution light intensity (%) 00 9191 99 1010 9292 88 2020 9090 1010 3030 8686 1414 4040 7878 2222 5050 6565 3535 6060 4545 5555 7070 1717 8383

그리고, 도 12b에 도시된 바와 같이, 제 2 난반사영역으로 입사하는 광의 입사각이 법선으로부터 약 65.5도 일 때, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량의 비가 5:5로 나타남을 알 수 있다.12B, when the incident angle of the light incident on the second diffusive region is about 65.5 degrees from the normal, the ratio of the amount of light reflected by the Lambertian distribution to the amount of light reflected by the Gaussian distribution is 5: 5 Able to know.

여기서, 제 2 리플렉터의 제 2 난반사영역에 포함되는 TiO2 및 SiO2 중 적어도 어느 한 물질의 입자량이 난반사영역의 전체 면적 중 약 70% 일 때, 광의 입사각에 따른 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량은 하기 표 3과 같다.Here, when the amount of particles of at least one of TiO 2 and SiO 2 contained in the second diffuse reflection region of the second reflector is about 70% of the total area of the diffusive region, the amount of light reflected by the Lamberaian distribution along the incident angle of light and the Gaussian distribution Is shown in Table 3 below.

입사각(°)Incidence angle (°) 램버시안 분포 광량(%)Lambertian distribution of light intensity (%) 가우시안 분포 광량(%)Gaussian distribution light intensity (%) 00 9191 99 1010 8989 1111 2020 8585 1515 3030 7979 2121 4040 7171 2929 5050 6262 3838 6060 5353 4747 7070 4444 5656

따라서, 상기 표 2, 3과 같이, 본 실시예는 난반사영역의 광반사 특성을 제어함으로써, 광의 입사각에 따라, 램버시안 분포로 반사하는 광량과 가우시안 분포로 반사하는 광량 중, 램버시안 분포로 반사하는 광량보다 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많은 난반사영역을 제작할 수도 있고, 또는 가우시안 분포로 반사하는 광량보다 램버시안 분포로 반사하는 광량이 더 많은 난반사영역을 제작할 수도 있다.Therefore, as shown in Tables 2 and 3, the present embodiment controls the light reflection characteristic of the diffusely reflecting region so that the amount of light reflected by the lambda cyan distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution, It is possible to fabricate a diffusive region having a greater amount of light reflected by the Gaussian distribution than the amount of light that is reflected by the Gaussian distribution or to produce a diffusely reflective region having a larger amount of light reflected by the Lamberian distribution than the amount of light reflected by the Gaussian distribution.

또한, 난반사영역은 난반사 특성이 다른 2개의 영역들로 나눌 수도 있지만, 경우에 따라서는 난반사 특성이 다른 3 - 10개의 영역들로 나눌 수도 있다.In addition, although the diffuse reflection region can be divided into two regions having different diffuse reflection characteristics, the diffuse reflection region can be divided into 3 to 10 regions having different diffuse reflection characteristics.

제 2 리플렉터의 난반사영역들은 백라이트 유닛의 전체 크기 및 구조의 변형에 따라, 최적의 광반사 특성을 갖도록 설계할 수 있다.The irregularly reflecting regions of the second reflector can be designed to have optimum light reflection characteristics in accordance with the overall size and structure of the backlight unit.

한편, 정반사영역과 제 1, 제 2 난반사영역을 갖는 제 2 리플렉터는 광원 모듈의 배치에 따라 다양한 형상으로 제작될 수 있다.On the other hand, the second reflector having the regular reflection area and the first and second diffusive reflection areas can be manufactured in various shapes according to the arrangement of the light source modules.

도 11a 및 도 11b는 1 에지 타입(one edge type)의 제 2 리플렉터를 보여주는 도면으로서, 도 11a 및 도 11b에 도시된 바와 같이, 1 에지 타입의 제 2 리플렉터(300)는 일측에 광원모듈(100)이 배치되고, 정반사영역(300a)은 광원모듈(100)에 인접하여 배치되며, 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)은 광원모듈(100)로부터 먼 영역에 배치될 수 있다.11A and 11B are views showing a second reflector of one edge type. As shown in FIGS. 11A and 11B, a first edge type second reflector 300 includes a light source module The regular reflection area 300a may be disposed adjacent to the light source module 100 and the first and second irregular reflection areas 300b1 and 300b2 may be disposed in a region distant from the light source module 100. [

그리고, 도 13은 2 에지 타입(two edge type)의 제 2 리플렉터를 보여주는 도면이며, 도 14 및 도 15는 4 에지 타입(four edge type)의 제 2 리플렉터를 보여주는 도면이다.FIG. 13 is a view showing a second reflector of a two edge type, and FIGS. 14 and 15 are views showing a second reflector of a four edge type.

도 13은 2 에지 타입의 제 2 리플렉터를 보여주는 평면도로서, 도 13에 도시된 바와 같이, 2 에지 타입의 제 2 리플렉터(300)는 양측에 광원모듈(100)이 배치되고, 정반사영역(300a)은 광원모듈(100)에 인접하여 배치되며, 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)은 광원모듈(100)로부터 먼 영역에 배치될 수 있다.13 is a plan view showing a second edge type second reflector. As shown in FIG. 13, a second edge type second reflector 300 includes a light source module 100 disposed on both sides thereof, a regular reflection area 300a, The first and second irregular reflection regions 300b1 and 300b2 may be disposed in a region distant from the light source module 100. [

이어, 도 14는 4 에지 타입(four edge type)의 제 2 리플렉터를 보여주는 평면도로서, 도 14에 도시된 바와 같이, 4 에지 타입의 제 2 리플렉터(300)는 4 측면에 각각 광원모듈(100)이 배치되고, 정반사영역(300a)은 광원모듈(100)에 인접하여 배치되며, 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)은 광원모듈(100)로부터 먼 영역에 배치될 수 있다.14 is a plan view showing a fourth reflector of a four edge type. As shown in FIG. 14, a second reflector 300 of a four-edge type includes a light source module 100 on four sides, The regular reflection region 300a is disposed adjacent to the light source module 100 and the first and second irregular reflection regions 300b1 and 300b2 may be disposed in a region distant from the light source module 100. [

다음, 도 15는 4 에지 타입(four edge type)의 제 2 리플렉터를 보여주는 평면도로서, 도 15에 도시된 바와 같이, 4 에지 타입의 제 2 리플렉터(300)는 4 모서리 영역에 각각 광원모듈(100)이 배치되고, 정반사영역(300a)은 광원모듈(100)에 인접하여 배치되며, 제 1, 제 2 난반사영역(300b1, 300b2)은 광원모듈(100)로부터 먼 영역에 배치될 수 있다.15 is a plan view showing a second reflector of four edge type. As shown in FIG. 15, the second edge of the second reflector 300 includes four light source modules 100 The regular reflection area 300a is disposed adjacent to the light source module 100 and the first and second irregular reflection areas 300b1 and 300b2 may be disposed in a region distant from the light source module 100. [

또한, 실시예에 따른 백라이트 유닛은 제 2 리플렉터로부터 일정 간격으로 공간을 두고 배치되는 광학 부재(optical member)를 더 포함할 수 있고, 제 2 리플렉터와 광학 부재 사이의 공간에는 에어 가이드가 형성될 수 있다.Further, the backlight unit according to the embodiment may further include an optical member disposed at a predetermined interval from the second reflector, and an air guide may be formed in a space between the second reflector and the optical member. have.

도 16은 광학 부재를 포함하는 백라이트 유닛을 보여주는 도면이고, 도 17은 광학 부재의 형상을 일예로 보여주는 도면이다.Fig. 16 is a view showing a backlight unit including an optical member, and Fig. 17 is a view showing an example of the shape of an optical member.

도 16에 도시된 바와 같이, 광학 부재(600)는 제 1 리플렉터(200)의 오픈 영역에 배치되고, 여러층으로 형성할 수 있으며, 요철 패턴(620)은 최상층 또는 어느 한 층의 표면에 가질 수 있다.16, the optical member 600 may be disposed in an open region of the first reflector 200 and may be formed in a plurality of layers, and the concave-convex pattern 620 may be provided on the uppermost layer or on the surface of any one layer .

경우에 따라, 광학 부재(600)는 적어도 하나의 시트로 이루어지는데, 확산 시트, 프리즘 시트, 휘도 강화 시트 등을 선택적으로 포함할 수 있다.Optionally, the optical member 600 is made of at least one sheet, and may optionally include a diffusion sheet, a prism sheet, a brightness enhancement sheet, and the like.

여기서, 확산 시트는 광원에서 출사된 광을 확산시켜 주고, 프리즘 시트는 확산된 광을 발광 영역으로 가이드하며, 휘도 확산 시트는 휘도를 강화시켜 준다.Here, the diffusion sheet diffuses the light emitted from the light source, and the prism sheet guides the diffused light to the light emitting area, and the brightness diffusion sheet strengthens the brightness.

이와 같이, 광학 부재(600)는 제 1 리플렉터(200)의 오픈 영역을 통해 출사되는 광을 확산시키기 위한 것으로, 확산 효과를 증가시키기 위해 확산시트(600)의 상부 표면에 요철 패턴(620)을 형성할 수 있다.As described above, the optical member 600 diffuses the light emitted through the open region of the first reflector 200 and has an irregular pattern 620 on the upper surface of the diffusion sheet 600 to increase the diffusion effect .

요철 패턴(620)은 도 17에 도시된 바와 같이, 광원 모듈(100)을 따라 배치되는 스트라이프(strip) 형상을 가질 수 있다.The concave-convex pattern 620 may have a strip shape arranged along the light source module 100, as shown in FIG.

이때, 요철 패턴(620)은 광학 부재(600) 표면으로 돌출부를 가지고, 돌출부는 서로 마주보는 제 1 면과 제 2 면으로 구성되며, 제 1 면과 제 2 면 사이의 각은 둔각 또는 예각일 수 있다.At this time, the concave-convex pattern 620 has a protrusion on the surface of the optical member 600, the protrusion is composed of a first surface and a second surface facing each other, and an angle between the first surface and the second surface is an obtuse angle or an acute angle .

경우에 따라, 광학 부재(600)는 적어도 하나의 시트로 이루어지는데, 확산 시트, 프리즘 시트, 휘도 강화 시트 등을 선택적으로 포함할 수 있다.Optionally, the optical member 600 is made of at least one sheet, and may optionally include a diffusion sheet, a prism sheet, a brightness enhancement sheet, and the like.

여기서, 확산 시트는 광원에서 출사된 광을 확산시켜 주고, 프리즘 시트는 확산된 광을 발광 영역으로 가이드하며, 휘도 확산 시트는 휘도를 강화시켜 준다.Here, the diffusion sheet diffuses the light emitted from the light source, and the prism sheet guides the diffused light to the light emitting area, and the brightness diffusion sheet strengthens the brightness.

이와 같이, 백라이트 유닛은 제 2 리플렉터의 표면을 오목라인과 볼록라인이 교대로 배열되도록 다수의 패턴을 형성함으로써, 휘도를 향상시키고, 균일한 휘도를 제공할 수 있다.As described above, in the backlight unit, a plurality of patterns are formed so that the concave lines and the convex lines are alternately arranged on the surface of the second reflector, thereby improving the brightness and providing uniform brightness.

한편, 본 실시예는 광원 모듈의 광 출사면을 다양한 방향으로 배치할 수도 있다.On the other hand, in this embodiment, the light exit surface of the light source module may be arranged in various directions.

즉, 광원 모듈은 광 출사면이 광학 부재와 제 2 리플렉터 사이의 에어 가이드 방향을 향하도록 배치된 직접 출사형(direct emitting type) 구조일 수도 있고, 광원 모듈은 광 출사면이 제 1 리플렉터, 제 2 리플렉터 및 커버 플레이트 방향 중 어느 한 방향을 향하도록 배치되는 간접 출사형 구조일 수도 있다.That is, the light source module may have a direct emitting type structure in which the light exit surface is disposed so as to face the air guide direction between the optical member and the second reflector, and the light source module has a light exit surface, 2 reflector and the cover plate direction so as to face each other.

여기서, 간접 출사형 광원 모듈은 출사된 광이 제 1 리플렉터, 제 2 리플렉터 및 커버 플레이트에 반사되고, 반사된 광은 다시 백라이트 유닛의 에어 가이드 방향으로 나아갈 수 있다.Here, in the indirect emission type light source module, the emitted light is reflected on the first reflector, the second reflector, and the cover plate, and the reflected light can again travel in the air guide direction of the backlight unit.

이와 같이, 광원 모듈을 간접 출사형 구조로 배치하는 이유는 핫 스팟(hot spot) 현상을 줄일 수 있기 때문이다.The reason why the light source module is disposed in the indirect output structure is that it can reduce the hot spot phenomenon.

또한, 제 2 리플렉터의 하부면에 다수의 보강 리브(rib)가 배치될 수 있다.Further, a plurality of reinforcing ribs may be disposed on the lower surface of the second reflector.

도 18는 제 2 리플렉터의 하부면에 형성된 보강 리브를 보여주는 도면으로서, 도 18에 도시된 바와 같이, 제 2 리플렉터의 하부면에 다수의 보강 리브(rib)(350)가 배치될 수 있다.Fig. 18 is a view showing a reinforcing rib formed on the lower surface of the second reflector. As shown in Fig. 18, a plurality of reinforcing ribs 350 may be disposed on the lower surface of the second reflector.

그 이유는 제 2 리플렉터가 곡면을 갖는 반사면을 가지므로, 외부 환경 조건에 의해, 변형될 수 있으므로, 이를 방지하기 위하여 보강 리브(350)가 설치될 수 있다.The reason is that the second reflector has a reflecting surface having a curved surface, so that it can be deformed by external environmental conditions, so that a reinforcing rib 350 can be provided to prevent this.

보강 리브(350)는 제 2 리플렉터의 경사면과 마주하는 후면에 배치될 뿐만 아니라, 제 2 리플렉터의 측면과 마주하는 후면에도 배치될 수 있다.The reinforcing rib 350 may be disposed not only on the rear surface facing the inclined surface of the second reflector but also on the rear surface facing the side surface of the second reflector.

그리고, 제 2 리플렉터의 상부면에 광학 부재를 지지하는 지지 핀들이 형성될 수도 있다.Further, support pins for supporting the optical member may be formed on the upper surface of the second reflector.

도 19은 제 2 리플렉터의 상부면에 형성된 지지핀을 보여주는 도면으로서, 도 19에 도시된 바와 같이, 제 2 리플렉터(300)의 상부면에 광학 부재를 지지하는 지지 핀(360)들이 형성될 수도 있다.19 is a view showing a support pin formed on the upper surface of the second reflector. As shown in FIG. 19, support pins 360 for supporting the optical member may be formed on the upper surface of the second reflector 300 have.

그 이유는, 광학 부재가 제 2 리플렉터(300)로부터 이격되고, 그 사이에는 에어 가이드가 형성되므로, 광학 부재의 중심영역이 하부로 처질 수 있기 때문이다.This is because the optical member is separated from the second reflector 300 and the air guide is formed therebetween, so that the central region of the optical member can be lowered.

여기서, 지지 핀(360)는 제 2 리플렉터(300)에 접촉되는 하부면의 면적이 상부면의 면적보다 넓게 형성하는 것이 안정적일 수 있다.Here, it is stable that the area of the lower surface of the support pin 360 contacting the second reflector 300 is larger than the area of the upper surface.

한편, 제 2 리플렉터의 경사면 하부에는 광원 모듈을 구동시키기 위한 회로 장치들이 배치될 수 있다.On the other hand, circuit devices for driving the light source module may be disposed below the inclined surface of the second reflector.

제 2 리플렉터의 후면에는 경사면 사이에 소정의 공간이 형성되므로, 해당 공간에 회로 장치들을 배치하면, 빈 공간을 효율적으로 이용할 수 있다.Since a predetermined space is formed between the inclined surfaces on the rear surface of the second reflector, if the circuit devices are arranged in the space, the empty space can be efficiently used.

도 20은 실시예에 따른 백라이트 유닛을 갖는 디스플레이 모듈을 보여주는 도면이다.20 is a view showing a display module having a backlight unit according to an embodiment.

도 20에 도시된 바와 같이, 디스플레이 모듈(20)은 디스플레이 패널(800) 및 백라이트 유닛(700)을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 20, the display module 20 may include a display panel 800 and a backlight unit 700.

디스플레이 패널(800)은 서로 마주하여 균일한 셀 갭이 유지되도록 합착된 컬러필터 기판(810)과 TFT(Thin Film Transistor) 기판(820)을 포함하며, 상기 두 기판(810, 820)의 사이에 액정층(미도시)이 개재될 수 있다.The display panel 800 includes a color filter substrate 810 and a TFT (Thin Film Transistor) substrate 820 bonded to each other to maintain a uniform cell gap, A liquid crystal layer (not shown) may be interposed.

그리고, 디스플레이 패널(800)의 상측 및 하측에는 각각 상부 편광판(830) 및 하부 편광판(840)이 배치될 수 있으며, 보다 자세하게는 컬러필터 기판(810)의 상면에 상부 편광판(830)이 배치되고, TFT 기판(820)의 하면에 하부 편광판(840)이 배치될 수 있다.The upper polarizer 830 and the lower polarizer 840 may be disposed on the upper and lower sides of the display panel 800 and more specifically the upper polarizer 830 may be disposed on the upper surface of the color filter substrate 810 And the lower polarizer 840 may be disposed on the lower surface of the TFT substrate 820.

도시하지 않았지만, 디스플레이 패널(800)의 측면에는 패널(800)을 구동시키기 위한 구동 신호를 생성하는 게이트 및 데이터 구동부가 구비될 수 있다.Although not shown, a gate and a data driver for generating a driving signal for driving the panel 800 may be provided on a side of the display panel 800.

도 21 및 도 22는 실시예에 따른 디스플레이 장치를 나타낸 도면이다.21 and 22 are views showing a display device according to an embodiment.

도 21을 참조하면, 디스플레이 장치(1)는 디스플레이 모듈(20), 디스플레이 모듈(20)을 둘러싸는 프론트 커버(30) 및 백 커버(35), 백 커버(35)에 구비된 구동부(55) 및 구동부(55)를 감싸는 구동부 커버(40)로 구성될 수 있다.21, the display device 1 includes a display module 20, a front cover 30 and a back cover 35 surrounding the display module 20, a driving unit 55 provided in the back cover 35, And a driving unit cover 40 surrounding the driving unit 55.

프론트 커버(30)는 광을 투과시키는 투명한 재질의 전면 패널(미도시)을 포함할 수 있으며, 전면 패널은 일정한 간격을 두고 디스플레이 모듈(20)을 보호하며, 디스플레이 모듈(20)로부터 방출되는 광을 투과시켜 디스플레이 모듈(20)에서 표시되는 영상이 외부에서 보여지도록 한다.The front cover 30 may include a front panel (not shown) made of a transparent material transmitting light. The front panel may protect the display module 20 at regular intervals, and light emitted from the display module 20 So that an image displayed on the display module 20 is displayed from the outside.

백 커버(35)는 프론트 커버(30)와 결합하여 디스플레이 모듈(20)을 보호할 수 있다.The back cover 35 can be coupled with the front cover 30 to protect the display module 20.

백 커버(35)의 일면에는 구동부(55)가 배치될 수 있다.A driving unit 55 may be disposed on one side of the back cover 35.

구동부(55)는 구동 제어부(55a), 메인보드(55b) 및 전원공급부(55c)를 포함할 수 있다.The driving unit 55 may include a driving control unit 55a, a main board 55b, and a power supply unit 55c.

구동 제어부(55a)는 타이밍 컨트롤러로 일 수 있으며, 디스플레이 모듈(20)의 각 드라이버 IC에 동작 타이밍을 조절하는 구동부이고, 메인보드(55b)는 타이밍 컨트롤러에 V싱크, H싱크 및 R, G, B 해상도 신호를 전달하는 구동부이며, 전원 공급부(55c)는 디스플레이 모듈(20)에 전원을 인가하는 구동부이다. The driving control unit 55a may be a timing controller and is a driving unit for adjusting the operation timing of each driver IC of the display module 20. The main board 55b may include a V-sync, an H- B resolution signal, and the power supply unit 55c is a driving unit for applying power to the display module 20. [

구동부(55)는 백 커버(35)에 구비되어 구동부 커버(40)에 의해 감싸질 수 있다.The driving part 55 may be provided on the back cover 35 and may be surrounded by the driving part cover 40.

백 커버(35)에는 복수의 홀이 구비되어 디스플레이 모듈(20)과 구동부(55)가 연결될 수 있고, 디스플레이 장치(1)를 지지하는 스탠드(60)가 구비될 수 있다. The back cover 35 may include a plurality of holes to connect the display module 20 and the driving unit 55 and a stand 60 for supporting the display device 1.

반면, 도 22에 도시된 바와 같이, 구동부(55)의 구동 제어부(55a)는 백 커버(35)에 구비되고, 메인보드(55b)와 전원보드(55c)는 스탠드(60)에 구비될 수도 있다.22, the driving control unit 55a of the driving unit 55 is provided in the back cover 35, and the main board 55b and the power board 55c may be provided in the stand 60 have.

그리고, 구동부 커버(40)는 백 커버(35)에 구비된 구동부(55)만을 감쌀 수 있다.The driving unit cover 40 may cover only the driving unit 55 provided on the back cover 35.

본 실시예에서는, 메인보드(55b)와 전원보드(55c)를 각각 따로 구성하였으나, 하나의 통합보드로도 이루어질 수 있으며 이에 한정되지 않는다.Although the main board 55b and the power board 55c are separately formed in the present embodiment, they may be formed as one integrated board, but are not limited thereto.

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The features, structures, effects and the like described in the embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects and the like illustrated in the embodiments can be combined and modified by other persons skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of illustration, It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments can be modified and implemented. It is to be understood that all changes and modifications that come within the meaning and range of equivalency of the claims are therefore intended to be embraced therein.

Claims (25)

제 1 리플렉터(reflector);
제 2 리플렉터; 및
상기 제 1 및 제 2 리플렉터 사이에 배치되는 적어도 하나의 광원(light source)을 포함하고,
상기 제 2 리플렉터는 정반사영역(specular reflection area)과 난반사영역(diffuse reflection area)을 포함하며,
상기 난반사영역은 입사광을 램버시안 분포(lambertian distribution) 및 가우시안 분포(gaussian distribution) 중 적어도 어느 하나로 반사하고,
상기 난반사영역의 모든 지점(point)은, 상기 각 지점으로 입사되는 광의 입사각이 상기 각 지점을 지나는 법선을 기준으로 적어도 55도 이상이고,
상기 난반사영역은,
폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어진 제 1 층; 및
상기 제 1 층 위에 형성되고, TiO2 및 SiO2 중 적어도 어느 한 입자들로 이루어진 제 2 층을 포함하고,
상기 난반사영역에서 상기 램버시안 분포로 반사하는 광량과 상기 가우시안 분포로 반사하는 광량 중 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많은 디스플레이 장치.
A first reflector;
A second reflector; And
And at least one light source disposed between the first and second reflectors,
The second reflector includes a specular reflection area and a diffuse reflection area,
The irregular reflection region reflects incident light to at least one of a lambertian distribution and a gaussian distribution,
Wherein all the points of the diffusive reflection region are at least 55 degrees with respect to a normal line passing through each of the points,
The irregular reflection region may be formed,
A first layer made of polyethylene terephthalate (PET); And
And a second layer formed on the first layer and made of at least one of TiO 2 and SiO 2 ,
The amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution in a Gaussian distribution in the irregular reflection region are larger.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 정반사영역은 상기 제 1 리플렉터와 중첩되고,
상기 난반사영역은 상기 제 2 리플렉터의 전체 영역 중 70 - 80%를 차지하고,
상기 제 2 리플렉터의 정반사영역과 난반사영역의 면적 비율은 1 : 1 내지 20이고,
상기 제 2 리플렉터의 난반사영역과 상기 광원 사이의 거리는 상기 제 2 리플렉터의 정반사영역과 상기 광원 사이의 거리보다 더 먼 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the regular reflection area overlaps with the first reflector,
The irregular reflection area occupies 70 to 80% of the entire area of the second reflector,
The area ratio of the regular reflection area to the irregular reflection area of the second reflector is 1: 1 to 20,
Wherein the distance between the irregular reflection region of the second reflector and the light source is longer than the distance between the regular reflection region of the second reflector and the light source.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 제 2 리플렉터는 적어도 하나의 평면(flat surface)을 포함하고, 상기 제 2 리플렉터의 평면은 상기 제 1 리플렉터와 평행한 면인 디스플레이 장치.
The method according to claim 1 or 3,
Wherein the second reflector includes at least one flat surface and the plane of the second reflector is a plane parallel to the first reflector.
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 제 2 리플렉터는 적어도 하나의 변곡점을 갖는 적어도 2개 경사면을 포함하고, 상기 변곡점을 중심으로 인접하는 제 1, 제 2 경사면의 곡률은 서로 다른 디스플레이 장치.
The method according to claim 1 or 3,
Wherein the second reflector includes at least two inclined surfaces having at least one inflection point, and curvatures of the first and second inclined surfaces adjacent to each other around the inflection point are different from each other.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 리플렉터로부터 일정 간격으로 공간을 두고 배치되는 광학 부재(optical member)를 더 포함하고, 상기 제 2 리플렉터와 상기 광학 부재 사이의 공간에는 에어 가이드가 형성되는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
Wherein an air guide is formed in a space between the second reflector and the optical member, wherein the air guide is formed in the space between the second reflector and the optical member.
삭제delete 제 1 리플렉터(reflector);
제 2 리플렉터; 그리고,
상기 제 1, 제 2 리플렉터 사이에 배치되는 적어도 하나의 광원(light source)을 포함하고,
상기 제 2 리플렉터는 정반사영역(specular reflection area)과 제 1, 제 2 난반사영역(diffuse reflection area)들을 포함하며,
상기 제 1, 제 2 난반사영역들은 입사광을 램버시안 분포(lambertian distribution) 및 가우시안 분포(gaussian distribution) 중 적어도 어느 하나로 반사하고,
상기 제 1 난반사영역의 모든 지점(point)은, 상기 각 지점으로 입사되는 광의 입사각이 상기 각 지점을 지나는 법선을 기준으로 적어도 55도 이상이며,
상기 제 2 난반사영역의 모든 지점(point)은, 상기 각 지점으로 입사되는 광의 입사각이 상기 각 지점을 지나는 법선을 기준으로 적어도 60도 이상이고,
상기 제 1 난반사영역은 상기 램버시안 분포로 반사하는 광량과 상기 가우시안 분포로 반사하는 광량 중 가우시안 분포로 반사하는 광량이 더 많고,
상기 제 2 난반사영역은 상기 램버시안 분포로 반사하는 광량과 상기 가우시안 분포로 반사하는 광량 중 램버시안 분포로 반사하는 광량이 더 많은 디스플레이 장치.
A first reflector;
A second reflector; And,
And at least one light source disposed between the first and second reflectors,
The second reflector includes a specular reflection area and first and second diffuse reflection areas,
The first and second diffusely reflective regions reflect incident light to at least one of a lambertian distribution and a gaussian distribution,
All the points of the first irregular reflection region are at least 55 degrees with respect to a normal line passing through each of the points,
Wherein all the points of the second diffusive region are at least 60 degrees with respect to a normal line passing through each of the points,
The first irregular reflection region has a greater amount of light reflected by the Gaussian distribution than the amount of light reflected by the Lambertian distribution and the amount of light reflected by the Gaussian distribution,
Wherein the second diffusive region has a greater amount of light reflected by the Lambertian distribution and a Lambertian distribution of the amount of light reflected by the Gaussian distribution.
삭제delete 제 12 항에 있어서,
상기 제 1 난반사영역과 상기 제 2 난반사영역의 면적 비율은 1 : 1 내지 5이고,
상기 정반사영역과 상기 제 1 난반사영역의 면적 비율은 1 : 1 내지 4이고,
상기 정반사영역과 상기 제 2 난반사영역의 면적 비율은 1 : 1 내지 20인 디스플레이 장치.
13. The method of claim 12,
The area ratio of the first irregular reflection area to the second irregular reflection area is 1: 1 to 5,
Wherein the area ratio of the regular reflection area to the first irregular reflection area is 1: 1 to 4,
Wherein the area ratio of the regular reflection area to the second irregular reflection area is 1: 1 to 20.
삭제delete 삭제delete 제 12 항에 있어서,
상기 제 1 난반사영역은 상기 정반사영역과 상기 제 2 난반사영역 사이에 위치하고,
상기 정반사영역과 상기 광원 사이의 거리는 상기 제 1 난반사영역과 상기 광원 사이의 거리보다 더 가깝고, 상기 제 1 난반사영역과 상기 광원 사이의 거리는 상기 제 2 난반사영역과 상기 광원 사이의 거리보다 더 가까운 디스플레이 장치.
13. The method of claim 12,
The first irregular reflection region is located between the regular reflection region and the second irregular reflection region,
Wherein the distance between the specular reflection region and the light source is closer to the distance between the first irregular reflection region and the light source and the distance between the first irregular reflection region and the light source is smaller than the distance between the second diffusive reflection region and the light source Device.
삭제delete 제 12 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 난반사영역은,
폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어진 제 1 층과,
상기 제 1 층 위에 형성되고, TiO2 및 SiO2 중 적어도 어느 한 입자들로 이루어진 제 2 층을 포함하고,
상기 제 1 난반사영역에 포함되는 입자량은 상기 제 2 난반사영역에 포함되는 입자량보다 더 적은 디스플레이 장치.
13. The method of claim 12,
The first and second diffusely reflective regions may be formed in the following order:
A first layer made of polyethylene terephthalate (PET)
And a second layer formed on the first layer and made of at least one of TiO 2 and SiO 2 ,
Wherein the amount of particles included in the first irregular reflection area is smaller than the amount of particles included in the second irregular reflection area.
삭제delete 삭제delete 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 제 2 리플렉터는 적어도 하나의 변곡점을 갖는 경사면을 포함하고, 상기 경사면을 따라, 오목라인과 볼록라인이 교대로 배열되는 패턴을 갖는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1 or 3,
Wherein the second reflector includes an inclined surface having at least one inflection point, and along the inclined surface, the concave line and the convex line are alternately arranged.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 리플렉터는 상기 정반사영역과 난반사영역을 포함하는 단일층(single layer)인 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the second reflector is a single layer including the regular reflection region and the diffuse reflection region.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 리플렉터는 난반사층과, 상기 난반사층의 일부분이 노출되도록 상기 난반사층 위에 형성되는 정반사층을 포함하는 이중층(double layer)으로 이루어지는 디스플레이 장치.

The method according to claim 1,
Wherein the second reflector comprises a double layer including a diffusing layer and a regular reflection layer formed on the diffusing layer to expose a part of the diffusing layer.

삭제delete
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