KR101820942B1 - Magentic shielding material for extremely low frequency and the preparing method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제 조성물, 이를 이용한 자기장 차폐재 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 60 Hz 미만의 극저주파대 영역에서 자기장을 차폐할 수 있는 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제 조성물, 이를 이용한 자기장 차폐재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a coating composition for shielding an extremely low frequency to magnetic field, a magnetic shielding material using the same, and more particularly, to a coating composition for shielding a magnetic field at an extremely low frequency band region of less than 60 Hz A magnetic field shielding material using the same, and a method of manufacturing the same.

Description

극저주파대 자기장 차폐재 및 이의 제조방법{Magentic shielding material for extremely low frequency and the preparing method thereof}Field of the Invention [0001] The present invention relates to a shielding material for extremely low frequency and magnetic field,

본 발명은 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제 조성물, 이를 이용한 자기장 차폐재 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 60 Hz 미만의 극저주파대 영역에서 자기장을 차폐할 수 있는 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제 조성물, 이를 이용한 자기장 차폐재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a coating composition for shielding an extremely low frequency to magnetic field, a magnetic shielding material using the same, and more particularly, to a coating composition for shielding a magnetic field at an extremely low frequency band region of less than 60 Hz A magnetic field shielding material using the same, and a method of manufacturing the same.

최근 산업 문명의 급격한 발전에 따라 민간 및 군사용으로 전기, 전자 및 통신기기의 사용이 확대되고 있다. 그러나 이러한 기기들은 인류에게 편의를 제공하면서도 기기로부터 발생되는 전자파가 여러 유해요소들을 유발시키고 있기 때문에 이를 방지하기 위한 전자파 차폐에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 전자계란 전계와 자계가 영향을 미치는 공간으로 전자기장이라고도 하는데 전자계에는 여러 종류가 존재하고 주파수에 따라 미치는 성질과 영향이 매우 다르다. 특히 30kHz 이상의 영역을 전자기파(EMI: Electromagnetic interference)라 하며, 방사되는 전자기파를 재료에 의해 반사 및/또는 흡수에 의해 차폐하는 것을 전자기파 차폐(EMI shielding)라고 한다. 전자기파 차폐는 극저주파(ELF: Extremely low frequency, 즉 60Hz)의 자기장(magnetic fields) 차폐인 자기 차폐(magnetic shielding)와 구별된다.Recently, with the rapid development of industrial civilization, the use of electric, electronic and communication devices for private and military use is expanding. However, since these devices are providing convenience to human beings and electromagnetic waves generated from the devices cause various harmful elements, researches on electromagnetic wave shielding are actively conducted to prevent them. Electromagnetic field is the space where electric field and magnetic field affect. It is also called electromagnetic field. There are many kinds in electromagnetic field, and their properties and influences are very different depending on frequency. Particularly, electromagnetic shielding is referred to as electromagnetic interference (EMI) in a region of 30 kHz or more, and shielding electromagnetic waves radiated by reflection and / or absorption by a material. Electromagnetic shielding is distinguished from magnetic shielding, which is magnetic field shielding of extreme low frequency (ELF).

전자기파 차폐 소재에 대한 연구는 2000년대 이후 활발하게 보고되고 있다. 일반적으로 차폐 소재로써 전도성이 좋은 금속 재료들이 사용되고 있으며, 탄소소재 등이 폴리머 수지와의 복합재료로 고주파 영역의 전자기파 차폐 소재로써 건축외장재, 시트, 도료 등의 형태로 연구되고 있다.Research on electromagnetic wave shielding materials has been actively reported since the 2000s. In general, metal materials with good conductivity are used as shielding materials. Carbon materials and the like are composite material with polymer resin, and electromagnetic wave shielding materials in a high frequency range are being studied in the form of building exterior materials, sheets and paints.

일반적으로, 고주파 영역에서는 높은 흡수손실로 인해 차폐 효과가 크나 저주파 영역에서는 반사손실과 흡수손실이 모두 낮아 차폐 효과가 작다. 따라서, 50 ~ 60Hz 대의 극저주파 자기장은 쉽게 차폐되기 어렵고, 높은 차폐를 얻기 위해서는 두꺼운 고투자율 재료를 사용하여 흡수손실을 증가시켜야 한다. In general, a shielding effect is high due to a high absorption loss in a high frequency range, but a low shielding effect due to a low reflection loss and an absorption loss in a low frequency range. Therefore, the extremely low frequency magnetic field of 50 to 60 Hz is difficult to be shielded easily, and the absorption loss must be increased by using thick high permeability material in order to obtain high shielding.

그러나, 극저주파 영역의 자기 차폐에 관한 연구는 국내외에서 논문 형태로 보고된 사례를 찾기 어려우며, Ni계 합금(MuMETAL®, MAGNETIC SHIELD 사, U.S.A.)나 퍼멀로이 등 일부 금속재료들이 상품으로 판매되고 있으나, 이런한 금속계 재료는 가격이 비싸고 무겁다는 단점이 있어, 모바일 등의 휴대용 기기, 가전제품, 통신설비 및 자동차 등 생활 용품 등에 이용되기에는 한계가 있을 것으로 예상된다. However, studies on the magnetic shielding in the extremely low frequency region are hardly found in the form of a paper in domestic and foreign countries. Some metal materials such as Ni-based alloy (MuMETAL®, MAGNETIC SHIELD, USA) and permalloy are sold as products, Such a metal-based material is disadvantageous in that it is expensive and heavy, and thus it is expected to be limited to be used for mobile devices such as mobile devices, household appliances, communication equipment, and automobiles.

특히, 탄소소재를 이용한 극저주파 차폐 연구 사례는 보고된 적이 없으며, 상용품 또한 찾아보기 어렵다.In particular, there have been no reports of ultra-low frequency shielding studies using carbon materials, and commercial products are hard to find.

한국등록특허 10-744412호 (등록일: 2007.07.24)Korean Patent No. 10-744412 (Registered on July 24, 2007) 한국등록특허 10-148163 (등록일: 2015.01.06)Korean Registered Patent No. 10-148163 (Registered on 2015.01.06)

이에, 본 발명의 목적은 60 Hz 미만의 극저주파대 영역에서 자기장의 차폐 효과가 우수한 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제 조성물, 이를 이용한 자기장 차폐재 및 이의 제조방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a coating composition for shielding an extremely low frequency magnetic field having a shielding effect of a magnetic field in an extremely low frequency band region of less than 60 Hz, a magnetic field shielding material using the same, and a method for manufacturing the same.

이에, 본 발명은 평균 입도가 0.01 ~ 50 ㎛이고, 평균밀도가 0.1~ 5 g/cm3 인 탄소계 분말; 및 유기계 수지를 포함하는 바인더 용액;을 포함하고, 상기 탄소계 분말은 카본블랙 및 천연 흑연으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제 조성물을 제공한다.Accordingly, the present invention relates to a carbon-based powder having an average particle size of 0.01 to 50 탆 and an average particle size of 0.1 to 5 g / cm 3 ; And a binder solution containing an organic resin, wherein the carbonaceous powder includes at least one selected from the group consisting of carbon black and natural graphite.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 조성물은 바인더 용액 100 중량부에 대하여 탄소계 분말 5 ~ 20 중량부를 포함할 수 있다. In one preferred embodiment of the present invention, the composition may include 5 to 20 parts by weight of the carbon-based powder relative to 100 parts by weight of the binder solution.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 탄소계 분말은 평균입도가 15 ~ 45 ㎛이고, 평균밀도가 1.5 ~ 2.0 g/cm3 일 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the carbon-based powder may have an average particle size of 15 to 45 μm and an average density of 1.5 to 2.0 g / cm 3 .

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 유기계 수지는 락카계 수지, 에폭시 수지 및 페놀계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. In one preferred embodiment of the present invention, the organic resin may include at least one selected from the group consisting of a lacquer resin, an epoxy resin and a phenol resin.

또한, 본 발명의 다른 태양은 도전체; 상기 도전체의 상부 일면에 구비되는 절연막; 및 상기 절연막의 상부 일면에 구비되고, 상기 조성물을 경화시켜 형성된 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막;을 포함하는 극저주파대 자기장 차폐재를 제공한다.Further, another aspect of the present invention is a semiconductor device comprising: a conductor; An insulating film provided on an upper surface of the conductor; And a coating layer on the upper surface of the insulating layer, the coating layer being formed by curing the composition, the coating layer for shielding a magnetic field of an extremely low frequency and a magnetic field.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 코팅막은 두께가 50 ~ 1000 ㎛일 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the coating layer may have a thickness of 50 to 1000 mu m.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막은, 상기 코팅막의 두께가 450 ~ 500 ㎛일 때, 50 ~ 60 Hz에 대한 자기장 차폐 감소율이 35 ~ 40 %일 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the coating layer for shielding a very low frequency magnetic field may have a magnetic shielding reduction ratio of about 35% to about 40% with respect to 50 to 60 Hz when the thickness of the coating layer is 450 to 500 μm.

또한, 본 발명의 또 다른 태양은 도전체의 상부 일면에 에폭시 수지 및 락카계 수지 중 어느 하나 이상을 코팅 및 경화하여 절연막을 형성하는 1단계; 및 상기 절연막의 상부 일면에 상기 코팅제 조성물을 포함하는 코팅제를 코팅한 후, 이를 경화하여 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막을 형성하는 2단계;를 포함하는 극저주파대 자기장 차폐재의 제조방법을 제공한다.According to still another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: (1) forming an insulating film by coating and curing at least one of epoxy resin and lacquer resin on an upper surface of a conductor; And coating the coating material on the upper surface of the insulating layer with a coating agent containing the coating composition and curing the coating material to form a coating film for shielding a magnetic field of an extremely low frequency region.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 1단계의 경화는 20 ~ 150 ℃에서 30분 ~ 100 분 동안 수행할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the first stage curing may be performed at 20 to 150 ° C for 30 minutes to 100 minutes.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 1단계의 절연막은 두께가 20 ~ 50 ㎛일 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the first insulating layer may have a thickness of 20 to 50 탆.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 2단계의 경화는 20 ~ 150 ℃에서 30분 ~ 100 분 동안 수행할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the two-stage curing may be performed at 20 to 150 ° C for 30 minutes to 100 minutes.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 절연막의 두께는 20 ~ 50 ㎛ 이고, 상기 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막의 두께는 50 ~ 1000 ㎛일 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the thickness of the insulating layer may be 20 to 50 占 퐉, and the thickness of the coating layer for shielding the magnetic field may be 50 to 1000 占 퐉.

본 발명에 따르면, 60 Hz 미만의 극저주파대 자기장 영역에서 자기장을 차폐할 수 있어 각종 가전제품, 자동차, 통신기기 및 송전탑 등에 유효하게 활용할 수 있다.According to the present invention, a magnetic field can be shielded in an extremely low frequency magnetic field region of less than 60 Hz, so that it can be effectively used in various home appliances, automobiles, communication devices, and transmission towers.

또한, 자기장 차폐용 코팅제 조성물로 형성된 극저주파대의 자기장 차폐용 코팅막은 매우 얇게 형성되는 경우라도 높은 전도성을 유지할 수 있으며, 사출형이나 발포형 플라스틱 모두에 접착력이 우수하여 접촉부위의 막 탈락 현상이나 문지름 현상 등이 없을 뿐만 아니라 유기계 수지를 포함하는 유/무기 복합제로서 색상, 부착성, 내습성, 전자파 차폐성과 같은 기능 또한 우수한 효과가 있다.Further, the coating film for magnetic shielding at the extremely low frequency region formed by the coating composition for shielding magnetic field can maintain high conductivity even if it is formed very thin, and has excellent adhesion to both injection-molded and foamable plastics, Development and the like, but also an excellent effect such as color, adhesiveness, moisture resistance and electromagnetic wave shielding as an organic / inorganic composite agent containing an organic resin.

도 1은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 탄소계 입자의 주사전자현미경이미지이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 시편의 두께 측정 위치를 나타낸 이미지이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막의 두께를 나타낸 그래프이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 극저주파대 자기장 차폐재의 두께에 따른 자기장 변화를 나타낸 그래프이다.
도 5는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 극저주파대 자기장 차폐재의 제조방법의 모식도이다.
도 6은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 극저주파대 자기장 차폐재의 전압 인가량에 따른 자계 측정치를 나타낸 그래프이다.
1 is a scanning electron microscope image of a carbon-based particle according to a preferred embodiment of the present invention.
2 is an image showing a thickness measurement position of a specimen according to a preferred embodiment of the present invention.
3 is a graph illustrating the thickness of a coating film for shielding an extremely low frequency magnetic field according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a graph illustrating a change in magnetic field according to a thickness of an extremely low frequency magnetic field shielding material according to a preferred embodiment of the present invention.
5 is a schematic view of a method of manufacturing an extremely low frequency magnetic field shielding material according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a graph showing magnetic field measurements according to a voltage application amount of an extremely low frequency magnetic field shielding material according to a preferred embodiment of the present invention.

본 발명은 60 Hz 미만의 극저주파대 영역에서 자기장을 차폐할 수 있어 각종 가전제품, 자동차, 통신기기 및 송전탑 등에 유효하게 활용할 수 있다. 이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.The present invention can shield a magnetic field in an extremely low frequency band region of less than 60 Hz, and thus can be effectively utilized in various home appliances, automobiles, communication devices, and transmission towers. Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에 따른 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제 조성물은 탄소계 분말을 포함한다. 상기 탄소계 분말은 카본블랙 및 천연 흑연으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하며, 바람직하게는 카본 블랙이 좋다. 또, 상기 탄소계 분말은 평균 입도가 0.01 ~ 50 ㎛이고, 평균밀도가 0.1 ~ 5 g/cm3 인 분말로서, 바람직하게는 상기 탄소계 분말은 평균 입도가 15 ~ 45 ㎛이고, 평균밀도가 1.5 ~ 2.0 g/cm3 이 좋다. 이때, 상기 탄소계 분말의 평균 입도가 0.01 ㎛ 미만인 경우 분말이 응집되어 요철이 생성됨으로써 균일한 코팅층을 형성하기 어려운 문제점이 있고, 50 ㎛를 초과하는 경우 코팅층을 깨끗하게 형성하기 어려운 문제점이 있다. 또한, 상기 평균밀도가 0.1 g/cm3 미만일 경우 코팅막이 경화되기 전에 분말이 코팅층에서 떨어져 코팅층의 두께 조절이 어려운 문제가 있고, 평균밀도가 5 g/cm3이상일 경우에는 코팅층의 표면이 깨끗하지 못하게 형성되는 문제가 있을 수 있다.The coating composition for shielding extremely low frequency versus magnetic field according to the present invention comprises a carbon-based powder. The carbon-based powder includes at least one selected from the group consisting of carbon black and natural graphite, preferably carbon black. The carbon-based powder preferably has an average particle size of from 0.01 to 50 μm and an average density of from 0.1 to 5 g / cm 3. Preferably, the carbon-based powder has an average particle size of from 15 to 45 μm, 1.5 to 2.0 g / cm < 3 > is preferable. At this time, when the average particle size of the carbon-based powder is less than 0.01 탆, the powder is aggregated to form irregularities, thereby making it difficult to form a uniform coating layer. When the average particle size is more than 50 탆, it is difficult to form the coating layer cleanly. Further, the powder and a hard off thickness control of the coating layer is a problem in the coating layer, when the average density of 5 g / cm 3 or more, the surface of the coating layer is not clear before this case the average density of 0.1 g / cm 3 less than the coating film curing There may be a problem that it can not be formed.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 조성물은 바인더 용액 100 중량부에 대하여 탄소계 분말 5 ~ 20 중량부를 포함할 수 있고, 바람직하게는 10 ~ 15 중량부로 포함하는 것이 좋다. 상기 조성물은 바인더 용액 100 중량부에 대하여 탄소계 분말 5 중량부 미만으로 포함하는 경우, 자기장 차폐효과가 저하될 수 있는 문제점이 있고, 20 중량부를 초과하는 경우 코팅액의 점도가 증가하여 분체도장이 어려운 문제점이 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the composition may include 5 to 20 parts by weight, preferably 10 to 15 parts by weight, of the carbon-based powder per 100 parts by weight of the binder solution. When the composition contains less than 5 parts by weight of the carbon-based powder relative to 100 parts by weight of the binder solution, there is a problem that the magnetic shielding effect is lowered. When the composition is more than 20 parts by weight, viscosity of the coating solution increases, There is a problem.

상기 탄소계 분말이 상기 범위를 만족하는 코팅액 조성물로 코팅막을 형성하는 경우, 보다 우수한 자계 차폐 효율을 나타낼 수 있다. 그리고, 상기 유기계 수지는 락카계 수지, 에폭시계 수지 및 페놀계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 락카계 수지 및 에폭시계 수지일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 락카계 수지일 수 있다.When a coating film is formed of a coating liquid composition in which the carbon-based powder satisfies the above-mentioned range, a better magnetic shielding efficiency can be exhibited. The organic resin may include at least one selected from the group consisting of a lacquer resin, an epoxy resin and a phenol resin. Preferably a lacquer-based resin and an epoxy-based resin, and more preferably a lacquer-based resin.

또한, 본 발명의 다른 태양은 도전체; 상기 도전체의 상부 일면에 구비되는 절연막; 및 상기 절연막의 상부 일면에 구비되고, 상기 조성물을 경화시켜 형성된 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막;을 포함하는 극저주파대 자기장 차폐재를 제공한다.Further, another aspect of the present invention is a semiconductor device comprising: a conductor; An insulating film provided on an upper surface of the conductor; And a coating layer on the upper surface of the insulating layer, the coating layer being formed by curing the composition, the coating layer for shielding a magnetic field of an extremely low frequency and a magnetic field.

본 발명에 따른 극저주파대 자기장 차폐재는 도전체;와 상기 도전체의 상부 일면에 구비되는 절연막;을 포함한다. 상기 절연막은 상기 도전체가 자기장에 의해 자화되는 것을 방지하기 위하여 구비되는 것으로서, 상기 절연막의 두께는 20 ~ 50㎛인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30 ~ 50 ㎛인 것이 좋다. 여기서, 상기 절연막의 두께가 20㎛ 이하이면 도전체의 자화 방지를 위한 소망하는 절연 효과를 얻을 수 없고, 50 ㎛를 초과하는 경우 절연층의 필요 이상의 두께로 전체 제품의 두께가 두꺼워지는 문제점이 있다.The extremely low frequency magnetic field shielding material according to the present invention includes a conductor and an insulating film provided on an upper surface of the conductor. The insulating film is provided to prevent the conductor from being magnetized by a magnetic field. The thickness of the insulating film is preferably 20 to 50 mu m, more preferably 30 to 50 mu m. If the thickness of the insulating layer is 20 m or less, a desired insulating effect for preventing magnetization of the conductive layer can not be obtained. If the thickness of the insulating layer is more than 50 m, .

또한, 본 발명은 상기 절연막 코팅층의 상부 일면에 구비되고, 상기 조성물을 경화시켜 형성된 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막을 포함한다. 상기 코팅막은 두께가 50 ~ 1000 ㎛일 수 있고, 바람직하게는 100 ~ 600 ㎛일 수 있다. 상기 코팅막의 두께가 50 ㎛ 미만인 경우 자기장 차폐효과가 저하되는 문제점이 있고, 1000 ㎛를 초과하는 경우 코팅층을 깨끗하게 형성하기 어려운 문제점이 있다.In addition, the present invention includes a coating film for shielding a magnetic field with a very low frequency which is formed on the upper surface of the insulating coating layer and formed by curing the composition. The thickness of the coating film may be 50-1000 mu m, and preferably 100-600 mu m. When the thickness of the coating film is less than 50 탆, the magnetic shielding effect is deteriorated. When the thickness exceeds 1000 탆, it is difficult to form the coating layer cleanly.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막은, 상기 코팅막의 두께가 450 ~ 500 ㎛일 때, 50 ~ 60 Hz에 대한 자기장 차폐 감소율이 35 ~ 40 %일 수 있고, 바람직하게는 코팅막의 두께가 450 ~ 460㎛ 일 때, 50 ~ 60 Hz에서 자기장 차폐 감소율이 37 ~39%일 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the coating layer for shielding an extremely low frequency magnetic field may have a magnetic shielding reduction ratio of 35 to 40% for 50 to 60 Hz when the thickness of the coating layer is 450 to 500 탆, Preferably, when the thickness of the coating film is 450 to 460 μm, the magnetic shielding reduction rate may be 37 to 39% at 50 to 60 Hz.

본 발명의 일실시 예에서, 상기 코팅제는 상대습도 85% 및 85℃ 환경에서 7일 경과 후에 ±20% 이내의 저항 변화율을 갖을 수 있고, 바람직하게는 ±5% 이내의 저항 변화율을 갖을 수 있다.In one embodiment of the present invention, the coating may have a resistance change rate within ± 20% after 7 days at 85% and 85 ° C relative humidity, and preferably a resistance change rate within ± 5% .

본 발명의 바람직한 예에서, 상기 코팅제의 건조 도막 두께가 25㎛일 때 저항값이0.015 ~ 0.1 Ohm/Sq 일 수 있고, 바람직하게는 저항값이 0.015 Ohm/Sq 이하일 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the resistance value may be 0.015 to 0.1 Ohm / Sq when the dry film thickness of the coating is 25 m, and preferably 0.015 Ohm / Sq or less.

또한, 본 발명은 상기 극저주파대 자기장 차폐재의 제조방법을 제공하고, 상기 방법은 도전체의 상부 일면에 유기계 수지를 코팅 및 경화하여 절연막을 형성하는 1단계; 및 상기 절연막의 상부 일면에 상기 코팅제 조성물을 포함하는 코팅제를 코팅한 후, 이를 경화하여 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막을 형성하는 2단계;를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing the ultra-low frequency magnetic field shielding material, comprising the steps of: forming an insulating film by coating and curing an organic resin on an upper surface of a conductor; And coating a coating material containing the coating composition on one surface of the insulating film and then curing the coating material to form a coating film for shielding a magnetic field at an extremely low frequency.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 1단계는 도전체의 상부 일면에 유기계 수지를 코팅 및 경화하여 절연막을 형성하는 단계로서, 상기 절연막은 상기 도전체가 자기장에 의해 자화되는 것을 방지하기 위하여 구비되는 것으로서 유기계 수지를 코팅 및 경화하여 형성할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, the first step is a step of coating and curing an organic resin on the upper surface of the conductive body to form an insulating film, and the insulating film is provided to prevent the conductive body from being magnetized by a magnetic field And can be formed by coating and curing an organic resin.

이때, 상기 코팅은 스프레이(spray), 롤링(rolling), 디핑(deeping) 및 브러싱(brushing)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 방법으로 수행될 수 있고, 바람직하게는 롤링의 방법으로 수행될 수 있다. 또한, 상기 경화는 20 ~ 150℃에서 30분 ~ 100 분 동안, 바람직하게는 15 ~ 60 ℃에서 30분 ~ 100 분 동안 수행할 수 있다. 이때, 상기 1단계의 절연막 두께는 20 ~ 50㎛인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 30 ~ 50 ㎛인 것이 좋다. 상기 절연막의 두께가 20 ㎛ 미만인 경우 절연이 되지 않는 문제점이 있고, 50㎛를 초과하는 경우 본 발명에 따른 차폐재를 포함하는 전체 제품의 두께가 두꺼워지는 문제점이 있다.At this time, the coating may be carried out by one method selected from the group consisting of spraying, rolling, deeping and brushing, preferably by a method of rolling have. The curing may be carried out at 20 to 150 ° C for 30 minutes to 100 minutes, preferably at 15 to 60 ° C for 30 minutes to 100 minutes. At this time, the thickness of the insulating film in the first step is preferably 20 to 50 mu m, more preferably 30 to 50 mu m. When the thickness of the insulating film is less than 20 탆, there is a problem in that it is not insulated. When the thickness exceeds 50 탆, the thickness of the entire product including the shielding material according to the present invention becomes thick.

본 발명의 바람직한 일실시예에 있어서, 상기 2단계는 상기 절연막의 상부 일면에 상기 코팅제 조성물을 코팅한 후, 이를 경화하여 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막을 형성하는 단계로서, 상기 코팅막은 본 발명에 따른 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제 조성물을 코팅하여 형성할 수 있으며, 상기 코팅은 스프레이(spray), 롤링(rolling), 디핑(deeping) 및 브러싱(brushing)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 방법으로 수행될 수 있고, 바람직하게는 스프레이의 방법으로 수행될 수 있다. 또한, 상기 2단계의 경화는 20 ~ 150℃에서 30분 ~ 100 분 동안, 바람직하게는 50 ~ 70℃에서 30분 ~ 100 분 동안 수행할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the step 2 is a step of coating the coating composition on the upper surface of the insulating film and then curing the coating composition to form a coating film for shielding a magnetic field at an extremely low frequency, The coating may be formed by coating a coating composition for shielding at an extremely low frequency and a magnetic field according to one of the methods selected from the group consisting of spraying, rolling, deepening and brushing Can be carried out, and preferably can be carried out by the method of spraying. The two-stage curing may be performed at 20 to 150 ° C for 30 minutes to 100 minutes, preferably at 50 to 70 ° C for 30 minutes to 100 minutes.

이때, 상기 코팅막은 두께가 50 ~ 1000 ㎛일 수 있고, 바람직하게는 100 ~ 600 ㎛일 수 있다. 상기 코팅막의 두께가 50 ㎛ 미만인 경우 자기장 차폐 효과가 저하되는 문제점이 있고, 1000 ㎛를 초과하는 경우 코팅층을 깨끗하게 형성하기 어려운 문제점이 있다.At this time, the thickness of the coating layer may be 50-1000 mu m, preferably 100-600 mu m. When the thickness of the coating film is less than 50 탆, the magnetic shielding effect is deteriorated. When the thickness exceeds 1000 탆, it is difficult to form the coating layer cleanly.

이하, 본 발명을 하기 실시예들을 통해 보다 상세하게 설명한다. 이때, 하기 실시예들은 본 발명을 예시하기 위하여 제시된 것일 뿐, 본 발명의 권리범위를 한정하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. The following examples are provided to illustrate the present invention and do not limit the scope of the present invention.

[실시예][Example]

실시예 1. 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제의 제조Example 1. Preparation of Coatings for Very Low Frequency vs. Magnetic Field Shielding

평균밀도가 0.16 g/cm3이고, 평균 입도가 0.040 ㎛ 인 카본블랙 분말(Super-P, TIMCAL, swiss)을 락카계 수지(LOV HS 락카, 삼화페인트)와 10 중량%로 혼합하여 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제를 제조하였다.A carbon black powder (Super-P, TIMCAL, swiss) having an average density of 0.16 g / cm 3 and an average particle size of 0.040 탆 was mixed with 10 wt% of a lacquer resin (LOV HS lacquer, Samhwa paints) A magnetic shielding coating agent was prepared.

실시예 2 ~ 3. 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제의 제조Examples 2 to 3. Preparation of a Coating Agent for Ultra-Low Frequency vs. Magnetic Field Shielding

하기 표 1과 같은 탄소 입자로 각각 카본블랙(DENKI KAGAKU KOGYO K.K. 일본)과 천연 흑연(HC-198, 현대코마, 한국)을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제를 제조하였다.Except that carbon black (DENKI KAGAKU KOGYO KK Japan) and natural graphite (HC-198, HyundaiComma, Korea) were used as the carbon particles as shown in the following Table 1, and the extremely low frequency magnetic field shielding Was prepared.

구분division 밀도(g/cmDensity (g / cm 33 )) 평균입도(㎛)Average particle size (탆) 원료명Raw material name 제조사manufacturer 실시예 1Example 1 0.160.16 0.0400.040 Super-PSuper-P TIMCAL, SwissTIMCAL, Swiss 실시예 2Example 2 0.250.25 0.0350.035 Denka BlackDenka Black DENKI KAGAKU KOGYO K.K., 일본DENKI KAGAKU KOGYO K.K., Japan 실시예 3Example 3 1.731.73 2525 HC-198HC-198 현대코마, 한국HyundaiCome, Korea

[비교예][Comparative Example]

비교예 1~2. 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제의 제조Comparative Examples 1 and 2. Manufacture of Coatings for Extreme Low Frequency vs. Magnetic Field Shielding

하기 표 1과 같은 탄소 입자를 사용한 것을 제외하고는 각각 상기 실시예 2 및 실시예 3과 동일한 방법으로 극저주파대 자기장 차폐용 코팅제를 제조하였다.Except that carbon particles as shown in the following Table 1 were used, respectively, in the same manner as in Example 2 and Example 3, respectively.

구분division 밀도(g/cmDensity (g / cm 33 )) 평균입도(㎛)Average particle size (탆) 원료명Raw material name 제조사manufacturer 비교예 1Comparative Example 1 0.0780.078 0.00670.0067 Denka BlackDenka Black DENKI KAGAKU KOGYO K.K., 일본DENKI KAGAKU KOGYO K.K., Japan 비교예 2Comparative Example 2 6.26.2 5555 HC-198HC-198 현대코마, 한국HyundaiCome, Korea

제조예 1. 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막의 제조Production Example 1. Preparation of Coating Film for Ultra-Low Frequency and Magnetic Field Shielding

(1) 직경 88 mm, 두께 0.36 T의 원형 알루미늄 원판의 상부 일면에 락카계 수지(LOV HS 락카, 삼화페인트)로 절연코팅한 후 두께를 달리하여 공기압을 이용한 스프레이 코팅법을 이용하여 분체도장하여 절연막을 형성하였다.(1) A circular aluminum plate having a diameter of 88 mm and a thickness of 0.36 T was coated with a lacquer resin (LOV HS lacquer, Samhwa paint) on the upper surface of the circular aluminum plate, and then powder coating was carried out using air pressure spray coating Thereby forming an insulating film.

(2) 상기 절연막의 상부 일면에 실시예 1의 코팅제를 코팅하였고, 이후 60℃에서 1 시간 동안 경화하여 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막을 제조하였다.(2) The coating material of Example 1 was coated on the upper surface of the insulating film and then cured at 60 ° C for 1 hour to prepare a coating film for shielding the magnetic field.

제조예 2. 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막의 제조Production Example 2. Preparation of Coating Film for Ultra-Low Frequency and Magnetic Field Shielding

상기 제조예 2의 (2)단계에서 실시예 2의 코팅제를 사용한 것을 제외하고는 제조예 1와 동일한 방법으로 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막을 제조하였다.A coating film for shielding an extremely low frequency magnetic field was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the coating material of Example 2 was used in the step (2) of Production Example 2.

제조예 3. 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막의 제조Production Example 3. Preparation of Coating Film for Ultra-Low Frequency and Magnetic Field Shielding

상기 제조예 2의 (2)단계에서 실시예 3의 코팅제를 사용한 것을 제외하고는 제조예 1와 동일한 방법으로 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막을 제조하였다.A coating film for shielding an extremely low frequency magnetic field was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the coating material of Example 3 was used in the step (2) of Production Example 2.

비교제조예 1. 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막의 제조COMPARATIVE PREPARATION EXAMPLE 1. Preparation of Coating Film for Ultra-Low Frequency vs. Magnetic Field Shielding

상기 제조예 1의 (2)단계에서 비교예 1의 코팅제를 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막을 제조하였다.A coating film for shielding an extremely low frequency magnetic field was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the coating agent of Comparative Example 1 was used in the step (2) of Production Example 1.

비교제조예 2. 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막의 제조COMPARATIVE EXAMPLE 2 Preparation of a Coating Film for Ultra-Low Frequency and Magnetic Field Shielding

상기 제조예 1의 (2)단계에서 비교예 2의 코팅제를 사용한 것을 제외하고는 제조예 2와 동일한 방법으로 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막을 제조하였다.A coating film for shielding an extremely low frequency magnetic field was prepared in the same manner as in Preparation Example 2, except that the coating material of Comparative Example 2 was used in the step (2) of Production Example 1.

[실험예][Experimental Example]

실험예 1. 탄소계 분말 미세입자의 관찰Experimental Example 1. Observation of fine particles of carbon-based powder

본 발명에 따른 코팅제 조성물에 사용되는 탄소계 분말에 대하여 관찰하기 위하여 주사전자 현미경(FE-SEM, 6500F, JEOL)을 이용하여 그 미세입자 형태를 관찰하였고, 그 결과를 하기 도 1에 나타내었다. 이때, 도 1(a)는 실시예 1의 미세입자이고, (b)는 실시예 2의 미세입자이고, (c)는 실시예 3의 미세입자를 관찰한 이미지다.In order to observe the carbon-based powder used in the coating composition according to the present invention, the shape of the fine particles was observed using a scanning electron microscope (FE-SEM, 6500F, JEOL), and the results are shown in FIG. 1 (a) is the fine particle of Example 1, (b) is the fine particle of Example 2, and (c) is the image of the fine particle of Example 3.

하기 도 1에 따르면, 실시예 1의 Super-P 및 실시예 2의 Denka Black은 구형의 입자가 응집된 형태인 것을 확인할 수 있었고, 실시예 3의 HC-198은 판상인 것을 확인할 수 있었다.According to FIG. 1, it was confirmed that the Super-P of Example 1 and the Denka Black of Example 2 were aggregated spherical particles, and HC-198 of Example 3 was in a plate form.

실험예 2. 자기장 차폐용 코팅막 두께 측정Experimental Example 2. Measurement of Coating Film Thickness for Magnetic Field Shielding

본 발명에 따른 자기장 차폐용 코팅막의 두께를 측정하기 위하여, 상기 제조예 1 ~ 3 및 비교 제조예1 ~ 2에서 제조된 시편의 상하좌우 말단에서 20 mm 내부와 정중앙 지점에서의 두께를 측정하였고(도 2참조), 그 결과를 하기 표 3 및 도 3에 나타내었다.In order to measure the thickness of the coating film for magnetic shielding according to the present invention, the thicknesses of the specimens prepared in Preparations 1 to 3 and Comparative Preparations 1 and 2 were measured at the inner and midpoints of 20 mm at the upper and lower left and right ends 2), and the results are shown in Table 3 and FIG.

구분division 제조예Manufacturing example 제조예 1
Super-P
Production Example 1
Super-P
제조예 2
Denka Black
Production Example 2
Denka Black
제조예 3
HC-198
Production Example 3
HC-198
1-11-1 1-21-2 1-31-3 2-12-1 2-22-2 2-32-3 3-13-1 3-23-2 3-33-3 코팅막 평균두께(mm)Average thickness of coating film (mm) 143143 165165 343343 130130 254254 597597 180180 244244 455455 코팅막 밀도(g/cm3)Coating film density (g / cm 3 ) 1.581.58 1.541.54 1.551.55 1.591.59 1.521.52 1.511.51 1.621.62 1.631.63 1.611.61 구분division 비교 제조예Comparative Manufacturing Example 비교 제조예 1
Denka Black
Comparative Preparation Example 1
Denka Black
비교 제조예 2
HC-198
Comparative Production Example 2
HC-198
--
1-11-1 1-21-2 1-31-3 2-12-1 2-22-2 2-32-3 -- -- -- 코팅막 평균두께(mm)Average thickness of coating film (mm) 128128 253253 593593 171171 243243 456456 -- -- -- 코팅막 밀도(g/cm3)Coating film density (g / cm 3 ) 0.0750.075 0.0780.078 0.0770.077 6.36.3 6.26.2 6.16.1

표 3 및 도 3에 따르면, 제조예 1의 경우 표면 두께의 산포가 상대적으로 큰 것을 확인할 수 있고, 이는 제조예 1의 탄소계 분말이 밀도가 낮기 때문에 코팅막이 경화되기 전 분말이 코팅층에서 떨어져 코팅층의 두께 조절이 용이하지 못한 것으로 판단된다. 또한, 제조예 2의 탄소계 분말인 Denka Black은 분말 1차 입자들이 작아, 이를 포함하는 코팅막이 응집될 수 있고 이로 인해 요철이 관찰되었다. 제조예 2의 탄소계 분말은 제조예 1의 탄소계 분말에 비해 밀도가 커 코팅층을 유지하였으며, 경화하면서 응집된 분말이 코팅층을 증가시키는 것을 확인할 수 있었다. 제조예 3의 탄소계 분말인 HC-198의 경우 분말 밀도 및 입자크기가 크기 때문에 상대적으로 코팅층이 잘 형성되었으며, 두께 측정시 산포도가 적은 것을 확인할 수 있었다. 또한, 제조예 2(Denka Black)의 경우, 경화시 분말 입자의 응집으로 인하여 코팅층 표면이 균일하지 못한 것으로 판단된다.According to Table 3 and FIG. 3, it can be seen that the dispersion of the surface thickness is relatively large in the case of Production Example 1, because the carbon-based powder of Production Example 1 has a low density, so that the powder is separated from the coating layer, It is not easy to control the thickness. Also, Denka Black, which is a carbon-based powder of Production Example 2, was small in powder primary particles, and the coating film containing the same could be agglomerated, resulting in irregularities. The carbon-based powder of Production Example 2 had a higher density than the carbon-based powder of Production Example 1 and maintained the coating layer, and it was confirmed that the coagulated powder increased the coating layer. HC-198, which is a carbon-based powder of Production Example 3, has a relatively large powder density and a large particle size, and the coating layer is formed relatively well and the scattering degree is small when the thickness is measured. Further, in the case of Production Example 2 (Denka Black), it was judged that the surface of the coating layer was not uniform due to agglomeration of powder particles during curing.

한편, 비교 제조예 1의 탄소계 분말의 경우에도 제조예 1과 제조예2보다 평균입도와 밀도가 낮아서 코팅막이 응집되어 요철이 발생하는 문제점이 발생하였고, 비교 제조예 2의 경우에 제조예 3보다 분말 밀도 및 입자크기보다 필요 이상으로 커서 코팅층의 표면이 깨끗하지 못하게 형성되는 것으로 확인되었다.On the other hand, also in the case of the carbon-based powder of Comparative Production Example 1, the average particle size and density were lower than those of Production Example 1 and Production Example 2, so that the coating film coagulated to cause irregularities. In Comparative Production Example 2, It is confirmed that the surface of the coating layer is formed unclearly because it is larger than necessary than the powder density and the particle size.

실험예 3. 자기장 차폐용 코팅막에 대한 자계 감소율 측정Experimental Example 3. Measurement of magnetic field reduction rate for a magnetic film shielding coating

상기 제조예 1 ~ 3및 비교 제조예1 ~ 2에서, 각각의 코팅막 형성 전의 평균 자계값(mG)에 대한 코팅막의 두께 증가에 따른 자계 감소율(%)을 확인하기 위하여, 코팅 시편에서 5 mm 위에 자계 측정기기를 올려놓고 변화를 관찰하였다. 상기 자계 측정기기 65 V를 인가하였으며 아무것도 올려놓지 않은 레퍼런스 자계를 각각 평균 5 mG로 고정한 후 본 발명에 따른 시료의 자계를 측정하였다. 측정기기는 극저주파 영역대의 자계 측정기기를 사용하였으며 TENMARS 사의 GTM-190을 사용하였다. 이때, 사용한 기기 스펙은 표 4와 같다. 그 결과를 하기 도 4 및 표 5에 나타내었다.In order to confirm the magnetic field reduction rate (%) according to the increase of the thickness of the coating film to the average magnetic field value (mG) before the formation of the respective coating films in Production Examples 1 to 3 and Comparative Production Examples 1 and 2, The magnetic field measurement instrument was put on and the change was observed. The magnetic field of the sample according to the present invention was measured after applying the magnetic field measuring apparatus of 65 V and fixing the reference magnetic field on which none was placed at an average of 5 mG. The measuring instrument was a magnetic field measuring device of a very low frequency range and GTM-190 manufactured by TENMARS Co., Ltd. was used. Table 4 shows the specifications of the equipment used. The results are shown in FIG. 4 and Table 5.

구분division 기술 규격Technical Specifications 규격값Specification value 제조예 1 ~ 3

비교 제조예 1~ 2
Production Examples 1 to 3
And
Comparative Production Examples 1 to 2
감지기 형태Detector type 저주파 자기장 3축(X, Y, Z)Low frequency magnetic field 3 axes (X, Y, Z)
측정 범위Measuring range 0.02 ~ 2000 mG0.02 to 2000 mG 측정 주파수 영역대Measurement frequency band 50 ~ 60 Hz50 to 60 Hz 시료 추출시간Sample extraction time 6 sec6 sec

구분division 코팅막 두께Coating thickness 평균 자계(mG)Average magnetic field (mG) 자계 감소율(%)Magnetic field reduction rate (%) 표준편차Standard Deviation 제조예 1
Super-P
Production Example 1
Super-P
-- 0 ㎛0 탆 5.0255.025 0.00.0 0.1060.106
1-11-1 143 ㎛143 μm 4.4954.495 10.510.5 0.0500.050 1-21-2 165 ㎛165 탆 4.4804.480 10.810.8 0.0570.057 1-31-3 343 ㎛343 탆 4.1754.175 16.916.9 0.1200.120 제조예 2
Denka Black
Production Example 2
Denka Black
-- 0 ㎛0 탆 5.0255.025 0.00.0 0.1060.106
2-12-1 130 ㎛130 탆 4.3804.380 12.812.8 0.0850.085 2-22-2 254 ㎛254 탆 4.1954.195 16.516.5 0.0350.035 2-32-3 597 ㎛597 ㎛ 4.1204.120 18.018.0 0.0710.071 제조예 3
HC-198
Production Example 3
HC-198
-- 0 ㎛0 탆 5.0255.025 0.00.0 0.1060.106
3-13-1 180 ㎛180 탆 4.0704.070 19.019.0 0.1700.170 3-23-2 244 ㎛244 탆 3.9503.950 21.421.4 0.0990.099 3-33-3 455 ㎛455 탆 3.1003.100 38.338.3 0.0570.057 비교 제조예 1
Super-P
Comparative Preparation Example 1
Super-P
-- 0 ㎛0 탆 5.0255.025 0.00.0 0.1060.106
1-11-1 130 ㎛130 탆 3.1303.130 8.18.1 0.0430.043 1-21-2 254 ㎛254 탆 3.0423.042 10.110.1 0.0170.017 1-31-3 597 ㎛597 ㎛ 3.0193.019 11.311.3 0.0420.042 비교 제조예 2
Denka Black
Comparative Production Example 2
Denka Black
-- 0 ㎛0 탆 5.0255.025 0.00.0 0.1060.106
2-12-1 180 ㎛180 탆 3.0073.007 10.210.2 0.0450.045 2-22-2 244 ㎛244 탆 2.8602.860 12.112.1 0.0310.031 2-32-3 455 ㎛455 탆 2.0742.074 19.019.0 0.0210.021

본 발명에 따른 제조예1 ~ 3의 차폐재는 탄소계 분말을 포함함으로써 극저주파 영역대에서의 자계가 감소하는 효과를 가지는 것을 확인할 수 있고, 탄소 소재의 자기장 차폐 가능성을 확인할 수 있었다. 이때, 코팅막의 두께가 증가할수록 자계가 감소하는 것을 확인할 수 있었고, 그 중에서도 제조예 3의 탄소계 분말인 천연흑연 HC-198로 코팅된 시편의 경우 가장 우수한 자기장 차폐 효율을 나타내는 것을 확인할 수 있었다.It was confirmed that the shielding materials of Production Examples 1 to 3 according to the present invention had the effect of reducing the magnetic field in the extremely low frequency region by including the carbon-based powder, and the possibility of magnetic shielding of the carbon material was confirmed. In this case, it was confirmed that the magnetic field decreased as the thickness of the coating film increased. Among them, it was confirmed that the specimen coated with the natural graphite HC-198, the carbon-based powder of Production Example 3, exhibited the best magnetic shielding efficiency.

또한, 비교 제조예 1 ~ 2의 차폐재는 탄소계 분말을 포함하고 있으나, 탄소입자의 밀도 및 평균 입도가 너무 작거나 큰 경우에 본 발명의 제조예 1 ~ 3의 차폐재에 비해 상대적으로 차폐 효율이 감소되는 것을 확인할 수 있었다.The shielding materials of Comparative Production Examples 1 and 2 contain the carbon-based powder, but when the density and the average particle size of the carbon particles are too small or too large, the shielding efficiency is relatively higher than that of the shielding materials of Production Examples 1 to 3 of the present invention .

보다 상세하게는 제조예 3의 코팅제(HC-198 사용)를 사용한 차폐재의 경우 두께에 따라 자기장이 각각 평균 4.07 mG, 4.04 mG, 3.10 mG만큼 감소하였으며, 3.10 mG로 감소하였을 때 38.3 %의 자기장 차폐 감소율을 나타내는 것을 확인할 수 있었다. 이는 제조예 3의 차폐제가 다른 시편에 비해 입자가 잘 뭉치지 않기 때문에 코팅이 용이하게 된 것으로 보인다. 또한, 제조예 1(Super-P)와 제조예 2(Denka Black)의 경우 제조예 3(HC-198)에 비해 자계 감소율이 낮게 측정되었는데, 이는 제조예 1의 탄소계 분말(Super-P)의 낮은 밀도 때문에 경화되기 전 분말이 코팅층에서 떨어져 코팅층의 두께 조절이 용이하지 못하고, 자계 감소율이 낮게 측정된 것으로 판단되며, 이는 비교 제조예 1 및 비교 제조예 2를 통해서도 확인할 수 있었다.More specifically, in the case of the shielding material using the coating agent of Production Example 3 (using HC-198), the magnetic fields decreased by 4.07 mG, 4.04 mG and 3.10 mG, respectively, Reduction rate. This indicates that the coating of Preparation Example 3 was easier than that of the other specimens because the particles did not aggregate well. The magnetic field reduction rate was measured to be lower than that of Production Example 3 (HC-198) in Production Example 1 (Super-P) and Production Example 2 (Denka Black) The powder was found to fall off from the coating layer before curing and it was judged that the thickness of the coating layer was not easily controlled and that the magnetic field reduction rate was low. This was also confirmed by Comparative Production Example 1 and Comparative Production Example 2.

실험예 4. 자기장 차폐용 코팅막의 전압 인가량에 따른 자계측정EXPERIMENTAL EXAMPLE 4. Magnetic Field Measurement According to Voltage Application of Coating Film for Magnetic Field Shielding

본 발명에 따른 제조예 1 ~ 제조예 3및 비교제조예 1 ~ 비교제조예 2의 자기장 차폐용 코팅제를 포함하는 코팅막의 자기장을 측정하였고, 그 결과를 하기 표 6 및 도 6에 나타내었다.The magnetic fields of the coating films containing the magnetic shielding coatings of Production Examples 1 to 3 and Comparative Production Examples 1 to 6 according to the present invention were measured and the results are shown in Table 6 and FIG.

도 6에서 확인되는 바와 같이, 제조예 1 ~ 제조예3의 경우에 두께 측정시 산포도가 적으며 안정적으로 자기장 측정이 가능하였으며, 전압의 인가량에 따라 자기장이 비례적으로 일정량 증가하는 것을 확인할 수 있었으나, 비교제조예 1 ~ 비교제조예2의 경우에 동일한 전압의 인가량에도 상대적으로 큰 자기장의 증가를 나타냈다.As can be seen from FIG. 6, in the case of Production Examples 1 to 3, the magnetic field was stably measured with a small scattering degree in the thickness measurement, and it was confirmed that the magnetic field was proportionally increased in proportion to the applied voltage However, in the case of Comparative Production Examples 1 to 2, the magnetic field was relatively increased even at the same applied voltage.

구분division 인가 전압Applied voltage
(V)(V)
자기장magnetic field
(mG)(mG)
인가 전압Applied voltage
(V)(V)
자기장magnetic field
(mG)(mG)
인가 전압Applied voltage
(V)(V)
자기장magnetic field
(mG)(mG)
제조예Manufacturing example 1One 22 33 00 00 00 00 00 00 2020 1.91.9 2020 1.91.9 2020 1.61.6 4040 2.82.8 4040 2.92.9 4040 2.62.6 6060 4.74.7 6060 4.84.8 6060 4.44.4 8080 6.56.5 8080 6.76.7 8080 6.36.3 100100 8.58.5 100100 8.78.7 100100 8.28.2 비교제조예Comparative Manufacturing Example 1One 22 -- 00 00 00 00 -- -- 2020 3.63.6 2020 3.83.8 -- -- 4040 7.57.5 4040 7.77.7 -- -- 6060 9.79.7 6060 9.99.9 -- -- 8080 -- 8080 -- -- -- 100100 -- 100100 -- -- --

상기 표 6에 나타난 바와 같이, 제조예1 내지 제조예3은 코팅막에 양단을 전기적으로 연결하여 단계적으로 높은 전압을 인가하여 자기장을 측정한 결과 자기장 수치가 비례적으로 증가하는 것을 확인 할 수 있었으나, 비교제조예1 내지 비교제조예 2의 코팅막은 동일한 전압에도 급격하게 자기장이 높아지는 것을 확인할 수 있었다.As shown in Table 6, in Production Examples 1 to 3, magnetic fields were measured by electrically connecting both ends to a coating film and applying a high voltage stepwise. As a result, it was confirmed that the magnetic field value was proportionally increased, It was confirmed that the coating films of Comparative Production Examples 1 to 2 had a rapid magnetic field at the same voltage.

실험예 5. 자기장 차폐용 코팅막의 물성 비교Experimental Example 5. Comparison of Physical Properties of Coating Film for Magnetic Field Shielding

상기 실시예 1 ~ 실시예 3 및 비교예 1 ~ 2에서 제조된 각각의 코팅제를 하기와 같은 규정된 시험 방법에 의하여 물성시험을 수행하였으며, 그 결과를 하기 표 7에 나타내었다.Each of the coatings prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 was subjected to the physical properties test according to the following prescribed test methods, and the results are shown in Table 7 below.

1. 부착성 시험1. Adhesion test

플라스틱 소재인 ABS, PC, ABS-PC에 대한 소재 부착력 시험을 측정하였다. 스프레이 코팅(Spray coating, 분무압4kgf/㎠)으로 건조도막 20㎛ 도포한 후 60에서 20분 건조시킨 후 부착성 시험(Cross Tape Method, 1㎜/1㎜, 100/100)을 실시하였다.Material adhesion tests were measured for plastic materials ABS, PC, ABS-PC. (Cross Tape Method, 1 mm / 1 mm, 100/100) was performed after 20 탆 dry coating with a spray coating (spraying pressure 4 kgf / cm 2) and drying at 60 to 20 minutes.

◎: 100/100, ○: 99/100 - 90/100?: 100/100,?: 99/100 - 90/100

△: 90/100 - 80/100, ×: 80/100 이하?: 90/100 - 80/100, 占: 80/100 or less

2. 내습 환경 시험2. Humidity Environmental Test

도막의 내습성 시험으로 85, 85%R.H.에서 7일 경과 후 저항값의 변화를 저항 측정기(Lowresta-GP)로 측정하였다.The moisture resistance of the film was measured at 85, 85% R.H. after 7 days, and the resistance value was measured with a resistance meter (Lowresta-GP).

◎: 기존 저항값 ± 5%이내, ○: 기존 저항값 ± 20%이내◎: Within ± 5% of existing resistance value, ○: Within ± 20% of existing resistance value

△: 기존 저항값 ± 30%이내, ×: 기존 저항값 ± 40%이내△: Within ± 30% of existing resistance value, ×: Within ± 40% of existing resistance value

3. 저장 안정성 시험3. Storage stability test

코팅제를 60에서 168시간 방치할 경우 침강의 상태를 측정하였다. 침강 상태는 육안 판정으로 측정하였다.When the coating agent was allowed to stand at 60 to 168 hours, the state of sedimentation was measured. The sedimentation state was measured by visual determination.

◎: 우수, ○ : 양호⊚: Excellent, ∘: Good

△: 보통, ×: 불량?: Normal, X: Bad

4. 저항값 측정 시험4. Resistance measurement test

플라스틱 소재에 코팅제를 도포하고(건조도막: 25㎛) 저항 측정기로 저항값을 측정하였다.The coating material was applied to the plastic material (dry film: 25 m) and the resistance value was measured with a resistance meter.

◎: 저항값 0.015 Ohm/Sq 이하, ○ : 저항값 0.015 - 0.1 Ohm/Sq?: Resistance value 0.015 Ohm / Sq or less,?: Resistance value 0.015-0.1 Ohm / Sq

△: 저항값 0.1 - 2.0 Ohm/Sq, ×: 저항값 2.0 Ohm/Sq 이상△: Resistance value 0.1 - 2.0 Ohm / Sq, ×: Resistance value 2.0 Ohm / Sq or more

구분division 부착성 시험Adhesion test 내습성 시험Moisture resistance test 저장 안정성 시험Storage stability test 저항값 측정 시험Resistance value measurement test 실시예 1 Example 1 실시예 2 Example 2 실시예 3 Example 3 비교예 1 Comparative Example 1 ×× 비교예 2 Comparative Example 2 ××

상기 표 7에 나타난 바와 같이, 실시예 1 ~ 3의 코팅제가 비교예 1 ~ 2보다 상대적으로 우수한 물성을 나타냈으며, 특히, 저항값 및 내습성 시험에서 물성값의 변화량이 적어 매우 안정적인 차폐 효율을 나타냈다.As shown in Table 7, the coating agents of Examples 1 to 3 exhibited relatively better physical properties than those of Comparative Examples 1 and 2, and exhibited a very stable shielding efficiency due to a small amount of change in physical properties in the resistance value and moisture resistance test .

Claims (9)

도전체;
상기 도전체의 상부 일면에 구비되는 절연막; 및
상기 절연막의 상부 일면에 구비되고, 카본블랙 및 바인더 용액을 포함하는 조성물을 경화시켜 형성된 자기장 차폐용 코팅막; 을 포함하고,
상기 카본블랙은 평균입도가 15 ~ 45 ㎛, 평균밀도가 1.5 ~ 2.0 g/cm3 이고,
상기 바인더 용액은 유기계 수지를 포함하며,
상기 자기장 차폐용 코팅막은 450 ~ 500 ㎛의 두께를 가지고,
50 ~ 60 Hz에 대한 자계 감소율이 35 ~ 40 %인 것을 특징으로 하는 극저주파대 자기장 차폐재.
Conductor;
An insulating film provided on an upper surface of the conductor; And
A coating film for shielding a magnetic field formed on the upper surface of the insulating film and formed by curing a composition comprising carbon black and a binder solution; / RTI >
The carbon black preferably has an average particle size of 15 to 45 μm and an average density of 1.5 to 2.0 g / cm 3 ,
Wherein the binder solution comprises an organic resin,
The coating film for magnetic field shielding has a thickness of 450 to 500 mu m,
And a magnetic field reduction rate of 50 to 60 Hz is 35 to 40%.
제 1 항에 있어서,
상기 조성물은 바인더 용액 100 중량부에 대하여 카본블랙 5 ~ 20 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 극저주파대 자기장 차폐재.
The method according to claim 1,
Wherein the composition comprises 5 to 20 parts by weight of carbon black per 100 parts by weight of the binder solution.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 유기계 수지는 락카계 수지, 에폭시 수지 및 페놀계 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 극저주파대 자기장 차폐재.
The method according to claim 1,
Wherein the organic resin comprises at least one member selected from the group consisting of a lacquer resin, an epoxy resin and a phenol resin.
삭제delete 삭제delete 도전체의 상부 일면에 유기계 수지로 코팅 및 경화하여 절연막을 형성하는 1단계; 및
상기 절연막의 상부 일면에 카본블랙 및 바인더 용액을 포함하는 조성물이 포함된 코팅제를 코팅한 후, 이를 경화하여 극저주파대 자기장 차폐용 코팅막을 형성하는 2단계; 를 포함하고,
상기 카본블랙은 평균입도가 15 ~ 45 ㎛, 평균밀도가 1.5 ~ 2.0 g/cm3 이고,
상기 바인더 용액은 유기계 수지를 포함하며,
상기 자기장 차폐용 코팅막은 450 ~ 500 ㎛의 두께를 가지고,
50 ~ 60 Hz에 대한 자계 감소율이 35 ~ 40 %인 것을 특징으로 하는 극저주파대 자기장 차폐재의 제조방법.
A first step of forming an insulating film by coating and curing an upper surface of the conductor with an organic resin; And
A second step of coating a coating material containing a composition containing carbon black and a binder solution on one surface of the insulating film and then curing the coating material to form a coating film for shielding a magnetic field at an extremely low frequency; Lt; / RTI >
The carbon black preferably has an average particle size of 15 to 45 μm and an average density of 1.5 to 2.0 g / cm 3 ,
Wherein the binder solution comprises an organic resin,
The coating film for magnetic field shielding has a thickness of 450 to 500 mu m,
And a magnetic field reduction rate of 50 to 60 Hz is 35 to 40%.
제 7 항에 있어서,
상기 2단계의 경화는 20 ~ 150℃에서 30분 ~ 100 분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 극저주파대 자기장 차폐재의 제조방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the curing in the second step is performed at 20 to 150 DEG C for 30 minutes to 100 minutes.
제 7 항에 있어서,
상기 절연막의 두께는 20 ~ 50 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 극저주파대 자기장 차폐재의 제조방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the thickness of the insulating film is 20 to 50 占 퐉.
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