KR101814672B1 - Photosensitive resin layer, black column spacerusing the sameand color filter - Google Patents

Photosensitive resin layer, black column spacerusing the sameand color filter Download PDF

Info

Publication number
KR101814672B1
KR101814672B1 KR1020150010128A KR20150010128A KR101814672B1 KR 101814672 B1 KR101814672 B1 KR 101814672B1 KR 1020150010128 A KR1020150010128 A KR 1020150010128A KR 20150010128 A KR20150010128 A KR 20150010128A KR 101814672 B1 KR101814672 B1 KR 101814672B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
composition
black
resin film
binder resin
Prior art date
Application number
KR1020150010128A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160090169A (en
Inventor
이혜민
백호정
송해니
유아름
이준호
최현무
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020150010128A priority Critical patent/KR101814672B1/en
Publication of KR20160090169A publication Critical patent/KR20160090169A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101814672B1 publication Critical patent/KR101814672B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/23Photochromic filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Abstract

제1 조성물을 기판위에 도포 후 경화시킨 제1 수지막 및 상기 제1 수지막 위에 제2 조성물을 도포 후 경화시킨 제2 수지막을 포함하고, 상기 제1 조성물은 카도계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제, 안료 및 용매를 포함하고, 상기 제2 조성물은 아크릴계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함하고, 상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 25000 g/mol 내지 29000 g/mol인 감광성 수지막, 상기 감광성 수지막을 노광 및 현상하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서 및 상기 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터가 제공된다.A first resin film formed by coating a first composition on a substrate and cured, and a second resin film formed by applying a second composition onto the first resin film and curing the first resin film, wherein the first composition comprises a cadmium binder resin, a reactive unsaturated compound, Wherein the second composition comprises an acrylic binder resin, a reactive unsaturated compound, a photopolymerization initiator and a solvent, wherein the weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second composition is 25000 g / mol to 29000 g / mol, a black column spacer manufactured by exposing and developing the photosensitive resin film, and a color filter including the black column spacer.

Description

감광성 수지막, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터 {PHOTOSENSITIVE RESIN LAYER, BLACK COLUMN SPACERUSING THE SAMEAND COLOR FILTER}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a photosensitive resin film, a black column spacer using the same, and a color filter using the same. BACKGROUND ART [0002]

본 기재는 감광성 수지막, 이를 이용하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서 및 상기 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터에 관한 것이다.
The present invention relates to a photosensitive resin film, a black column spacer manufactured using the same, and a color filter including the black column spacer.

감광성 수지 조성물은 컬러필터, 액정 표시재료, 유기발광소자, 디스플레이 패널 재료 등의 표시 소자의 제조에 필수적인 재료이다. 예를 들어, 컬러 액정 디스플레이 등의 컬러필터에는 표시 콘트라스트나 발색 효과를 높이기 위해, 레드(red), 그린(green), 블루(blue) 등의 착색층 간의 경계 부분에 블랙 매트릭스가 필요하고, 이 블랙 매트릭스는 주로 감광성 수지 조성물로 형성되는 것이다.The photosensitive resin composition is an indispensable material for the production of display devices such as color filters, liquid crystal display materials, organic light emitting devices, and display panel materials. For example, a color filter such as a color liquid crystal display requires a black matrix at a boundary portion between coloring layers such as red, green, and blue in order to enhance display contrast and coloring effect, The black matrix is mainly formed of a photosensitive resin composition.

최근에는 상기 블랙 매트릭스재료를, 액정층을 사이에 두고 존재하는 두개의 TFT와 C/F 기판 사이를 지지하는 컬럼 스페이서로 사용하고자 하는 노력들이 이루어지고 있는데, 상기 컬럼 스페이서를 블랙 컬럼 스페이서라고 한다. Recently, efforts have been made to use the black matrix material as a column spacer supporting between two TFTs and a C / F substrate existing between the liquid crystal layers, and the column spacer is referred to as a black column spacer.

상기 블랙 컬럼 스페이서의 기능을 구현하기 위해서는 압축변위, 탄성회복률, 파괴강도 등의 기본특성이 요구됨은 물론, 마스크(mask)를 이용한 노광량 조절로 블랙 컬럼 스페이서 패턴의 단차를 구현해야 한다. In order to realize the function of the black column spacer, basic characteristics such as compression displacement, elastic recovery rate and breaking strength are required, and steps of a black column spacer pattern must be realized by adjusting the exposure amount using a mask.

그러나, 종래 감광성 수지막은 단일의 감광성 수지 조성물로부터 형성되어 신뢰성이 저하되고 원하는 단차를 구현하기가 어려우며, 현상 마진 측면에서도 개선된 효과를 보여주지 못하고 있다. 또한, 종래 감광성 수지막은 임계치수(CD; critical dimension)가 크고, 이로부터 제조된 컬러필터 패턴의 테이퍼 각도가 낮아지는 등의 문제점을 여전히 해결하지 못하고 있다.However, conventionally, the photosensitive resin film is formed from a single photosensitive resin composition, so that the reliability is lowered, it is difficult to realize a desired level difference, and the improvement effect in terms of the developing margin is not shown. In addition, the conventional photosensitive resin film has a problem that the critical dimension (CD) is large and the taper angle of the color filter pattern produced therefrom is low.

따라서, 상기 문제점을 해소할 수 있는 감광성 수지막을 개발하려는 연구가 계속되고 있다.
Therefore, studies for developing a photosensitive resin film capable of overcoming the above problems are continuing.

일 구현예는 제1 수지막 및 제2 수지막을 포함하고, 상기 제2 수지막은 특정 범위의 중량평균 분자량을 가지는 아크릴계 바인더 수지를 포함하는 감광성 수지막을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is for providing a photosensitive resin film comprising a first resin film and a second resin film, wherein the second resin film comprises an acrylic binder resin having a specific range of weight average molecular weight.

다른 구현예는 상기 감광성 수지막을 이용하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서를 제공하기 위한것이다.Another embodiment is to provide a black column spacer manufactured using the photosensitive resin film.

또 다른 구현예는 상기 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.
Another embodiment is to provide a color filter comprising the black column spacer.

일 구현예는 제1 조성물을 기판위에 도포 후 경화시킨 제1 수지막 및 상기 제1 수지막 위에 제2 조성물을 도포 후 경화시킨 제2 수지막을 포함하고, 상기 제1 조성물은 카도계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제, 안료 및 용매를 포함하고, 상기 제2 조성물은 아크릴계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함하고, 상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 25000 g/mol 내지 29000 g/mol인 감광성 수지막을 제공한다.One embodiment includes a first resin film formed by applying a first composition onto a substrate and then curing the first composition, and a second resin film formed by applying a second composition onto the first resin film and curing the first resin film, wherein the first composition comprises a cadmium- Wherein the second composition comprises an acrylic binder resin, a reactive unsaturated compound, a photopolymerization initiator and a solvent, wherein the weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second composition is 25000 g / mol to 29000 g / mol.

상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함할 수 있다.The acrylic binder resin in the second composition may include a repeating unit represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112015006506715-pat00001
Figure 112015006506715-pat00001

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R1은 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R 1 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R2는 수소원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.R 2 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C10 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.

상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 2 및 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 더 포함할 수 있다.The acrylic binder resin in the second composition may further include a repeating unit represented by the following formula (2) and (3).

[화학식 2](2)

Figure 112015006506715-pat00002
Figure 112015006506715-pat00002

[화학식 3](3)

Figure 112015006506715-pat00003
Figure 112015006506715-pat00003

상기 화학식 2 및 화학식 3에서,In the general formulas (2) and (3)

R3, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R 3 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R4는 수소원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.R 4 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C10 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.

상기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 상기 화학식 2로 표시되는 반복단위 및 상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위는, "화학식 1로 표시되는 반복단위 : 화학식 2로 표시되는 반복단위 : 화학식 3으로 표시되는 반복단위 = 35 내지 45 : 40 내지 50 : 15 내지 25"의 중량비로 포함될 수 있다.The repeating unit represented by the formula (1), the repeating unit represented by the formula (2) and the repeating unit represented by the formula (3) are preferably a repeating unit represented by the following formula (1): a repeating unit represented by the formula Repeating unit = 35 to 45:40 to 50:15 to 25 ".

상기 안료는 흑색 안료를 포함할 수 있다.The pigment may comprise a black pigment.

상기 흑색 안료는 아닐린 블랙, 페릴렌 블랙, 티타늄 블랙, 시아닌 블랙, 리그닌 블랙, 락탐계 유기블랙, RGB 블랙, 카본 블랙 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The black pigment may include aniline black, perylene black, titanium black, cyanine black, lignin black, lactam-based organic black, RGB black, carbon black or a combination thereof.

상기 제1 조성물은 상기 안료를 포함하는 안료분산액을 포함하고, 상기 제1 조성물은 카도계 바인더 수지 1 중량% 내지 30 중량%, 반응성 불포화 화합물 1 중량% 내지 20 중량%, 광중합 개시제 0.05 중량% 내지 5 중량%, 안료분산액 5 중량% 내지 60 중량% 및 용매 잔부량을 포함할 수 있다.Wherein the first composition comprises a pigment dispersion comprising the pigment, wherein the first composition comprises from 1 wt% to 30 wt% of a cationic binder resin, from 1 wt% to 20 wt% of a reactive unsaturated compound, from 0.05 wt% 5 wt%, pigment dispersion 5 wt% to 60 wt%, and solvent balance.

상기 제2 조성물은 아크릴계 바인더 수지 3 중량% 내지 40 중량%, 반응성 불포화 화합물 2 중량% 내지 20 중량%, 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량% 및 용매 잔부량을 포함할 수 있다.The second composition may include 3 to 40% by weight of an acrylic binder resin, 2 to 20% by weight of a reactive unsaturated compound, 0.1 to 5% by weight of a photopolymerization initiator, and a remaining amount of a solvent.

상기 제2 조성물은 안료를 더 포함할 수 있다.The second composition may further comprise a pigment.

상기 제1 조성물 및 제2 조성물은 각각 독립적으로 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 불소계 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The first composition and the second composition each independently include malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane coupling agent, a leveling agent, a fluorinated surfactant, a radical polymerization initiator, can do.

다른 구현예는 상기 감광성 수지막을 노광 및 현상하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서를 제공한다. Another embodiment provides a black column spacer prepared by exposing and developing the photosensitive resin film.

상기 블랙 컬럼 스페이서 내 패턴은 20° 이상의 테이퍼 각도를 가질 수 있다.The pattern in the black column spacer may have a taper angle of 20 degrees or greater.

또 다른 구현예는 상기 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터를 제공한다. Another embodiment provides a color filter comprising the black column spacer.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.
Other aspects of the present invention are included in the following detailed description.

일 구현예에 따른 감광성 수지막은 제1 수지막 및 제2 수지막을 포함하고, 상기 제2 수지막이 특정 범위의 중량평균 분자량을 가지는 아크릴계 바인더 수지를 포함하여, 패턴의 CD가 작고 높은 테이퍼 각도를 가지는 블랙 컬럼 스페이서 및 이를 포함하는 컬러필터를 제공한다.
The photosensitive resin film according to an embodiment includes a first resin film and a second resin film, and the second resin film includes an acrylic binder resin having a weight average molecular weight in a specific range, and the CD of the pattern is small and has a high taper angle A black column spacer and a color filter including the black column spacer are provided.

도 1 내지 도 3은 실시예 1, 실시예 2 및 비교예 1에 따른 감광성 수지막을 이용하여 제조한 블랙 컬럼 스페이서 내 패턴의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.
도 4 내지 도 6은 실시예 1, 실시예 2 및 비교예 1에 따른 감광성 수지막의 CD를 3-D 프로파일러로 측정한 이미지 사진이다.
1 to 3 are scanning electron microscope (SEM) photographs of a pattern in a black column spacer manufactured by using the photosensitive resin film according to Example 1, Example 2 and Comparative Example 1. Fig.
4 to 6 are image photographs of the CD of the photosensitive resin film according to Example 1, Example 2, and Comparative Example 1 measured with a 3-D profiler.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, it should be understood that the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the following claims.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, “알케닐기”란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, "사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 사이클로알케닐기를 의미하고, "헤테로사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, "아릴알킬기"란 C6 내지 C20 아릴알킬기를 의미하며, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, "알킬아릴렌기"란 C6 내지 C20 알킬아릴렌기를 의미하고, "헤테로아릴렌기"란 C3 내지 C20 헤테로아릴렌기를 의미하고, "알콕실렌기"란 C1 내지 C20 알콕실렌기를 의미한다.Unless otherwise specified herein, "alkyl group" means a C1 to C20 alkyl group, " alkenyl group " means a C2 to C20 alkenyl group, "cycloalkenyl group" means a C3 to C20 cycloalkenyl group Quot; means a C3 to C20 heterocycloalkenyl group, "an aryl group" means a C6 to C20 aryl group, an "arylalkyl group" means a C6 to C20 arylalkyl group, Refers to a C 1 to C 20 alkylene group, "arylene group" refers to a C6 to C20 arylene group, "alkylarylene group" refers to a C6 to C20 alkylarylene group, "heteroarylene group" refers to a C3 to C20 hetero Quot; means an arylene group, and the "alkoxysilylene group" means a C1 to C20 alkoxysilylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "substituted" means that at least one hydrogen atom is replaced by a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxy group, a C1 to C20 alkoxy group, a nitro group, a cyano group, An ester group, an ether group, a carboxyl group or a salt thereof, a sulfonic acid group or a salt thereof, a phosphoric acid or a salt thereof, a C1-C10 alkyl group, a C1- A C2 to C20 alkenyl group, a C2 to C20 alkynyl group, a C6 to C20 aryl group, a C3 to C20 cycloalkyl group, a C3 to C20 cycloalkenyl group, a C3 to C20 cycloalkynyl group, a C2 to C20 heterocycloalkyl group, a C2 to C20 heterocycloalkyl group, To C20 heterocycloalkenyl groups, C2 to C20 heterocycloalkynyl groups, C3 to C20 heteroaryl groups, or combinations thereof.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.Also, unless otherwise specified herein, "hetero" means that at least one heteroatom of N, O, S, and P is included in the formula.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다. &Quot; (Meth) acrylic acid "refers to both" acrylic acid "and" methacrylic acid " "It means both are possible.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다."Combination" as used herein, unless otherwise specified, means mixing or copolymerization.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, 불포화 결합은 탄소-탄소원자간의 다중결합 뿐만아니라, 카보닐결합, 아조결합 등과 같이 다른 분자를 포함하는 것도 포함한다.Unless otherwise specified herein, unsaturated bonds include not only multiple bonds between carbon-carbon atoms, but also include other molecules such as carbonyl bonds, azo bonds, and the like.

본 명세서에서 카도계 수지란, 하기 화학식 4-1 내지 4-11로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기가 수지 내 주골격(backbone)에 포함되는 수지를 의미한다.In the present specification, the cadmium resin means a resin in which at least one functional group selected from the group consisting of the following formulas (4-1) to (4-11) is contained in the main backbone of the resin.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.
Also, unless otherwise specified herein, "*" means the same or different atom or moiety connected to the formula.

일 구현예에 따른 감광성 수지막은 제1 수지막 및 제2 수지막을 포함한다. 예컨대 상기 감광성 수지막은 상기 제1 수지막 및 제2 수지막으로 이루어져 있을 수 있다. 상기 제1 수지막은 제1 조성물을 기판 위에 도포 후 경화시켜 형성되고, 상기 제2 수지막은 상기 제1 수지막 위에 제2 조성물을 도포 후 경화시켜 형성된다. 상기 제1 조성물은 카도계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제, 안료 및 용매를 포함하고, 상기 제2 조성물은 중량평균 분자량은 25000 g/mol 내지 29000 g/mol인 아크릴계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함한다. The photosensitive resin film according to an embodiment includes a first resin film and a second resin film. For example, the photosensitive resin film may consist of the first resin film and the second resin film. The first resin film is formed by applying a first composition onto a substrate and then curing, and the second resin film is formed by applying the second composition onto the first resin film and curing the same. Wherein the first composition comprises a cationic binder resin, a reactive unsaturated compound, a photopolymerization initiator, a pigment, and a solvent, wherein the second composition has a weight average molecular weight of 25000 g / mol to 29000 g / mol, , A photopolymerization initiator, and a solvent.

상기 제1 수지막의 1㎛ 당 광학밀도는 상기 제2 수지막의 1㎛ 당 광학밀도보다 0.4 이상, 예컨대 1.0 이상, 예컨대 1.5 이상 클 수 있다. 일반적으로 블랙 컬럼 스페이서 제조용 감광성 수지막은 단일층으로 이루어져, 불완전한 단차를 구현할 수 밖에 없었으며, 신뢰성도 떨어지는 문제가 있다. 그러나, 일 구현예에 따른 감광성 수지막은, 예컨대 광학밀도를 획득하기 위한 제1 조성물을 포함하는 제1 수지막 및 스페이서와 단차를 구현하기 위한 제2 조성물을 포함하는 제2 수지막으로 이루어지기 때문에, 감도 및 현상성 조절이 용이하여 원하는 단차를 얻을 수 있다. 나아가, 감광성 수지막의 중간 위치에서도, 제1 수지막에 비해 1㎛ 당 광학밀도가 0.4 이상 낮을 수 있는 제2 수지막을 통해 전달된 빛에 의해 제1 수지막의 표면이 경화될 수 있기 때문에, 신뢰성 및 현상마진 측면에서 매우 개선된 결과를 얻을 수 있다.The optical density per 1 mu m of the first resin film may be larger than the optical density per 1 mu m of the second resin film by 0.4 or more, for example, 1.0 or more, such as 1.5 or more. In general, a photosensitive resin film for manufacturing a black column spacer is formed as a single layer, and therefore imperfect steps are required to be realized. However, since the photosensitive resin film according to one embodiment is composed of the first resin film including, for example, the first composition for obtaining the optical density and the second resin film including the spacer and the second composition for realizing the step difference , Sensitivity and developability can be easily controlled, so that a desired level difference can be obtained. Furthermore, since the surface of the first resin film can be hardened by the light transmitted through the second resin film, which may have optical density lower by 0.4 or more per 1 m than the first resin film at the intermediate position of the photosensitive resin film, A very improved result in terms of the developing margin can be obtained.

그리고, 상기 제1 수지막 및 제2 수지막을 포함하는 감광성 수지막은 노광, 현상, 경화 공정 등을 통해 블랙 컬럼 스페이서를 제공한다.The photosensitive resin film including the first resin film and the second resin film provides a black column spacer through exposure, development, curing, or the like.

그러나, 이중층으로 형성된 감광성 수지막은, 상기 제2 수지막 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량에 따라 패턴 형성 시 테이퍼가 낮아지거나 아크릴계 바인더 수지가 용매에 용해되지 않는 문제점이 발생하기 쉽다.However, the double-layered photosensitive resin film tends to have a problem that the taper is low at the time of pattern formation or the acrylic binder resin is not dissolved in the solvent depending on the weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second resin film.

일 구현예에 따른 감광성 수지막은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 제2 수지막을 구성하는 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량을 25000 g/mol 내지 29000 g/mol으로 한정하여, 아크릴계 바인더 수지가 용매에 잘 용해되면서 동시에 패턴 형성 시 높은 테이퍼를 가지도록 하였다.
In order to solve the above problems, the photosensitive resin film according to one embodiment is characterized in that the weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second composition constituting the second resin film is limited to 25000 g / mol to 29000 g / mol, The resin was dissolved well in the solvent and at the same time had a high taper during pattern formation.

이하, 상기 제1 수지막에 대해 자세히 설명한다.Hereinafter, the first resin film will be described in detail.

상기 제1 수지막은 제1 조성물을 기판 위에 도포 후 경화시켜 형성되며, 상기 제1 조성물은 카도계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제, 안료 및 용매를 포함한다.The first resin film is formed by applying a first composition on a substrate and then curing the first composition, wherein the first composition includes a cadmium binder resin, a reactive unsaturated compound, a photopolymerization initiator, a pigment, and a solvent.

상기 제1 수지막은 높은 광학밀도를 가져야 하므로, 상기 안료는 흑색 안료를 포함할 수 있다. 상기 흑색 안료는 무기 흑색 안료, 유기 흑색 안료 또는 이들의 조합, 예컨대, 아닐린 블랙, 페릴렌 블랙, 티타늄 블랙, 시아닌 블랙, 리그닌 블랙, 락탐계 유기 블랙, RGB 블랙, 카본 블랙 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 구체적으로 상기 흑색 안료는 무기 흑색 안료 및 유기 흑색 안료를 포함할 수 있고, 상기 무기 흑색 안료는 카본 블랙일 수 있고, 상기 유기 흑색 안료는 하기 화학식 A로 표시되는 락탐계 유기블랙일 수 있다.Since the first resin film should have a high optical density, the pigment may include a black pigment. The black pigments include inorganic black pigments, organic black pigments, or combinations thereof, such as aniline black, perylene black, titanium black, cyanine black, lignin black, lactam-based organic black, RGB black, carbon black, can do. Specifically, the black pigment may include an inorganic black pigment and an organic black pigment, the inorganic black pigment may be carbon black, and the organic black pigment may be a lactam-based organic black represented by the following formula (A).

[화학식 A](A)

Figure 112015006506715-pat00004
Figure 112015006506715-pat00004

상기 RGB 블랙은 적색 안료, 녹색 안료, 청색 안료, 바이올렛 안료, 황색 안료, 자색 안료 등의 유색 안료 중 적어도 2종 이상의 유색 안료가 혼합되어 흑색을 나타내는 안료를 의미한다.The RGB black refers to a pigment in which at least two or more kinds of colored pigments such as a red pigment, a green pigment, a blue pigment, a violet pigment, a yellow pigment, and a purple pigment are mixed to form a black color.

상기 흑색 안료가 카본 블랙을 포함할 경우, 차광성, 표면평활성, 분산안정성, 바인더 수지와의 상용성 등이 우수하다. 한편, 상기 흑색 안료를 사용할 경우, 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 안료, 프탈로시아닌계 안료, 아조계 안료 등의 색보정제와 함께 사용할 수도 있다.When the black pigment contains carbon black, it is excellent in light shielding property, surface smoothness, dispersion stability, compatibility with the binder resin, and the like. On the other hand, when the black pigment is used, it may be used in combination with a color correcting agent such as an anthraquinone pigment, a perylene pigment, a phthalocyanine pigment or an azo pigment.

상기 안료를 분산시키기 위해 분산제를 함께 사용할 수 있다. 구체적으로는, 상기 안료를 분산제로 미리 표면처리하여 사용하거나, 상기 제1 조성물 제조 시 안료와 함께 분산제를 첨가하여 사용할 수 있다.A dispersing agent may be used together to disperse the pigment. Specifically, the pigment may be surface-treated in advance with a dispersant, or a dispersant may be added together with the pigment when the first composition is prepared.

상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다.  상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리 알킬렌 글리콜 및 이의 에스테르, 폴리 옥시 알킬렌, 다가 알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산에스테르, 술폰산염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the dispersing agent, a nonionic dispersing agent, an anionic dispersing agent, a cationic dispersing agent and the like can be used. Specific examples of the dispersing agent include polyalkylene glycols and esters thereof, polyoxyalkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adducts, alcohol alkylene oxide adducts, sulfonic acid esters, sulfonic acid salts, carboxylic acid esters, Alkylamido alkylene oxide adducts, and alkylamines. These may be used singly or in combination of two or more thereof.

상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001등; EFKA 케미칼社의 EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.DISPERBYK-161, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-160 and DISPERBYK-160 of BYK Co., -166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 and the like; EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400 and EFKA-450 of EFKA Chemical Co., Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 from Zeneka; Or Ajinomoto's PB711 and PB821.

상기 분산제는 제1 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.  분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 제1 조성물의 분산성이 우수함에 따라 블랙 컬럼 스페이서 제조 시 안정성, 현상성 및 패턴성이 우수하다. The dispersant may be included in an amount of 0.1 to 15% by weight based on the total weight of the first composition. When the dispersing agent is contained within the above range, the dispersibility of the first composition is excellent, and thus the stability, developability and patternability of the black column spacer are excellent.

상기 안료는 수용성 무기염 및 습윤제를 이용하여 전처리하여 사용할 수도 있다. 안료를 상기 전처리하여 사용할 경우 안료의 평균입경을 미세화할 수 있다.The pigment may be used by pretreatment using a water-soluble inorganic salt and a wetting agent. When the pigment is used by the pretreatment, the average particle diameter of the pigment can be made smaller.

상기 전처리는 상기 안료를 수용성 무기염 및 습윤제와 함께 니딩(kneading)하는 단계, 그리고 상기 니딩단계에서 얻어진 안료를 여과 및 수세하는 단계를 거쳐 수행될 수 있다.The pretreatment may be performed by kneading the pigment with a water-soluble inorganic salt and a wetting agent, and filtering and washing the pigment obtained in the kneading step.

상기 니딩은 40℃ 내지 100℃의 온도에서 수행될 수 있고, 상기 여과 및 수세는 물 등을 사용하여 무기염을 수세한 후 여과하여 수행될 수 있다.The kneading may be carried out at a temperature of 40 to 100 DEG C, and the filtration and washing may be performed by washing the inorganic salt with water, etc., followed by filtration.

상기 수용성 무기염의 예로는 염화나트륨, 염화칼륨 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.  상기 습윤제는 상기 안료 및 상기 수용성 무기염이 균일하게 섞여 안료가 용이하게 분쇄될 수 있는 매개체 역할을 하며, 그 예로는 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등과 같은 알킬렌 글리콜 모노알킬에테르; 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 글리세린폴리에틸렌글리콜 등과 같은 알코올 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the water-soluble inorganic salt include, but are not limited to, sodium chloride and potassium chloride. The wetting agent acts as a medium through which the pigment and the water-soluble inorganic salt are uniformly mixed to easily pulverize the pigment. Examples of the wetting agent include ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether and the like Alkylene glycol monoalkyl ethers; And alcohols such as ethanol, isopropanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin polyethylene glycol and the like. These may be used singly or in combination of two or more thereof.

구체적으로, 상기 안료는 상기 분산제 및 후술하는 용매를 포함하는 안료분산액의 형태로 사용될 수 있고, 상기 안료분산액은 고형분의 안료, 분산제 및 용매를 포함할 수 있다. 상기 안료분산액은 상기 제1 조성물 총량에 대하여 5 중량% 내지 60 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 50 중량%로 포함될 수 있다.  안료분산액이 상기 범위 내로 포함될 경우, 해상도 및 패턴의 직진성이 우수하다.Specifically, the pigment may be used in the form of a pigment dispersion including the dispersant and a solvent described later, and the pigment dispersion may include a solid pigment, a dispersant, and a solvent. The pigment dispersion may be included in an amount of 5% by weight to 60% by weight, for example, 5% by weight to 50% by weight based on the total weight of the first composition. When the pigment dispersion is contained within the above range, the resolution and the linearity of the pattern are excellent.

상기 제1 조성물 내 바인더 수지는 카도계 바인더 수지이나, 아크릴계 바인더 수지를 더 포함할 수도 있다.The binder resin in the first composition may further comprise a cadmium-based binder resin or an acrylic-based binder resin.

상기 제1 조성물 내 바인더 수지가 카도계 바인더 수지일 경우, 이를 포함하는 제1 조성물의 현상성이 우수하고, 광경화시 감도가 좋아 미세패턴 형성성이 우수하다. 또한, 카도계 바인더 수지를 사용할 경우, 블랙 컬럼 스페이서의 신뢰성을 확보할 수 있다.When the binder resin in the first composition is a cadmium-based binder resin, the first composition containing the same is excellent in developability, sensitivity in photo-curing, and excellent in fine pattern formation. In addition, when a cadmium binder resin is used, the reliability of the black column spacer can be secured.

상기 카도계 바인더 수지는 하기 화학식 4로 표시되는 반복단위를 포함할 수 있다.The cadmium binder resin may include a repeating unit represented by the following formula (4).

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure 112015006506715-pat00005
Figure 112015006506715-pat00005

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R11  및 R12는 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 (메타)아크릴로일옥시알킬기이고,R 11   And R 12 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted (meth) acryloyloxyalkyl group,

R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

Z1은 단일결합, O, CO, SO2, CR7R8, SiR9R10(여기서, R7 내지 R10은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임), 또는 하기 화학식 4-1 내지 4-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고, Z 1 is a single bond, O, CO, SO 2 , CR 7 R 8 , SiR 9 R 10 (wherein R 7 to R 10 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group) Is any one of the linking groups represented by the following formulas (4-1) to (4-11)

[화학식 4-1][Formula 4-1]

Figure 112015006506715-pat00006
Figure 112015006506715-pat00006

[화학식 4-2][Formula 4-2]

Figure 112015006506715-pat00007
Figure 112015006506715-pat00007

[화학식 4-3][Formula 4-3]

Figure 112015006506715-pat00008
Figure 112015006506715-pat00008

[화학식 4-4][Formula 4-4]

Figure 112015006506715-pat00009
Figure 112015006506715-pat00009

[화학식 4-5][Formula 4-5]

Figure 112015006506715-pat00010
Figure 112015006506715-pat00010

(상기 화학식 4-5에서,(In the above Formula 4-5,

Ra는 수소원자, 에틸기, C2H4Cl, C2H4OH, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다.)R a is a hydrogen atom, an ethyl group, C 2 H 4 Cl, C 2 H 4 OH, CH 2 CH = CH 2 Or a phenyl group.)

[화학식 4-6][Formula 4-6]

Figure 112015006506715-pat00011
Figure 112015006506715-pat00011

[화학식 4-7][Formula 4-7]

Figure 112015006506715-pat00012
Figure 112015006506715-pat00012

[화학식 4-8][Formula 4-8]

Figure 112015006506715-pat00013
Figure 112015006506715-pat00013

[화학식 4-9][Chemical Formula 4-9]

Figure 112015006506715-pat00014
Figure 112015006506715-pat00014

[화학식 4-10][Formula 4-10]

Figure 112015006506715-pat00015
Figure 112015006506715-pat00015

[화학식 4-11][Formula 4-11]

Figure 112015006506715-pat00016
Figure 112015006506715-pat00016

Z2는 산이무수물 잔기이고,Z 2 is an acid anhydride residue,

m1 및 m2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.m1 and m2 are each independently an integer of 0 to 4;

상기 카도계 바인더 수지는 양 말단 중 적어도 하나에 하기 화학식 5로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.The cadmium-based binder resin may include a functional group represented by the following formula (5) in at least one of the two terminals.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112015006506715-pat00017
Figure 112015006506715-pat00017

상기 화학식 5에서,In Formula 5,

Z3은 하기 화학식 5-1 내지 5-7로 표시될 수 있다.Z 3 can be represented by the following formulas (5-1) to (5-7).

[화학식 5-1][Formula 5-1]

Figure 112015006506715-pat00018
Figure 112015006506715-pat00018

(상기 화학식 5-1에서, Rb 및 Rc는 각각 독립적으로, 수소원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 에스테르기 또는 에테르기이다.)(Wherein R b and R c are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, an ester group or an ether group)

[화학식 5-2][Formula 5-2]

Figure 112015006506715-pat00019
Figure 112015006506715-pat00019

[화학식 5-3][Formula 5-3]

Figure 112015006506715-pat00020
Figure 112015006506715-pat00020

[화학식 5-4][Formula 5-4]

Figure 112015006506715-pat00021
Figure 112015006506715-pat00021

[화학식 5-5][Formula 5-5]

Figure 112015006506715-pat00022
Figure 112015006506715-pat00022

(상기 화학식 5-5에서, Rd는 O, S, NH, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, C1 내지 C20 알킬아민기 또는 C2 내지 C20 알케닐아민기이다.)Wherein R d is O, S, NH, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, a C1 to C20 alkylamine group, or a C2 to C20 alkenylamine group.

[화학식 5-6][Formula 5-6]

Figure 112015006506715-pat00023
Figure 112015006506715-pat00023

[화학식 5-7][Formula 5-7]

Figure 112015006506715-pat00024
Figure 112015006506715-pat00024

상기 카도계 바인더 수지는 예컨대, 9,9-비스(4-옥시라닐메톡시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 함유 화합물; 벤젠테트라카르복실산디무수물, 나프탈렌테트라카르복실산디무수물, 비페닐테트라카르복실산디무수물, 벤조페논테트라카르복실산디무수물, 피로멜리틱디무수물, 사이클로부탄테트라카르복실산디무수물, 페릴렌테트라카르복실산디무수물, 테트라히드로푸란테트라카르복실산디무수물, 테트라하이드로프탈산무수물 등의 무수물 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 글리콜 화합물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 사이클로헥산올, 벤질알코올등의알코올화합물; 프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈등의용매류화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물; 및테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 벤질디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질트리에틸암모늄클로라이드 등의 아민 또는 암모늄염 화합물 중에서 둘 이상을 혼합하여 제조할 수 있다.Examples of the cationic binder resin include fluorene-containing compounds such as 9,9-bis (4-oxiranylmethoxyphenyl) fluorene; Benzene tetracarboxylic dianhydride, naphthalene tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, perylenetetracarboxylic dianhydride , Tetrahydrofuran tetracarboxylic acid dianhydride, tetrahydrophthalic anhydride and the like; Glycol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, and polyethylene glycol; Alcohol compounds such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, cyclohexanol and benzyl alcohol; Propylene glycol methyl ethyl acetate, and N-methyl pyrrolidone; Phosphorus compounds such as triphenylphosphine; And an amine or an ammonium salt compound such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, benzyldiethylamine, triethylamine, tributylamine, benzyltriethylammonium chloride, or the like.

상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 1,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 블랙 컬럼 스페이서 제조 시 잔사없이 패턴 형성이 잘 되며, 현상 시 막 두께의 손실이 없고, 양호한 패턴을 얻을 수 있다.The weight average molecular weight of the cationic binder resin may be from 500 g / mol to 50,000 g / mol, such as from 1,000 g / mol to 30,000 g / mol. When the weight average molecular weight of the cadmium binder resin is within the above range, the pattern can be formed well without residue during the production of the black column spacer, a good pattern can be obtained without loss of film thickness during development.

상기 카도계 바인더 수지와 상기 아크릴계 바인더 수지를 혼합하여 사용하는 경우, 상기 제1 조성물 내 카도계 바인더 수지와 아크릴계 바인더 수지의 함량 (중량) 비율은 99:1 내지 50:50일 수 있다. When the cationic binder resin and the acrylic binder resin are mixed and used, the content (weight) ratio between the cationic binder resin and the acrylic binder resin in the first composition may be 99: 1 to 50:50.

제1 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 함량이 카도계 바인더 수지의 함량을 초과하여 포함될 경우 내화학성 및 신뢰성 저하를 일으킬 수 있다.If the content of the acrylic binder resin in the first composition exceeds the content of the cadmium binder resin, the chemical resistance and the reliability may be deteriorated.

상기 카도계 바인더 수지는 제1 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 상기 카도계 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 감도, 현상성, 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.The cadmium binder resin may be included in an amount of 1% by weight to 30% by weight, for example, 5% by weight to 30% by weight, for example, 1% by weight to 20% by weight based on the total amount of the first composition. When the cadmium binder resin is contained within the above range, excellent sensitivity, developability, resolution, and straightness of the pattern can be obtained.

상기 반응성 불포화 화합물은 모노머 또는 올리고머로서, 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.The reactive unsaturated compound may be monomers or oligomers, and monofunctional or polyfunctional esters of (meth) acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond may be used.

상기 반응성 불포화 화합물은 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광 시 충분한 중합을 일으켜 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.By having the ethylenically unsaturated double bond, the reactive unsaturated compound can form a pattern having excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance by causing sufficient polymerization during exposure in the pattern formation step.

상기 반응성 불포화 화합물은 예컨대, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트, 또는이들의 조합일 수 있다.The reactive unsaturated compound may be, for example, at least one selected from the group consisting of ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol di (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenol A epoxy (meth) acrylate, ethylene glycol monomethyl ether (meth) Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, novolak epoxy (meth) acrylate, or a combination thereof.

상기 반응성 불포화 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다.  상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S®등; 오사카유끼가가꾸고교(주)社의 V-158®, V-2311®등을들수있다.  상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604®등; 오사카유끼가가꾸고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP®등을들수있다.  상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-7100®, 동 M-8030®, 동 M-8060®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120®등; 오사카유끼가야꾸고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다.  상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.Examples of commercially available products of the above reactive unsaturated compounds are as follows. The (meth) acrylic acid is one example of a polyfunctional ester, doah Gosei cultivating the T (weeks)社Aronix M-101 ®, the same M-111 ®, the same M-114 ®, and the like; KAYARAD TC-110S ® and TC-120S ® from Nihon Kayaku Co., Ltd.; Osaka yukki cultivate may be a T (weeks)社of V-158 ®, V-2311 ® and the like. The (meth) transfer function of an example esters of acrylic acid are, doah Gosei cultivating the T (weeks)社of Aronix M-210 ®, copper or the like M-240 ®, the same M-6200 ®; KAYARAD HDDA ® , HX-220 ® and R-604 ® from Nihon Kayaku Corporation; Osaka yukki cultivating and the like T (weeks)社of V-260 ®, V-312 ®, V-335 HP ®. Examples of the tri-functional ester of (meth) acrylic acid, doah Gosei the cultivating T (weeks)社of Aronix M-309 ®, the same M-400 ®, the same M-405 ®, the same M-450 ®, Dong M -7100 ® , copper M-8030 ® , copper M-8060 ® and the like; Nippon Kayaku (Note)社of KAYARAD TMPTA ®, copper DPCA-20 ®, ® copper -30, -60 ® copper, copper ® -120 and the like; Osaka yukki Kayaku high (primary)社of V-295 ®, copper ® -300, -360 ® copper, copper -GPT ®, copper -3PA ®, and the like copper -400 ®. These products may be used alone or in combination of two or more.

상기 반응성 불포화 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다. The reactive unsaturated compound may be treated with an acid anhydride so as to give better developing properties.

상기 반응성 불포화 화합물은 제1 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.  상기 반응성 불포화 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하며, 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.The reactive unsaturated compound may be included in an amount of 1 wt% to 20 wt%, for example, 1 wt% to 10 wt% based on the total amount of the first composition. When the reactive unsaturated compound is contained within the above range, the pattern formation process sufficiently cures upon exposure to light, thereby providing excellent reliability, excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance of the pattern, and excellent resolution and adhesion.

상기 광중합 개시제로는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a thioxanthone-based compound, a benzoin-based compound, a triazine-based compound, an oxime-based compound, or a combination thereof may be used.

상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시아세토페논, 2,2'-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로아세토페논, p-t-부틸디클로로아세토페논, 4-클로로아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone compound include 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, pt Dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일안식향산, 벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 히드록시벤조페논, 아크릴화벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, '-Bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2- Chlorothioxanthone and the like.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl dimethyl ketal.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -Dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) (Trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphtho-1-yl) - 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthol-1-yl) -Bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -s-triazine, and the like. .

상기 옥심계 화합물의 예로는 O-아실옥심계 화합물, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다.  상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 사용할 수 있다. Examples of the oxime compounds include O-acyloxime compounds, 2- (O-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- -1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, O-ethoxycarbonyl-a-oxyamino-1-phenylpropan- Can be used. Specific examples of the O-acyloxime-based compound include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) -1- (4-morpholin- 2-oxime-O-benzoate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1,2-dione -1-one oxime-O-acetate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -butan-1-one oxime- O-acetate and the like can be used.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator may be a carbazole compound, a diketone compound, a sulfonium borate compound, a diazo compound, an imidazole compound, or a nonimidazole compound in addition to the above compounds.

상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광증감제와 함께 사용될 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used in combination with a photosensitizer that generates a chemical reaction by absorbing light to be in an excited state and transferring its energy.

상기 광증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜비스-3-머캡토프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스-3-머캡토프로피오네이트, 디펜타에리트리톨테트라키스-3-머캡토프로피오네이트 등을 들 수 있다. Examples of the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate and the like .

상기 광중합 개시제는 제1 조성물 총량에 대하여 0.05 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다.  상기 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.05 wt% to 5 wt%, for example, 0.1 wt% to 5 wt% with respect to the total amount of the first composition. When the photopolymerization initiator is contained within the above range, it is possible to obtain sufficient reliability due to sufficient curing during exposure in the pattern formation step, to have excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance, excellent resolution and adhesion, It is possible to prevent the transmittance from being lowered.

상기 용매는 상기 안료를 포함하는 안료분산액, 상기 바인더 수지, 상기 반응성 불포화 화합물 및 상기 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.The solvent may be a pigment dispersion containing the pigment, a binder resin, a reactive unsaturated compound, and a material having compatibility with the photopolymerization initiator but not reacting with the binder resin.

상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸에테르, n-부틸에테르, 디이소아밀에테르, 메틸페닐에테르, 테트라히드로퓨란등의에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸셀로솔브아세테이트 등의 셀로솔브아세테이트류; 메틸에틸카르비톨, 디에틸카르비톨, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산에틸, 초산-n-부틸, 초산이소부틸 등의 포화지방족 모노카르복실산알킬에스테르류; 젖산메틸, 젖산에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시초산메틸, 옥시초산에틸, 옥시초산부틸등의옥시초산알킬에스테르류; 메톡시초산메틸, 메톡시초산에틸, 메톡시초산부틸, 에톡시초산메틸, 에톡시초산에틸 등의 알콕시초산 알킬에스테르류; 3-옥시프로피온산메틸, 3-옥시프로피온산에틸 등의 3-옥시프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸 등의 3-알콕시프로피온산 알킬에스테르류; 2-옥시프로피온산메틸, 2-옥시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산프로필 등의 2-옥시프로피온산 알킬에스테르류; 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산메틸 등의 2-알콕시프로피온산 알킬에스테르류; 2-옥시-2-메틸프로피온산메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산에틸등의 2-옥시-2-메틸프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산 알킬류의 모노옥시모노카르복실산 알킬에스테르류; 2-히드록시프로피온산에틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 히드록시초산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산벤질, 안식향산에틸, 옥살산디에틸, 말레인산디에틸, γ-부티로락톤, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 페닐셀로솔브아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisobutyl ether, methylphenyl ether and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methylethylcarbitol, diethylcarbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl- ; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and isobutyl acetate; Lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Oxyacetic acid alkyl esters such as methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate and butyl oxyacetate; Alkoxyacetic acid alkyl esters such as methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, and ethyl ethoxyacetate; 3-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate; 3-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate; 2-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate and propyl 2-oxypropionate; 2-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate and methyl 2-ethoxypropionate; 2-methylpropionic acid esters such as methyl 2-oxy-2-methylpropionate and ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy- Monooximonocarboxylic acid alkyl esters of 2-alkoxy-2-methylpropionic acid alkyls such as ethyl methyl propionate; Esters such as ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl hydroxyacetate and methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate; Ketone acid esters such as ethyl pyruvate, and the like, and also include N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide , N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, And high boiling solvents such as ethyl acetate, diethyl oxalate, diethyl maleate,? -Butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate.

이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 2-히드록시프로피온산에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류가 사용될 수 있다.Of these, glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and ethylene glycol diethyl ether are preferable in view of compatibility and reactivity; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as ethyl 2-hydroxypropionate; Carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate can be used.

상기 용매는 제1 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량% 내지 90 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 제1 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 블랙 컬럼 스페이서 제조 시 공정성이 우수하다.The solvent may be included in an amount of 30% by weight to 90% by weight based on the total amount of the first composition. When the solvent is included within the above range, the first composition has an appropriate viscosity, and thus the processability of the black column spacer is excellent.

한편, 상기 제1 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 불소계 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.Meanwhile, the first composition may further include additives such as malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane coupling agent, a leveling agent, a fluorine-based surfactant, a radical polymerization initiator, or a combination thereof.

상기 실란계 커플링제는 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 비닐기, 카르복실기, 메타크릴옥시기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 가질 수 있다. The silane-based coupling agent may have a reactive substituent such as a vinyl group, a carboxyl group, a methacryloxy group, an isocyanate group, or an epoxy group in order to improve adhesion with a substrate.

상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴벤조산, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane-based coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane,? -Isocyanatepropyltriethoxysilane,? -Glycine (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc. These may be used singly or in combination of two or more.

상기 실란계 커플링제는 제1 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다.  상기 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the first composition. When the silane coupling agent is included in the above range, the adhesion and storage stability are excellent.

또한 상기 제1 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점생성 방지효과를 위해 계면활성제, 예컨대 불소계 계면활성제를 더 포함할 수 있다. The first composition may further contain a surfactant, for example, a fluorine-based surfactant, in order to improve coatability and prevent defect formation, if necessary.

상기 불소계 계면활성제로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100®등; 다이닛폰잉키가가꾸고교(주)社의 메카팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183®, 동 F 554® 등; 스미토모스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431®등; 아사히그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145®등; 도레이실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 명칭으로 시판되고 있는 불소계 계면활성제를 사용할 수 있다.The fluorine is a surfactant, the BM Chemie社BM-1000 ®, BM-1100 ® , and the like; Mecha Pack F 142D ® , Copper F 172 ® , Copper F 173 ® , Copper F 183 ® , Copper F 554 ® and the like manufactured by Dainippon Ink & Chemicals Incorporated; Sumitomo M. (Note)社Pro rod FC-135 ®, the same FC-170C ®, copper FC-430 ®, the same FC-431 ®, and the like; Asahi Grass Co., Saffron S-112 ® of社, such S-113 ®, the same S-131 ®, the same S-141 ®, the same S-145 ®, and the like; Toray Silicone ® (Note)社SH-28PA, the same -190 ®, may be used a fluorine-containing surfactants commercially available under the name such as copper -193 ®, SZ-6032 ®, SF-8428 ®.

상기 불소계 계면활성제는 제1 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 상기 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, IZO 기판 또는 유리기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The fluorinated surfactant may be used in an amount of 0.001 part by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the first composition. When the surfactant is contained within the above range, coating uniformity is ensured, no staining occurs, and wetting to an IZO substrate or a glass substrate is excellent.

또한 상기 제1 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다. 
In addition, the first composition may contain a certain amount of other additives such as an antioxidant, a stabilizer and the like within a range that does not impair the physical properties.

이하, 상기 제2 수지막에 대해 자세히 설명한다.Hereinafter, the second resin film will be described in detail.

상기 제2 수지막은 제2 조성물을 상기 제1 수지막 위에 도포 후 경화시켜 형성되며, 상기 제2 조성물은 아크릴계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함한다.The second resin film is formed by applying a second composition on the first resin film and curing the second resin film, and the second composition includes an acrylic binder resin, a reactive unsaturated compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.

상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 25000 g/mol 내지 29000 g/mol 이다. 상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 25000 g/mol 미만이면 패턴의 테이퍼가 20° 미만으로 낮아지게 되고, 상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 29000 g/mol 초과이면 n-부틸 아세테이트 등의 제2 조성물 내 용매에 대한 용해도가 크게 저하되어 제2 조성물의 제조가 어려워진다.The weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second composition is 25000 g / mol to 29000 g / mol. When the weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second composition is less than 25000 g / mol, the taper of the pattern is lowered to less than 20 °. If the weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second composition is more than 29000 g / mol the solubility in the solvent of the second composition such as n-butyl acetate is significantly lowered, making the preparation of the second composition difficult.

상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지일 수 있다.The acrylic binder resin in the second composition is preferably a mixture of a first ethylenically unsaturated monomer   And a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and may be a resin containing at least one acrylic repeating unit.

예컨대, 상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함할 수 있다.For example, the acrylic binder resin in the second composition may include a repeating unit represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112015006506715-pat00025
Figure 112015006506715-pat00025

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R1은 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R 1 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R2는 수소원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.R 2 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C10 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.

상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 2 및 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 더 포함할 수 있다.The acrylic binder resin in the second composition may further include a repeating unit represented by the following formula (2) and (3).

[화학식 2](2)

Figure 112015006506715-pat00026
Figure 112015006506715-pat00026

[화학식 3](3)

Figure 112015006506715-pat00027
Figure 112015006506715-pat00027

상기 화학식 2 및 화학식 3에서,In the general formulas (2) and (3)

R3, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R 3 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

R4는 수소원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.R 4 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C10 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 상기 화학식 2로 표시되는 반복단위 및 상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위는, “화학식 1로 표시되는 반복단위 : 화학식 2로 표시되는 반복단위 : 화학식 3으로 표시되는 반복단위 = 35 내지 45 : 40 내지 50 : 15 내지 25”의 중량비로 포함될 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 상기 화학식 2로 표시되는 반복단위 및 상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위의 중량비가 상기 범위 내일 경우, 20° 이상의 높은 테이퍼를 유지할 수 있다.For example, the repeating unit represented by the formula (1), the repeating unit represented by the formula (2), and the repeating unit represented by the formula (3) are preferably a repeating unit represented by the following formula (1) May be included in the weight ratio of the repeating units shown = 35 to 45:40 to 50:15 to 25 ". When the weight ratio of the repeating unit represented by the formula (1), the repeating unit represented by the formula (2) and the repeating unit represented by the formula (3) is within the above range, a high taper of 20 ° or more can be maintained.

상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 산가는 15 mgKOH/g 내지 150 mgKOH/g, 예컨대 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g 일 수 있다.  상기 아크릴계 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acid value of the acrylic binder resin in the second composition may be from 15 mgKOH / g to 150 mgKOH / g, such as from 80 mgKOH / g to 130 mgKOH / g. When the acid value of the acrylic binder resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.

상기 제2 조성물은 스페이서 및 단차를 구현하기 위한 것으로 반드시 높은 광학밀도가 요구되지는 않기 때문에, 상기 제1 조성물의 구성성분 중 안료(구체적으로 안료를 포함하는 안료분산액)는제2 조성물 내에 반드시 포함되지 않을 수 있다. 즉, 상기 제2 조성물은 아크릴계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함하거나, 또는 필요에 따라 상기 제2 조성물도 안료(구체적으로 안료를 포함하는 안료분산액), 예컨대 흑색 안료를 더 포함할 수도 있다. 또한, 상기 제2 조성물은 상기 제1 조성물에 대해 기재한 첨가제를 더 포함할 수도 있다. Since the second composition is intended to realize spacers and steps and does not necessarily require a high optical density, the pigment (particularly the pigment dispersion containing the pigment) of the constituents of the first composition is not necessarily contained in the composition . That is, the second composition contains an acrylic binder resin, a reactive unsaturated compound, a photopolymerization initiator and a solvent, or if necessary, the second composition also contains a pigment (specifically, a pigment dispersion containing a pigment) such as a black pigment You may. In addition, the second composition may further comprise additives described for the first composition.

상기 제2 조성물은 아크릴계 바인더 수지를 제외하고는, 상기 제1 조성물의 구성성분과 동일한 구성 성분을 포함할 수도 있다. 다만, 이 경우, 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물의 각 구성성분의 함량이 상이할 수 있으며, 그에 따라 상기 제1 조성물과 상기 제2 조성물의 1㎛ 당 광학밀도가 달라질 수 있다.The second composition may contain the same constituents as those of the first composition except for the acrylic binder resin. However, in this case, the content of each component of the first composition and the second composition may be different, so that the optical density per 1 μm of the first composition and the second composition may be different.

따라서, 제2 수지막을 형성하기 위한 제2 조성물을 구성하는 아크릴계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제, 안료(구체적으로 안료를 포함하는 안료분산액) 및 용매는 상기 제1 수지막을 형성하기 위한 제1 조성물에 대해 설명한 것과 동일할 수 있다.Therefore, the acrylic binder resin, the reactive unsaturated compound, the photopolymerization initiator, the pigment (specifically, the pigment dispersion containing the pigment) and the solvent constituting the second composition for forming the second resin film can be used as the first resin film for forming the first resin film May be the same as described for the composition.

상기 제2 조성물 내에 포함되는 아크릴계 바인더 수지는 제2 조성물 총량에 대하여 3 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있다.  상기 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 감도, 현상성, 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.The acrylic binder resin contained in the second composition may be included in an amount of 3% by weight to 40% by weight, for example, 5% by weight to 30% by weight based on the total amount of the second composition. When the binder resin is contained within the above range, excellent sensitivity, developability, resolution, and straightness of the pattern can be obtained.

상기 제2 조성물 내에 포함되는 반응성 불포화 화합물은 제2 조성물 총량에 대하여 2 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.  상기 반응성 불포화 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하며, 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.The reactive unsaturated compound contained in the second composition may be included in an amount of 2% by weight to 20% by weight, for example, 3% by weight to 10% by weight based on the total amount of the second composition. When the reactive unsaturated compound is contained within the above range, the pattern formation process sufficiently cures upon exposure to light, thereby providing excellent reliability, excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance of the pattern, and excellent resolution and adhesion.

상기 제2 조성물 내에 포함되는 광중합 개시제는 제2 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다.  상기 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반응개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.The photopolymerization initiator contained in the second composition may be included in an amount of 0.1 wt% to 5 wt%, for example, 0.1 wt% to 3 wt% with respect to the total amount of the second composition. When the photopolymerization initiator is contained within the above range, it is possible to obtain sufficient reliability due to sufficient curing during exposure in the pattern formation step, to have excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance, excellent resolution and adhesion, It is possible to prevent the transmittance from being lowered.

상기 제2 조성물 내에 포함되는 용매는 제2 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 40 중량% 내지 90 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 제2 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 블랙 컬럼 스페이서 제조 시 공정성이 우수하다. 다만 제2 조성물의 용매는 제1 조성물의 용매보다 용해도가 떨어지는(낮은) 것일 수 있다. 예컨대, 제1 조성물의 용매는 PGMEA, PGME, EDM, 3-MBA, EEP 등일 수 있고, 제2 조성물의 용매는 PGMEA, 3-MBA, n-butyl acetate, n-pentyl acetate, n-hexyl acetate 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
The solvent contained in the second composition may be included in a residual amount, for example, 40% to 90% by weight based on the total amount of the second composition. When the solvent is contained within the above range, the second composition has an appropriate viscosity, and therefore, the black column spacer is excellent in the fairness in manufacturing the black column spacer. However, the solvent of the second composition may be lower in solubility (lower) than the solvent of the first composition. For example, the solvent of the first composition may be PGMEA, PGME, EDM, 3-MBA, EEP, and the solvent of the second composition may be PGMEA, 3-MBA, n-butyl acetate, n-pentyl acetate, But is not limited thereto.

다른 구현예는 전술한 감광성 수지막을 노광 및 현상, 예컨대 노광, 현상 및 경화하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서를 제공한다. Another embodiment provides a black column spacer prepared by exposing and developing the above-mentioned photosensitive resin film, for example, exposure, development and curing.

상기 블랙 컬럼 스페이서 내 패턴은 20° 이상, 예컨대 20° 이상 60° 이하의 테이퍼 각도를 가질 수 있다.The pattern in the black column spacer may have a taper angle of 20 DEG or more, for example, 20 DEG or more and 60 DEG or less.

상기 블랙 컬럼 스페이서 제조방법은 다음과 같다.The black column spacer manufacturing method is as follows.

(1) 도포 및 도막 형성 단계(1) Coating and Film Formation Step

상기 제1 조성물을 소정의 전처리를 한 유리 기판 또는 IZO 기판 등의 기판상에 스핀 또는 슬릿 코트법, 롤 코트법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께로 도포한 후, VCD 공정 등을 거쳐 70℃ 내지 100℃에서 1분 내지 10분 동안 가열하여 용제를 제거함으로써 제1 수지막을 형성한다. 이 후, 상기 제1 수지막 상에 상기 제2 조성물을 동일한 방법으로 도포 및 경화시킨다. 이로써, 일 구현예에 따른 감광성 수지막이 형성된다.The first composition is coated on a substrate such as a glass substrate or an IZO substrate subjected to a predetermined pretreatment to a desired thickness using a spin, slit coat method, roll coating method, screen printing method, applicator method, And then heated at 70 ° C to 100 ° C for 1 minute to 10 minutes to remove the solvent to form a first resin film. Thereafter, the second composition is applied and cured on the first resin film in the same manner. Thereby, the photosensitive resin film according to one embodiment is formed.

(2) 노광 단계(2) Exposure step

상기 얻어진 감광성 수지막에 필요한 패턴 형성을 위해블랙 매트릭스 패턴을 구현할 Half tone 부분과 컬럼 스페이서 패턴을 구현할 Full tone 부분으로 혼합 구성된 마스크를 개재한 뒤, 200 nm 내지 500 nm의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다.In order to form a pattern necessary for the obtained photosensitive resin film, a mixed mask consisting of a half tone portion for implementing a black matrix pattern and a full tone portion for implementing a column spacer pattern is interposed, and then an active line of 200 nm to 500 nm is irradiated. As the light source used for the irradiation, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an argon gas laser, and the like can be used.

노광량은 조성물 각 성분의 종류, 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 고압 수은등을 사용하는 경우에는 500 mJ/cm2(365 nm 센서에 의함) 이하이다.The exposure dose differs depending on the kind of each component of the composition, the blending amount, and the dried film thickness, but is 500 mJ / cm 2 (according to the 365 nm sensor) or less when high pressure mercury lamp is used.

(3) 현상 단계(3) Development step

현상 방법으로는 상기 노광 단계에 이어 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해, 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 패턴을 형성시킨다. As a developing method, an unnecessary portion is dissolved and removed by using an alkaline aqueous solution as a developing solution following the above-described exposure step, so that only the exposed portion is left to form a pattern.

(4) 후처리 단계(4) Post-treatment step

상기 공정에서 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 내열성, 내광성, 밀착성, 내크랙성, 내화학성, 고강도 및 저장 안정성 등의 면에서 우수한 패턴을 얻기 위한 후가열 공정이 있다.
There is a post-heating process for obtaining an image pattern obtained by development in the above process, in terms of heat resistance, light resistance, adhesion, crack resistance, chemical resistance, high strength and storage stability.

또 다른 구현예는 상기 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터를 제공한다.
Another embodiment provides a color filter comprising the black column spacer.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다.  다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일실시예일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are only a preferred embodiment of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

(( 실시예Example ))

(감광성 (Photosensitive 수지막Resin film 제조) Produce)

실시예Example 1 One

하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 1에 나타낸 조성으로 제1 조성물을 제조하였고, 하기 표 2에 나타낸 조성으로 제2 조성물을 제조하였다. 상기 제1 조성물을 유리 기판 또는 IZO 기판 등의 기판 상에 2.0 ㎛ 두께로 도포한 후 VCD 공정을 거쳐 1분 내지 10분 동안 건조하여 경화시킨 후, 그 위에 상기 제2 조성물을 1.5 ㎛ 두께로 도포한 후 1 분 내지 10분 동안 경화시켜, 두 개의 층으로 이루어진 실시예 1에 따른 감광성 수지막을 제조하였다.The following compositions were used to prepare the first composition in the composition shown in Table 1 below and the second composition in the composition shown in Table 2 below. The first composition was coated on a substrate such as a glass substrate or an IZO substrate to a thickness of 2.0 탆 and dried by a VCD process for 1 minute to 10 minutes to cure the second composition. And then cured for 1 minute to 10 minutes to prepare a photosensitive resin film according to Example 1 composed of two layers.

제1 조성물 및 제2 조성물의 구체적인 제조방법은 다음과 같다. 용매에 광중합 개시제를 녹인 후 30분 이상 상온에서 충분히 교반한 다음, 여기에 바인더 수지와 반응성 불포화 화합물을 순차적으로 첨가하여 약 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어서, 얻어진 상기 교반액에 기타 첨가제를 넣고 약 10분 동안 교반한 후에, 안료분산액을 투입하고 2시간 이상 상온에서 교반하였다. 이어서 상기 생성물을 3회 여과하여 불순물을 제거함으로써, 제1 조성물 및 제2 조성물을 각각 제조하였다.
Specific methods of preparing the first composition and the second composition are as follows. After dissolving the photopolymerization initiator in the solvent, the mixture was thoroughly stirred at room temperature for 30 minutes or more, and then binder resin and reactive unsaturated compound were added thereto, followed by stirring at room temperature for about 1 hour. Then, the other additives were added to the obtained solution, stirred for about 10 minutes, and then the pigment dispersion was added thereto and stirred at room temperature for 2 hours or more. The product was then filtered three times to remove impurities, thereby preparing the first composition and the second composition, respectively.

(단위: g)(Unit: g) 성분ingredient 함량content 바인더 수지Binder resin 카도계 바인더 수지(V259ME, 신일본제철社)Cadmium binder resin (V259ME, Nippon Steel Corporation) 6.3636.363 반응성 불포화 화합물The reactive unsaturated compound 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(일본촉매社)Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Catalyst Co., Ltd.) 1.5221.522 광중합개시제Photopolymerization initiator OXE01(BASF社)OXE01 (BASF) 0.6600.660 용매menstruum PGMEAPGMEA 26.11626.116 EDMEDM 16.70016.700 안료분산액Pigment dispersion 락탐계 유기블랙(BASF社)포함 밀베이스 (Mikuni社, PWC 15%)Lactam-based organic black (BASF) Mill base (Mikuni, PWC 15%) 41.25341.253 Carbon black 포함 Mill base (Tokushiki社, PWC 25%)Carbon black included Mill base (Tokushiki, PWC 25%) 6.2866.286 첨가제additive 불소계 계면활성제(F-554, DIC社)Fluorine-based surfactant (F-554, DIC) 1.1001.100

(상기 표 1에서, 락탐계 유기블랙은 하기 화학식 A로 표시된다.(In Table 1, the lactam-based organic black is represented by the following formula (A).

[화학식 A](A)

Figure 112015006506715-pat00028
)
Figure 112015006506715-pat00028
)

(단위: g)(Unit: g) 성분ingredient 함량content 바인더 수지Binder resin 아크릴계 바인더 수지(100S-12, SMS社)Acrylic binder resin (100S-12, SMS company) 27.73427.734 반응성 불포화 화합물The reactive unsaturated compound 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (일본촉매社)Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Catalyst Co., Ltd.) 5.0665.066 광중합개시제Photopolymerization initiator OXE01 (BASF社)OXE01 (BASF) 0.1300.130 용매menstruum PGMEAPGMEA 4.1704.170 n-butyl acetaten-butyl acetate 60.90060.900 첨가제additive 불소계 계면활성제(F-554, DIC社)Fluorine-based surfactant (F-554, DIC) 2.0002.000

실시예Example 2 2

하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 3에 나타낸 조성으로 제2 조성물을 제조한 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2에 따른 감광성 수지막을 제조하였다.
A photosensitive resin film according to Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the second composition was prepared using the following components as shown in Table 3 below.

(단위: g)(Unit: g) 성분ingredient 함량content 바인더 수지Binder resin 아크릴계 바인더 수지(100S-13, SMS社)Acrylic binder resin (100S-13, SMS) 27.53327.533 반응성 불포화 화합물The reactive unsaturated compound 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (일본촉매社)Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Catalyst Co., Ltd.) 5.0665.066 광중합개시제Photopolymerization initiator OXE01 (BASF社)OXE01 (BASF) 0.1300.130 용매menstruum PGMEAPGMEA 4.3714.371 n-butyl acetaten-butyl acetate 60.90060.900 첨가제additive 불소계 계면활성제(F-554, DIC社)Fluorine-based surfactant (F-554, DIC) 2.0002.000

비교예Comparative Example 1 One

하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 4에 나타낸 조성으로 제2 조성물을 제조한 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1에 따른 감광성 수지막을 제조하였다.
A photosensitive resin film according to Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the second composition was prepared using the following components in the compositions shown in Table 4 below.

(단위: g)(Unit: g) 성분ingredient 함량content 바인더 수지Binder resin 아크릴계 바인더 수지(100S-11, SMS社)Acrylic binder resin (100S-11, SMS company) 28.04128.041 반응성 불포화 화합물The reactive unsaturated compound 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (일본촉매社)Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Catalyst Co., Ltd.) 5.0665.066 광중합개시제Photopolymerization initiator OXE01 (BASF社)OXE01 (BASF) 0.1300.130 용매menstruum PGMEAPGMEA 3.8633.863 n-butyl acetaten-butyl acetate 60.90060.900 첨가제additive 불소계 계면활성제(F-554, DIC社)Fluorine-based surfactant (F-554, DIC) 2.0002.000

비교예Comparative Example 2 2

하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 5에 나타낸 조성으로 제2 조성물을 제조한 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 2에 따른 감광성 수지막을 제조하였다.
A photosensitive resin film according to Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the second composition was prepared in the composition shown in Table 5 below using the following components.

(단위: g)(Unit: g) 성분ingredient 함량content 바인더 수지Binder resin 아크릴계 바인더 수지(100S-7, SMS社)Acrylic binder resin (100S-7, SMS) 28.04128.041 반응성 불포화 화합물The reactive unsaturated compound 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (일본촉매社)Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Catalyst Co., Ltd.) 5.0665.066 광중합개시제Photopolymerization initiator OXE01 (BASF社)OXE01 (BASF) 0.1300.130 용매menstruum PGMEAPGMEA 3.8633.863 n-butyl acetaten-butyl acetate 60.90060.900 첨가제additive 불소계 계면활성제(F-554, DIC社)Fluorine-based surfactant (F-554, DIC) 2.0002.000

상기 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1 및 비교예 2에서 사용한 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량 및 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 하기 화학식 1-1로 표시되는 반복단위, 화학식 2-1로 표시되는 반복단위 및 화학식 3-1로 표시되는 반복단위 간 중량비는 하기 표 6과 같다.
The weight average molecular weight of the acrylic binder resin used in Example 1, Example 2, Comparative Example 1 and Comparative Example 2, the repeating unit represented by the following Formula 1-1 constituting the acrylic binder resin, And the weight ratio between repeating units represented by the formula (3-1) are shown in Table 6 below.

실시예 1의 아크릴계 바인더 수지The acrylic binder resin of Example 1 실시예 2의 아크릴계 바인더 수지The acrylic binder resin of Example 2 비교예 1의 아크릴계 바인더 수지The acrylic binder resin of Comparative Example 1 비교예 2의 아크릴계 바인더 수지The acrylic binder resin of Comparative Example 2 중량평균 분자량
(g/mol)
Weight average molecular weight
(g / mol)
2600026000 2900029000 2400024000 2700027000
화학식 1-1 : 화학식 2-1 : 화학식 3-1Formula 1-1: Formula 2-1: Formula 3-1 38 : 44 : 1838: 44: 18 38 : 44 : 1838: 44: 18 38 : 44 : 1838: 44: 18 33: 53 : 1433: 53: 14

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure 112015006506715-pat00029
Figure 112015006506715-pat00029

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure 112015006506715-pat00030
Figure 112015006506715-pat00030

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure 112015006506715-pat00031

Figure 112015006506715-pat00031

평가 1: 용해도 평가Evaluation 1: Evaluation of solubility

실시예 1, 실시예 2, 비교예 1, 비교예 2에서 사용한 아크릴계 바인더 수지 및 상기 화학식 1-1로 표시되는 반복단위, 화학식 2-1로 표시되는 반복단위 및 화학식 3-1로 표시되는 반복단위를 포함하면서, 중량평균 분자량이 30000 g/mol인 아크릴계 바인더 수지의 n-butyl acetate 100g에 대한 용해도를 측정(30℃)하여, 그 결과를 하기 표 7에 나타내었다.The acrylic binder resin used in Example 1, Example 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2, the repeating unit represented by Formula 1-1, the repeating unit represented by Formula 2-1, and the repeating unit represented by Formula 3-1 (30 ° C) of the acrylic binder resin having a weight-average molecular weight of 30000 g / mol and containing 100% by weight of the monomer unit and measuring the solubility thereof in 100 g of n-butyl acetate.

용해도 평가 기준Solubility evaluation criteria

○: 용해도 5 이상O: Solubility of 5 or more

Ⅹ: 용해도 5 미만
X: Solubility less than 5

(단위: g)(Unit: g) 실시예 1의 아크릴계 바인더 수지The acrylic binder resin of Example 1 실시예 2의 아크릴계 바인더 수지The acrylic binder resin of Example 2 비교예 1의 아크릴계 바인더 수지The acrylic binder resin of Comparative Example 1 비교예 2의 아크릴계 바인더 수지The acrylic binder resin of Comparative Example 2 중량평균 분자량이 30000 g/mol인 아크릴계 바인더 수지 (100S-9, SMS社)An acrylic binder resin (100S-9, SMS Company) having a weight average molecular weight of 30000 g / mol, 용해도 평가Solubility assessment X

상기 표 7로부터, 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 29000 g/mol을 초과하는 경우, n-butyl acetate 등의 유기 용매에 대한 용해도가 저하되어, 제2 조성물의 제조가 어려운 것을 확인할 수 있다.
From Table 7, it can be seen that when the weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second composition exceeds 29000 g / mol, the solubility in an organic solvent such as n-butyl acetate is lowered and the preparation of the second composition is difficult .

평가 2: Evaluation 2: CDCD 측정 Measure

실시예 1, 실시예 2, 비교예 1 및 비교예 2에서 제조된 감광성 수지막을 노광기(Ushio社, HB-50110AA)와 포토마스크를 사용하여 50mJ로 노광하였다. 이어서 현상기(SVS社, SSP-200)를 사용하여 0.2 중량%의 수산화칼륨(KOH) 수용액으로 150초 동안 현상하고, 오븐에서 230℃로 30분동안 하드-베이킹(Hard-baking 또는 post-baking)을 진행하여, 패터닝된 시편을 얻을 수 있었다. 상기 패터닝된 시편의 컬럼 스페이서 패턴 중 10 ㎛ 패턴의 CD를 비접촉식 두께 측정기(3-D profiler)로 측정하여, 그 결과를 하기 표 8 및 도 4 내지 도 6에 나타내었다.
The photosensitive resin film prepared in Example 1, Example 2, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 was exposed at 50 mJ using an exposure apparatus (Ushio, HB-50110AA) and a photomask. Subsequently, the substrate was developed with a 0.2 wt% aqueous solution of potassium hydroxide (KOH) for 150 seconds using a developing machine (SVS, SSP-200) and hard-baked or post-baked in an oven at 230 캜 for 30 minutes. And the patterned specimen was obtained. A CD of a 10 탆 pattern among the column spacer patterns of the patterned sample was measured with a non-contact thickness meter (3-D profiler), and the results are shown in Table 8 and Figs. 4 to 6.

CD (㎛)CD (탆) 실시예 1Example 1 18.418.4 실시예 2Example 2 17.517.5 비교예 1Comparative Example 1 21.221.2 비교예 2Comparative Example 2 24.524.5

상기 표 8 및 도 4 내지 도 6을 통하여, 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 25000 g/mol 내지 29000 g/mol 이고, 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 모노머의 중량비가 특정 범위에 해당하는 실시예 1 및 실시예 2는, 비교예 1 및 비교예 2와 비교하여, CD가 작아 컬럼 스페이서 패턴의 테두리 부분의 tail 발생이 최소화됨을 확인할 수 있다.
Through Table 8 and FIGS. 4 to 6, the weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second composition is 25000 g / mol to 29000 g / mol, and the weight ratio of the monomers constituting the acrylic binder resin falls within a specific range It is confirmed that the occurrence of tails at the rim portion of the column spacer pattern is minimized in Examples 1 and 2 as compared with Comparative Example 1 and Comparative Example 2. [

평가 3: Rating 3: 테이퍼Taper 각도 평가 Angle rating

상기 평가 1에서 제조한 패터닝된 시편의 컬럼 스페이서 패턴 중 10 ㎛ 패턴의 테이퍼 각도를 주사전자현미경(SEM; Scanning Electron Microscope)을 이용하여 측정하고, 그 결과를 하기 표 9 및 도 1 내지 도 3에 나타내었다.
The taper angle of the 10 탆 pattern in the column spacer pattern of the patterned specimen manufactured in the above Evaluation 1 was measured using a scanning electron microscope (SEM), and the results are shown in Table 9 and Figs. 1 to 3 Respectively.

테이퍼 각도 (°)Taper angle (°) 실시예 1Example 1 20.520.5 실시예 2Example 2 22.122.1 비교예 1Comparative Example 1 18.318.3 비교예 2Comparative Example 2 15.215.2

상기 표 9 및 도 1 내지 도 3을 통하여, 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 25000 g/mol 내지 29000 g/mol 이고, 상기 아크릴계 바인더 수지를 구성하는 모노머의 중량비가 특정 범위에 해당하는 실시예 1 및 실시예 2는, 비교예 1 및 비교예 2와 비교하여, 20° 이상의 높은 테이퍼 각도를 유지해 컬럼 스페이서 패턴의 테두리 부분의 tail 발생이 최소화됨을 확인할 수 있다.
Through Table 9 and FIGS. 1 to 3, the weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second composition is 25000 g / mol to 29000 g / mol, and the weight ratio of the monomers constituting the acrylic binder resin falls within a specific range It is confirmed that the taper angles of 20 DEG or more are maintained in Examples 1 and 2 as compared with Comparative Examples 1 and 2, and the generation of tails at the rim portion of the column spacer pattern is minimized.

본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention as defined by the following claims. As will be understood by those skilled in the art. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

Claims (13)

제1 조성물을 기판위에 도포 후 경화시킨 제1 수지막 및 상기 제1 수지막 위에 제2 조성물을 도포 후 경화시킨 제2 수지막을 포함하고,
상기 제1 조성물은 하기 화학식 4로 표시되는 반복단위를 포함하는 카도계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제, 안료 및 용매를 포함하고, 상기 제2 조성물은 아크릴계 바인더 수지, 반응성 불포화 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함하고,
상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 25000 g/mol 내지 29000 g/mol인 감광성 수지막.
[화학식 4]
Figure 112017104495128-pat00041

(상기 화학식 1에서,
R11 및 R12는 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 (메타)아크릴로일옥시알킬기이고,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
Z1은 단일결합, O, CO, SO2, CR7R8, SiR9R10(여기서, R7 내지 R10은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임), 또는 하기 화학식 4-1 내지 4-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고,
[화학식 4-1]
Figure 112017104495128-pat00042

[화학식 4-2]
Figure 112017104495128-pat00043

[화학식 4-3]
Figure 112017104495128-pat00044

[화학식 4-4]
Figure 112017104495128-pat00045

[화학식 4-5]
Figure 112017104495128-pat00046

(상기 화학식 4-5에서,
Ra는 수소원자, 에틸기, C2H4Cl, C2H4OH, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다)
[화학식 4-6]
Figure 112017104495128-pat00047

[화학식 4-7]
Figure 112017104495128-pat00048

[화학식 4-8]
Figure 112017104495128-pat00049

[화학식 4-9]
Figure 112017104495128-pat00050

[화학식 4-10]
Figure 112017104495128-pat00051

[화학식 4-11]
Figure 112017104495128-pat00052

Z2는 산이무수물 잔기이고,
m1 및 m2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다)
A first resin film formed by coating a first composition on a substrate and cured, and a second resin film formed by coating a second composition on the first resin film and curing the first resin film,
The first composition includes a cationic binder resin, a reactive unsaturated compound, a photopolymerization initiator, a pigment, and a solvent, wherein the first composition comprises a repeating unit represented by the following formula (4), and the second composition comprises an acrylic binder resin, a reactive unsaturated compound, And a solvent,
Wherein the weight average molecular weight of the acrylic binder resin in the second composition is 25000 g / mol to 29000 g / mol.
[Chemical Formula 4]
Figure 112017104495128-pat00041

(In the formula 1,
R 11 and R 12 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted (meth) acryloyloxyalkyl group,
R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
Z 1 is a single bond, O, CO, SO 2 , CR 7 R 8 , SiR 9 R 10 (wherein R 7 to R 10 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group) Is any one of the linking groups represented by the following formulas (4-1) to (4-11)
[Formula 4-1]
Figure 112017104495128-pat00042

[Formula 4-2]
Figure 112017104495128-pat00043

[Formula 4-3]
Figure 112017104495128-pat00044

[Formula 4-4]
Figure 112017104495128-pat00045

[Formula 4-5]
Figure 112017104495128-pat00046

(In the above Formula 4-5,
R a is a hydrogen atom, an ethyl group, C 2 H 4 Cl, C 2 H 4 OH, CH 2 CH═CH 2 or a phenyl group)
[Formula 4-6]
Figure 112017104495128-pat00047

[Formula 4-7]
Figure 112017104495128-pat00048

[Formula 4-8]
Figure 112017104495128-pat00049

[Chemical Formula 4-9]
Figure 112017104495128-pat00050

[Formula 4-10]
Figure 112017104495128-pat00051

[Formula 4-11]
Figure 112017104495128-pat00052

Z 2 is an acid anhydride residue,
m1 and m2 are each independently an integer of 0 to 4)
제1항에 있어서,
상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 감광성 수지막:
[화학식 1]
Figure 112015006506715-pat00032

상기 화학식 1에서,
R1은 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
R2는 수소원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.
The method according to claim 1,
Wherein the acrylic binder resin in the second composition is a photosensitive resin film comprising a repeating unit represented by the following formula (1)
[Chemical Formula 1]
Figure 112015006506715-pat00032

In Formula 1,
R 1 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
R 2 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C10 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.
제2항에 있어서,
상기 제2 조성물 내 아크릴계 바인더 수지는 하기 화학식 2 및 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 더 포함하는 감광성 수지막:
[화학식 2]
Figure 112015006506715-pat00033

[화학식 3]
Figure 112015006506715-pat00034

상기 화학식 2 및 화학식 3에서,
R3, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
R4는 수소원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 사이클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.
3. The method of claim 2,
Wherein the acrylic binder resin in the second composition further comprises a repeating unit represented by the following general formula (2) and (3)
(2)
Figure 112015006506715-pat00033

(3)
Figure 112015006506715-pat00034

In the general formulas (2) and (3)
R 3 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
R 4 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C10 cycloalkyl group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group.
제3항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 상기 화학식 2로 표시되는 반복단위 및 상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위는,
"화학식 1로 표시되는 반복단위 : 화학식 2로 표시되는 반복단위 : 화학식 3으로 표시되는 반복단위 = 35 내지 45 : 40 내지 50 : 15 내지 25"의 중량비로 포함되는 감광성 수지막.
The method of claim 3,
The repeating unit represented by the formula (1), the repeating unit represented by the formula (2), and the repeating unit represented by the formula (3)
"A photosensitive resin film comprising a repeating unit represented by the following formula (1): repeating unit represented by the following formula (2): repeating unit represented by the following formula (3) = 35 to 45:40 to 50:15 to 25"
제1항에 있어서,
상기 안료는 흑색 안료를 포함하는 감광성 수지막.
The method according to claim 1,
Wherein the pigment comprises a black pigment.
제5항에 있어서,
상기 흑색 안료는 아닐린 블랙, 페릴렌 블랙, 티타늄 블랙, 시아닌 블랙, 리그닌 블랙, 락탐계 유기블랙, RGB 블랙, 카본 블랙 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지막.
6. The method of claim 5,
The black pigment includes aniline black, perylene black, titanium black, cyanine black, lignin black, lactam-based organic black, RGB black, carbon black or a combination thereof.
제1항에 있어서,
상기 제1 조성물은 상기 안료를 포함하는 안료분산액을 포함하고,
상기 제1 조성물은 카도계 바인더 수지 1 중량% 내지 30 중량%, 반응성 불포화 화합물 1 중량% 내지 20 중량%, 광중합 개시제 0.05 중량% 내지 5 중량%, 안료분산액 5 중량% 내지 60 중량% 및 용매 잔부량을 포함하는 감광성 수지막.
The method according to claim 1,
Wherein the first composition comprises a pigment dispersion comprising the pigment,
The first composition comprises 1 to 30% by weight of a cadmium binder resin, 1 to 20% by weight of a reactive unsaturated compound, 0.05 to 5% by weight of a photopolymerization initiator, 5 to 60% by weight of a pigment dispersion, A photosensitive resin film containing an amount.
제1항에 있어서,
상기 제2 조성물은 아크릴계 바인더 수지 3 중량% 내지 40 중량%, 반응성 불포화 화합물 2 중량% 내지 20 중량%, 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량% 및 용매 잔부량을 포함하는 감광성 수지막.
The method according to claim 1,
Wherein the second composition comprises 3 wt% to 40 wt% of an acrylic binder resin, 2 wt% to 20 wt% of a reactive unsaturated compound, 0.1 wt% to 5 wt% of a photopolymerization initiator, and a remaining amount of a solvent.
제1항에 있어서,
상기 제2 조성물은 안료를 더 포함하는 감광성 수지막.
The method according to claim 1,
Wherein the second composition further comprises a pigment.
제1항에 있어서,
상기 제1 조성물 및 제2 조성물은 각각 독립적으로 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 불소계 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함하는 감광성 수지막.
The method according to claim 1,
The first composition and the second composition each independently include malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane coupling agent, a leveling agent, a fluorinated surfactant, a radical polymerization initiator, .
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 감광성 수지막을 노광 및 현상하여 제조된 블랙 컬럼 스페이서.
A black column spacer produced by exposing and developing the photosensitive resin film of any one of claims 1 to 10.
제11항에 있어서,
상기 블랙 컬럼 스페이서 내 패턴은 20° 이상 60° 이하의 테이퍼 각도를 가지는 블랙 컬럼 스페이서.
12. The method of claim 11,
Wherein the pattern in the black column spacer has a taper angle of greater than or equal to 20 degrees and less than or equal to 60 degrees.
제11항의 블랙 컬럼 스페이서를 포함하는 컬러필터.A color filter comprising the black column spacer of claim 11.
KR1020150010128A 2015-01-21 2015-01-21 Photosensitive resin layer, black column spacerusing the sameand color filter KR101814672B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150010128A KR101814672B1 (en) 2015-01-21 2015-01-21 Photosensitive resin layer, black column spacerusing the sameand color filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150010128A KR101814672B1 (en) 2015-01-21 2015-01-21 Photosensitive resin layer, black column spacerusing the sameand color filter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160090169A KR20160090169A (en) 2016-07-29
KR101814672B1 true KR101814672B1 (en) 2018-01-04

Family

ID=56617665

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150010128A KR101814672B1 (en) 2015-01-21 2015-01-21 Photosensitive resin layer, black column spacerusing the sameand color filter

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101814672B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102393376B1 (en) * 2017-04-10 2022-05-03 삼성디스플레이 주식회사 Photosensitive resin composition, and electronic device comprising cured product of composition for forming pattern comprising the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007304209A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Fujifilm Corp Color filter, method for manufacturing the same and display device
JP2014139668A (en) * 2012-12-20 2014-07-31 Mitsubishi Chemicals Corp Colored cured object and its manufacturing method, color filter, and liquid crystal display device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007304209A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 Fujifilm Corp Color filter, method for manufacturing the same and display device
JP2014139668A (en) * 2012-12-20 2014-07-31 Mitsubishi Chemicals Corp Colored cured object and its manufacturing method, color filter, and liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160090169A (en) 2016-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101474803B1 (en) Method of manufacturing black column spacer, black column spacer, and color filter
KR101804259B1 (en) Photosensitive resin composition, black column spacerusing the same and color filter
KR20180094651A (en) Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device
KR101682017B1 (en) Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
KR20160061060A (en) Photosensitive resin composition and color filter using the same
KR101661673B1 (en) Photosensitive resin composition, light blocking layer using the same and color filter
KR101812579B1 (en) Photosensitive double resin layer, black column spacer using the same, and color filter
KR101931249B1 (en) Photosensitive resin composition, black column spacerusing the same and color filter
KR101965279B1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and color filter
KR101814672B1 (en) Photosensitive resin layer, black column spacerusing the sameand color filter
KR20180094655A (en) Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device
KR20180069563A (en) Color filter and liquid crystal display comprising the same
KR20180046688A (en) Photosensitive resin composition, black photosensitive resin layer using the same and color filter
KR20180062771A (en) Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device
KR20160063836A (en) Photosensitive resin layer, black column spacer using the same and color filter
KR102025359B1 (en) Photosensitive resin composition, black column spacerusing the same and color filter
KR101837969B1 (en) Photosensitive resin composition and color filter using the same
KR20160140227A (en) Photosensitive double resin layer, black column spacer using the same, and color filter
KR102215125B1 (en) Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
KR102109544B1 (en) Color filter and liquid crystal display comprising the same
KR101776264B1 (en) Photosensitive resin composition layer, black column spacer using the same, and color filter
KR102216426B1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same, color filter and display device
KR101906280B1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin layer using the same and black column spacer
KR101724607B1 (en) Method of manufacturing black column spacer, black column spacer, and color filter
KR20160066353A (en) Photosensitive resin layer, black column spacerusing the sameand color filter

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant