KR101814212B1 - Organopolysiloxane composition - Google Patents

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Abstract

본 발명은 경화 상태 시편의 신율 및 인장강도에 대하여, 200℃에서 168hr 보관 후의 시편의 신율 변화량 및 인장강도 변화량이 각각 50% 이하인 경화성 오르가노폴리실록산 조성물을 제공한다.The present invention provides a curable organopolysiloxane composition having a elongation change amount and a tensile strength change amount of 50% or less, respectively, after elongation and tensile strength of a cured state specimen after storage at 200 ° C for 168 hours.

Description

오르가노 폴리실록산 조성물{Organopolysiloxane composition}[0001] Organopolysiloxane composition [0002]

본 발명은 고온의 실제 사용 환경에서도 높은 신뢰성을 가지는 발광 다이오드 소자 봉지용 오르가노 폴리실록산 조성물에 관한 것이다.
The present invention relates to an organopolysiloxane composition for encapsulating light-emitting diode elements, which has high reliability even in a high-temperature practical use environment.

일반적으로 종래에는 발광 다이오드 소자의 밀봉 재료로서 에폭시 수지가 사용되어 왔다. 에폭시 수지는 투광도는 우수하지만, 탄성률이 높기 때문에 다양한 온도 조건 및 온도 변화시에 와이어, 칩, 에폭시 수지 사이에 균열이 발생하고 와이어 본딩이 단선되는 경우가 발생하여 반도체 재료의 결정 구조가 무너짐에 따른 발광 효율이 저하될 수 있다. 또한 에폭시 수지는 더 밝고, 더 짧은 파장의 빛에 대한 내열성 및 내광성 측면에서 물성이 더욱 불만족스럽다. 자외선 등이 에폭시계 수지에 투과될 경우, 유기 고분자의 결합이 파괴되어 수지의 광학적, 화학적 특성을 떨어뜨린다. 그렇게 되면, 결국 에폭시 수지는 봉지재 자체가 황색으로 변화하고 이것이 광선의 색상에 영향을 미쳐서 발광장치의 수명을 저하시킨다.In general, epoxy resin has been conventionally used as a sealing material for light-emitting diode elements. Epoxy resin has excellent transparency but has a high elastic modulus, so cracks are generated between wire, chip and epoxy resin under various temperature conditions and temperature changes, and wire bonding is broken, resulting in collapse of crystal structure of semiconductor material The luminous efficiency may be lowered. In addition, epoxy resins are brighter and more unsatisfactory in terms of heat resistance and light fastness to shorter wavelength light. When ultraviolet light or the like is transmitted through the epoxy resin, the bond of the organic polymer is broken and the optical and chemical properties of the resin are deteriorated. As a result, the epoxy resin eventually changes to the yellow color of the encapsulant itself, which affects the color of the light beam, thereby lowering the lifetime of the light emitting device.

한편, 위의 문제들을 해결하기 위한 방안으로 실리콘 수지 적용이 제안되어 왔다. 실리콘은 유기수지와 비교하여 내열성, 내후성 등이 에폭시 수지보다 우수하고, 투명할 뿐 아니라, 변색되기 어렵고, 물리적으로 열화되기 어렵기 때문에 발광다이오드로의 적용 사례가 늘어나고 있다. 그러나, 이들 실리콘 수지는 기계적 강도, 화학적 안정성은 우수하나 좀 더 높은 휘도를 확보하기 위한 연구가 지속적으로 행해지고 있는 실정이다.On the other hand, application of a silicone resin has been proposed as a solution to the above problems. Silicone is superior to epoxy resin in heat resistance, weather resistance and the like as compared with organic resin, and is not only transparent but also difficult to discolor and physically deteriorate, so that application to light emitting diodes is increasing. However, these silicone resins are excellent in mechanical strength and chemical stability, but studies for securing a higher luminance have been continuously carried out.

일본 공개특허 제2002-265787호에 개시되어 있는 실리콘 수지 조성물은, 실록산 가교 밀도를 증대시키고, 방향족 환간의 π-π상호 작용이 경화물의 굴절률 등을 향상시키는데 중요하기 때문에, 페닐기 및 알케닐기를 갖는 특정한 오르가노 폴리실록산 및 페닐기를 갖는 특정한 오르가노하이드로겐 폴리실록산을 부가 경화시켜 고경도, 고투명 수지를 얻고 있다.Since the silicone resin composition disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-265787 increases the crosslinking density of the siloxane and is important for improving the refractive index and the like of the cured product by the π-π interaction between aromatic rings, the silicone resin composition having a phenyl group and an alkenyl group Specific organohydrogenpolysiloxane having a specific organopolysiloxane and a phenyl group is additionally cured to obtain a high hardness and high transparency resin.

그러나 고굴절 소재의 굴절율을 조절하기 위하여 페닐 함유 반응성 폴리실록산을 적용하는 경우 페닐 함유 폴리실록산의 구조적 원인으로 인하여 메틸계 반응성 폴리실록산보다 반응속도가 느리다. However, when the phenyl-containing reactive polysiloxane is used to control the refractive index of the high-refractive index material, the reaction rate is slower than that of the methyl-based reactive polysiloxane due to the structural causes of the phenyl-containing polysiloxane.

페닐 함유 반응성 폴리실록산을 사용하는 경우 목적하는 기계적 물성을 달성하기 위하여 경화 과정에서 많은 열과 시간이 필요하나, 공정상 경제적으로 한정된 경화시간과 온도를 적용하여야 한다. 따라서 실제 장치에 실장된 후 사용 환경에서 발생하는 열에 의해 추가적인 반응이 진행되고, 이에 따라 모듈러스와 같은 기계적 성질이 변화된다. 이는 내부 응력의 증가를 초래하고, 내부 응력 증가는 극단적인 경우 와이어의 단선으로 점등불가, 대부분 계면의 박리, 크랙현상으로 인한 형광체 산화 가속 및 부식을 초래하고, 이는 효율 저하 또는 전체 LED의 수명을 감축시킨다.When a phenyl-containing reactive polysiloxane is used, a lot of heat and time are required in the curing process in order to achieve the desired mechanical properties, but economically limited curing time and temperature must be applied in the process. Therefore, after mounting on an actual device, additional reaction proceeds due to heat generated in the use environment, thereby changing the mechanical properties such as modulus. This leads to an increase in the internal stress. In the extreme case, the increase of the internal stress can not be caused by the breakage of the wire. In most cases, deterioration or cracking of the interface causes accelerated oxidation and corrosion of the phosphor. Respectively.

또한, 최근 LED를 대면적의 액정 표시 장치 내지 조명에 적용하고자 하는 요구가 증가하면서, 밀집된 패키지에 다수의 칩을 실장하거나, 인가 전류량이 점착 증가하는 등 사용 환경 측면에서 열에 대한 충격요인이 점차 가혹해지고 있다.In recent years, there has been an increasing demand to apply LEDs to a large-area liquid crystal display device or an illumination. As a result, a large number of chips are mounted on a dense package or the amount of applied current increases, It is becoming.

따라서, 높은 온도의 사용 환경에서도 후경화에 따른 봉지재의 기계적 물성이 변하지 않는 봉지용 조성물이 필요한 실정이다.
Therefore, there is a need for a sealing composition that does not change the mechanical properties of the sealing material due to post curing even in a high temperature use environment.

본 발명은 종래기술들의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 신뢰성이 우수한 경화성 오르가노폴리실록산 조성물을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a curable organopolysiloxane composition having high reliability.

본 발명의 다른 목적은 본 발명에 따른 상기 조성물의 경화물을 포함하는 발광 다이오드 소자용 봉지재를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an encapsulant for a light emitting diode device comprising a cured product of the composition according to the present invention.

본 발명의 또 다른 목적은 발광 다이오드 소자가 본 발명에 따른 상기 봉지재에 의해 봉지된 발광 다이오드 장치를 제공하는 것이다.
It is still another object of the present invention to provide a light emitting diode device in which a light emitting diode device is sealed by the sealing material according to the present invention.

본 발명자들은 발광 다이오드 장치 전체의 신뢰성 향상에 있어서 가장 주요하게 작용하는 요인으로 봉지재의 후경화에 따른 내부 응력증가임을 밝혔다. 또한 내부 응력증가로 인한 박리, 균열(크랙) 또는 단선발생으로 인한 효율저하의 원인은 페닐기 함유 반응성 폴리실록산의 반응성 문제에서 기인하며, 이를 해결하기 위해 노력을 거듭한 결과 반응기의 속도 차이를 최소화하는 반응기의 위치, 함량, 구조 및 이들의 조합으로 후경화에 의한 내부 응력 변화를 억제할 수 있는 봉지재 조성을 개발하였다.The inventors of the present invention have found that the increase in internal stress due to post-curing of the sealing material is the most important factor in improving the reliability of the entire light-emitting diode device. In addition, due to the problem of reactivity of the phenyl group-containing reactive polysiloxane, the cause of the deterioration of the efficiency due to peeling, crack (crack), or breakage due to the increase of the internal stress has been repeatedly solved. As a result, The content, the structure, and the combination thereof, a sealant composition capable of suppressing internal stress change by postcuring was developed.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 경화 상태 시편의 신율 및 인장강도에 대하여, 200℃에서 168hr 보관 후의 시편의 신율 변화량 및 인장강도 변화량이 각각 50% 이하인 경화성 오르가노폴리실록산 조성물을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a curable organopolysiloxane composition having a elongation change amount and a tensile strength change amount of 50% or less, respectively, after elongation and tensile strength of a cured state specimen after storage at 200 ° C for 168 hours.

상기 조성물은 하기 화학식 1 내지 화학식 3의 화합물을 포함할 수 있다.The composition may include compounds of the following formulas (1) to (3).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

(R1R2R3SiO1 /2)x·(R4R5SiO2 /2)y·(R6SiO3 /2)z (R 1 R 2 R 3 SiO 1/2) x · (R 4 R 5 SiO 2/2) y · (R 6 SiO 3/2) z

[화학식 2](2)

R7Si(OSiR8R9R10)3 R 7 Si (OSiR 8 R 9 R 10 ) 3

[화학식 3](3)

Figure 112012013119675-pat00001
Figure 112012013119675-pat00001

상기 식에서, In this formula,

R1 내지 R3 및 R8 내지 R10은 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 10의 알케닐기 또는 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이고, 단 R1 내지 R3 중 하나 이상과 R8 내지 R10 중 하나 이상은 탄소수 2 내지 10의 알케닐기이고, R 1 to R 3 and R 8 to R 10 are each independently a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group or alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, provided that at least one of R 1 to R 3 and R 8 to one or more of R 10 is an alkenyl group of 2 to 10 carbon atoms,

R4 내지 R7은 각각 독립적으로 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이며,R 4 to R 7 are each independently a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group,

R11, R12, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소; 또는 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이고,R 11 , R 12 , R 15 and R 16 are each independently hydrogen; Or a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group,

R13 및 R14는 각각 독립적으로 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이며,R 13 and R 14 are each independently a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group,

x, y 및 z는 각각 0<x<1, 0<y<1, 0≤z<1 및 x+y+z=1을 만족하고,x, y and z satisfy 0 <x <1, 0 <y <1, 0 <z <1 and x + y + z =

n은 1 내지 100의 정수이다. n is an integer of 1 to 100;

본 발명은 또한 본 발명에 따른 상기 조성물의 경화물을 포함하는 발광 다이오드 소자용 봉지재를 제공한다.The present invention also provides an encapsulant for a light emitting diode device comprising a cured product of the composition according to the present invention.

본 발명은 또한 발광 다이오드 소자가 본 발명에 따른 상기 봉지재에 의해 봉지된 발광 다이오드 장치를 제공한다.
The present invention also provides a light emitting diode device in which a light emitting diode device is sealed by the sealing material according to the present invention.

본 발명에 따른 조성물은 발광 다이오드 장치의 봉지재로 사용하는 경우 사용 환경에 따른 후경화를 억제하고, 따라서 내부 응력 변화를 방지하여, 높은 신뢰성 및 장치의 우수한 수명을 제공할 수 있다.
When the composition according to the present invention is used as an encapsulant of a light emitting diode device, it suppresses post-curing according to the use environment, and thus prevents a change in internal stress, thereby providing high reliability and excellent lifetime of the device.

도 1은 본 발명의 한 실시예인 발광다이오드 장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a light emitting diode device according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명에서 사용된 용어의 정의는 다음과 같다.The definitions of the terms used in the present invention are as follows.

“신율 변화량”이란 경화 상태의 시편을 200℃에서 168hr 동안 보관한 후의 시편의 신율 값(내열 신율)과 경화 상태 시편의 신율 값(초기 신율)의 차의 백분율을 의미한다. 즉 신율 변화량은 (초기신율 - 내열신율)/초기신율 X 100을 의미한다. 본 발명의 조성물은 신율 변화량이 50%이하, 예를 들어 40%이하, 35% 이하, 또는 30% 이하일 수 있다."Elongation change rate" means the percentage difference between the elongation value (heat resistance elongation) of the specimen after being stored at 200 ° C. for 168 hours and the elongation value (initial elongation) of the cured specimen. That is, the rate of elongation change means (initial elongation-heat resistance elongation) / initial elongation X 100. The composition of the present invention may have a rate of change of elongation of 50% or less, for example, 40% or less, 35% or less, or 30% or less.

“인장강도 변화량”이란 경화 상태 시편의 인장강도 값(초기 인장강도)과 경화 상태의 시편을 200℃에서 168hr 동안 보관한 후의 시편의 인장강도 값(내열 인장강도)의 차의 백분율을 의미한다. 즉 인장강도 변화량은 (내열 인장강도 - 초기 인장강도)/초기 인장강도 X 100을 의미한다. 본 발명의 조성물은 인장강도 변화량이 50%이하, 예를 들어 45%이하, 40% 이하, 또는 35% 이하일 수 있다. 상기 신율과 인장강도의 측정법은 KS6518 방법에 따른다.Means the percentage of the difference between the tensile strength value (initial tensile strength) of the cured state specimen and the tensile strength value (heat resistance tensile strength) of the specimen after the cured state specimen is stored at 200 DEG C for 168 hours. That is, the amount of change in tensile strength means (heat resistance tensile strength-initial tensile strength) / initial tensile strength X 100. The composition of the present invention may have a tensile strength change of 50% or less, for example 45% or less, 40% or less, or 35% or less. The elongation and tensile strength are measured according to the KS6518 method.

“경도 변화량”이란 경화 상태 시편의 경도 값(초기 경도)과 경화 상태의 시편을 200℃에서 168hr 동안 보관한 후의 시편의 경도 값(내열 경도)의 차의 백분율을 의미한다. 즉 경도 변화량은 (내열 경도 - 초기 경도)/초기 경도 X 100을 의미한다. 본 발명의 조성물은 경도 변화량이 30%이하, 예를 들어 25%이하, 20% 이하, 또는 15% 이하일 수 있다. 본 발명의 조성물은 또한 초기 경도 값이 shore D 20 이상, 예를 들어 25 이상, 또는 30 이상이다. 상기 경도의 측정법은 JISK 6253 방법에 따른다.The "hardness change amount" means the hardness value (initial hardness) of the cured state specimen and the percentage of the difference in the hardness value (heat resistance hardness) of the specimen after the cured specimen is stored at 200 ° C for 168 hours. That is, the change in hardness means (heat resistance hardness - initial hardness) / initial hardness X 100. The composition of the present invention may have a change in hardness of 30% or less, for example, 25% or less, 20% or less, or 15% or less. The composition of the present invention also has an initial hardness value of not less than shore D 20, such as not less than 25, or not less than 30. The hardness is measured according to JIS K 6253 method.

“가요성”이란 타력에 의해서 굽혀질 수 있는 성질을 말하며, 구체적으로는 25℃에서 경화 상태의 시편의 한쪽면이 서로 맞닿을 때까지 60g/cm2의 압력으로 완전히 구부린 상태에서 10초 이상의 시간이 경과할 때까지 시편의 절단, 파괴 및 균열 등의 물리적 손상이 발생되지 않은 상태를 의미한다. 본 발명에 따른 조성물은 경화상태의 조성물을 200℃에서 168hr 보관 후에도 가요성을 유지할 수 있다.&Quot; Flexibility &quot; refers to a property that can be bent by the impact force. More specifically, at a temperature of 25 DEG C, a time of not less than 10 seconds in a completely bent state at a pressure of 60 g / cm &lt; 2 & Means that no physical damage such as cutting, fracture and cracking of the specimen occurs until the elapsed time has elapsed. The composition according to the present invention can maintain flexibility even after storing the cured composition at 200 DEG C for 168 hours.

“Me”는 메틸기,“Ph”는 페닐기, “Vi”는 비닐기를 나타낸다."Me" represents a methyl group, "Ph" represents a phenyl group, and "Vi" represents a vinyl group.

“경화상태”란 조성물이 경화된 상태를 의미하는 것으로 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어 조성물을 170℃에서 20분간 경화하고, 추가로 150℃에서 3시간 동안 경화한 상태를 의미한다.The term &quot; cured state &quot; means a state in which the composition is cured and is not particularly limited. For example, the composition is cured at 170 DEG C for 20 minutes and further cured at 150 DEG C for 3 hours.

“시편”이란 인장강도 및 신율의 경우 KS6518에 규정된 시편을 의미하고, 경도의 경우 JISK 6253에 규정된 시편을 의미하며, 가요성의 경우 두께 2mm, 가로 1cm, 세로 5cm의 시편을 의미한다..
"Specimen" means specimen specified in KS6518 for tensile strength and elongation, specimen specified in JISK 6253 for hardness, and specimen with thickness 2mm, width 1cm, and length 5cm in the case of flexibility.

본 발명의 조성물은 예를 들어 하기 화학식 1 내지 화학식 3의 화합물을 포함할 수 있다.The composition of the present invention may include, for example, compounds represented by the following formulas (1) to (3).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

(R1R2R3SiO1 /2)x·(R4R5SiO2 /2)y·(R6SiO3 /2)z (R 1 R 2 R 3 SiO 1/2) x · (R 4 R 5 SiO 2/2) y · (R 6 SiO 3/2) z

[화학식 2](2)

R7Si(OSiR8R9R10)3 R 7 Si (OSiR 8 R 9 R 10 ) 3

[화학식 3](3)

Figure 112012013119675-pat00002
Figure 112012013119675-pat00002

상기 식에서, In this formula,

R1 내지 R3 및 R8 내지 R10은 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 또는 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이고, 단 R1 내지 R3 중 하나 이상과 R8 내지 R10 중 하나 이상은 탄소수 2 내지 10의 알케닐기이고,R 1 to R 3 and R 8 to R 10 are each independently an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group, provided that at least one of R 1 to R 3 and R 8 to R 10 is an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms,

R4 내지 R7은 각각 독립적으로 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이며,R 4 to R 7 are each independently a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group,

R11, R12, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소; 또는 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이고,R 11 , R 12 , R 15 and R 16 are each independently hydrogen; Or a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group,

R13 및 R14는 각각 독립적으로 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이며,R 13 and R 14 are each independently a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group,

x, y 및 z는 각각 0<x<1, 0<y<1, 0≤z<1 및 x+y+z=1을 만족하고,x, y and z satisfy 0 <x <1, 0 <y <1, 0 <z <1 and x + y + z =

n은 1 내지 100의 정수이다. n is an integer of 1 to 100;

상기 식에서 치환기의 정의는 In the above formula,

R1 내지 R3 및 R8 내지 R10은 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 8의 알케닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이고, 단 R1 내지 R3 중 하나 이상과 R8 내지 R10 중 하나 이상은 탄소수 2 내지 8의 알케닐기이고, R 1 to R 3 and R 8 to R 10 are each independently an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, provided that at least one of R 1 to R 3 and R 8 to R &lt; 10 &gt; is an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms,

R4 내지 R7은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이며,R 4 to R 7 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,

R11, R12, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이고,R 11 , R 12 , R 15 and R 16 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,

R13 및 R14는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이며,R 13 and R 14 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,

x, y 및 z는 각각 0<x<0.7, 0.1<y,0.6, 0≤z<0.9 및 x+y+z=1을만족하고,x, y and z satisfy 0 <x <0.7, 0.1 <y, 0.6, 0 <z <0.9 and x + y + z =

n은 1 내지 30의 정수일 수 있다.and n may be an integer of 1 to 30.

상기 식에서 치환기의 정의는 예를 들어,The definition of a substituent in the above formula is, for example,

R1 내지 R3 및 R8 내지 R10은 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 4의 알케닐기, 탄소수 1 내지 4의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이고, 단 R1 내지 R3 중 하나 이상과 R8 내지 R10 중 하나 이상은 탄소수 2 내지 4의 알케닐기이고, R 1 to R 3 and R 8 to R 10 are each independently an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, provided that at least one of R 1 to R 3 and R 8 to R &lt; 10 &gt; is an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms,

R4 및 R7는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며,R 4 and R 7 are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,

R5 및 R6은 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 12의 아릴기이며,R 5 and R 6 are each independently an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,

R11, R12, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며,R 11 , R 12 , R 15 and R 16 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,

R13 및 R14는 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 12의 아릴기일 수 있다.R 13 and R 14 may each independently be an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.

상기 식에서 치환기의 정의는 구체적인 예를 들어,The definition of the substituent in the above formula is, for example,

R1 내지 R3 및 R8 내지 R10은 각각 독립적으로 비닐, 알릴, 부테닐, 또는 헥세닐, 메틸, 에틸, 프로필, 사이클로헥실, 페닐, 톨릴, 또는 나프틸이고, 단 R1 내지 R3 중 하나 이상과 R8 내지 R10 중 하나 이상은 비닐, 알릴, 부테닐, 또는 헥세닐이고, R 1 to R 3 and R 8 to R 10 are each independently vinyl, allyl, butenyl or hexenyl, methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl, phenyl, tolyl or naphthyl, provided that R 1 to R 3 And at least one of R 8 to R 10 is vinyl, allyl, butenyl, or hexenyl,

R4 내지 R7은 각각 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 사이클로헥실, 페닐, 톨릴, 또는 나프틸이며,R 4 to R 7 are each independently methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl, phenyl, tolyl, or naphthyl,

R11, R12, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 사이클로헥실, 페닐, 톨릴 또는 나프틸이고,R 11 , R 12 , R 15 and R 16 are each independently hydrogen, methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl, phenyl, tolyl or naphthyl,

R13 및 R14는 각각 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 사이클로헥실, 페닐, 톨릴 또는 나프틸이며,R 13 and R 14 are each independently methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl, phenyl, tolyl or naphthyl,

x, y 및 z는 각각 0.05≤x≤0.3, 0.1≤y≤0.4, 0.3≤z≤0.8 및 x+y+z=1을 만족하고,x, y and z satisfy the relationships 0.05? x? 0.3, 0.1? y? 0.4, 0.3? z? 0.8 and x + y + z =

n은 1 내지 5의 정수일 수 있다.and n may be an integer of 1 to 5.

본 발명의 조성물에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물은 주 수지로서 M 단위(R1R2R3SiO1 /2), D 단위(R4R5SiO2 /2) 및 T 단위(R6SiO3 /2)를 포함한다. 상기 단위 중에서 M 단위만이 반응기인 알케닐기를 가지고, D 단위 및 T 단위에는 반응기를 가지지 않아 후경화를 억제할 수 있다. In the composition of the present invention, the compound of Formula 1 as a main resin, M units (R 1 R 2 R 3 SiO 1/2), D units (R 4 R 5 SiO 2/ 2) and T units (R 6 SiO and a 3/2). Of these units, only the M unit has an alkenyl group as a reactor, and the D unit and the T unit do not have a reactor, so post curing can be suppressed.

상기 화학식 1의 화합물은 예를 들어 하기 화합물을 포함할 수 있다.The compound of formula (1) may include, for example, the following compounds.

(ViMe2SiO1 /2)x·(MePhSiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (ViMe 2 SiO 1/2) x · (MePhSiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi2MeSiO1 /2)x·(MePhSiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi 2 MeSiO 1/2) x · (MePhSiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi3SiO1 /2)x·(MePhSiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi 3 SiO 1/2) x · (MePhSiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(ViMe2SiO1 /2)x·(MePhSiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (ViMe 2 SiO 1/2) x · (MePhSiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi2MeSiO1 /2)x·(MePhSiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi 2 MeSiO 1/2) x · (MePhSiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi3SiO1 /2)x·(MePhSiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi 3 SiO 1/2) x · (MePhSiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(ViMe2SiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (ViMe 2 SiO 1/2) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi2MeSiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi 2 MeSiO 1/2) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi3SiO1 /2)x (Ph2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi 3 SiO 1/2) x (Ph 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(ViMe2SiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (ViMe 2 SiO 1/2) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi2MeSiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi 2 MeSiO 1/2) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi3SiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi 3 SiO 1/2) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(ViMe2SiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (ViMe 2 SiO 1/2) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi2MeSiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi 2 MeSiO 1/2) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi3SiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi 3 SiO 1/2) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(ViMe2SiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (ViMe 2 SiO 1/2) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi2MeSiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi 2 MeSiO 1/2) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi3SiO1 /2)x (Me2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi 3 SiO 1/2) x (Me 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(ViMePhSiO1 /2)x·(MePhSiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (ViMePhSiO 1/2) x · (MePhSiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi2PhSiO1 /2)x ·(MePhSiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi 2 PhSiO 1/2) x · (MePhSiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(ViMePhSiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (ViMePhSiO 1/2) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi2PhSiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi 2 PhSiO 1/2) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(ViMePhSiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (ViMePhSiO 1/2) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi2PhSiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi 2 PhSiO 1/2) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(ViMePhSiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (ViMePhSiO 1/2) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi2PhSiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi 2 PhSiO 1/2) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(ViMePhSiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (ViMePhSiO 1/2) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi2PhSiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi 2 PhSiO 1/2) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi Ph2SiO1 /2)x·(MePhSiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi Ph 2 SiO 1/2 ) x · (MePhSiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi2PhSiO1 /2)x·(MePhSiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi 2 PhSiO 1/2) x · (MePhSiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi Ph2SiO1 /2)x·(MePhSiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi Ph 2 SiO 1/2 ) x · (MePhSiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi Ph2SiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi Ph 2 SiO 1/2 ) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi Ph2SiO1 /2)x·(Ph2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi Ph 2 SiO 1/2 ) x · (Ph 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

(Vi Ph2SiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(PhSiO3 /2)z (Vi Ph 2 SiO 1/2 ) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (PhSiO 3/2) z

(Vi Ph2SiO1 /2)x·(Me2SiO2 /2)y·(MeSiO3 /2)z (Vi Ph 2 SiO 1/2 ) x · (Me 2 SiO 2/2) y · (MeSiO 3/2) z

상기 식에서 x, y, 및 z은 상술한 바와 같다.In the above formula, x, y, and z are as described above.

상기 화학식 1의 화합물은 화학식 1 내지 화학식 3의 화합물의 합 100 중량부에 대하여 50 내지 90 중량부, 예를 들어 55 내지 85 중량부, 또는 50 내지 80중량부로 포함될 수 있다. 화학식 1의 화합물의 함량을 상기 범위로 조절함으로써, 충분한 기계적 강도를 확보하고, 동시에 높은 가교밀도로 인한 가요성 저하를 방지할 수 있다. The compound of Formula 1 may be contained in an amount of 50 to 90 parts by weight, for example, 55 to 85 parts by weight, or 50 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the sum of the compounds represented by Formulas 1 to 3. By controlling the content of the compound of the formula (1) within the above range, sufficient mechanical strength can be ensured and, at the same time, flexibility degradation due to high crosslinking density can be prevented.

본 발명의 조성물은 상기 화학식 1의 화합물 이외에 가교제로서 화학식 2 및 3의 화합물을 포함한다.The composition of the present invention includes the compounds of formulas (2) and (3) as a crosslinking agent in addition to the compound of formula (1).

화학식 2의 화합물은 T 단위 말단에 알케닐기인 반응기를 가진다.The compound of formula (2) has a reactive group which is an alkenyl group at the T unit end.

상기 화학식 2의 화합물은 예를 들어 하기 화합물을 포함할 수 있다.The compound of formula (2) may include, for example, the following compounds.

PhSi(OSiMe2Vi)3 PhSi (OSiMe 2 Vi) 3

PhSi(OSiMePhVi)3 PhSi (OSiMePhVi) 3

PhSi(OSiPh2Vi)3 PhSi (OSiPh 2 Vi) 3

PhSi(OSiMeVi2)3 PhSi (OSiMeVi 2 ) 3

PhSi(OSiPhVi2)3 PhSi (OSiPhVi 2 ) 3

PhSi(OSiVi3)3 PhSi (OSiVi 3 ) 3

MeSi(OSiMe2Vi)3 MeSi (OSiMe 2 Vi) 3

MeSi(OSiMePhVi)3 MeSi (OSiMePhVi) 3

MeSi(OSiPh2Vi)3 MeSi (OSiPh 2 Vi) 3

MeSi(OSiMeVi2)3 MeSi (OSiMeVi 2 ) 3

MeSi(OSiPhVi2)3 MeSi (OSiPhVi 2 ) 3

MeSi(OSiVi3)3 MeSi (OSiVi 3 ) 3

상기 화학식 2의 화합물은 화학식 1 내지 화학식 3의 화합물의 합 100 중량부에 대하여 1 내지 15 중량부, 예를 들어 3 내지 12 중량부, 또는 5 내지 8중량부로 포함될 수 있다. 화학식 2의 화합물의 함량을 상기 범위로 조절함으로써, 가교반응이 완전히 진행되지 못해 후경화가 진행되는 것을 방지하고, 과량의 미반응 알케닐기에 의한 황변 발생을 예방할 수 있다. The compound of Formula 2 may be contained in an amount of 1 to 15 parts by weight, for example, 3 to 12 parts by weight, or 5 to 8 parts by weight based on 100 parts by weight of the sum of the compounds represented by Formulas 1 to 3. By controlling the content of the compound of the formula (2) within the above range, it is possible to prevent the post-curing from progressing due to the inability of the crosslinking reaction to proceed completely, and to prevent yellowing caused by excessive unreacted alkenyl groups.

화학식 3의 화합물은 MD 구조를 가지고 M 단위 말단에만 반응기수소를 가진다.The compound of formula (III) has a MD structure and has only reactor hydrogen at the M unit end.

상기 화학식 3의 화합물은 예를 들어 하기 화합물을 포함할 수 있다.The compound of formula (3) may include, for example, the following compounds.

Figure 112012013119675-pat00003
Figure 112012013119675-pat00003

Figure 112012013119675-pat00004
Figure 112012013119675-pat00004

Figure 112012013119675-pat00005
Figure 112012013119675-pat00005

Figure 112012013119675-pat00006
Figure 112012013119675-pat00006

Figure 112012013119675-pat00007
Figure 112012013119675-pat00007

상기 식에서 n은 상술한 바와 같다.Wherein n is as described above.

상기 화학식 3의 화합물은 화학식 1 내지 화학식 3의 화합물의 합 100 중량부에 대하여 5 내지 45 중량부, 예를 들어 10 내지 40 중량부, 또는 15 내지 30중량부로 포함될 수 있다. 화학식 3의 화합물의 함량이 상기 범위 보다 낮은 경우에는 충분한 가교밀도 확보가 어려워 미경화가 발생하거나 기계적 물성이 저하될 수 있고, 상기 범위보다 높은 경우에는 과량의 수소반응기로 인하여 경화시 탈수소 반응으로 인한 봉지재 내부의 공극 형성 및 표면 보이드 형성으로 광효율 저하가 발생할 수 있다. The compound of Formula 3 may be included in an amount of 5 to 45 parts by weight, for example, 10 to 40 parts by weight, or 15 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the sum of the compounds represented by Formulas 1 to 3. When the content of the compound of the general formula (3) is lower than the above range, it is difficult to secure a sufficient crosslinking density, resulting in uncured or deteriorated mechanical properties. If the content is higher than the above range, The formation of voids in the ash and the formation of surface voids may cause a decrease in light efficiency.

본 발명에 따른 조성물은 또한 하이드로실릴화 반응용 촉매를 추가로 포함할 수 있다. 하이드로실릴화 반응용 촉매는 화학식 1 또는 화학식 2의 알케닐 그룹과 화학식 3의 규소-결합 수소원자 사이에 하이드로실릴화 반응을 촉진하는 촉매이다. 하이드로실릴화 촉매는 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어 백금족 원소 또는 백금족 원소 화합물 형태인 촉매를 사용할 수 있다. 예를 들어 백금계 촉매, 로듐계 촉매 및 팔라듐계 촉매를 사용할 수 있다.The composition according to the present invention may further comprise a catalyst for the hydrosilylation reaction. The catalyst for hydrosilylation reaction is a catalyst for promoting the hydrosilylation reaction between the alkenyl group of the general formula (1) or (2) and the silicon-bonded hydrogen atom of the general formula (3). The hydrosilylation catalyst is not particularly limited, and for example, a catalyst in the form of a platinum group element or a platinum group element compound can be used. For example, a platinum-based catalyst, a rhodium-based catalyst, and a palladium-based catalyst may be used.

백금계 촉매는 백금 미분말, 백금흑(platinum black), 염화백금산, 염화백금산의 알콜 변성물, 염화백금산/디올레핀 착체, 백금/올레핀 착체, 백금-카보닐 착체[예: 백금 비스(아세토아세테이트) 및 백금 비스(아세틸아세토네이트)], 염화백금산/알케닐실록산 착체(예: 염화백금산/디비닐테트라메틸디실록산 착체 및 염화백금산/테트라비닐테트라메틸사이클로테트라실록산 착체), 백금/알케닐실록산 착체(예: 백금/디비닐테트라메틸디실록산착체 및 백금/테트라비닐테트라메틸사이클로테트라실록산 착체) 및 염화백금산과 아세틸렌 알콜의 착체로 예시될 수 있다. 백금/알케닐실록산 착체가 하이드로실릴화 반응 성능의 측면에서 바람직하다. Examples of the platinum-based catalyst include platinum fine powder, platinum black, chloroplatinic acid, an alcohol modified product of chloroplatinic acid, a chloroplatinic acid / diolefin complex, a platinum / olefin complex, a platinum-carbonyl complex such as platinum bis (acetoacetate) (Chloroplatinic acid / divinyltetramethyldisiloxane complex and chloroplatinic acid / tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane complex), platinum / alkenylsiloxane complexes (e.g., platinum bis (acetylacetonate)], chloroplatinic acid / alkenylsiloxane complexes For example, platinum / divinyltetramethyldisiloxane complexes and platinum / tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane complexes) and complexes of chloroplatinic acid with acetylenic alcohols. Platinum / alkenylsiloxane complexes are preferable in terms of hydrosilylation reaction performance.

상기 착체를 위한 알케닐실록산은 1,3-디비닐-1,1,3,3-테트라메틸디실록산, 1,3,5,7-테트라메틸-1,3,5,7-테트라비닐사이클로테트라실록산, 앞의 알케닐실록산의 메틸 부분을, 예를 들면, 에틸, 페닐 등으로 치환함으로써 수득한 알케닐실록산 올리고머 및 앞의 알케닐실록산의 비닐을, 예를 들면, 알릴 또는 헥세닐로 치환함으로써 수득한 알케닐실록산 올리고머로 예시될 수 있다. 우수한 안정성을 갖는 백금/알케닐실록산 착체를 생성하기 때문에 1,3-디비닐-1,1,3,3-테트라메틸디실록산이 바람직하다.The alkenyl siloxane for the complex is preferably 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinyl cyclo Tetrasiloxane, an alkenylsiloxane oligomer obtained by substituting the methyl moiety of the foregoing alkenylsiloxane with, for example, ethyl, phenyl or the like, and vinyl of the foregoing alkenylsiloxane with, for example, allyl or hexenyl &Lt; / RTI &gt; 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane is preferred because it produces platinum / alkenylsiloxane complexes with excellent stability.

상기 착체는 자일렌 등의 유기 용매에 용해된 상태로 조성물에 포함될 수 있다.The complex may be contained in the composition in a state dissolved in an organic solvent such as xylene.

하이드로실릴화 반응용 촉매는 본 발명의 조성물의 경화를 촉진하는 양으로 배합되지만, 이의 배합량은 특별히 한정되지 않는다. 하이드로실릴화 반응용 촉매는 화학식 1 내지 화학식 3의 화합물을 포함하는 조성물 100 중량부에 대하여 1 내지 5 ppm, 예를 들어 1.5 내지 4 ppm으로 포함될 수 있다. 1 ppm 미만으로 포함되는 경우 경화가 부족할 수 있고, 5 ppm을 초과하여 포함되는 경우 착색과 같은 문제가 발생할 수 있다.The catalyst for the hydrosilylation reaction is compounded in such an amount as to accelerate the curing of the composition of the present invention, but the amount thereof is not particularly limited. The catalyst for the hydrosilylation reaction may be contained in an amount of 1 to 5 ppm, for example, 1.5 to 4 ppm, based on 100 parts by weight of the composition containing the compounds of the formulas (1) to (3). If it is contained in an amount of less than 1 ppm, curing may be insufficient, and if it exceeds 5 ppm, problems such as coloring may occur.

본 발명의 조성물은 접촉하는 기재에 대한 접착력의 부가적 개선을 제공하기 위하여, 접착성 부여제 또는 접착촉진제를 추가로 포함할 수 있다. 이 접착촉진제는 바람직하게는 하이드로실릴화 반응-경화성 오르가노폴리실록산 조성물용으로 공지된 것과 같은 유기규소 화합물계 접착촉진제이다. 통상적인 예로, 각 경우에 트리알콕시실옥시 그룹(예: 트리메톡시실옥시, 트리에톡시실옥시) 또는 트리알콕시실릴알킬 그룹(예: 트리메톡시실릴에틸, 트리에톡시실릴에틸)과, 하이드로실릴 그룹, 규소-결합 알케닐 그룹(예: 비닐, 알릴), 규소-결합 메타크릴옥시알킬 그룹(예: 3-메타크릴옥시프로필) 및 규소-결합 에폭시-관능성 알킬그룹(예: 3-글리시독시프로필, 4-글리시독시부틸, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸 및 3-(3,4-에폭시사이클로헥실)프로필)으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 관능기를 갖는, 오르가노실란 및 대략 4 내지 20개의 규소 원자를 갖는 직쇄상, 분지상 및 환상 구조의 오르가노실록산 올리고머가 있다. 다른 통상적인 예로 에폭시-관능성 에틸폴리실리케이트 및 아미노알킬트리알콕시실란과 에폭시-관능성 알킬트리알콕시실란의 반응물이 있다.The composition of the present invention may further comprise an adhesion promoter or an adhesion promoter to provide an additional improvement in adhesion to the substrate to be contacted. The adhesion promoter is preferably an organosilicon compound adhesion promoter such as those known for hydrosilylation reaction-curable organopolysiloxane compositions. Typical examples include, in each case, a trialkoxysilyloxy group (e.g., trimethoxysilyloxy, triethoxysiloxyl) or trialkoxysilylalkyl group (e.g., trimethoxysilylethyl, triethoxysilylethyl) (E.g., vinyl, allyl), silicon-bonded methacryloxyalkyl groups (such as 3-methacryloxypropyl), and silicon-bonded epoxy-functional alkyl groups Having a functional group selected from the group consisting of glycidoxypropyl, 4-glycidoxybutyl, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl and 3- (3,4-epoxycyclohexyl) And organosiloxane oligomers of linear, branched and cyclic structure having approximately 4 to 20 silicon atoms. Another common example is the reaction of an epoxy-functional ethyl polysilicate and an amino-alkyl trialkoxy silane with an epoxy-functional alkyl trialkoxy silane.

구체적인 예는 비닐트리메톡시실란, 알릴트리메톡시실란, 알릴트리에톡시실란, 하이드로겐트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 2-(3,4-에톡시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란과 3-아미노프로필트리에톡시실란의 반응물, 실란올-말단봉쇄된 메틸비닐실록산 올리고머와 3-글리시독시프로필트리메톡시실란의 축합 반응물, 실란올-말단봉쇄된 메틸비닐실록산 올리고머와 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란의 축합 반응물 및 트리스(3-트리메톡시실릴프로필)이소시아누레이트을 포함하나 이에 제한되지 않는다.Specific examples are vinyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, hydrogentriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 2 - (3,4-ethoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane and A reaction product of 3-aminopropyltriethoxysilane, a condensation reaction product of a silanol-terminated methylvinylsiloxane oligomer and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, a silanol-terminated methylvinylsiloxane oligomer, But are not limited to, a condensation reaction product of t-butoxycarbonyloxypropyltriethoxysilane and a condensation reaction product of tris (3-trimethoxysilylpropyl) isocyanurate.

본 발명의 조성물은 또한 본 발명의 목적에 손상을 주지 않는 한, 무기질 충전제(예: 실리카, 유리, 알루미나, 산화아연 등); 실리콘 고무 분말; 수지 분말(예: 실리콘 수지, 폴리메타크릴레이트 수지 등); 내열제; 산화방지제; 라디칼 스케벤져; 광안정제; 염료; 안료; 난연성 부가제 및 반응지연제 등으로부터 선택된 부가의 임의 성분으로서 배합할 수 있다. 반응지연제는 예를 들어 2-Phenyl-3-butyn-2-ol 등을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.Compositions of the present invention may also contain inorganic fillers (e.g., silica, glass, alumina, zinc oxide, etc.), as long as they do not impair the objects of the present invention; Silicone rubber powder; Resin powder (e.g., silicone resin, polymethacrylate resin, etc.); Heat resisting agent; Antioxidants; Radical scavenger; Light stabilizer; dyes; Pigments; A flame retardant additive and a reaction retarder. For example, 2-Phenyl-3-butyn-2-ol may be used as the reaction retarder, but the present invention is not limited thereto.

본 발명은 또한 본 발명에 따른 상기 조성물의 경화물을 포함하는 발광 다이오드 소자용 봉지재 및 이를 포함하는 발광 다이오드 장치에 관한 것이다.The present invention also relates to a sealing material for a light emitting diode device comprising a cured product of the composition according to the present invention and a light emitting diode device including the same.

이하 본 발명의 발광 다이오드 장치를 이제 상세히 기술할 것이다.Hereinafter, the light emitting diode device of the present invention will be described in detail.

본 발명의 발광 다이오드 장치는 그 안에 발광 다이오드 소자가 앞서 기술한 본 발며에 따른 조성물의 경화물에 의해 봉지됨을 특징으로 한다. 본 발명에 사용된 조성물은 이러한 발광 다이오드 소자 이외에 반도체 레이저 소자, 유기 EL, 포토다이오드(photodiode) 소자, 포토트랜지스터 소자, 고체 촬상 소자 및 포토커플러용 수광 및 발광 소자에 사용될 수 있음은 물론이다.The light emitting diode device of the present invention is characterized in that the light emitting diode device is sealed therein by the cured product of the composition according to the present invention. It is needless to say that the composition used in the present invention can be used for semiconductor laser devices, organic EL devices, photodiode devices, phototransistor devices, solid-state image pickup devices, photocouplers, and light emitting devices in addition to such light emitting diode devices.

도 1은 본 발명의 대표적인 발광 다이오드 장치의 단면도이다. 도 1에 제시된 발광 다이오드(LED) 장치(10)에서, 발광 다이오드(LED) 칩(13)은 다이 패드(16) 위에 다이 결합되고, 이 발광 다이오드(LED) 칩(13)은 본딩 와이어(12)에 의해 내부 리드(14)에 와이어 결합된다. 이 발광 다이오드(LED) 칩(13)은 본 발명의 발광 다이오드 소자 봉지제의 경화물(11)에 의해 봉지된다.1 is a cross-sectional view of an exemplary light emitting diode device of the present invention. 1, a light emitting diode (LED) chip 13 is die bonded onto a die pad 16, and the light emitting diode (LED) chip 13 is bonded to a bonding wire 12 To the inner lead 14 by wire bonding. The light emitting diode (LED) chip 13 is encapsulated by the cured product 11 of the light emitting diode element encapsulant of the present invention.

도 1에 제시된 표면 실장형 발광 다이오드(LED) 장치(10)를 제조하기 위하여, 발광 다이오드(LED) 칩(13)을 다이 패드(16) 위에 다이 결합시키고, 발광 다이오드(LED) 칩(13)은 본딩 와이어(12)에 의해 내부 리드(14)에 와이어 결합시킨다. 그 다음에, 본 발명의 발광 다이오드 소자 봉지제, 특히 봉합재를 도입시키고, 그 후에 바람직하게는 탈기시킨 다음, 50 내지 200℃로 가열함으로써 경화시킨다. (LED) chip 13 is die-bonded onto the die pad 16 and a light emitting diode (LED) chip 13 is bonded to the die pad 16 in order to manufacture the surface-mounted LED device 10 shown in FIG. Is wire-bonded to the inner lead (14) by the bonding wire (12). Then, the light-emitting diode element encapsulant of the present invention, particularly a sealing material, is introduced, and thereafter, preferably, deaerated and then cured by heating at 50 to 200 ° C.

이하, 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로, 본 발명의 권리범위가 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and drawings. The following examples serve to illustrate the present invention and are not intended to limit the scope of the present invention.

[제조예 1] a-1(MVi , Me2 0 .15DMe , Ph 0 .25TPh 0 .60)의 제조Preparation of [Preparation Example 1] a-1 (M Vi , Me2 0 .15 D Me, Ph 0 .25 T Ph 0 .60)

콘덴서, 온도계, 질소주입용 라인 및 교반기가 장착된 플라스크에 페닐트리메톡시실란 118.98g, 디비닐테트라메틸디실록산 13.98g, α,ω-디메틸하이드록시실릴-메틸페닐폴리실록산 27.13g, 톨루엔 100g, 메탄술폰산 0.25g을 투입하고 교반하면서 증류수를 50g을 서서히 적가하였다. 반응기의 열매를 가열하여 반응부산물을 서서히 회수하였다. 그 후 반응물이 중성이 될 때까지 수세를 진행하였다. 오르가노실록산이 포함된 유기층만 회수하여 별도의 플라스크에 투입하고 승온하여 추가적으로 축합수를 제거하는 공정을 거쳤다. 다음 단계로 포타슘하이드록사이드 20% 수용액 0.16g을 투입하고 승온하여 잔량의 실라놀기를 제거하였다. 마지막 잔류 용제를 감압증류로 제거하여 비닐함량 1.2mmol/g, 굴절율 1.552, 휘발분 0.8%인 망상구조를 가지는 오르가노폴리실록산 100g을 얻었다.A flask equipped with a condenser, a thermometer, a line for nitrogen injection and a stirrer was charged with 118.98 g of phenyltrimethoxysilane, 13.98 g of divinyltetramethyldisiloxane, 27.13 g of?,? - dimethylhydroxysilylmethylphenylpolysiloxane, 100 g of toluene, 0.25 g of sulfonic acid was added and 50 g of distilled water was slowly added dropwise while stirring. The reactor was heated to slowly recover reaction by-products. Thereafter, washing with water was carried out until the reactant became neutral. Only an organic layer containing an organosiloxane was recovered and added to a separate flask, and the temperature was elevated to remove the condensed water additionally. In the next step, 0.16 g of a 20% aqueous solution of potassium hydroxide was added and the temperature was raised to remove the remaining silanol groups. The final residual solvent was removed by distillation under reduced pressure to obtain 100 g of organopolysiloxane having a network content of 1.2 mmol / g, a refractive index of 1.552 and a volatile content of 0.8%.

[제조예 2] a-2 (MVi , Me2 0 .15DMe , Ph 0 .2TPh 0 .65)[Preparation Example 2] a-2 (M Vi , Me2 0 .15 D Me, Ph 0 .2 T Ph 0 .65)

상기 제조예 1에서 페닐트리메톡시실란 128.9g, α,ω-디메틸하이드록시실릴-메틸페닐폴리실록산 21.7g을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 비닐함량 1.2mmol/g, 굴절율 1.554, 휘발분 0.8%인 망상구조를 가지는 오르가노폴리실록산 100g을 얻었다.In the same manner as in Preparation Example 1 except that 128.9 g of phenyltrimethoxysilane and 21.7 g of?,? - dimethylhydroxysilyl-methylphenylpolysiloxane were used in Production Example 1, a vinyl content of 1.2 mmol / g, a refractive index of 1.554, 0.8 g of an organopolysiloxane having a network structure was obtained.

[제조예 3] a-3 (MVi , Me2 0 .15DMe , Ph 0 .15TPh 0 .7)[Preparation Example 3] a-3 (M Vi , Me2 0 .15 D Me, Ph 0 .15 T Ph 0 .7)

상기 제조예 1에서 페닐트리메톡시실란 138.81g, α,ω-디메틸하이드록시실릴-메틸페닐폴리실록산 16.28g을 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 비닐함량 1.2mmol/g, 굴절율 1.556, 휘발분 0.8%인 망상구조를 가지는 오르가노폴리실록산 100g을 얻었다.In the same manner as in Production Example 1 except that 138.81 g of phenyltrimethoxysilane and 16.28 g of?,? - dimethylhydroxysilyl-methylphenylpolysiloxane were used in Production Example 1, a vinyl content of 1.2 mmol / g, a refractive index of 1.556, 0.8 g of an organopolysiloxane having a network structure was obtained.

[비교제조예 1] a-4 (DMe , Ph 0 .15DMe , Vi 0 .15TPh 0 .7)[Comparative Preparation Example 1] a-4 (D Me , Ph 0 .15 D Me , Vi 0 .15 T Ph 0 .7 )

상기 제조예 1에서 디비닐테트라메틸디실록산 13.98g을 테트라비닐테트라메틸싸이클로테트라실록산 12.3g으로 한 것을 제외하고 동일하게 하여 비닐함량 1.2mmol/g, 굴절율 1.558, 휘발분 0.8%이고 망상구조를 가지는 오르가노폴리실록산 100g을 얻었다.In the same manner as in Production Example 1, except that 12.3 g of tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane was replaced by 13.98 g of divinyltetramethyldisiloxane, the same procedure as in Production Example 1 was repeated to give 1.2 g / g of vinyl, 1.28 g of refractivity and 0.8% Thereby obtaining 100 g of the organopolysiloxane.

[제조예 4] b-2 (PhSi(OSiMe2Vi)3)의 제조[Preparation Example 4] Preparation of b-2 (PhSi (OSiMe 2 Vi) 3 )

콘덴서, 온도계, 질소주입용 라인 및 교반기가 장착된 플라스크에 증류수 61g, 디비닐테트라메틸디실록산 419g, 트리플로로메탄술폰산 1.02g을 투입 및 60℃로 승온한 후 페닐트리메톡시실란 297g을 서서히 적가 후 반응이 완결될 때까지 유지하였다. 다음 단계로 반응물이 중성이 될 때까지 수세를 진행하였다. 오르가노폴리실록산이 함유된 유기층을 별도의 플라스크에 투입하여 저비점 반응물을 감압증류로 제거하여 비닐함량 6.1mmol/g, 굴절율 1.48, 점도 10.9cP인 오르가노폴리실록산을 얻었다.61 g of distilled water, 419 g of divinyltetramethyldisiloxane and 1.02 g of trifluoromethanesulfonic acid were charged into a flask equipped with a condenser, a thermometer, a line for injecting nitrogen, and a stirrer, and the temperature was raised to 60 ° C. 297 g of phenyltrimethoxysilane was gradually added The reaction was continued until the reaction was completed. The next step was washing with water until the reaction became neutral. The organopolysiloxane-containing organic layer was put in a separate flask to remove the low boiling point reaction product by vacuum distillation to obtain an organopolysiloxane having a vinyl content of 6.1 mmol / g, a refractive index of 1.48 and a viscosity of 10.9 cP.

[비교제조예 2] b-1의 제조 [Comparative Production Example 2] Production of b-1

<α,ω-디메틸하이드록시실릴-메틸페닐폴리실록산의 제조>Preparation of < [alpha], [omega] -dimethylhydroxysilyl-methylphenylpolysiloxane >

플라스크내에 톨루엔 100 g, 물 161.4 g의 혼합물을 저온 교반한 상태에서 메틸페닐디클로로실란 100g을 천천히 적하ㆍ가수분해하고, 승온하여 중합하였다.100 g of methylphenyldichlorosilane was slowly added dropwise to the flask while stirring a mixture of 100 g of toluene and 161.4 g of water at low temperature and hydrolysis.

그 후 교반을 멈추고 정치상태로 유지하여 층분리 시킨 후 폐수(HCl+H2O)층을 플라스크에서 분리해 낸 후, 동일량의 물을 투입하여 수세를 진행하였다. 수세과정을 폐수층이 중성이 될때까지 반복하여 진행한 후 마지막 단계에서 폐수층을 제거한 후, 말단이 실라놀인 메틸페닐 오르가노폴리실록산의 톨루엔 용액을 제조하였다. 저비점 반응물을 스트립하여, 굴절율 1.54이며 점도 600 cP인 α,ω-디메틸하이드록시실릴-메틸페닐폴리실록산을 얻었다. Thereafter, the stirring was stopped and the mixture was kept in a stationary state to separate the layers. The wastewater (HCl + H 2 O) layer was separated from the flask, and then the same amount of water was added thereto. The washing process was repeated until the wastewater layer became neutral. After the wastewater layer was removed at the final stage, a toluene solution of methylphenyl organopolysiloxane having a terminal silanol group was prepared. The low boiling point reaction product was stripped to obtain an?,? - dimethylhydroxysilyl-methylphenylpolysiloxane having a refractive index of 1.54 and a viscosity of 600 cP.

< α,ω-비닐디메틸실릴-메틸페닐폴리실록산의 제조>Preparation of < [alpha], [omega] -vinyldimethylsilyl-methylphenylpolysiloxane &

콘덴서, 온도계, 질소주입용 라인 및 교반기가 장착된 플라스크에 상기의 디메틸하이드록시실릴-메틸페닐폴리실록산 100g, 디비닐테트라메틸디실록산 8.5g, 및 액시드클레이(Acid clay)를 3.2g 투입 후 승온하여 반응물의 휘발분을 측정하여 12% 이하게 되었을 때 반응을 종료하고 상온으로 냉각하였다.3.2 g of the above-mentioned dimethylhydroxysilyl-methylphenylpolysiloxane, 8.5 g of divinyltetramethyldisiloxane and Acid clay were charged into a flask equipped with a condenser, a thermometer, a line for injecting nitrogen, and a stirrer, When the volatile content of the reaction product was measured and found to be 12% or less, the reaction was terminated and cooled to room temperature.

반응물을 필터하여 나온 무색투명한 오르가노폴리실록산을 박막증류장치를 이용하여 휘발분을 제거함으로써 휘발분이 0.35%이며 비닐함량 0.278mmol/g이며 굴절율 1.543이고 점도 4,943cP인 점성의 오르가노폴리실록산을 얻었다.The colorless transparent organopolysiloxane obtained by filtering the reactants was removed by volatilization using a thin-film distillation apparatus to obtain a viscous organopolysiloxane having a volatile content of 0.35%, a vinyl content of 0.278 mmol / g, a refractive index of 1.543 and a viscosity of 4,943 cP.

상기의 오르가노폴리실록산은 핵자기공명 분석을 통해 상기의 비닐함량을 분석해 내었으며 또한 목표로 했던 하기 구조로 합성되었음을 확인하였다The above organopolysiloxane was analyzed by nuclear magnetic resonance analysis for the above vinyl content, and it was confirmed that the organopolysiloxane was also synthesized with the aimed structure shown below

Figure 112012013119675-pat00008
Figure 112012013119675-pat00008

[제조예 5] c-1의 제조[Preparation Example 5] Preparation of c-1

콘덴서, 온도계, 질소주입용 라인 및 교반기가 장착된 플라스크에 증류수 27g, 트리플로로메틸술폰산 0.77g, 디페닐디메톡시실란 244g 투입하고 테트라메틸디실록산 269g을 서서히 적가한 후 반응이 완결될 때까지 반응을 유지하였다. 그 후 반응물이 중성이 될 때까지 수세를 진행하였다. 실록산 성분을 다른 플라스크로 옮겨 저비점 반응물을 감압증류하여 최종적으로 점도 4.63cP, 굴절율 1.498, Si-H함량이 6.02mmol/g인 무색투명한 하기 화학식의 오르가노폴리실록산을 얻었다.27 g of distilled water, 0.77 g of trifluoromethylsulfonic acid and 244 g of diphenyldimethoxysilane were added dropwise to a flask equipped with a condenser, a thermometer, a line for nitrogen injection and a stirrer, and 269 g of tetramethyldisiloxane was slowly added dropwise thereto. The reaction was maintained. Thereafter, washing with water was carried out until the reactant became neutral. The siloxane component was transferred to another flask, and the low boiling point reaction product was distilled under reduced pressure to finally obtain colorless transparent organopolysiloxane having a viscosity of 4.63 cP, a refractive index of 1.498 and an Si-H content of 6.02 mmol / g.

Figure 112012013119675-pat00009
Figure 112012013119675-pat00009

[비교제조예 3] c-2의 제조[Comparative Preparation Example 3] Preparation of c-2

콘덴서, 온도계, 질소주입용 라인 및 교반기가 장착된 플라스크에 톨루엔 172g, 증류수 438g을 넣고 저온에서 디클로로실란 253g, 디메틸디클로로실란 129g, 톨루엔 172g의 혼합물을 서서히 적가하였다. 그 후 승온하여 반응을 진행하고 반응물이 중성이 될 때까지 수세를 진행하였다. 세척의 마지막 단계에서 물층을 분리하여 톨루엔에 희석되어 있는 α,ω-디메틸하이드록시실릴-(디페닐실록시)(메틸하이드로겐실록시) 구조의 오르가노폴리실록산을 얻을 수 있었다. In a flask equipped with a condenser, a thermometer, a line for injecting nitrogen, and a stirrer, 172 g of toluene and 438 g of distilled water were placed, and a mixture of 253 g of dichlorosilane, 129 g of dimethyldichlorosilane and 172 g of toluene was slowly added dropwise at low temperature. Thereafter, the reaction was allowed to proceed by heating, and washing was continued until the reactant became neutral. At the last stage of the washing, the water layer was separated to obtain an organopolysiloxane having an α, ω-dimethylhydroxysilyl- (diphenylsiloxy) (methylhydrogensiloxy) structure diluted in toluene.

별도의 콘덴서, 온도계, 질소주입용 라인 및 교반기가 장착된 플라스크에 상기에서 얻어진 α,ω-디메틸하이드록시실릴-(디페닐실록시)(메틸하이드로겐실록시) 구조의 오르가노폴리실록산 201g, 테트라메틸디실록산 21g 및 액시드클레이(acid clay) 11g을 투입하고 반응한 후 반응물의 휘발분이 12% 이하임을 확인하여 반응을 종료하였다. 그 후 고상의 반응촉매인 액시드클레이(acid clay)를 필터하여 제거하고 남은 오르가노폴리실록산을 감압증류하여 점도 52cP, 굴절율 1.52, Si-H 함량 5.7mmol/g인 하기 화학식의 오르가노폴리실록산을 얻었다.In a flask equipped with a separate condenser, a thermometer, a line for injecting nitrogen, and a stirrer, 201 g of the organopolysiloxane having an α, ω-dimethylhydroxysilyl- (diphenylsiloxy) (methylhydrogensiloxy) structure obtained in the above, 21 g of methyldisiloxane and 11 g of acid clay were added and reacted, and it was confirmed that the volatile content of the reaction product was 12% or less, and the reaction was terminated. Thereafter, acid clay, which is a solid phase reaction catalyst, was filtered out and the remaining organopolysiloxane was distillated under reduced pressure to obtain an organopolysiloxane of the following formula, having a viscosity of 52 cP, a refractive index of 1.52, and an Si-H content of 5.7 mmol / g .

Figure 112012013119675-pat00010
Figure 112012013119675-pat00010

[실시예 및 비교예][Examples and Comparative Examples]

상기 제조예 및 비교제조예에서 제조된 실록산을 접착 부여제로 GPTMS(Glycidoxypropyltrimethoxysilane), 촉매로서 백금계 촉매(f)와 반응지연제로서 2-Phenyl-3-butyn-2-ol(g)을 혼합하여 하기 표 1의 비율로 혼합하여 조성물을 제조하였다.The siloxane prepared in the preparation examples and comparative preparation examples was mixed with GPTMS (Glycidoxypropyltrimethoxysilane) as an adhesion promoter, platinum catalyst (f) as a catalyst and 2-Phenyl-3-butyn-2-ol Were mixed in proportions shown in Table 1 below to prepare a composition.

백금계 촉매는 하기 화학식의 화합물이 자일렌에 2중량%가 되는 양으로 희석된 것을 사용하였다.The platinum-based catalyst was diluted with an amount of 2% by weight of the compound of the following formula in xylene.

Figure 112012013119675-pat00011
Figure 112012013119675-pat00011

조성Furtherance 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 a-1a-1 7070             a-2a-2   7070           a-3a-3     7070 6060 5252     a-4a-4           6060 7070 b-1b-1       13.513.5 2727 13.513.5   b-2b-2 77 77 77 6.56.5   6.56.5 77 c-1c-1 2222 2222 2222 1919   1919 2222 c-2c-2         2020   2020 ee 1One 1One 1One 1One 1One 1One 1One ff 2.52.5 2.52.5 2.52.5 2.52.5 2.52.5 2.52.5 2.52.5 gg 250250 250250 250250 250250 250250 250250 250250

상기 표 1에서, a, b, c, d 및 e 조성의 양은 중량부를 의미하고, f 및 g 조성의 양은 a, b, c, d 및 e 총량에 대한 ppm이다.In Table 1, the amounts of a, b, c, d, and e compositions refer to parts by weight, and the amounts of f and g compositions are ppm relative to the total amounts a, b, c, d, and e.

[시험예 1] 조성물의 물성 측정[Test Example 1] Measurement of physical properties of composition

[경도][Hardness]

폴리오르가노실록산 경화시편은 6mm의 간격을 두고 있는 몰드를 사용하여 170℃ 20분간 경화후, 몰드에서 탈형하고, 150℃ 오븐에서 3시간동안 경화하였다. 경화물의 경도는 JISK 6253에 의거한 타입 D 듀로미터로 측정하였다. The polyorganosiloxane cured specimens were cured at 170 DEG C for 20 minutes using a mold having a spacing of 6 mm, demolded in the mold, and cured in an oven at 150 DEG C for 3 hours. The hardness of the cured product was measured with a Type D durometer according to JISK 6253.

내열 조건은 상기와 동일한 방법으로 제작한 폴리오르가노실록산 경화시편을 추가로 200℃ 오븐에서 168시간동안 보관후 동일 방법으로 측정하였다.The heat-resistant conditions were the same as that for the polyorganosiloxane cured specimens prepared in the same manner as above, after further storing in a 200 ° C oven for 168 hours.

[인장, 신율][Tensile, Elongation]

폴리오르가노실록산 경화시편은 2mm의 간격을 두고 있는 몰드를 사용하여 170℃ 20분간 경화후, 몰드에서 탈형하고, 150℃ 오븐에서 3시간동안 경화하였다. 경화물의 인장 및 신율은 KS6518에 의거한 방법으로 측정하였다. The polyorganosiloxane cured specimen was cured at 170 DEG C for 20 minutes using a mold having a gap of 2 mm, then demolded in a mold, and cured in an oven at 150 DEG C for 3 hours. The tensile and elongation of the cured product was measured by a method based on KS6518.

내열 조건은 상기와 동일한 방법으로 제작한 폴리오르가노실록산 경화시편을 추가로 200℃ 오븐에서 168시간동안 보관후 동일 방법으로 측정하였다.The heat-resistant conditions were the same as that for the polyorganosiloxane cured specimens prepared in the same manner as above, after further storing in a 200 ° C oven for 168 hours.

[시험예 2] LED PKG의 물성 [Test Example 2] Properties of LED PKG

표면 실장형 LED 리드프레임은 정진넥스텍의 open tool, top-view 3528 4 pad “B”type(정진넥스트사)을 사용하였고, 상기의 리드프레임에 다이-본딩, 와이어-본딩하였다. 폴리오르가노 실록산 조성물을 디스펜싱하여 80℃의 오븐에서 1시간 경화 후 150℃ 1시간 경화반응을 진행하여 각 실험당 1개의 리드프레임 (표면실장형 LED 64개)를 제조하였다.The surface mounted LED lead frame was die-bonded and wire-bonded to the above lead frame using an open tool, top-view 3528 4 pad "B" type (Jingjin NeXT) from JINJINEXTECH. The polyorganosiloxane composition was dispensed, cured in an oven at 80 캜 for 1 hour, and cured at 150 캜 for 1 hour to prepare one lead frame (64 surface-mounted LEDs) per each test.

[열충격][Thermal shock]

열충격: -40℃ ~ 110℃까지의 온도구간을 갖는 실험에서 -40℃에서 20분, 110℃에서 20분씩 유지하는 실험을 총 10회 실시하였다.Thermal shock: Experiments were carried out for 10 minutes at -40 ° C for 20 minutes and at 110 ° C for 20 minutes in an experiment with a temperature range of -40 ° C to 110 ° C.

[MSL][MSL]

60℃, 90%의 항온항습조건에서 168시간 동안 보관후, reflow (최고온도 260℃)를 총 3회 실시하였다.After 168 hours of storage at 60 ° C and 90% of constant temperature and humidity, reflow (maximum temperature 260 ° C) was performed three times in total.

[1000시간 고온신뢰성][1000 hours high temperature reliability]

85℃의 항온조건에서 1000시간 동안 통전시험후 광속을 측정하였고, 초기 광속을 100% 기준으로 산정하였다.The luminous flux was measured after an energization test at a constant temperature of 85 ° C for 1000 hours, and the initial luminous flux was calculated on the basis of 100%.

[가요성][Flexibility]

폴리오르가노실록산 경화시편은 2mm의 간격을 두고 있는 몰드를 사용하여 170℃ 20분간 경화후, 몰드에서 탈형하여 두께 2mm, 가로 1cm, 세로 5cm의 시편을 제조하였다. 제조된 시편을 150℃ 오븐에서 3시간동안 추가로 경화하였다. The cured polyorganosiloxane specimens were cured at 170 ° C for 20 minutes using a mold having a spacing of 2 mm and then demolded in a mold to prepare specimens having a thickness of 2 mm, a width of 1 cm and a length of 5 cm. The prepared specimens were further cured in a 150 &lt; 0 &gt; C oven for 3 hours.

경화시편을 추가로 200℃ 오븐에서 168시간동안 보관후 25℃에서 시편의 한쪽면이 서로 맞닿을 때까지 60g/cm2의 압력으로 완전히 구부린 상태에서 10초 이상의 시간이 경과할 때까지 시편의 절단, 파괴 및 균열 등의 물리적 손상이 발생되었는지 여부를 확인하고, 물리적 손상이 발생하지 않은 것을 O로 표시하고 손상이 발생한 것을 X로 표시하였다.The cured specimens were further stored in an oven at 200 ° C for 168 hours, and were then completely bent at a pressure of 60 g / cm 2 at 25 ° C until one side of the specimen came into contact with each other. , Physical damage such as fracture and crack was observed, and when no physical damage occurred, it was indicated as O and when the damage occurred, X was indicated.

상기 시험예의 결과를 하기 표 2에 기재하였다.The results of the above test examples are shown in Table 2 below.

조성Furtherance 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 초기 경도Initial hardness 3535 3838 4343 3030 3535 4040 4040 내열 경도Heat resistance hardness 3939 4242 5050 3333 4747 6060 5555 경도변화율(%)Hardness change rate (%) 11.4 11.4 10.5 10.5 16.3 16.3 10.0 10.0 34.3 34.3 50.0 50.0 37.5 37.5 초기 인장Initial Seal 33 3.53.5 3.73.7 1.51.5 44 5.35.3 66 내열 인장Heat proof seal 3.53.5 44 4.24.2 22 88 9.79.7 1212 인장변화율(%)Tensile Change (%) 16.7 16.7 14.3 14.3 13.5 13.5 33.3 33.3 100.0 100.0 83.0 83.0 100.0 100.0 초기 신율Initial elongation 7070 7575 7777 100100 5050 4242 4545 내열 신율Heat Elongation Rate 6060 6565 6565 7070 2323 2020 1717 신율변화율(%)Elongation Change Rate (%) 14.3 14.3 13.3 13.3 15.6 15.6 30.0 30.0 54.0 54.0 52.4 52.4 62.2 62.2 열충격Thermal shock 1/161/16 2/162/16 2/162/16 0/160/16 10/1610/16 16/1616/16 16/1616/16 M.S.LM.S.L 0/160/16 1/161/16 0/160/16 1/161/16 9/169/16 15/1615/16 14/1614/16 1000시간
고온신뢰성
1000 hours
High temperature reliability
98%98% 98%98% 98%98% 98%98% 88%88% 85%85% 81%81%
가요성Flexibility OO OO OO OO XX XX XX

Claims (9)

하기 화학식 1 내지 화학식 3의 화합물을 포함하고,
경화 상태 시편의 신율 및 인장강도에 대하여, 200℃에서 168hr 보관 후의 시편의 신율 변화량 및 인장강도 변화량이 각각 50% 이하인 경화성 오르가노폴리실록산 조성물:
[화학식 1]
(R1R2R3SiO1/2)x·(R4R5SiO2/2)y·(R6SiO3/2)z
[화학식 2]
R7Si(OSiR8R9R10)3
[화학식 3]
Figure 112017095891790-pat00014

상기 식에서,
R1 내지 R3 및 R8 내지 R10은 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 또는 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이고, 단 R1 내지 R3 중 하나 이상과 R8 내지 R10 중 하나 이상은 탄소수 2 내지 10의 알케닐기이고,
R4 내지 R7은 각각 독립적으로 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이며,
R11, R12, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소; 또는 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이고,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 알케닐기를 제외한 탄소수 1 내지 12의 1가 탄화수소기이며,
x, y 및 z는 각각 0<x<1, 0<y<1, 0≤z<1 및 x+y+z=1을 만족하고,
n은 1 내지 100의 정수이다.
(1) to (3): < EMI ID =
Curable organopolysiloxane composition having a elongation change amount and a tensile strength change amount of 50% or less, respectively, of a specimen after storage at 200 ° C for 168 hours, with respect to the elongation and tensile strength of the cured state specimen:
[Chemical Formula 1]
(R 1 R 2 R 3 SiO 1/2 ) x (R 4 R 5 SiO 2/2 ) y (R 6 SiO 3/2 ) z
(2)
R 7 Si (OSiR 8 R 9 R 10 ) 3
(3)
Figure 112017095891790-pat00014

In this formula,
R 1 to R 3 and R 8 to R 10 are each independently an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group, provided that at least one of R 1 to R 3 and R 8 to R 10 is an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms,
R 4 to R 7 are each independently a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group,
R 11 , R 12 , R 15 and R 16 are each independently hydrogen; Or a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group,
R 13 and R 14 are each independently a monovalent hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms excluding an alkenyl group,
x, y and z satisfy 0 <x <1, 0 <y <1, 0 <z <1 and x + y + z =
n is an integer of 1 to 100;
제1항에 있어서,
경화 상태 시편의 초기 경도가 쇼어 D 20 이상이고, 경화상태 시편의 초기 경도에 대하여, 200℃에서 168hr 보관 후의 시편의 경도 변화량이 30% 이하인 경화성 오르가노폴리실록산 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the initial hardness of the cured state specimen is equal to or greater than Shore D 20 and the change in hardness of the specimen after storage at 200 ° C for 168 hours is 30% or less with respect to the initial hardness of the cured state specimen.
제1항 또는 제2항에 있어서,
조성물은 경화 상태의 시편을 200℃에서 168hr 보관 후, 25℃ 조건에서 시편의 한쪽면이 서로 맞닿을 때까지 60g/cm2의 압력으로 구부린 상태에서 10초의 시간이 경과할 때까지 시편의 물리적 손상이 발생되지 않는 것을 특징으로 하는 경화성 오르가노폴리실록산 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
The composition was stored in a cured state at 200 ° C for 168 hrs. The specimen was held at a temperature of 25 ° C under a pressure of 60 g / cm 2 until one side of the specimen came into contact with each other. Is not generated in the curable organopolysiloxane composition.
삭제delete 제1항에 있어서,
R1 내지 R3 및 R8 내지 R10은 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 8의 알케닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이고, 단 R1 내지 R3 중 하나 이상과 R8 내지 R10 중 하나 이상은 탄소수 2 내지 8의 알케닐기이고,
R4 내지 R7은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이며,
R11, R12, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이고,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이며,
x, y 및 z는 각각 0<x<0.7, 0.1<y,0.6, 0≤z<0.9 및 x+y+z=1을만족하고,
n은 1 내지 30의 정수인 경화성 오르가노폴리실록산 조성물.
The method according to claim 1,
R 1 to R 3 and R 8 to R 10 are each independently an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, provided that at least one of R 1 to R 3 and R 8 to R < 10 &gt; is an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms,
R 4 to R 7 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
R 11 , R 12 , R 15 and R 16 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
R 13 and R 14 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
x, y and z satisfy 0 <x <0.7, 0.1 <y, 0.6, 0 <z <0.9 and x + y + z =
and n is an integer from 1 to 30. &lt; RTI ID = 0.0 &gt; 18. &lt; / RTI &gt;
제5항에 있어서,
R1 내지 R3 및 R8 내지 R10은 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 4의 알케닐기, 탄소수 1 내지 4의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기이고, 단 R1 내지 R3 중 하나 이상과 R8 내지 R10 중 하나 이상은 탄소수 2 내지 4의 알케닐기이고,
R4 및 R7는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며,
R5 및 R6은 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 12의 아릴기이며,
R11, R12, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 탄소수 6 내지 12의 아릴기인 경화성 오르가노폴리실록산 조성물.
6. The method of claim 5,
R 1 to R 3 and R 8 to R 10 are each independently an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, provided that at least one of R 1 to R 3 and R 8 to R &lt; 10 &gt; is an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms,
R 4 and R 7 are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
R 5 and R 6 are each independently an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
R 11 , R 12 , R 15 and R 16 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
R 13 and R 14 are each independently an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
제5항에 있어서,
R1 내지 R3 및 R8 내지 R10은 각각 독립적으로 비닐, 알릴, 부테닐, 헥세닐, 메틸, 에틸, 프로필, 사이클로헥실, 페닐, 톨릴, 또는 나프틸이고, 단 R1 내지 R3 중 하나 이상과 R8 내지 R10 중 하나 이상은 비닐, 알릴, 부테닐, 또는 헥세닐이고,
R4 내지 R7은 각각 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 사이클로헥실, 페닐, 톨릴, 또는 나프틸이며,
R11, R12, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 사이클로헥실, 페닐, 톨릴 또는 나프틸이고,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 사이클로헥실, 페닐, 톨릴 또는 나프틸이며,
x, y 및 z는 각각 0.05≤x≤0.3, 0.1≤y≤0.4, 0.3≤z≤0.8 및 x+y+z=1을 만족하고,
n은 1 내지 5의 정수인 경화성 오르가노폴리실록산 조성물.
6. The method of claim 5,
R 1 to R 3 and R 8 to R 10 are each independently vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl, phenyl, tolyl or naphthyl, provided that R 1 to R 3 And at least one of R 8 to R 10 is vinyl, allyl, butenyl, or hexenyl,
R 4 to R 7 are each independently methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl, phenyl, tolyl, or naphthyl,
R 11 , R 12 , R 15 and R 16 are each independently hydrogen, methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl, phenyl, tolyl or naphthyl,
R 13 and R 14 are each independently methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl, phenyl, tolyl or naphthyl,
x, y and z satisfy the relationships 0.05? x? 0.3, 0.1? y? 0.4, 0.3? z? 0.8 and x + y + z =
and n is an integer from 1 to 5. &lt; RTI ID = 0.0 &gt; 5. &lt; / RTI &gt;
제1항 또는 제2항에 따른 조성물의 경화물을 포함하는 발광 다이오드 소자용 봉지재.
An encapsulant for a light-emitting diode device comprising a cured product of the composition according to claim 1 or 2.
발광 다이오드 소자가 제8항에 따른 봉지재에 의해 봉지된 발광 다이오드 장치.Wherein the light emitting diode element is sealed by the sealing material according to claim 8.
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