KR101806921B1 - Method of manufacturing touch sensor plate and touch screen panel including the same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 절연 물질로 이루어진 베이스 기판을 준비하는 단계; 상기 베이스 기판의 일면에 그래핀 필름을 형성하는 단계; 상기 그래핀 필름의 일면에 금속 물질로 이루어진 얼라인 마크 및 상기 금속 물질로 이루어진 거시 금속 배선 패턴을 형성하는 단계; 상기 거시 금속 배선 패턴을 패터닝하여 미시 금속 배선 패턴을 형성하고, 동시에 상기 그래핀 필름을 패터닝하여 상기 미시 금속 배선 패턴과 중첩하는 그래핀 배선 패턴 및 상기 그래핀 배선 패턴과 연결되는 그래핀 전극 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 금속 배선 패턴 상에 절연막을 형성하는 단계; 을 포함하는, 터치 스크린 패널에 포함된 터치 센서판의 제조 방법을 개시한다. One embodiment of the present invention provides a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: preparing a base substrate made of an insulating material; Forming a graphene film on one surface of the base substrate; Forming an alignment mark made of a metal material and a macro metal wiring pattern made of the metal material on one surface of the graphene film; Forming a micro metal wiring pattern by patterning the macro metal wiring pattern, patterning the graphene film to form a graphen wiring pattern overlapping the micro metal wiring pattern, and a graphen electrode pattern connected to the graphen wiring pattern ; And forming an insulating film on the metal wiring pattern. A method of manufacturing a touch sensor plate included in a touch screen panel, comprising:

Description

터치 센서판 및 이를 포함한 터치 스크린 패널의 제조 방법 {Method of manufacturing touch sensor plate and touch screen panel including the same}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a touch sensor panel and a method of manufacturing the same,

본 발명의 실시예들은 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다. Embodiments of the present invention relate to a method of manufacturing a touch screen panel.

그래핀(Graphene)은 탄소가 육각형의 형태로 서로 연결되어 벌집 모양의 2차원 평면 구조를 이루는 물질로서, 그 두께가 매우 얇고 투명하며 전기 전도성이 매우 큰 특성을 가진다. 그래핀의 이러한 특성을 이용하여 그래핀을 터치 스크린 패널, 투명 디스플레이 패널 및 플렉서블(flexible) 디스플레이 패널 등에 적용하려는 시도가 많이 이루어지고 있다.Graphene is a material in which carbon is hexagonally connected to form a honeycomb two-dimensional planar structure. Its thickness is very thin, transparent, and has high electrical conductivity. Attempts have been made to apply graphene to touch screen panels, transparent display panels and flexible display panels using such properties of graphene.

한편, 상술한 터치 스크린 패널은 행방향으로 전극이 형성된 터치 센서판과 열방향으로 전극이 형성된 터치 센서판을 중첩하여 접합함으로써 형성한다. 이로부터 터치에 의해 상부 전극 및 하부 전극이 형성하는 커패시턴스가 달라지는 것을 통해 터치를 인식하게 된다. 그런데 터치 센서판을 구성하는 전극을 그래핀으로 형성하는 경우, 종래 전극을 인듐틴옥사이드(ITO)로 형성하는 경우에 비하여 다른 패터닝 공정이 요구된다. 또한, 전극을 인듐틴옥사이드(ITO)로 형성하는 경우 전극과 동일한 물질로 얼라인 마크를 형성하던 것을 그대로 적용하여 그래핀으로 얼라인 마크를 형성하는 경우 투명도가 높고 탄소 원자 하나 정도의 초박막 두께로 인해 얼라인 마크가 종래의 광학 장치에 의해 식별이 어려운 문제가 있다.Meanwhile, the above-described touch screen panel is formed by overlapping and bonding a touch sensor plate having electrodes in the row direction and a touch sensor plate having electrodes in the column direction. From this, the touch is recognized through the change in the capacitance formed by the upper electrode and the lower electrode due to the touch. However, when the electrode constituting the touch sensor plate is formed of graphene, another patterning process is required compared to the case where the conventional electrode is formed of indium tin oxide (ITO). In the case where the electrode is formed of indium tin oxide (ITO), when the alignment mark is formed using the same material as the electrode and the alignment mark is formed using graphene as it is, the transparency is high, There is a problem that the alignment mark is difficult to be identified by the conventional optical device.

본 발명의 실시예들은 그래핀을 이용한 터치 센서판 및 이를 포함한 터치 스크린 패널의 제조 방법의 제공한다. Embodiments of the present invention provide a touch sensor plate using graphene and a method of manufacturing a touch screen panel including the same.

본 발명의 일 실시예는, 절연 물질로 이루어진 베이스 기판을 준비하는 단계;와, 상기 베이스 기판의 일면에 그래핀 필름을 형성하는 단계;와, 상기 그래핀 필름의 일면에 금속 물질로 이루어진 얼라인 마크 및 상기 금속 물질로 이루어진 거시 금속 배선 패턴을 형성하는 단계;와, 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성한 후, 상기 거시 금속 배선 패턴을 패터닝하여 미시 금속 배선 패턴을 형성하고, 동시에 상기 그래핀 필름을 패터닝하여 상기 미시 금속 배선 패턴과 중첩하며 상기 베이스 기판의 일면에 배치되는 그래핀 배선 패턴 및 상기 그래핀 배선 패턴과 전기적으로 연결되는 그래핀 전극 패턴을 형성하는 단계;와, 상기 미시 금속 배선 패턴 상에 절연막을 형성하는 단계를 포함하는, 터치 스크린 패널에 포함된 터치 센서판의 제조 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, including: preparing a base substrate made of an insulating material; forming a graphene film on one surface of the base substrate; Forming a macro metal wiring pattern by patterning the macro metal wiring pattern after forming the macro metal wiring pattern and forming a micro metal wiring pattern by patterning the macro metal wiring pattern, Forming a graphen wiring pattern on the one surface of the base substrate and forming a graphen electrode pattern electrically connected to the graphen wiring pattern; And forming an insulating film on the touch screen panel.

일 실시예에 있어서, 상기 미시 금속 배선 패턴을 형성하고, 그래핀 필름을 패터닝하는 단계는 레이저 패터닝 방식을 사용할 수 있다. In one embodiment, the step of forming the micro-metallic wiring pattern and patterning the graphene film may use a laser patterning method.

일 실시예에 있어서, 상기 절연막을 형성하는 단계는 비접촉식으로 상기 미시 금속 배선 패턴 상에 상기 절연막을 코팅할 수 있다.In one embodiment, the step of forming the insulating layer may coat the insulating layer on the micro metal wiring pattern in a non-contact manner.

일 실시예에 있어서, 상기 베이스 기판의 일면에 그래핀 필름을 형성하는 단계에서 상기 그래핀 필름은 상기 베이스 기판의 일면과 접촉하는 하면에 대향하는 상면에,상기 금속 물질로 이루어진 촉매 금속 필름이 더 구비되고 , 상기 그래핀 필름의 일면에 금속 물질로 이루어진 얼라인 마크 및 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성하는 단계는 상기 그래핀 필름의 상면과 접촉하는 상기 촉매 금속 필름을 패터닝하여 상기 얼라인 마크 및 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성하는 것일 수 있다. In one embodiment of the present invention, in the step of forming the graphene film on one surface of the base substrate, the graphene film has a catalyst metal film made of the metal material on the upper surface facing the lower surface contacting the one surface of the base substrate Forming an alignment mark made of a metal material on one surface of the graphene film and the macro metal wiring pattern by patterning the catalytic metal film in contact with the upper surface of the graphene film, To form a macro metal wiring pattern.

일 실시예에 있어서, 상기 촉매 금속 필름을 패터닝하는 단계는, 상기 촉매 금속 필름을 습식 식각의 방법으로 패터닝하여 상기 얼라인 마크 및 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성하는 것일 수 있다. In one embodiment, the step of patterning the catalytic metal film may be to pattern the catalytic metal film by a wet etching method to form the alignment marks and the macro metal wiring pattern.

본 발명의 다른 실시예에 있어서, 제1베이스 기판의 일면에 순차적으로 제1그래핀 필름 및 제1촉매 금속 필름의 적층체를 형성하고, 상기 제1촉매 금속 필름을 패터닝하여 얼라인 마크 및 거시 금속 배선 패턴을 형성하고, 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성한 후 상기 거시 금속 배선 패턴을 패터닝하여 미시 금속 배선 패턴을 형성하고 동시에 상기 제1그래핀 필름을 패터닝하여 상기 미시 금속 배선 패턴과 중첩하며 상기 제1베이스 기판의 일면에 배치되는 그래핀 배선 패턴 및 상기 그래핀 배선 패턴과 전기적으로 연결되며 제1방향으로 연장되는 전극 행들을 열방향으로 복수개 포함하는 그래핀 전극 패턴을 형성하고, 상기 미시 금속 배선 패턴 상에 절연막을 형성하여 제1터치 센서판을 제조하는 단계;와, 제2베이스 기판의 일면에 순차적으로 제2그래핀 필름 및 제2촉매 금속 필름의 적층체를 형성하고, 상기 제2촉매 금속 필름을 패터닝하여 얼라인 마크 및 거시 금속 배선 패턴을 형성하고, 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성한 후 상기 거시 금속 배선 패턴을 패터닝하여 미시 금속 배선 패턴을 형성하고 동시에 상기 제2그래핀 필름을 패터닝하여 상기 미시 금속 배선 패턴과 중첩하며 상기 제2베이스 기판의 일면에 배치되는 그래핀 배선 패턴 및 상기 그래핀 배선 패턴과 전기적으로 연결되며 제2방향으로 연장되는 전극 열들을 행방향으로 복수개 포함하는 그래핀 전극 패턴을 형성하고, 상기 미시 금속 배선 패턴 상에 절연막을 형성하여 제2터치 센서판을 제조하는 단계;와, 상기 제1터치 센서판 및 상기 제2터치 센서판 사이에 투명 접착층을 개재하여 상기 제1터치 센서판 및 상기 제2터치 센서판을 접착하는 단계;와, 상기 제1터치 센서판의 상기 미시 금속 배선 패턴과 외부 회로 기판을 연결하는 단계를 포함하는, 터치 스크린 패널의 제조 방법을 제공한다.In another embodiment of the present invention, a laminate of the first graphene film and the first catalytic metal film is sequentially formed on one surface of the first base substrate, and the first catalytic metal film is patterned to form an alignment mark and a macroscopic Forming a metal wiring pattern, forming a macro metal wiring pattern, patterning the macro metal wiring pattern to form a micro metal wiring pattern, and patterning the first graphene film to overlap the micro metal wiring pattern, A graphene wiring pattern disposed on one surface of the first base substrate and a graphene electrode pattern including a plurality of electrode rows electrically connected to the graphen wiring pattern and extending in a first direction in a column direction, A step of forming a first touch sensor plate by forming an insulating film on the wiring pattern; Film and a second catalytic metal film are formed on the first catalytic metal film, and the second catalytic metal film is patterned to form an alignment mark and a macro metal wiring pattern, and after the macro metal wiring pattern is formed, Patterning the second graphene film to form a micro-metal wiring pattern, patterning the second graphene film to overlap the micro-metal wiring pattern and being disposed on one surface of the second base substrate, and electrically connecting the graphen wiring pattern to the graphen wiring pattern Forming a graphene electrode pattern including a plurality of electrode rows connected in a row direction and extending in a second direction and forming an insulating film on the micro metal wiring pattern to form a second touch sensor plate; The first touch sensor plate and the second touch sensor plate are interposed between the first touch sensor plate and the second touch sensor plate through a transparent adhesive layer, Nice of the step; and provides a method for fabricating a touch sensor panel of claim 1 including the step of connecting the micro metal wiring pattern and the external circuit board, a touch screen panel.

전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.Other aspects, features, and advantages will become apparent from the following drawings, claims, and detailed description of the invention.

본 발명의 실시예들에 관한 터치 센서판 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법에 의하면, 레이저를 통해 금속과 그래핀을 동시에 패터닝하여 공정을 효율적으로 진행할 수 있고, 금속을 통해 얼라인 마크를 형성함으로써 기존 광학 장비를 사용하여 터치 센서판 및 터치 스크린 패널을 제조할 수 있어 경제적이다. According to the touch sensor plate of the embodiments of the present invention and the manufacturing method of the touch screen panel including the same, the process can be efficiently performed by simultaneously patterning the metal and the graphene through the laser, It is economical to manufacture a touch sensor plate and a touch screen panel by using existing optical equipment.

도 1 은 본 명세서에서 언급되는 그래핀의 일부를 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 2 내지 도 8는 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널의 제조 방법을 개략적으로 나타낸 평면도 및 단면도이다.
도 9 및 도 10은 본 발명의 다른 실시예에 의한 터치 스크린 패널의 제조 방법 중 일부 단계를 개략적으로 나타낸 평면도 및 단면도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 is a perspective view schematically illustrating a portion of the graphene referred to herein;
2 to 8 are a plan view and a cross-sectional view schematically showing a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
9 and 10 are a plan view and a cross-sectional view schematically showing some steps of a method of manufacturing a touch screen panel according to another embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. The effects and features of the present invention and methods of achieving them will be apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be implemented in various forms.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to like or corresponding components throughout the drawings, and a duplicate description thereof will be omitted .

이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. 또한, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.In the following embodiments, the terms first, second, and the like are used for the purpose of distinguishing one element from another element, not the limitative meaning. Also, the singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다. 또한, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다. In the following embodiments, terms such as inclusive or possessive are intended to mean that a feature, or element, described in the specification is present, and does not preclude the possibility that one or more other features or elements may be added. In addition, when a portion such as a film, an area, a component, or the like is on or on another portion, it includes not only the portion directly above another portion, but also the case where another film, do.

도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.In the drawings, components may be exaggerated or reduced in size for convenience of explanation. For example, the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, and thus the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings.

도 1 은 본 명세서에서 언급되는 그래핀의 일부를 개략적으로 나타낸 사시도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 is a perspective view schematically illustrating a portion of the graphene referred to herein;

본 명세서에서 사용되는 "그래핀(graphene)" 이라는 용어는 복수개의 탄소원자들이 서로 공유결합으로 연결되어 폴리시클릭 방향족 분자를 형성하는 그래핀이 필름 형태로 형성된 것으로서, 공유결합으로 연결된 탄소원자들은 기본 반복단위로서 6원환을 형성하나, 5원환 및/또는 7원환을 더 포함하는 것도 가능하다. 따라서 그래핀은 서로 공유 결합된 탄소원자들(통상 sp2 결합)의 단일층을 이룬다. 그래핀은 다양한 구조를 가질 수 있으며, 이와 같은 구조는 그래핀 내에 포함될 수 있는 5원환 및/또는 7원환의 함량에 따라 달라질 수 있다.As used herein, the term "graphene" refers to a graphene film in which a plurality of carbon atoms are covalently bonded to one another to form a polycyclic aromatic molecule, A 6-membered ring is formed as a repeating unit, but it is also possible to further include a 5-membered ring and / or a 7-membered ring. Thus, graphene forms a single layer of covalently bonded carbon atoms (usually sp2 bonds). The graphene may have a variety of structures, and such a structure may vary depending on the content of the five-membered ring and / or the seven-membered ring which may be contained in the graphene.

그래핀은 도시된 바와 같이 그래핀의 단일층으로 이루어질 수 있으나, 이들이 여러 개 서로 적층되어 복수층을 형성하는 것도 가능하며, 통상 상기 그래핀의 측면 말단부는 수소원자로 포화될 수 있다.The graphene may be composed of a single layer of graphene as shown, but they may be stacked to form a plurality of layers, and usually the side ends of the graphene may be saturated with hydrogen atoms.

도 2 내지 도 8는 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널의 제조 방법을 개략적으로 나타낸 평면도 및 단면도이다. 그 중에서 도 2 내지 도 6은 터치 스크린 패널에 포함된 터치 센서판의 제조 방법을 나타낸 것이다. 2 to 8 are a plan view and a cross-sectional view schematically showing a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention. 2 to 6 show a method of manufacturing a touch sensor plate included in a touch screen panel.

도 2 내지 도 6에서 (b)의 단면도는 (a)의 평면도에서 절단선을 따라 절단한 부분의 단면을 개략적으로 도시한 것이다. Sectional views of FIGS. 2 to 6 (b) schematically show a cross-section of a portion cut along the cutting line in the plan view of FIG.

도 2를 참조하면, 베이스 기판(100)을 준비한다. Referring to FIG. 2, a base substrate 100 is prepared.

베이스 기판(100)은 터치 스크린 패널에 포함된 터치 센서판을 지지하는 부재로써, 베이스 기판(100) 상에 배선들 및 전극들이 배치될 수 있다. 베이스 기판(100)은 투명한 폴리에틸렌테레프탈레이트 (polyethylene terephthalate:PET)로 이루어질 수 있다. 그러나 기판의 재료는 이에 한정되지 않고 폴리이미드 (polyimide:PI), 폴리디메틸실록산(PDMS: polydimethylsiloxane), 플라스틱, 유리 및 금속 중 적어도 하나를 사용할 수 있다. The base substrate 100 is a member for supporting a touch sensor plate included in a touch screen panel. Wires and electrodes may be disposed on the base substrate 100. The base substrate 100 may be made of transparent polyethylene terephthalate (PET). However, the material of the substrate is not limited thereto, and at least one of polyimide (PI), polydimethylsiloxane (PDMS), plastic, glass, and metal may be used.

다음으로, 도 3을 참조하면 베이스 기판(100)의 일면에 그래핀 필름(110)을 형성한다. Next, referring to FIG. 3, a graphene film 110 is formed on one surface of the base substrate 100.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 그래핀 필름(110)의 상면에는 촉매 금속 필름(101)이 구비되어 있다. 이와 같이 그래핀 필름(110)과 촉매 금속 필름(101)의 적층체는 다음과 같은 방법으로 형성한다. According to an embodiment of the present invention, a catalyst metal film 101 is provided on the upper surface of the graphene film 110. The stacked body of the graphene film 110 and the catalytic metal film 101 is formed in the following manner.

먼저 촉매 금속 필름(101)을 준비한다. First, the catalyst metal film 101 is prepared.

촉매 금속 필름(101)은 그래핀 성장을 위한 촉매이다. 촉매 금속 필름(101)은 구리(Cu)로 이루어질 수 있다. 그러나 이는 예시적인 것이며 촉매 금속 필름(100)은 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe), 백금(Pt), 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 몰리브덴(Mo), 로듐(Rh), 실리콘(Si), 탄탈럼(Ta), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 우라늄(U), 바나듐(V), 팔라듐(Pd), 이트리움(Y), 지르코늄(Zr), 게르마늄(Ge), 황동(brass), 청동(bronze), 백동(white brass) 및 스테인레스 스틸(stainless steel) 중 적어도 하나의 금속 또는 합금을 포함할 수 있다.The catalytic metal film 101 is a catalyst for graphene growth. The catalytic metal film 101 may be made of copper (Cu). However, this is an illustrative example and the catalytic metal film 100 is made of at least one selected from the group consisting of Ni, Co, Fe, Pt, Au, Ag, Al, ), Magnesium (Mg), manganese (Mn), molybdenum (Mo), rhodium (Rh), silicon (Si), tantalum (Ta), titanium (Ti), tungsten (W), uranium V, at least one of Pd, Y, Zr, Ge, Brass, Bronze, White Brass and Stainless Steel. Metals or alloys.

다음으로 촉매 금속 필름(101)의 일면에 그래핀 필름(110)을 형성한다. Next, a graphene film 110 is formed on one surface of the catalytic metal film 101.

촉매 금속 필름(101)의 일면에 그래핀 필름(110)을 형성하기 전에 촉매 금속 필름(101)의 표면을 세정하는 전처리 과정을 진행할 수 있다. 그러나 이러한 세정 단계는 필요에 따라 생략될 수 있다.A pretreatment process may be performed to clean the surface of the catalytic metal film 101 before the graphene film 110 is formed on one surface of the catalytic metal film 101. However, such a cleaning step may be omitted as needed.

그래핀 필름(110)은 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition: CVD)을 통해 형성될 수 있다. 그러나 이는 예시적인 것이며 그래핀 필름(110)은 열 화학기상증착법(Thermal Chemical Vapor Deposition: TCVD), 급속 열 화학기상증착법(Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition: PTCVD), 유도결합플라즈마 화학기상증착법(Inductive Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition: ICP-CVD), 원자층증착법(Atomic Layer Deposition: ATLD) 등 다양한 공정에 의해 형성될 수 있다. The graphene film 110 may be formed by chemical vapor deposition (CVD). The graphene film 110 may be formed by thermal chemical vapor deposition (TCVD), rapid thermal chemical vapor deposition (PTCVD), inductively coupled plasma (CVD) Chemical Vapor Deposition (ICP-CVD), Atomic Layer Deposition (ATLD), and the like.

화학기상증착법에 의한 그래핀 필름(110)의 형성과정은 다음과 같다. 촉매 금속 필름(101)을 CVD 챔버내에 안착시킨 후, 내부 공간을 섭씨 약 300도 에서 1000도 또는 그 이상 가열한다. 내부 공간이 가열됨에 따라 촉매 금속 필름(101)도 가열된다. 촉매 금속 필름(101)이 가열되면 내부 공간으로 기상의 탄소공급원을 투입한다. 기상의 탄소공급원은 메탄 가스일 수 있다. 그러나 이는 예시적인 것이며, 기상의 탄소공급원은 일산화탄소(CO), 에탄(C2H6), 에틸렌(CH2), 에탄올(C2H5), 아세틸렌(C2H2), 프로판(CH3CH2CH3), 프로필렌(C3H6), 부탄(C4H10), 펜탄(CH3(CH2)3CH3), 펜텐(C5H10), 사이클로펜타디엔(C5H6), 헥산(C6H14), 시클로헥산(C6H12), 벤젠(C6H6), 톨루엔(C7H8) 등 탄소 원자가 포함된 군에서 선택된 하나 이상이 사용될 수 있다. 기상의 탄소공급원은 표면이 활성화된 촉매 금속 필름(101)의 표면과 접촉하는데, 이 과정에서 탄소공급원에서 분해된 탄소가 활성화된 촉매 금속 필름(101)의 표면에 흡착되고 촉매 금속 필름(101)이 냉각되면서 도 1의 그래핀 필름(110)이 형성된다. The formation process of the graphene film 110 by chemical vapor deposition is as follows. After the catalytic metal film 101 is placed in the CVD chamber, the inner space is heated from about 300 degrees Celsius to 1000 degrees Celsius or more. As the internal space is heated, the catalytic metal film 101 is also heated. When the catalytic metal film 101 is heated, a carbon source of the vapor phase is introduced into the inner space. The meteoric carbon source may be methane gas. However, it will be illustrative, a carbon source of gaseous carbon monoxide (CO), ethane (C 2 H 6), ethylene (CH 2), ethanol (C 2 H 5), acetylene (C 2 H 2), propane (CH 3 CH 2 CH 3), propylene (C 3 H 6), butane (C 4 H 10), pentane (CH 3 (CH 2) 3 CH 3), pentene (C 5 H 10), dicyclopentadiene (C 5 H 6 carbon atoms such as hexane (C 6 H 14 ), cyclohexane (C 6 H 12 ), benzene (C 6 H 6 ), and toluene (C 7 H 8 ). The carbon source of the vapor phase is in contact with the surface of the activated catalytic metal film 101. In this process, the carbon decomposed in the carbon source is adsorbed on the surface of the activated catalytic metal film 101, The graphene film 110 of Fig. 1 is formed.

도 3에서는 촉매 금속 필름(101)의 일면에만 그래핀 필름(110)이 형성된 것을 도시하였으나, 그래핀 필름(110)은 촉매 금속 필름(101)의 양쪽 면에 모두 형성될 수 있다. 3, the graphene film 110 is formed on only one side of the catalytic metal film 101, but the graphene film 110 may be formed on both sides of the catalytic metal film 101. [

이렇게 형성된 촉매 금속 필름(101)과 그래핀 필름(110)의 적층체를 베이스 기판(100)에 부착한다. 이 때 그래핀 필름(110)의 상면이 촉매 금속 필름(101)의 일면과 접촉하고 있다면, 그래핀 필름(110)의 하면이 베이스 기판(100)의 일면과 전체적으로 접촉하도록 부착한다. A laminate of the catalytic metal film 101 and the graphene film 110 thus formed is attached to the base substrate 100. At this time, if the upper surface of the graphene film 110 is in contact with one surface of the catalytic metal film 101, the lower surface of the graphene film 110 adheres to the entire surface of the base substrate 100.

촉매 금속 필름(101)과 그래핀 필름(110)의 적층체와 베이스 기판(100)을 부착할 때, 예를들어, OCA(Optical Clean Adhesive)Film 와 같은 접착 물질이 사용될 수 있다. 그러나 이는 예시적인 것으로 접착 물질을 사용하지 촉매 금속 필름(101)과 그래핀 필름(110)의 적층체를 베이스 기판(100)에 전사(transfer)할 수도 있다. 그래핀 필름(110)은 두께가 약 0.3nm 내지 0.4nm 로 매우 얇으므로 접착 물질이 없이도 베이스 기판(100)에 전사될 수 있다. An adhesive material such as an OCA (Optical Clean Adhesive) film may be used when attaching the base substrate 100 and the laminated body of the catalytic metal film 101 and the graphene film 110. However, this is an illustrative example and it is also possible to transfer the layer of the catalyst metal film 101 and the graphene film 110 to the base substrate 100 without using an adhesive material. Since the graphene film 110 is very thin with a thickness of about 0.3 nm to 0.4 nm, the graphene film 110 can be transferred to the base substrate 100 without an adhesive material.

디음으로 도 4를 참조하면, 촉매 금속 필름(101)을 패터닝하여 얼라인 마크(101a) 및 거시 금속 배선 패턴(101b)을 형성한다. 4, the catalytic metal film 101 is patterned to form the alignment mark 101a and the macro metal wiring pattern 101b.

얼라인 마크(101a)는 터치 센서판의 가장자리나 귀퉁이 쪽에 배치되며 이후 레이저 패터닝이나, 절연막(120) 코팅 등의 공정을 수행할 때 터치 센서판의 얼라인을 맞추는 표시 역할을 한다. 상술한 공정들을 수행하기 전에 광학 장치로 얼라인 마크(101a)의 위치를 통해 터치 센서판이 틀어지지 않았나 확인한다. 본 발명의 일 실시예에 의하면 얼라인 마크(101a)를 육안으로도 식별이 가능한 금속 물질로 형성함으로써, 얼라인 마크(101a)를 투명한 그래핀이나 인듐틴옥사이드(ITO)로 형성하는 방식에 비해 미스-얼라이먼트 문제를 해결할 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 의하면 얼라인 마크(101a)와 배선 패턴을 동시에 형성함으로써, 베이스 기판(100)에 별도로 얼라인 마크(101a)를 형성하는 방식에 비해 일부 공정 단계를 생략할 수 있다. The alignment mark 101a is disposed on the edge or the corner of the touch sensor plate and serves as a display for aligning the alignment of the touch sensor plate when laser patterning or coating of the insulation film 120 is performed. Before performing the above-described processes, the optical device confirms whether the touch sensor plate has been rotated through the position of the alignment mark 101a. According to the embodiment of the present invention, the alignment mark 101a is formed of a metallic material that can be recognized even by the naked eye, compared with a method of forming the alignment mark 101a with transparent graphene or indium tin oxide (ITO) It is possible to solve the mis-alignment problem. In addition, according to the embodiment of the present invention, by forming the alignment mark 101a and the wiring pattern at the same time, it is possible to omit some process steps as compared with a method of forming the alignment mark 101a separately on the base substrate 100 have.

거시 금속 배선 패턴(101b)은 추후 레이저로 패터닝되어 미시 금속 배선 패턴(101c)이 되기 전의 예비적 배선 패턴이다. 미시 금속 배선 패턴(101c)은 터치 스크린 패널에서 터치 영역의 신호를 외부 회로로 전달하고, 외부 회로로부터 터치 영역의 전극으로 전원을 공급하는 역할을 하는 배선 패턴으로 미세한 폭을 가져 습식 식각의 방법으로는 패터닝이 불가능하다. 왜냐하면, 습식 식각은 에칭액을 통해 피식각물을 식각하는 것으로 에칭액은 등방성 에칭이 이루어지는바, 미세하고 정밀한 패터닝 제어가 어려운 문제가 있는 반면 저렴한 비용으로 넓은 범위에 걸쳐 빠른 패터닝이 가능한 특징이 있다. 이에 비하여 거시 금속 배선 패턴(101b)이란, 미시 금속 배선 패턴(101c)에 비해 미세하지 않은 즉, 넓은 폭을 가진 배선 패턴으로 습식 식각의 방법으로 패터닝이 가능하다. The macro metal wiring pattern 101b is a preliminary wiring pattern before being later patterned with a laser to become a micro metal wiring pattern 101c. The micro metal wiring pattern 101c is a wiring pattern having a small width in a touch screen panel and transmitting a signal of a touch area to an external circuit and supplying power from the external circuit to the electrode of the touch area, The patterning is impossible. This is because the wet etching is performed by etching the patterned body through the etching solution, and the isotropic etching is performed on the etching liquid. Thus, there is a problem that fine and precise patterning control is difficult, while patterning is possible at a low cost with a wide range. On the other hand, the macro metal wiring pattern 101b can be patterned by a wet etching method with a wire pattern having a width that is not finer than that of the micro metal wiring pattern 101c.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 얼라인 마크(101a) 및 거시 금속 배선 패턴(101b)은 습식 식각의 방법으로 형성할 수 있다. 왜냐하면 얼라인 마크(101a) 및 거시 금속 배선 패턴(101b)은 다소 미세하지 않은 패터닝을 수행하는 것이므로 습식 식각 방식을 사용하더라도 무리가 없고, 그래핀 필름(110)의 경우 습식 식각 방식에 사용되는 에칭액으로 패터닝이 되지 않으며, 습식 식각 방식은 비용면에서 저렴하여 단시간에 패터닝이 가능하기 때문이다. According to an embodiment of the present invention, the alignment mark 101a and the macro metal wiring pattern 101b can be formed by a wet etching method. This is because the alignment mark 101a and the macro metal wiring pattern 101b perform patterning that is not slightly fine, so that it is possible to use a wet etching method. In the case of the graphene film 110, , And the wet etching method is inexpensive in terms of cost, and patterning is possible in a short time.

상세하게, 얼라인 마크(101a) 및 거시 금속 배선 패턴(101b)이 형성될 부분에 감광 패턴을 형성하고, 이를 마스크로 하여 촉매 금속 필름(101)을 제거할 수 있는 에칭액을 사용하여 습식 식각한다. 이러한 포토 리소그래피 과정은 이미 공지된 것이므로 이에 대해 보다 구체적인 설명은 생략하기로 한다. Specifically, a photosensitive pattern is formed on a portion where the alignment mark 101a and the macro metal wiring pattern 101b are to be formed, and wet etching is performed using an etching liquid capable of removing the catalytic metal film 101 using the photosensitive pattern as a mask . Since the photolithography process is well known, a more detailed description thereof will be omitted.

한편, 베이스 기판(100)에는 하나 이상의 터치 센서판을 제조할 수 있으며, 도 4에서는 총 6개의 터치 센서판을 제조할 수 있도록 거시 금속 배선 패턴(101b)도 총 6개가 형성되었다. On the other hand, one or more touch sensor plates can be manufactured on the base substrate 100, and a total of six macro metal wiring patterns 101b are formed so as to manufacture six touch sensor plates in total.

다음으로 도 5를 참조하면, 거시 금속 배선 패턴(101b) 및 그래핀 전극 패턴(110e)을 동시에 패터닝한다. Next, referring to FIG. 5, the macro metal wiring pattern 101b and the graphene electrode pattern 110e are simultaneously patterned.

도 5에서는 거시 금속 배선 패턴(101b)을 패터닝하여 비로소 터치 센서판에 적용될 미세한 배선 패턴인 미시 금속 배선 패턴(101c)을 형성한다. 이와 동시에 터치 영역의 그래핀 필름(110)을 패터닝하여 그래핀 전극 패턴(110e)을 함께 형성한다. 여기서 그래핀 배선 패턴(110c)은 그래핀 전극 패턴(110e)과 전기적으로 연결되어야 한다. 그래야만 그래핀 전극 패턴(110e)에서 생성된 신호를 그래핀 배선 패턴(110c) 및 미시 금속 배선 패턴(101c)을 통해 외부 회로로 전달할 수 있기 때문이다. In FIG. 5, the macro metal wiring pattern 101b is formed by patterning the macro metal wiring pattern 101b, which is a fine wiring pattern to be applied to the touch sensor plate. At the same time, the graphene film 110 of the touch region is patterned to form a graphene electrode pattern 110e. Here, the graphene wiring pattern 110c should be electrically connected to the graphene electrode pattern 110e. This is because the signal generated in the graphene electrode pattern 110e can be transmitted to the external circuit through the graphen wiring pattern 110c and the micro-metal wiring pattern 101c.

그래핀 전극 패턴(110e)은 복수개의 그래핀 전극들이 행 또는 열 방향으로 전기적으로 연결되어 연장되도록 형성되며, 이러한 형태의 그래핀 전극 패턴(110e)은 열 또는 행 방향으로 터치 영역에 복수개 구비된다. 이와 관련하여, 그래핀 전극 패턴(110e)을 형성할 때 미시 금속 배선 패턴(101c)과 중첩하는 그래핀 배선 패턴(110c)도 함께 형성한다. 그래야만, 상술한 형태를 갖고 복수개의 열 또는 행 방향으로 배열된 그래핀 전극 패턴(110e)의 각 라인이 쇼트 되지 않기 때문이다. 이와 함께 그래핀 배선 패턴(110c) 및 그래핀 전극 패턴(110e)이 형성되지 않는 부분의 그래핀 필름(110)은 제거하여, 배선 및 전극 간 쇼트 가능성을 제거해야 한다. The graphene electrode pattern 110e is formed such that a plurality of graphene electrodes are electrically connected and extended in the row or column direction, and a plurality of such graphene electrode patterns 110e are provided in the touch region in the column or row direction . In this connection, when forming the graphene electrode pattern 110e, a graphene wiring pattern 110c which overlaps with the microscopic metal wiring pattern 101c is also formed. This is because each line of the graphene electrode pattern 110e having the above-described shape and arranged in a plurality of rows or columns is not short-circuited. At the same time, the graphene film 110 in the portion where the graphene wiring pattern 110c and the graphene electrode pattern 110e are not formed should be removed to eliminate the possibility of shorting between the wiring and the electrodes.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 미시 금속 배선 패턴(101c) 및 그래핀 전극 패턴(110e)은 레이저를 통해 패터닝될 수 있다. 먼저, 거시 금속 배선 패턴(101b)가 형성된 기판 상에 패턴이 형성된 파인 메탈 마스크(FMM)를 비접촉 방식으로 정렬한다. 이 때 얼라인 마크(101a)통해 기판과 파인 메탈 마스크를 얼라인한다. 얼라인 과정을 거쳐야 거시 금속 배선 패턴(101b)을 기준으로 올바른 위치에 그래핀 배선 패턴(110c) 및 그래핀 전극 패턴(110e)이 형성될 수 있기 때문이다. 다음으로 고에너지 광인 레이저를 파인 메탈 마스크(FMM) 에 조사하여 슬릿을 통과한 레이저를 통해 촉매 금속 및 그래핀을 동시에 패터닝한다. 여기서 마스크는 파인 메탈 마스크(FMM)에 한정된 것은 아니며, 레이저 조사시 소정의 패턴으로 레이저를 필터링할 수 있는 마스크라면 어느 것이라도 사용할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the micro metal wiring pattern 101c and the graphene electrode pattern 110e can be patterned through a laser. First, a fine metal mask (FMM) in which a pattern is formed on a substrate on which a macro metal wiring pattern 101b is formed is aligned in a noncontact manner. At this time, the substrate and the fine metal mask are aligned through the alignment mark 101a. This is because the graphene wiring pattern 110c and the graphene electrode pattern 110e can be formed at the correct positions with respect to the macro metal wiring pattern 101b through the alignment process. Next, a laser, which is a high-energy laser, is irradiated to a fine metal mask (FMM), and the catalyst metal and the graphene are simultaneously patterned through the laser passing through the slit. Here, the mask is not limited to the fine metal mask (FMM), and any mask that can filter the laser in a predetermined pattern upon laser irradiation can be used.

레이저는 일정한 면적을 동시에 패터닝할 수 있는 라인 빔(line beam)을 사용할 수 있고, 라인 빔을 사용함으로써, 스팟 빔(spot beam)에 비해 보다 빠른 속도로 패터닝이 가능한 장점이 있다. 레이저를 통한 패터닝은 습식 식각 방식과 달리 미세하고 정밀한 패터닝이 가능하며, 플라즈마를 이용한 건식 식각 방식과 달리 그래핀에 손상을 주지 않는 장점이 있다. The laser can use a line beam capable of simultaneously patterning a certain area, and by using a line beam, patterning can be performed at a higher speed than that of a spot beam. Unlike the wet etching method, the laser patterning is capable of fine and precise patterning, and is advantageous in that it does not damage the graphene, unlike the dry etching method using plasma.

다음으로 도 6을 참조하면, 미시 금속 배선 패턴(101c) 상에 절연막(120)을 형성한다. Next, referring to FIG. 6, an insulating film 120 is formed on the micro metal wiring pattern 101c.

절연막(120)은 산화실리콘 또는 질화실리콘과 같은 절연 물질 외에도 다양한 절연 물질을 포함할 수 있다. 절연막(120)은 미시 금속 배선 패턴(101c)을 덮어 이를 보호하는 역할을 한다. The insulating film 120 may include various insulating materials in addition to an insulating material such as silicon oxide or silicon nitride. The insulating layer 120 covers and protects the micro metal wiring pattern 101c.

본 발명의 일 실시예에 의하면 절연막(120)은 비접촉식으로 미시 금속 배선 패턴(101c)만 코팅하도록 형성한다. 예를 들면 절연막(120)은 잉크젯 방식으로 미시 금속 배선 패턴(101c) 상에 코팅된다. According to an embodiment of the present invention, the insulating layer 120 is formed to coat only the micro metal wiring pattern 101c in a non-contact manner. For example, the insulating film 120 is coated on the micro metal wiring pattern 101c by an ink jet method.

지금까지 도 2 내지 도 6의 제조 과정을 통해 하나의 터치 센서판이 제조될 수 있다. 그리고, 도 2 내지 도 6의 제조 과정을 통해 다른 하나의 터치 센서판을 더 제조 한다. 두 개의 터치 센서판을 구별하기 위하여 전자는 제1터치 센서판(11)으로 지칭하고, 후자는 제2터치 센서판(12)으로 지칭한다. Up to now, one touch sensor plate can be manufactured through the manufacturing process of FIG. 2 to FIG. Then, another touch sensor plate is further manufactured through the manufacturing process of FIGS. 2 to 6. In order to distinguish the two touch sensor plates, the former is referred to as a first touch sensor plate 11 and the latter is referred to as a second touch sensor plate 12.

제1터치 센서판(11) 및 제2터치 센서판(12)은 다음과 같은 점이 상이하다. 제1터치 센서판(11)의 경우 터치 영역에서 복수개의 그래핀 전극들이 행 방향으로 전기적으로 연결되어 연장되도록 형성되며, 이러한 그래핀 전극들의 행이 열 방향으로 복수개 구비된다. 제2터치 센서판(12)의 경우 터치 영역에서 복수개의 그래핀 전극들이 열 방향으로 전기적으로 연결되어 연장되도록 형성되며, 이러한 그래핀 전극들의 열이 행 방향으로 복수개 구비된다.The first touch sensor plate 11 and the second touch sensor plate 12 have the following differences. In the case of the first touch sensor plate 11, a plurality of graphene electrodes are electrically connected in the row direction in the touch region, and a plurality of such rows of graphene electrodes are provided in the column direction. In the case of the second touch sensor plate 12, a plurality of graphene electrodes are electrically connected in a column direction in the touch region, and a plurality of such graphene electrodes are arranged in the row direction.

즉, 제1터치 센서판(11)에 구비된 그래핀 전극 패턴(110e)들과 제2터치 센서판(12)에 구비된 그래핀 전극 패턴(110e)은 중첩할 경우 복수개의 지점에서 교차하는 매트릭스 형태를 갖게된다. 따라서, 사용자의 터치 위치를 x,y 좌표로 인식할 수 있다. That is, the graphene electrode patterns 110e provided on the first touch sensor plate 11 and the graphene electrode patterns 110e provided on the second touch sensor plate 12 intersect at a plurality of points when overlapping each other Matrix form. Therefore, the touch position of the user can be recognized as x, y coordinates.

다음으로, 도 7을 참조하면, 제1터치 센서판(11) 또는 제2터치 센서판(12) 중 그래핀 전극이 형성된 일면에 투명 접착층(13)을 형성하여, 도 8과 같이 제1터치 센서판(11) 및 제2터치 센서판(12)을 접착한다. 7, a transparent adhesive layer 13 is formed on one surface of the first touch sensor plate 11 or the second touch sensor plate 12 on which the graphene electrodes are formed, The sensor plate 11 and the second touch sensor plate 12 are bonded.

그리고 도시되지 않았으나, 제1터치 센서판(11) 또는 제2터치 센서판(12)의 미시 금속 배선 패턴(101c)과 연결되도록 외부 회로 기판을 연결한다. 도 8과 같이 터치 센서판에 복수개의 터치 센서 유닛들이 형성된 경우, 각각의 유닛들이 분리되도록 컷팅하는 작업이 더 추가된다. Although not shown, an external circuit board is connected to be connected to the micro metal wiring pattern 101c of the first touch sensor plate 11 or the second touch sensor plate 12. [ When a plurality of touch sensor units are formed on the touch sensor plate as shown in FIG. 8, an operation of cutting each of the units is further added.

도 9 및 도 10은 본 발명의 다른 실시예에 의한 터치 스크린 패널의 제조 방법 중 일부 단계를 개략적으로 나타낸 평면도 및 단면도이다. 9 and 10 are a plan view and a cross-sectional view schematically showing some steps of a method of manufacturing a touch screen panel according to another embodiment of the present invention.

도 9 및 도 10은 도 3 및 도 4의 단계 대신에 구비될 수 있다. 도 9 및 도 10을 포함하는 다른 실시예는 베이스 기판(100) 상에 그래핀 필름(110)만을 형성하고, 얼라인 마크(101a) 및 거시 금속 배선 패턴(101b)은 금속 물질을 스크린 프린팅과 같은 방법에 의해 형성하는 점이 도 3 및 도 4를 포함하는 실시예와 상이하다. 9 and 10 may be provided instead of the steps of FIG. 3 and FIG. 9 and 10, only the graphene film 110 is formed on the base substrate 100, and the alignment mark 101a and the macro metal wiring pattern 101b are formed by screen printing This embodiment differs from the embodiment including Figs. 3 and 4 in that it is formed by the same method.

도 2의 베이스 기판(100)의 일면에 도 9와 같이 그래핀 필름(110)만 형성하는 과정은 다음과 같다. The process of forming only the graphene film 110 on one side of the base substrate 100 of FIG. 2 as shown in FIG. 9 is as follows.

촉매 금속 필름(101)의 일면에 그래핀 필름(110)을 형성한 후, 노출된 그래핀 필름(110)의 일면에 캐리어 필름을 형성하고 촉매 금속 필름(101)은 제거한다. 그래핀 필름(110)과 캐리어 필름의 적층체를 도 2의 베이스 기판(100)의 일면에 부착한 후에 캐리어 필름을 제거하게 되면, 도 9와 같이 베이스 기판(100)의 일면에 그래핀 필름(110)만 남게 되는 것이다. A graphene film 110 is formed on one side of the catalytic metal film 101 and then a carrier film is formed on one side of the exposed graphene film 110 and the catalytic metal film 101 is removed. When a laminate of the graphene film 110 and the carrier film is attached to one surface of the base substrate 100 of FIG. 2 and then the carrier film is removed, a graphene film (not shown) is formed on one surface of the base substrate 100 110) will remain.

도 9와 같은 경우에는 도 3과 달리 얼라인 마크(101a) 및 거시 금속 배선 패턴(101b)을 형성할 촉매 금속이 없는 상태이므로, 금속 물질, 예를 들어 은(Ag),을 포함하는 페이스트를 스크린 프린팅 방식으로 그래핀 필름(110) 상에 형성하여 도 10의 거시 금속 배선 패턴(101b)을 형성할 수 있다. 9, since there is no catalyst metal to form the alignment mark 101a and the macro metal wiring pattern 101b, a paste containing a metal material, for example, silver (Ag) The macroscopic metal interconnection pattern 101b of FIG. 10 can be formed by being formed on the graphene film 110 by a screen printing method.

도 10 이후에는 도 5 내지 도 9에서 설명한 제조 단계를 그대로 적용할 수 있다. 10 to 10, the fabrication steps described in FIGS. 5 to 9 can be directly applied.

이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the exemplary embodiments, and that various changes and modifications may be made therein without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

11: 제1터치 센서판
12: 제2터치 센서판
13: 접착층
100: 베이스 기판
101b: 거시 금속 배선 패턴
101c: 미시 금속 배선 패턴
101a: 얼라인 마크
101: 촉매 금속 필름
110c: 그래핀 배선 패턴
110: 그래핀 필름
120: 절연막11: first touch sensor plate
12: second touch sensor plate
13: Adhesive layer
100: Base substrate
101b: Macro metal wiring pattern
101c: micro metal wiring pattern
101a: Align mark
101: Catalytic metal film
110c: Graphene wiring pattern
110: Graphene film
120: insulating film

Claims (6)

절연 물질로 이루어진 베이스 기판을 준비하는 단계;
상기 베이스 기판의 일면에 그래핀 필름을 형성하는 단계;
상기 그래핀 필름의 일면에 금속 물질로 이루어진 얼라인 마크 및 상기 금속 물질로 이루어진 거시 금속 배선 패턴을 형성하는 단계;
상기 거시 금속 배선 패턴을 형성한 후, 상기 거시 금속 배선 패턴을 패터닝하여 미시 금속 배선 패턴을 형성하고, 동시에 상기 그래핀 필름을 패터닝하여 상기 미시 금속 배선 패턴과 중첩하며 상기 베이스 기판의 일면에 배치되는 그래핀 배선 패턴 및 상기 그래핀 배선 패턴과 전기적으로 연결되는 그래핀 전극 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 미시 금속 배선 패턴 상에 절연막을 형성하는 단계를 포함하는, 터치 스크린 패널에 포함된 터치 센서판의 제조 방법.Preparing a base substrate made of an insulating material;
Forming a graphene film on one surface of the base substrate;
Forming an alignment mark made of a metal material and a macro metal wiring pattern made of the metal material on one surface of the graphene film;
Forming a macro metal wiring pattern by patterning the macro metal wiring pattern after patterning the graphene film and forming a micro metal wiring pattern on the one surface of the base substrate, Forming a graphene wiring pattern and a graphene electrode pattern electrically connected to the graphen wiring pattern; And
And forming an insulating film on the micro-metal wiring pattern. 제1항에 있어서,
상기 미시 금속 배선 패턴을 형성하고, 그래핀 필름을 패터닝하는 단계는 레이저 패터닝 방식을 사용하는, 터치 스크린 패널에 포함된 터치 센서판의 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein the step of forming the micro metal wiring pattern and patterning the graphene film uses a laser patterning method. 제1항에 있어서,
상기 절연막을 형성하는 단계는 비접촉식으로 상기 미시 금속 배선 패턴 상에 상기 절연막을 코팅하는, 터치 스크린 패널에 포함된 터치 센서판의 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein the step of forming the insulating layer comprises coating the insulating layer on the micro-metal wiring pattern in a non-contact manner. 제1항에 있어서,
상기 베이스 기판의 일면에 그래핀 필름을 형성하는 단계에서 상기 그래핀 필름은 상기 베이스 기판의 일면과 접촉하는 하면에 대향하는 상면에,상기 금속 물질로 이루어진 촉매 금속 필름이 더 구비되고 ,
상기 그래핀 필름의 일면에 금속 물질로 이루어진 얼라인 마크 및 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성하는 단계는 상기 그래핀 필름의 상면과 접촉하는 상기 촉매 금속 필름을 패터닝하여 상기 얼라인 마크 및 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성하는 것인, 터치 스크린 패널에 포함된 터치 센서판의 제조 방법.The method according to claim 1,
Wherein the graphene film includes a catalyst metal film made of a metal material on an upper surface of the graphene film opposite to a bottom surface of the base substrate,
Wherein the step of forming the alignment mark made of a metal material and the macro metal wiring pattern on one surface of the graphene film includes patterning the catalytic metal film in contact with the upper surface of the graphene film, Wherein the pattern is formed on the touch panel. 제4항에 있어서,
상기 촉매 금속 필름을 패터닝하는 단계는, 상기 촉매 금속 필름을 습식 식각의 방법으로 패터닝하여 상기 얼라인 마크 및 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성하는 것인, 터치 스크린 패널에 포함된 터치 센서판의 제조 방법.5. The method of claim 4,
Wherein the step of patterning the catalytic metal film comprises patterning the catalytic metal film by a wet etching method to form the alignment mark and the macro metal wiring pattern, . 제1베이스 기판의 일면에 순차적으로 제1그래핀 필름 및 제1촉매 금속 필름의 적층체를 형성하고, 상기 제1촉매 금속 필름을 패터닝하여 얼라인 마크 및 거시 금속 배선 패턴을 형성하고, 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성한 후 상기 거시 금속 배선 패턴을 패터닝하여 미시 금속 배선 패턴을 형성하고 동시에 상기 제1그래핀 필름을 패터닝하여 상기 미시 금속 배선 패턴과 중첩하며 상기 제1베이스 기판의 일면에 배치되는 그래핀 배선 패턴 및 상기 그래핀 배선 패턴과 전기적으로 연결되며 제1방향으로 연장되는 전극 행들을 열방향으로 복수개 포함하는 그래핀 전극 패턴을 형성하고, 상기 미시 금속 배선 패턴 상에 절연막을 형성하여 제1터치 센서판을 제조하는 단계;
제2베이스 기판의 일면에 순차적으로 제2그래핀 필름 및 제2촉매 금속 필름의 적층체를 형성하고, 상기 제2촉매 금속 필름을 패터닝하여 얼라인 마크 및 거시 금속 배선 패턴을 형성하고, 상기 거시 금속 배선 패턴을 형성한 후 상기 거시 금속 배선 패턴을 패터닝하여 미시 금속 배선 패턴을 형성하고 동시에 상기 제2그래핀 필름을 패터닝하여 상기 미시 금속 배선 패턴과 중첩하며 상기 제2베이스 기판의 일면에 배치되는 그래핀 배선 패턴 및 상기 그래핀 배선 패턴과 전기적으로 연결되며 제2방향으로 연장되는 전극 열들을 행방향으로 복수개 포함하는 그래핀 전극 패턴을 형성하고, 상기 미시 금속 배선 패턴 상에 절연막을 형성하여 제2터치 센서판을 제조하는 단계;
상기 제1터치 센서판 및 상기 제2터치 센서판 사이에 투명 접착층을 개재하여 상기 제1터치 센서판 및 상기 제2터치 센서판을 접착하는 단계; 및
상기 제1터치 센서판의 상기 미시 금속 배선 패턴과 외부 회로 기판을 연결하는 단계를 포함하는, 터치 스크린 패널의 제조 방법.Forming a laminate of a first graphene film and a first catalytic metal film sequentially on one surface of a first base substrate and patterning the first catalytic metal film to form an alignment marks and a macro metal wiring pattern, Forming a micro metal wiring pattern by patterning the macro metal wiring pattern after forming a metal wiring pattern and patterning the first graphene film to overlap the micro metal wiring pattern and being disposed on one surface of the first base substrate Forming a graphene electrode pattern including a plurality of electrode rows electrically connected to the graphene wiring pattern and extending in the first direction in a column direction, forming an insulating film on the micropipetting pattern, Manufacturing a touch sensor plate;
Forming a laminate of a second graphene film and a second catalytic metal film sequentially on one surface of a second base substrate and patterning the second catalytic metal film to form an alignment mark and a macro metal wiring pattern, Forming a micro metal wiring pattern by patterning the macro metal wiring pattern after forming the metal wiring pattern and simultaneously patterning the second graphene film to be superimposed on the micro metal wiring pattern and being disposed on one surface of the second base substrate Forming a graphene electrode pattern including a plurality of graphene wiring patterns and a plurality of electrode rows electrically connected to the graphen wiring pattern and extending in a second direction in a row direction; forming an insulating film on the micro- Manufacturing a touch sensor plate;
Bonding the first touch sensor plate and the second touch sensor plate to each other through a transparent adhesive layer between the first touch sensor plate and the second touch sensor plate; And
And connecting an external circuit board to the micro-metal wiring pattern of the first touch sensor plate.
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