KR101799503B1 - Grinding method for bottom floor surface of architecture - Google Patents

Grinding method for bottom floor surface of architecture

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KR101799503B1 KR1020170049363A KR20170049363A KR101799503B1 KR 101799503 B1 KR101799503 B1 KR 101799503B1 KR 1020170049363 A KR1020170049363 A KR 1020170049363A KR 20170049363 A KR20170049363 A KR 20170049363A KR 101799503 B1 KR101799503 B1 KR 101799503B1
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Abstract

The present invention relates to a method of grinding the floor of a building. According to the present invention, the method of grinding the floor of a building comprises: a wet grinding step of grinding the floor by rotating a grinding blade in which a metal base material is alloyed with diamond partitions while a liquid abrasive mixed with diamond powder is applied to the floor after the floor is watered; a sludge solidifying and removing step of removing sludge waste from the floor by mixing high absorbable resin powder to the liquid sludge waste generated in the wet grinding step and solidifying the sludge waste, wherein the sludge solidifying and removing step is performed after the wet grinding step; and a dry grinding step of grinding the floor by rotating the grinding blade mixed with the diamond particles to a synthetic resin base material, wherein the dry grinding step is performed after the sludge solidifying and removing step. The method of grinding the floor of the building enables effective grinding work and reduces a work time by remarkably reducing a grinding process.

Description

건축물 바닥면 연마 방법{Grinding method for bottom floor surface of architecture}Technical Field [0001] The present invention relates to a method for grinding a floor surface of a building,

본 발명은 건축물 바닥면을 연마하는 방법에 관한 것으로서, 연마 공정과 시간을 획기적으로 단축 시킬 수 있는 연마 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for polishing a floor surface of a building, and more particularly, to a polishing method and a polishing method capable of drastically shortening the time.

일반적으로 건축물의 바닥은 콘크리트, 대리석, 테라조 등으로 시공된다. 최근에 가장 일반적으로 사용되는 건축물의 바닥은 콘크리트이다. 콘크리트 바닥은 건조 비용이 저렴하고 내구성이 강한 장점이 있다. 이러한 건축물의 바닥은 표면 미감과 안전성 확보 및 청소 등 유지를 용이하게 할 수 있도록 바닥 표면을 매끄럽게 연마한다.Generally, the floor of the building is constructed with concrete, marble, terrazzo, etc. Recently, the most commonly used building floor is concrete. Concrete floors have the advantages of low cost of installation and durability. The floor of such a building smoothly polishes the floor surface so as to facilitate surface aesthetics, safety and maintenance such as cleaning.

전통적으로 건축물의 바닥을 연마하는 방법은 습식 공법과 건식 공법이 있다. 습식 공법은 콘크리트와 같은 건축물의 바닥면에 물을 뿌린 후 회전식 연마기로 바닥면을 매끄럽게 연마하는 방법이다. 건식 공법은 건축물의 바닥면에 물을 뿌리지 않은 상태로 회전식 연마기로 바닥면을 연마하는 방법이다. 이러한 공법에 사용되는 연마기의 일 예가 대한민국 공개실용신안 제2016-0000595호에 개시되어 있다.Traditionally, there are wet and dry methods for polishing the floor of a building. The wet method is a method of spraying water on the bottom surface of a concrete such as concrete and smoothly polishing the bottom surface with a rotary grinder. The dry method is a method of grinding the bottom surface with a rotary grinder without sprinkling water on the bottom surface of the building. An example of a polishing machine used in such a method is disclosed in Korean Utility Model Application Publication No. 2016-0000595.

종래의 연마 방법은 다이아몬드가 금속으로 이루어진 연마용 회전판에 합금된 형태의 연마날을 사용하여 건축물의 바닥면의 조도가 거친 정도로부터 순차적으로 고운 정도로 연마날을 바꾸어 가면서 연마하였다. 통상적으로 바닥면의 조도가 거친 면을 연마하는 경우에는 금속 모재에 다이아몬드 입자가 포함되어 있는 연마날을 사용한다. 한편, 바닥면의 조도가 고운 면을 연마하는 경우에는 수지로 이루어진 모재에 다이아몬드 입자가 포함되어 있는 연마날을 사용한다.The conventional polishing method uses a polishing blade in the form of alloyed with a polishing rotary plate made of diamond and polished while varying the polishing edge from roughness to roughness of the bottom surface of the building sequentially. Normally, when polishing the rough surface of the bottom surface, a polishing blade containing diamond particles in the metal base material is used. On the other hand, in the case of polishing a polished surface of a bottom surface, a polishing blade comprising diamond particles in a base material made of resin is used.

종래의 바닥면 연마 방법은 조도가 거친 정도로부터 점점 더 고운 정도로 8단계 내지 10단계의 공정을 순차적으로 수행하는 방법이 사용되었다.Conventional floor surface polishing methods have been used in which the steps of 8 to 10 steps are sequentially performed from a rough roughness to a finer degree.

그런데 종래의 바닥면 연마 방법 습식 공법은 건식 공법에 비하여 연마 단계의 수는 작지만 연마 공정에서 뿌려지는 물과 연마된 바닥면 분진이 혼합되어 형성되는 액상의 슬러지 폐기물이 하천으로 흘러들어 환경을 오염시키는 문제점이 있다. 이에 따라 우리나라에서는 2000년대 중반부터 습식 공법으로 건축물의 바닥면을 연마하는 것을 법으로 금지하고 있다.However, the conventional bottom surface polishing method wet process has a smaller number of polishing steps than the dry process, but liquid sludge waste formed by mixing water sprayed in the polishing process and ground bottom surface dust flows into the river and pollutes the environment There is a problem. As a result, the Korean government has banned the use of the wet floor method to polish the bottom of buildings from the mid-2000s.

한편, 건식 공법은 습식 공법에 비하여 더 많은 연마 단계를 수행하여야 한다. 따라서 작업 시간이 많이 소요되고 투여되는 작업자의 수가 늘어나므로 시공 비용이 비싼 문제점이 있다. 건식 공법은 연마기로 바닥을 연마하는 과정에서 많은 분진이 발생한다. 이 과정에서 발생한 분진은 완전하게 회수하기 어려워 작업장 및 주변의 공기를 오염시키는 문제점이 있다.On the other hand, the dry method should perform more polishing steps than the wet method. Therefore, the work time is long and the number of workers to be administered is increased, so that the construction cost is high. In the dry method, much dust is generated in the course of polishing the floor with a grinder. Dust generated in this process is difficult to be completely recovered, and there is a problem that air polluting the work site and the surrounding area is contaminated.

종래의 건축물 바닥 연마 방법은 상술한 바와 같이 액상의 폐기 슬러지의 처리가 어렵다는 습식 공법의 문제점과, 연마 과정에서 많은 분진이 발생하여 환경을 오염시키는 건식 공법의 문제점이 각각 존재한다. 또한, 종래의 건축물 바닥 연마 방법은 연마 과정에서 연마날에 의해 바닥면에 스크래치가 발생하므로 그 스크래치를 제거하기 위해 조도가 점점 고운 연마날로 순차적으로 구성된 8 내지 10 단계의 연마공정을 수행하여야 하므로 작업 시간이 오래 걸리고 작업 효율이 낮은 문제점이 있다.The conventional floor polishing method of the building has the problems of the wet process that it is difficult to treat the liquid waste sludge and the dry process which pollutes the environment due to the generation of a lot of dust in the polishing process. In addition, in the conventional floor polishing method of a building, since a scratch is generated on a bottom surface by a grinding blade in a grinding process, a grinding process of 8 to 10 stages, which is composed of grinding blades of gradually higher roughness, There is a problem that the time is long and the working efficiency is low.

본 발명의 목적은 상술한 바와 같은 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로서, 건축물 바닥면 연마 방법을 개선함으로써 연마 공정을 현저하게 감축하여 작업 시간이 짧고 효율적인 연마 작업이 가능한 건축물 바닥 연마 방법을 제공하는 데 있다.It is an object of the present invention to provide a method for polishing a floor of a building capable of effectively shortening a polishing time by shortening the polishing time by improving the bottom polishing method of a building have.

상기 목적을 달성하기 위해 본 발명의 일 실시 예에 따른 건축물 바닥면 연마 방법은, 건축물 바닥면을 연마하는 방법으로서,According to an aspect of the present invention, there is provided a method for polishing a floor of a building,

상기 바닥면에 물을 뿌린 후 다이아몬드 분말이 혼합된 액상의 연마제를 상기 바닥면에 도포한 상태에서 금속 모재에 다이아몬드 입자가 합금된 연마날을 회전시켜 상기 바닥면을 연마하는 습식 연마 단계;A wet polishing step of polishing the bottom surface by rotating a polishing blade having diamond particles alloyed with a metal base material in a state in which a bottom surface of the bottom surface is coated with a liquid abrasive mixed with diamond powder after spraying water on the bottom surface;

상기 습식 연마 단계 후에 수행되며, 상기 습식 연마 단계에서 생성된 액상의 슬러지 폐기물에 고흡수성 수지 분말을 혼합하여 상기 슬러지 폐기물을 응고시켜 상기 바닥면으로부터 슬러지 폐기물을 제거하는 슬러지 고형화 및 제거 단계; 및A sludge solidification and removal step performed after the wet polishing step to remove the sludge waste from the bottom surface by solidifying the sludge waste by mixing the superabsorbent resin powder with the liquid sludge waste produced in the wet polishing step; And

상기 슬러지 고형화 및 제거 단계 후에 수행되며, 합성수지 모재에 다이아몬드 입자가 혼입된 연마날을 회전시켜 상기 바닥면을 연마하는 건식 연마 단계;를 포함한 점에 특징이 있다.And a dry polishing step performed after the sludge solidification and removal step, wherein the bottom surface is polished by rotating a polishing blade in which diamond particles are mixed into a synthetic resin base material.

상기 건식 연마 단계는 상기 바닥면에 리튬 실리케이트가 포함된 표면 경화제를 도포하고 건조 시킨 후 상기 바닥면을 연마하는 표면 경화 단계를 포함한 것이 바람직하다.The dry polishing step preferably includes a surface hardening step of applying a surface hardening agent containing lithium silicate to the bottom surface, drying and then polishing the bottom surface.

상기 표면 경화 단계 후에 수행되며, 상기 바닥면에 액상의 광택제를 분무하고 천으로 이루어진 패드로 상기 바닥면에 상기 광택제가 고르게 도포되도록 한 후 자연 건조하고 회전되는 연마날로 상기 바닥면에 광택을 내는 표면 광택 단계를 포함한 것이 바람직하다.A polishing liquid sprayed on the bottom surface, a pad made of cloth so as to uniformly apply the polishing liquid to the bottom surface, a naturally drying and rotating polishing blade, It is preferable to include a gloss step.

상기 습식 연마 단계에서 상기 바닥면에 물을 뿌린 후, 상기 액상의 연마제를 뿌리는 것이 바람직하다.In the wet polishing step, it is preferable to spray water on the bottom surface and then spray the liquid abrasive.

상기 액상의 연마제는 수용성인 것이 바람직하다.The liquid abrasive is preferably water-soluble.

본 발명에 따른 건축물 바닥면 연마 방법은, 다이아몬드 분말이 포함된 액상의 연마제를 사용한 습식 연마 단계에서 다이아몬드 분말이 연마 단계에서 발생하는 스크래치를 제거함으로써 스크래치 제거를 위한 후속 연마 단계가 생략될 수 있으므로 연마 공정을 현저하게 단축함으로써 연마 작업시간이 짧고 연마 효율성이 높은 건축물 바닥면 연마 방법을 제공하는 효과가 있다. 또한 본 발명에 따른 건축물 바닥면 연마 방법은 습식 연마 단계에서 발생하는 액상의 슬러지를 고흡수성 수지 분말을 사용하여 신속하게 고형화시켜 제거함으로써 주변 하천이 오염되는 것을 방지하는 효과가 있다.The method for polishing a floor of a building according to the present invention is a method for polishing a floor of a building by removing scratches generated in a polishing step of diamond powder in a wet polishing step using a liquid abrasive containing diamond powder so that a subsequent polishing step for scratch removal can be omitted, It is possible to provide a method of polishing a floor surface of a building having a short polishing time and a high polishing efficiency. In addition, the method of polishing a floor of a building according to the present invention has the effect of preventing contamination of surrounding rivers by rapidly solidifying and removing the liquid sludge generated in the wet polishing step by using the superabsorbent resin powder.

도 1은 본 발명에 따른 건축물 바닥면 연마 방법의 공정도이다.
도 2는 도 1에 도시된 습식 연마 단계에서 물 또는 액상의 연마제를 뿌리는 방법의 일 예를 보여주는 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 습식 연마 단계에서 연마날이 바닥면을 연마하는 상태를 보여주는 도면이다.
도 4는 도 1에 도시된 슬러지 고형화 및 제거 단계에서 응고된 슬러지를 제거하는 방법의 일 예를 보여주는 도면이다.
도 5는 도 1에 도시된 광택 단계에서 광택제를 바닥에 바르고 패드로 고르게 도포하는 상태를 보여주는 도면이다.
도 6은 도 1에 도시된 건식 연마 단계에서 연마날이 바닥면을 연마하는 상태를 보여주는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a process diagram of a floor surface polishing method according to the present invention. FIG.
FIG. 2 is a view showing an example of a method of spraying water or a liquid abrasive in the wet polishing step shown in FIG. 1. FIG.
Fig. 3 is a view showing a state in which the polishing blade polishes the bottom surface in the wet polishing step shown in Fig. 1. Fig.
FIG. 4 is a view showing an example of a method for removing sludge solidified in the sludge solidification and removal step shown in FIG. 1;
FIG. 5 is a view showing a state in which the polishing agent is applied to the floor in the polishing step shown in FIG. 1 and evenly coated with the pad.
FIG. 6 is a view showing a state in which the polishing blade polishes the bottom surface in the dry polishing step shown in FIG. 1;

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하면서 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 건축물 바닥면 연마 방법의 공정도이다. 도 2는 도 1에 도시된 습식 연마 단계에서 물 또는 액상의 연마제를 뿌리는 방법의 일 예를 보여주는 도면이다. 도 3은 도 1에 도시된 습식 연마 단계에서 연마날이 바닥면을 연마하는 상태를 보여주는 도면이다. 도 4는 도 1에 도시된 슬러지 고형화 및 제거 단계에서 응고된 슬러지를 제거하는 방법의 일 예를 보여주는 도면이다. 도 5는 도 1에 도시된 광택 단계에서 광택제를 바닥에 바르고 패드로 고르게 도포하는 상태를 보여주는 도면이다. 도 6은 도 1에 도시된 건식 연마 단계에서 연마날이 바닥면을 연마하는 상태를 보여주는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a process diagram of a floor surface polishing method according to the present invention. FIG. FIG. 2 is a view showing an example of a method of spraying water or a liquid abrasive in the wet polishing step shown in FIG. 1. FIG. Fig. 3 is a view showing a state in which the polishing blade polishes the bottom surface in the wet polishing step shown in Fig. 1. Fig. FIG. 4 is a view showing an example of a method for removing sludge solidified in the sludge solidification and removal step shown in FIG. 1; FIG. 5 is a view showing a state in which the polishing agent is applied to the floor in the polishing step shown in FIG. 1 and evenly coated with the pad. FIG. 6 is a view showing a state in which the polishing blade polishes the bottom surface in the dry polishing step shown in FIG. 1;

도 1 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 건축물 바닥면 연마 방법은 콘크리트, 대리석, 테라조 등의 소재로 이루어진 건축물의 바닥면(10)을 연마하는 방법이다. 상기 건축물 바닥면 연마 방법은, 습식 연마 단계(S10)와, 슬러지 고형화 및 제거 단계(S20)와, 건식 연마 단계(S30)를 포함한다.Referring to FIGS. 1 to 6, a floor surface polishing method according to a preferred embodiment of the present invention is a method of polishing a bottom surface 10 of a building made of concrete, marble, terrazzo, or the like. The building floor surface polishing method includes a wet polishing step (S10), a sludge solidification and removal step (S20), and a dry polishing step (S30).

상기 습식 연마 단계(S10)에서는 먼저 상기 바닥면(10)에 물을 충분히 뿌린다. 상기 물을 뿌리는 방법은 공지된 물조리개를 사용하여 작업을 수행할 수 있다. 상기 바닥면(10)에 물을 뿌린 후 액상의 연마제를 도포한다. 상기 액상의 연마제는 다이아몬드 분말을 포함한다. 상기 다이아몬드 분말은 나노미터(nanometer) 크기로 매우 미세한 입자로 이루어진 것이 바람직하다. 상기 액상의 연마제를 바닥면(10)에 뿌리는 방법은 상술한 바와 같이 물조리개를 사용하여 작업을 수행할 수 있다. 이제 모터에 의해 구동되는 연마날(30)을 회전시켜 상기 바닥면(10)을 연마한다. 상기 습식 연마 단계(S10)에서 사용되는 연마날(30)은 주철, 탄소강, 알루미늄 등과 같은 금속 소재로 된 모재에 다이아몬드 입자가 합금 된 연마날을 사용한다. 상기 습식 연마 단계(S10)에서 상기 액상의 연마제를 구성하는 용매는 상기 연마날(30)이 회전하는 과정에서 윤활제 역할을 한다. 따라서 상기 액상의 연마제를 구성하는 용매는 물에 잘 녹을 수 있는 수용성 용매로 이루어진 것이 바람직하다. 한편, 상기 액상의 연마제에 포함된 다이아몬드 분말은 상기 연마날(30)이 회전하며 상기 바닥면(10)을 연마하는 과정에서 발생되는 바닥면(10)의 스크래치(scratch)를 제거하는 역할을 한다. 상기 액상의 연마제에 포함된 다이아몬드 분말의 크기가 나노미터 단위로 매우 작기 때문에 상기 습식 연마 단계(S10)에서 연마된 바닥면의 조도(roughness)는 종래의 습식 연마 공정에 비하여 낮아서 연마된 바닥면(10)은 고운 상태가 된다.In the wet polishing step (S10), water is sufficiently sprayed on the bottom surface (10). The method of spraying the water can be carried out by using a known water stop. After the bottom surface 10 is sprayed with water, a liquid abrasive is applied. The liquid abrasive includes diamond powder. The diamond powder is preferably nanometer sized and made of very fine particles. The method of spraying the liquid abrasive on the bottom surface 10 can be performed by using a water diaphragm as described above. Now, the bottom surface 10 is polished by rotating the polishing blade 30 driven by the motor. The polishing blade 30 used in the wet polishing step S10 uses a polishing blade having a diamond particle alloyed with a base material made of a metal material such as cast iron, carbon steel, aluminum or the like. In the wet polishing step (S10), the solvent constituting the liquid abrasive agent serves as a lubricant in the process of rotating the abrasive blade (30). Therefore, the solvent constituting the liquid abrasive is preferably composed of a water-soluble solvent which is soluble in water. Meanwhile, the diamond powder included in the liquid abrasive agent serves to remove the scratch on the bottom surface 10 generated during the polishing of the bottom surface 10 by rotating the polishing blade 30 . Since the size of the diamond powder contained in the liquid abrasive is very small in the nanometer scale, the roughness of the ground surface polished in the wet polishing step S10 is lower than that of the conventional wet polishing process, 10) is in a good state.

상기 슬러지 고형화 및 제거 단계(S20)는 상기 습식 연마 단계(S10) 후에 수행된다. 상기 슬러지 고형화 및 제거 단계(S20)에서는 상기 습식 연마 단계(S10)에서 생성된 액상의 슬러지 폐기물을 응고시켜 제거한다. 상기 슬러지 고형화 및 제거 단계(S20)에서는 액상의 슬러지 폐기물(40)에 고흡수성 수지 분말을 혼합하여 상기 슬러지 폐기물(40)을 응고시킨다. 상기 고흡수성 수지 분말은 예컨대 아크릴산과 가소성소다를 혼합해 제조한 백색 분말 형태의 합성수지가 채용될 수 있다. 상기 고흡수성 수지 분말은 자체 무게의 500배까지 수분을 흡수하는 능력이 있어서 기저귀, 여성용품, 전선 방수제 등에 널리 사용되고 있는 상용 물질이 채용될 수 있다. 상기 슬러지 폐기물(40)과 상기 고흡수성 수지 분말이 혼합되면, 상기 슬러지 폐기물(40)에 포함된 수분이 상기 고흡수성 수지에 흡수됨으로써 상기 슬러지 폐기물(40)과 상기 고흡수성 수지는 서로 부착된 상태로 딱딱한 입자 형태가 된다. 상기 고흡수성 수지 분말을 바닥면(10)에 생성된 액상의 슬러지 폐기물(40)에 골고루 일정한 두께로 뿌려 준다. 그리고 30분 정도의 시간을 기다린다. 이와 같이 고형화된 슬러지 폐기물(40)은 제설 삽과 같은 도구를 사용하여 사람이 상기 바닥면(10)으로부터 제거할 수 있다. 한편, 고형화된 슬러지 폐기물(40)은 스크러버(scrubber)와 같은 공지의 자동화된 도구나 산업용 진공청소기(50)를 사용하여 상기 바닥면(10)으로부터 제거할 수 있다.The sludge solidification and removal step S20 is performed after the wet polishing step S10. In the sludge solidification and removal step (S20), the liquid sludge waste produced in the wet polishing step (S10) is solidified and removed. In the sludge solidification and removal step (S20), the sludge waste (40) is solidified by mixing the superabsorbent resin powder with the liquid sludge waste (40). The superabsorbent resin powder may be, for example, a synthetic resin in the form of a white powder prepared by mixing acrylic acid and soda ash. The superabsorbent resin powder has a capability of absorbing moisture up to 500 times its own weight, so that a commercially available material widely used in diapers, women's products, electric wire waterproofing agents, etc. can be employed. When the sludge waste 40 and the superabsorbent resin powder are mixed, the moisture contained in the sludge waste 40 is absorbed by the superabsorbent resin, so that the sludge waste 40 and the superabsorbent resin are adhered to each other Resulting in a hard particle shape. The superabsorbent resin powder is uniformly sprayed on the liquid sludge waste 40 generated on the bottom surface 10. And wait for about 30 minutes. The solidified sludge waste 40 may be removed from the bottom surface 10 using a tool such as a snow shovel. On the other hand, the solidified sludge waste 40 may be removed from the bottom surface 10 using a known automated tool such as a scrubber or an industrial vacuum cleaner 50.

상기 건식 연마 단계(S30)는 상기 슬러지 고형화 및 제거 단계(S20) 후에 수행된다. 상기 건식 연마 단계(S30)에서 사용되는 연마날은 합성수지 모재에 다이아몬드 입자가 혼입된 연마날을 사용한다. 연마날의 모재가 합성수지인 경우 바닥면(10)에 스크래치를 현저하게 덜 발생시키는 효과가 있다. 즉, 합성수지의 경도가 연마되는 바닥면(10)의 경도보다 낮기 때문에 연마날의 모재(matrix)가 바닥면(10)에 스크래치를 훨씬 덜 형성시킨다. 상기 건식 연마 단계(S30)에서 사용되는 연마날도 모터에 의해 회전됨으로써 바닥면(10)을 연마한다. 상기 건식 연마 단계(S30)에서는 약간의 분진이 발생할 수 있으나 본 발명에서 수행되는 건식 연마 단계(S30)는 종래에 비하여 현저하게 단순하므로 발생 되는 분진의 양은 종래에 비하여 현저하게 적다.The dry polishing step (S30) is performed after the sludge solidification and removal step (S20). The polishing blade used in the dry polishing step (S30) uses a polishing blade in which diamond particles are mixed in the synthetic resin base material. When the base material of the polishing blade is a synthetic resin, scratches on the bottom surface 10 are remarkably less generated. That is, since the hardness of the synthetic resin is lower than the hardness of the bottom surface 10 to be polished, the matrix of the polishing edge forms less scratches on the bottom surface 10. The polishing blade used in the dry polishing step (S30) is also rotated by the motor to polish the bottom surface (10). In the dry polishing step (S30), some dust may occur. However, the dry polishing step (S30) performed in the present invention is significantly simpler than in the prior art, so that the amount of dust generated is significantly smaller than in the prior art.

상기 건식 연마 단계(S30)는 표면 경화 단계(S40)와 표면 광택 단계(S50)를 포함한다.The dry polishing step S30 includes a surface hardening step S40 and a surface polishing step S50.

상기 표면 경화 단계(S40)에서는 상기 바닥면(10)에 리튬 실리케이트(Lithium Silicate)가 포함된 표면 경화제를 도포하고 건조 시킨다. 그리고 상기 바닥면(10)을 다이아몬드 분말이 포함된 합성수지 소재의 연마날을 회전시켜 연마한다. 상기 표면 경화제는 리튬 실리케이트 분말이 포함된 액상의 물질이 채용될 수 있다.In the surface hardening step S40, a surface hardening agent containing lithium silicate is applied to the bottom surface 10 and dried. Then, the bottom surface 10 is polished by rotating a polishing blade made of a synthetic resin material containing diamond powder. The surface hardener may be a liquid material containing lithium silicate powder.

상기 표면 광택 단계(S50)는 상기 표면 경화 단계 후에 수행된다. 상기 표면 광택 단계(S50)에서는 상기 바닥면(10)에 액상의 광택제를 분무하고 천으로 이루어진 패드(60, pad)로 상기 바닥면(10)에 상기 광택제가 고르게 도포되도록 한다 상기 바닥면(10)에 도포된 광택제는 대기 중에서 자연 건조 시킨다. 이제 다이아몬드 분말이 혼합된 합성수지 연마날이 구비된 회전 연마기로 상기 바닥면(10)에 광택을 낸다. 상기 표면 광택 단계(S50)에서는 스펀지(sponge)와 같은 부재가 연마날에 부착될 수 있다.The surface polishing step (S50) is performed after the surface hardening step. In the surface polishing step S50, a liquid brightening agent is sprayed on the bottom surface 10 and the polishing agent is evenly applied to the bottom surface 10 with a cloth pad 60. The bottom surface 10 ) Is naturally dried in the air. Now, the bottom surface 10 is polished with a rotary polishing machine equipped with a synthetic resin polishing blade mixed with diamond powder. In the surface polishing step (S50), a member such as a sponge may be attached to the polishing blade.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 건축물 바닥면 연마 방법은, 다이아몬드 분말이 포함된 액상의 연마제를 사용한 습식 연마 단계에서 다이아몬드 분말이 연마 단계에서 발생하는 스크래치를 제거함으로써 스크래치 제거를 위한 후속 연마 단계가 생략될 수 있으므로 연마 공정을 현저하게 단축함으로써 연마 작업시간이 짧고 연마 효율성이 높은 건축물 바닥면 연마 방법을 제공하는 효과가 있다. 또한, 본 발명에 따른 건축물 바닥면 연마 방법은 습식 연마 단계에서 발생하는 액상의 슬러지 폐기물을 고흡수성 수지 분말을 사용하여 신속하게 고형화시켜 제거함으로써 주변 하천이 오염되는 것을 방지하는 효과가 있다.As described above, in the method for polishing a floor of a building according to the present invention, a polishing step for removing scratches is omitted in the wet polishing step using a liquid abrasive containing diamond powder by removing the scratches generated in the polishing step of the diamond powder It is possible to provide a method of polishing a floor surface of a building having a short polishing time and a high polishing efficiency by remarkably shortening the polishing process. In addition, the method of polishing a floor surface of a building according to the present invention has the effect of preventing contamination of surrounding rivers by rapidly solidifying and removing the liquid sludge waste generated in the wet polishing step using the superabsorbent resin powder.

이상, 바람직한 실시 예를 들어 본 발명에 대해 설명하였으나, 본 발명이 그러한 예에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범주 내에서 다양한 형태의 실시 예가 구체화될 수 있을 것이다.While the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, it is to be understood that the invention is not to be limited by the example, and various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention.

10 : 바닥면
20 : 다이아몬드 분말
30 : 연마날
40 : 슬러지 폐기물
50 : 진공 청소기
60 : 패드
S10 : 습식 연마 단계
S20 : 슬러지 고형화 및 제거 단계
S30 : 건식 연마 단계
S40 : 표면 경화 단계
S50 : 표면 광택 단계10: bottom surface
20: Diamond powder
30: Abrasive blade
40: Sludge waste
50: Vacuum cleaner
60: Pad
S10: wet polishing step
S20: Sludge solidification and removal steps
S30: Dry polishing step
S40: Surface hardening step
S50: Surface gloss step

Claims (4)

건축물 바닥면을 연마하는 방법으로서,
상기 바닥면에 물을 뿌린 후 다이아몬드 분말이 혼합된 액상의 연마제를 상기 바닥면에 도포한 상태에서 금속 모재에 다이아몬드 입자가 합금된 연마날을 회전시켜 상기 바닥면을 연마하는 습식 연마 단계;
상기 습식 연마 단계 후에 수행되며, 상기 습식 연마 단계에서 생성된 액상의 슬러지 폐기물에 고흡수성 수지 분말을 혼합하여 상기 슬러지 폐기물을 응고시켜 상기 바닥면으로부터 슬러지 폐기물을 제거하는 슬러지 고형화 및 제거 단계; 및
상기 슬러지 고형화 및 제거 단계 후에 수행되며, 합성수지 모재에 다이아몬드 입자가 혼입된 연마날을 회전시켜 상기 바닥면을 연마하는 건식 연마 단계;를 포함한 것을 특징으로 하는 건축물 바닥면 연마 방법.A method of polishing a floor of a building,
A wet polishing step of polishing the bottom surface by rotating a polishing blade having diamond particles alloyed with a metal base material in a state in which a bottom surface of the bottom surface is coated with a liquid abrasive mixed with diamond powder after spraying water on the bottom surface;
A sludge solidification and removal step performed after the wet polishing step to remove the sludge waste from the bottom surface by solidifying the sludge waste by mixing the superabsorbent resin powder with the liquid sludge waste produced in the wet polishing step; And
And a dry polishing step performed after the step of solidifying and removing the sludge and polishing the bottom surface by rotating a polishing blade in which diamond particles are mixed into a synthetic resin base material. 제1항에 있어서,
상기 건식 연마 단계는 상기 바닥면에 리튬 실리케이트가 포함된 표면 경화제를 도포하고 건조 시킨 후 상기 바닥면을 연마하는 표면 경화 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 건축물 바닥면 연마 방법.The method according to claim 1,
Wherein the dry polishing step includes a surface hardening step of applying a surface hardening agent containing lithium silicate to the bottom surface, and drying and then polishing the bottom surface. 제2항에 있어서,
상기 표면 경화 단계 후에 수행되며, 상기 바닥면에 액상의 광택제를 분무하고 천으로 이루어진 패드로 상기 바닥면에 상기 광택제가 고르게 도포되도록 한 후 자연 건조하고 회전되는 연마날로 상기 바닥면에 광택을 내는 표면 광택 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 건축물 바닥면 연마 방법.3. The method of claim 2,
A polishing liquid sprayed on the bottom surface, a pad made of cloth so as to uniformly apply the polishing liquid to the bottom surface, a naturally drying and rotating polishing blade, Wherein the polishing step comprises a polishing step. 제1항에 있어서,
상기 습식 연마 단계에서 상기 바닥면에 물을 뿌린 후, 상기 액상의 연마제를 뿌리는 것을 특징으로 하는 건축물 바닥면 연마 방법.The method according to claim 1,
And water is sprayed on the bottom surface in the wet polishing step, and then the liquid abrasive is sprayed.
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