KR101764835B1 - Apparatus of processing anti-counterfeiting pattern - Google Patents

Apparatus of processing anti-counterfeiting pattern Download PDF

Info

Publication number
KR101764835B1
KR101764835B1 KR1020140169132A KR20140169132A KR101764835B1 KR 101764835 B1 KR101764835 B1 KR 101764835B1 KR 1020140169132 A KR1020140169132 A KR 1020140169132A KR 20140169132 A KR20140169132 A KR 20140169132A KR 101764835 B1 KR101764835 B1 KR 101764835B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical element
diffractive optical
pattern
laser beam
laser
Prior art date
Application number
KR1020140169132A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160064880A (en
Inventor
노지환
손현기
강희신
Original Assignee
한국기계연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국기계연구원 filed Critical 한국기계연구원
Priority to KR1020140169132A priority Critical patent/KR101764835B1/en
Priority to PCT/KR2015/001251 priority patent/WO2015119459A1/en
Priority to US15/116,293 priority patent/US10388098B2/en
Publication of KR20160064880A publication Critical patent/KR20160064880A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101764835B1 publication Critical patent/KR101764835B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36—Removing material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/40—Manufacture
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

본 발명의 한 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치는 레이저 빔을 방출하는 레이저 발진기, 레이저 발진기로부터 발생된 레이저 빔을 복수의 가공빔으로 분기 시키는 회절광학소자, 회절광학소자를 회전시키는 회전 구동부, 가공빔을 각각 반사하여 가공 대상물에 상기 가공빔을 함께 조사시켜 상기 가공 대상물을 가공하는 한 쌍의 반사 거울을 포함한다.An apparatus for generating an anti-fake pattern according to an embodiment of the present invention includes a laser oscillator for emitting a laser beam, a diffractive optical element for splitting the laser beam generated from the laser oscillator into a plurality of processing beams, a rotation driving unit for rotating the diffractive optical element, And a pair of reflection mirrors each reflecting the processing beam and irradiating the processing object with the processing beam to process the object.

Description

위조 방지 패턴 생성 장치{APPARATUS OF PROCESSING ANTI-COUNTERFEITING PATTERN}[0001] APPARATUS OF PROCESSING ANTI-COUNTERFEITING PATTERN [0002]

본 발명은 위조 방지 패턴 생성 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for generating an anti-fake pattern.

최근 진위 여부를 쉽게 가리기 어려울 정도로 정교하게 위조된 10만원권 위조 수표가 나타나는 등 위, 변조 사건이 위험 수위에 이르렀다고 판단한 금융감독당국은 위조 사건이 빈발한 수표의 불법 위, 변조를 방지하기 위하여 수표의 사용 절차 개선 및 수표 디자인, 재질 변경 등의 다양한 방안을 검토 하고 있다고 한다.The Financial Supervisory Authority, which has determined that the incident has reached a dangerous level, such as the appearance of counterfeit checks of about 100,000 won, which have been falsified to the extent that it is difficult to easily obscure the truth, To improve the procedure of use, to design checks, and to change materials.

수표 위조 방지 분야에서는 돌출 은화, 무궁화 은화, 이색성 형광 잉크 등의 기술이 적용되고 있으나, 보통 자외선이나 밝은 빛을 비추어 위조 여부를 관찰하게 되어 있다. 대부분 육안으로 판정하기 때문에 판별자 개인에 따른 오차가 있을 수 있다. In the field of anti-counterfeiting checks, techniques such as protruding silver, mugunghwa silver, and dichromatic fluorescent ink are applied, but they are usually observed for falsification in the light of ultraviolet rays or bright light. Since it is mostly judged by the naked eye, there may be an error depending on the discriminator individual.

따라서 보다 적은 비용으로 보다 신속하게 위조 방지 패턴을 생성하여 수표 등의 대상에 적용할 수 있는 위조 방지 패턴 생성 기술과 이러한 위조 방지 패턴을 적은 비용으로 신속하게 검출할 수 있는 위조 방지 패턴 검출 기술의 도입이 요구되고 있다. Therefore, a counterfeiting prevention pattern generation technique capable of generating an anti-counterfeiting pattern more quickly at a lower cost and applicable to an object such as a check, and the introduction of anti-countermeasure pattern detection technology capable of quickly detecting such an anti- .

뿐만 아니라, 수표 이외에도 명품, 보석류, 고문서, 기밀 문서, 여권 등 다양한 분야에서 위조방지 기술이 요구되고 있는 실정이다.In addition, anti-counterfeiting technology is required in various fields such as luxury goods, jewelery, old documents, confidential documents and passports in addition to checks.

따라서 본 발명은 용이하게 위조 방지 패턴을 생성할 수 있는 위조 방지 패턴 생성 장치를 제공하는 것이다.Therefore, it is an object of the present invention to provide an apparatus for generating an anti-fake pattern capable of easily generating an anti-fake pattern.

따라서 본 발명의 한 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치는 레이저 빔을 방출하는 레이저 발진기, 레이저 발진기로부터 발생된 레이저 빔을 복수의 가공빔으로 분기 시키는 회절광학소자, 회절광학소자를 회전시키는 회전 구동부, 가공빔을 각각 반사하여 가공 대상물에 상기 가공빔을 함께 조사시켜 상기 가공 대상물을 가공하는 한 쌍의 반사 거울을 포함한다.Accordingly, the apparatus for generating an anti-fake pattern according to an embodiment of the present invention includes a laser oscillator for emitting a laser beam, a diffractive optical element for splitting the laser beam generated from the laser oscillator into a plurality of processing beams, And a pair of reflection mirrors each reflecting the processing beam and irradiating the processing object with the processing beam to process the object.

상기 레이저 발진기와 상기 회절 광학 소자 사이에 설치되며, 레이저 빔의 직경을 제어하는 빔 리듀서를 더 포함할 수 있다.And a beam reducer provided between the laser oscillator and the diffractive optical element and controlling the diameter of the laser beam.

상기 빔 리듀서는 상기 레이저 빔이 지나가는 경로상에 연속적으로 배치된 볼록 렌즈 및 오목 렌즈를 포함할 수 있다.The beam reducer may include a convex lens and a concave lens continuously arranged on a path through which the laser beam passes.

상기 회절광학소자는 상기 레이저 빔을 직경 방향으로 서로 이격된 2개의 1차 회절광으로 분기된 가공빔을 생성할 수 있다.The diffractive optical element can generate a machining beam that is branched into two first-order diffracted lights spaced apart from each other in the radial direction of the laser beam.

상기 회절광학소자는 원형의 외곽을 가지는 원형 플레이트 형상으로 구성되고, 회전 구동부는, 상기 회절광학소자의 일측에 구비된 풀리(pulley)와, 상기 회절광학소자의 외곽과 상기 풀리를 함께 연결하여 상기 풀리가 회전함에 따라 상기 회절광학소자를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성된 구동 벨트를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.Wherein the diffractive optical element is formed in a circular plate shape having a circular outer shape, and the rotation driving section includes a pulley provided on one side of the diffractive optical element, and a pulley provided on the outer side of the diffractive optical element, And a drive belt configured to rotate the diffractive optical element at a predetermined angle as the pulley rotates.

상기 회절광학소자는 원형의 외곽을 가지며 원주를 따라 톱니가 형성되고, 회전 구동부는, 상기 회절광학소자의 원주 톱니와 치합되는 구동회전 기어가 구비되어 회절광학소자를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성될 수 있다.Wherein the diffractive optical element has a circular outer shape and a sawtooth is formed along the circumference of the diffractive optical element, and the rotary drive unit includes a drive rotary gear that is engaged with the circumferential teeth of the diffractive optical element to rotate the diffractive optical element at a predetermined angle .

상기한 과제를 달성하기 위한 다른 위조 방지 패턴 생성 장치는 레이저 빔을 방출하는 레이저 발진기, 레이저 발진기로부터 발생된 레이저 빔을 복수의 가공빔으로 분기 시키는 빔 스플리터, 가공빔을 각각 반사하여 가공 대상물에 상기 가공빔을 함께 조사시켜 상기 가공 대상물을 가공하는 한 쌍의 반사 거울을 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for generating an anti-fake pattern including a laser oscillator for emitting a laser beam, a beam splitter for branching a laser beam generated from the laser oscillator into a plurality of processing beams, And a pair of reflecting mirrors for irradiating the processing beams to process the object to be processed.

상기 레이저 발진기와 빔 스플리터 사이에 설치되며 레이저 빔의 직경을 제어하는 빔 리듀서를 더 포함할 수 있다.And a beam reducer provided between the laser oscillator and the beam splitter and controlling the diameter of the laser beam.

상기 빔 리듀서는 상기 레이저 빔이 지나가는 경로상에 연속적으로 배치된 볼록 렌즈 및 오목 렌즈를 포함할 수 있다.The beam reducer may include a convex lens and a concave lens continuously arranged on a path through which the laser beam passes.

상기 가공 대상물이 안착되며, 상기 가공 대상물을 일정한 각도로 회전시키는 스테이지를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a stage on which the object to be processed is placed and on which the object is rotated at a predetermined angle.

본 발명에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 이용하면 용이하게 위조 방지 패턴을 형성할 수 있다.The anti-falsification pattern can be easily formed by using the anti-falsification pattern generating apparatus according to the present invention.

또한, 레이저 빔이 집속 렌즈를 통과하지 않으므로 에어브레이크다운 현상이 발생하지 않는다.Further, since the laser beam does not pass through the focusing lens, an air break-down phenomenon does not occur.

도1 및 도 2 본 발명의 제1 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도로, 도 1은 제1 패턴 상태를 도시한 것이고, 도 2는 제2 패턴 상태를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 회절광학소자를 구비한 위조방지 패턴 생성장치에서 회전 구동부의 변형예를 도시한 사시도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 위조방지 패턴 생성장치에 적용될 수 있는 회절광 선별기를 도시한 정면도이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.
도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.
도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.1 and 2 are diagrams showing an apparatus for generating an anti-fog pattern according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a first pattern state, and FIG. 2 shows a second pattern state.
3 is a block diagram showing an apparatus for generating an anti-falsification pattern according to a second embodiment of the present invention.
4 is a perspective view showing a modification of the rotation driving unit in the apparatus for generating an anti-fog pattern with the diffractive optical element according to the first embodiment of the present invention.
5 is a front view showing a diffraction grating separator that can be applied to the apparatus for generating an anti-fake pattern according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a block diagram showing an apparatus for generating an anti-falsification pattern according to a second embodiment of the present invention.
7 is a block diagram showing an apparatus for generating an anti-falsification pattern according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a block diagram showing an apparatus for generating an anti-falsification pattern according to a fourth embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐만 아니라, 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"된 것도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is referred to as being "connected" to another part, it includes not only "directly connected" but also "indirectly connected" between other parts. Also, when a part is referred to as "including " an element, it does not exclude other elements unless specifically stated otherwise.

본 발명에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치는 레이저 발진기, 빔 분할기 및 패턴 가공부를 포함한다. 이에 대해서는 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하도록 한다.An apparatus for generating an anti-fake pattern according to the present invention includes a laser oscillator, a beam splitter, and a pattern processing unit. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings.

도1 및 도 2 본 발명의 제1 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도로, 도 1은 제1 패턴 상태를 도시한 것이고, 도 2는 제2 패턴 상태를 도시한 것이고, 도3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.Fig. 1 shows a first pattern state, Fig. 2 shows a second pattern state, Fig. 2 shows a second pattern state, Fig. 3 is a configuration diagram illustrating an apparatus for generating an anti-fake pattern according to a second embodiment of the present invention.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 한 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치(1000)는 레이저 발진기(100), 회절광학소자(diffractive optical element, DOE)(200) 및 패턴 가공부(300)를 포함한다. 1, an apparatus 1000 for generating an anti-fake pattern according to an embodiment of the present invention includes a laser oscillator 100, a diffractive optical element (DOE) 200, and a pattern processing unit 300 ).

레이저 발진기(100)는 레이저 빔(L)을 방출하며, 방출된 레이저 빔(L)은 회절 광학소자(200)에 입사되어 회절되면서 복수의 가공빔(LL1, LL2)으로 분기된다. 복수의 가공빔은 패턴 가공부에서 반사된 후 가공 대상물에 조사되며, 이렇게 조사된 가공빔에 의해 가공 대상물(400)에 미세 패턴(44)이 형성될 수 있다.The laser oscillator 100 emits a laser beam L and the emitted laser beam L is incident on the diffractive optical element 200 and diffracted into a plurality of processing beams LL1 and LL2. The plurality of processing beams are reflected by the pattern processing unit and then irradiated onto the object to be processed, and the fine pattern 44 can be formed on the object to be processed 400 by the irradiated processing beam.

미세 패턴(44)은 일 방향으로 긴 형태의 복수의 홈(groove) 일 수 있다.The fine pattern 44 may be a plurality of long grooves in one direction.

본 실시예에서 회절 광학 소자(200)는 빔 분할기로, 라인 패턴이 형성되어 레이저 빔(L)을 직경 방향으로 서로 이격된 2개의 1차 회절광으로 분기된 가공빔(LL1, LL2)을 생성하도록 구성된다. 회절광은 상기한 바와 같은 1차 회절광 외에도 입사된 빔 방향으로 진행하는 0차 회절광이 있으며, 2차, 3차 등의 고차항 회절광도 존재한다. 회절광학소자의 0차 회절광과 고차항 회절광의 레이저 파워는 최소(대략 5%미만)가 되고, 1차 회절광의 레이저 파워는 최대(대략 95% 이상)가 되도록 패턴 설계하여 적용할 수 있다.In the present embodiment, the diffraction optical element 200 is a beam splitter, and a line pattern is formed to generate the laser beams L, which are branched into two first-order diffracted light beams LL1 and LL2, which are spaced apart from each other in the radial direction . In addition to the above-described first-order diffracted light, the diffracted light has 0th-order diffracted light traveling in the direction of the incident beam, and there exists also high-order diffracted light such as secondary and tertiary. The pattern power can be designed and applied so that the laser power of the 0th-order diffracted light and the high-order diffracted light of the diffractive optical element becomes minimum (approximately less than 5%) and the laser power of the first-order diffracted light becomes maximum (approximately 95% or more).

회절광학소자(200)는 레이저 빔(L)이 입사되는 방향에 나란한 축을 중심으로 회전될 수 있으며, 이를 위해 회절광학소자(200)는 원형의 외곽을 갖는 원형 플레이트 형상으로 구성되고, 이를 회전시킬 수 있는 회전 구동부가 구비될 수 있다. 회전 구동부는 회절광학소자(200)의 일측에 구비된 풀리(pulley)(15)와 회절광학소자(200)의 외곽과 풀리(15)를 함께 연결한 구동 벨트(16)를 포함한다. 풀리(15)는 이에 연결된 모터(14)를 구동시킴에 따라 회전하게 되고, 구동 벨트(16)는 풀리(15)가 회전함에 따라 회절광학소자(200)를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성될 수 있다.The diffractive optical element 200 may be rotated about an axis parallel to the direction in which the laser beam L is incident. To this end, the diffractive optical element 200 is formed in a circular plate shape having a circular outer shape, A rotation driving unit may be provided. The rotary drive unit includes a pulley 15 provided on one side of the diffractive optical element 200 and a drive belt 16 connecting the outer periphery of the diffractive optical element 200 and the pulley 15 together. The pulley 15 is rotated by driving the motor 14 connected thereto and the drive belt 16 is configured to rotate the diffractive optical element 200 at a predetermined angle as the pulley 15 rotates .

도 2를 참조하면, 회전 구동부에 의해 회절광학소자(200)가 90도 회전한 상태에서 레이저 빔(L)이 두 개의 1차 회절광으로 분기되는 모습을 볼 수 있다. 즉, 도 1에서는 두 개의 1차 회절광이 상하 직경 방향으로 서로 이격되어 분기되고 있는 반면, 도 2에서는 두 개의 1차 회절광이 좌우 직경 방향으로 서로 이격되어 분기되고 있다. 이에 따라서 가공 대상물(400)에 형성되는 미세 패턴(44)의 홈의 길이 방향은 회절광학소자(200)의 회전 각도에 대응하여 90도의 각도 차이를 가지며 형성될 수 있다.Referring to FIG. 2, the laser beam L is split into two first-order diffracted beams with the diffractive optical element 200 rotated by 90 degrees by the rotation driving unit. That is, in FIG. 1, two first-order diffracted lights are diverged from each other in the up-and-down direction, while two first-order diffracted lights are diverged from each other in the right and left radial directions. The longitudinal direction of the grooves of the fine patterns 44 formed on the object 400 may be formed with an angle difference of 90 degrees corresponding to the rotational angle of the diffractive optical element 200. [

패턴 가공부(300)는 가공빔을 반사시켜 가공 대상물로 입사시켜 위조 방지 패턴을 형성하기 위한 것으로, 회절광학소자(200)에 의해서 분기된 가공빔(LL1, LL2)이 각각 입사되는 한 쌍의 반사 거울(32, 34)을 포함한다.The pattern processing unit 300 is for reflecting the processing beam and entering the object to be processed to form an anti-fake pattern. The pattern processing unit 300 includes a pair of processing beams LL1 and LL2 branched by the diffraction optical element 200, And includes reflective mirrors 32 and 34.

반사 거울(32, 34)은 가공빔(LL1, LL2)이 가공 대상물에 입사되도록 각도를 조절할 수 있다. 도 1에서는 가공빔(LL1, LL2)이 입사되는 방향과 반대 방향으로 반사되도록 반사 거울(32, 34)이 설치되어 있으나, 도 3에서와 같이 가공빔(LL1, LL2)이 입사되는 방향 쪽으로 반사될 수 있도록 반사 거울(32, 34)이 설치될 수 있다.The reflecting mirrors 32 and 34 can adjust the angle so that the processing beams LL1 and LL2 are incident on the object to be processed. 1, the reflection mirrors 32 and 34 are provided so as to be reflected in a direction opposite to the direction in which the machining beams LL1 and LL2 are incident. However, as shown in FIG. 3, the reflection mirrors 32 and 34 are arranged in the direction in which the machining beams LL1 and LL2 are incident The reflection mirrors 32 and 34 may be provided.

도 3의 위조 방지 패턴 생성 장치(1002)에서와 같이 반사 거울(32, 34)을 설치할 경우, 도 1에서와 같이 반사 거울이 설치될 때보다 위조 방지 패턴 생성 장치의 크기를 줄일 수 있다.When the reflection mirrors 32 and 34 are installed as in the anti-fake pattern generating apparatus 1002 of FIG. 3, the size of the anti-fake pattern generating apparatus can be reduced compared to when the reflection mirror is installed as shown in FIG.

가공 대상물(400)은 스테이지(도시하지 않음)에 안착되어 가공빔(LL1, LL2)이 조사되는 위치로 가공 대상물(400)의 위치를 이동시킬 수 있다. 가공 대상물(400)은 박막 금속 또는 폴리머로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 종이 위에 알루미늄 박판을 코팅하여 그 표면 위에 홈의 길이 방향이 서로 다른 미세 패턴을 가공할 수 있으며, 폴리머 소재 표면이나 폴리머 소재 내부에 방향이 서로 다른 미세 패턴을 가공하는 것도 가능하다.The object to be processed 400 is placed on a stage (not shown), and the position of the object 400 can be moved to a position where the processing beams LL1 and LL2 are irradiated. The object to be processed 400 may be made of a thin metal or a polymer. For example, it is possible to process a fine pattern having different lengths of grooves on its surface by coating an aluminum foil on paper, and it is also possible to process fine patterns having different directions in the polymer material surface or polymer material.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 회절광학소자를 구비한 위조방지 패턴 생성장치에서 회전 구동부의 변형예를 도시한 사시도이다.4 is a perspective view showing a modification of the rotation driving unit in the apparatus for generating an anti-fog pattern with the diffractive optical element according to the first embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 변형예의 회절광학소자(200)는 원주에 톱니가 형성되어 있고, 이러한 회절광학소자(200)의 원주 톱니와 치합되도록 구동회전 기어(18)가 구비됨으로써 상기 회절광학소자(200)를 기 설정된 각도로 회전시킬 수 있다. 구동회전 기어(18)에는 모터(14)가 연결되어 구동력을 제공할 수 있다.4, the diffractive optical element 200 of this modification has teeth on its circumference, and the drive rotary gear 18 is provided so as to mesh with the circumferential teeth of the diffractive optical element 200, (200) can be rotated at a predetermined angle. A motor 14 is connected to the drive rotary gear 18 to provide a driving force.

도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 위조방지 패턴 생성장치에 적용될 수 있는 회절광 선별기를 도시한 정면도이다.5 is a front view showing a diffraction grating separator that can be applied to the apparatus for generating an anti-fake pattern according to the first embodiment of the present invention.

도 5에서와 같이, 회절광학소자(200)의 패턴 설계에 따라 1차 회절광이 95% 이상의 레이저 파워를 갖도록 함으로써 2개의 분기된 가공빔(LL1, LL2)을 간섭시켜 가공 대상물에 미세 패턴을 형성할 수 있다. 즉, 복수의 회절된 가공빔이 서로 간섭하도록 가공 대상물에 집중시켜 조사함으로써 미세 패턴이 형성된다.As shown in FIG. 5, according to the pattern design of the diffractive optical element 200, the first order diffracted light has a laser power of 95% or more so as to interfere with the two branched processing beams LL1 and LL2, . In other words, a fine pattern is formed by irradiating a plurality of diffracted processing beams to the object to be processed so as to interfere with each other.

나아가, 도 5에 도시한 바와 같은 회절광 선별기(4)를 회절광의 경로 상에 위치시킴으로써 원하는 차수의 회절광을 선별해 낼 수 있다. 본 실시예에서 회절광 선별기(45)는 투명한 유리판의 중심에 0차 회절광 차단부(5)가 형성되고, 0차 회절광 차단부를 둘러싸도록 1차 회절광 투과부(6)가 형성되며, 1차 회절광 투과부(6)를 둘러싸도록 고차항 회절광 차단부(7)가 형성될 수 있다. 0차 회절광 차단부(4)와 고차항 회절광 차단부(7)는 암색으로 이루어져 회절광을 차폐할 수 있다.Furthermore, by placing the diffraction light selector 4 as shown in Fig. 5 on the path of the diffracted light, the diffracted light of the desired order can be selected. In the diffraction grating separator 45 in this embodiment, the 0th diffraction light blocking portion 5 is formed at the center of the transparent glass plate, the 1st diffraction light transmitting portion 6 is formed so as to surround the 0th diffraction light blocking portion, The high-order diffraction light blocking portion 7 may be formed so as to surround the diffracted light transmitting portion 6. The zeroth-order diffracted light blocking portion 4 and the high-order diffracted light blocking portion 7 are made of a dark color so as to shield the diffracted light.

본 실시예에서 회절광 선별기(4)는 회절광학소자(200)와 패턴 가공부(32, 34) 사이에 위치할 수 있다.In the present embodiment, the diffraction light selector 4 may be positioned between the diffraction optical element 200 and the pattern processing sections 32 and 34. [

본 발명에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 이용하면 용이하게 위조 방지 패턴을 형성할 수 있다.The anti-falsification pattern can be easily formed by using the anti-falsification pattern generating apparatus according to the present invention.

먼저, 레이저 발진기(100)는 레이저 빔(L)을 생성한다. 레이저 빔(L)은 패턴 가공에 적합한 파워 및 파장을 가지는 레이저를 선택하여 사용할 수 있으며, 가공 대상물의 소재에 따라서 변경될 수 있다.First, the laser oscillator 100 generates a laser beam L. The laser beam L can be selected by using a laser having power and wavelength suitable for pattern processing and can be changed depending on the material of the object to be processed.

레이저 빔(L)은 회절광학소자(200)에 입사된 후 회절광인 복수의 가공빔으로 분기된다. 예를 들어, 1차 회절광이 95% 이상의 레이저 파워를 갖도록 함으로써 2개의 분기된 가공빔을 형성할 수 있으며, 도 5에 도시된 회절광 선별기를 이용할 수도 있다.The laser beam L is incident on the diffractive optical element 200 and then branched into a plurality of processing beams which are diffracted light beams. For example, two branched processing beams can be formed by making the first-order diffraction light have a laser power of 95% or more, or the diffraction light selector shown in Fig. 5 may be used.

이후, 분기된 가공빔은 각각 패턴 생성부의 반사 거울로 입사된 후 반사되어 가공 대상물로 조사된다. 가공빔을 가공 대상물에 함께 조사하여 서로 간섭시킴으로써 대상 가공물에 한 방향으로 나란한 복수의 홈이 형성된 제1 패턴을 형성할 수 있다.Thereafter, the branched processing beams are respectively incident on the reflecting mirror of the pattern generating section, reflected and irradiated to the object to be processed. It is possible to form a first pattern having a plurality of grooves arranged in one direction in the target workpiece by irradiating the processing beam with the processing beam and interfering with each other.

그런 다음, 회절광학소자(200)를 기 설정된 각도만큼 회전시킨다. 즉, 회절광학소자에 연결된 회전 구동부를 제어함으로써 회절광학소자(200)를 미리 설정된 회전각도만큼 회전시킨 후 고정할 수 있다.Then, the diffractive optical element 200 is rotated by a predetermined angle. That is, by controlling the rotation driving unit connected to the diffractive optical element, the diffractive optical element 200 can be rotated by a predetermined rotation angle and fixed.

다음으로, 대상 가공물을 기 설정된 거리만큼 이동시킨 후, 레이저 빔(L)을 회절 광학 소자 및 패턴 가공부에 차례로 통과시켜 대상 가공물에 조사하여 제2 패턴을 가공한다. 즉, 제1 패턴을 가공한 후에 다른 홈의 길이 방향을 가지는 제2 패턴을 가공하기 위해서 대상 가공물을 지지하고 있는 스테이지를 움직여 레이저 빔이 조사될 위치를 변경할 수 있다. 또한, 도1에 도시한 바와 같이 회절 광학 소자를, 예를 들어 90도 회전시켜 새로운 회절 패턴을 생성할 수 있으며 이에 따라 가로 방향으로 긴 홈을 갖는 제2 패턴의 바로 옆에 세로 방향으로 긴 홈을 가지는 제3 패턴을 형성할 수 있다.Next, after moving the target workpiece by a predetermined distance, the laser beam L is sequentially passed through the diffractive optical element and the pattern machining portion to irradiate the target workpiece to process the second pattern. That is, in order to process the second pattern having the longitudinal direction of another groove after the first pattern is processed, the stage supporting the target workpiece may be moved to change the position where the laser beam is irradiated. Further, as shown in Fig. 1, the diffractive optical element can be rotated 90 degrees, for example, to generate a new diffraction pattern. Accordingly, a longitudinally long groove Can be formed.

이와 같은 단계를 반복함으로써 대상 가공물에 순차적으로 서로 다른 홈 의 길이 방향 각도를 가지는 제1 패턴, 제2 패턴 및 제3 패턴 등을 가공함으로써 대상 가공물에 위조 방지 패턴을 형성할 수 있다. By repeating the above steps, the first pattern, the second pattern, the third pattern, and the like having different longitudinal angles of the grooves are successively formed on the target workpiece, thereby forming the anti-fake pattern on the target workpiece.

한편, 레이저 빔이 이동하는 경로 상에 집광 렌즈가 포함될 경우, 에어브레이크다운(airbreakdown)이 발생할 수 있으나, 본 발명에서는 레이저 빔이 분기된 후, 대상 가공물에 조사되기 전에 집광 렌즈를 통과하지 않으므로 집광 렌즈로 인한 에이브레이크다운 현상이 발생하지 않는다.If a condensing lens is included in the path along which the laser beam travels, air breakdown may occur. However, in the present invention, since the laser beam does not pass through the condensing lens before being irradiated onto the target workpiece after the laser beam is branched, Abbreviated phenomenon caused by the lens does not occur.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 개략적인 구성도이다.6 is a schematic block diagram showing an apparatus for generating an anti-fake pattern according to a second embodiment of the present invention.

도 6에 도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치(1004)는 레이저 발진기(100), 빔 스플리터(500) 및 패턴 가공부(300)를 포함한다. 6, the apparatus 1004 for generating anti-fogging patterns according to the present embodiment includes a laser oscillator 100, a beam splitter 500, and a pattern processing unit 300.

레이저 발진기(100)는 가공하고자 하는 가공 대상물(400)에 적합한 레이저 빔(L)을 방출한다. The laser oscillator 100 emits a laser beam L suitable for the object 400 to be processed.

빔 스플리터(500)는 빔 분배기로, 입사된 레이저 빔(L)을 복수의 가공 빔으로 분기시킨다. 즉, 빔 스플리터(500)에 입사된 레이저 빔 중 일부는 빔 스플리터(500)를 통과하고, 나머지 레이저 빔은 빔 스플리터(500)에 반사되므로, 빔 스플리터(500)에 입사된 레이저 빔(L)은 복수의 가공빔(LL1, LL2)으로 분기된다.The beam splitter 500 divides the incident laser beam L into a plurality of processing beams by a beam splitter. That is, a part of the laser beam incident on the beam splitter 500 passes through the beam splitter 500 and the remaining laser beam is reflected on the beam splitter 500. Thus, the laser beam L incident on the beam splitter 500, Is branched into a plurality of processing beams LL1 and LL2.

패턴 가공부(300)는 복수의 가공빔(LL1, LL2)을 가공 대상물에 반사시키기 위한 한 쌍의 반사 거울(32, 34)을 포함한다.The pattern processing unit 300 includes a pair of reflection mirrors 32 and 34 for reflecting a plurality of processing beams LL1 and LL2 onto an object to be processed.

레이저 발진기(100)에서 방출된 레이저 빔(L)은 빔 스플리터(500)에 입사되어 복수의 가공빔(LL1, LL2)으로 분기된다. 가공빔(LL1, LL2)은 패턴 가공부(300)의 반사 거울(32, 34)에 각각 반사된 후 가공 대상물(400)에 조사된다. 가공빔(LL1, LL2)은 가공 대상물(400)에 함께 조사하여 서로 간섭시킴으로써 대상 가공물에 미세 패턴이 형성된 위조 방지 패턴이 형성될 수 있다.The laser beam L emitted from the laser oscillator 100 is incident on the beam splitter 500 and branched into a plurality of processing beams LL1 and LL2. The processing beams LL1 and LL2 are respectively reflected on the reflection mirrors 32 and 34 of the pattern processing unit 300 and are then irradiated onto the object 400 to be processed. The processing beams LL1 and LL2 are irradiated to the object 400 to interfere with each other so that an anti-falsification pattern in which a fine pattern is formed on the object to be processed can be formed.

미세 패턴은 도 1에서와 같이 일 방향으로 긴 복수의 홈을 포함한다.The fine pattern includes a plurality of grooves long in one direction as in Fig.

도 6의 위조 방지 패턴 생성 장치에서는 제1 패턴, 제2 패턴을 형성하기 위해서, 가공 대상물(400)을 회전시킴으로써, 제1 패턴 및 제2 패턴을 순차적으로 형성할 수 있다. 즉, 제1 패턴을 형성한 후, 스테이지(800)를 회전시킴으로써, 가공 대상물(400)을 일정 각도로 회전 시키고, 레이저를 조사하여 제2 패턴을 형성한다.In the anti-fake pattern generating apparatus of Fig. 6, the first pattern and the second pattern can be sequentially formed by rotating the object 400 in order to form the first pattern and the second pattern. That is, after the first pattern is formed, the stage 800 is rotated to rotate the object 400 at a predetermined angle and form a second pattern by irradiating a laser beam.

도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 개략적인 구성도이다.7 is a schematic block diagram showing an apparatus for generating an anti-falsification pattern according to a third embodiment of the present invention.

도 7에 도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치(1006)는 레이저 발진기(100), 패턴 가공부(300), 빔 스플리터(500) 및 빔 리듀서(600)를 포함한다.7, the anti-falsification pattern generating apparatus 1006 according to the present embodiment includes a laser oscillator 100, a pattern processing unit 300, a beam splitter 500, and a beam reducer 600. As shown in FIG.

레이저 발진기(100)는 레이저 빔(L)을 방출하며, 빔 스플리터(500)는 입사된 레이저 빔(L)을 분기시켜 복수의 가공빔(LL1, LL2)을 생성한다. The laser oscillator 100 emits a laser beam L and the beam splitter 500 branches the incident laser beam L to generate a plurality of processing beams LL1 and LL2.

빔 리듀서(600)는 볼록 렌즈(62)와 오목 렌즈(64)를 포함하며, 빔의 직경을 조절하여 빔 스플리터에 의해 손실되는 광을 최소화할 수 있다. The beam reducer 600 includes a convex lens 62 and a concave lens 64, and can adjust the diameter of the beam to minimize light lost by the beam splitter.

가공 대상물에서 가공 능력을 증가시키기 위해서는, 가공 대상물에 입사되는 레이저의 단위 면적당 에너지가 커야 한다.In order to increase the processing capability of the object to be processed, the energy per unit area of the laser incident on the object must be large.

그러나 레이저의 에너지를 증가시키면 레이저가 통과하는 빔 스플리터의 표면이 가공될 수 있다. 따라서 본 발명에서와 같이 빔 리듀서를 이용하여 빔의 직경을 줄임으로써, 레이저 빔에 의해서 빔 스플리터의 표면이 가공되어 레이저 에너지가 감소하지 않고, 가공 대상물에 입사되어 가공 능력을 증가시킬 수 있다.However, increasing the energy of the laser can process the surface of the beam splitter through which the laser passes. Accordingly, by reducing the diameter of the beam using the beam reducer as in the present invention, the surface of the beam splitter is processed by the laser beam so that the laser energy is not reduced, and the laser beam is incident on the object to be processed.

패턴 가공부(300)는 입사된 광을 가공 대상물에 조사하여 가공하기 위한 것으로 반사 거울(32, 34)을 포함한다. 패턴 가공부(300)는 도 6에서와 같이 한 쌍의 반사 거울을 포함할 수 있다.The pattern processing unit 300 includes reflection mirrors 32 and 34 for irradiating the object to be processed with the incident light. The pattern processing unit 300 may include a pair of reflection mirrors as shown in FIG.

그리고 빔 스플리터(500)와 반사 거울(32, 34) 사이에는 각각 ND 필터(72, 74)가 배치될 수 있다.ND filters 72 and 74 may be disposed between the beam splitter 500 and the reflection mirrors 32 and 34, respectively.

빔 스플리터(500)를 통해서 분기된 가공빔(LL1, LL2)의 파워는 달라질 수 있다. 따라서, 레이저 파워를 다양하게 변화시킬 수 있는 소자, 예를 들어 ND 필터와 같이 레이저 파워를 줄일 수 있는 소자를 배치하여 가공빔의 파워를 조절함으로써, 두 가공빔의 파워가 같도록 할 수 있다.The powers of the processing beams LL1 and LL2 branched through the beam splitter 500 may be different. Therefore, it is possible to arrange the elements capable of varying the laser power, for example, the elements capable of reducing the laser power, such as the ND filter, to adjust the power of the processing beam so that the powers of the two processing beams can be made equal.

도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.FIG. 8 is a block diagram showing an apparatus for generating an anti-falsification pattern according to a fourth embodiment of the present invention.

도 8에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치(1008)는 레이저 발진기(100), 회절광학소자(200), 패턴 가공부(300) 및 빔 리듀서(600)를 포함한다.8, the anti-fake pattern generating apparatus 1008 according to the present invention includes a laser oscillator 100, a diffraction optical element 200, a pattern processing unit 300, and a beam reducer 600.

레이저 발진기(100)는 레이저 빔(L)을 방출하며, 회절광학소자(200)는 레이저 빔(L)을 복수의 가공빔(LL1, LL2)으로 분기시킨다. The laser oscillator 100 emits a laser beam L and the diffractive optical element 200 branches the laser beam L into a plurality of processing beams LL1 and LL2.

가공빔(LL1, Ll2)은 패턴 가공부(300)의 반사 거울(32, 34)에 의해서 반사된 후 함께 가공 대상물(400)에 조사되어 서로 간섭됨으로써 대상 가공물에 한 방향으로 나란한 미세 요철 형태의 위조 방지 패턴을 형성한다.The processing beams LL1 and Ll2 are reflected by the reflection mirrors 32 and 34 of the pattern processing unit 300 and then irradiated to the object 400 to interfere with each other so that the processing beams LL1 and L12 are aligned in a single direction Thereby forming an anti-fake pattern.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Of course.

14: 모터 15: 풀리
16: 구동 벨트 18, 22: 구동회전 기어
32, 34반사 거울 44: 미세 패턴
100: 레이저 발진기 200: 회절광학소자
300: 패턴 가공부 400: 가공대상물
600: 빔리듀서
1000, 1002, 1004, 1006, 1008: 위조 방지 패턴 생성 장치14: motor 15: pulley
16: drive belt 18, 22: drive rotation gear
32, 34 Reflective mirror 44: Fine pattern
100: laser oscillator 200: diffractive optical element
300: pattern processing unit 400: object to be processed
600: Beam reducer
1000, 1002, 1004, 1006, 1008: Anti-fake pattern generating device

Claims (10)

레이저 빔을 방출하는 레이저 발진기,
상기 레이저 발진기로부터 발생된 레이저 빔을 한 쌍의 가공빔으로 분기 시키는 회절광학소자,
상기 회절광학소자를 회전시키는 회전 구동부,
상기 가공빔을 각각 반사시켜 상기 가공빔이 서로 간섭하도록 가공 대상물에 상기 가공빔을 함께 조사시켜 상기 가공 대상물을 가공하는 한 쌍의 반사 거울,
상기 회절 광학 소자와 상기 반사 거울 사이에 위치하는 회절광 선별기
를 포함하고,
상기 회절광 선별기는 투명한 유리판의 중심에 형성되어 있으며 암색인 0차 회절광 차단부, 상기 0차 회절광 차단부를 둘러싸는 1차 회절광 투과부, 상기 1차 회절광 투과부를 둘러싸며 암색인 고차항 회절광 차단부를 포함하는 위조 방지 패턴 생성 장치.A laser oscillator that emits a laser beam,
A diffraction optical element for splitting the laser beam generated from the laser oscillator into a pair of processing beams,
A rotation driving unit for rotating the diffractive optical element,
A pair of reflection mirrors for reflecting the machining beams and irradiating the machining beam with the machining beams together so that the machining beams interfere with each other,
A diffractive optical element disposed between the diffractive optical element and the reflective mirror,
Lt; / RTI >
The diffracted light selector is formed at the center of the transparent glass plate and includes a 0th-order diffracted light blocking portion as a dark color, a 1st-order diffracted light transmitting portion surrounding the 0th-order diffracted light blocking portion, An anti-fake pattern generating device including a diffraction light blocking part. 제1항에서,
상기 레이저 발진기와 상기 회절 광학 소자 사이에 설치되며, 상기 레이저 빔의 직경을 제어하는 빔 리듀서를 더 포함하는 위조 방지 패턴 생성 장치.The method of claim 1,
Further comprising a beam reducer provided between the laser oscillator and the diffractive optical element, the beam reducer controlling the diameter of the laser beam. 제2항에서,
상기 빔 리듀서는 상기 레이저 빔이 지나가는 경로상에 연속적으로 배치된 볼록 렌즈 및 오목 렌즈를 포함하는 위조 방지 패턴 생성 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the beam reducer comprises a convex lens and a concave lens continuously arranged on a path through which the laser beam passes. 제1항에서,
상기 회절광학소자는 상기 레이저 빔을 직경 방향으로 서로 이격된 2개의 1차 회절광으로 분기된 가공빔을 생성하는 위조 방지 패턴 생성 장치.The method of claim 1,
Wherein the diffractive optical element generates a machining beam that is branched into two first-order diffracted lights spaced apart from each other in the radial direction of the laser beam. 제1항에서,
상기 회절광학소자는 원형의 외곽을 가지는 원형 플레이트 형상으로 구성되고,
상기 회전 구동부는, 상기 회절광학소자의 일측에 구비된 풀리(pulley)와, 상기 회절광학소자의 외곽과 상기 풀리를 함께 연결하여 상기 풀리가 회전함에 따라 상기 회절광학소자를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성된 구동 벨트를 포함하는 것을 특징으로 하는 위조방지 패턴 생성장치.The method of claim 1,
The diffractive optical element is formed in a circular plate shape having a circular outer shape,
The rotation driving unit may include a pulley provided on one side of the diffractive optical element and a pulley coupled to the outer side of the diffractive optical element so as to rotate the diffractive optical element at a predetermined angle as the pulley rotates Wherein the anti-fake pattern generating device comprises: 제1항에서,
상기 회절광학소자는 원형의 외곽을 가지며 원주를 따라 톱니가 형성되고,
상기 회전 구동부는, 상기 회절광학소자의 원주 톱니와 치합되는 구동회전 기어가 구비되어 상기 회절광학소자를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성된 것을 특징으로 하는 위조방지 패턴 생성장치.The method of claim 1,
Wherein the diffractive optical element has a circular outer periphery, teeth are formed along the circumference,
Wherein the rotary drive unit is provided with a drive rotary gear that is engaged with the circumferential teeth of the diffractive optical element to rotate the diffractive optical element at a predetermined angle. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020140169132A 2014-02-07 2014-11-28 Apparatus of processing anti-counterfeiting pattern KR101764835B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140169132A KR101764835B1 (en) 2014-11-28 2014-11-28 Apparatus of processing anti-counterfeiting pattern
PCT/KR2015/001251 WO2015119459A1 (en) 2014-02-07 2015-02-06 Device and method for forming counterfeiting preventing pattern, and device and method for detecting counterfeiting preventing pattern
US15/116,293 US10388098B2 (en) 2014-02-07 2015-02-06 Apparatus and method of processing anti-counterfeiting pattern, and apparatus and method of detecting anti-counterfeiting pattern

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140169132A KR101764835B1 (en) 2014-11-28 2014-11-28 Apparatus of processing anti-counterfeiting pattern

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160064880A KR20160064880A (en) 2016-06-08
KR101764835B1 true KR101764835B1 (en) 2017-08-03

Family

ID=56193823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140169132A KR101764835B1 (en) 2014-02-07 2014-11-28 Apparatus of processing anti-counterfeiting pattern

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101764835B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102131938B1 (en) * 2018-07-05 2020-07-08 한국기계연구원 Anti-counterfeiting pattern, apparatus and method of processing anti-counterfeiting pattern

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003001448A (en) * 2000-09-13 2003-01-08 Hamamatsu Photonics Kk Laser beam machining device
JP2004209542A (en) * 2003-01-08 2004-07-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laser beam machine for electronic component
JP2008012546A (en) * 2006-07-03 2008-01-24 Canon Inc Laser beam machining method and laser beam machining device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003001448A (en) * 2000-09-13 2003-01-08 Hamamatsu Photonics Kk Laser beam machining device
JP2004209542A (en) * 2003-01-08 2004-07-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laser beam machine for electronic component
JP2008012546A (en) * 2006-07-03 2008-01-24 Canon Inc Laser beam machining method and laser beam machining device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160064880A (en) 2016-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2565697B1 (en) Structural illumination microscope device
KR100403420B1 (en) Device for recognizing diffraction optical markings
US20220227051A1 (en) Method and Device for Producing a Three-Dimensional Object in an Optically Reactive Starting Material
CN104204655B (en) Irradiate light amount control device and solar simulator
EP2166304A1 (en) Lighting unit and method for creating a pattern dissimilar to itself
WO2015063762A1 (en) System and method for controlling light
KR20040083078A (en) Diffractive security element having an integrated optical waveguide
JP5144212B2 (en) Optical mask and light source device
JP2016512614A (en) Apparatus for homogenizing a laser beam
US20170182597A1 (en) Drilling Device, Method, and Use
KR101764835B1 (en) Apparatus of processing anti-counterfeiting pattern
US8767200B2 (en) Luminous flux branching element and mask defect inspection apparatus
CN110831748B (en) Artificial intraocular lens with diffraction grating structure and method for manufacturing artificial intraocular lens
KR101528345B1 (en) Apparatus and method of processing anti-counterfeiting pattern
JP6468418B2 (en) Security medium authentication apparatus including reflection volume hologram, security medium authentication method including reflection volume hologram, and security medium including reflection volume hologram
KR101688613B1 (en) Apparatus and method of processing anti-counterfeiting pattern
EP3654076A1 (en) Diffractive optical element, confocal microscope and method for designing a diffractive optical element
KR101418781B1 (en) Illumination Uniformalizing Apparatus in High Resolution Optical System
DE102016102934A1 (en) Light module for a vehicle headlight
US20220161590A1 (en) Personalizable color-shifting data carrier
KR101423497B1 (en) Laser processing device for wafer dicing and wafer dicing method using the same
AU2020302979A1 (en) Diffractive structures within polymer substrates, their manufacture and use
JP2009248181A (en) Laser beam machining apparatus, pitch adjusting method of laser beam, and laser beam machining method
US20240168202A1 (en) Optical Devices Comprising Microlenses and Laser-Fabricated Patterns or Structures, Their Manufacture and Use
KR100618377B1 (en) Optical plate for control of optical transmission and diffractive variable attenuator using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E90F Notification of reason for final refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)