KR101737358B1 - Surface treated Method of Dental implants using plasma electrolytic oxidation - Google Patents
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Abstract
본 발명은 치과용 임플란트의 표면처리 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 플라즈마 전해 산화법을 이용하여 치과용 임플란트를 표면처리함으로써, 내식성 및 내마모성을 증가시키고, 생체적합성을 향상시킬 수 있는 플라즈마 전해 산화법을 이용한 치과용 임플란트의 표면처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of surface treatment of a dental implant, and more particularly, to a plasma electrolytic oxidation method capable of increasing corrosion resistance and wear resistance and improving biocompatibility by surface-treating a dental implant using a plasma electrolytic oxidation method To a method for surface treatment of dental implants using the same.
Description
본 발명은 치과용 임플란트의 표면처리 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 플라즈마 전해 산화법을 이용하여 치과용 임플란트를 표면처리함으로써, 내식성 및 내마모성을 증가시키고, 생체적합성을 향상시킬 수 있는 플라즈마 전해 산화법을 이용한 치과용 임플란트의 표면처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of surface treatment of a dental implant, and more particularly, to a plasma electrolytic oxidation method capable of increasing corrosion resistance and wear resistance and improving biocompatibility by surface-treating a dental implant using a plasma electrolytic oxidation method To a method for surface treatment of dental implants using the same.
일반적으로 치과용 임플란트는 티타늄 또는 티타늄 합금을 기계적으로 가공한 후, 임플란트의 골내 적합성을 향상시키기 위한 다양한 표면처리 공정을 수행한다.Generally, dental implants mechanically process titanium or titanium alloys and then perform a variety of surface treatment processes to improve the intraosseous fit of the implant.
종래의 치과용 임플란트의 표면처리 방법에는 산을 이용한 에칭 방법, 플라즈마 스프레이법, 이온주입법, 가열산화법, 졸-겔(sol-gel) 코팅법, 물리적 증착법(PVD) 및 전기 화학적 증착법등이 이용되고 있다.Conventional dental implant surface treatment methods include acid etching, plasma spraying, ion implantation, thermal oxidation, sol-gel coating, physical vapor deposition (PVD), and electrochemical deposition have.
하지만, 산을 이용한 에칭 방법으로 표면처리된 임플란트의 경우, 표면에 잔류하는 산에 의하여 염증반응이 발생되게 되거나, 임플란트의 표면에 부식을 일으켜 임상적인 문제점이 발생하였다.However, in the case of an implant surface treated with an acid etching method, an inflammation reaction occurs due to the acid remaining on the surface, or corrosion occurs on the surface of the implant, thereby causing clinical problems.
또한, 플라즈마 스프레이법은 현재 상업적으로 바이오 세라믹을 임플란트에 코팅할 때 주로 이용되는 방법이나, 마이크로 크랙, 코팅층과 임플란트 표면의 낮은 결합력, 높은 온도에서의 노출에 의한 상변화, 불균질한 코팅 밀도, 불규칙적인 미세 구조 제어등의 단점을 지니고 있다.Plasma spraying is a method commonly used to coat bioceramics commercially on commercial occasions. However, plasma spraying is a method commonly used for coating commercially available bioceramics on an implant, but also involves microcracks, low bonding strength between the coating layer and the implant surface, phase change due to exposure at high temperatures, Irregular fine structure control, and the like.
또한, 전기화학 증착법은 티타늄 또는 티타늄 합금에 칼슘-포스페이트, 하이드록 아파타이트 등을 코팅한 코팅층과 임플란트(티타늄 또는 티타늄 합금)와의 결합력이 약하여, 임플란트로부터 박리되거나, 임플란트와 코팅층과의 계면 또는 코팅층 내부에서 생물학적 작용에 의한 생분해, 흡스 등에 의하여 임플란트 주변 골조직에 만성 염증이 발생되는 문제점이 있었다.In addition, the electrochemical vapor deposition method has a weak binding force between a coating layer formed by coating titanium or a titanium alloy with calcium phosphate or hydroxyapatite and an implant (a titanium or a titanium alloy), resulting in peeling from the implant or an interface between the implant and the coating layer, There is a problem that chronic inflammation occurs in the bone tissue around the implant due to biodegradation,
즉, 종래의 임플란트의 표면 처리방법들은 코팅층의 결합력이 약하여 쉽에 임플란트로부터 박리되고 생체적합성이 떨어지는 문제점들로 인해, 이식실패의 결과로 도출되게 되는 심각한 문제점을 지닌다.That is, the conventional surface treatment methods of implants have a serious problem that they are derived as a result of implant failure due to weak adhesion force of the coating layer and peeling from the implant and poor biocompatibility.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 플라즈마 전해 산화법을 이용하여 치과용 임플란트의 표면에 산화피막층이 형성되도록 표면처리함으로써, 간단한 표면처리 공정으로 임플란트의 표면에 형성된 산화피막층의 결합력을 향상시킬 수 있고, 우수한 내식성 및 내마모성을 확보할 수 있는 치과용 임플란트의 표면처리 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a dental implant which is surface treated so as to form an oxide film layer on a surface of a dental implant by a plasma electrolytic oxidation method, To provide a method for surface treatment of a dental implant capable of improving the bonding force of the coating layer and ensuring excellent corrosion resistance and wear resistance.
또한, 본 발명의 다른 목적은 임플란트의 표면에 마그네슘, 칼슘 및 인을 포함하는 산화피막층이 형성되게 함으로써, 생체적합성을 증가시킬 수 있는 치과용 임플란트의 표면처리 방법을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a method for surface treatment of a dental implant that can increase biocompatibility by forming an oxide coating layer containing magnesium, calcium and phosphorus on the surface of the implant.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 치과용 임플란트를 준비하는 단계; 상기 임플란트를 전해용액에 담지하고, 상기 임플란트를 플라즈마 전해 산화장치에 연결하는 단계; 상기 플라즈마 전해 산화장치에 펄스 전류를 인가하여, 상기 임플란트의 표면에 산화피막을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면처리 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a dental implant comprising: preparing a dental implant; Supporting the implant in an electrolytic solution, and connecting the implant to a plasma electrolytic oxidation apparatus; And applying a pulse current to the plasma electrolytic oxidation apparatus to form an oxide film on the surface of the implant.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 전해용액은 마그네슘, 칼슘 및 인을 포함한다.In a preferred embodiment, the electrolytic solution comprises magnesium, calcium and phosphorus.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 전해용액은 초산 칼슘, 초산 마그네슘 및 칼슘 글리세로인산염을 포함한다.In a preferred embodiment, the electrolytic solution comprises calcium acetate, magnesium acetate and calcium glycerophosphate.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 전해용액은 초산 칼슘 26.7g/l 및 칼슘 글리세로인산염 4.3 g/l을 포함한다.In a preferred embodiment, the electrolytic solution comprises 26.7 g / l calcium acetate and 4.3 g / l calcium glycerophosphate.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 전해용액은 상기 초산 마그네슘의 농도가 상기 초산 칼슘 대비 5mol% 내지 20 mol%이다.In a preferred embodiment, the concentration of the magnesium acetate in the electrolytic solution is 5 mol% to 20 mol% based on the calcium acetate.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 임플란트는 티타늄 합금 또는 티타늄 재질의 금속이다. In a preferred embodiment, the implant is a metal of titanium alloy or titanium.
또한, 본 발명은 본 발명의 임플란트의 표면처리방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트를 더 제공한다.The present invention further provides a dental implant characterized by being manufactured by the surface treatment method of the implant of the present invention.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 임플란트의 표면에는 마이크로 사이즈의 기공이 형성된다.In a preferred embodiment, micro-sized pores are formed on the surface of the implant.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 임플란트의 표면에는 마그네슘, 칼슘 및 인을 포함하는 산화피막이 형성된다.In a preferred embodiment, an oxide film containing magnesium, calcium and phosphorus is formed on the surface of the implant.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 마그네슘은 상기 칼슘 대비 5mol% 내지 20 mol% 농도로 형성된다.In a preferred embodiment, the magnesium is formed at a concentration of 5 mol% to 20 mol% of the calcium.
본 발명은 다음과 같은 우수한 효과를 가진다.The present invention has the following excellent effects.
먼저, 본 발명의 치과용 임플란트의 표면처리 방법에 의하면, 플라즈마 전해 산화법을 이용하여 치과용 임플란트의 표면에 산화피막층이 형성되도록 표면처리함으로써, 임플란트의 표면에 형성된 산화피막의 결합력을 향상시키고, 우수한 내식성 및 내마모성을 확보할 수 있는 효과가 있다.According to the surface treatment method of a dental implant of the present invention, surface treatment is performed so that an oxide film layer is formed on the surface of a dental implant using a plasma electrolytic oxidation method, thereby improving the bonding force of the oxide film formed on the surface of the implant, Corrosion resistance and abrasion resistance can be secured.
또한, 본 발명의 치과용 임플란트의 표면처리 방법에 의하면, 뼈를 구성하는 원소인 마그네슘, 칼슘 및 인을 포함하는 산화피막층이 형성되게 함으로써, 생체적합성을 증가시킬 수 있는 장점을 지닌다.In addition, according to the surface treatment method of the dental implant of the present invention, an oxide film layer containing magnesium, calcium, and phosphorus, which are elements constituting the bone, is formed, thereby increasing the biocompatibility.
도 1은 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법을 보여주는 단계도이다.
도 2는 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법으로 처리된 치과용 임플란트의 주사현미경(X50, X500) 사진이다.
도 3은 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법으로 처리된 치과용 임플란트의 주사현미경(X1000) 사진이다.
도 4는 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법으로 처리된 치과용 임플란트의 EDS 결과 그래프이다.
도 5는 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법으로 처리된 치과용 임플란트의 EDS mapping 결과를 보여주는 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법으로 처리된 치과용 임플란트를 생체 유사 용액에 침지한 후 표면에 생성된 아파타이트를 보여주는 전자현미경 사진이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing a method of surface treatment of a dental implant according to the present invention; FIG.
2 is a scanning electron microscope (X50, X500) photograph of a dental implant treated with the method of surface treatment of a dental implant according to the present invention.
3 is a scanning electron microscope (X1000) photograph of a dental implant treated with the method of surface treatment of a dental implant according to the present invention.
FIG. 4 is a graph showing an EDS result of a dental implant treated by the surface treatment method of the dental implant according to the present invention.
FIG. 5 is a view showing an EDS mapping result of a dental implant treated by a surface treatment method of a dental implant according to the present invention.
6 is an electron micrograph showing apatite formed on a surface of a dental implant treated with the surface treatment method of the dental implant according to the present invention after immersing the dental implant in a bioactive solution.
본 발명에서 사용되는 용어는 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어를 선택하였으나, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있는데 이 경우에는 단순한 용어의 명칭이 아닌 발명의 상세한 설명 부분에 기재되거나 사용된 의미를 고려하여 그 의미가 파악되어야 할 것이다.Although the terms used in the present invention have been selected as general terms that are widely used at present, there are some terms selected arbitrarily by the applicant in a specific case. In this case, the meaning described or used in the detailed description part of the invention The meaning must be grasped.
이하, 첨부한 도면에 도시된 바람직한 실시예들을 참조하여 본 발명의 기술적 구성을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the technical structure of the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화 될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐 동일한 참조번호는 동일한 구성요소를 나타낸다.However, the present invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.
도 1은 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법을 보여주는 단계도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing a method of surface treatment of a dental implant according to the present invention; FIG.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법은 치과용 임플란트의 표면에 플라즈마 전해 산화법을 이용하여 산화피막을 형성하는 표면 처리방법으로서, 먼저 치과용 임플란트를 준비하는 단계가 수행된다(S1000).Referring to FIG. 1, a surface treatment method of a dental implant according to an embodiment of the present invention is a surface treatment method for forming an oxide film on a surface of a dental implant using a plasma electrolytic oxidation method. First, a dental implant is prepared Is performed (S1000).
여기서, 상기 치과용 임플란트는 티타늄 합금 또는 티타늄 재질이 금속이 이용된다.Here, the dental implant is made of a titanium alloy or a titanium material.
또한, 상기 치과용 임플란트의 형상은 스크류 형상이며, 구체적인 형상은 제작자의 설계방향이나 수검자의 구강상태 등에 접합하도록 다양한 형상으로 용이하게 변경될 수 있다.In addition, the shape of the dental implant is a screw shape, and the specific shape can be easily changed into various shapes to be connected to the design direction of the maker or the oral condition of the examinee.
다음, 준비된 임플란트를 전해용액에 담지하고, 상기 임플란트를 플라즈마 전해 산화장치에 연결하는 단계가 수행된다(S2000).Next, the prepared implant is supported on the electrolytic solution, and the step of connecting the implant to the plasma electrolytic oxidation apparatus is performed (S2000).
여기서, 상기 전해용액은 마그네슘, 칼슘 및 인을 포함하는 용액인 것이 바람직하다.Here, the electrolytic solution is preferably a solution containing magnesium, calcium and phosphorus.
이는 상기 임플란트의 표면에 형성되는 산화피막이 뼈 성분을 이루는 마그네슘, 칼슘 및 인을 포함되게 함으로써, 아파타이트의 형성을 향상되게 하여 생체적합성을 증가시키기 위함이다. This is because the oxide film formed on the surface of the implant includes magnesium, calcium and phosphorus, which constitute bone components, thereby improving the formation of apatite and thereby increasing biocompatibility.
보다 구체적으로, 상기 전해용액은 초산 칼슘, 초산 마그네슘 및 칼슘 글리세로인삼염을 포함한 용액일 수 있다.More specifically, the electrolytic solution may be a solution containing ginseng salts with calcium acetate, magnesium acetate, and calcium glycerol.
또한, 상기 전해용액은 초산 칼슘 26.7g/l 및 칼슘 글리세로인산염 4.3 g/l을 포함한다.The electrolytic solution also contained 26.7 g / l calcium acetate and 4.3 g / l calcium glycerophosphate.
또한, 상기 전해용액은 상기 마그네슘의 농도가 상기 칼슘 대비 5mol% 내지 20 mol%인 것이 바람직하다.It is preferable that the concentration of the magnesium in the electrolytic solution is 5 mol% to 20 mol% based on the calcium.
다음, 상기 플라즈마 전해 산화장치에 펄스 전류를 인가하여, 상기 임플란트의 표면에 산화피막을 형성한다(S3000)Next, a pulse current is applied to the plasma electrolytic oxidation apparatus to form an oxide film on the surface of the implant (S3000)
즉, 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법은 치과용 임플란트의 표면에 마그네슘, 칼슘 및 인을 포함하는 산화피막을 형성하게 하는 기술이다.That is, the surface treatment method of a dental implant according to the present invention is a technique for forming an oxide film containing magnesium, calcium and phosphorus on the surface of a dental implant.
이는 간단한 공정으로 산화피막을 표면에 형성되게 함으로써, 종래의 블라스팅 처리나 플라즈마 스프레이 처리 기술에 대비하여 처리비용 제조시간 및 제조단가를 획기적으로 줄일 수 있으며, 임플란트의 표면과 산화피막층의 결합력을 향상시킬 뿐만 아니라, 내식성 및 내마모성을 향상되게 한다.This makes it possible to drastically reduce the processing cost and manufacturing cost in comparison with the conventional blasting or plasma spraying techniques by forming the oxide film on the surface by a simple process and improve the bonding force between the surface of the implant and the oxide film layer In addition, corrosion resistance and abrasion resistance are improved.
또한, 상기 임플란트와 결합력이 우수한 마이크로 직경 크기의 다공성 산화피막을 형성되게 하며, 상기 산화피막은 뼈 형성의 유도를 향상시킬 수 있게 하는 마그네슘, 칼슘 및 인을 유효성분으로 포함함으로써, 생체적합성을 향상시킬 수 있게 한다.Also, it is possible to form a porous oxide film having a micro-sized diameter which is excellent in binding force with the implant, and the oxide film includes magnesium, calcium and phosphorus as effective ingredients for improving induction of bone formation, thereby improving biocompatibility .
또한, 본 발명은 본 발명에 따른 임플란트의 표면처리방법으로 제조된 치과용 임플란트를 더 제공한다.The present invention further provides a dental implant manufactured by the surface treatment method of an implant according to the present invention.
또한, 상기 임플란트의 표면에는 마그네슘, 칼슘 및 인을 포함하는 산화피막이 형성된다.Also, an oxide film containing magnesium, calcium and phosphorus is formed on the surface of the implant.
도 2는 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법으로 처리된 치과용 임플란트의 주사현미경 사진이다.2 is a scanning electron microscope (SEM) image of a dental implant treated with the method of surface treatment of a dental implant according to the present invention.
도 2를 참조하면, 상기 임플란트의 표면에 형성된 산화피막은 마이크로 사이즈의 기공이 형성된 채로 결정화된다.Referring to FIG. 2, the oxide film formed on the surface of the implant is crystallized while micro-sized pores are formed.
여기서, 상기 기공의 크기는 약 1μM로 형성된다.Here, the size of the pores is about 1 μM.
또한, 상기 산화피막의 마그네슘은 상기 칼슘 대비 5mol% 내지 20 mol% 농도인 것이 바람직하다.It is preferable that magnesium of the oxide film is in a concentration of 5 mol% to 20 mol% of the calcium.
실시예 1Example 1
티타늄 합금의 임플란트를 준비하였다.Titanium alloy implants were prepared.
준비된 상기 임플란트를 전해용액에 담지한 후, 상기 임플란트를 플라즈마 전해 산화장치에 연결하였다.After the prepared implant was supported on the electrolytic solution, the implant was connected to a plasma electrolytic oxidation apparatus.
이후, 플라즈마 전해 산화장치를 통해 상온 조건에서 펄스 전류를 인가하여 상기 임플란트의 표면에 산화피막이 형성되게 하였으며, 실시예 1을 수득하였다.Then, a pulse current was applied at a normal temperature condition through a plasma electrolytic oxidation apparatus to form an oxide film on the surface of the implant, and Example 1 was obtained.
이때, 상기 전해용액은 초산칼슘, 초산 마그네슘, 칼슘 글리세로인삼염을 3차 증류수에 넣은 후, 충분한 교반을 통하여 균질한 용액이 되도록 제조하였다.At this time, the electrolytic solution was prepared by adding calcium acetate, magnesium acetate, and calcium glyceride to the third distilled water, and then homogenizing the solution through sufficient agitation.
또한, 초산 마그네슘의 농도는 초산 칼슘 대비 5mol%가 되도록 하였다.The concentration of magnesium acetate was adjusted to 5 mol% based on calcium acetate.
실시예 2 Example 2
상기 전해용액의 초산 마그네슘 농도가 초산칼슘 대비 10mol%가 되도록 한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 실시예 2를 제조하여 수득하였다.Example 2 was prepared and obtained in the same manner as in Example 1, except that the concentration of magnesium acetate in the electrolytic solution was adjusted to 10 mol% with respect to calcium acetate.
실시예 3Example 3
상기 전해용액의 초산 마그네슘 농도가 초산칼슘 대비 20mol%가 되도록 한 것을 제외하면, 실시예 1과 동일한 방법으로 실시예 3을 제조하여 수득하였다.Example 3 was prepared and obtained in the same manner as in Example 1, except that the concentration of magnesium acetate in the electrolytic solution was adjusted to 20 mol% based on calcium acetate.
실험예 1Experimental Example 1
실시예 1 내지 실시예 3을 주사현미경을 관찰하였으며, 그 결과를 도3 에 도시하였다.Examples 1 to 3 were observed under a scanning microscope, and the results are shown in FIG.
도 3에 도시된 바와 같이, 실시예 1 내지 실시예 3에서 모두 약 1μM의 직경을 지니는 기공이 형성된 것을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 3, it can be seen that pores having a diameter of about 1 μM are formed in all of Examples 1 to 3. FIG.
실험예 2Experimental Example 2
실시예 1 내지 실시예 3의 성분변화를 확인하기 위하여 EDS 분석을 수행하였으며, 그 결과 그래프를 도 4에 나타내었다.EDS analysis was performed to confirm the changes in the components of Examples 1 to 3, and the result thereof is shown in FIG.
도 4에 도시된 바와 같이, 실시예 1 내지 실시예 3 모두 전해용액에 사용된 마그네슘, 칼슘 및 인의 성분이 산화피막으로 잘 형성된 것을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 4, it can be seen that the components of magnesium, calcium and phosphorus used in the electrolytic solution were well formed as oxide films in Examples 1 to 3.
실험예 3Experimental Example 3
실시예 1 내지 실시예 3의 표면에 칼슘, 마그네슘 및 인의 분포를 관찰하기 위하여 EDS mapping 분석을 수행하였으며, 그 결과를 도 5에 나타내었다.EDS mapping analysis was performed to observe the distribution of calcium, magnesium and phosphorus on the surfaces of Examples 1 to 3, and the results are shown in FIG.
도 5에 도시한 바와 같이, 칼슘, 마그네슘 및 인 성분이 임플란트의 표면 전체에 고루 분포됨을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 5, calcium, magnesium, and phosphorus components are uniformly distributed throughout the surface of the implant.
실험예 4Experimental Example 4
골 형성능을 평가하기 위하여, 실시예 1 내지 실시예 3을 생체 유사용액에 7일 동안 침지한 후, 형성되는 아파타이트를 주사전자현미경을 이용하여 확인하였으며, 그 결과를 도 6에 나타내었다.In order to evaluate bone formation ability, Examples 1 to 3 were immersed in a bio-similar solution for 7 days, and apatite to be formed was confirmed using a scanning electron microscope, and the results are shown in FIG.
이때, 상기 생체 유사용액은 Na+ 142.0, K+ 5.0, Ca2 + 2.5, Mg2 + 1.5, Cl- 147.8, HCO-3, HPO2 -4 1.0, SO2 -4 0.5 mM의 농도를 갖도록 제조하였으며, 구강 내 환경과 유사한 36.5℃±1℃, pH 7.4의 조건에서 반응되게 하였다.At this time, the bio-similar solution is Na + 142.0, K + 5.0,
도 6에 도시된 바와 같이, 생체 유사 용액 침지법을 이용하여 골형성능을 관찰한 결과, 본 발명의 실시예 1 내지 실시예 3 모두에서 아파타이트가 용이하게 형성되는 것을 확인할 수 있었으며, 특히 실시예 2의 경우 가장 우수하게 아파타이트가 형성된 것을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 6, bone structure performance was observed using a bioactive solution immersion method. As a result, it was confirmed that apatite was easily formed in all of Examples 1 to 3 of the present invention, It can be confirmed that apatite is formed most excellently.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 치과용 임플란트의 표면처리 방법은 간단한 플라즈마 전해 산화공정을 통하여, 마그네슘, 칼슘 및 인이 포함된 다공성 표면층을 형성함으로써, 골형성능이 우수한 치과 임플란트 표면을 형성할 수 있다.As described above, the surface treatment method of a dental implant according to the present invention can form a porous surface layer containing magnesium, calcium and phosphorus through a simple plasma electrolytic oxidation process, thereby forming a dental implant surface having excellent bone structure performance have.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation, Various changes and modifications will be possible.
Claims (10)
상기 임플란트를 초산 칼슘, 초산 마그네슘 및 칼슘 글리세로인산염을 포함하는 전해용액에 담지하고, 상기 임플란트를 플라즈마 전해 산화장치에 연결하는 단계;
상기 플라즈마 전해 산화장치에 펄스 전류를 인가하여, 상기 임플란트의 표면에 산화피막을 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 전해용액은 상기 초산 마그네슘의 농도가 상기 초산 칼슘 대비 5mol% 내지 20 mol%로 함유되어, 아파타이트의 형성을 향상되게 하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면처리 방법.
Preparing a dental implant;
Supporting the implant in an electrolytic solution containing calcium acetate, magnesium acetate and calcium glycerophosphate, and connecting the implant to a plasma electrolytic oxidation apparatus;
And applying a pulse current to the plasma electrolytic oxidation apparatus to form an oxide film on the surface of the implant,
Wherein the electrolytic solution contains 5mol% to 20mol% of magnesium acetate as the concentration of calcium acetate, thereby improving the formation of apatite.
상기 전해용액은
초산 칼슘 26.7g/l 및 칼슘 글리세로인산염 4.3 g/l을 포함하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면처리 방법.
The method according to claim 1,
The electrolytic solution
26.7 g / l of calcium acetate and 4.3 g / l of calcium glycerophosphate.
상기 임플란트는
티타늄 합금 또는 티타늄 재질의 금속인 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면처리 방법.
The method according to claim 1,
The implant
Titanium alloy or titanium metal. ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI >
A method for surface treatment of an implant according to any one of claims 1, 4, and 6, wherein micro-sized pores are formed on the surface, and an oxide film containing magnesium, calcium and phosphorus is formed, And the concentration of calcium is 5 mol% to 20 mol%.
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