KR101720718B1 - Photosensitive resin composition for light blocking layer and light blocking layer using the same - Google Patents

Photosensitive resin composition for light blocking layer and light blocking layer using the same Download PDF

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Abstract

(A) 하기 화학식 1로 표시되는 염료를 포함하는 청색계 재료 및 적색계 재료를 포함하는 착색제, (B) 바인더 수지, (C) 광중합성 단량체, (D) 광중합 개시제 및 (E) 용매를 포함하는 차광층용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층이 제공된다.
[화학식 1]

Figure 112016052487478-pat00025

(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)(B) a binder resin, (C) a photopolymerizable monomer, (D) a photopolymerization initiator, and (E) a solvent, wherein the colorant comprises (A) a colorant comprising a blue- A photosensitive resin composition for a light-shielding layer, and a light-shielding layer using the same.
[Chemical Formula 1]
Figure 112016052487478-pat00025

(Wherein each substituent is as defined in the specification).

Description

차광층용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIGHT BLOCKING LAYER AND LIGHT BLOCKING LAYER USING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a photosensitive resin composition for a light-shielding layer and a light-shielding layer using the same. BACKGROUND ART [0002]

본 기재는 차광층용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition for a light-shielding layer and a light-shielding layer using the same.

차광층용 감광성 수지 조성물은 차광층, 액정표시재료, 유기발광소자(EL), 디스플레이 패널 재료 등의 표시 소자의 제조에 필수적인 재료이다.  예를 들어, 컬러 액정 디스플레이 등의 차광층에는 표시 콘트라스트나 발색 효과를 높이기 위해, 레드(red), 그린(green), 블루(blue) 등의 착색층 간의 경계 부분에 차광층이 필요하고, 이 차광층은 주로 차광층용 감광성 수지 조성물로 형성되는 것이다.The light-sensitive resin composition for a light-shielding layer is an indispensable material for the production of display elements such as a light-shielding layer, a liquid crystal display material, an organic light emitting element (EL), and a display panel material. For example, in the light-shielding layer of a color liquid crystal display or the like, a light-shielding layer is required at a boundary portion between colored layers such as red, green, and blue in order to improve display contrast and coloring effect, The light-shielding layer is mainly formed of a photosensitive resin composition for a light-shielding layer.

현재 많이 사용되는 카본 안료 분산형 감광성 조성물은 전기저항이 작기 때문에, 포토 스페이서 또는 절연 재료로서 사용하기 어렵다.  따라서 포토 스페이서와 같은 고 절연성을 보유하면서 흑색도를 동시에 갖는 재료를 구현하기 위해, 일본특허 제2,552,391호에서는 혼합 유기 안료로 이루어지는 절연성 유기 안료를 카본블랙 대신 배합에 이용하고 있다. 그러나 이 경우 유기 안료만을 사용함에 따라 광학 밀도(optical density, OD) 값이 낮아진다. Since the carbon pigment-dispersed photosensitive composition frequently used at present has a low electrical resistance, it is difficult to use it as a photo-spacer or an insulating material. Accordingly, Japanese Patent No. 2,552,391 uses an insulating organic pigment comprising a mixed organic pigment in place of carbon black in order to realize a material having a high degree of insulation while having a high degree of insulation such as a photo spacer. However, in this case, the optical density (OD) value is lowered by using only the organic pigment.

본 발명의 일 구현예는 차광성이 우수하고 금속 이온 용출을 방지한 우수한 차광층용 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.An embodiment of the present invention is to provide a photosensitive resin composition for a light-shielding layer which is excellent in light shielding property and prevents metal ion elution.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 차광층용 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 차광층을 제공하기 위한 것이다. Another embodiment of the present invention is to provide a light-shielding layer produced using the photosensitive resin composition for a light-shielding layer.

본 발명의 일 구현예는 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 염료를 포함하는 청색계 재료 및 적색계 재료를 포함하는 착색제; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 청색계 재료는 금속 이온을 포함하지 않는 차광층용 감광성 수지 조성물을 제공한다.One embodiment of the present invention is a coloring agent comprising (A) a coloring agent comprising a blue-based material and a red-based material including a dye represented by the following formula (1); (B) a binder resin; (C) a photopolymerizable monomer; (D) a photopolymerization initiator; And (E) a solvent, wherein the blue-based material does not contain a metal ion.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112016052487478-pat00001
Figure 112016052487478-pat00001

(상기 화학식 1에서,(In the formula 1,

X1 및 X2는 각각 독립적으로 탄소 원자, 황 원자 또는 산소 원자이고,X 1 and X 2 are each independently a carbon atom, a sulfur atom or an oxygen atom,

R1 내지 R6은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이고,R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C3 A substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 hetero A substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C30 heteroaryl group,

Y1 고리기 및 Y2 고리기는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이고,The Y 1 ring group and the Y 2 ring group are each independently a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkynyl group, A substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, RTI ID = 0.0 > C2-C30 < / RTI > heteroaryl group,

A1은 할로겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 테트라플루오로보레이트 음이온(BF4 -), 헥사플루오로안티모네이트 음이온(SbF6 -), 할로아세테이트 음이온, 알킬술페이트 음이온, 술폰산염 음이온 또는 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6 -)이고,A 1 represents a halogen anion, a perhalogenated anion, a tetrafluoroborate anion (BF 4 - ), a hexafluoroantimonate anion (SbF 6 - ), a haloacetate anion, an alkylsulfate anion, a sulfonate anion or a hexafluoro Phosphate anion (PF < 6 > - )

n1 내지 n4는 각각 0 또는 1이다.)and n 1 to n 4 are each 0 or 1.)

상기 화학식 1로 표시되는 염료는 하기 화학식 2로 표시되는 염료일 수 있다.The dye represented by the formula (1) may be a dye represented by the following formula (2).

[화학식 2](2)

Figure 112016052487478-pat00002
Figure 112016052487478-pat00002

(상기 화학식 2에서,(In the formula (2)

R7 내지 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이고,R 7 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C3 A substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 hetero A substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C30 heteroaryl group,

A2는 할로겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 테트라플루오로보레이트 음이온(BF4 -), 헥사플루오로안티모네이트 음이온(SbF6 -), 할로아세테이트 음이온, 알킬술페이트 음이온, 술폰산염 음이온 또는 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6 -)이다.)A 2 represents a halogen anion, a perhalogenated anion, a tetrafluoroborate anion (BF 4 - ), a hexafluoroantimonate anion (SbF 6 - ), a haloacetate anion, an alkylsulfate anion, a sulfonate anion or a hexafluoro Phosphate anion (PF 6 - ).

상기 청색계 재료는 바이올렛계 안료를 더 포함할 수 있다.The blue-based material may further include a violet pigment.

상기 적색계 재료는 염료, 안료 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The red-based material may include a dye, a pigment, or a combination thereof.

상기 적색계 재료는 페릴렌계 안료, 안트라퀴논(anthraquinone)계 안료, 지안토라퀴논계 안료, 아조계 안료, 디아조계 안료, 퀴나크리돈(quinacridone)계 안료, 안트라센(anthracene)계 안료 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. Wherein the red material is at least one selected from the group consisting of a perylene pigment, an anthraquinone pigment, a giant lake quinone pigment, an azo pigment, a diazo pigment, a quinacridone pigment, an anthracene pigment, .

상기 착색제는 상기 청색계 재료 및 상기 적색계 재료를 10:90 내지 90:10의 중량비로 포함할 수 있다.The colorant may include the blue-based material and the red-based material at a weight ratio of 10:90 to 90:10.

상기 착색제는 녹색계 재료를 더 포함할 수 있다.The colorant may further include a green-based material.

상기 녹색계 재료는 염료, 안료 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The green-based material may comprise a dye, a pigment, or a combination thereof.

상기 녹색계 재료는 할로겐화 프탈로시아닌계 안료를 포함할 수 있다. The green-based material may include a halogenated phthalocyanine-based pigment.

상기 차광층용 감광성 수지 조성물은 상기 (A) 착색제 1 중량% 내지 80 중량%; 상기 (B) 바인더 수지 0.1 중량% 내지 30 중량%; 상기 (C) 광중합성 단량체 0.1 중량% 내지 30 중량%; 상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 및 상기 (E) 용매 잔부량을 포함할 수 있다. The light-sensitive resin composition for a light-shielding layer contains 1 to 80% by weight of the colorant (A); 0.1 to 30% by weight of the binder resin (B); 0.1 to 30% by weight of the (C) photopolymerizable monomer; 0.1 to 5% by weight of the photopolymerization initiator (D); And (E) the solvent balance.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 차광층용 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 차광층을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a light-shielding layer produced using the photosensitive resin composition for a light-shielding layer.

기타 본 발명의 구현예들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other details of the embodiments of the present invention are included in the following detailed description.

차광성이 우수하고 금속 이온의 용출 방지에 따라 신뢰성이 우수한 차광층을 구현할 수 있다.The light shielding layer is excellent in light shielding property and excellent in reliability due to prevention of elution of metal ions.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, it should be understood that the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the following claims.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 화합물 중의 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20의 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C30 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "substituted" means that at least one hydrogen atom in the compound is replaced by a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxy group, A thio group, an ester group, an ether group, a carboxyl group or a salt thereof, a sulfonic acid group or a salt thereof, a phosphoric acid or a salt thereof, an acid anhydride, an amide group, an azo group, an azido group, an amidino group, a hydrazino group, a hydrazino group, a carbonyl group, , A C1 to C20 alkyl group, a C2 to C20 alkenyl group, a C2 to C20 alkynyl group, a C6 to C30 aryl group, a C3 to C20 cycloalkyl group, a C3 to C20 cycloalkenyl group, a C3 to C20 cycloalkynyl group, An alkyl group, a C2 to C20 heterocycloalkenyl group, a C2 to C20 heterocycloalkynyl group, or a combination thereof.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로사이클로알킬기", "헤테로사이클로알케닐기", "헤테로사이클로알키닐기" 및 "헤테로사이클로알킬렌기"란 각각 사이클로알킬, 사이클로알케닐, 사이클로알키닐 및 사이클로알킬렌의 고리 화합물 내에 적어도 하나의 N, O, S 또는 P의 헤테로 원자가 존재하는 것을 의미한다.Unless otherwise stated, the terms "heterocycloalkyl", "heterocycloalkenyl", "heterocycloalkynyl" and "heterocycloalkylene" refer to cycloalkyl, cycloalkenyl, cycloalkynyl, and cycloalkyl Means that at least one heteroatom of N, O, S or P is present in the ring compound of the ring.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미한다.As used herein, unless otherwise specified, "(meth) acrylate" means that both "acrylate" and "methacrylate" are possible.

 

상기 차광층용 감광성 수지 조성물은 (A) 착색제, (B) 바인더 수지, (C) 광중합성 단량체, (D) 광중합 개시제 및 (E) 용매를 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition for a light-shielding layer may contain (A) a colorant, (B) a binder resin, (C) a photopolymerizable monomer, (D) a photopolymerization initiator and (E) a solvent.

이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.Each component will be described in detail below.

(A) 착색제(A) Colorant

일 구현예에 따른 착색제는 청색계 재료 및 적색계 재료를 혼합하여 사용할 수 있다.The colorant according to one embodiment may be used by mixing a blue-based material and a red-based material.

상기 청색계 재료는 금속 이온을 포함하지 않는, 하기 화학식 1로 표시되는 염료를 사용할 수 있다.The blue-based material may be a dye represented by the following formula (1), which does not contain a metal ion.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112016052487478-pat00003
Figure 112016052487478-pat00003

(상기 화학식 1에서,(In the formula 1,

X1 및 X2는 각각 독립적으로 탄소 원자, 황 원자 또는 산소 원자이고,X 1 and X 2 are each independently a carbon atom, a sulfur atom or an oxygen atom,

R1 내지 R6은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이고, R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C3 A substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 hetero A substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C30 heteroaryl group,

Y1 고리기 및 Y2 고리기는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이고,The Y 1 ring group and the Y 2 ring group are each independently a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkynyl group, A substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, RTI ID = 0.0 > C2-C30 < / RTI > heteroaryl group,

A1은 할로겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 테트라플루오로보레이트 음이온(BF4 -), 헥사플루오로안티모네이트 음이온(SbF6 -), 할로아세테이트 음이온, 알킬술페이트 음이온, 술폰산염 음이온 또는 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6 -)이고,A 1 represents a halogen anion, a perhalogenated anion, a tetrafluoroborate anion (BF 4 - ), a hexafluoroantimonate anion (SbF 6 - ), a haloacetate anion, an alkylsulfate anion, a sulfonate anion or a hexafluoro Phosphate anion (PF < 6 > - )

n1 내지 n4는 각각 0 또는 1이다.)and n 1 to n 4 are each 0 or 1.)

상기 화학식 1에서 상기 X1 및 X2가 각각 황 원자 또는 산소 원자인 경우에는 n1 내지 n4는 각각 0 이다.In the formula (1), when X 1 and X 2 are each a sulfur atom or an oxygen atom, n 1 to n 4 are each 0.

상기 화학식 1로 표시되는 염료와 같은 청색계 재료와 상기 적색계 재료를 혼합하여 사용함으로써 흑색도를 구현할 수 있으며, 금속 이온이 포함되지 않은 상기 청색계 재료의 사용에 따라 용매에 의한 금속 이온의 용출이 발생하지 않는다. 또한 감광성 수지 조성물 내에 카본블랙의 사용을 대체함에 따라 높은 절연성을 가지면서도 흑색도를 구현할 수 있다.The blackness can be realized by mixing the blue-based material such as the dye represented by Formula 1 and the red-based material, and the use of the blue-based material not containing the metal ion allows the dissolution of the metal ion by the solvent Does not occur. Further, since the use of carbon black is substituted for the photosensitive resin composition, blackness can be realized while having high insulation.

상기 화학식 1로 표시되는 염료는 구체적으로 하기 화학식 2로 표시되는 염료일 수 있다.The dye represented by the formula (1) may be a dye represented by the following formula (2).

[화학식 2](2)

Figure 112016052487478-pat00004
Figure 112016052487478-pat00004

(상기 화학식 2에서,(In the formula (2)

R7 내지 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이고,R 7 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C3 A substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 hetero A substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C30 heteroaryl group,

A2는 할로겐 음이온; ClO4 -와 같은 과할로겐산 음이온; 테트라플루오로보레이트 음이온(BF4 -); 헥사플루오로안티모네이트 음이온(SbF6 -); CF3CO2 -와 같은 할로아세테이트 음이온; 알킬술페이트 음이온; N(SO2CF3)2 -, 하기 화학식 3-1 및 화학식 3-2로 표시되는 음이온과 같은 술폰산염 음이온; 또는 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6 -)이다.)A 2 is a halogen anion; Perhalogenated anions such as ClO 4 - ; Tetrafluoroborate anion (BF 4 - ); Hexafluoroantimonate anion (SbF 6 - ); A haloacetate anion such as CF 3 CO 2 - ; Alkyl sulfate anion; N (SO 2 CF 3 ) 2 - , sulfonic acid salt anions such as the anions represented by the following formulas (3-1) and (3-2); Or a hexafluorophosphate anion (PF 6 - ).)

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure 112016052487478-pat00005
Figure 112016052487478-pat00005

[화학식 3-2][Formula 3-2]

Figure 112016052487478-pat00006
Figure 112016052487478-pat00006

상기 화학식 1로 표시되는 염료의 더욱 구체적인 예로는 하기 화학식 4로 표시되는 염료를 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.More specific examples of the dyes represented by the formula (1) include dyes represented by the following formula (4), but the present invention is not limited thereto.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure 112016052487478-pat00007
Figure 112016052487478-pat00007

상기 청색계 재료는 상기 화학식 1로 표시되는 염료 외에, 바이올렛계 안료를 함께 사용할 수 있다.The blue-based material may be a violet pigment in addition to the dye represented by the above-mentioned formula (1).

상기 바이올렛계 안료로는 지오키사진바이올렛토, 퍼스트 바이올렛 B, 메틸바이올렛토이키, 인단토렌부리리안토바이올렛 등을 들 수 있다.Examples of the violet pigment include GeoKi Photo Violet Sat, First Violet B, Methyl Violet Toyoki, Indanthrene Violet Rain Violet and the like.

상기 적색계 재료는 염료, 안료 또는 이들의 조합을 사용할 수 있으며, 구체적으로는 페릴렌계 안료, 안트라퀴논(anthraquinone)계 안료, 지안토라퀴논계 안료, 아조계 안료, 디아조계 안료, 퀴나크리돈(quinacridone)계 안료, 안트라센(anthracene)계 안료 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다.  상기 적색계 재료의 더욱 구체적인 예로는, 페릴렌 안료, 퀴나크리돈(quinacridone) 안료, 나프톨(naphthol) AS, 시코민 안료, 안트라퀴논(anthraquinone)(sudan I, II, III, R), 지안토라키노닐렛도, 비스 아조(vis azo), 벤조피란 등을 들 수 있다. The red material may be a dye, a pigment, or a combination thereof. Specific examples thereof include a perylene pigment, an anthraquinone pigment, a giant lake quinone pigment, an azo pigment, a diazo pigment, quinacridone ) Based pigments, anthracene based pigments, or a combination thereof. More specific examples of the red material include perylene pigments, quinacridone pigments, naphthol AS, siccone pigments, anthraquinone (sudan I, II, III, R), giant tracino Nilets also include vis azo, benzopyran, and the like.

상기 청색계 재료 및 상기 적색계 재료는 10:90 내지 90:10의 중량비로 혼합될 수 있고, 구체적으로는 60:40 내지 90:10의 중량비로 혼합될 수 있고, 더욱 구체적으로는 75:25 내지 85:15의 중량비로 혼합될 수 있다. 상기 중량비 범위 내로 혼합하여 사용할 경우 흑색도를 구현할 수 있다.The blue-based material and the red-based material may be mixed in a weight ratio of 10:90 to 90:10, specifically, in a weight ratio of 60:40 to 90:10, and more specifically, 85:15 by weight. When the mixture is used within the above weight ratio range, blackness can be realized.

상기 착색제는 상기 청색계 재료 및 상기 적색계 재료 외에도, 녹색계 재료를 함께 혼합하여 사용할 수 있다.In addition to the blue-based material and the red-based material, the colorant may be used by mixing together a green-based material.

상기 녹색계 재료는 염료, 안료 또는 이들의 조합을 사용할 수 있으며, 구체적으로는 할로겐화 프탈로시아닌계 안료를 사용할 수 있다. 상기 녹색계 재료의 더욱 구체적인 예로는 폴리클로로 구리 프탈로시아닌, 폴리클로로 브로모 프탈로시아닌 등을 들 수 있다.The green-based material may be a dye, a pigment, or a combination thereof. Specifically, a halogenated phthalocyanine-based pigment may be used. More specific examples of the green-based material include polychloro-copper phthalocyanine, polychlorobromophthalocyanine, and the like.

상기 안료들은 분산액 형태로 차광층용 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다. 이러한 안료 분산액은 상기 안료와 용매, 분산제, 바인더 수지 등으로 이루어질 수 있다.The pigments may be included in the photosensitive resin composition for a light-shielding layer in the form of a dispersion. Such a pigment dispersion may be composed of the pigment, a solvent, a dispersing agent, a binder resin, and the like.

상기 용매로는 에틸렌 글리콜 아세테이트, 에틸 셀로솔브, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 에틸 락테이트, 폴리에틸렌 글리콜, 사이클로헥사논, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 등을 사용할 수 있으며, 이들 중에서 좋게는 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트를 사용할 수 있다. As the solvent, ethylene glycol acetate, ethyl cellosolve, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, polyethylene glycol, cyclohexanone, propylene glycol methyl ether and the like can be used. Among them, propylene glycol methyl ether acetate is preferably used .

상기 분산제는 상기 안료가 분산액 내에 균일하게 분산되도록 도와주며, 비이온성, 음이온성 또는 양이온성의 분산제 모두 사용할 수 있다. 구체적으로는 폴리알킬렌 글리콜 또는 이의 에스테르, 폴리옥시 알킬렌, 다가 알콜 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복시산 에스테르, 카르복시산 염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The dispersant helps to uniformly disperse the pigment in the dispersion, and any nonionic, anionic or cationic dispersant may be used. Specific examples thereof include polyalkylene glycols or esters thereof, polyoxyalkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adducts, alcohol alkylene oxide adducts, sulfonic acid esters, sulfonic acid salts, carboxylic acid esters, carboxylic acid salts, alkylamide alkylene oxide adducts Water, alkylamine, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 바인더 수지는 카르복시기를 포함한 아크릴계 수지를 사용할 수 있으며, 이는 안료 분산액의 안정성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 픽셀의 패턴성도 개선시킬 수 있다.The binder resin may use an acrylic resin including a carboxyl group, which not only improves the stability of the pigment dispersion but also improves the patterning of pixels.

상기 안료의 1차 입경은 10 내지 70 nm 일 수 있다. 안료의 1차 입경이 상기 범위 내일 경우 안료 분산액 내에서의 안정성이 우수하고, 픽셀의 해상성 또한 우수하다.The primary particle diameter of the pigment may be 10 to 70 nm. When the primary particle diameter of the pigment is within the above range, the stability in the pigment dispersion is excellent and the resolution of the pixel is also excellent.

상기 안료의 2차 입경은 특별히 한정되지는 않으나, 픽셀의 해상성을 고려할 때 200 nm 이하일 수 있고, 구체적으로는 70 nm 내지 100 nm 일 수 있다. 에스테르, 카르복시산 염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The secondary particle diameter of the pigment is not particularly limited, but may be 200 nm or less, in particular 70 nm to 100 nm, considering the resolution of the pixel. Esters, carboxylic acid salts, alkylamide alkylene oxide adducts, and alkylamines. These may be used alone or in admixture of two or more.

상기 착색제는 상기 차광층용 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 50 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있다. 상기 착색제를 상기 범위 내로 사용할 경우 흑색도를 구현할 수 있고 신뢰성이 우수한 차광층을 얻을 수 있다.The colorant may be contained in an amount of 1% by weight to 80% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition for the light-shielding layer, and specifically 50% by weight to 70% by weight. When the colorant is used within the above range, it is possible to obtain a light-shielding layer which can realize blackness and is excellent in reliability.

 

(B) 바인더 수지(B) binder resin

상기 바인더 수지는 카도계 바인더 수지, 아크릴계 바인더 수지, 폴리이미드계 바인더 수지, 폴리우레탄계 바인더 수지 또는 이들의 조합의 수지를 사용할 수 있다.The binder resin may be a carcass binder resin, an acrylic binder resin, a polyimide binder resin, a polyurethane binder resin, or a combination thereof.

상기 바인더 수지의 중량평균분자량은 1,000 g/mol 내지 150,000 g/mol 일 수 있다.The weight average molecular weight of the binder resin may be from 1,000 g / mol to 150,000 g / mol.

상기 바인더 수지는 상기 종류 중 좋게는 상기 카도계 바인더 수지를 사용할 수 있다.  상기 카도계 바인더 수지를 사용할 경우 상기 감광성 수지 조성물의 내열성 및 내화학성이 개선될 수 있다. Among the above-mentioned kinds of the binder resin, the cadmium-based binder resin can be preferably used. When the cationic binder resin is used, the heat resistance and chemical resistance of the photosensitive resin composition can be improved.

상기 카도계 바인더 수지의 중량평균분자량은 1,000 g/mol 내지 50,000 g/mol 일 수 있고, 구체적으로는 3,000 g/mol 내지 35,000 g/mol 일 수 있다. 상기 카도계 바인더 수지의 중량평균분자량이 상기 범위 내일 경우 차광층 제조 시 우수한 패턴성 및 현상성을 얻을 수 있다. The weight average molecular weight of the cationic binder resin may be from 1,000 g / mol to 50,000 g / mol, and specifically from 3,000 g / mol to 35,000 g / mol. When the weight average molecular weight of the cationic binder resin is within the above range, excellent patterning property and developability can be obtained in the production of the light-shielding layer.

상기 카도계 바인더 수지는 하기 화학식 5로 표시되는 반복단위를 포함하는 화합물일 수 있다.The cadmium binder resin may be a compound containing a repeating unit represented by the following formula (5).

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112016052487478-pat00008
Figure 112016052487478-pat00008

(상기 화학식 5에서,(In the above formula (5)

R24 내지 R27은 서로 동일하거나 상이하며, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 24 to R 27 are the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R28 및 R29는 서로 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 CH2ORa(Ra는 비닐기, 아크릴레이트기 또는 메타크릴레이트기)이고,R 28 and R 29 are the same as or different from each other, and represent a hydrogen atom or CH 2 OR a (R a is a vinyl group, an acrylate group or a methacrylate group)

R30은 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 아크릴레이트기 또는 메타크릴레이트기이고,R 30 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkenyl group, an acrylate group or a methacrylate group,

Z1은 단일결합, O, CO, SO2, CRbRc, SiRdRe(여기서, Rb 내지 Re는 서로 동일하거나 상이하며, 수소 원자, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임), 또는 하기 화학식 6 내지 화학식 16로 표시되는 화합물 중 선택되는 어느 하나이고,Z 1 is a single bond, O, CO, SO 2 , CR b R c , SiR d R e (wherein R b to R e are the same or different and are a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group Or a compound represented by any one of the following formulas (6) to (16)

Z2는 산무수물 잔기 또는 산이무수물 잔기이다.)Z 2 is an acid anhydride residue or an acid anhydride residue.)

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure 112016052487478-pat00009
Figure 112016052487478-pat00009

[화학식 7](7)

Figure 112016052487478-pat00010
Figure 112016052487478-pat00010

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure 112016052487478-pat00011
Figure 112016052487478-pat00011

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure 112016052487478-pat00012
Figure 112016052487478-pat00012

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure 112016052487478-pat00013
Figure 112016052487478-pat00013

(상기 화학식 10에서,(In the formula (10)

Rf는 수소 원자, 에틸기, C2H4Cl, C2H4OH, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다.)R f is a hydrogen atom, an ethyl group, C 2 H 4 Cl, C 2 H 4 OH, CH 2 CH = CH 2 or a phenyl group.

[화학식 11](11)

Figure 112016052487478-pat00014
Figure 112016052487478-pat00014

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure 112016052487478-pat00015
Figure 112016052487478-pat00015

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure 112016052487478-pat00016
Figure 112016052487478-pat00016

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure 112016052487478-pat00017
Figure 112016052487478-pat00017

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure 112016052487478-pat00018
Figure 112016052487478-pat00018

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure 112016052487478-pat00019
Figure 112016052487478-pat00019

상기 카도계 바인더 수지는 구체적으로 하기 화학식 17로 표시되는 화합물을 테트라카르복실산 2무수물과 반응시켜 얻을 수 있다. The cadmium binder resin can be specifically obtained by reacting a compound represented by the following formula (17) with a tetracarboxylic acid dianhydride.

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure 112016052487478-pat00020
Figure 112016052487478-pat00020

상기 테트라카르복시산 2무수물은 방향족 테트라카르복시산 2무수물일 수 있다. 상기 방향족 테트라카르복시산 2무수물의 예로는, 피로멜릭산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4-비페닐테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 1,2,3,4-사이클로펜탄테트라카르복시산 2무수물, 1,2,5,6-나프탈렌테트라카르복시산 2무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복시산 2무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복시산 2무수물, 2,3,5,6-피리딘테트라카르복시산 2무수물, 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복시산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 2무수물 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The tetracarboxylic dianhydride may be an aromatic tetracarboxylic dianhydride. Examples of the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include pyromellic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2 , 2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride , 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2, 3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5,6-pyridine tetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylene Tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, and the like, but the present invention is not limited thereto.

상기 아크릴계 바인더 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지이다.  The acrylic binder resin may contain a first ethylenic unsaturated monomer And a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and is a resin comprising at least one acrylic repeating unit.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산 또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxyl group, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%로 포함될 수 있고, 구체적으로는 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be contained in an amount of 5% by weight to 50% by weight based on the total amount of the acrylic binder resin, specifically, 10% by weight to 40% by weight.

상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound such as styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, or vinylbenzyl methyl ether; (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth) acrylate and phenyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth) acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl benzoate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth) acrylate; A vinyl cyanide compound such as (meth) acrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as (meth) acrylamide; These may be used singly or in combination of two or more.

상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 메타크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.  Specific examples of the acrylic binder resin include methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / styrene copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer Methacrylic acid / benzyl methacrylate / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, but are not limited thereto, and they may be used alone or in combination of two or more.

상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균분자량은 3,000 g/mol 내지 150,000 g/mol 일 수 있고, 구체적으로는 5,000 g/mol 내지 50,000 g/mol 일 수 있고, 더욱 구체적으로는 2,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균분자량이 상기 범위 내일 경우, 상기 차광층용 감광성 수지 조성물의 물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 차광층 제조시 기판과의 밀착성이 우수하다.  The acrylic binder resin may have a weight average molecular weight of from 3,000 g / mol to 150,000 g / mol, specifically from 5,000 g / mol to 50,000 g / mol, more specifically from 2,000 g / mol to 30,000 g / mol.   When the weight average molecular weight of the acrylic binder resin is within the above range, the photosensitive resin composition for a light-shielding layer is excellent in physical and chemical properties, has an appropriate viscosity, and is excellent in adhesion to a substrate in the production of a light- shielding layer.

상기 아크릴계 바인더 수지의 산가는 15 mgKOH/g 내지 60 mgKOH/g 일 수 있고, 구체적으로는 20 mgKOH/g 내지 50 mgKOH/g 일 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acid value of the acrylic binder resin may be from 15 mgKOH / g to 60 mgKOH / g, and specifically from 20 mgKOH / g to 50 mgKOH / g. When the acid value of the acrylic binder resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.

상기 바인더 수지는 상기 차광층용 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 상기 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 점도가 적절히 유지되어 차광층 제조 시 패턴성, 공정성 및 현상성이 우수하다. The binder resin is preferably added to the total amount of the photosensitive resin composition for the light-   0.1% by weight to 30% by weight, and specifically,   1% by weight to 20% by weight. When the binder resin is contained within the above range, the viscosity is appropriately maintained, and the patterning property, the processability, and the developing property are excellent when the light-shielding layer is produced.

 

(C) (C) 광중합성Photopolymerization 단량체 Monomer

상기 광중합성 단량체로는 2개 이상의 히드록시기를 갖는 다관능기 단량체를 사용할 수 있다.  광중합성 단량체의 구체적인 예로는, 글리세롤아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 비스페놀A디아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리아크릴레이트, 노볼락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트 등이 있다.As the photopolymerizable monomer, a polyfunctional monomer having two or more hydroxyl groups may be used. Specific examples of the photopolymerizable monomer include glycerol acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate Acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol acrylate, pentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol triacrylate, But are not limited to, ethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate , 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate Acrylate and the like.

상기 광중합성 단량체는 차광층용 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있고, 구체적으로는 5 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함되는 경우 차광층 제조 시 패턴 특성 및 현상성이 우수하다.The photopolymerizable monomer may be contained in an amount of 0.1% by weight to 30% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition for a light-shielding layer, and specifically 5% by weight to 20% by weight. When the photopolymerizable monomer is contained within the above range, the pattern characteristics and developability are excellent in the production of the light-shielding layer.

 

(D) (D) 광중합Light curing 개시제Initiator

상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 광중합 개시제로서, 예를 들어, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물, 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다. The photopolymerization initiator is a photopolymerization initiator generally used in a photosensitive resin composition. Examples of the photopolymerization initiator include an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a benzoin compound, a triazine compound, a oxime compound, Can be used.

상기 아세토페논계의 화합물로는 2,2'-디에톡시아세토페논, 2,2'-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로아세토페논, p-t-부틸디클로로아세토페논, 4-클로로아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸-벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온 등을 사용할 수 있다. Examples of the acetophenone compound include 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, Dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane- 2-dimethylamino-2- (4-methyl-benzyl) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one.

상기 벤조페논계 화합물로는 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 사용할 수 있다.Examples of the benzophenone compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, Bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone.

상기 티오크산톤계 화합물로는 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 사용할 수 있다.Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2- Orcanthon and the like can be used.

상기 벤조인계 화합물로는 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 사용할 수 있다.Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl dimethyl ketal.

상기 트리아진계 화합물로는 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-트리 클로로메틸(피페로닐)-6-트리아진, 2-4-트리클로로메틸(4'-메톡시스티릴)-6-트리아진 등을 사용할 수 있다.Examples of the triazine type compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl 4,6-bis (trichloromethyl) -s- triazine, 2- (3 ', 4'-dimethoxy (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) Bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphtho-1-yl) -4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphtho 1-yl) -4,6-bis 6-triazine, 2-4-trichloromethyl (4'-methoxystyryl) -6-triazine, and the like can be used.

상기 옥심계 화합물로는 1,2-옥탄디온, 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온 등을 사용할 수 있다.Examples of the oxime compounds include 1,2-octanedione, 2- (o-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone.

상기 종류의 광중합 개시제 이외에, 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계, 비이미다졸계 화합물 등도 광중합 개시제로 사용할 수 있다.  In addition to the above-described photopolymerization initiators, carbazole-based compounds, diketone compounds, sulfonium borate compounds, diazo compounds, and imidazole-based compounds can also be used as a photopolymerization initiator.

상기 광중합 개시제는 차광층용 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있고, 구체적으로는 1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함되는 경우 차광층 제조를 위한 패턴 형성 공정에서 노광 시 광중합이 충분히 일어나게 되어 감도가 우수하며, 투과율이 개선된다. The photopolymerization initiator may be contained in an amount of 0.1 wt% to 5 wt% based on the total amount of the photosensitive resin composition for a light-shielding layer, and specifically 1 wt% to 3 wt%. When the photopolymerization initiator is contained within the above range, photopolymerization occurs sufficiently during exposure in a pattern formation process for producing a light shielding layer, which results in excellent sensitivity and improved transmittance.

 

(E) 용매(E) Solvent

상기 용매는 특별한 제한은 없으나, 구체적으로 예를 들면, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 메틸에테르, 에틸렌 글리콜 에틸에테르, 프로필렌 글리콜 메틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케논, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 메틸 락테이트, 에틸 락테이트 등의 락트산 알킬 에스테르류; 메틸 히드록시아세테이트, 에틸 히드록시아세테이트, 부틸 히드록시아세테이트 등의 히드록시아세트산 알킬 에스테르류; 메톡시메틸 아세테이트, 메톡시에틸 아세테이트, 메톡시부틸 아세테이트, 에톡시메틸 아세테이트, 에톡시에틸 아세테이트 등의 아세트산 알콕시알킬 에스테르류; 메틸 3-히드록시프로피오네이트, 에틸 3-히드록시프로피오네이트 등의 3-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-메톡시프로피오네이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 메틸 3-에톡시프로피오네이트 등의 3-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시프로피오네이트, 에틸 2-히드록시프로피오네이트, 프로필 2-히드록시프로피오네이트 등의 2-히드록시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-메톡시프로피오네이트, 에틸 2-에톡시프로피오네이트, 메틸 2-에톡시프로피오네이트 등의 2-알콕시프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-히드록시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-히드록시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 메틸 2-메톡시-2-메틸프로피오네이트, 에틸 2-에톡시-2-메틸프로피오네이트 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산 알킬 에스테르류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트, 2-히드록시-2-메틸에틸 프로피오네이트, 히드록시에틸 아세테이트, 메틸 2-히드록시-3-메틸부타노에이트 등의 에스테르류; 또는 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류의 화합물이 있으며, 또한 N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 에틸렌 카보네이트, 프로필렌 카보네이트, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등이 있으며, 이들 단독으로 사용되거나 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent is not particularly limited, but specific examples thereof include alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisobutyl ether, methylphenyl ether and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether and propylene glycol methyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methylethylcarbitol, diethylcarbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl- ; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and isobutyl acetate; Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Hydroxyacetic acid alkyl esters such as methylhydroxyacetate, ethylhydroxyacetate and butylhydroxyacetate; Alkoxyalkyl esters such as methoxy methyl acetate, methoxy ethyl acetate, methoxy butyl acetate, ethoxy methyl acetate, and ethoxy ethyl acetate; 3-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-hydroxypropionate and ethyl 3-hydroxypropionate; 3-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate; 2-hydroxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate and propyl 2-hydroxypropionate; 2-alkoxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate and methyl 2-ethoxypropionate; 2-hydroxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate and ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate; 2-alkoxy-2-methylpropionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxy-2-methylpropionate and ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate; Esters such as 2-hydroxyethyl propionate, 2-hydroxy-2-methyl ethyl propionate, hydroxy ethyl acetate and methyl 2-hydroxy-3-methyl butanoate; Or ethyl pyruvate. Examples of the ketone acid esters include N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylformanilide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide , N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, Ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate,? -Butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate, etc. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 용매 중 혼화성(miscibility) 및 반응성 등을 고려한다면, 좋게는 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시에틸 프로피오네이트 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 등의 디에틸렌 글리콜류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가 사용될 수 있다. In view of the miscibility and reactivity of the solvent, glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and the like; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as 2-hydroxyethyl propionate; Diethylene glycol such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate can be used.

상기 용매는 차광층용 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부로 포함될 수 있으며, 구체적으로는 20 중량% 내지 90 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함되는 경우 감광성 수지 조성물의 도포성이 우수하고, 두께 3㎛ 이상의 막에서 우수한 평탄성을 유지할 수 있다.The solvent may be included as the balance relative to the total amount of the photosensitive resin composition for the light-shielding layer, and specifically 20% by weight to 90% by weight. When the solvent is contained within the above range, the photosensitive resin composition is excellent in coating property and excellent flatness can be maintained in a film having a thickness of 3 m or more.

 

(F) 기타 첨가제(F) Other additives

상기 감광성 수지 조성물은 도포 시 얼룩이나 반점을 방지하고, 레벨링 특성을 위해, 또한 미현상에 의한 잔사의 생성을 방지하기 위하여, 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 포함하는 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 라디칼 중합 개시제 등의 기타 첨가제를 더 포함할 수 있다.The above-mentioned photosensitive resin composition may contain at least one selected from the group consisting of malonic acid, malonic acid, and malonic acid, in order to prevent stains and spots upon application, to prevent leveling, 3-amino-1,2-propanediol; A silane-based coupling agent comprising a vinyl group or (meth) acryloxy group; Leveling agents; Fluorine surfactants; And other additives such as a radical polymerization initiator.

상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소 시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane,? -Isocyanatopropyltriethoxysilane,? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, and? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. These may be used singly or in combination of two or more.

상기 불소계 계면활성제의 예로는, BM Chemie社(사)의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社(사)의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183® 등; 스미토모 스리엠(주)社(사)의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)社(사)의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)社(사)의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 시판품을 들 수 있다.Examples of the fluorine-based surfactant, BM Chemie BM-1000 ® of社(four), BM-1100 ®, and the like; Mecha Pack F 142D ® , Copper F 172 ® , Copper F 173 ® , Copper F 183 ® and the like manufactured by Dainippon Ink & Chemicals Incorporated; M. Sumitomo Co. Pro rod FC-135 ® of社(g), the same FC-170C ®, copper FC-430 ®, the same FC-431 ®, and the like; Asahi Grass (Note)社(G) Saffron S-112 ®, the same S-113 ®, the same S-131 ®, the same S-141 ®, the same S-145 ® and the like; Toray silicone (Note) ® SH-28PA of社(g), copper ® -190, may be a commercially available product such as copper -193 ®, SZ-6032 ®, SF-8428 ®.

상기 첨가제는 원하는 물성에 따라 용이하게 조절될 수 있다.The additive can be easily adjusted according to desired properties.

 

다른 일 구현예는 전술한 차광층용 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 차광층을 제공한다.  상기 차광층의 제조 방법은 다음과 같다. Another embodiment provides a light-shielding layer produced using the above-described photosensitive resin composition for a light-shielding layer. The method of manufacturing the light-shielding layer is as follows.

(1) 도포 및 도막 형성 단계(1) Coating and Film Formation Step

전술한 차광층용 감광성 수지 조성물을 소정의 전처리를 한 기판 상에 스핀 또는 슬릿 코트법, 롤 코트법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께, 예를 들어 0.9㎛ 내지 4.0㎛의 두께로 도포한 후, 70℃ 내지 90℃의 온도에서 1분 내지 10분 동안 가열하여 용매를 제거함으로써 도막을 형성한다.  The photosensitive resin composition for a light-shielding layer described above is applied onto a substrate to which a predetermined pretreatment is applied by a spin or slit coating method, a roll coating method, a screen printing method, an applicator method or the like to a desired thickness, And then the solvent is removed by heating at a temperature of 70 to 90 DEG C for 1 to 10 minutes to form a coating film.

(2) 노광 단계(2) Exposure step

상기 얻어진 도막에 필요한 패턴 형성을 위해 소정 형태의 마스크를 개재한 뒤, 200nm 내지 500nm의 활성선을 조사한다.  In order to form a pattern necessary for the obtained coating film, a mask of a predetermined type is interposed therebetween and then an active line of 200 to 500 nm is irradiated.

조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다.  As the light source used for the irradiation, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an argon gas laser, and the like can be used.

노광량은 상기 차광층용 감광성 수지 조성물 각 성분의 종류, 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 예를 들어 고압 수은등을 사용할 경우 500 mJ/cm2 이하(365 nm 센서에 의함)이다.Exposure dose at the light-shielding layer type photosensitive resin composition of each component, depending on the amount and the dry film thickness of, for example, using a high-pressure mercury lamp 500 mJ / cm 2 (By a 365 nm sensor).

(3) 현상 단계(3) Development step

상기 노광 단계에 이어, 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해, 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 화상 패턴을 형성시킨다.  Following the above exposure step, an unnecessary portion is dissolved and removed by using an alkaline aqueous solution as a developing solution, so that only the exposed portion is left to form an image pattern.

(4) 후처리 단계(4) Post-treatment step

상기 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 내열성, 내광성, 밀착성, 내크랙성, 내화학성, 고강도, 저장 안정성 등의 면에서 우수한 패턴을 얻기 위해, 다시 가열하거나 활성선 조사 등을 행하여 경화시킬 수 있다.The image pattern obtained by the above-described development can be cured by heating again or by active ray irradiation or the like in order to obtain a pattern excellent in terms of heat resistance, light resistance, adhesion, crack resistance, chemical resistance, high strength and storage stability.

 

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. However, the following examples are only a preferred embodiment of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

(( 차광층용Shading layer 감광성 수지 조성물 제조) Preparation of Photosensitive Resin Composition)

차광층용 감광성 수지 조성물 제조에 사용되는 성분의 사양은 다음과 같다.The specifications of the components used in the production of the photosensitive resin composition for the light-shielding layer are as follows.

(A) 착색제(A) Colorant

(A-1) (A-1) 청색계Blue system 재료 material

(A-1-1) 하기 화학식 4로 표시되는 염료(경인社의 cyan-1)를 사용하였다. (A-1-1) A dye represented by the following formula (4) (cyan-1 of Kyowa Ink) was used.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure 112016052487478-pat00021
Figure 112016052487478-pat00021

(A-1-2) 바스프社의 V23의 안료를 포함하는 밀 베이스(사카타社)를 사용하였다. (A-1-2) A mill base (Sakata Co.) containing a V23 pigment of BASF Co. was used.

(A-1-3) 하기 화학식 18로 표시되는 바스프社의 B15:6의 안료를 포함하는 밀 베이스(사카타社)를 사용하였다. (A-1-3) A mill base (Sakata Co.) containing a pigment of B15: 6 represented by the following formula (18) was used.

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure 112016052487478-pat00022
Figure 112016052487478-pat00022

(A-2) (A-2) 적색계Red 재료 material

사카타社의 Orange63을 사용하였다. Orange 63 from Sakata Co., Ltd. was used.

(B) 바인더 수지(B) binder resin

카도계 바인더 수지로서, NSCC社의 V259ME을 사용하였다.As a cadmium binder resin, V259ME from NSCC was used.

(C) (C) 광중합성Photopolymerization 단량체 Monomer

디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를 사용하였다. Dipentaerythritol hexaacrylate was used.

(D) (D) 광중합Light curing 개시제Initiator

시바-가이기社의 IGR 369을 사용하였다.IGR 369 from Ciba-Geigy Co. was used.

(E) 용매(E) Solvent

프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트를 사용하였다.Propylene glycol methyl ether acetate was used.

(F) 첨가제(F) Additive

γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란(Chisso社의 S-710)을 사용하였다.γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (S-710 from Chisso) was used.

실시예Example 1 및 2와  1 and 2 and 비교예Comparative Example 1 One

하기 표 1의 조성으로 각 성분을 혼합하여 차광층용 감광성 수지 조성물을 제조하였다. 구체적으로는, 용매에 광중합 개시제를 용해시킨 후 30분간 교반한 후, 여기에 바인더 수지 및 광중합성 단량체를 순차적으로 첨가하여 1시간 동안 교반하였다. 여기에 첨가제를 투입하고 착색제를 최종적으로 투입한 후 2시간 이상 교반하여 차광층용 감광성 수지 조성물을 제조하였다.Each component was mixed with the composition shown in Table 1 below to prepare a photosensitive resin composition for a light-shielding layer. Specifically, after a photopolymerization initiator was dissolved in a solvent, the mixture was stirred for 30 minutes, and then a binder resin and a photopolymerizable monomer were added thereto, followed by stirring for 1 hour. The additive was added thereto, the colorant was finally added, and the mixture was stirred for 2 hours or more to prepare a photosensitive resin composition for a light-shielding layer.

(단위: 중량%)(Unit: wt%) 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 (A) 착색제(A) Colorant (A-1) 청색계 재료(A-1) Blue-based material (A-1-1)(A-1-1) 3.853.85 4.714.71 -- (A-1-2)(A-1-2) 3.853.85 2.992.99 2.992.99 (A-1-3)(A-1-3) -- -- 4.714.71 (A-2) 적색계 재료(A-2) Red-based material 0.860.86 0.860.86 0.860.86 (B) 바인더 수지(B) binder resin 2.562.56 2.562.56 2.562.56 (C) 광중합성 단량체(C) a photopolymerizable monomer 1.101.10 1.101.10 1.101.10 (D) 광중합 개시제(D) a photopolymerization initiator 0.690.69 0.690.69 0.690.69 (E) 용매(E) Solvent 86.8086.80 86.8086.80 86.8086.80 (F) 첨가제(F) Additive 0.290.29 0.290.29 0.290.29

평가 1: 금속 이온의 Evaluation 1: 용출성Elution property 측정 Measure

상기 실시예 1 및 실시예 2와 비교예 1에서 제조된 차광층용 감광성 수지 조성물을 소정의 전처리를 한 기판 위에 2.0㎛의 두께로 도포한 후, 90℃에서 4분 동안 가열하여 용매를 제거함으로써 도막을 형성하였다. 이어서 도막 위에 포토마스크를 대고 40mJ로 전면 노광 후, 도막이 형성된 기판을 컨벡션(convection oven)을 이용하여 220℃에서 25분 동안 베이킹(baking) 과정을 진행하였다. 이후 도막 시편을 100℃의 4mL의 N-메틸피롤리돈에 넣고 10분간 용출시켰다. 이어서 ICP-MS를 이용하여 0.2g의 도막 시편을 30배 희석시킨 N-메틸피롤리돈에 넣고 Cu 이온의 용출량을 측정하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The photosensitive resin composition for a light-shielding layer prepared in Example 1 and Example 2 and Comparative Example 1 was applied on a predetermined pretreated substrate to a thickness of 2.0 탆 and then heated at 90 캜 for 4 minutes to remove the solvent, . Subsequently, the photomask was placed on the coated film and the entire surface was exposed at 40 mJ. Then, the coated film was baked at 220 ° C for 25 minutes using convection oven. Then, the coating film sample was placed in 4 mL of N-methylpyrrolidone at 100 DEG C and eluted for 10 minutes. Next, 0.2 g of the coating film sample was put into 30-fold diluted N-methylpyrrolidone using ICP-MS and the elution amount of Cu ions was measured. The results are shown in Table 2 below.

평가 2: 액정 Evaluation 2: liquid crystal 반응값Reaction value 측정 Measure

상기 실시예 1 및 실시예 2와 비교예 1에서 제조된 차광층용 감광성 수지 조성물을 유리 기판 위에 도포하여 도막을 형성하였다. 형성된 도막의 샘플을 액정에 투입하여 80℃의 온도로 2 시간 동안 에이징(aging) 시켰다. 이러한 액정을 두 개의 전극 사이에 주입하여 전압을 인가하여 하나의 샘플용 소자를 제작하였다. 이러한 샘플용 소자를 autronic VHRM을 이용하여 액정 반응값을 측정함으로써 액정의 오염도를 평가하였다. 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.   The photosensitive resin composition for a light-shielding layer prepared in Example 1 and Example 2 and Comparative Example 1 was coated on a glass substrate to form a coating film. A sample of the formed coating film was put into a liquid crystal and aged at a temperature of 80 캜 for 2 hours. This liquid crystal was injected between two electrodes and a voltage was applied to fabricate one sample device. Liquid crystal contamination was evaluated by measuring the liquid crystal reaction value using the autronic VHRM. The results are shown in Table 2 below.  

평가 3: VHR 값 측정Evaluation 3: Measurement of VHR value

상기 실시예 1 및 실시예 2와 비교예 1에서 제조된 차광층용 감광성 수지 조성물을 ITO로 패턴화된 유리 기판 위에 도포하여 도막을 형성하였다. 형성된 도막과 패턴화된 ITO 전극을 서로 조립하여 압착한 후 그 사이에 액정을 주입하고 밀봉하여 샘플용 소자를 제작하였다. 이러한 샘플용 소자를 autronic VHRM을 이용하여 VHR 값을 측정하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The photosensitive resin composition for a light-shielding layer prepared in Example 1, Example 2 and Comparative Example 1 was coated on a glass substrate patterned with ITO to form a coating film. The formed coating film and the patterned ITO electrode were assembled with each other, pressed, injected with liquid crystal therebetween, and sealed to fabricate a sample device. The VHR values of these sample devices were measured using an autronic VHRM, and the results are shown in Table 2 below.

Cu 이온의 용출량(pg/cm2)Elution amount of Cu ion (pg / cm 2 ) 액정 반응값(%)Liquid crystal reaction value (%) VHR 값(%)VHR Value (%) 실시예 1Example 1 0.00.0 9595 9797 실시예 2Example 2 0.00.0 9595 9797 비교예 1Comparative Example 1 5625.25625.2 7575 8282

상기 표 2를 통하여, 착색제로서 일 구현예에 따른 청색계 재료와 적색계 재료를 혼합하여 사용한 실시예 1 및 실시예 2의 경우, 금속 이온을 포함하는 청색계 재료를 사용한 비교예 1의 경우와 비교하여, 금속 이온이 전혀 용출되지 않아 액정 불량을 방지하고 차광성이 우수함을 알 수 있다.As shown in Table 2 above, in the case of Examples 1 and 2 in which a blue-based material and a red-based material according to one embodiment were mixed as a coloring agent, compared with the case of Comparative Example 1 using a blue- Thus, it can be seen that the metal ions are not eluted at all and the liquid crystal defect is prevented and the light shielding property is excellent.

본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention as defined by the following claims. As will be understood by those skilled in the art. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

Claims (11)

(A) 하기 화학식 1로 표시되는 염료를 포함하는 청색계 재료 및 적색계 재료를 포함하는 착색제;
(B) 바인더 수지;
(C) 광중합성 단량체;
(D) 광중합 개시제; 및
(E) 용매
를 포함하고,
상기 청색계 재료는 금속 이온을 포함하지 않는 차광층용 감광성 수지 조성물.
[화학식 1]
Figure 112016090143727-pat00023

(상기 화학식 1에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 탄소 원자, 황 원자 또는 산소 원자이고,
R1 내지 R6은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이고,
Y1 고리기 및 Y2 고리기는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이고,
A1은 할로겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 할로아세테이트 음이온, 알킬술페이트 음이온, 술폰산염 음이온 또는 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6 -)이고,
n1 내지 n4는 각각 0 또는 1이다.)
(A) a colorant comprising a blue-based material and a red-based material including a dye represented by the following formula (1);
(B) a binder resin;
(C) a photopolymerizable monomer;
(D) a photopolymerization initiator; And
(E) Solvent
Lt; / RTI >
Wherein the blue-based material does not contain a metal ion.
[Chemical Formula 1]
Figure 112016090143727-pat00023

(In the formula 1,
X 1 and X 2 are each independently a carbon atom, a sulfur atom or an oxygen atom,
R 1 to R 6 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C3 A substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 hetero A substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C30 heteroaryl group,
The Y 1 ring group and the Y 2 ring group are each independently a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkynyl group, A substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, RTI ID = 0.0 > C2-C30 < / RTI > heteroaryl group,
A 1 is a halogen anion, a perhalogen acid anion, a haloacetate anion, an alkyl sulfate anion, a sulfonate anion or a hexafluorophosphate anion (PF 6 - ),
and n 1 to n 4 are each 0 or 1.)
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 염료는 하기 화학식 2로 표시되는 염료인 차광층용 감광성 수지 조성물.
[화학식 2]
Figure 112016090143727-pat00024

(상기 화학식 2에서,
R7 내지 R12는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로아릴기이고,
A2는 할로겐 음이온, 과할로겐산 음이온, 할로아세테이트 음이온, 알킬술페이트 음이온, 술폰산염 음이온 또는 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6 -)이다.)
The method according to claim 1,
The dye represented by Formula 1 is a dye represented by Formula 2 below.
(2)
Figure 112016090143727-pat00024

(In the formula (2)
R 7 to R 12 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 alkynyl group, a substituted or unsubstituted C3 A substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C2 to C20 hetero A substituted or unsubstituted C2 to C20 heterocycloalkynyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group or a substituted or unsubstituted C2 to C30 heteroaryl group,
A 2 is a halogen anion, a perhalogenated anion, a haloacetate anion, an alkylsulfate anion, a sulfonate anion or a hexafluorophosphate anion (PF 6 - ).
제1항에 있어서,
상기 청색계 재료는 바이올렛계 안료를 더 포함하는 차광층용 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the blue-based material further comprises a violet pigment.
제1항에 있어서,
상기 적색계 재료는 염료, 안료 또는 이들의 조합을 포함하는 차광층용 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The red-based material includes a dye, a pigment, or a combination thereof.
제1항에 있어서,
상기 적색계 재료는 페릴렌계 안료, 안트라퀴논(anthraquinone)계 안료, 지안토라퀴논계 안료, 아조계 안료, 디아조계 안료, 퀴나크리돈(quinacridone)계 안료, 안트라센(anthracene)계 안료 또는 이들의 조합을 포함하는 차광층용 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the red material is at least one selected from the group consisting of a perylene pigment, an anthraquinone pigment, a giant lake quinone pigment, an azo pigment, a diazo pigment, a quinacridone pigment, an anthracene pigment, Wherein the photosensitive resin composition is a photosensitive resin composition for a light-shielding layer.
제1항에 있어서,
상기 착색제는 상기 청색계 재료 및 상기 적색계 재료를 10:90 내지 90:10의 중량비로 포함하는 차광층용 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the colorant comprises the blue-based material and the red-based material in a weight ratio of 10:90 to 90:10.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 차광층용 감광성 수지 조성물은
상기 (A) 착색제 1 중량% 내지 80 중량%;
상기 (B) 바인더 수지 0.1 중량% 내지 30 중량%;
상기 (C) 광중합성 단량체 0.1 중량% 내지 30 중량%;
상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 및
상기 (E) 용매 잔부량
을 포함하는 차광층용 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The light-sensitive resin composition for a light-
1% to 80% by weight of (A) the colorant;
0.1 to 30% by weight of the binder resin (B);
0.1 to 30% by weight of the (C) photopolymerizable monomer;
0.1 to 5% by weight of the photopolymerization initiator (D); And
The amount of the solvent (E)
A photosensitive resin composition for a light-shielding layer.
제1항 내지 제6항 및 제10항 중 어느 한 항의 차광층용 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 차광층.A light-shielding layer produced by using the photosensitive resin composition for a light-shielding layer according to any one of claims 1 to 6 and 10.
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