KR101716497B1 - Pellicle frame and pellicle - Google Patents

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가즈토시 세키하라
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신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

과제
펠리클막의 장력 편차에 의한 문제가 발생하지 않고, 또한 펠리클막의 장력에 의한 휨이 작은 펠리클 프레임, 및 이 펠리클 프레임을 사용한 펠리클을 제공하는 것.
해결 수단
프레임체의 대향하는 적어도 1 쌍의 변에 있어서, 양 단부로부터 변 중점 방향으로 연장되는 비관통의 오목부가 변 외측면에 부분적으로 형성되어 있는 것을 특징으로 펠리클 프레임, 및 상기 펠리클 프레임에 펠리클막을 팽팽하게 설치한 펠리클이며, 바람직하게는 1 쌍의 장변에만 상기 오목부가 형성되고, 또는 전체 변에 상기 오목부가 형성되어 있다. assignment
A pellicle frame which does not cause a problem due to a tension deviation of a pellicle film and which has a small warp caused by the tension of the pellicle film, and a pellicle using the pellicle frame.
Solution
Characterized in that at least one pair of opposite sides of the frame body is formed with a non-penetrating concave portion extending from both ends in the direction of the middle point, the side surface being partially formed on the side surface of the side surface. The recess is preferably formed on only one pair of long sides, or the recess is formed on the entire sides of the pellicle.

Description

펠리클 프레임 및 펠리클{PELLICLE FRAME AND PELLICLE}[0001] PELICLE FRAME AND PELLICLE [0002]

본 발명은, LSI, 초 LSI 등의 반도체 장치, 프린트 기판 또는 액정 표시판 등을 제조할 때의 먼지막이로서 사용되는, 리소그래피용 펠리클에 사용되는 펠리클 프레임, 및 이것을 사용한 펠리클에 관한 것이다.The present invention relates to a pellicle frame used in a lithographic pellicle used as a dust film when a semiconductor device such as LSI, super LSI or the like, a printed substrate, or a liquid crystal display panel is manufactured, and a pellicle using the same.

LSI, 초 LSI 등의 반도체 제조 또는 액정 표시판 등의 제조에 있어서는, 반도체 웨이퍼 또는 액정용 원판에 광을 조사하여 패턴을 제조하는데, 이 경우에 사용하는 노광 원판에 먼지가 부착되어 있으면, 이 먼지가 광을 흡수하거나 광을 휘게 하기 때문에, 전사된 패턴이 변형되거나, 에지가 거칠어진 것이 되는 것 외에, 하지 (下地) 가 검게 오염되거나 하여, 치수, 품질, 외관 등이 손상된다는 문제가 있었다. 또한, 본 발명에 있어서, 「노광 원판」이란, 포토마스크 등의 리소그래피용 마스크 (간단히 「마스크」라고도 한다) 및 레티클의 총칭이다.In the manufacture of semiconductors such as LSI and super LSI, or the manufacture of liquid crystal display panels and the like, patterns are produced by irradiating light onto a semiconductor wafer or a liquid crystal original plate. If dust adheres to the exposure plate used in this case, There is a problem that the transferred pattern is deformed or the edge is roughened and besides, the undercoat is contaminated with black, so that the dimension, quality, appearance and the like are damaged. In the present invention, the "exposure master" is a general term for a lithography mask (also simply referred to as "mask") such as a photomask and a reticle.

이 때문에, 이들 작업은 통상적으로 클린룸에서 실시되고 있는데, 그런데도 노광 원판을 항상 청정하게 유지하기가 어렵다. 그래서, 노광 원판의 표면에 먼지를 막기 위한 노광용 광을 양호하게 통과시키는 펠리클을 첩부하는 방법이 채용되고 있다. 이 경우, 이물질은 노광 원판의 표면에는 직접 부착되지 않고 펠리클 상에 부착되기 때문에, 리소그래피시에 초점을 노광 원판의 패턴 상에 맞춰 두면, 펠리클 상의 이물질은 전사에 관계 없게 된다.For this reason, these operations are usually carried out in a clean room, but it is still difficult to keep the exposure plate always clean. Thus, a method is employed in which a pellicle is passed over the surface of the exposure plate to pass the exposure light for blocking dust. In this case, since the foreign substance is not directly attached to the surface of the exposure plate but is attached on the pellicle, when the focal point is set on the pattern of the exposure original plate at the time of lithography, the foreign substance on the pellicle becomes irrelevant to the transfer.

일반적으로, 펠리클은 광을 양호하게 투과시키는 니트로셀룰로오스, 아세트산셀룰로오스 또는 불소 수지 등으로 이루어지는 투명한 펠리클막을, 알루미늄, 스테인리스 또는 폴리에틸렌 등으로 이루어지는 펠리클 프레임의 상단 (上端) 면에 첩부 내지 접착시킨다. 또한, 펠리클 프레임의 하단 (下端) 에는, 노광 원판에 장착하기 위한 폴리브덴 수지, 폴리아세트산비닐 수지, 아크릴 수지 또는 실리콘 수지 등으로 이루어지는 점착층, 및 점착층의 보호를 목적으로 한 이형층 (세퍼레이터) 이 형성된다.Generally, the pellicle is pasted or bonded to the upper end surface of a pellicle frame made of aluminum, stainless steel, polyethylene or the like, such as nitrocellulose, cellulose acetate or a fluororesin, which transparently transmits light. In addition, on the lower end of the pellicle frame, a pressure-sensitive adhesive layer made of polyvinyl resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, silicone resin or the like for mounting on the exposure plate, and a release layer Is formed.

펠리클은, 노광 원판의 표면에 형성된 패턴 영역을 둘러싸도록 설치된다. 펠리클은, 노광 원판 상에 먼지가 부착되는 것을 방지하기 위해 설치되는 것이므로, 이 패턴 영역과 펠리클 외부는 펠리클 외부의 진애가 패턴면에 부착되지 않도록 격리되어 있다.The pellicle is provided so as to surround the pattern area formed on the surface of the exposure plate. Since the pellicle is provided to prevent dust from adhering to the exposure plate, the pattern area and the outside of the pellicle are isolated from the outside of the pellicle so as not to adhere to the pattern surface.

상기와 같이, 일반적으로 펠리클막은 얇은 수지이므로, 이것을 이완 없이 펠리클 프레임으로 지지하기 위해서는, 적절한 크기의 장력이 걸린 상태에서 펠리클 프레임에 접착되어 있어야만 한다.As described above, since the pellicle film is generally a thin resin, it must be adhered to the pellicle frame in a state in which an appropriate-sized tension is applied in order to support the pellicle frame with the pellicle frame without relaxing.

따라서, 일반적으로 사용되고 있는 각형 (角型) 의 펠리클에서는, 펠리클막을 첩부한 후의 펠리클 프레임은, 펠리클막의 장력에 의해 약간 내측으로의 휨이 발생한다. 이 현상은, 예를 들어 프린트 기판이나 액정 표시판의 제조에 사용되는 대형 펠리클 등, 펠리클 프레임의 변 길이가 큰 것이나, 펠리클 첩부 후의 노광 원판의 변형을 저감시키기 위해 강성 (剛性) 이 낮은 프레임을 채용한 펠리클에서는 현저하게 나타난다.Therefore, in a generally used square pellicle, the pellicle frame after the pellicle film is attached has a slight inward warp due to the tension of the pellicle film. This phenomenon employs a frame having a small side length of the pellicle frame such as a large pellicle used for producing a printed substrate or a liquid crystal display panel or a frame having a low rigidity to reduce the deformation of the exposed original plate after the pellicle attaching It is remarkable in a pellicle.

한편, 포토마스크 등의 노광 원판에 대해서는, 저비용화를 위해 가능한 한 노광 영역을 확보하고자 하는 요구가 있다. 이 때문에, 펠리클 프레임의 내측으로의 휨을 가능한 한 작게 하지 않으면, 이용할 수 있는 노광 영역이 감소한다는 문제가 있다.On the other hand, there is a demand for securing an exposure area as low as possible for an exposure plate such as a photomask. For this reason, unless the warp toward the inside of the pellicle frame is made as small as possible, there is a problem that the usable exposure area is reduced.

물론 펠리클 프레임의 단면적을 크게 하는 등의 강성을 높이는 방법에 의해서도, 이러한 문제를 해결할 수 있다. 그러나, 실제로는 펠리클 프레임의 내측은 상기와 같이 노광 영역의 문제가 있고, 외측에 대해서도 포토마스크의 고정이나 반송에 있어서의 핸들링용 클리어런스를 확보할 필요가 있다. 그 때문에, 일반적으로, 펠리클 프레임의 각 변은, 이들 제한으로부터 결정된 직선 형상으로 형성되어 있다.Of course, this problem can also be solved by a method of increasing the rigidity such as increasing the cross-sectional area of the pellicle frame. However, in practice, the inside of the pellicle frame has the problem of the exposure area as described above, and it is also necessary to secure clearance for handling in fixing and transporting the photomask to the outside. Therefore, generally, each side of the pellicle frame is formed in a linear shape determined from these restrictions.

또, 펠리클 프레임의 재질을 보다 강성이 높은 것으로 하는 방법도 있으며, 예를 들어 탄소 섬유 복합재 (CFRP) 나 티탄을 사용한 경우에는, 일반적으로 사용되는 알루미늄 합금보다 휨량을 적게 할 수 있다. 그러나, 이들 재료는 모재가 고가인 것에 추가하여 가공성이 나쁘기 때문에, 대폭적인 비용 상승으로 이어져, 현실적으로는 채용이 어렵다.There is also a method of making the material of the pellicle frame more rigid. For example, when carbon fiber composite material (CFRP) or titanium is used, the amount of deflection can be made smaller than that of a commonly used aluminum alloy. However, in addition to the expensive base metal, these materials have poor workability, leading to a significant increase in cost, which is difficult to employ in practice.

이 문제에 대하여, 예를 들어, 특허문헌 1 에는, 프레임체의 적어도 1 쌍의 변에 있어서 중앙부가 외측으로 볼록한 원호 형상부, 그 양측에 외측으로 오목한 원호 형상부, 추가로 그 외측에 직선 형상부를 갖는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임이 개시되어 있다.Regarding this problem, for example, Patent Document 1 discloses a structure in which at the center of at least one pair of sides of a frame, an arc-shaped portion convex outwardly, an arc-shaped portion recessed outward on both sides thereof, A pellicle frame having a pellicle frame.

또, 특허문헌 2 에는, 펠리클막 (2) 의 두께 방향으로 봤을 때 면적이 1,000 ㎠ 이상인 펠리클막 (2) 과, 그 위에 펠리클막 (2) 이 인장 응력을 수반하여 부착된 프레임 (1) 을 갖는 펠리클로서, 상기 프레임 (1) 은, 상기 펠리클막 (2) 의 두께 방향으로 봤을 때, 하나의 방향에 있어서 서로 마주 보는 상대적으로 짧은 2 개의 외주 가장자리변의 쌍과, 상기 펠리클막 (2) 의 두께 방향으로 봤을 때, 상기 하나의 방향에 직각인 또 하나의 방향에 있어서, 서로 마주 보는 상대적으로 긴 2 개의 외주 가장자리변의 쌍을 갖고, 상기 펠리클막 (2) 을 상기 프레임 (1) 상에 부착하기 전에는, 상기 상대적으로 긴 2 개의 외주 가장자리변 중 적어도 일방의 외주 가장자리변이, 미리 외측으로 볼록해지도록 만곡되어 있고, 상기 상대적으로 긴 외주 가장자리변의 양 단부 (端部) 인 제 1 지점 및 제 2 지점을 직선으로 연결한 가상 직선과, 상기 제 1 지점과 상기 제 2 지점 사이에 위치하고 상기 상대적으로 긴 외주 가장자리변 상에 위치하는 제 3 지점의 관계가, 상기 펠리클막 (2) 을 상기 프레임 (1) 상에 인장 응력을 수반하여 부착함으로써, 상기 제 3 지점이 상기 가상 직선을 가로지르고 상기 상대적으로 긴 외주 가장자리변이 그 가상 직선보다 내측에서 오목해지도록 변형되어 이루어지는 것을 특징으로 펠리클이 개시되어 있다.Patent Document 2 discloses a pellicle film 2 having an area of 1,000 cm 2 or more when viewed in the thickness direction of the pellicle film 2 and a frame 1 on which the pellicle film 2 is adhered with tensile stress Wherein the frame (1) has a pair of relatively short outer peripheral edges facing each other in one direction when viewed in the thickness direction of the pellicle film (2), and a pair of outer peripheral edge sides of the pellicle film (2) on the frame (1) in a direction perpendicular to the one direction when viewed in the direction of the thickness of the pellicle membrane (2) and having two pairs of relatively long outer peripheral edges facing each other The outer circumferential edge of at least one of the two relatively long outer circumferential edges is curved so as to protrude outward in advance and the outer circumferential edge of at least one of the two relatively long outer circumferential edge sides A virtual straight line obtained by connecting the first point and the second point in a straight line and a third point located between the first point and the second point and located on the relatively long outer peripheral edge, ) Is attached to the frame (1) with a tensile stress so that the third point crosses the imaginary straight line and the relatively long outer edge portion is deformed so as to be recessed inward from the imaginary straight line thereof A pellicle is disclosed.

일본특허공보 제4286194호Japanese Patent Publication No. 4286194 일본특허공보 제4024239호Japanese Patent Publication No. 4024239

상기 특허문헌 1 에 개시된 방법은, 확실하게 펠리클막을 팽팽하게 설치한 (張設) 한 후의 펠리클 프레임 형상을 적절한 형상으로 제어할 수 있는 우수한 방법이지만, 이하에 서술하는 바와 같은 문제도 있다.The method disclosed in Patent Document 1 is an excellent method that can reliably control the shape of the pellicle frame after the pellicle film is stretched (stretched) to an appropriate shape. However, there is also the following problem.

즉, 펠리클 프레임의 요철 형상은, 팽팽하게 설치하는 펠리클막의 장력 분포 형상에 맞춰 설계할 필요가 있다. 그러나, 양산으로 생산되는 펠리클막의 장력은 항상 일정하지 않아, 약간의 편차가 발생한다. 그 때문에, 막 장력이 설계값보다 큰 경우에는 펠리클 프레임은 내측으로의 휨량이 커지고, 반대로 작은 경우에는 설계한 외측으로의 돌출량이 남아 버리게 된다. 통상적으로 펠리클막에 의한 휨이나 펠리클의 첩부 오차 등을 고려하여, 펠리클의 내 (內) 치수 공차는 마스크 등의 노광 원판의 패턴부에 대하여 약간의 여유를 갖고 설정하는데, 외측으로의 휨은 기계적인 변형을 없앨 수 없기 때문에, 대체로 고려되고 있지 않다. 그 때문에, 펠리클 프레임이 외측으로 변형된 경우, 펠리클 첩부 장치나 노광기 내의 핸들링시에 간섭하는 등의 문제가 발생할 우려가 있다.That is, the concavo-convex shape of the pellicle frame needs to be designed in accordance with the tension distribution shape of the pellicle film to be tightly installed. However, the tension of the pellicle film produced by mass production is not always constant, and a slight deviation occurs. Therefore, when the film tension is larger than the designed value, the amount of deflection toward the inside of the pellicle frame becomes large. On the contrary, if the film tension is small, the projected amount toward the outside designed is left. In general, the internal dimensional tolerance of the pellicle is set with slight margin with respect to the pattern portion of the exposure plate such as a mask in consideration of the warp caused by the pellicle film and the pellicle attachment error, It is not generally considered as it can not eliminate the deformation. Therefore, when the pellicle frame is deformed outward, there is a possibility that problems may occur such as interference with the pellicle attaching device or the exposure device during handling.

또, 상기 특허문헌 2 에 개시된 수법에서는, 막 장력이 약한 방향으로 편차가 발생하였다 하더라도, 외측으로의 돌출이 남을 우려는 적다. 그러나, 대게 변의 양 단부를 원호로 접속시킨 형상이기 때문에, 돌출량을 아무리 작게 해도 양 단부에는 원호 형상이 남기 때문에, 완전한 의미에서 돌출이 없는 형상은 되지 않는다.In the technique disclosed in Patent Document 2, even if a deviation occurs in a direction in which the film tension is weak, there is little possibility that the protrusion toward the outside will remain. However, since both ends of the sides are generally connected by an arc, even if the amount of protrusion is made small, an arc shape is left at both ends, so that the shape does not protrude in a perfect sense.

이상과 같은 점에서, 펠리클막을 팽팽하게 설치하기 전의 형상으로서 외측으로의 돌출 형상이 없음에도 불구하고, 펠리클막을 팽팽하게 설치한 후에는 휨이 적은 펠리클 프레임이 요구되었다.In view of the above, a pellicle frame with less warpage is required after the pellicle film is tightly set, although the shape before the pellicle film is not tightly projected to the outside.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 펠리클막의 장력 편차에 의한 문제가 발생하지 않고, 또한 펠리클막의 장력에 의한 휨이 작은 펠리클 프레임, 및 이 펠리클 프레임을 사용한 펠리클을 제공하는 것이다.A problem to be solved by the present invention is to provide a pellicle frame which does not cause a problem due to the tension deviation of the pellicle film and which has a small warp caused by the tensile force of the pellicle film, and a pellicle using the pellicle frame.

본 발명의 상기 과제는, 이하의 수단 (1) 및 (4) 에 의해 해결되었다. 바람직한 실시형태 (2) 및 (3) 과 함께 열기 (列記) 한다.The above object of the present invention is solved by the following means (1) and (4). (Opened) together with the preferred embodiments (2) and (3).

(1) 프레임체의 대향하는 적어도 1 쌍의 변에 있어서, 양 단부로부터 변 중점 (中點) 방향으로 연장되는 비관통의 오목부가 변 외측면에 부분적으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임,(1) The pellicle frame according to (1), wherein at least one pair of opposite sides of the frame body is partially formed with non-through recessed portions extending in the middle point direction from both ends thereof,

(2) 1 쌍의 장변에만 상기 오목부를 형성한 (1) 에 기재된 펠리클 프레임,(2) The pellicle frame according to (1), wherein the concave portion is formed on only one pair of long sides,

(3) 전체 변에 상기 오목부를 형성한 (1) 에 기재된 펠리클 프레임,(3) The pellicle frame according to (1), wherein the concave portion is formed on all sides,

(4) (1) ∼ (3) 중 어느 하나에 기재된 펠리클 프레임에 펠리클막을 팽팽하게 설치한 펠리클.(4) A pellicle in which a pellicle film is stretched on the pellicle frame according to any one of (1) to (3).

본 발명에 의하면, 펠리클 프레임 각 변의 중앙부 형상이 직선 형상이면서도, 프레임체의 대향하는 적어도 1 쌍의 변에 있어서 변 외측면에 부분적으로 복수 형성된, 양 단부로부터 변 중점 방향으로 연장되는 비관통의 오목부의 작용에 의해, 펠리클막의 장력에 의한 펠리클 프레임의 휨 형상이 제어된다. 이로써, 본 발명에 의하면, 이러한 오목부가 없는 통상적인 단면 형상의 펠리클 프레임에 비해, 펠리클 프레임의 변 중앙부에 발생하는 최대 휨량을 저감시킬 수 있다. 그 결과, 본 발명에 의하면, 펠리클막을 팽팽하게 설치하기 전의 형상으로서 외측으로의 돌출 형상이 없음에도 불구하고, 또한 펠리클막의 장력에 의한 휨이 작은 펠리클을 얻을 수 있다.According to the present invention, there is provided a pellicle frame in which the central portion of each side of the pellicle frame has a straight line shape, and at least one pair of opposite sides of the frame body are partially formed on the lateral side surface, By the negative action, the warp shape of the pellicle frame is controlled by the tension of the pellicle film. As a result, according to the present invention, it is possible to reduce the maximum amount of deflection occurring at the center portion of the pellicle frame, as compared with a pellicle frame having a conventional cross-sectional shape without such recesses. As a result, according to the present invention, it is possible to obtain a pellicle in which the warp caused by the tensile force of the pellicle film is small, even though the shape of the pellicle film before the pellicle film is not tightly formed has no projecting shape toward the outside.

도 1 은 본 발명의 일 실시형태에 의한 펠리클의 기본적인 구성을 나타내는 개략 단면도이다.
도 2 는 본 발명의 일 실시형태에 의한 펠리클 프레임을 모식적으로 나타내는 개략도이다.
도 3 은 본 발명의 펠리클 프레임에 펠리클막을 팽팽하게 설치한 후의 휨 형상을 모식적으로 나타내는 평면도이다.
도 4 는 일반적인 직사각형 단면의 종래의 펠리클 프레임에 펠리클막을 팽팽하게 설치한 후의 휨 형상을 모식적으로 나타내는 평면도이다.
도 5 는 펠리클 프레임에 팽팽하게 설치하기 전의 펠리클막을 모식적으로 나타내는 평면도이다.
도 6 은 본 발명의 다른 실시형태에 의한 펠리클 프레임을 모식적으로 나타내는 개략도이다.
도 7 은 펠리클 프레임에 펠리클막을 팽팽하게 설치하여 얻은 펠리클에 있어서의 최대 휨량의 평가 방법을 모식적으로 나타내는 개략도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing a basic configuration of a pellicle according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic view schematically showing a pellicle frame according to an embodiment of the present invention.
Fig. 3 is a plan view schematically showing a warp shape after a pellicle film is stretched on a pellicle frame of the present invention. Fig.
Fig. 4 is a plan view schematically showing a warp shape after a pellicle film is tightly installed on a conventional pellicle frame having a general rectangular cross section. Fig.
Fig. 5 is a plan view schematically showing a pellicle film before being stretched in a pellicle frame. Fig.
6 is a schematic view schematically showing a pellicle frame according to another embodiment of the present invention.
Fig. 7 is a schematic view schematically showing a method of evaluating the maximum amount of bending in a pellicle obtained by providing a pellicle frame in a pellicle frame in a tight state.

발명을 실시하기 위한 형태DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

이하, 본 발명을 실시하기 위한 최선의 형태에 대해 설명하는데, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 또, 본 발명은 액정 표시판 제조의 용도로 사용되는, 한 변의 길이가 500 ㎜ 를 초과하는 대형 펠리클에 있어서 특히 효과가 크지만, 반도체 제조의 용도로 사용되는, 한 변이 150 ㎜ 정도인 소형 펠리클에 대해 적용해도 유효성은 높으며, 특별히 그 용도가 한정되는 것은 아니다.Best mode for carrying out the present invention will be described below, but the present invention is not limited to this. The present invention is particularly effective for a large-sized pellicle having a side length of more than 500 mm, which is used for manufacturing a liquid crystal display panel. However, the present invention is applicable to a small pellicle having a side of about 150 mm , The effectiveness is high, and the application thereof is not particularly limited.

먼저, 본 발명에 의한 펠리클 프레임을 사용하여 구성되는 펠리클의 기본적인 구성을 도 1 을 사용하여 설명한다.First, the basic structure of a pellicle constructed using the pellicle frame according to the present invention will be described with reference to Fig.

도 1 은 본 발명에 의한 펠리클 프레임을 사용하여 구성되는 펠리클의 기본적인 구성을 나타내는 개략 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing a basic configuration of a pellicle constructed using a pellicle frame according to the present invention.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 펠리클 (10) 은, 본 발명에 의한 펠리클 프레임 (11) 의 상단면에 펠리클막 첩부용 접착층 (2) 을 통하여 펠리클막 (1) 을 팽팽하게 설치한 것으로서, 이 경우, 펠리클 (10) 을 노광 원판 (마스크 기판 또는 레티클) (5) 에 점착시키기 위한 점착층 (4) 이 펠리클 프레임 (11) 의 하단면에 형성되고, 그 점착층 (4) 의 하단면에 라이너 (도시 생략) 를 박리 가능하게 첩착 (貼着) 하여 이루어지는 것이다. 또, 펠리클 프레임 (11) 에 기압 조정용 구멍 (통기구) (6) 이 설치되어 있고, 추가로 파티클 제거의 목적에서 제진용 필터 (7) 가 설치되어 있어도 된다.As shown in Fig. 1, the pellicle 10 is obtained by providing a pellicle membrane 1 with an adhesive layer 2 on the upper face of the pellicle frame 11 according to the present invention through an adhesive layer 2, An adhesive layer 4 for adhering the pellicle 10 to the exposure original plate (mask substrate or reticle) 5 is formed on the lower end face of the pellicle frame 11, (Not shown) is peelably adhered (adhered). In addition, the pellicle frame 11 is provided with a ventilation hole (ventilation hole) 6, and the dust removing filter 7 may be provided for the purpose of removing particles.

이하, 본 발명의 기본적인 일 실시형태에 의한 펠리클 프레임 (11) 에 대해 도 2 ∼ 도 5 를 사용하여 설명한다.Hereinafter, a pellicle frame 11 according to a basic embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 2 to 5. Fig.

도 2 는 본 실시형태에 의한 펠리클 프레임을 모식적으로 나타내는 개략도이다. 도 2(a) 는 본 실시형태에 의한 펠리클 프레임을 모식적으로 나타내는 평면도, 도 2(b) 는 도 2(a) 에 나타내는 펠리클 프레임을 장변측에서 본 개략 측면도, 도 2(c) 는 도 2(a) 에 나타내는 펠리클 프레임을 단변측에서 본 개략 측면도, 도 2(d) 는 도 2(b) 중의 A-A 선 단면 확대도이다.2 is a schematic view schematically showing a pellicle frame according to the present embodiment. Fig. 2 (a) is a plan view schematically showing the pellicle frame according to the present embodiment, Fig. 2 (b) is a schematic side view of the pellicle frame shown in Fig. 2 (a), and FIG. 2 (d) is an enlarged cross-sectional view of the pellicle frame taken along the line AA in FIG. 2 (b).

도 2 에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임 (11) 은, 그 전체 형상이 대략 직사각형 형상의 프레임체로 되어 있다. 펠리클막을 팽팽하게 설치하기 전의 펠리클 프레임 (11) 은, 그 형상으로서 외측으로의 돌출 형상이 없고, 그 장변 및 단변에 있어서의 프레임 부분은 모두 대략 직선 형상으로 되어 있다. 또한, 펠리클 프레임 (11) 의 각 모서리부는, 외측 및 내측 모두 R 형상으로 되어 있다. 이 펠리클 프레임 (11) 의 크기는 통상적인 펠리클, 예를 들어 반도체 리소그래피용 펠리클, 대형 액정 표시판 제조 리소그래피 공정용 펠리클 등과 동일하다.As shown in Fig. 2, the pellicle frame 11 is a frame body whose overall shape is substantially rectangular. The shape of the pellicle frame 11 before the pellicle film is installed in an unstretched state has no projecting shape toward the outside, and the frame portions at the long side and the short side are all substantially straight. Each of the corner portions of the pellicle frame 11 has an R shape both outside and inside. The size of the pellicle frame 11 is the same as that of a conventional pellicle, for example, a pellicle for semiconductor lithography, a pellicle for a lithographic process for manufacturing a large liquid crystal display panel, and the like.

또한, 펠리클 프레임 (11) 의 각 모서리부는 반드시 외측 및 내측 모두 R 형상으로 되어 있을 필요는 없고, 어느 일방 또는 양방이 R 형상이 아니어도 되지만, 모두 R 형상으로 되어 있는 것이 바람직하다.It should be noted that the corner portions of the pellicle frame 11 are not necessarily R-shaped at both the outer side and the inner side, and either one or both of them need not be R-shaped, but they are all preferably R-shaped.

또, 펠리클 프레임 (11) 의 단면 형상은 예를 들어 대략 직사각형 형상인데, 본 발명은, 일반적인 직사각형 단면의 프레임뿐만 아니라, 단차가 있는 형상이나 경사면을 갖는 사다리꼴 형상의 단면 등, 다른 단면 형상의 펠리클 프레임이어도 동일하게 적용할 수 있으며, 그 효과도 직사각형 형상 단면의 경우와 동등하다. 또, 직사각형 형상의 기본 형상의 4 개의 모서리에 C 모따기 등의 모따기가 실시되어 있어도 된다.In addition, the cross-sectional shape of the pellicle frame 11 is, for example, a substantially rectangular shape. The present invention can be applied not only to a frame having a general rectangular cross section, but also to a pellicle frame 11 having a cross- The same can be applied to a frame, and the effect is equivalent to that of a rectangular cross section. In addition, chamfering such as C chamfering may be performed on the four corners of the basic shape of the rectangular shape.

또, 펠리클 프레임 (11) 의 모재로는, 종래 사용되고 있는 모든 공지된 재료를 사용할 수 있는데, 나일론, 폴리아세탈, 폴리에테르에테르케톤, 폴리이미드 등의 엔지니어링 플라스틱 외에, 구조용 철강, 공구강, 스테인리스강, 마그네슘 합금 등의 구조용 금속을 사용할 수 있으며, 그 중에서도 알루미늄 합금을 사용하는 것이 보다 바람직하다.As the base material of the pellicle frame 11, any conventionally known materials can be used. In addition to engineering plastics such as nylon, polyacetal, polyetheretherketone, and polyimide, structural steel, tool steel, stainless steel, A magnesium alloy, and the like. Among them, an aluminum alloy is more preferable.

펠리클 프레임 (11) 의 대향하는 양 장변에 있어서는, 양 단부로부터 변 중점 방향으로 연장되는 비관통의 오목부 (12) 가 변 외측면에 부분적으로 형성되어 있다. 오목부 (12) 의 단면 형상은, 직사각형 형상, 사다리꼴 형상, 삼각형 형상 또는 그것들의 조합 등이어도 되는데, 가공성, 세정성의 면에서는 본 실시형태와 같이 바닥부가 반원 형상으로 되어 있는 것이 바람직하다. 또, 오목부 (12) 의 외주 방향의 종단부 (終端部) 는 사용되는 가공 날붙이에 의해 형성되는 형상이어도 되지만, 세정성의 면에서는 원호 형상으로 되어 있는 것이 바람직하다. 또, 오목부 (12) 는 본 실시형태와 같이 펠리클 프레임 (11) 모서리의 R 형상 부분을 포함해도 되고, 포함하지 않도록 모서리의 R 형상 부분을 피해 형성되어 있어도 된다.In the opposite longitudinal sides of the pellicle frame 11, a non-through recessed portion 12 extending in the middle point direction from both ends is formed partially on the outer side surface. The cross-sectional shape of the concave portion 12 may be a rectangular shape, a trapezoid shape, a triangular shape, or a combination thereof. In terms of processability and cleanability, the bottom portion is preferably semicircular as in the present embodiment. The end portion in the outer circumferential direction of the concave portion 12 may be formed by a used cutter used, but it is preferable that the concave portion 12 is formed in an arc shape on the cleaning property side. The concave portion 12 may include the R-shaped portion of the edge of the pellicle frame 11 as in the present embodiment, or may be formed so as not to include the R-shaped portion of the corner so as not to include it.

또한, 오목부 (12) 는 변 내측면보다 변 외측면에 형성되어 있는 것이 바람직하다.It is also preferable that the concave portion 12 is formed on the outer side surface of the inner side surface.

오목부 (12) 는, 펠리클 프레임 (11) 의 장변 양단 (兩端) 으로부터의 거리로서, 장변의 변길이 (L) 의 약 1/4 에서부터 외측 단부에 가까운 쪽으로 형성되어 있는 것이 바람직하고, 장변의 변길이 (L) 의 약 1/5 에서부터 외측 단부에 가까운 쪽으로 형성되어 있는 것이 보다 바람직하고, 장변의 변길이 (L) 의 약 1/10 에서부터 외측 단부에 가까운 쪽으로 형성되어 있는 것이 더욱 바람직하다. 이와 같은 범위에 오목부 (12) 가 형성되어 있음으로써, 원하는 효과를 발휘할 수 있다.It is preferable that the concave portion 12 is formed as being a distance from both ends of the long side of the pellicle frame 11 to a side closer to the outer side end from about 1/4 of the side length L of the long side, More preferably from about 1/5 of the side length L of the side length L to a side near the outer end and more preferably from about 1/10 of the side length L of the long side to the end near the outer end . Since the concave portion 12 is formed in such a range, a desired effect can be exhibited.

또, 오목부 (12) 의 길이 (l) 는, 펠리클 프레임 (11) 의 장변의 변길이 (L) 에 대하여, l/L 의 값이 0.03 ∼ 0.25 의 범위가 되도록 설정하는 것이 바람직하고, 0.05 ∼ 0.1 의 범위가 되도록 설정하는 것이 보다 바람직하다.The length 1 of the concave portion 12 is preferably set so that the value of 1 / L is in the range of 0.03 to 0.25 with respect to the side length L of the long side of the pellicle frame 11, and 0.05 And more preferably in the range of 0.1 to 0.1.

또, 오목부 (12) 의 폭 (h) 은, 펠리클 프레임 (11) 의 두께 (H) 의 20 ∼ 50 ％ 로 설정하는 것이 바람직하다. 또, 오목부 (12) 의 깊이 (d) 는, 펠리클 프레임 (11) 의 휨 형상에 따라 적절히 조정할 수 있는데, 펠리클 프레임 (11) 의 폭 (D) 의 20 ∼ 50 ％ 이하이고, 또한 5 ㎜ 이하로 설정하는 것이 바람직하다. 오목부 (12) 의 폭 (h) 및 깊이 (d) 를 이들 범위로 설정함으로써, 펠리클 프레임 (11) 높이 방향의 강성이 과도하게 저하되는 것을 방지하여, 핸들링이나 펠리클 첩부시에 펠리클 프레임 (11) 이 변형되는 것을 회피할 수 있다.It is preferable that the width h of the concave portion 12 is set to 20 to 50% of the thickness H of the pellicle frame 11. [ The depth d of the concave portion 12 can be appropriately adjusted in accordance with the bending shape of the pellicle frame 11 and is preferably 20 to 50% or less of the width D of the pellicle frame 11, Or less. By setting the width h and the depth d of the concave portion 12 within these ranges, the rigidity in the height direction of the pellicle frame 11 is prevented from being excessively lowered, and the pellicle frame 11 Can be avoided from being deformed.

또, 오목부 (12) 가 형성된 양 단부 이외의 장소에 오목부를 추가적으로 형성해도 되고, 형성하는 수, 위치, 단면 형상, 길이 등의 제원 (諸元) 은, 최종적으로 펠리클막의 팽팽하게 설치 후의 휨 형상을 확인하여 적절히 조정하는 것이 바람직하다 (후술하는 도 6(a) 참조).In addition, concave portions may be additionally formed at positions other than both ends where the concave portions 12 are formed. Specimens such as the number, position, cross-sectional shape, length, and the like to be formed may be finally deformed after warpage of the pellicle film It is preferable to check the shape and appropriately adjust it (see Fig. 6 (a) to be described later).

이리하여 펠리클 프레임 (11) 의 대향하는 1 쌍의 장변에 있어서, 양 단부로부터 변 중점 방향으로 연장되는 비관통의 오목부 (12) 가 변 외측면에 부분적으로 형성되어 있다. 이러한 오목부 (12) 에 의해, 펠리클막을 팽팽하게 설치한 후의 펠리클 프레임 (11) 의 휨 형상을 제어할 수 있다. 또한, 오목부 (12) 는, 펠리클막을 팽팽하게 설치한 후의 펠리클 프레임 (11) 의 휨 형상을 제어하는 목적에서 형성하는 것이지만, 펠리클을 핸들링하기 위한 지그 등을 끼워 넣는 걸림부로서 사용할 수도 있다. 이 때문에, 오목부 (12) 의 단면 형상이나 위치는, 펠리클 프레임 (11) 의 휨 형상뿐만 아니라, 그 수단들에 대한 것도 고려하여 종합적으로 결정하는 것이 특히 바람직하다.Thus, at the opposite long sides of the pair of pellicle frames 11, a non-penetrating concave portion 12 extending in the middle point direction from both ends is partially formed on the outer side surface. With this concave portion 12, it is possible to control the warp shape of the pellicle frame 11 after the pellicle film is installed in a tight state. The concave portion 12 is formed for the purpose of controlling the warp shape of the pellicle frame 11 after the pellicle film is tightly installed. However, the concave portion 12 can also be used as a latching portion for engaging a jig or the like for handling the pellicle. For this reason, it is particularly preferable that the cross-sectional shape and position of the concave portion 12 are determined comprehensively in consideration of not only the warp shape of the pellicle frame 11 but also the means thereof.

도 3 및 도 4 는 각각 펠리클 프레임에 펠리클막을 팽팽하게 설치한 후의 휨 형상을 모식적으로 나타내는 평면도이다.Figs. 3 and 4 are plan views schematically showing the warp shape after the pellicle frame is tightly installed on the pellicle frame, respectively. Fig.

펠리클 프레임에 대하여 펠리클막을 팽팽하게 설치하면, 도 3 및 도 4 에 나타내는 바와 같이, 펠리클막의 장력에 의해 펠리클 프레임은 내측으로 휜다. 여기서, 도 3 은 본 발명의 펠리클 프레임 (21) (도 2 에 나타내는 펠리클 프레임 (11)) 에 펠리클막을 팽팽하게 설치한 후의 휨 형상을 나타내고 있다. 한편, 도 4 는 일반적인 직사각형 단면인 종래의 펠리클 프레임 (22) 에 펠리클막을 팽팽하게 설치한 후의 휨 형상을 나타내고 있다. 또한, 도 4 에 나타내는 종래의 펠리클 프레임 (22) 은, 형상 자체는 도 2 에 나타내는 본 발명의 펠리클 프레임 (21) 과 동일하지만, 본 발명의 펠리클 프레임 (21) 과 달리 오목부를 형성하지 않고, 단면 형상을 일반적인 직사각형 단면으로 한 것이다.When the pellicle film is tightly attached to the pellicle frame, as shown in Figs. 3 and 4, the pellicle frame is pushed inward by the tension of the pellicle film. Here, FIG. 3 shows a warp shape after the pellicle frame 21 is tightly provided on the pellicle frame 11 of the present invention (see FIG. 2). On the other hand, Fig. 4 shows a warp shape after a pellicle film is tightly installed on a conventional pellicle frame 22 having a general rectangular cross section. The conventional pellicle frame 22 shown in Fig. 4 has the same shape as that of the pellicle frame 21 of the present invention shown in Fig. 2. However, unlike the pellicle frame 21 of the present invention, Sectional shape is a general rectangular cross-section.

단면 형상을 일반적인 직사각형 단면으로 한 종래의 도 4 에서는, 펠리클 프레임의 휨 형상은 각 변의 중앙부를 최대값 (db) 으로 한 원호 형상이 된다. 반면, 오목부를 형성한 본 발명의 도 3 에서는, 펠리클 프레임의 휨 형상은, 각 변의 중앙부가 최대값 (da) 이 되는 점은 동일하지만, 원호 형상이라기 보다 직선 형상이 되어, 변 전체가 사다리꼴 형상과 같은 휨 형상이 된다. 이리하여, 본 발명에 의하면, 최대 휨량을 감소시킬 수 있다.In the conventional Fig. 4 in which the cross-sectional shape is a general rectangular cross section, the warp shape of the pellicle frame is an arc shape in which the central portion of each side is the maximum value (d b ). 3 of the present invention in which the concave portion is formed, the warp shape of the pellicle frame is the same as the maximum value (d a ) at the center of each side, but is linear rather than circular, Shape and a warping shape. Thus, according to the present invention, the maximum amount of deflection can be reduced.

도 5 는 펠리클 프레임에 팽팽하게 설치하기 전의 펠리클막을 나타내는 개략 평면도이다. 일반적으로, 펠리클막은 유리 기판 상에 성막되고, 가열 수단에 의해 용매를 제거한 후, 임시 프레임 (31) 에 접착된 상태에서 박리된다. 이 때, 펠리클막 (32) 에는, 막 재료와 성막 기판의 열 팽창률 차이에서 기인한 장력 (33, 34, 35) 이 발생된다. 그 때문에, 이 장력 (33, 34, 35) 에 의해 임시 프레임 (31) 은 중심을 향해 인장되어, 임시 프레임 (31) 의 각 변 중앙부 부근은 휨이 발생한다. 이 때, 각 변 중앙부의 장력 (33, 34) 은 발생된 휨량에 따라 저감된 상태가 된다. 한편, 임시 프레임 (31) 의 모서리에 가까운 영역에서는 변 중앙에 비해 강성이 높기 때문에 휨량은 적고, 결과적으로 이 부근의 장력 (35) 은 높은 상태인 채 유지된다.Fig. 5 is a schematic plan view showing a pellicle film before it is tightly installed on a pellicle frame. Fig. Generally, the pellicle film is formed on the glass substrate, and after removing the solvent by the heating means, it is peeled while being adhered to the temporary frame 31. At this time, tensile forces 33, 34, and 35 are generated in the pellicle film 32 due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the film material and the film-forming substrate. Therefore, the temporary frame 31 is pulled toward the center by the tensile forces 33, 34, and 35, and warpage occurs in the vicinities of the respective side edges of the temporary frame 31. [ At this time, the tension forces 33 and 34 at the center portions of the sides are reduced according to the amount of bending generated. On the other hand, in the region close to the edge of the temporary frame 31, the stiffness is higher than that at the center of the side, so the amount of deflection is small, and as a result, the tension 35 in this vicinity remains high.

이와 같이 장력에 높낮이가 발생한 펠리클막을 본 발명의 펠리클 프레임에 팽팽하게 설치하면, 펠리클막의 모서리 부근의 장력이 높은 부분이, 펠리클 프레임의 오목부가 형성된 강성이 낮은 부분에 조합된다. 이 때문에, 이 부분에서의 휨량은, 통상적인 직사각형 단면의 것보다 커진다. 그러나, 이 부분이 크게 휨으로써, 본 발명의 펠리클 프레임에서는, 전체적으로 펠리클 프레임의 변에 걸리는 장력을 줄일 수 있다. 추가하여, 변 중앙 부근의 장력이 낮은 부분은, 반대로 강성이 높은 부분에서 받아 들이게 되기 때문에, 변 중앙 부근의 휨 형상은 직선 형상에 가까워지고, 결과적으로 최대 휨량을 줄일 수 있다. 이리하여, 본 발명에 의하면, 펠리클막의 장력에 의한 휨이 작은 펠리클을 얻을 수 있다.When the pellicle film having a height in tension is installed on the pellicle frame of the present invention in this way, a portion having a high tension in the vicinity of the edge of the pellicle film is combined with a portion having low rigidity where the concave portion of the pellicle frame is formed. Therefore, the amount of deflection at this portion becomes larger than that of a normal rectangular cross section. However, since this portion is largely warped, the tension applied to the sides of the pellicle frame as a whole can be reduced in the pellicle frame of the present invention. In addition, since the portion having a low tension in the vicinity of the center of the side is received by the portion having a high rigidity, the warping shape near the center of the side becomes close to a straight line, and as a result, the maximum amount of deflection can be reduced. Thus, according to the present invention, it is possible to obtain a pellicle having a small warp caused by the tensile force of the pellicle film.

또한, 상기 서술한 바와 같이, 이들 오목부의 배치는 각 변의 양 단부뿐만 아니라, 필요에 따라 그 밖의 위치에도 추가하여 형성할 수 있다. 그러나, 변의 전체에 걸쳐 연속적으로 형성하면, 단순히 그 변의 강성을 전체적으로 저하시키기만 하게 된다. 이 때문에, 오목부의 추가적인 배치는 펠리클 프레임의 강성을 고려하여 실시하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는, 변의 전체에 걸쳐 연속적으로가 아니라 부분적으로 오목부를 형성함으로써, 펠리클 프레임 강성의 전체적인 저하를 회피할 수 있다.As described above, the arrangement of these concave portions can be formed not only at both ends of each side but also at other positions as necessary. However, when continuously formed over the entire sides, the stiffness of the side is simply lowered as a whole. For this reason, it is preferable to further arrange the concave portion in consideration of the rigidity of the pellicle frame. In the present invention, it is possible to avoid the overall deterioration of the rigidity of the pellicle frame by partially forming the concave portion rather than continuously over the entire sides.

이러한 강성의 전체적인 저하를 회피하면서 오목부를 다른 위치에도 추가하여 형성한 다른 실시형태에 대해 도 6 을 사용하여 설명한다.Other embodiments in which recesses are added to other positions while avoiding the overall deterioration of rigidity will be described with reference to Fig.

도 6 은 본 발명의 다른 실시형태에 의한 펠리클 프레임을 모식적으로 나타내는 개략 평면도이다. 도 6(a) 는 본 실시형태에 의한 펠리클 프레임을 모식적으로 나타내는 평면도, 도 6(b) 는 도 6(a) 에 나타내는 펠리클 프레임을 장변측에서 본 개략 측면도, 도 6(c) 는 도 6(a) 에 나타내는 펠리클 프레임을 단변측에서 본 개략 측면도이다.6 is a schematic plan view schematically showing a pellicle frame according to another embodiment of the present invention. Fig. 6 (a) is a plan view schematically showing the pellicle frame according to the present embodiment, Fig. 6 (b) is a schematic side view of the pellicle frame shown in Fig. 6 is a schematic side view of the pellicle frame shown in Fig.

도 6 에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임 (41) 의 대향하는 양 장변에 있어서는, 도 2 에 나타내는 경우와 동일하게, 양 단부로부터 변 중점 방향으로 연장되는 비관통의 오목부 (42) 가 변 외측면에 부분적으로 형성되어 있다.As shown in Fig. 6, in the opposite longitudinal sides of the pellicle frame 41, as shown in Fig. 6, a non-through recess 42 extending in the middle point direction from both ends is formed on the side surface As shown in Fig.

또한, 도 6 에 나타내는 본 실시형태에서는, 펠리클 프레임 (41) 의 대향하는 양 단변에 있어서도, 양 단부로부터 변 중점 방향으로 연장되는 비관통의 오목부 (43) 가 변 외측면에 부분적으로 형성되어 있다.In the present embodiment shown in Fig. 6, even in both opposite short sides of the pellicle frame 41, a non-through recess 43 extending in the middle point direction from both ends is partially formed on the outer side surface have.

이와 같이, 펠리클 프레임의 전체 변, 즉 단변과 장변 양방에 있어서, 외측면에 오목부를 부분적으로 형성해도 된다. 그 때, 오목부를 변 전체에 걸쳐 연속적으로 형성하지 않고, 단변과 장변 양방에 대해 부분적으로 오목부를 형성함으로써, 상기 서술한 강성의 전체적인 저하를 회피할 수 있다.As described above, the concave portion may be partially formed on the outer side of both sides of the pellicle frame, that is, both the short side and the long side. At this time, by forming concave portions partially in both of the short side and the long side without forming the concave portion continuously over the entire side, it is possible to avoid the overall lowering of the above-described rigidity.

또한, 상기에서는, 펠리클 프레임의 대향하는 1 쌍의 장변의 양 단부, 또는 대향하는 1 쌍의 장변의 양 단부 및 대향하는 1 쌍의 단변의 양 단부의 근방에 있어서 오목부가 형성되어 있는 경우에 대해 설명하였지만, 적어도 대향하는 2 변의 양 단부 및/또는 그 근방에 있어서 오목부가 형성되어 있으면 된다. 즉, 펠리클 프레임의 대향하는 적어도 1 쌍의 변에 있어서, 양 단부로부터 변 중점 방향으로 연장되는 비관통의 오목부가 변 외측면에 부분적으로 형성되어 있으면 된다.In the above description, the recesses are formed in the vicinity of both ends of a pair of opposite long sides of the pellicle frame, or both ends of a pair of opposite long sides and both ends of a pair of short sides opposite to each other It is only necessary that recesses are formed at least at both ends of two opposing sides and / or in the vicinity thereof. That is, at least one pair of opposite sides of the pellicle frame may be provided with a non-penetrating concave portion extending from both ends in the direction of the middle point, partially on the outer side surface.

실시예Example

이하에 실시예에 의해 구체적으로 본 발명을 예시하여 설명하는데, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

(실시예)(Example)

도 2 에 나타내는 바와 같은 형상의 알루미늄 합금제 펠리클 프레임 (11) 을 기계 가공에 의해 제작하였다. 이 펠리클 프레임 (11) 의 형상은, 각 코너부의 외 (外) 치수는 1068 ㎜ × 1526 ㎜, 각 코너부의 내치수는 1031 ㎜ × 1490 ㎜ 의 직사각형이고, 두께 (H) 는 6.2 ㎜, 각 코너부의 크기는 내측은 R2, 외측은 R6 으로 하였다. 여기서, 장변의 양 단부에는, 도 2(a) ∼ 도 2(d) 에 나타내는 바와 같이, 폭 (h) ＝ 2.4 ㎜, 깊이 (d) ＝ 4.0 ㎜ 이고 최심부 (最深部) 의 반경이 1.2 ㎜ 인 오목부 (12) 가 길이 (l) ＝ 65 ㎜ 에 걸쳐 형성되어 있다.An aluminum alloy pellicle frame 11 having a shape as shown in Fig. 2 was produced by machining. This pellicle frame 11 had an outer dimension of 1068 mm x 1526 mm and a corner dimension of 1031 mm x 1490 mm and a thickness H of 6.2 mm, The size of the part was R2 for the medial side and R6 for the lateral side. As shown in Figs. 2 (a) to 2 (d), at both ends of the long side, the width h is 2.4 mm, the depth d is 4.0 mm and the radius of the deepest portion is 1.2 The concave portion 12 having a length of 1 mm is formed over the length l = 65 mm.

이 펠리클 프레임 (11) 을 세정, 건조시킨 후, 일방의 단면에 펠리클막 접착제로서 실리콘 점착제를 도포하고, 타방의 단면에 마스크 점착제로서 신에츠 화학 공업 (주) 제조의 실리콘 점착제 (상품명 : KR3700) 를 도포하고, 가열에 의해 큐어시켰다.After the pellicle frame 11 was washed and dried, a silicon pressure-sensitive adhesive was applied to one end face as a pellicle film adhesive, and a silicone pressure-sensitive adhesive (trade name: KR3700) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. as a mask pressure- And cured by heating.

또한, 아사히 가라스 (주) 제조의 불소계 폴리머 (상품명 : 사이톱) 를 슬릿 앤드 스핀 코트법에 의해 1620 ㎜ × 1780 ㎜ × 두께 17 ㎜ 의 직사각형 형상의 석영 기판 상에 성막하고, 기판 외형과 동일한 형상의 프레임체에 접착, 박리하여 얻은 두께 약 6 ㎛ 의 펠리클막을 이 펠리클 프레임 (11) 에 첩부하였다. 그리고, 펠리클 프레임 (11) 주위의 불필요한 막을 커터로 절단 제거하여 펠리클로 하였다.Further, a fluorine-based polymer (trade name: CYTOT) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. was formed on a quartz substrate having a rectangular shape of 1620 mm x 1780 mm x 17 mm thick by a slit-and-spin coating method, Shaped pellicle film was adhered to the pellicle frame 11. The pellicle film had a thickness of about 6 mu m. Then, an unnecessary film around the pellicle frame 11 was cut off with a cutter to obtain a pellicle.

도 7 에 나타내는 바와 같이 하여, 이 완성된 펠리클 (51) 을 주철제의 정반 (52) 상에 세우고, 간극 게이지 (53) 에 의해 장변 중앙의 휨량을 계측한 결과, 2.0 ㎜ 였다. 또, 측방에서 휨 형상을 관찰한 결과, 프레임 직선 형상으로부터 돌출된 부분은 전혀 없었다.7, the finished pellicle 51 was placed on a platen 52 of cast iron and the amount of deflection at the center of the long side was measured by a gap gauge 53 to find that it was 2.0 mm. As a result of observing the warp shape at the side, there was no part protruding from the straight line shape of the frame.

(비교예)(Comparative Example)

상기 실시예와 완전히 동일한 외형 형상이고, 코너부 근방의 오목부 (12) 가 없는 펠리클 프레임을 제작하여 펠리클로 완성시켰다. 이 완성된 펠리클의 장변의 휨량을 상기와 동일하게 하여 계측한 결과, 장변의 중앙부에서 3.4 ㎜ 로 상기 실시예보다 큰 값이 되었다.A pellicle frame having an outer shape completely identical with that of the above embodiment and free of the concave portion 12 in the vicinity of the corner portion was produced and completed with a pellicle. The amount of bending of the long side of the completed pellicle was measured in the same manner as described above. As a result, the value was 3.4 mm at the center of the long side, which was larger than that in the above example.

1 : 펠리클막
2 : 접착층
4 : 점착층
5 : 노광 원판
6 : 기압 조정용 구멍 (통기구)
7 : 제진용 필터
10 : 펠리클
11 : 펠리클 프레임
12 : 오목부
21 : 본 발명의 펠리클 프레임
22 : 종래의 펠리클 프레임
31 : 임시 프레임
32 : 펠리클막
33 : 펠리클막의 장력 (장변 중앙)
34 : 펠리클막의 장력 (단변 중앙)
35 : 펠리클막의 장력 (모서리부)
41 : 펠리클 프레임
42 : 오목부
43 : 오목부
51 : 펠리클
52 : 정반
53 : 간극 게이지1: Pellicle membrane
2: Adhesive layer
4: Adhesive layer
5: Exposure plate
6: Pressure adjusting hole (vent)
7: Filter for dust removal
10: Pellicle
11: Pellicle frame
12:
21: Pellicle frame of the present invention
22: Conventional pellicle frame
31: Temporary frame
32: Pellicle membrane
33: Tension of pellicle membrane (long side center)
34: Tension of pellicle membrane (short side center)
35: Tension of the pellicle membrane (corner portion)
41: Pellicle frame
42:
43:
51: Pellicle
52: Plate
53: Clearance gauge

Claims (4)

전체 형상이 직사각형 형상의 프레임체이고,
상기 프레임체는, 외측으로의 돌출 형상이 없고,
상기 프레임체의 각 변의 중앙부 형상이 직선 형상이고,
상기 직사각형 형상의 프레임체에 있어서의 4 개의 모서리에만 각각, 적어도 1 변의 양 단부로부터 변 중점 방향으로 연장되는 비관통의 오목부가 상기 적어도 1 변의 변길이 (L) 의 1/4 에서부터 외측의 변 외측면에 부분적으로 형성되어 있고,
상기 오목부의 바닥부가 반원 형상이고,
상기 오목부가 없는 경우와 비교하여, 펠리클막의 장력에 의한 상기 프레임체의 각 변의 중앙부에 발생하는 휨이 작은 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.The entire shape is a rectangular frame body,
The frame body has no protruding shape toward the outside,
Wherein a center portion shape of each side of the frame body is a straight line shape,
Penetrating recesses extending from the both ends of at least one side edge in the middle point direction are formed in only four corners of the rectangular frame body from one quarter of the side length L of at least one side to the outside side edge And is partially formed on the side surface,
Wherein a bottom portion of the concave portion is semicircular,
Wherein a flexure generated at a center portion of each side of the frame body due to the tensile force of the pellicle film is small as compared with a case where the concave portion is not provided. 제 1 항에 있어서,
상기 오목부가, 상기 직사각형 형상의 프레임체에 있어서의 4 개의 모서리에만 각각, 장변의 양 단부로부터 변 중점 방향으로 연장되는 비관통의 오목부이고, 또한 상기 장변의 변길이 (L) 의 1/4 에서부터 외측의 변 외측면에 부분적으로 형성되어 있는 펠리클 프레임.The method according to claim 1,
Wherein the concave portion is a non-through concave portion extending from both ends of the long side in the middle point direction only at four corners of the rectangular frame body, The pellicle frame being partially formed on an outer side surface of the pellicle frame. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 펠리클 프레임에 펠리클막을 팽팽하게 설치 (張設) 한, 펠리클.A pellicle in which a pellicle film is stretched over a pellicle frame according to claim 1 or 2. 삭제delete
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