KR101699151B1 - Multilayer structured transparent electrically conductive film and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 n1의 굴절율을 가지는 기재, n2의 굴절율을 가지는 제1 코팅층, n3의 굴절율을 가지는 제2 코팅층, 및 n4의 굴절율을 가지는 전도성 산화물층을 순차적으로 적층된 형태로 포함하고, 상기 각 층의 굴절율은 n1≤n3<n2<n4 를 만족하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름에 관한 것이다.
본 발명의 투명 전도성 필름은 우수한 투과도 뿐만 아니라, 특히 색감 및 기계적 물성이 우수하다. The present invention includes a substrate having a refractive index of n1, a first coating layer having a refractive index of n2, a second coating layer having a refractive index of n3, and a conductive oxide layer having a refractive index of n4 in this order, Wherein the refractive index of the transparent conductive film satisfies n1? N3 <n2 <n4.
The transparent conductive film of the present invention has not only excellent transmittance but also excellent color and mechanical properties.
Description
본 발명은 우수한 투과도 뿐만 아니라, 색감 및 기계적 물성이 우수한 투명 전도성 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent conductive film excellent in not only excellent transmittance but also color and mechanical properties.
종래의 투명 전도성 필름으로는 유리 기재 상에 산화 인듐 박막을 형성한 전도성 유리를 사용하였지만, 상기 전도성 유리는 기재가 유리이기 때문에 가요성 및 가공성이 뒤떨어지고, 용도에 따라서 바람직하지 않은 경우가 많았다. 이에 대응하기 위하여 가요성 및 가공성이 우수할 뿐만 아니라 내충격성 및 경량화할 수 있는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 비롯한 각종의 플라스틱 필름을 기재로 적용한 투명 전도성 필름이 상용되어 왔다. As a conventional transparent conductive film, a conductive glass having an indium oxide thin film formed on a glass substrate is used. However, the conductive glass is poor in flexibility and processability because the substrate is glass, and is often not preferable depending on the use. In order to cope with this problem, a transparent conductive film using various plastic films as a base material, including a polyethylene terephthalate film, which is excellent in flexibility and workability as well as in impact resistance and light weight, has been in common use.
그러나, 상기와 같이 플라스틱 필름을 기재로 적용한 투명 전도성 필름은 산화 인듐 박막 표면의 광 반사율이 크기 때문에 투과도가 저하되고, 색감(b*)이 저하되며, 기계적 물성이 저하되는 문제가 있다.However, as described above, the transparent conductive film to which the plastic film is applied as the substrate has a problem that the transmittance is lowered, the color feeling (b *) is lowered, and the mechanical properties are lowered because the light reflection factor of the surface of the indium oxide thin film is large.
상기 b* 값은 필름의 옐로우이쉬(yellowish)한 정도를 측정하는 값으로 그 값이 클수록 더욱 노랗게 보이며, 터치패널의 이용에 있어서 그 값이 낮을수록 바람직하다. The b * value is a value for measuring the degree of yellowishness of the film. The larger the value is, the more yellow appears, and the lower the value in the use of the touch panel, the better.
상기 b*를 낮게 하려면 파장범위 400~500nm에서의 반사를 최소화 하여야 하며, 낮은 b*값과 함께 높은 전광선 투과도를 동시에 유지하기 위해서는 이에 알맞은 굴절율의 층 설계가 필요하다.In order to lower the b *, reflection at a wavelength range of 400 to 500 nm should be minimized. In order to simultaneously maintain a low total b * value and a high total transmittance, a refractive index layer design is required.
이에 본 발명은 우수한 투과도 뿐만 아니라, 색감 및 기계적 물성이 우수한 투명 전도성 필름 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a transparent conductive film having excellent coloring and mechanical properties as well as excellent transparency, and a method for producing the transparent conductive film.
본 발명은 n1의 굴절율을 가지는 기재, n2의 굴절율을 가지는 제1 코팅층, n3의 굴절율을 가지는 제2 코팅층, 및 n4의 굴절율을 가지는 전도성 산화물층을 순차적으로 적층된 형태로 포함하고, 상기 각 층의 굴절율은 n1≤n3<n2<n4를 만족하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름을 제공한다. The present invention includes a substrate having a refractive index of n1, a first coating layer having a refractive index of n2, a second coating layer having a refractive index of n3, and a conductive oxide layer having a refractive index of n4 in this order, Wherein the refractive index of the transparent conductive film satisfies n1? N3 < n2 < n4.
또한, 본 발명은 상기 투명 전도성 필름을 포함하는 터치 패널을 제공한다.The present invention also provides a touch panel including the transparent conductive film.
또한, 본 발명은 n1의 굴절율을 가지는 기재, n2의 굴절율을 가지는 제1 코팅층, n3의 굴절율을 가지는 제2 코팅층, 및 n4의 굴절율을 가지는 전도성 산화물층을 순차적으로 적층하는 단계를 포함하는 투명 전도성 필름의 제조방법에 있어서, 상기 각 층의 굴절율은 n1≤n3<n2<n4를 만족하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method of forming a transparent conductive film comprising sequentially laminating a substrate having a refractive index n1, a first coating layer having a refractive index n2, a second coating layer having a refractive index n3, and a conductive oxide layer having a refractive index n4, In the method for producing a film, the refractive index of each layer satisfies n1? N3 <n2 <n4.
본 발명의 투명 전도성 필름은 우수한 투과도 뿐만 아니라, 특히 색감 및 기계적 물성이 우수하다.The transparent conductive film of the present invention has not only excellent transmittance but also excellent color and mechanical properties.
이하, 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described more specifically.
본 발명은 n1의 굴절율을 가지는 기재, n2의 굴절율을 가지는 제1 코팅층, n3의 굴절율을 가지는 제2 코팅층, 및 n4의 굴절율을 가지는 전도성 산화물층을 순차적으로 적층된 형태로 포함하는 투명 전도성 필름에 있어서, 상기 각 층의 굴절율이 n1≤n3<n2<n4를 만족하는 것을 특징으로 한다. 또한 투명전도성 필름의 기계적 물성을 향상시키기 위해 전도성 산화물층이 있는 기재의 반대면에 순차적으로 투명점착제와 적어도 한면에 물리적 특성을 개선할 수 있는 코팅이 있는 제2의 기재를 합지할 수 있다.The present invention relates to a transparent conductive film comprising a substrate having a refractive index of n1, a first coating layer having a refractive index of n2, a second coating layer having a refractive index of n3, and a conductive oxide layer having a refractive index of n4 sequentially stacked , Wherein the refractive index of each layer satisfies n1? N3 <n2 <n4. Further, in order to improve the mechanical properties of the transparent conductive film, a second substrate having a transparent adhesive and a coating capable of improving physical properties on at least one side can be laminated sequentially on the opposite side of the substrate having the conductive oxide layer.
상기 기재는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 투명성을 가지는 플라스틱 필름을 사용할 수 있다. 이의 구체적인 예로는 폴리에스테르계 수지, 셀룰로스 에스테르계 수지, 폴리에테르 술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메타)아크릴레이트계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐 알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌 황화물계 수지 등이 있다. The substrate is not particularly limited, but a plastic film having transparency can be used. Specific examples thereof include polyester resins, cellulose ester resins, polyether sulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (meth) acrylate resins, polyvinyl chloride Based resin, a polyvinylidene chloride-based resin, a polystyrene-based resin, a polyvinyl alcohol-based resin, a polyarylate-based resin, and a polyphenylene sulfide-based resin.
상기 기재의 굴절율은 1.4 내지 1.7 인 것이 바람직하다. The refractive index of the base material is preferably 1.4 to 1.7.
또한, 상기 기재의 두께는 2 내지 200 ㎛인 것이 바람직하다. 상기 기재의 두께가 2 ㎛ 미만인 경우에는 기재로서의 기계적 강도가 부족할 수 있고, 200 ㎛를 초과할 경우에는 터치패널 제작 시 터치의 감도가 저하 될 수 있다.The thickness of the base material is preferably 2 to 200 탆. When the thickness of the base material is less than 2 탆, the mechanical strength of the base material may be insufficient. When the thickness of the base material is more than 200 탆, the sensitivity of the touch may be lowered when manufacturing the touch panel.
또한, 상기 기재의 표면은 코팅층의 코팅성 및 부착성의 향상을 위해 스퍼터링, 코로나 방전, 자외선 조사, 산/염기 처리, 프라이머(primer)처리 등을 수행할 수 있다. The surface of the substrate may be subjected to sputtering, corona discharge, ultraviolet irradiation, acid / base treatment, primer treatment, and the like in order to improve the coating property and adhesion of the coating layer.
상기 제1 및 제2 코팅층은 유기물, 무기물 또는 유기-무기 복합물을 사용할 수 있으며, 각 층의 굴절율 관계를 만족시킨다면 그 종류에 상관없이 사용할 수 있다. 상기 유기물로는 열 또는 UV 경화가 가능한 유기물로 이루어진 수지들이 사용될 수 있고, 아크릴계, 우레탄계, 티오우레탄계, 멜라민, 알키드수지, 실록산계 폴리머 등이 있다. 상기 무기물로는 CaF2, BaF2, SiO2, LaF3, CeF3, Al2O3, 산질화 실리콘(silicon oxynitride), 산질화 알루미늄(aluminum oxynitride) 등이 있다.
The first and second coating layers may be organic materials, inorganic materials, or organic-inorganic composites, and may be used regardless of the kind of the organic material, the inorganic material, and the organic-inorganic composite. As the organic material, resins made of an organic material capable of being thermally or UV-curable can be used, and acrylic, urethane, thiourethane, melamine, alkyd resin, siloxane polymer and the like can be used. Examples of the inorganic material include CaF 2 , BaF 2 , SiO 2 , LaF 3 , CeF 3 , Al 2 O 3 , silicon oxynitride, and aluminum oxynitride.
* 유기-무기 복합물은 TiO2, Nb2O5, Ta2O5, Sb2O5, ZrO2, ZnO, ZnS 등의 단일조성물 혹은 복합조성물의 고굴절 입자를 포함하는 아크릴계, 우레탄계, 티오우레탄계, 멜라민, 알키드수지, 실록산계 폴리머, 하기 화학식 1로 표시되는 유기 실란 화합물로 이루어진 군으로부터 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다. 이때, 유기실란 화합물을 사용할 경우 고굴절 입자와 혼합하여 굴절율 조절 및 가교가 가능해야 한다.The organic-inorganic composite may be at least one selected from the group consisting of acrylic, urethane, thiourethane, and thiourethane compounds including high refractive index particles of a single composition or composite composition such as TiO 2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , Sb 2 O 5 , ZrO 2 , ZnO, Melamine, an alkyd resin, a siloxane-based polymer, and an organosilane compound represented by the following formula (1). When an organosilane compound is used, refractive index control and crosslinking should be possible by mixing with high refractive index particles.
[화학식 1][Chemical Formula 1]
(R1)m-Si-X(4-m) (R1) m- Si-X (4-m)
상기 식에서, X는 서로 같거나 다를 수 있으며, 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 아실옥시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 또는 -N(R2)2(여기서 R2 는 H, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬)이고, R1은 서로 같거나 다를 수 있으며, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 아릴알킬, 알킬아릴, 아릴알케닐, 알케닐아릴, 아릴알키닐, 알키닐아릴, 할로겐, 치환된 아미노, 아마이드, 알데히드, 케토, 알킬카보닐, 카르복시, 머캅토, 시아노, 하이드록시, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 탄소수 1 내지 12의 알콕시카보닐, 설폰산, 인산, 아크릴옥시, 메타크릴옥시, 에폭시 또는 비닐기이고, 이때 산소 또는 -NR2(여기서 R2는 H, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬)가 라디칼 R1과 Si사이에 삽입되어 -(R1)m-O-Si-X(4-m) 또는 (R1)m-NR2-Si-X(4-m)로 될 수도 있으며, m은 1 내지 3의 정수이다.Wherein, X may be the same or different from each other, hydrogen, halogen, alkoxy of 1 to 12 carbon atoms, acyloxy, alkylcarbonyl, alkoxycarbonyl, or -N (R2) 2 (where R2 is H, or C 1 And R 1 may be the same or different and are selected from the group consisting of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, arylalkyl, alkylaryl, arylalkenyl, alkenylaryl, arylalkynyl, Alkoxy having 1 to 12 carbon atoms, alkoxycarbonyl having 1 to 12 carbon atoms, sulfonic acid, phosphoric acid, phosphoric acid, phosphoric acid, phosphoric acid, (R 1) m -O-, R 2, R 3, R 4, R 5, R 6, R 7, R 8, Si-X (4-m) or (R1) m -NR2-Si-X (4-m) , and m is an integer of 1 to 3 All.
상기 유기실란의 예로는 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 페닐디메톡시실란, 페닐디에톡시실란, 메틸디메톡시실란, 메틸디에톡시실란, 페닐메틸디메톡시실란, 페닐메틸디에톡시실란, 트리메틸메톡시실란, 트리메틸에톡시실란, 트리페닐메톡시실란, 트리페닐에톡시실란, 페닐디메틸메톡시실란, 페닐디메틸에톡시실란, 디페닐메틸메톡시실란, 디페닐메틸에톡시실란, 디메틸에톡시실란, 디메틸에톡시실란, 디페닐메톡시실란, 디페닐에톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, p-아미노페닐실란, 알릴트리메톡시실란, n-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아민프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필디이소프로필에톡시실란, (3-글리시독시프로필)메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필틀리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, n-페닐아미노프로필트리메톡시실란, 비닐메틸디에톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란 등이 있다.Examples of the organosilane include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxy A silane coupling agent such as silane, phenyl dimethoxy silane, phenyl diethoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, phenyl methyl dimethoxy silane, phenyl methyl diethoxy silane, trimethyl methoxy silane, Triphenylmethoxysilane, diphenylmethoxysilane, phenyldimethylethoxysilane, diphenylmethylmethoxysilane, diphenylmethylethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylethoxysilane, diphenylmethoxysilane, diphenylmethoxysilane, diphenylmethoxysilane, Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, p-aminophenylsilane, allyltrimethoxysilane, n- (2-aminoethyl) Methoxysilane, 3-amine Propyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyldiisopropylethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) methyldiethoxysilane, 3- glycidoxypropyltrimethoxy Silane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl Trimethoxysilane, n-phenylaminopropyltrimethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and the like.
상기 제1 및 제2 코팅층에 유기-무기 복합층을 사용할 경우, 유기물의 함량은 1중량%이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 중량% 이상이 좋다. 또한, 상기 무기물의 함량은 0.01 내지 99 중량%로 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는 95 중량%보다 적게 사용하는 것이 좋다. 상기 제1 코팅층의 굴절율은 투명기재나 제2코팅층의 굴절율보다 높고 전도성 산화물층 보다 굴절율이 낮은 것이 바람직하고, 구체적으로는 1.5 내지 2이다. When the organic-inorganic composite layer is used for the first and second coating layers, the content of the organic material is preferably 1% by weight or more, more preferably 5% by weight or more. The content of the inorganic material may be 0.01 to 99% by weight, more preferably less than 95% by weight. The refractive index of the first coating layer is preferably higher than the refractive index of the transparent substrate or the second coating layer, and is lower than that of the conductive oxide layer, specifically, 1.5 to 2. [
또한, 상기 제1 코팅층의 두께는 10 ㎚ 이상인 것이 바람직하고, 10 내지 1,000 ㎚인 것이 바람직하다. 상기 제1 하부층의 두께가 1,000 ㎚를 초과할 경우에는 투명성의 향상을 기대 하기 어렵고 표면 크랙(crack)을 발생할 우려가 있다. The thickness of the first coating layer is preferably 10 nm or more, more preferably 10 to 1,000 nm. When the thickness of the first lower layer is more than 1,000 nm, it is difficult to expect an improvement in transparency and a surface crack may occur.
상기 제2 코팅층의 굴절율은 기재보다 굴절율이 높고 제1 코팅층보다 낮은 것이 바람직하고, 구체적으로는 1.4 내지 1.9이다.The refractive index of the second coating layer is preferably higher than that of the substrate and lower than that of the first coating layer, more specifically 1.4 to 1.9.
또한, 상기 제2코팅층의 두께는 10 내지 500 ㎚인 것이 바람직하다. 상기 제2코팅층의 두께가 500 ㎚를 초과할 경우에는 우수한 투명성과 b*를 동시에 만족시키기 힘들며 표면에 쉽게 크랙이 발생할 우려가 있다.The thickness of the second coating layer is preferably 10 to 500 nm. When the thickness of the second coating layer exceeds 500 nm, it is difficult to simultaneously satisfy the excellent transparency and b *, and there is a fear that cracks may easily occur on the surface.
상기 전도성 산화물층으로는 ITO 및 원소 M이 도핑된 산화아연계 박막 (ZnO:M) 등을 사용할 수 있다. 상기 원소 M은 도판트 원소로서, 13족 원소 또는 +3의 산화수를 갖는 전이금속일 수 있다. 상기 원소 M의 비제한적인 예로는 B, Al, Ga, In, Tl, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Co 또는 Ni 등이 있다. 바람직하게는 알루미늄(Al) 또는 갈륨(Ga) 등을 사용할 수 있다. As the conductive oxide layer, ITO and ZnO: M thin film doped with an element M (M) may be used. The element M is a dopant element and may be a Group 13 element or a transition metal having an oxidation number of +3. The element M may be, for example, B, Al, Ga, In, Tl, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Co or Ni. Preferably, aluminum (Al) or gallium (Ga) can be used.
상기 전도성 산화물층의 굴절율은 1.9 내지 2.3 인 것이 바람직하며, 전도성 산화물층의 두께는 5 내지 200 ㎚ 인 것이 바람직하다. 상기 전도성 산화물층의 두께가 5 ㎚ 미만인 경우에는 터치 패널로 사용하기 위한 면 저항을 구현하기 힘들고, 200 ㎚를 초과할 경우에는 투과도 및 색감(b*)의 향상이 힘들고, 크랙이 발생할 우려가 있다.The refractive index of the conductive oxide layer is preferably 1.9 to 2.3, and the thickness of the conductive oxide layer is preferably 5 to 200 nm. When the thickness of the conductive oxide layer is less than 5 nm, it is difficult to realize a surface resistance for use in a touch panel. When the thickness is more than 200 nm, it is difficult to improve the transmittance and color hue (b *) and cracks may occur .
또한, 본 발명에 따른 투명 전도성 필름은 제1 코팅층, 제2 코팅층 및 전도성 산화물층이 순차적으로 형성되는 기재의 다른 방향의 면에는 투명 점착체를 사용하여 제2의 기재를 부착한 형태의 투명 전도성 필름을 포함할 수도 있다. In addition, the transparent conductive film according to the present invention is a transparent conductive film in which a transparent substrate is formed on a surface of the substrate in which the first coating layer, the second coating layer, and the conductive oxide layer are sequentially formed, Film.
상기 제2의 기재의 접합은 제2의 기재 쪽에 점착제층을 마련해 두고 투명 전도성 필름을 부착할 수 있고, 반대로 투명 전도성 필름의 기재 쪽에 점착제층을 마련해 두고 제2의 기재를 부착할 수도 있다. The bonding of the second base material can be achieved by providing a pressure sensitive adhesive layer on the side of the second base material and adhering a transparent conductive film thereto. Alternatively, a second base material may be attached with a pressure sensitive adhesive layer provided on the base material side of the transparent conductive film.
상기 점착제로는 투명성을 가지는 것이면 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 고무(rubber)계 점착제 등을 사용할 수 있다. 이 점착제층은 제2의 기재의 부착 후에 쿠션(cushion) 효과에 의하여 투명 전도성 필름의 전도성 산화물층의 내찰상성이나 터치 패널용으로서의 타점 특성을 향상시킬 수 있다. 상기 내찰상성이나 타점 특성을 보다 좋게 하기 위하여, 상기 점착제층은 1 내지 100 N/㎠의 탄성계수 및 1 ㎛ 이상의 두께, 바람직하게는 5 내지 100 ㎛의 두께를 가지는 것이 바람직하다. The pressure-sensitive adhesive may be used without limitation as long as it has transparency. For example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive, a rubber pressure-sensitive adhesive, or the like can be used. This pressure-sensitive adhesive layer can improve the scratch resistance of the conductive oxide layer of the transparent conductive film or the rubbing property as a touch panel for a touch panel due to a cushion effect after the adhesion of the second base material. In order to improve the scratch resistance and the rutting property, the pressure-sensitive adhesive layer preferably has a modulus of elasticity of 1 to 100 N / cm 2 and a thickness of 1 탆 or more, preferably 5 to 100 탆.
상기 점착제층의 탄성 계수가 1 N/㎠ 미만일 경우에는 점착제층은 비탄성이 되기 때문에 가압에 의하여 쉽게 변형될 수 있고, 투명 전도성 필름의 전도성 산화물층에 요철이 발생할 수 있으며, 가공 절단면에서 점착제가 돌출될 수 있고, 전도성 산화물층의 내찰상성이나 터치패털용으로서의 타점 특성의 향상 효과가 감소할 수 있다. 또한, 탄성 계수가 100 N/㎠을 초과할 경우에는 점착체층이 쿠션 효과를 기대할 수 없기 때문에 전도성 산화물층의 내찰상성이나 터치 패널용으로서의 타점 특성의 향성 효과가 감소한다. If the elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 1 N / cm < 2 >, the pressure-sensitive adhesive layer becomes inelastic and can be easily deformed by pressurization, irregularities may occur in the conductive oxide layer of the transparent conductive film, And the effect of improving the scratch resistance of the conductive oxide layer or the rutting characteristics as a touch pattern can be reduced. When the modulus of elasticity exceeds 100 N / cm < 2 >, the cushioning effect of the adhesive layer can not be expected, and thus the scratch resistance of the conductive oxide layer and the effect of aiming at the rubbing characteristics as a touch panel are reduced.
또한, 점착제층의 두께가 1 ㎛ 미만인 경우에는 점착체층이 쿠션 효과를 기대할 수 없기 때문에 전도성 산화물층의 내찰상성이나 터치 패널용으로서의 타점 특성의 향성 효과가 감소하고, 100 ㎛를 초과할 경우에는 투명성을 손상시키거나, 점착제층의 형성과 제2 기재의 부착성과 비용면에서 불리하다. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 1 占 퐉, the cushioning effect of the pressure-sensitive adhesive layer can not be expected, so that the scratch resistance of the conductive oxide layer and the roving effect of the rubbing point characteristic for the touch panel are reduced. Which is disadvantageous in terms of the formation of the pressure-sensitive adhesive layer, the adhesion of the second substrate and the cost.
상기 점착층을 이용하여 부착되는 상기 제2 기재는 투명 전도성 필름의 기계적 강도를 부여하고, 컬(curl)의 발생을 방지할 수 있다. The second base material adhered by using the adhesive layer can impart mechanical strength to the transparent conductive film and prevent the occurrence of curl.
상기 제2 기재의 부착 후, 투명 전도성 필름이 가용성이 요구되는 경우에는 상기 제2 기재를 6 내지 3000 ㎛의 두께를 가지는 플라스틱 필름을 사용할 수 있고, 가요성이 특별히 요구되지 않은 경우에는 0.05 내지 10 ㎜의 두께를 가지는 판유리 또는 플라스틱을 사용할 수 있다. When the transparent conductive film is required to be soluble after attachment of the second base material, the second base material may be a plastic film having a thickness of 6 to 3000 mu m. If flexibility is not particularly required, the second base material may be used in an amount of 0.05 to 10 A plate glass or plastic having a thickness of mm may be used.
상기 제2 기재로 사용될 수 있는 플라스틱은 투명 전도성 필름의 기재와 동일한 재료를 사용할 수 있다.The plastic that can be used for the second substrate may be the same material as the substrate of the transparent conductive film.
상기 제2기재는 적어도 한면에 오염의 방지를 목적으로 하는 방오코팅층, 외표면을 보호을 목적으로 하는 하드코팅층, 시인성의 향상을 위해 저반사코팅층, 반사방지코팅으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함함으로써, 투명 전도성 필름의 물리적 특성을 개선할 수 있다.The second substrate includes at least one selected from the group consisting of an antifouling coating layer for preventing contamination on the at least one surface, a hard coating layer for protecting the outer surface, a low reflection coating layer for improving visibility, and an antireflection coating The physical properties of the transparent conductive film can be improved.
또한, 본 발명은 n1의 굴절율을 가지는 기재, n2의 굴절율을 가지는 제1 코팅층, n3의 굴절율을 가지는 제2 코팅층, 및 n4의 굴절율을 가지는 전도성 산화물층을 순차적으로 적층하는 단계를 포함하는 투명 전도성 필름의 제조방법에 있어서, 상기 각 층의 굴절율은 n1≤n3<n2<n4를 만족하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method of forming a transparent conductive film comprising sequentially laminating a substrate having a refractive index n1, a first coating layer having a refractive index n2, a second coating layer having a refractive index n3, and a conductive oxide layer having a refractive index n4, In the method for producing a film, the refractive index of each layer satisfies n1? N3 <n2 <n4.
상기 기재 상에 제1 코팅층, 제2 코팅층 및 전도성 산화물층을 순차적으로 형성하는 방법으로는 진공 증착법, 스터링법, 이온 도금법, 도공법 또는 화학적 기상 증착법(CDV) 등을 사용할 수 있으나, 반드시 이에만 한정되는 것은 아니며, 당업계에 알려져 있는 일반적인 방법을 사용할 수 있다. As a method for sequentially forming the first coating layer, the second coating layer, and the conductive oxide layer on the substrate, a vacuum deposition method, a sintering method, an ion plating method, a coating method, or a chemical vapor deposition method (CDV) But is not limited to, and can be any conventional method known in the art.
또한, 본 발명은 상기 투명 전도성 필름을 포함하는 터치 패널을 제공한다. 특히, 특히 PDA, 노트북, OA·FA기기, ATM, 휴대폰, 네비게이션 등의 터치 패널에 사용될 수 있고, 현재 투명 전극이 사용되는 모든 분야에 적용 가능하다. The present invention also provides a touch panel including the transparent conductive film. In particular, it can be used in touch panels such as PDA, notebook, OA / FA equipment, ATM, mobile phone, navigation, etc., and is applicable to all fields where transparent electrodes are currently used.
또한, 본 발명에 따른 투명 전도성 필름은 LCD, OLED, e-paper 같은 디스플레이나 OLED 조명 등에도 사용 가능하다. Also, the transparent conductive film according to the present invention can be used for a display such as LCD, OLED, e-paper, OLED lighting, and the like.
이하 본 발명을 실시예를 통해 더욱 상세히 설명하고자 한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐이며 본 발명의 범위가 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the following examples are illustrative of the present invention and the scope of the present invention is not limited to the following examples.
실시예Example 1 One
두께가 25㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(굴절율 1.6) 상에 TiO2를 포함하는 아크릴계 코팅액을 코팅하고 100 ℃에서 1분간 건조한 후 400 mJ/㎠ 광량의 UV를 조사하여 두께가 70 ㎚인 제1 코팅층(굴절율 1.80), ZrO2 나노입자를 포함하는 아크릴계 코팅액을 100 ℃에서 1분간 건조한 후 400 mJ/㎠ 광량의 UV를 조사하여 두께가 45 ㎚인 제2 코팅층(굴절율1.63)을 순차적으로 형성하였다. 이 후, 아르곤 가스와 98.4%와 산소 가스 1.6%로 이루어진 5mTorr의 분위기 속에서 스퍼터링 방법을 이용하여 두께가 30 ㎚인 ITO층을 증착하여 투명 전도성 필름을 제조하였다. An acrylic coating solution containing TiO 2 was coated on a polyethylene terephthalate film (refractive index 1.6) having a thickness of 25 탆, dried at 100 캜 for 1 minute, and irradiated with UV light of 400 mJ / cm 2 to form a first coating layer (Refractive index: 1.80) and ZrO 2 nanoparticles were dried at 100 ° C for 1 minute, and then irradiated with UV at a dose of 400 mJ / cm 2 to form a second coating layer having a thickness of 45 nm (refractive index: 1.63). Thereafter, an ITO layer having a thickness of 30 nm was deposited by sputtering in an atmosphere of argon gas, 98.4% and oxygen gas of 1.6% in a 5 mTorr atmosphere to prepare a transparent conductive film.
실시예Example 2 2
상기 실시예 1에서 제2 코팅층으로 ZrO2 나노입자의 함량을 조절한 아크릴계 코팅액을 100 ℃에서 1분간 건조한 후 400 mJ/㎠ 광량의 UV를 조사하여 굴절율이 1.65이며 두께가 45nm인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명 전도성 필름을 제조하였다.In Example 1, the acrylic coating liquid having the content of ZrO 2 nanoparticles adjusted to the second coating layer was dried at 100 ° C. for 1 minute, irradiated with UV at a dose of 400 mJ / cm 2 to form a coating layer having a refractive index of 1.65 and a thickness of 45 nm A transparent conductive film was prepared in the same manner as in Example 1.
실시예Example 3 3
상기 실시예 1에서 제2 코팅층으로 유기실란을 20중량%가 되도록 에탄올에 희석하고 증류수를 알콕시실란기의 1.5배를 투입하고 촉매량의 염산을 넣고 25℃에서 24시간을 반응하여 졸 용액을 만들고 Sb2O5 나노입자를 투입하고 2중량%로 희석하여 코팅액을 준비하여, 이를 50℃에서 3분간 건조한 후 120℃에서 10분간 건조하여 굴절율이 1.61이고, 두께가 45nm인 것을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명 전도성 필름을 제조하였다.In Example 1, the organosilane was diluted with ethanol to 20 wt%, distilled water was added 1.5 times of the alkoxysilane group, and a catalytic amount of hydrochloric acid was added thereto, followed by reaction at 25 ° C for 24 hours to prepare a sol solution. 2 O 5 nanoparticles were added and diluted to 2 wt% to prepare a coating liquid. The coating liquid was dried at 50 ° C for 3 minutes and then dried at 120 ° C for 10 minutes to obtain a coating liquid having a refractive index of 1.61 and a thickness of 45 nm. A transparent conductive film was prepared in the same manner as in Example 1.
비교예Comparative Example 1 One
상기 실시예 1에서 두께가 145 ㎚인 제1 코팅층(굴절율 1.46)을 사용하고 제2 코팅의 굴절율을 1.80으로 하고 두께를 55 ㎚로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명 전도성 필름을 제조하였다.A transparent conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the first coating layer having a thickness of 145 nm (refractive index: 1.46) was used in Example 1, the refractive index of the second coating was 1.80, and the thickness was changed to 55 nm. .
상기 제 1 코팅층은 유기실란 : 테트라에톡시실란 : 에틸알콜 : 증류수 = 1 : 6 : 7 : 2(중량비)의 혼합물에 산 촉매를 첨가하여 25 ℃에서 24시간 동안 부분 가수분해 반응하여 졸상태의 조성물을 제조한 후 이를 상기 기재 상에 코팅하여 60 ℃에서 1분간 용매 건조 후 140 ℃의 대류 오븐에서 3분 동안 젤 반응을 진행하여 굴절율이 1.46이며 두께가 145 ㎚인 제1 코팅층을 형성하였다The first coating layer was subjected to a partial hydrolysis reaction at 25 ° C for 24 hours by adding an acid catalyst to a mixture of organosilane: tetraethoxysilane: ethyl alcohol: distilled water = 1: 6: 7: 2 (weight ratio) The composition was coated on the substrate, dried at 60 ° C for 1 minute, and then subjected to a gel reaction in a convection oven at 140 ° C for 3 minutes to form a first coating layer having a refractive index of 1.46 and a thickness of 145 nm
비교예Comparative Example 2 2
상기 실시예 1에서 제2코팅층의 코팅을 하지 않은 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 투명 전도성 필름을 제조하였다. A transparent conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating of the second coating layer was not performed.
비교예Comparative Example 3 3
상기 실시예 1에서 굴절율이 1.65인 기재를 사용하고 제1 코팅층의 굴절율을 1.80으로 하고 두께를 80nm로 한 것과 제2코팅층의 굴절율을 1.46으로 하고 두께를 80nm로 한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 투명 전도성 필름을 제조하였다. The same as Example 1 except that the base material having a refractive index of 1.65 was used in Example 1, the refractive index of the first coating layer was 1.80, the thickness was 80 nm, the refractive index of the second coating layer was 1.46, and the thickness was 80 nm To prepare a transparent conductive film.
실험예Experimental Example
전광선All light 투과도(% Transmittance (% TtTt ) 값의 측정) Measurement of the value
상기 전광선 투과도(%Tt)는 Total Light of Hazemeter (JIS K 7105)를 사용하여 측정하였으며, 이의 결과를 하기 표 1에 나타내었다. The total light transmittance (% Tt) was measured using a Total Light of Hazemeter (JIS K 7105), and the results are shown in Table 1 below.
b* 값의 측정Measurement of b * value
상기 b* 값은 필름의 옐로우이쉬(yellowish)한 정도를 측정하는 값으로 그 값이 클수록 더욱 노랗게 보이며, 터치패널의 이용에 있어서 그 값이 낮을수록 바람직하다. b*를 측정하기 위하여 SHIMAZU UV-VIS-NIR 분광광도계(spectrophotometer)(UV-3600)을 이용하였으며, 이의 결과를 하기 표 1에 나타내었다. The b * value is a value for measuring the degree of yellowishness of the film. The larger the value is, the more yellow appears, and the lower the value in the use of the touch panel, the better. b * was measured using a SHIMAZU UV-VIS-NIR spectrophotometer (UV-3600). The results are shown in Table 1 below.
상기 표 1에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 실시예 1 내지 실시예 3에 따른 투면 전도성 필름은 88% 이상의 전광선 투과도 및 2.0 이하의 b* 값을 동시에 만족시킴으로써, 우수한 투과도 뿐만 아니라 우수한 색감을 가짐을 알 수 있다.As can be seen from Table 1, the transparent conductive films according to Examples 1 to 3 of the present invention simultaneously satisfy not only transmittance of 88% or more and b * of 2.0 or less, Able to know.
Claims (16)
상기 각 층의 굴절율은 n1≤n3<n2<n4를 만족하며,
상기 기재의 굴절율은 1.4 내지 1.7이고, 상기 기재의 두께는 2 내지 200 ㎛이며, 상기 제1 코팅층의 굴절율은 1.5 내지 2.0이고, 상기 제1 코팅층의 두께는 10 내지 1,000 nm이며, 상기 제2 코팅층의 굴절율은 1.61 내지 1.9이고, 상기 제2 코팅층의 두께는 10 내지 500 nm이며, 상기 전도성 산화물층의 굴절율은 1.9 내지 2.3이고, 상기 전도성 산화물층의 두께는 5 내지 200 nm이며,
전광선 투과도가 88% 이상이고, b*값이 2.0 이하이며,
상기 제1 코팅층, 제2 코팅층 및 전도성 산화물층이 순차적으로 형성된 기재의 면의 다른 방향의 기재의 면에 순차적으로 점착제 및 제2의 기재를 추가로 포함하고, 상기 점착제층은, 탄성 계수가 1 내지 100 Ncm2이며, 두께는 5 내지 100㎛이고, 상기 제2의 기재는 6 내지 3000㎛의 두께를 가지는 플라스틱 필름이거나, 0.05 내지 10 mm의 두께를 가지는 판 유리 또는 플라스틱인 투명 전도성 필름.a first coating layer having a refractive index of n2, a second coating layer having a refractive index of n3, and a conductive oxide layer having a refractive index of n4 in this order,
The refractive index of each layer satisfies n1 < n3 < n2 < n4,
Wherein the refractive index of the substrate is 1.4 to 1.7, the thickness of the substrate is 2 to 200 占 퐉, the refractive index of the first coating layer is 1.5 to 2.0, the thickness of the first coating layer is 10 to 1,000 nm, Wherein the thickness of the second coating layer is from 10 to 500 nm, the refractive index of the conductive oxide layer is from 1.9 to 2.3, the thickness of the conductive oxide layer is from 5 to 200 nm,
A total light transmittance of 88% or more, a b * value of 2.0 or less,
Wherein the pressure-sensitive adhesive layer further comprises a pressure-sensitive adhesive and a second substrate sequentially on the surface of the substrate in the other direction of the surface of the substrate on which the first coating layer, the second coating layer and the conductive oxide layer are sequentially formed, To 100 Ncm < 2 & gt ;, a thickness of 5 to 100 mu m, the second substrate is a plastic film having a thickness of 6 to 3000 mu m, or a plate glass or plastic having a thickness of 0.05 to 10 mm.
여기서, 상기 M은 13족 원소 또는 +3의 산화수를 갖는 전이금속이다. [2] The transparent conductive film according to claim 1, wherein the conductive oxide layer is a ZnO: M thin film doped with ITO or an element M,
Here, M is a Group 13 element or a transition metal having an oxidation number of +3.
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