KR101666309B1 - 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지의 제조방법 - Google Patents
이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101666309B1 KR101666309B1 KR1020150069365A KR20150069365A KR101666309B1 KR 101666309 B1 KR101666309 B1 KR 101666309B1 KR 1020150069365 A KR1020150069365 A KR 1020150069365A KR 20150069365 A KR20150069365 A KR 20150069365A KR 101666309 B1 KR101666309 B1 KR 101666309B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- silicon dioxide
- support layer
- solar cell
- perovskite
- nanoparticles
- Prior art date
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 236
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 title claims abstract description 118
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 118
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 34
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 title 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 title 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 title 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 title 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims abstract description 102
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 17
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 14
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 11
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 9
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 36
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 6
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- OLRBYEHWZZSYQQ-VVDZMTNVSA-N (e)-4-hydroxypent-3-en-2-one;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)O.C\C(O)=C/C(C)=O.C\C(O)=C/C(C)=O OLRBYEHWZZSYQQ-VVDZMTNVSA-N 0.000 description 2
- XDXWNHPWWKGTKO-UHFFFAOYSA-N 207739-72-8 Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N(C=1C=C2C3(C4=CC(=CC=C4C2=CC=1)N(C=1C=CC(OC)=CC=1)C=1C=CC(OC)=CC=1)C1=CC(=CC=C1C1=CC=C(C=C13)N(C=1C=CC(OC)=CC=1)C=1C=CC(OC)=CC=1)N(C=1C=CC(OC)=CC=1)C=1C=CC(OC)=CC=1)C1=CC=C(OC)C=C1 XDXWNHPWWKGTKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- HWSZZLVAJGOAAY-UHFFFAOYSA-L lead(II) chloride Chemical compound Cl[Pb]Cl HWSZZLVAJGOAAY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LLWRXQXPJMPHLR-UHFFFAOYSA-N methylazanium;iodide Chemical compound [I-].[NH3+]C LLWRXQXPJMPHLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- JJWJFWRFHDYQCN-UHFFFAOYSA-J 2-(4-carboxypyridin-2-yl)pyridine-4-carboxylate;ruthenium(2+);tetrabutylazanium;dithiocyanate Chemical compound [Ru+2].[S-]C#N.[S-]C#N.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.OC(=O)C1=CC=NC(C=2N=CC=C(C=2)C([O-])=O)=C1.OC(=O)C1=CC=NC(C=2N=CC=C(C=2)C([O-])=O)=C1 JJWJFWRFHDYQCN-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- UUIMDJFBHNDZOW-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylpyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=N1 UUIMDJFBHNDZOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSHMQTRICHYLGF-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylpyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=NC=C1 YSHMQTRICHYLGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011481 absorbance measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVXCTUSYKCFNMG-UHFFFAOYSA-N aluminum oxygen(2-) zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[Zr+4].[Al+3] HVXCTUSYKCFNMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000001523 electrospinning Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- FTIMWVSQXCWTAW-UHFFFAOYSA-N ruthenium Chemical compound [Ru].[Ru] FTIMWVSQXCWTAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02167—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
- C01G23/04—Oxides; Hydroxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geology (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
Abstract
본 발명은 이산화규소 나노입자를 지지층으로 사용한 페로브스카이트 태양전지의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 기존에 지지층에 사용 되던 산화알루미늄, 이산화티타늄, 산화아연 등이 아닌 이산화규소 나노입자를 처음으로 사용하여 태양전지를 설계한 것 이다.
Description
본 발명은 이산화규소 나노입자를 지지층(scaffold layer)으로 사용한 유-무기 혼성 페로브스카이트 태양전지(organic-inorganic hybrid perovskite solar cell)의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 졸-겔(sol-gel)법을 통해 제조한 이산화규소 나노입자를 용매에 고르게 분산시킨 후 투명 전극 위에 지지층으로 코팅(coating)하는 방법에 관한 것이다. 또한 지지층 내 이산화규소 나노입자의 크기에 따라 달라지는 태양전지 성능변화를 분석하여 최적화된 페로브스카이트 태양전지 설계를 제시한다.
최근 20년간 고체 상태 태양전지(Solid-state sensitized solar cell) 는 장기적인 안정성과 값싼 비용 때문에 매우 흥미로운 연구분야로 자리잡고 있다. 그러나 고체 상태 태양전지의 큰 단점은 낮은 전력변환효율 (power conversion efficiency, PCE) 이다. 이러한 단점을 극복하기 위해서 리튬 염 (lithium salt) 혹은 코발트(Ⅲ) 염 (cobalt salt) 과 같은 첨가제를 홀(hole) 전도체인 spiro-MeOTAD (2,2'7,7'-tetrakis. (N,N-di-p-methoxyphenyl-amine)-9,9'-spirobifluorene)에 도입하였고, 이를 통해 전도성과 전력변환효율(power conversion efficiency, PCE)을 증가시켰다. 또한 4-터트-뷰틸피리딘(4-tert-butylpyridine)을 첨가해 전자와 홀간의 재결합(electron-hole recombination), 표면 결함(surface defect) 비중을 동시에 줄여 개로전압(open-circuit voltage, Voc)을 증가시켰다.
최근 고체 상태 태양전지 분야에서 각광받는 물질은 유-무기 혼성 페로브스카이트다. 페로브스카이트는 태양광 파장범위에서 뛰어난 집광성 능력을 가지고 있기 때문에 태양전지에 적용되면 높은 전력변환효율을 낼 수 있다. 이러한 페로브스카이트의 흡광 계수는 1.5 X 104 cm- 1 으로서 이전에 보고된 루테늄(ruthenium) 기반의 N719 염료 보다 10배 더 높은 수치이다.
이러한 페로브스카이트를 기반으로 한 고효율의 태양전지를 만들기 위해서는 페로브스카이트가지지층으로 쉽게 침투할 수 있어야 하고 페로브스카이트 층의 표면 덮힘(surface coverage)이 좋아야 한다. 이뿐만 아니라 고효율의 태양전지를 위해서는 결정화 온도와 시간 조절을 통해 적절한 표면 형태(surface morphology)의 페로브스카이트 층을 만드는 것이 중요하다.
페로브스카이트 태양전지 지지층에는 이산화티타늄(TiO2), 산화알루미늄(Al2O3), 산화지르코늄(ZrO2), 산화아연(ZnO) 등 다양한 나노재료가 사용될 수 있다. 이들 중 산화알루미늄이나 산화지르코늄의 경우, 두 물질의 전도대(conduction band)가 페로브스카이트의 전도대보다 높기 때문에 태양광에 의해 들뜬(excitation) 페로브스카이트 내 전자(electron)들이 산화알루미늄과 산화지르코늄으로 전달되지 않으나, 이 경우 페로브스카이트가 들뜬 전자를 직접 작업전극으로 전달하게 된다. 이는 페로브스카이트가 태양에너지를 전기에너지로 변환하는 감광제(sensitizer)면서 동시에 전자와 홀을 전달할 수 있는 양극성 전하전달(ambipolar charge transport)물질이기 때문에 가능하다. 따라서, 고효율의 페로브스카이트 태양전지를 제조하기 위해서 페로브스카이트를 지지층 내에 빈틈없이 침투시켜야 전하전달의 저항을 줄일 수 있으며, 페로브스카이트가 잘 침투할 수 있는 페로브스카이트 태양전지 지지층 소재와 제조방법이 강력히 요구되고 있다.
본 발명은 기존 페로브스카이트 태양전지 지지층의 구조를 다양하게 변화시키기 어려웠던 문제를 일거에 해결하기 위한 것으로, 페로브스카이트 태양전지의 설계를 저렴하고 쉬우며, 다양하게 할 수 있도록 하는데 본 발명의 목적이 있다. 또한 본 발명은 페로브스카이트 태양전지 내부의 비효율적인 지지층 구조로 인한 페로브스카이트 침투 방해를 해결하는데 목적이 있다. 그리하여 고효율의 페로브스카이트 태양전지를 만들기 위한 최적화된 구조를 설계한다.
본 발명자들은 수많은 실험과 심도 있는 연구를 거듭한 끝에, 상업적으로 값이 싸며 손쉽게 만들 수 있을 뿐만 아니라 다양한 모양을 만들 수 있는 이산화규소 입자를 지지층에 처음으로 적용하였다. 또한 이산화규소 입자의 크기 조절을 통해 페로브스카이트가 지지층 공간을 모두 채울 수 있도록 설계하였다. 그리하여 기존 페로브스카이트 태양전지에 비해 페로브스카이트 침투량과 개로 전압 및 전력변환효율이 현저히 향상된 것을 발견하고 본 발명에 이르게 되었다.
페로브스카이트 태양전지 지지층에 일반적으로 사용되었던 산화알루미늄의 전기적 거동에 기초하여 이와 비슷한 전도대를 가지고 페로브스카이트 태양전지에서 전기적 거동이 산화알루미늄과 비슷할 것으로 예상되는 이산화규소 나노입자를 지지층에 도입한다.
또한 지지층으로 페로브스카이트의 침투를 최대화하기 위해 이산화규소 나노입자 크기를 조절하여 침투를 더 용이하게 한다. 이를 통해 지지층 내부를 페로브스카이트로 빈 공간 없이 채워 빈 공간 때문에 생기는 전기적 저항을 줄이고 더 높은 전력변환효율을 나타내는 페로브스카이트 태양전지를 설계한다.
본 발명의 이산화규소 나노입자를 페로브스카이트 태양전지의 지지층으로 도입한 결과 산화알루미늄을 사용했을 때와 비슷한 개로전압과 단락전류밀도(short circuit current density, Jsc) 및 전력변환효율을 달성하였다. 즉 이산화규소로 대체하여도 기존 성능을 유지할 수 있었으며 나아가 모양 변화, 크기변화, 구조변화 등 보다 더 다양한 시도를 할 수 있는 가능성을 가진다.
본 발명의 15 nm ~ 1000 nm 로 크기 조절된 이산화규소 나노입자를 페로브스카이트의 지지층으로 구성할 때 입자크기에 따라 입자 간 공간의 크기가 다르며, 50 nm 이상 입자로 지지층을 구성할 때 빈틈없이 페로브스카이트를 침투시킬 수 있었다. 또한 50 nm 미만의 입자들로 지지층을 구성한 것과 비교하여 더 높은 흡광도가 나타났으며, 이를 통해 개로전압과 충전률(fill factor) 및 전력변환효율이 향상되었다.
본 발명은 제조한 이산화규소 나노입자 및/또는 이산화규소 전구체를 용매와 균일하게 혼합하는 단계;
상기 혼합 용액을 이산화티타늄 장벽층이 코팅된 전극 위에 코팅하는 단계;
혼합 용액이 코팅된 전극을 어닐링하여 이산화규소 나노입자 지지층을 형성하는 단계를 포함하는 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지의 제조방법을 나타낸다.
본 발명은 페로브스카이트 태양전지 지지층에 일반적으로 사용되는 산화알루미늄 나노입자를 이산화규소 나노입자로 대체하여 저렴하고 쉬우며 다양하게 지지층을 설계할 수 있는 페로브스카이트 태양전지 제작방법을 나타낸다. 또한 이산화규소 입자크기 조절을 통해 페로브스카이트 용액의 침투를 보다 더 용이하게 하여 고효율의 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 제조한다.
본 발명에 사용되는 이산화규소 나노입자를 졸-겔법을 이용하여 15 nm ~ 1000 nm 크기로 균일하게 제조하였다. 탄소수 1 ~ 10 개의 알코올과 증류수를 용매로 섞고, 촉매인 암모니아수를 첨가하였다. 그 다음에 이산화규소 전구체(precursor)인 테트라에틸 오소실리케이트(tetraethyl orthesilicate, TEOS)를 첨가하고 이 용액을 자기교반봉(magnetic bar)을 이용해 상온에서 교반(stirring)시킨다. 이 때 용액의 온도 조절을 통해 이산화규소 입자 크기를 조절할 수 있다.반응이 끝난 용액을 상온까지 냉각시킨 후 이산화규소 나노입자를 침전 및/또는 원심분리기(centrifuge)를 이용하여 얻은 후 25 ℃ ~ 150 ℃ 의 온도에서 상기 용매가 없어질 때까지 완전히 건조할 수 있다.
본 발명은 상기에서 언급한 방법에 의해 이산화규소 나노입자를 제조하여 이를 지지층에 도입한 페로브스카이트 태양전지를 포함한다.
상기에서 페로브스카이트 태양전지는 불소(Fluorine) 혹은 인듐(Indium)이 도핑(doping)된 이산화주석(SnO2) 전극(Fluorine-doped tin oxide, FTO or Indium-doped tin oxide, ITO)위에 이산화티타늄 장벽층(blocking layer)을 스핀 코팅하여 전극과 홀 전달 물질(hole transfer material)간의 직접적인 접촉을 막는 구조의 광전극을 구비할 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소 나노입자는 용매와 혼합하여 균일하게 분산시킨 후 이산화규소 질량을 용매의 부피로 나누어 농도를 결정한다. 이 용액을 이산화티타늄 장벽층 위에 코팅하여 페로브스카이트 지지층이 포함된 광전극을 구비할 수 있다.
상기에서 용매 및 용매에 혼합된 원료물질을 100 RPM ~ 1000 RPM 으로 30분 ~ 24시간 동안 교반 및/또는 50 ~ 100 kHz의 주파수를 발산할 수 있는 초음파 진동장치를 이용하여 균일한 조성이 되도록 혼합할 수 있다.
상기 용매의 일예로 메탄올(methanol)을 사용할 수 있다
상기 용매의 일예로 에탄올(ethanol)을 사용할 수 있다.
상기 용매의 일예로 프로판올(propanol)을 사용할 수 있다.
상기 용매의 일예로 아세톤(acetone)을 사용할 수 있다.
상기 용매의 일예로 물(water)을 사용할 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소 나노입자 대신 이산화규소 전구체 용액을 만들 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소 전구체 용액을 장벽층위에 코팅한 후 졸-겔법으로 이산화규소층(layer)을 만들 수 있다.
상기에서 언급한 페로브스카이트 태양전지 지지층에 구성되는 이산화규소 나노 입자의 크기는 15 nm ~ 1000 nm 이다.
상기에서 언급한 이산화규소 용액의 코팅은 딥 코팅(dip coating), 스핀 코팅(spin coating), 드랍캐스팅(drop casting), 화학증착 (chemical vapor deposition, CVD), 전기 방사(electro spinning)를 사용할 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소 용액의 스핀 코팅은 100 rpm ~ 10000 rpm 속도로 실시 할 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소 용액의 스핀 코팅은 1회 ~ 5회까지 실시 할 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소 용액 층의 두께는 50 nm ~ 1000 nm 로 조절 할 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소 용액의 농도는 0.01 mg/mL ~ 0.3 g/mL 농도로 희석 할 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소는 구형 나노입자로 합성할 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소는 중공 구형 나노입자로 합성할 수 있다
상기에서 언급한 이산화규소는 이중 중공 나노입자로 합성할 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소는 구멍(pore) 크기를 1 nm ~ 50 nm 로 하는 다공성 구형 나노입자로 합성 할 수 있다.
상기에서 언급한 이산화규소는 종횡비(aspect ratio) 가 1:1 ~ 1:50 인 막대(rod) 형태로 합성할 수 있다.
상기에서 언급한 지지층은 스핀 코팅 후 용매의 증발과 유기물의 제거 및 구조의 긴밀함을 위해 탄화로에서 고온으로 어닐링(annealing) 하여 불순물이 없는 광전극을 구비할 수 있다.
상기에서 언급한 어닐링의 온도는 100 ℃ ~ 1000 ℃ 로 설정 할 수 있다.
상기에서 언급한 페로브스카이트 태양전지는 유기물, 무기물, 할로겐 원소로 이루어진 페로브스카이트 구조체를 감광제로 사용하였고 이는 메틸암모늄 아이오다이드(CH3NH2I)와 염화납(PbCl2) 또는 요오드화납(PbI2)을 특정 몰 비로 반응시켜 얻을 수 있다.
상기에서 언급한 페로브스카이트 태양전지의 감광제는 메틸암모늄 아이오다이드(CH3NH2I)와 염화납(PbCl2) 또는 요오드화납(PbI2)을 다이메틸포름아마이드(dimethylformamide, DMF) 혹은 다이메틸설폭사이드(dimethyl sulfoxide, DMSO)와 같은 용매에 혼합하여 전구체 용액을 만들수 있으며, 이를 회전속도와 시간을 변수로 페로브스카이트 태양전지의 지지층 위에 스핀 코팅하여 페로브스카이트 전구체 용액층이 코팅된 광전극을 구비할 수 있다.
상기에서 언급한 전구체 용액을 80 ℃ ~ 150 ℃ 온도에서 어닐링 시켜주어 페로브스카이트 감광제 층이 생성된 광전극을 구비할 수 있다.
상기에서 언급한 페로브스카이트 태양전지의 감광제 층 위로 홀 전달 물질을 회전속도와 시간을 변수로 스핀 코팅하여 홀 전달이 용이한 광전극을 구비할 수 있다.
상기에서 언급한 페로브스카이트 태양전지의 홀 전달 층 위로 금 또는 은을 진공 증착해 전류가 흐르는 광전극을 구비할 수 있다.
본 발명의 페로브스카이트 태양전지 제조방법에 대해 다양한 조건으로 실시한 바, 본 발명의 목적을 달성하기 위해서는 상기에서 언급한 조건에 의해 페로브스카이트 태양전지의 구조 및 이의 설계 방법을 제공하는 것이 바람직하다.
이하 본 발명의 내용을 실시예를 통하여 구체적으로 설명한다. 그러나, 이들은 본 발명을 보다상세하게 설명하기 위한 일 예로서 본 발명의 권리범위가 이들에 의해 한정되는 것은 아니다.
본 발명은 이산화규소 나노입자를 지지층에 도입한 페로브스카이트 태양전지 제조방법을 나타낸다. 먼저 불소가 도핑된 이산화주석 전극을 초음파 분해기를 통해 세척해준다. 순서는 증류수, 아세톤 및 2-프로판올(2-propanol) 순으로 각각 60분 동안 세척한다.
이후 홀 전달 물질이 직접적으로 전극과 접촉하지 않도록 장벽층을 전극 위에 코팅한다. 부탄올(butanol)을 용매로 한 0.15M 의 티타늄 다이아이소프로폭사이드 비스아세틸아세토네이트 (titanium diisopropoxide bis(acetylacetonate)) 용액을 전극 위에 2500 rpm 으로 스핀 코팅하고 이 후 125 ℃ 에서 5분간 건조시켜준다. 이후 0.3 M 농도의 티타늄 다이아이소프로폭사이드 비스아세틸아세토네이트(titanium diisopropoxide bis(acetylacetonate)) 용액을 그 위에 2500 RPM으로 두번 스핀 코팅 한다. 이 후 450 ℃ 온도에서 30분간 어닐링을 한다.
장벽층 위로 200 nm 두께의 지지층을 스핀 코팅한다. 이산화규소 나노입자를 지지층으로 사용할 경우, 에탄올을 용매로 하여 0.01 g/mL 농도의 50 nm 이산화규소 나노입자 용액을 혼합하고 이 용액을 장벽층위에 떨어뜨린 후 5000 RPM 으로 스핀코팅 한다.
지지층 위로 페로브스카이트 전구체 용액을 3000 RPM 속도로 5분간 스핀 코팅 한다. 이 후 100 ℃ 에서 60분간 어닐링 시켜 페로브스카이트 감광제 층을 생성한다.
페로브스카이트 감광제 층 위로 홀 전달 물질을 3000 rpm 속도로 45초간 스핀 코팅 한다. 클로로벤젠(chlorobenzene) 용액(72.3 mg/mL Spiro-OMeTAD)과 28.8 μL 의 터트-뷰틸피리딘 (butylpyridine)을 혼합하고 520 mg 의 리튬 비스(트라이플루오로메틸시포닐)이미드 (lithium bis(trifluoromethylsyfonyl)imide))와 1mL 의 아세토나이트릴(acetonitrile)이 혼합된 용액 17.5 μL 를 첨가하여 홀 전달 물질을 만들 수 있다
홀 전달 물질 층 위로 70nm 두께의 금 층을 진공 증착하여 전류가 흐르는 광전극을 제조한다.
메탄올을 용매로 혼합한 이산화규소 나노입자 용액을 지지층으로 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
에탄올을 용매로 혼합한 이산화규소 나노입자 용액을 지지층으로 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
아세톤을 용매로 혼합한 이산화규소 나노입자 용액을 지지층으로 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
프로판올을 용매로 혼합한 이산화규소 나노입자 용액을 지지층으로 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
물을 용매로 혼합한 이산화규소 나노입자 용액을 지지층으로 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
15 nm 크기의 이산화규소 나노 입자 용액을 지지층에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
30 nm 크기의 이산화규소 나노 입자 용액을 지지층에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
75 nm 크기의 이산화규소 나노 입자 용액을 지지층에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
100 nm 크기의 이산화규소 나노 입자 용액을 지지층에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
250 nm 크기의 이산화규소 나노 입자 용액을 지지층에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
500 nm 크기의 이산화규소 나노 입자 용액을 지지층에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
1000 nm 크기의 이산화규소 나노 입자 용액을 지지층에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
이산화규소 나노입자 용액의 농도를 0.01 mg/mL 로 희석하여 지지층에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다
10000 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 50 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
8000 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 15와 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
8000 RPM 으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 100 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
5000 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 14와 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
5000 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 150 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
2000 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 14와 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
2000 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 250 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
100 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 14와 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
100 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 500 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
이산화규소 나노입자 용액의 농도를 1 mg/mL 로 희석하여 지지층에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다
10000 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 80 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
5000 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 19와 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
5000 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 150 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
2000 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 19와 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
2000 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 300 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
100 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 19와 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
100 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 700 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
이산화규소 나노입자 용액의 농도를 0.3 g/mL 로 희석하여 지지층에 코팅한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다
10000 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 100 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
7000 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 23과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
7000 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 150 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
5000 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 23과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
5000 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 350 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
2000 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 23과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
2000 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 600 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
100 RPM으로 45초간 스핀 코팅한 것을 제외하고는 실시예 23과 동일한 방법을 이용해 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
100 RPM으로 45초간 스핀 코팅 한 결과 1000 nm 두께의 지지층이 코팅 되었다.
이산화티타늄 나노입자를 지지층으로 사용하는 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법을 이용해 이산화티타늄 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지를 조립하였다.
이산화티타늄을 나노입자는 상업용 이산화티타늄 페이스트(Paste, Dyesol 18NR-T)를 사용하였고 이를 터피놀(terpineol)에 1:2 질량 비율로 분산시킨 후 사용하였다.
상기 실시예 1 및 실시예 7 내지 10의 과정을 통해 조립한 페로브스카이트 태양전지의 측면을 주사전자현미경으로 관찰 하였고 그 결과를 도 1에 나타내었다.
도 1 에서처럼, 페로브스카이트 태양전지 전체 두께는 약 1000 nm 정도이며, 50nm 이산화규소 구형 나노입자를 지지층으로 사용했을 경우 지지층 내 빈 공간이 최소화 되었다. 15 nm, 30 nm 70 nm, 100 nm 로 지지층을 구성했을 경우 지지층 내 페로브스카이트가 침투하지 못한 공간들이 많이 관찰되었다.
상기 실시예 1 및 7 내지 10 에서 사용한 15 nm ~ 100 nm 이산화규소 구형 나노 입자를 지지층으로 사용하는 페로브스카이트 층의 흡광도 측정을 350 nm 부터 900 nm 파장 범위에서 측정하였고 그 결과를 도 2에 나타내었다.
도 2의 (a)에서, 450 nm ~ 900 nm 파장에서 이산화규소 나노입자의 크기가 커질수록 흡광도가 높아졌으며 300 nm ~ 450 nm 파장에서는 50 nm, 70 nm, 100 nm 크기 순으로 높은 흡광도를 나타냈다. 15nm 와 30 nm 의 경우는 파장 전 범위에서 낮은 흡광도가 나타났다. 이는 도 2의 (b) 에서, 50 nm 미만의 나노입자로 지지층을 구성할 경우 입자간 공간이 좁은 나머지 페로브스카이트가 지지층 내로 완전히 침투할 수 없게 되고, 따라서 빛의 흡광도 또한 낮아진다.
상기의 실시예 1 및 실시예 7 내지 실시예 10 에서 제조한 각각의 이산화규소 나노입자를 페로브스카이트 태양전지의 지지층으로 사용하여 단락전류밀도, 개로전압, 충전률 및 전력변환효율을 측정하고 이들의 결과를 도 3에 나타내었다.
도 3 에서처럼, 페로브스카이트 태양전지 지지층의 이산화규소 나노입자의 크기가 15 nm 에서 50 nm 로 커질수록 단락전류밀도, 개로전압, 충전률 및 전력변환효율이 증가한다. 하지만 나노입자의 크기가 50 nm 에서 100 nm 로 커질 때 단락전류밀도, 개로전압, 충전률 및 전력변환효율은 반대로 감소한다. 이는 실시예 30 의 결과와 마찬가지로 페로브스카이트의 침투가 50 nm 에서 최적화 되어 지지층을 빈 공간 없이 채웠기 때문이다.
상기 실시예 1 및 실시예 28 에서 제조한 페로브스카이트 태양전지의 성능을 측정하여 전류밀도-전압 그래프로 분석하였고 그 결과를 도 4에 나타내었다.
도 4 에서처럼, 이산화규소 나노입자를 지지층으로 사용한 페로브스카이트 태양전지는 이산화티타늄을 지지층으로 사용한 페로브스카이트 태양전지의 효율인 10.29 %에 비해 1.16% 더 증가한 11.45 % 로서, 더욱더 우수한 전력변환효율을 나타냈으며, 개로전압 또한 0.94 V에서 1.05 V로 증가했음을 확인하였다. 그 이유는 첫째, 이산화규소의 전도대가 이산화티타늄의 전도대 보다 더 높기 때문이며 둘째, 지지층을 구성하는 나노입자의 크기 조절을 통해 페로브스카이트의 침투를 최대화 시켰고, 이를 통해 전하 전달을 방해하는 전기적 저항을 줄였기 때문이다.
상기 실시예 1 및 실시예 28 에서 제조한 이산화규소, 이산화티타늄 나노입자를 지지층으로 각각 사용했을 때, 각각의 지지층 위에 코팅된 페로브스카이트 층의 발광 스펙트럼을 측정하였다. 525 nm 파장의 여기 하에서 측정하였고 그 범위는 600 nm 부터 850 nm 파장이며, 그 결과를 도 5에 나타내었다.
도 5에서는 725 nm 부터 825 nm 발광하는 것을 알 수 있고 775 nm 전후 영역에서 가장 높음을 알 수 있다. 또한 이산화규소 나노입자를 지지층으로 사용했을 때 이산화티타늄 나노입자를 지지층으로 사용했을 때 보다 발광 강도가 더 높음을 확인 할 수 있었다.
도 6에서 나타나듯이 페로브스카이트보다 더 높은 전도대를 가지는 이산화규소로 지지층을 구성한 페로브스카이트 태양전지의 경우, 태양광에 의해 들뜬 페로브스카이트 내 전자가 지지층으로 전달되지 못하여 발광 강도가 강하고 이는 페로브스카이트가 들뜬 전자를 직접 작업전극으로 전달한다는 것을 나타낸다. 반대로 페로브스카이트보다 전도대가 더 낮은 이산화티타늄으로 지지층을 구성한 경우, 페로브스카이트 내 들뜬 전자는 이산화티타늄으로 전달되고 이 때문에 발광 강도가 더 약한 것을 알 수 있다.
없음
Claims (12)
- 제조한 이산화규소 나노입자 및/또는 이산화규소 전구체를 용매와 균일하게 혼합하는 단계;
상기 혼합 용액을 이산화티타늄 장벽층이 코팅된 전극 위에 코팅하는 단계;
혼합 용액이 코팅된 전극을 어닐링하여 이산화규소 나노입자 지지층을 형성하는 단계를 포함하는 15 nm ~ 1000 nm 크기의 이산화규소 중공 구형 나노입자를 지지층으로 도입하는 페로브스카이트 태양전지의 제조방법. - 제조한 이산화규소 나노입자 및/또는 이산화규소 전구체를 용매와 균일하게 혼합하는 단계;
상기 혼합 용액을 이산화티타늄 장벽층이 코팅된 전극 위에 코팅하는 단계;
혼합 용액이 코팅된 전극을 어닐링하여 이산화규소 나노입자 지지층을 형성하는 단계를 포함하는 15 nm ~ 1000 nm 크기의 이산화규소 이중 중공 구형 나노입자를 지지층으로 하는 페로브스카이트 태양전지의 제조방법. - 제조한 이산화규소 나노입자 및/또는 이산화규소 전구체를 용매와 균일하게 혼합하는 단계;
상기 혼합 용액을 이산화티타늄 장벽층이 코팅된 전극 위에 코팅하는 단계;
혼합 용액이 코팅된 전극을 어닐링하여 이산화규소 나노입자 지지층을 형성하는 단계를 포함하는 구멍 크기가 1 nm ~ 50 nm 이며 입자의 크기가 15 nm ~ 1000 nm 인 다공성 구형 나노입자를 지지층으로 도입하는 페로브스카이트 태양전지의 제조방법. - 제조한 이산화규소 나노입자 및/또는 이산화규소 전구체를 용매와 균일하게 혼합하는 단계;
상기 혼합 용액을 이산화티타늄 장벽층이 코팅된 전극 위에 코팅하는 단계;
혼합 용액이 코팅된 전극을 어닐링하여 이산화규소 나노입자 지지층을 형성하는 단계를 포함하는 종횡비(aspect ratio) 가 1:1 ~ 1:50 인 막대(rod) 형태의 이산화규소 입자를 지지층으로 도입하는 페로브스카이트 태양전지의 제조방법. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150069365A KR101666309B1 (ko) | 2015-05-19 | 2015-05-19 | 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150069365A KR101666309B1 (ko) | 2015-05-19 | 2015-05-19 | 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR101666309B1 true KR101666309B1 (ko) | 2016-10-13 |
Family
ID=57173941
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150069365A KR101666309B1 (ko) | 2015-05-19 | 2015-05-19 | 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101666309B1 (ko) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108319077A (zh) * | 2018-02-08 | 2018-07-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 量子点增强膜及其制备方法、量子点背光模组及显示装置 |
KR102106643B1 (ko) * | 2019-03-20 | 2020-05-04 | 한국전력공사 | 페로브스카이트 태양전지의 제조 방법 및 이를 이용한 페로브스카이트 태양전지 |
KR102108141B1 (ko) | 2019-05-03 | 2020-05-11 | (주)울텍 | 페로브스카이트 태양전지 및 그 제조방법 |
US10914886B2 (en) | 2018-02-08 | 2021-02-09 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Quantum dot enhancement film and manufacturing method thereof, quantum dot backlight module and display device |
KR20230100157A (ko) | 2021-12-28 | 2023-07-05 | 주식회사 메카로에너지 | 에너지 전환효율이 향상된 페로브스카이트 태양전지 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070102268A (ko) * | 2006-04-14 | 2007-10-18 | 한국전자통신연구원 | 산화물 광산란 입자를 포함하는 투명한 반도체 전극 및이를 이용한 염료감응 태양전지 |
KR20090032565A (ko) * | 2007-09-28 | 2009-04-01 | 한국전력공사 | 투명 태양전지의 전극 지지체로 사용되는 티타늄 산화물에어로젤 박막 또는 후막의 제조방법 |
KR20110074661A (ko) * | 2009-12-25 | 2011-07-01 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전극 기판 및 광전 변환 소자 |
-
2015
- 2015-05-19 KR KR1020150069365A patent/KR101666309B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070102268A (ko) * | 2006-04-14 | 2007-10-18 | 한국전자통신연구원 | 산화물 광산란 입자를 포함하는 투명한 반도체 전극 및이를 이용한 염료감응 태양전지 |
KR20090032565A (ko) * | 2007-09-28 | 2009-04-01 | 한국전력공사 | 투명 태양전지의 전극 지지체로 사용되는 티타늄 산화물에어로젤 박막 또는 후막의 제조방법 |
KR20110074661A (ko) * | 2009-12-25 | 2011-07-01 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전극 기판 및 광전 변환 소자 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
W. ZHANG ET AL. / HIGHLY EFFICIENT PEROVSKITE SOLAR CELLS WITH TUNABLE STRUCTURAL COLOR * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108319077A (zh) * | 2018-02-08 | 2018-07-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 量子点增强膜及其制备方法、量子点背光模组及显示装置 |
WO2019153437A1 (zh) * | 2018-02-08 | 2019-08-15 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 量子点增强膜及其制备方法、量子点背光模组及显示装置 |
US10914886B2 (en) | 2018-02-08 | 2021-02-09 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Quantum dot enhancement film and manufacturing method thereof, quantum dot backlight module and display device |
KR102106643B1 (ko) * | 2019-03-20 | 2020-05-04 | 한국전력공사 | 페로브스카이트 태양전지의 제조 방법 및 이를 이용한 페로브스카이트 태양전지 |
KR102108141B1 (ko) | 2019-05-03 | 2020-05-11 | (주)울텍 | 페로브스카이트 태양전지 및 그 제조방법 |
KR20230100157A (ko) | 2021-12-28 | 2023-07-05 | 주식회사 메카로에너지 | 에너지 전환효율이 향상된 페로브스카이트 태양전지 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7245527B2 (ja) | 光電子素子 | |
Liu et al. | Efficient carbon-based CsPbBr 3 inorganic perovskite solar cells by using Cu-phthalocyanine as hole transport material | |
Chen et al. | Solvent‐Assisted Low‐Temperature Crystallization of SnO2 Electron‐Transfer Layer for High‐Efficiency Planar Perovskite Solar Cells | |
US11217751B2 (en) | Crystal control and stability for high-performance perovskite solar cell | |
Mali et al. | In situ processed gold nanoparticle-embedded TiO 2 nanofibers enabling plasmonic perovskite solar cells to exceed 14% conversion efficiency | |
Xie et al. | Enhanced performance of perovskite CH3NH3PbI3 solar cell by using CH3NH3I as additive in sequential deposition | |
Zhang et al. | Simple route to interconnected, hierarchically structured, porous Zn2SnO4 nanospheres as electron transport layer for efficient perovskite solar cells | |
Huangfu et al. | Copper iodide as inorganic hole conductor for perovskite solar cells with different thickness of mesoporous layer and hole transport layer | |
JP2022140595A (ja) | 混合アニオンを有する有機金属ペロブスカイトを有する光電子デバイス | |
Hou et al. | Efficient quasi-mesoscopic perovskite solar cells using Li-doped hierarchical TiO2 as scaffold of scattered distribution | |
US20160086739A1 (en) | High performance perovskite-sensitized mesoscopic solar cells | |
KR101666309B1 (ko) | 이산화규소 나노입자 지지층 페로브스카이트 태양전지의 제조방법 | |
KR20200020435A (ko) | 광전변환효율 및 장기안정성이 향상된 페로브스카이트 태양전지 및 이의 제조 방법 | |
Bai et al. | Cubic: Column composite structure (NH2CH= NH2) x (CH3NH3) 1-xPbI3 for efficient hole-transport material-free and insulation layer free perovskite solar cells with high stability | |
Zhang et al. | High consistency perovskite solar cell with a consecutive compact and mesoporous TiO2 film by one-step spin-coating | |
EP3051600A1 (en) | Heterojunction device | |
Khan et al. | Multi-dimensional anatase TiO2 materials: Synthesis and their application as efficient charge transporter in perovskite solar cells | |
EP2804232A1 (en) | High performance perovskite-sensitized mesoscopic solar cells | |
Fu et al. | Bismuth Telluride Interlayer for All‐Inorganic Perovskite Solar Cells with Enhanced Efficiency and Stability | |
KR20180122706A (ko) | 고효율 대면적 페로브스카이트 태양광 전지 및 이를 제조하기 위한 공정 | |
Yin et al. | A Cu 3 PS 4 nanoparticle hole selective layer for efficient inverted perovskite solar cells | |
Barichello et al. | The effect of water in Carbon-Perovskite Solar Cells with optimized alumina spacer | |
Duan et al. | Surface modification of SnO2 blocking layers for hysteresis elimination of MAPbI3 photovoltaics | |
Hu et al. | Enhanced performance of hole-conductor-free perovskite solar cells by utilization of core/shell-structured β-NaYF4: Yb3+, Er3+@ SiO2 nanoparticles in ambient air | |
WO2019182058A1 (ja) | Sn系ペロブスカイト層及び太陽電池の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191001 Year of fee payment: 4 |