KR101665186B1 - Base material having surface-treating coat and preparing method of the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 표면처리 피막을 적용한 기재 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 3차원 표면 패턴을 갖는 기재에 폴리실라잔을 포함하는 표면처리 피막을 적용함으로써 우수한 내오염성, 내후성 및 내화학성을 구현한 기재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate to which a surface treated film is applied and a method for producing the same, and more particularly to a surface treated film comprising a polysilazane on a substrate having a three-dimensional surface pattern to provide excellent stain resistance, weather resistance, And a method for producing the same.

Description

표면처리 피막을 적용한 기재 및 이의 제조방법{BASE MATERIAL HAVING SURFACE-TREATING COAT AND PREPARING METHOD OF THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a base material to which a surface treated film is applied, and a method of manufacturing the same. BACKGROUND ART [0002]

본 발명은 표면처리 피막을 적용한 기재 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 3차원 표면 패턴을 갖는 기재에 폴리실라잔을 포함하는 표면처리 피막을 적용함으로써 우수한 내오염성, 내후성 및 내화학성을 구현한 기재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a substrate to which a surface treated film is applied and a method for producing the same, and more particularly to a surface treated film comprising a polysilazane on a substrate having a three-dimensional surface pattern to provide excellent stain resistance, weather resistance, And a method for producing the same.

고분자 복합재료를 원료로 하는 기재는 전자기기, 가구제품, 선박, 자동차, 판넬 제품 등의 외장재로 주로 사용되고 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION [0002] A substrate made of a polymer composite material is mainly used as an exterior material for electronic devices, household products, ships, automobiles, and panel products.

이 중, 현재 전자기기나 가구제품의 외장재는 다양한 디자인이 적용되고 있으나, 대부분 평면 형태를 가지고 있다.Of these, the exterior materials of electronic appliances and furniture products have various designs, but most of them have a flat shape.

최근에는 이러한 평면 형태를 탈피하여, 3차원 표면 패턴을 갖는 형태를 기재에 적용하려는 많은 연구가 이루어지고 있다.In recent years, many studies have been made to apply such a planar shape to a substrate having a three-dimensional surface pattern.

한편, 전자기기 외장, 자동차 외장 등의 표면을 보호하는 동시에 외관을 유지하기 위해 증착에 의한 유리막 코팅, 무기 코팅, 폴리실라잔을 사용한 유리막 코팅같은 유리막의 적용이 증대되고 있는 추세이다.On the other hand, the application of a glass film such as a glass film coating by vapor deposition, an inorganic coating, and a glass film coating by using polysilazane is increasing to protect the surface of an electronic device exterior and automobile exterior, and to maintain the appearance.

기존에는 대전방지의 목적으로 폴리우레탄 코팅을 기재에 적용한 예가 다수였으나, 폴리우레탄 코팅의 경우 스크래치에 취약하고, 변색이 잘 되는 단점이 있었다.Conventionally, polyurethane coatings have been applied to substrates for the purpose of preventing electrification. However, polyurethane coatings are vulnerable to scratches and have a disadvantage of discoloration.

따라서 폴리우레탄 코팅의 단점을 해결하고, 특히 3차원 표면 패턴을 갖는 기재에 적용함으로써 우수한 내오염성, 내후성 및 내화학성을 구현한 기재 및 이의 제조방법이 필요한 실정이었다.
Accordingly, there is a need for a base material and a method for producing the base material that have excellent stain resistance, weather resistance, and chemical resistance by solving the drawbacks of the polyurethane coating and especially applying it to a substrate having a three-dimensional surface pattern.

본 발명의 목적은 3차원 표면 패턴을 갖는 기재에 폴리실라잔을 포함하는 표면처리 피막을 적용함으로써 우수한 내오염성, 내후성 및 내화학성을 구현한 기재를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a base material that realizes excellent stain resistance, weather resistance, and chemical resistance by applying a surface treated film containing polysilazane to a base material having a three-dimensional surface pattern.

본 발명의 다른 목적은 상기 기재를 제공하기 위한 최선의 제조방법을 제공하는 것이다.
Another object of the present invention is to provide a best manufacturing method for providing the substrate.

상기 하나의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재는, 상기 표면처리 피막이 폴리실라잔을 포함하는 것을 특징으로 한다.
In order to achieve the above-described object, a substrate to which a surface treatment film according to an embodiment of the present invention is applied is characterized in that the surface treatment film comprises polysilazane.

상기 하나의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재의 제조방법은 기재 표면에 (a) 성형면에 NC(numerical control) 가공을 적용하여 상기 성형면에 1mm 이상의 두께를 갖는 3차원 패턴이 형성된 금속 재질의 몰드를 사용하여, 1mm 이상의 두께를 갖는 3차원 표면 패턴이 형성된 기재를 준비하는 단계; (b) 상기 기재의 표면에 폴리실라잔을 도포하여 폴리실라잔 피막을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 폴리실라잔 피막이 형성된 기재를 가열하여 상기 폴리실라잔 피막을 실리카층으로 전화시키는 단계;를 포함할 수 있다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a substrate to which a surface treatment film according to another embodiment of the present invention is applied, comprising the steps of: (a) applying NC (numerical control) Preparing a substrate on which a three-dimensional surface pattern having a thickness of 1 mm or more is formed using a metal mold having a three-dimensional pattern having a thickness; (b) applying a polysilazane to the surface of the substrate to form a polysilazane coating film; And (c) heating the substrate having the polysilazane coating film formed thereon to convert the polysilazane coating film into a silica layer.

본 발명에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재는 내오염성, 내후성 및 내화학성이 우수하다는 효과가 있다.
The substrate to which the surface treated coating according to the present invention is applied has the effect of being excellent in stain resistance, weather resistance and chemical resistance.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but is capable of many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

이하 본 발명에 실시예에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재 및 이의 제조방법에 관하여 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, a substrate to which a surface treated film according to an embodiment of the present invention is applied and a method for producing the same will be described in detail.

표면처리 피막을 적용한 기재A substrate to which a surface treatment film is applied

본 발명의 실시예에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재는, 상기 표면처리 피막이 폴리실라잔을 포함할 수 있다.
In the substrate to which the surface treatment film according to the embodiment of the present invention is applied, the surface treatment film may include polysilazane.

상기 폴리실라잔은 분자 내에 Si-N(규소-질소) 결합이 반복된 중합체이며, 실리카로의 전화(轉化)가 용이하다면 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 일반적으로 Si-N(규소-질소) 결합에서 Si 원자에 두 개의 수소 원자가 결합되어 있으며 실리카로의 전화가 용이하다.The polysilazane is a polymer in which Si-N (silicon-nitrogen) bonds are repeated in the molecule, and the kind thereof is not particularly limited as long as it can be easily converted into silica. Generally, two hydrogen atoms are bonded to a Si atom in Si-N (silicon-nitrogen) bond and it is easy to call silica.

이러한 폴리실라잔의 분자 구조로는 직쇄상, 분기된 직쇄상, 분기상, 환상, 가교 구조를 갖는 것, 또는 분자 내에 이들 복수의 구조를 동시에 갖는 것이 있다. 본 발명에 있어서는 이들을 단독으로 또는 혼합물로 사용할 수 있다. The molecular structure of such polysilazane includes linear, branched, linear, branched, cyclic, and bridged structures, or those having both structures in the molecule at the same time. In the present invention, these may be used singly or as a mixture.

이들 폴리실라잔의 대표예로는 하기 화학식(1)로 표시되는 실라잔 단위를 반복 단위로 하는 중합체 등이 있다. 여기에서 중합체는 올리고머도 포함한다.Typical examples of these polysilazanes are polymers having a repeating unit of a silazane unit represented by the following formula (1). Here, the polymer also includes an oligomer.

화학식(1)(1)

Figure 112014085289089-pat00001
Figure 112014085289089-pat00001

상기 식에서, R1, R2 및 R3는 수소 원자 또는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기와 같은 탄소 원자 수 1~8의 알킬기이다.Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group.

실리카로의 전화 용이성의 점에서, R1, R2가 모두 수소 원자인 단위를 함유하는 것이 바람직하고, 분자 중의 R1, R2가 모두 수소 원자인 것, 특히 R1, R2 및 R3가 모두 수소 원자인 것이 보다 바람직하다. In terms of ease of telephone with silica, R 1, R 2 is one of both is preferred, and the R 1, R 2 in the molecule hydrogen atom containing units is a hydrogen atom, in particular R 1, R 2 And R < 3 > are both hydrogen atoms.

한편, R1, R2 및 R3가 모두 수소 원자인 폴리실라잔은 하기 화학식(2)로 표시되는 반복 단위를 가지며, 퍼하이드로폴리실라잔으로 칭해진다.On the other hand, R 1 and R 2 And R 3 are all hydrogen atoms have a repeating unit represented by the following formula (2) and are referred to as perhydropolysilazane.

화학식(2)(2)

Figure 112014085289089-pat00002
Figure 112014085289089-pat00002

퍼하이드로폴리실라잔은 하기 화학식(3)으로 표시되는 화학 구조 부분을 갖는다.The perhydro polysilazane has a chemical structural moiety represented by the following formula (3).

화학식(3)(3)

Figure 112014085289089-pat00003
Figure 112014085289089-pat00003

상기 퍼하이드로폴리실라잔은 규소 원자에 결합된 수소 원자의 일부가 수산기로 치환된 것일 수도 있다. The perhydro polysilazane may be one in which a part of the hydrogen atoms bonded to the silicon atom is substituted with a hydroxyl group.

상기 퍼하이드로폴리실라잔은 디하이드로겐디클로로실란과 유기 염기(예를 들어, 피리딘 또는 피콜린)를 반응시켜 어덕트를 만들고, 이 어덕트와 암모니아를 반응시킴으로써 용이하게 합성할 수 있다.The perhydro polysilazane can be easily synthesized by reacting dihydrogendichlorosilane with an organic base (for example, pyridine or picoline) to form an adduct and reacting the adduct with ammonia.

이러한, 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔의 수평균 분자량은 통상 100~50,000이며, 가열시의 비휘발성과 용제에의 용해성의 점에서 200~2,500인 것이 보다 바람직하다.
The number average molecular weight of such polysilazane, especially perhydro polysilazane, is usually from 100 to 50,000, more preferably from 200 to 2,500 in terms of nonvolatility upon heating and solubility in solvents.

본 발명의 실시예에 따른 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔은 소량의 실리카 전화 촉진 촉매를 함유하고 있을 수도 있다. Polysilazanes, particularly perhydropolysilazanes, according to embodiments of the present invention may contain small amounts of silica-catalyzed catalysts.

상기 실리카 전화 촉진 촉매로서 유기 아민 화합물, 유기산, 무기산, 카르복실산 금속염, 유기 금속 착염을 들 수 있다. Examples of the silica-catalyzed catalyst include organic amine compounds, organic acids, inorganic acids, carboxylic acid metal salts, and organic metal complex salts.

특히 유기 아민 화합물이 바람직하며, 구체예로는 1-메틸피페라진, 1-메틸피페리진, 4,4'-트리메틸렌디피페리진, 4,4'-트리메틸렌비스(1-메틸피페리진), 디아자비시클로-[2,2,2]옥탄, 시스-2,6-디메틸피페라진, 4-(4-메틸피페리진)피리딘, 피리진, 디피리딘, α-피콜린, β-피콜린, γ-피콜린, 피페리진, 루티딘, 피리미딘, 피리다진, 4,4'-트리메틸렌디피리딘, 2-(메틸아미노)피리진, 피라진, 퀴놀린, 퀴녹살린, 트리아진, 피롤, 3-피롤린, 이미다졸, 트리아졸, 테트라졸, 1-메틸피롤리딘 등의 질소 함유 환상 유기 아민; 메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 이텔아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 프로필아민, 디프로필아민, 트리프로필아민, 부틸아민, 디부틸아민, 트리부틸아민, 펜틸아민, 디펜틸아민, 트리펜틸아민, 헥실아민, 디헥실아민, 트리헥실아민, 헵틸아민, 디헵틸아민, 옥틸아민, 디옥틸아민, 트리옥틸아민, 페닐아민, 디페닐아민, 트리페닐아민 등의 지방족 또는 방향족 아민류; DBU(1,8-디아자비시클로[5,4,0]7-운데센), DBN(1,5-디아자비시클로[4,3,0]5-노넨), 1,5,9-트리아자시클로도데칸, 1,4,7-트리아자시클로노난을 들 수 있다.Particularly preferred organic amine compounds are 1-methylpiperazine, 1-methylpiperidine, 4,4'-trimethylenedipiperidine, 4,4'-trimethylenebis (1-methylpiperidine) , Diazabicyclo- [2,2,2] octane, cis-2,6-dimethylpiperazine, 4- (4-methylpiperidine) pyridine, pyridine, dipyridine, pyridine, pyrazine, quinoline, quinoxaline, triazine, pyrrole, 3, 4-trimethylenedipyridine, 2- (methylamino) pyridine, Nitrogen containing cyclic organic amines such as pyrroline, imidazole, triazole, tetrazole, 1-methylpyrrolidine and the like; Examples of the amine include methylamine, dimethylamine, trimethylamine, itelamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, tripropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, pentylamine, dipentylamine, tri Aliphatic or aromatic amines such as pentylamine, hexylamine, dihexylamine, trihexylamine, heptylamine, diheptylamine, octylamine, dioctylamine, trioctylamine, phenylamine, diphenylamine and triphenylamine; DBU (1,8-diazabicyclo [5,4,0] 7-undecene), DBN (1,5-diazabicyclo [4,3,0] Azacyclododecane, and 1,4,7-triazacyclononane.

상기 실리카 전화 촉진 촉매의 함유량은 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔 전체 중량 중 0.1~10중량%인 것이 바람직하다.
The content of the silica phthalocyanine catalyst is preferably 0.1 to 10% by weight based on the total weight of the polysilazane, especially the perhydro polysilazane.

본 발명의 실시예에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재는, 상기 기재가 3차원 표면 패턴을 가질 수 있다.In the substrate to which the surface treatment film according to the embodiment of the present invention is applied, the substrate may have a three-dimensional surface pattern.

상기 기재는 각종 전자기기, 가구제품, 선박, 자동차, 판넬 제품 등의 외장재로 이용될 수 있다. The substrate can be used as an exterior material for various electronic devices, household products, ships, automobiles, panel products, and the like.

이 때, 상기 기재는 3차원 표면 패턴을 갖는데, 3차원 패턴의 형성 방법에는 제한이 없으나, 열, 광 또는 전자빔에 의하여 경화되는 수지 조성물이, 성형면에 3차원 패턴이 형성된 몰드의 성형면 상에서 경화된 경화물로 형성되는 것이 바람직하다. In this case, the base material has a three-dimensional surface pattern. There is no limitation on the formation method of the three-dimensional pattern, but a resin composition which is cured by heat, light or electron beam is formed on a molding surface of a mold having a three- It is preferably formed of a cured cured product.

이 경우, 상기 몰드의 성형면에 형성된 3차원 패턴이 경화물에 전사되어, 경화물의 표면에 3차원 패턴이 형성된다.
In this case, the three-dimensional pattern formed on the molding surface of the mold is transferred to the cured product to form a three-dimensional pattern on the surface of the cured product.

본 발명의 실시예에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재는, 상기 기재가 유기질 기재를 포함하는 인조대리석인 것을 포함한다. The substrate to which the surface treatment film according to the embodiment of the present invention is applied includes that the substrate is an artificial marble comprising an organic substrate.

상기 유기질 기재는 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 아크릴 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리비닐알코올 수지, ABS(Acrylonitrile, Butadiene, Styrene) 수지, 폴리이미드 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지 등의 합성 수지류; 합성 목재; 대나무, 목재 등의 천연소재를 포함하며, 본 발명의 실시예에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재는 특히 합성 수지인 것이 바람직하다.The organic material may be at least one selected from the group consisting of a polyethylene resin, a polypropylene resin, an acrylic resin, a polyamide resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, a polyvinyl alcohol resin, an acrylonitrile butadiene styrene (ABS) resin, a polyimide resin, Synthetic resins such as resins; Synthetic wood; Bamboo, wood, and the like, and the substrate to which the surface treatment film according to the embodiment of the present invention is applied is particularly preferably a synthetic resin.

여기에서 인조대리석은 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지 등의 성분을 포함하면서, 여기에 천연 석분이나 광물, 안료 및 첨가제 등을 첨가하여 천연석의 질감을 구현한 인조 합성체를 통칭하며, 본 발명의 기재는 상기의 유기질 기재를 포함하는 인조대리석일 수 있다.Herein, artificial marble generally refers to a synthetic composition including components such as acrylic resin, polyester resin, and epoxy resin, and adding natural stone, minerals, pigments, and additives thereto to realize the texture of natural stone. May be an artificial marble comprising the above organic material.

상기 유기질 기재의 형상으로는 판, 시트, 필름, 호일, 필라멘트, 블록, 용기나 부품, 물품의 형상이 포함될 수 있으며, 이러한 기재는 본 발명의 기재가 적용되는 곳, 또는 부품, 물품의 용도에 따라 적절히 선택되어 사용된다. 구체적으로 본 발명의 기재가 적용되는 물품은 가전제품이 될 수 있다.
The shape of the organic substrate may include a plate, a sheet, a film, a foil, a filament, a block, a container, a component, and a shape of an article. The substrate may be used in a place where the substrate of the present invention is applied, And is appropriately selected and used. Specifically, the article to which the present invention is applied may be a household appliance.

본 발명의 실시예에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재는, 상기 기재가 사용되는 원료에 따라서 투명색 또는 백색으로 형성되어 있는 것을 포함한다.The substrate to which the surface treatment film according to the embodiment of the present invention is applied includes those formed in a transparent color or white depending on the raw material in which the substrate is used.

특히, 기재에 형성된 3차원 표면 패턴은 1mm 이상의 두께로 형성될 수 있다. 이는 성형용 몰드의 재질로 패턴 형성이 용이한 금속 등을 이용하고, 몰드의 성형면에 NC 가공 등을 적용함으로써, 몰드에 1mm 이상의 두께를 갖는 3차원 패턴을 형성함으로써 이루어질 수 있다.
In particular, the three-dimensional surface pattern formed on the substrate may be formed to a thickness of 1 mm or more. This can be achieved by forming a three-dimensional pattern having a thickness of 1 mm or more on the mold by using a metal or the like which is easy to form a pattern as the material of the molding mold and applying NC processing or the like to the molding surface of the mold.

본 발명의 실시예에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재는, 상기 피막의 두께가 3㎛ 이하인 것이 바람직하다. 상기 범위를 벗어나는 경우에는 피막의 두께를 높이기 위하여 농도를 진하게 하거나 여러 번의 도포작업을 거쳐야 하는데, 농도가 진해지는 경우에는 피막을 고르게 형성하는데 어려움이 있으며, 여러 번의 도포작업을 거치는 경우에는 작업성이 떨어지기 때문에 바람직하지 않다.In the base material to which the surface treatment film according to the embodiment of the present invention is applied, it is preferable that the thickness of the film is 3 m or less. If the concentration is out of the above range, it is necessary to increase the concentration of the coating or to apply it several times in order to increase the thickness of the coating. If the concentration is increased, it is difficult to uniformly form the coating. It is not preferable because it falls.

본 발명의 실시예에 따른 상기 폴리실라잔 피막의 폴리머 매트릭스는 나노입자 수준까지 가공이 가능하며, 사용처에 따라서 각기 다른 개별적인 프로파일에 의해 원료가 가공되어 제공된다.The polymer matrix of the polysilazane coating according to an embodiment of the present invention can be processed to nanoparticle level, and the raw material is processed by providing a different profile according to the application.

상기 폴리실라잔은 반응성이 매우 높은바, 높은 반응성으로 인해 거의 모든 물질과 접착가능하며, 극도로 얇은 층을 구축하고, 대상 기재와 결합(접착)된 후 대단히 안정적으로 결합 상태를 유지한다. The polysilazane is highly reactive and can be bonded to almost all materials due to its high reactivity, and it forms an extremely thin layer and maintains a very stable bonding state after bonding (bonding) with the target substrate.

본 발명에서 대상 기재와 결합된 피막은 투명하며, 극도로 얇고 조밀한 구조를 가진다.
In the present invention, the coating film bonded to the target substrate is transparent and has an extremely thin and dense structure.

표면처리 피막을 적용한 기재의 제조방법METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE USING SURFACE TREATED COAT

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표면처리 피막을 적용한 기재의 제조 방법은, 기재 표면에 폴리실라잔을 도포하여 폴리실라잔 피막을 형성하는 단계 및 상기 폴리실라잔 피막이 형성된 기재를 가열하여 폴리실라잔 피막을 실리카층으로 전화시키는 단계를 포함할 수 있다.A method of manufacturing a substrate to which a surface treated film according to another embodiment of the present invention is applied includes the steps of forming a polysilazane coating film by applying polysilazane to the surface of a substrate and heating the substrate having the polysilazane coating film formed thereon, And converting the residual coating to a silica layer.

상기 제조 방법은 구체적으로, (a) 성형면에 NC(numerical control) 가공을 적용하여 상기 성형면에 1mm 이상의 두께를 갖는 3차원 패턴이 형성된 금속 재질의 몰드를 사용하여, 1mm 이상의 두께를 갖는 3차원 표면 패턴이 형성된 기재를 준비하는 단계; (b) 상기 기재의 표면에 폴리실라잔을 도포하여 폴리실라잔 피막을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 폴리실라잔 피막이 형성된 기재를 가열하여 상기 폴리실라잔 피막을 실리카층으로 전화시키는 단계;를 포함할 수 있다.
Specifically, (a) a metal mold having a three-dimensional pattern having a thickness of 1 mm or more is formed on the molding surface by applying NC (numerical control) processing to the molding surface, Preparing a substrate having a dimensional surface pattern formed thereon; (b) applying a polysilazane to the surface of the substrate to form a polysilazane coating film; And (c) heating the substrate having the polysilazane coating film formed thereon to convert the polysilazane coating film into a silica layer.

여기에서, (a) 단계, 상기 기재 표면에 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔을 도포, 즉 코팅함에 있어 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔을 용제에 용해하여 용액으로 만들어 주는 것이 바람직하다.Here, in step (a), in applying or coating the polysilazane, particularly the perhydro polysilazane, on the surface of the substrate, it is preferable to dissolve the polysilazane, especially the perhydro polysilazane, in a solvent to prepare a solution Do.

이를 위한 용제는 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔을 용해하여 이 용액에 유동성을 부여하고, 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔을 변질, 분해시키지 않는 것이면 된다.The solvent for this purpose is not particularly limited so long as it dissolves polysilazane, in particular, a perhydro polysilazane to impart fluidity to the solution and does not modify or decompose the polysilazane, especially the perhydro polysilazane.

이러한 용제로서, 톨루엔, 자일렌, 헥실렌 등의 방향족 탄화수소; 에틸부틸에테르, 디부틸에테르, 디옥산, 테트라하이드로퓨란 등의 에테르류; 헥산, 헵탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소가 예시된다. As such a solvent, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and hexylene; Ethers such as ethyl butyl ether, dibutyl ether, dioxane, and tetrahydrofuran; And aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and cyclohexane.

이들 유기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용한다. 이러한 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔 용액 중의 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔의 고형분 농도는 0.1~35중량% 인 것이 바람직하고, 특히 0.2~10중량%인 것이 보다 바람직하다.
These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. The solid content concentration of the polysilazane, particularly the polysilazane in the hydrogenated polysilazane solution, particularly the hydrogenated polysilazane is preferably 0.1 to 35% by weight, more preferably 0.2 to 10% by weight.

상기 (a) 단계에서, 기재의 표면에 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔을 도포, 코팅하여 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔 피막을 형성하려면 통상의 도포 방법, 코팅 방법, 즉 침지, 롤 코팅, 블레이드 코팅, 솔칠, 스프레이, 블로 코팅, 스핀 코팅 등을 이용할 수 있다. In the step (a), in order to form a polysilazane, in particular a perhydro polysilazane film, by coating and coating a polysilazane, in particular a perhydro polysilazane, on the surface of the substrate, the usual application method, coating method, , Roll coating, blade coating, brushing, spraying, blow coating, spin coating, and the like.

코팅 전에 기판을 연마, 탈지, 각종 블라스트에 의한 표면처리를 해두면 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔의 부착성이 향상된다. When the substrate is polished, degreased, and subjected to various blast surface treatment before coating, adhesion of the polysilazane, especially the perhydro polysilazane, is improved.

상기 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 도포, 코팅한 경우에는 도포, 코팅 후에 풍건조 또는 온풍 건조를 하면 좋다.
When the polysilazane, in particular, the hydrogenated polysilazane solution is applied and coated, it is preferable to perform air drying or hot air drying after coating and coating.

한편, 상기 (a) 단계를 마친 후, (b) 상기 폴리실라잔 피막이 형성된 기재를 가열하여 폴리실라잔 피막을 실리카층으로 전화시킨다. On the other hand, after the step (a) is completed, (b) the substrate on which the polysilazane coating film is formed is heated to convert the polysilazane coating film into a silica layer.

이 때의 가열 온도는 바람직하게는 100~400℃의 범위 내이며, 보다 바람직하게는 100~300℃의 범위 내이다. 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔이 실리카 전화 촉진 촉매를 함유하고 있는 경우에는, 가열온도가 상기 온도 범위보다 낮아도 좋으며, 50~200℃ 정도인 것이 바람직하다. The heating temperature at this time is preferably within the range of 100 to 400 占 폚, and more preferably within the range of 100 to 300 占 폚. When the polysilazane, particularly the perhydropolysilazane, contains a silica-catalyzed catalyst, the heating temperature may be lower than the above-mentioned temperature range, and preferably about 50 to 200 ° C.

기재가 유기질인 경우, 각 기재가 열분해되거나 변질되지 않는 조건을 선택하는 것이 바람직하며, 특히 가열 온도와 가열 시간은 구체적인 기재의 종류에 따라 적절히 선택하는 것이 바람직하다.In the case where the substrate is organic, it is preferable to select conditions under which each substrate is not thermally decomposed or deteriorated. In particular, the heating temperature and the heating time are desirably appropriately selected depending on the type of the specific substrate.

가열은 산소 가스 및 수증기를 포함하므로 공기 중에서의 가열이 바람직하다. 공기 대신 산소 가스 함유 질소 가스, 수증기 함유 질소 가스, 산소 가스와 수증기 함유 질소 가스를 사용할 수도 있다.Since heating includes oxygen gas and water vapor, heating in air is preferred. Instead of air, an oxygen gas containing nitrogen gas, a water vapor containing nitrogen gas, an oxygen gas and a water vapor containing nitrogen gas may be used.

이 때, 폴리실라잔, 특히 퍼하이드로폴리실라잔으로부터 실리카로의 전화율은 80% 이상인 것이 바람직하고, 90% 이상인 것이 보다 바람직하며, 98~100%가 가장 바람직하다.
At this time, the conversion rate from polysilazane, especially hydrogen polysilazane to silica is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and most preferably 98 to 100%.

표면처리 피막을 적용한 기재를 포함하는 가전 제품Appliances containing substrates with surface treated coatings

본 발명은, 본 발명의 표면처리 피막을 적용한 기재를 포함하는 가전 제품을 제공한다.The present invention provides a household electric appliance including a substrate to which the surface treatment film of the present invention is applied.

상기 가전 제품의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 인조 대리석이 적용될 수 있는 모든 종류의 가전 제품이 제공될 수 있다.
The type of the household appliance is not particularly limited, and all kinds of household appliances to which artificial marble can be applied can be provided.

실시예Example  And 비교예Comparative Example

이하에서 본 발명을 실시예 및 비교예에 의하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples.

실시예와 비교예에서 표면 특성은 다음과 같이 하여 측정, 평가, 관찰하였다.
In Examples and Comparative Examples, surface characteristics were measured, evaluated, and observed in the following manner.

[시험체 표면의 연필 경도(연필 긁힘값)][Pencil hardness on the surface of the test piece (pencil scratch value)]

시험체 표면을 JIS K5400의 8.4.2를 따라 경도 6B~9H의 연필심으로 긁어 흠집이 발생하지 않는 최대 경도의 연필의 경도로 나타내었다.
The surface of the test piece was scratched with a pencil lead having a hardness of 6B to 9H according to 8.4.2 of JIS K5400 to show the hardness of the pencil having the maximum hardness at which no scratches occurred.

[시험체 표면의 내오염성][Stain resistance on the surface of the test specimen]

유성페인트(매니큐어), 간장, 고추장 등의 생활 오염에 대한 내오염성을 측정하기 위하여 상기 매니큐어, 간장, 고추장을 시험체 표면에 묻힌 후, 지울 때의 목시검사 수준을 평가하였다.
In order to measure the contamination resistance to life pollution such as oil paint (manicure), soy sauce, and kochujang, the manicure, soy sauce, and kochujang were put on the surface of the test piece,

[시험체 표면의 내화학성][Chemical resistance of surface of test specimen]

아세톤, 알코올, MEK을 시험체 표면에 도포한 후 24시간 후 제거하여 표면 상태를 목시 검사 수준을 평가하였다.
Acetone, alcohol, and MEK were applied to the surface of the test specimens, and the specimens were removed after 24 hours.

[시험체 표면의 내자외선 성능]        [Ultraviolet ray performance of the surface of the test piece]

15W UV(자외선) A, B등 2개의 아래 20cm 이내의 거리에 샘플을 놓아두고 96시간 동안 방치 후 제품의 △E(색차) 값을 측정하여 비교하였다.
The sample was placed at a distance of 20cm below two 15W UV (ultraviolet) A and B, and left for 96 hours. The ΔE (color difference) value of the product was measured and compared.

실시예Example 1 One

3차원 패턴이 형성된 메틸 메타크릴레이트 수지 시험체 표면에 -(SiH2-NH)-를 반복단위로 하는 퍼하이드로폴리실라잔(상품명 N-P110, 아민계 촉매 함유)의 2중량% 자일렌 용액을 도포하였다. 이때 도포량은 두께 2㎛의 퍼하이드로폴리실라잔 피막이 형성되는 양이었다. 이 시험체를 정치하고 풍건시켰다. 자일렌이 제거된 후, 상기 시험판을 전기로에 넣고 60℃의 공기 중에서 10분간 가열하였다. 이어서, 실온에서 대기 중에 24시간 방치하여 풍건시켰다.
A 2 wt% xylene solution of perhydro-polysilazane (trade name: N-P110, containing an amine-based catalyst) having - (SiH 2 -NH) - as a repeating unit was applied on the surface of a methyl methacrylate resin test piece having a three- Respectively. At this time, the coating amount was an amount that formed a 2-μm thick perhydro polysilazane coating. The specimen was allowed to stand and air-dried. After xylene had been removed, the test plate was placed in an electric furnace and heated in air at 60 DEG C for 10 minutes. Then, it was allowed to stand in the air at room temperature for 24 hours and air-dried.

실시예Example 2 2

퍼하이드로폴리실라잔 대신 -(Me2SiNH)-을 반복단위로 하는 오가노폴리실라잔을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 시행하였다.
(Me 2 SiNH) - instead of perhydro-polysilazane was used instead of the organopolysiloxane.

비교예Comparative Example

3차원 패턴이 형성된 아크릴 수지 시험체 표면에 퍼하이드로폴리실라잔 대신 폴리우레탄을 적용하여 피막을 형성하였다
An acrylic resin sample having a three-dimensional pattern formed on its surface was coated with polyurethane instead of perhydro polysilazane to form a film

시험결과Test result

실시예Example 1 One 실시예Example 2 2 비교예Comparative Example 강도
(연필경도)
burglar
(Pencil hardness)
4H4H 3H3H 2H2H
내오염성Stain resistance 양호함Good 약함weakness 일반 오염 양호
유성에는 취약
Good general pollution
Vulnerable to meteors
내화학성Chemical resistance 양호함Good 양호함Good 양호함Good 내자외선
(△E)
My ultraviolet
(? E)
1.41.4 1.61.6 3.23.2

상기 표 1에서 보는 바와 같이, 본 발명의 실시예에 의한 표면처리 피막을 적용한 기재는 강도, 내오염성, 내화학성 및 내자외선성이 매우 우수하다는 사실을 알 수 있었다.
As shown in Table 1, it was found that the substrate to which the surface treatment film according to the embodiment of the present invention was applied had excellent strength, stain resistance, chemical resistance, and ultraviolet ray resistance.

이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 기술자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 이하에 기재되는 특허청구범위에 의해서 판단되어야 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. . Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the following claims.

Claims (10)

(a) 성형면에 NC(numerical control) 가공을 적용하여 상기 성형면에 1mm 이상의 두께를 갖는 3차원 패턴이 형성된 금속 재질의 몰드를 사용하여, 1mm 이상의 두께를 갖는 3차원 표면 패턴이 형성된 기재를 준비하는 단계;
(b) 상기 기재의 표면에 폴리실라잔을 도포하여 폴리실라잔 피막을 형성하는 단계; 및
(c) 상기 폴리실라잔 피막이 형성된 기재를 가열하여 상기 폴리실라잔 피막을 실리카층으로 전화시키는 단계;
를 포함하는 표면처리 피막을 적용한 가전제품용 기재의 제조방법.
(a) applying a NC (numerical control) process to a molding surface to form a three-dimensional surface pattern having a thickness of at least 1 mm using a metal mold having a three-dimensional pattern having a thickness of at least 1 mm formed on the molding surface, Preparing;
(b) applying a polysilazane to the surface of the substrate to form a polysilazane coating film; And
(c) heating the substrate having the polysilazane coating film to heat the polysilazane coating film to a silica layer;
Wherein the surface treatment film is applied to the base material.
제1항에 있어서,
상기 폴리실라잔이 반복 단위로서 하기 화학식 1의 단위를 갖는
표면처리 피막을 적용한 가전제품용 기재의 제조방법:
[화학식 1]
Figure 112014085289089-pat00004

상기 식에서, R1, R2 및 R3는 수소 원자 또는 탄소 원자 수 1~8의 알킬기이다.
The method according to claim 1,
Wherein the polysilazane has a repeating unit represented by the following formula
Method for producing substrate for household appliances applying surface treated coating:
[Chemical Formula 1]
Figure 112014085289089-pat00004

In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 are each a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
제1항에 있어서,
상기 폴리실라잔은 퍼하이드로폴리실라잔인
표면처리 피막을 적용한 가전제품용 기재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The polysilazane is a perhydro polysilazane
A method for manufacturing a base material for a household appliance to which a surface treated film is applied.
제1항에 있어서,
상기 폴리실라잔은 실리카 전화 촉진 촉매를 함유하는
표면처리 피막을 적용한 가전제품용 기재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the polysilazane is selected from the group consisting of
A method for manufacturing a base material for a household appliance to which a surface treated film is applied.
제4항에 있어서,
상기 실리카 전화 촉진 촉매는 아민계 촉매인 것을 특징으로 하는
표면처리 피막을 적용한 가전제품용 기재의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the silica-catalyzed catalyst is an amine-based catalyst
A method for manufacturing a base material for a household appliance to which a surface treated film is applied.
제1항에 있어서,
상기 기재는 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌수지, 아크릴 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리비닐 알코올 수지, ABS 수지, 폴리이미드 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 유기질 기재를 포함하는 인조대리석인
표면처리 피막을 적용한 가전제품용 기재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The substrate may be formed of a material selected from the group consisting of polyethylene resin, polypropylene resin, acrylic resin, polyamide resin, polyester resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, ABS resin, polyimide resin, epoxy resin and polyurethane resin Artificial marble containing organic substrate containing more than species
A method for manufacturing a base material for a household appliance to which a surface treated film is applied.
제1항에 있어서,
상기 기재는 아크릴 수지를 포함하는 인조대리석인
표면처리 피막을 적용한 가전제품용 기재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The substrate is an artificial marble comprising an acrylic resin
A method for manufacturing a base material for a household appliance to which a surface treated film is applied.
제1항에 있어서,
상기 피막의 두께는 3㎛ 이하로 형성되는
표면처리 피막을 적용한 가전제품용 기재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The thickness of the coating is 3 mu m or less
A method for manufacturing a base material for a household appliance to which a surface treated film is applied.
제1항에 있어서,
상기 가열온도는 100~400℃인
표면처리 피막을 적용한 가전제품용 기재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The heating temperature is preferably 100 to 400 DEG C
A method for manufacturing a base material for a household appliance to which a surface treated film is applied.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 표면처리 피막을 적용한 가전제품용 기재를 포함하는 가전 제품.
A household appliance comprising a substrate for a home appliance to which a surface treatment film produced by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 9 is applied.
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