KR101656655B1 - Conductive film and touch panel including the same - Google Patents

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Abstract

도전성 필름 및 이를 포함하는 터치 패널이 제공된다. 도전성 필름은 기판, 및 기판 상에 형성되며, 도전체를 포함하는 도전 패턴을 포함하되, 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하며, 제1 영역은 제2 영역보다 도전체의 밀도가 더 크다.A conductive film and a touch panel including the conductive film are provided. The conductive film includes a substrate and a conductive pattern formed on the substrate, the conductive pattern including a first region located at a center portion and a second region formed at a peripheral portion of the first region, 1 region has a larger conductor density than the second region.

Description

도전성 필름 및 이를 포함하는 터치 패널{Conductive film and touch panel including the same}[0001] The present invention relates to a conductive film and a touch panel including the same,

본 발명은 도전성 필름 및 이를 포함하는 터치 패널에 관한 것이다. The present invention relates to a conductive film and a touch panel including the conductive film.

투명 도전막은 액정표시장치나 유기EL 표시장치 등의 화소전극이나 공통전극과 같은 투명전극용으로 많이 사용되고 있다. 뿐만 아니라, 최근에는 터치패널, 조명 장치, 태양 전지 등에도 그 적용예를 넓혀 가고 있다. BACKGROUND ART A transparent conductive film is widely used for a pixel electrode such as a liquid crystal display device and an organic EL display device, or a transparent electrode such as a common electrode. In addition, recently, application examples have been expanded to touch panels, lighting devices, and solar cells.

그 동안 투명 도전막으로 많이 적용되었던 물질은 안티몬이나 불소가 도핑된 산화주석(SnO2)막 알루미늄이나 칼륨이 도핑된 산화아연(ZnO)막, 주석이 도핑된 산화인듐(In2O3)막 등이었다. 최근 들어서는 탄소나노튜브와 같은 신소재를 적용하는 방안도 연구되고 있다.The materials that have been widely applied as transparent conductive films in recent years include antimony, fluorine-doped tin oxide (SnO2) film aluminum, potassium-doped zinc oxide (ZnO) film and tin-doped indium oxide (In2O3) film. Recently, new materials such as carbon nanotubes have been studied.

투명 도전막은 높은 투명도와 전도율을 요구한다. 동시에 낮은 비용, 내구성, 취급성 등도 좋아야 한다. 그러나, 현재 연구되고 있는 물질들은 그 자체가 지닌 태성적 특성상의 한계 때문에, 동일한 내구성 및 취급성을 갖추면서도 투명도와 전도율을 동시에 개선하기가 쉽지 않다. Transparent conductive films require high transparency and conductivity. At the same time, low cost, durability, handling and so on should be good. However, due to the inherent limitations in the nature of the materials being studied, it is not easy to simultaneously improve transparency and conductivity while maintaining the same durability and handling.

본 발명은 이와 같은 한계를 극복하기 위해 착안된 것으로서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 투명도 및 전도율이 개선된 도전성 필름을 제공하고자 하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to overcome these limitations, and it is an object of the present invention to provide a conductive film having improved transparency and conductivity.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 투명도 및 전도율이 개선된 터치 필름을 제공하고자 하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a touch film having improved transparency and conductivity.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름은 기판, 및 상기 기판 상에 형성되며, 도전체를 포함하는 도전 패턴을 포함하되, 상기 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 상기 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하며, 상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 상기 도전체의 밀도가 더 크다.According to an aspect of the present invention, there is provided a conductive film comprising a substrate, and a conductive pattern formed on the substrate, the conductive pattern including a conductor, wherein the conductive pattern includes a first region, And a second region formed in the periphery of the first region, wherein the density of the conductor is larger in the first region than in the second region.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 도전성 필름은 기판, 및 상기 기판 상에 형성되며, 일 방향으로 평행하게 연장된 복수의 도전 패턴을 포함하되, 상기 각 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 상기 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하며, 상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 상기 도전체의 밀도가 더 크다.According to another aspect of the present invention, there is provided a conductive film comprising a substrate, and a plurality of conductive patterns formed on the substrate and extending in parallel in one direction, And a second region formed in the periphery of the first region, wherein the density of the conductor is larger in the first region than in the second region.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 도전성 필름은 기판, 및 상기 기판 상에 형성된 복수의 제1 도전 패턴 및 복수의 제2 도전 패턴을 포함하되, 상기 제1 도전 패턴은 복수의 섬형 패턴부 및 이웃하는 상기 섬형 패턴부를 연결하는 연결 패턴을 포함하여 제1 방향으로 연장된 스트라이프 패턴으로 형성되고, 상기 복수의 도전 패턴은 제2 방향을 따라 반복하여 배열되고, 상기 각 제2 도전 패턴은 섬형 패턴으로 이루어지되, 상기 각 제2 도전 패턴은 상기 제1 도전 패턴의 상기 섬형 패턴부 사이에 배치되며, 상기 각 제1 도전 패턴의 상기 섬형 패턴부 및 상기 각 제2 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 상기 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 상기 도전체의 밀도가 더 크다.According to another aspect of the present invention, there is provided a conductive film comprising a substrate, a plurality of first conductive patterns and a plurality of second conductive patterns formed on the substrate, And a connecting pattern connecting the adjacent island pattern portions, wherein the plurality of conductive patterns are repeatedly arranged along a second direction, and each of the plurality of conductive patterns is repeatedly arranged in a second direction, Wherein each of the second conductive patterns is disposed between the island-shaped pattern portions of the first conductive patterns, the island-shaped pattern portions of the first conductive patterns and the respective second conductive patterns And a second region formed in a peripheral portion of the first region, wherein the first region has a higher density of the conductor than the second region.

상기 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널은 상기한 바와 같은 도전성 필름을 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a touch panel including the conductive film as described above.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.The embodiments of the present invention have at least the following effects.

즉, 본 발명의 실시예들에 따른 도전성 필름은 높은 광투과율을 나타내면서도 동시에 높은 전도율을 나타낼 수 있다.That is, the conductive film according to the embodiments of the present invention may exhibit a high light transmittance and a high conductivity at the same time.

또, 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른 도전성 필름은 다분화된 전하 전달 기능을 구현할 수 있다.In addition, the conductive film according to some embodiments of the present invention can realize a differentiated charge transfer function.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전체의 개략도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
1 is a plan view of a conductive film according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a conductive film according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic view of a conductor according to an embodiment of the present invention.
4 is a plan view of a conductive film according to another embodiment of the present invention.
5 is a plan view of a conductive film according to another embodiment of the present invention.
6 and 7 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a conductive film according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층"위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. "및/또는"는 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. It is to be understood that elements or layers are referred to as being "on " other elements or layers, including both intervening layers or other elements directly on or in between. On the other hand, a device being referred to as "directly on" refers to not intervening another device or layer in the middle. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. "And / or" include each and any combination of one or more of the mentioned items.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, it goes without saying that these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, it goes without saying that the first component mentioned below may be the second component within the technical scope of the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. The terms " comprises "and / or" comprising "used in the specification do not exclude the presence or addition of one or more other elements in addition to the stated element.

본 명세서에서 사용되는 용어인 "~필름"은 "~시트", "~판"의 의미로 사용될 수 있다. As used herein, the term "film" can be used in the sense of "to sheet"

이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 단면도이다.1 is a plan view of a conductive film according to an embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view of a conductive film according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름은 기판(110) 및 기판(110) 상에 형성된 도전 패턴(120)을 포함한다.Referring to FIGS. 1 and 2, a conductive film according to an exemplary embodiment of the present invention includes a substrate 110 and a conductive pattern 120 formed on the substrate 110.

기판(110)은 투명 기판일 수 있다. 본 명세서에서 투명 기판은 광을 투과시킬 수 있는 기판을 의미할 수 있다. 예를 들어, 투명 기판은 입사광의 70% 이상을 투과시키는 기판을 의미할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 투명 기판은 입사광의 90% 이상을 투과시킬 수 있다. 다른 몇몇 실시예에서, 투명 기판은 입사광의 98% 이상을 투과시킬 수 있다.The substrate 110 may be a transparent substrate. In this specification, the transparent substrate may mean a substrate capable of transmitting light. For example, a transparent substrate may mean a substrate that transmits 70% or more of incident light. In some embodiments, the transparent substrate may transmit at least 90% of the incident light. In some other embodiments, the transparent substrate can transmit at least 98% of the incident light.

투명 기판으로는 투명한 플라스틱 기판, 투명한 유리 기판, 또는 투명한 석영 기판 등이 적용될 수 있다. 투명 기판을 구성하는 물질의 예로는 메타크릴 수지, 방향족 폴리에스테르, 변성 폴리페닐렌옥사이드(Modified Polyphenylene Oxide: MPPO), 셀룰로스 에스테르(Cellulose ester), 셀룰로오스 아세테이트, 수정(quartz), 스티렌-부타디엔 공중합체, 실리콘 웨이퍼, 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌(acrylonitrile butadiene styrene copolymer, ABS 수지), 에폭시 수지, 올레핀 말레이미드 공중합체, 용융실리카, 유리, 재생 셀룰로스(Regenerated cellulose), 트리아세틸셀룰로오스, 페놀 수지, 폴리디메틸시클로헥센테레프탈레이트, 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS), 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리메틸아크릴레이트(polymethylacrylate), 폴리부타디엔, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리불화 비닐리덴, 폴리비닐리덴플로라이드(Polyvinylidenfluoride), 폴리비닐아세테이트, 폴리설포네이트, 폴리술폰(Polysulfone), 폴리스티렌(PS), 폴리실라잔(polysilazane), 폴리실란(polysilane), 폴리실록산(polysiloxane), 폴리아라미드, 폴리아릴레이트, 폴리아미드, 폴리아미드 이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리아크릴로니트릴(Polyacrylonitrile, PAN), 폴리에스테르, 폴리에스테르술폰(Polyethersulfone, PES), 폴리에테르 니트릴, 폴리에테르 술폰, 폴리에테르 이미드, 폴리에테르 케톤, 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylenenaphthalte, PEN), 폴리에틸렌 설폰, 폴리에틸렌(PE), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene terephtalate, PET), 폴리에틸메타크릴레이트(polyethylmetacrylate), 폴리에틸아크릴레이트(polyethylacrylate), 폴리에폭사이드, 폴리염화비닐, 폴리옥시에틸렌, 폴리올레핀, 폴리우레탄, 폴리이미드 수지, 폴리카르보실란(polycarbosilane), 폴리카보네이트(Polycarbonate), 폴리페닐렌 술피드, 폴리페닐렌 에테르, 폴리프로필렌(PP), AS 수지, GaAs, MgO, silica, 폴리비닐클로라이드, 폴리디메틸시클로헥센테레프탈레이트, 폴리카본(polycarbon) 등을 들 수 있다. 그러나, 이에 제한되는 것이 아님은 물론이다. As the transparent substrate, a transparent plastic substrate, a transparent glass substrate, a transparent quartz substrate, or the like can be applied. Examples of the material constituting the transparent substrate include methacrylic resin, aromatic polyester, modified polyphenylene oxide (MPPO), cellulose ester, cellulose acetate, quartz, styrene-butadiene copolymer , Silicone wafers, acrylonitrile butadiene styrene copolymer (ABS resin), epoxy resin, olefin maleimide copolymer, fused silica, glass, regenerated cellulose, triacetyl cellulose, phenol resin, Polyvinylidene fluoride, polydimethylsiloxane (PDMS), polymethyl methacrylate, polymethylacrylate, polybutadiene, polybutylene terephthalate, polyvinylidene fluoride, polyvinylidene fluoride, Polyvinyl acetate, polysulfonate, polysulfone Polyvinylidene fluoride, polysulfone, polystyrene (PS), polysilazane, polysilane, polysiloxane, polyaramid, polyarylate, polyamide, polyamide imide, polyacrylate, polyacrylonitrile (PE), polyethersulfone (PES), polyether nitrile, polyether sulfone, polyether imide, polyether ketone, polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene sulfone, polyethylene ), Polyethylene terephthalate (PET), polyethylmetacrylate, polyethylacrylate, polyepoxide, polyvinyl chloride, polyoxyethylene, polyolefin, polyurethane, polyimide resin , Polycarbosilane, polycarbonate, polyphenylene sulfide, polyphenylene There may be mentioned Le, polypropylene (PP), AS resin, GaAs, MgO, silica, polyvinyl chloride, dimethyl cyclohexene terephthalate, poly carbon (polycarbon) and the like. However, it is needless to say that the present invention is not limited thereto.

몇몇 실시예에서, 상기 투명 기판은 가요성 기판일 수 있다. In some embodiments, the transparent substrate may be a flexible substrate.

기판(110) 상에는 도전 패턴(120)이 형성된다. 여기서, 도전 패턴(120)이란, 도전성을 지닌 물질들이 일정한 패턴을 형성한 것을 의미한다. 도 2에서, 도전 패턴(120)은 스트라이프 타입의 라인 패턴 형상을 갖는 것이 예시된다. On the substrate 110, a conductive pattern 120 is formed. Here, the conductive pattern 120 means that conductive materials form a certain pattern. In Fig. 2, it is exemplified that the conductive pattern 120 has a line pattern shape of a stripe type.

도전 패턴(120)은 도전성을 지니기 위하여 도전체(125)를 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 도전체(125)의 예로는 탄소나노물질, 나노와이어, 전도성 폴리머 등을 들 수 있으며, 이들 중 하나 이상이 조합되어 적용될 수 있다. The conductive pattern 120 may comprise conductors 125 to provide conductivity. Examples of the conductive material 125 include a carbon nanomaterial, a nanowire, and a conductive polymer. One or more of these conductive materials may be used in combination.

상기 탄소나노물질은 싱글월 탄소나노튜브, 멀티월 탄소나노튜브, 탄소나노입자, 또는 그라핀(graphene)일 수 있다.The carbon nanomaterial may be a single wall carbon nanotube, a multiwall carbon nanotube, a carbon nanoparticle, or a graphene.

상기 나노 와이어는 은 나노 와이어, 구리 나노 와이어, 금 나노 와이어, 백금 나노 와이어, 또는 실리콘 나노 와이어일 수 있다.The nanowires can be silver nanowires, copper nanowires, gold nanowires, platinum nanowires, or silicon nanowires.

상기 전도성 폴리머의 예로는 폴리(3-알킬)티오펜[poly(3-alkyl)thiophene: P3AT], 폴리(3-헥실)티오펜[poly( 3-hexyl)thiophene: P3HT], , 폴리아닐린 [polyaniline: PANI], 폴리아세틸렌(polyacetylene: PA), 폴리아줄렌(polyazulene), 폴리에틸렌 디옥시티오펜(polyethylene dioxythiophene: PEDOT), 폴리이소시아나프탈렌(polyisothianapthalene: PITN ), 폴리이소티아나프텐(polyisothianaphthene), 폴리티에닐렌비닐렌(polythienylenevinylene) , 폴리티오펜(polythiophene: PT), 폴리파라페닐렌 {polyparapheny lene: PPP), , 폴리파라페닐렌 비닐렌(polyparaphenylene vinylene: PPV), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide) , 폴리페닐렌(polyphenylene), 폴리퓨란(polyfuran), 폴리피롤(polypyrrole: PPY), 폴리헵타디엔(polyheptadiyne: PHT), , 인돌-4-카르복실산, 인돌-5-카르복실산, 인돌-6-카르복실산, 인돌-7-카르복실산 등의 카르복실기 치환 인돌류및 그의 알칼리 금속염, 암모늄염 및 치환 암모늄염, 인돌-4-술폰산, 인돌-5-술폰산, 인돌-6-술폰산, 인돌-7-술폰산 등의 술폰산기 치환 인돌류 및 그의 알칼리 금속염, 암모늄염 및 치환 암모늄염, 4-메틸인돌, 5-메틸인돌, 6-메틸인돌, 7-메틸인돌, 4-에틸인돌, 5-에틸인돌, 6-에틸인돌, 7-에틸인돌, 4-n-프로필인돌, 5-n-프로필인돌, 6-n-프로필인돌, 7-n-프로필인돌, 4-iso-프로필인돌, 5-iso-프로필인돌, 6-iso-프로필인돌, 7-iso-프로필인돌, 4-n-부틸인돌, 5-n-부틸인돌, 6-n-부틸인돌, 7-n-부틸인돌, 4-sec-부틸인돌, 5-sec-부틸인돌, 6-sec-부틸인돌, 7-sec-부틸인돌, 4-t-부틸인돌, 5-t-부틸인돌, 6-t-부틸인돌, 7-t-부틸인돌 등의 알킬기 치환 인돌류, 4-메톡시인돌, 5-메톡시인돌, 6-메톡시인돌,7-메톡시인돌, 4-에톡시인돌, 5-에톡시인돌, 6-에톡시인돌, 7-에톡시인돌, 4-n-프로폭시인돌, 5-n-프로폭시인돌, 6-n-프로폭시인돌, 7-n-프로폭시인돌, 4-iso-프로폭시인돌, 5-iso-프로폭시인돌, 6-iso-프로폭시인돌, 7-iso-프로폭시인돌, 4-n-부톡시인돌, 5-n-부톡시인돌, 6-n-부톡시인돌, 7-n-부톡시인돌, 4-sec-부톡시인돌, 5-sec-부톡시인돌, 6-sec-부톡시인돌, 7-sec-부톡시인돌, 4-t-부톡시인돌, 5-t-부톡시인돌, 6-t-부톡시인돌, 7-t-부톡시인돌 등의 알콕시기 치환 인돌류, 4-아세틸인돌, 5-아세틸인돌, 6-아세틸인돌, 7-아세틸인돌 등의 아실기 치환 인돌류, 인돌-4-카르발데히드, 인돌-5-카르발데히드, 인돌-6-카르발데히드, 인돌-7-카르발데히드 등의 알데히드기 치환 인돌류, 인돌-4-카르복실산메틸, 인돌-5-카르복실산메틸, 인돌-6-카르복실산메틸, 인돌-7-카르복실산메틸 등의 카르복실산 에스테르기 치환인돌류, 인돌-4-술폰산메틸, 인돌-5-술폰산메틸, 인돌-6-술폰산메틸, 인돌-7-술폰산메틸 등의 술폰산 에스테르기 치환인돌류, 인돌-4-카르보니트릴, 인돌-5-카르보니트릴, 인돌-6-카르보니트릴, 인돌-7-카르보니트릴 등의 시아노기 치환인돌류, 4-히드록시인돌, 5-히드록시인돌, 6-히드록시인돌, 7-히드록시인돌 등의 히드록시기 치환 인돌류, 4-니트로인돌, 5-니트로인돌, 6-니트로인돌, 7-니트로인돌 등의 니트로기 치환 인돌류, 4-아미노인돌, 5-아미노인돌, 6-아미노인돌, 7-아미노인돌 등의 아미노기 치환 인돌류, 4-카르바모일 인돌, 5-카르바모일 인돌, 6-카르바모일 인돌, 7-카르바모일 인돌 등의 아미드기 치환 인돌류, 4-플루오로인돌, 5-플루오로인돌, 6-플루오로인돌, 7-플루오로인돌, 4-클로로인돌,5-클로로인돌, 6-클로로인돌, 7-클로로인돌, 4-브로모인돌, 5-브로모인돌, 6-브로모인돌, 7-브로모인돌, 4-요오도인돌, 5-요오도인돌, 6-요오도인돌, 7-요오도인돌 등의 할로겐기 치환 인돌류, 4-디시아노비닐 인돌, 5-디시아노비닐 인돌, 6-디시아노비닐 인돌, 7-디시아노비닐 인돌 등의 디시아노비닐기 치환 인돌류, N-메틸인돌, N-에틸인돌, N-n-프로필인돌, N-iso-프로필인돌, N-n-부틸인돌, N-sec-부틸인돌, N-t-부틸인돌 등의 N-알킬기 치환 인돌류, 벤조 푸란-4-카르복실산 , 벤조 푸란-5-카르복실산 , 벤조 푸란-6-카르복실산 , 벤조 푸란-7-카르복실산 , 벤조 푸란-4-술폰산벤조 푸란-5-술폰산 , 벤조 푸란-6-술폰산 , 벤조 푸란-7-술폰산, 4-메틸벤조 푸란 , 5-메틸벤조 푸란 , 6-메틸벤조 푸란 , 7-메틸벤조 푸란 , 4-에틸벤조 푸란 , 5-에틸벤조 푸란 , 6-에틸벤조 푸란 , 7-에틸벤조 푸란 , 4-n-프로필벤조 푸란 , 5-n-프로필벤조 푸란 , 6-n-프로필벤조 푸란 , 7-n-프로필벤조 푸란 , 4-iso-프로필벤조 푸란 , 5-iso-프로필벤조 푸란 , 6-iso-프로필벤조 푸란 , 7-iso-프로필벤조 푸란 , 4-n-부틸벤조 푸란 , 5-n-부틸벤조 푸란 , 6-n-부틸벤조 푸란 , 7-n-부틸벤조 푸란 , 4-sec-부틸벤조 푸란 , 5-sec-부틸벤조 푸란 , 6-sec-부틸벤조 푸란 , 7-sec-부틸벤조 푸란 , 4-t-부틸벤조 푸란 , 5-t-부틸벤조 푸란 , 6-t-부틸벤조 푸란 , 7-t-부틸벤조 푸란 , 4-메톡시벤조 푸란 , 5-메톡시벤조 푸란 , 6-메톡시벤조 푸란 , 7-메톡시벤조 푸란 , 4-에톡시벤조 푸란 , 5-에톡시벤조 푸란 , 6-에톡시벤조 푸란 , 7-에톡시벤조 푸란 , 4-n-프로폭시벤조 푸란 , 5-n-프로폭시벤조 푸란 , 6-n-프로폭시벤조 푸란 , 7-n-프로폭시벤조 푸란 , 4-iso-프로폭시벤조 푸란 , 5-iso-프로폭시벤조 푸란 , 6-iso-프로폭시벤조 푸란 , 7-iso-프로폭시벤조 푸란 , 4-n-부톡시벤조 푸란 , 5-n-부톡시벤조 푸란 , 6-n-부톡시벤조 푸란 , 7-n-부톡시벤조 푸란 , 4-sec-부톡시벤조 푸란 , 5-sec-부톡시벤조 푸란 , 6-sec-부톡시벤조 푸란 , 7-sec-부톡시벤조 푸란 , 4-t-부톡시벤조 푸란 , 5-t-부톡시벤조 푸란 , 6-t-부톡시벤조 푸란 , 7-t-부톡시벤조 푸란 , 4-아세틸벤조 푸란 , 5-아세틸벤조 푸란 , 6-아세틸벤조 푸란 , 7-아세틸벤조 푸란 , 벤조 푸란 4-카르발데히드 , 벤조 푸란 5-카르발데히드 , 벤조 푸란 6-카르발데히드 , 벤조 푸란 7-카르발데히드 , 벤조 푸란 4-카르복실산메틸 , 벤조 푸란 5-카르복실산메틸 , 벤조 푸란 6-카르복실산메틸 , 벤조 푸란 7-카르복실산메틸 , 벤조 푸란 4-술폰산메틸 , 벤조 푸란 5-술폰산메틸 , 벤조 푸란 6-술폰산메틸 , 벤조 푸란 7-술폰산메틸 , 벤조 푸란 4-카르보니트릴 , 벤조 푸란 5-카르보니트릴 , 벤조 푸란 6-카르보니트릴 , 벤조 푸란 7-카르보니트릴 , 4-히드록시벤조 푸란 , 5-히드록시벤조 푸란 , 6-히드록시벤조 푸란 , 7-히드록시벤조 푸란 , 4-니트로벤조 푸란 , 5-니트로벤조 푸란 , 6-니트로벤조 푸란 , 7-니트로벤조 푸란 , 4-아미노벤조 푸란 , 5-아미노벤조 푸란 , 6-아미노벤조 푸란 , 7-아미노벤조 푸란 , 4-카르바모일벤조 푸란 , 5-카르바모일벤조 푸란 , 6-카르바모일벤조 푸란 , 7-카르바모일벤조 푸란 , 4-플루오로벤조 푸란 , 5-플루오로벤조 푸란 , 6-플루오로벤조 푸란 , 7-플루오로벤조 푸란 , 4-클로로벤조 푸란 , 5-클로로벤조 푸란, 6-클로로벤조 푸란 , 7-클로로벤조 푸란 , 4-브로모벤조 푸란 , 5-브로모벤조 푸란 , 6-브로모벤조 푸란 , 7-브로모벤조 푸란 , 4-요오도벤조 푸란 , 5-요오도벤조 푸란 , 6-요오도벤조 푸란 , 7-요오도벤조 푸란 , 4-디시아노비닐벤조 푸란 , 5-디시아노비닐벤조 푸란 , 6-디시아노비닐벤조 푸란 , 7-디시아노비닐벤조 푸란 , N-메틸벤조 푸란 , N-에틸벤조 푸란 , N-n-프로필벤조 푸란 , N-iso-프로필벤조 푸란 , N-n-부틸벤조 푸란 , N-sec-부틸벤조 푸란 , N-t-부틸벤조 푸란, 벤조 티오펜-4-카르복실산 , 벤조 티오펜-5-카르복실산 , 벤조 티오펜-6-카르복실산 , 벤조 티오펜-7-카르복실산 , 벤조 티오펜-4-술폰산 , 벤조 티오펜-5-술 폰산 , 벤조 티오펜-6-술폰산 , 벤조 티오펜-7-술폰산, 4-메틸벤조 티오펜 , 5-메틸벤조 티오펜 , 6-메틸벤조 티오펜 , 7-메틸 벤조 티오펜 , 4-에틸벤조 티오펜 , 5-에틸벤조 티오펜 , 6-에틸벤조 티오펜 , 7-에틸벤조 티오펜 , 4-n-프로필벤조 티오펜 , 5-n-프로필벤조 티오펜 , 6-n-프로필벤조 티오펜 , 7-n-프로필벤조 티오 펜 , 4-iso-프로필벤조 티오펜 , 5-iso-프로필벤조 티오펜 , 6-iso-프로필벤조 티오펜 , 7-iso-프로필벤조 티오펜 , 4-n-부틸벤조 티오펜 , 5-n-부틸벤조 티오펜 , 6-n-부틸벤조 티오펜 , 7-n-부틸벤조 티 오펜 , 4-sec-부틸벤조 티오펜 , 5-sec-부틸벤조 티오펜 , 6-sec-부틸벤조 티오펜 , 7-sec-부틸벤조 티오펜 , 4-t-부틸벤조 티오펜 , 5-t-부틸벤조 티오펜 , 6-t-부틸벤조 티오펜 , 7-t-부틸벤조 티오펜, 4-메톡시벤조 티오펜 , 5-메톡시벤조 티오펜 , 6-메톡시벤조 티오 펜 , 7-메톡시벤조 티오펜 , 4-에톡시벤조 티오펜 , 5-에톡시벤조 티오펜 , 6-에톡시벤조 티오펜 , 7-에 톡시벤조 티오펜 , 4-n-프로폭시벤조 티오펜 , 5-n-프로폭시벤조 티오펜 , 6-n-프로폭시벤조 티오펜 , 7-n-프로폭시벤조 티오펜 , 4-iso-프로폭시벤조 티오펜 , 5-iso-프로폭시벤조 티오펜 , 6-iso-프로폭시벤 조 티오펜 , 7-iso-프로폭시벤조 티오펜 , 4-n-부톡시벤조 티오펜 , 5-n-부톡시벤조 티오펜 , 6-n-부 톡시벤조 티오펜 , 7-n-부톡시벤조 티오펜 , 4-sec-부톡시벤조 티오펜 , 5-sec-부톡시벤조 티오펜 , 6-sec-부톡시벤조 티오펜 , 7-sec-부톡시벤조 티오펜 , 4-t-부톡시벤조 티오펜 , 5-t-부톡시벤조 티오펜 , 6-t-부톡시벤조 티오펜 , 7-t-부톡시벤조 티오펜 , 4-아세틸벤조 티오펜 , 5-아세틸벤조 티오펜 , 6-아세틸벤조 티오펜 , 7-아세틸벤조 티오펜 , 벤조 티오펜 4-카르발데히드 , 벤조 티오펜 5-카르발데히드 , 벤조 티오펜 6-카르발데히드 , 벤조 티오펜 7-카르발데히드 , 벤조 티오펜 4-카르복실산메틸 , 벤 조 티오펜 5-카르복실산메틸 , 벤조 티오펜 6-카르복실산메틸 , 벤조 티오펜 7-카르복실산메틸 , 벤조 티오펜 4-술폰산메틸 , 벤조 티오펜 5-술폰산메틸 , 벤조 티오펜 6-술폰산메틸 , 벤조 티오펜 7-술폰산메틸 , 벤조 티오펜 4-카르보니트릴 , 벤조 티오펜 5-카르보니트릴 , 벤조 티오펜 6-카르보니트릴 , 벤조 티오펜 7-카르보니트릴 , 4-히드록시벤조 티오펜 , 5-히드록시벤조 티오펜 , 6-히드록시벤조 티오펜 , 7-히드록시벤조 티오펜 , 4-니트로벤조 티오펜 , 5-니트로벤조 티오펜 , 6-니트로벤조 티오펜 , 7-니트로벤조 티오펜 , 4-아미노벤조 티오펜 , 5-아미노벤조 티오펜 , 6-아미노벤조 티오펜 , 7-아미노벤조 티오펜 , 4-카르바모일벤조 티오펜 , 5-카르바모일벤조 티오펜 , 6-카르 바모일벤조 티오펜 , 7-카르바모일벤조 티오펜 , 4-플루오로벤조 티오펜 , 5-플루오로벤조 티오펜 , 6-플루오로벤조 티오펜 , 7-플루오로벤조 티오펜 , 4-클로로벤조 티 오펜 , 5-클로로벤조 티오펜 , 6-클로로벤조 티오펜 , 7-클로로벤조 티오펜 , 4-브로모벤조 티오펜 , 5- 브로모벤조 티오펜 , 6-브로모벤조 티오펜 , 7-브로모벤조 티오펜 , 4-요오도벤조 티오펜 , 5-요오도벤 조 티오펜 , 6-요오도벤조 티오펜 , 7-요오도벤조 티오펜 , 4-디시 아노비닐벤조 티오펜 , 5-디시아노비닐벤조 티오펜 , 6-디시아노비닐벤조 티오펜 , 7-디시아노비닐벤조 티오펜 , N-메틸벤조 티오펜 , N-에틸벤조 티오펜 , N-n-프 로필벤조 티오펜 , N-iso-프로필벤조 티오펜 , N-n-부틸벤조 티오펜 , N-sec-부틸벤조 티오펜 , N-t-부틸벤조 티오펜, 벤조 셀레노펜 4-카르복실산, 벤조 셀레노펜 5-카르복실산, 벤조 셀레노펜 6-카르복실산, 벤조 셀레노펜 7-카르복실산, 벤조 셀레노펜 4-술폰산, 벤조 셀레노펜 5-술폰산, 벤조 셀레노펜 6-술폰산, 벤조 셀레노펜 7-술폰산, 4-메틸벤조 셀레노펜, 5-메틸벤조 셀레노펜, 6-메틸벤조 셀레노펜, 7-메틸벤조 셀레노펜, 4-에틸벤조 셀레노펜, 5-에틸벤조 셀레노펜, 6-에틸벤조 셀 레노펜, 7-에틸벤조 셀레노펜, 4-n-프로필벤조 셀레노펜, 5-n-프로필벤조 셀레노펜, 6-n-프로필벤조 셀레노펜, 7-n-프로필벤조 셀레노펜, 4-iso-프로필벤조 셀레노펜, 5-iso-프로필벤조 셀레노펜, 6- iso-프로필벤조 셀레노펜, 7-iso-프로필벤조 셀레노펜, 4-n-부틸벤조 셀레노펜, 5-n-부틸벤조 셀 레노펜, 6-n-부틸벤조 셀레노펜, 7-n-부틸벤조 셀레노펜, 4-sec-부틸벤조 셀레노펜, 5-sec-부틸벤조 셀레노펜, 6-sec-부틸벤조 셀레노펜, 7-sec-부틸벤조 셀레노펜, 4-t-부틸벤조 셀레노펜, 5-t-부 틸벤조 셀레노펜, 6-t-부틸벤조 셀레노펜, 7-t-부틸벤조 셀레노펜, 4-메톡시벤조 셀레노펜, 5-메톡시벤조 셀레노펜, 6-메톡시벤조 셀레노펜, 7-메톡시벤조 셀레노 펜, 4-에톡시벤조 셀레노펜, 5-에톡시벤조 셀레노펜, 6-에톡시벤조 셀레노펜, 7-에톡시벤조 셀레노 펜, 4-n-프로폭시벤조 셀레노펜, 5-n-프로폭시벤조 셀레노펜, 6-n-프로폭시벤조 셀레노펜, 7-n-프로폭 시벤조 셀레노펜, 4-iso-프로폭시벤조 셀레노펜, 5-iso-프로폭시벤조 셀레노펜, 6-iso-프로폭시벤조 셀레노펜, 7-iso-프로폭시벤조 셀레노펜, 4-n-부톡시벤조 셀레노펜, 5-n-부톡시벤조 셀레노펜, 6-n-부톡시벤조 셀레노펜, 7-n-부톡시벤조 셀레노펜, 4-sec-부톡시벤조 셀레노펜, 5-sec-부톡시벤조 셀레노펜, 6-sec-부톡시벤조 셀레노펜, 7-sec-부톡시벤조 셀레노펜, 4-t-부톡시벤조 셀레노펜, 5-t-부톡시벤조 셀레노펜, 6-t-부톡시벤조 셀레노펜, 7-t-부톡시벤조 셀레노펜, 4-아세틸벤조 셀레노펜, 5-아세틸벤조 셀레노펜, 6-아세틸벤조 셀레노펜, 7-아세틸벤 조 셀레노펜, 벤조 셀레노펜 4-카르발데히드, 벤조 셀레노펜 5-카 르발데히드, 벤조 셀레노펜 6-카르발데히드, 벤조 셀레노펜 7-카르발데히드, 벤조 셀레노펜 4-카르복실산메틸, 벤조 셀레노펜 5-카르복실산메틸, 벤조 셀레노펜 6-카르 복실산메틸, 벤조 셀레노펜 7-카르복실산메틸, 벤조 셀레노펜 4-술폰산메틸, 벤조 셀레노펜 5-술폰산메틸, 벤조 셀레노펜 6-술폰산메틸, 벤조 셀레노펜 7-술폰산메틸, 벤조 셀레노펜 4-카르보니트릴, 벤조 셀레노펜 5-카르보니트릴, 벤조 셀레노펜 6-카르보니트릴, 벤조 셀레노펜 7-카르보니트릴, 4-히드록시벤조 셀레노펜, 5-히드록시벤조 셀레노펜, 6-히드록시벤조 셀레노펜, 7-히드록시벤조 셀레노펜, 4-니트로벤조 셀레노펜, 5-니트로벤조 셀레노펜, 6-니트로벤조 셀레노펜, 7-니트로벤조 셀레노펜, 4-아미노벤조 셀레노펜, 5-아미노벤조 셀레노펜, 6-아미노벤조 셀레노펜, 7-아미노벤조 셀레노펜, 4-카르바모일벤조 셀레노펜, 5-카르바모일벤조 셀레노펜, 6-카르 바모일벤조 셀레노펜, 7-카르바모일벤조 셀레노펜, 4-플루오로벤조 셀레노펜, 5-플루오로벤조 셀레노펜, 6-플루오로벤조 셀레노펜, 7-플루오로벤조 셀레노펜, 4-클로로벤조 셀레노펜, 5-클로로벤조 셀레노펜, 6-클로로벤조 셀레노펜, 7-클로로벤조 셀레노펜, 4-브로모벤조 셀레노펜, 5-브로모벤조 셀레노펜, 6-브로모벤조 셀레노펜, 7-브로모벤조 셀레노펜, 4-요오도벤조 셀레노펜, 5-요오도벤조 셀레노펜, 6-요오도벤조 셀레노펜, 7-요오도벤조 셀레노펜, 4-디시아노비닐벤조 셀레노펜, 5-디시아노비닐벤조 셀레노펜, 6-디시아노비닐벤조 셀레노펜, 7-디시아노비닐벤조 셀레노펜, N-메틸벤조 셀레노펜, N-에틸벤조 셀레노펜, N-n-프로필벤조 셀레노펜, N-iso-프로필벤조 셀레노펜, N-n-부틸벤조 셀레노펜, N-sec-부틸벤조 셀레노펜, N-t-부틸벤조 셀레노펜, 벤조 텔루로펜 4-카르복실산, 벤조 텔루로펜 5-카르복실산, 벤조 텔루로펜 6-카르복실산, 벤조 텔루로펜 7-카르복실산, 벤조 텔루로펜 4-술폰산, 벤조 텔루로펜 5-술폰산, 벤조 텔루로펜 6-술폰산, 벤조 텔루로펜 7-술폰산, 4-메틸벤조 텔루로펜, 5-메틸벤조 텔루로펜, 6-메틸벤조 텔루로펜, 7-메틸벤조 텔루로펜, 4-에틸벤조 텔루로펜, 5-에틸벤조 텔루로펜, 6-에틸벤조 텔루로펜, 7-에틸벤조 텔루로펜, 4-n-프로필벤조 텔루로펜, 5-n-프로필벤조 텔루로펜, 6-n-프로필벤조 텔루로펜, 7-n-프로필벤조 텔루로펜, 4-iso-프로필벤조 텔루로펜, 5-iso-프로필벤조 텔루로펜, 6- iso-프로필벤조 텔루로펜, 7-iso-프로필벤조 텔루로펜, 4-n-부틸벤조 텔루로펜, 5-n-부틸벤조 텔루로펜, 6-n-부틸벤조 텔루로펜, 7-n-부틸벤조 텔루로펜, 4-sec-부틸벤조 텔루로펜, 5-sec-부틸벤조 텔루로펜, 6-sec-부틸벤조 텔루로펜, 7-sec-부틸벤조 텔루로펜, 4-t-부틸벤조 텔루로펜, 5-t-부틸벤조 텔루로펜, 6-t-부틸벤조 텔루로펜, 7-t-부틸벤조 텔루로펜, 4-메톡시벤조 텔루로펜, 5-메톡시벤조 텔루로펜, 6-메톡시벤조 텔루로펜, 7-메톡시벤조 텔루로펜, 4-에톡시벤조 텔루로펜, 5-에톡시벤조 텔루로펜, 6-에톡시벤조 텔루로펜, 7-에톡시벤조 텔루로펜, 4-n-프로폭시벤조 텔루로펜, 5-n-프로폭시벤조 텔루로펜, 6-n-프로폭시벤조 텔루로펜, 7-n-프로폭시벤조 텔루로펜, 4-iso-프로폭시벤조 텔루로펜, 5-iso-프로폭시벤조 텔루로펜, 6-iso-프로폭시벤조 텔루로펜, 7-iso-프로폭시벤조 텔루로펜, 4-n-부톡시벤조 텔루로펜, 5-n-부톡시벤조 텔루로펜, 6-n-부톡시벤조 텔루로펜, 7-n-부톡시벤조 텔루로펜, 4-sec-부톡시벤조 텔루로펜, 5-sec-부톡시벤조 텔루로펜, 6-sec-부톡시벤조 텔루로펜, 7-sec-부톡시벤조 텔루로펜, 4-t-부톡시벤조 텔루로펜, 5-t-부톡시벤조 텔루로펜, 6-t-부톡시벤조 텔루로펜, 7-t-부톡시벤조 텔루로펜, 4-아세틸벤조 텔루로펜, 5-아세틸벤조 텔루로펜, 6-아세틸벤조 텔루로펜, 7-아세틸벤조 텔루로펜, 벤조 텔루로펜 4-카르발데히드, 벤조 텔루로펜 5-카르발데히드, 벤조 텔루로펜 6-카르발데히드, 벤조 텔루로펜 7-카르발데히드, 벤조 텔루로펜 4-카르복실산메틸, 벤조 텔루로펜 5-카르복실산메틸, 벤조 텔루로펜 6-카르복실산메틸, 벤조 텔루로펜 7-카르복실산메틸, 벤조 텔루로펜 4-술폰산메틸, 벤조 텔루로펜 5-술폰산메틸, 벤조 텔루로펜 6-술폰산메틸, 벤조 텔루로펜 7-술폰산메틸, 벤조 텔루로펜 4-카르보니트릴, 벤조 텔루로펜 5-카르보니트릴, 벤조 텔루로펜 6-카르보니트릴, 벤조 텔루로펜 7-카르보니트릴, 4-히드록시벤조 텔루로펜, 5-히드록시벤조 텔루로펜, 6-히드록시벤조 텔루로펜, 7-히드록시벤조 텔루로펜, 4-니트로벤조 텔루로펜, 5-니트로벤조 텔루로펜, 6-니트로벤조 텔루로펜, 7-니트로벤조 텔루로펜, 4-아미노벤조 텔루로펜, 5-아미노벤조 텔루로펜, 6-아미노벤조 텔루로펜, 7-아미노벤조 텔루로펜, 4-카르바모일벤조 텔루로펜, 5-카르바모일벤조 텔루로펜, 6-카르바모일벤조 텔루로펜, 7-카르바모일벤조 텔루로펜, 4-플루오로벤조 텔루로펜, 5-플루오로벤조 텔루로펜, 6-플루오로벤조 텔루로펜, 7-플루오로벤조 텔루로펜, 4-클로로벤조 텔루로펜, 5-클로로벤조 텔루로펜, 6-클로로벤조 텔루로펜, 7-클로로벤조 텔루로펜, 4-브로모벤조 텔루로펜, 5-브로모벤조 텔루로펜, 6-브로모벤조 텔루로펜, 7-브로모벤조 텔루로펜, 4-요오도벤조 텔루로펜, 5-요오도벤조 텔루로펜, 6-요오도벤조 텔루로펜, 7-요오도벤조 텔루로펜, 4-디시아노비닐벤조 텔루로펜, 5-디시아노비닐벤조 텔루로펜, 6-디시아노비닐벤조 텔루로펜, 7-디시아노비닐벤조 텔루로펜, N-메틸벤조 텔루로펜, N-에틸벤조 텔루로펜, N-n-프로필벤조 텔루로펜, N-iso-프로필벤조 텔루로펜, N-n-부틸벤조 텔루로펜, N-sec-부틸벤조 텔루로펜, N-t-부틸벤조 텔루로펜 등을 들 수 있다.Examples of the conductive polymer include poly (3-alkyl) thiophene (P3AT), poly (3-hexyl) thiophene (P3HT), polyaniline : PANI], polyacetylene (PA), polyazulene, polyethylene dioxythiophene (PEDOT), polyisothianapthalene (PITN), polyisothianaphthene, polythienylene (PP), polyparaphenylene vinylene (PPV), polyphenylene sulfide, polyphenylene sulfide, polyphenylene sulfide, polyphenylenevinylene, polythiophene (PT) Polyphenylene, polyfuran, polypyrrole (PPY), polyheptadiyne (PHT), indole-4-carboxylic acid, indole-5-carboxylic acid, Carboxylic acid substituted indoles such as carboxylic acid, indole-7-carboxylic acid and the like, Substituted indoles such as indole-4-sulfonic acid, indole-5-sulfonic acid, indole-6-sulfonic acid and indole-7-sulfonic acid, and alkali metal salts, ammonium salts and substituted ammonium salts thereof, 4- Methyl indole, 5-methyl indole, 6-methyl indole, 7-methyl indole, 4-ethyl indole, Indole, 6-n-propyl indole, 7-n-propyl indole, 4-iso-propyl indole, Butyl indole, 6-sec-butyl indole, 7-sec-butyl indole, 7-sec-butyl indole, Alkyl group substituted indoles such as 4-t-butyl indole, 5-t-butyl indole, 6-t-butyl indole and 7-t-butyl indole, 4-methoxy indole, 5-methoxy indole, 4-ethoxyindole, 5-n-propoxyindole, 4-n-propoxyindole, 6-isopropoxyindole, 7-isopropoxyindole, 4-isopropoxyindole, 6-n-propoxyindole, butoxyindole, 5-n-butoxyindole, 6-n-butoxyindole, 7-n-butoxyindole, 4-sec- Butoxyindole, 7-sec-butoxyindole, 4-t-butoxyindole, 5-t-butoxyindole, 6-t-butoxyindole and 7-t- , Acyl group substituted indoles such as 4-acetyl indole, 5-acetyl indole, 6-acetyl indole and 7-acetyl indole, indole-4-carbaldehyde, indole-5-carbaldehyde, Indole-4-carboxylate, methyl indole-5-carboxylate, methyl indole-6-carboxylate, indole-7-carboxylic acid Carboxylic acid ester group-substituted indoles such as methyl, indole-4-sulfonate, methyl indole-5-sulfonate, methyl indole-6-sulfonate, methyl indole- Substituted indole derivatives such as indole-4-carbonitrile, indole-5-carbonitrile, indole-6-carbonitrile and indole-7-carbonitrile, Substituted indoles such as 4-nitroindole, 5-nitroindole, 6-nitroindole and 7-nitroindole such as 5-hydroxyindole, 6-hydroxyindole and 7-hydroxyindole, Amino-substituted indoles such as 4-aminoindole, 5-aminoindole, 6-aminoindole, and 7-aminoindole, 4-carbamoylindole, 5-carbamoylindole, 6- Substituted indole derivatives such as carbamoyl indole, 4-fluoroindole, 5-fluoroindole, 6-fluoroindole, 7-fluoroindole, 4-chloroindole, , 7-chloroindole, 4-bromoindole, 5-bromoindole, 6-bromoindole, 7-bromoindole, Yo Dodecanovinyl indole, 7-dicyanovinyl indole, and other dicyanovinyl group-substituted indoles such as 5-dicyanovinyl indole, 6-dicyanovinyl indole and 7-dicyanovinyl indole, N-methyl N-alkyl group-substituted indoles such as indole, N-ethyl indole, Nn-propyl indole, N-isopropyl indole, N-butyl indole, N-sec- Carboxylic acid, benzofuran-7-carboxylic acid, benzofuran-4-sulfonic acid benzofuran-5-sulfonic acid, benzofuran-6-sulfonic acid, benzofuran- 4-ethylbenzofuran, 5-ethylbenzofuran, 6-ethylbenzofuran, 7-methylbenzofuran, 7-methylbenzofuran, 7-methylbenzofuran, Propylbenzofuran, 4-isopropylbenzofuran, 5-isopropylbenzofuran, 6-n-propylbenzofuran, 7-n- Benzofuran, 6-iso- Butylbenzofuran, 7-n-butylbenzofuran, 7-n-butylbenzofuran, 4-n-butylbenzofuran, Butylbenzofuran, 6-sec-butylbenzofuran, 7-sec-butylbenzofuran, 4-t-butylbenzofuran, 5-t- Methoxybenzofuran, 7-t-butylbenzofuran, 4-methoxybenzofuran, 5-methoxybenzofuran, 6-methoxybenzofuran, 7-methoxybenzofuran, 4-ethoxybenzofuran, 6-n-propoxybenzofuran, 7-n-propoxybenzofuran, 5-n-propoxybenzofuran, 6-n-propoxybenzofuran, Propoxybenzofuran, 4-isopropoxybenzofuran, 5-iso-propoxybenzofuran, 6-iso-propoxybenzofuran, Ethoxybenzofuran, 6-n-butoxybenzofuran, 7-n-butoxybenzofuran, 4-sec-butoxybenzofuran Butoxybenzofuran, 5-sec-butoxybenzofuran, 6-sec-butoxybenzofuran, 7-sec-butoxybenzofuran, 4- Butoxybenzofuran, 4-acetylbenzofuran, 5-acetylbenzofuran, 6-acetylbenzofuran, 7-acetylbenzofuran, benzofuran 4-carbaldehyde, benzofuran 5- Carbaldehyde, benzofuran 6-carbaldehyde, benzofuran 7-carbaldehyde, benzofuran 4-carboxylate, methyl benzofuran 5-carboxylate, methyl benzofuran 6-carboxylate, benzofuran 7 - methyl carboxylate, methyl benzofuran 4-sulfonate, methyl benzofuran 5-sulfonate, methyl benzofuran 6-sulfonate, methyl benzofuran 7-sulfonate, benzofuran 4-carbonitrile, benzofuran 5-carbonitrile, benzofuran 6-carbonitrile, benzofuran 7-carbonitrile, 4-hydroxybenzofuran, 5-hydroxybenzofuran, 6-hydroxybenzofuran , 7-hydroxybenzofuran, 4-nitrobenzofuran, 5-nitrobenzofuran, 6-nitrobenzofuran, 7-nitrobenzofuran, 4-aminobenzofuran, 5-aminobenzofuran, Carbamoylbenzofuran, 7-aminobenzofuran, 4-carbamoylbenzofuran, 5-carbamoylbenzofuran, 6-carbamoylbenzofuran, 7-carbamoylbenzofuran, 4-fluorobenzofuran, 5-fluorobenzo There may be mentioned, for example, furan, 6-fluorobenzofuran, 7-fluorobenzofuran, 4-chlorobenzofuran, 5-chlorobenzofuran, 6-chlorobenzofuran, 7-chlorobenzofuran, But are not limited to, benzothiophene, mobenzofuran, 6-bromobenzofuran, 7-bromobenzofuran, 4-iodobenzofuran, 5-iodobenzofuran, 6-iodobenzofuran, Vinylbenzofuran, 5-dicyanovinylbenzofuran, 6-dicyanovinylbenzofuran, 7-dicyanovinylbenzofuran, N-methylbenzofuran, N- ethyl N-isopropylbenzofuran, N-butylbenzofuran, N-sec-butylbenzofuran, Nt-butylbenzofuran, benzothiophene-4-carboxylic acid, benzothiophene 5-carboxylic acid, benzothiophene-6-carboxylic acid, benzothiophene-7-carboxylic acid, benzothiophene-4-sulfonic acid, benzothiophene-5-sulfonic acid, benzothiophene- Sulfonic acid, benzothiophene-7-sulfonic acid, 4-methylbenzothiophene, 5-methylbenzothiophene, 6-methylbenzothiophene, 7-methylbenzothiophene, 4-ethylbenzothiophene, But are not limited to, fluorine, chlorine, bromine, iodine, bromine, iodine, bromine, iodine, bromine, iodine, Propylbenzothiophene, 4-n-butylbenzothiophene, 5-n-butylbenzothiophene, 4-isopropylbenzothiophene, -Butylbenzothiophene, 6-n-butylbenzothiophene, 7-n Butylbenzothiophene, 4-sec-butylbenzothiophene, 6-sec-butylbenzothiophene, 7-sec-butylbenzothiophene, 4- , 5-t-butylbenzothiophene, 6-t-butylbenzothiophene, 7-t-butylbenzothiophene, 4-methoxybenzothiophene, 5-methoxybenzothiophene, 6-methoxybenzothiophene Phenoxybenzothiophene, 4-ethoxybenzothiophene, 5-ethoxybenzothiophene, 6-ethoxybenzothiophene, 7-ethoxybenzothiophene, 4-n-propoxybenzothiophene Propoxybenzothiophene, 4-isopropoxybenzothiophene, 5-isopropoxybenzothiophene, 5-n-propoxybenzothiophene, Butoxybenzothiophene, 6-n-butoxybenzothiophene, 6-n-butoxybenzothiophene, 6-n-butoxybenzothiophene, Butoxycarbonylthiophene, 7-n-butoxybenzothiophene, 4-sec-butoxybenzothiophene, 5-sec-butoxybenzothiophene, 6-sec Butoxybenzothiophene, 6-t-butoxybenzothiophene, 7-t-butoxybenzothiophene, 4-t-butoxybenzothiophene, -Butylbenzothiophene, 4-acetylbenzothiophene, 5-acetylbenzothiophene, 6-acetylbenzothiophene, 7-acetylbenzothiophene, benzothiophene 4-carbaldehyde, benzothiophene 5- Benzothiophene 6-carbaldehyde, benzothiophene 7-carbaldehyde, benzothiophene 4-carboxylate, benzothiophene 5-carboxylate, benzothiophene 6-carboxylic acid Methyl benzothiophene 7-carboxylate, methyl benzothiophene 4-sulfonate, methyl benzothiophene 5-sulfonate, methyl benzothiophene 6-sulfonate, methyl benzothiophene 7-sulfonate, benzothiophene 4- Thiophene, benzothiophene 5-carbonitrile, benzothiophene 6-carbonitrile, benzothiophene 7-carbonitrile, 4-hydroxybenzothiophene, Nitrobenzothiophene, 6-nitrobenzothiophene, 7-nitrobenzothiophene, 4-nitrobenzothiophene, 4-nitrobenzothiophene, Aminobenzothiophenes, 5-aminobenzothiophenes, 7-aminobenzothiophenes, 4-carbamoylbenzothiophenes, 5-carbamoylbenzothiophenes, 6-carbamoylbenzo Thiophene, 7-carbamoylbenzothiophene, 4-fluorobenzothiophene, 5-fluorobenzothiophene, 6-fluorobenzothiophene, 7-fluorobenzothiophene, 4-chlorobenzothiophene , 5-chlorobenzothiophene, 6-chlorobenzothiophene, 7-chlorobenzothiophene, 4-bromobenzothiophene, 5-bromobenzothiophene, 6-bromobenzothiophene, Benzothiophene, 4-iodobenzothiophene, 5-iodobenzothiophene, 6-iodobenzothiophene, 7-iodobenzothiophene, 4-dicyanovinylbenzothi Phenoxybenzothiophene, N-methylbenzothiophene, N-ethylbenzothiophene, Nn-propylbenzothiophene, N-ethylbenzylthiophene, , N-isopropylbenzothiophene, N-butylbenzothiophene, N-sec-butylbenzothiophene, Nt-butylbenzothiophene, benzoselenophene 4-carboxylic acid, benzoselenophene 5-carboxylic acid , Benzoselenophene 6-carboxylic acid, benzoselenophene 7-carboxylic acid, benzoselenophene 4-sulfonic acid, benzoselenophene 5-sulfonic acid, benzoselenophene 6-sulfonic acid, benzoselenophene 7-sulfonic acid, Methylbenzeneselenophene, 7-methylbenzeneselenophene, 4-ethylbenzeneselenophene, 5-ethylbenzeneselenophene, 6-ethylbenzeneselenophene, 7-ethyl 4-iso-propylbenzenecelenophene, 6-n-propylbenzenecelenophene, 7-n-propylbenzocellenophene, 4-n-butylbenzocellenophen, 5-n-butylbenzocellenophen, 5-n-butylbenzocellenophen, Butylbenzeneselenophene, 6-sec-butylbenzocellenophen, 7-sec-butylbenzocellenophene, 6-sec- Butylbenzoselenophene, 4-t-butylbenzoselenophene, 5-t-butylbenzoselenophene, 6-t-butylbenzoselenophene, 7-t-butylbenzoselenophene, 4- 5-methoxybenzeneselenophene, 6-methoxybenzeneselenophene, 7-methoxybenzeneselenophene, 4-ethoxybenzoselenophene, 5-ethoxybenzoselenophene, 6- 4-n-propoxybenzeneselenophene, 4-n-propoxybenzeneselenophene, 6-n-propoxybenzeneselenophene, -iso-propoxybenzoselenophene, 5-iso-propoxybenzoseleno , 6-iso-propoxybenzeneselenophene, 7-iso-propoxybenzeneselenophene, 4-n-butoxybenzoselenophene, 5-n-butoxybenzoselenophene, Butoxybenzeneselenophene, 7-n-butoxybenzeneselenophene, 4-sec-butoxybenzoselenophene, 5-sec-butoxybenzoselenophene, Butoxybenzeneselenophene, 4-t-butoxybenzeneselenophene, 5-t-butoxybenzeneselenophene, 6-t-butoxybenzeneselenophene, Acetylbenzeneselenophene, 7-acetylbenzo-selenophene, benzoselenophene 4-carbaldehyde, benzoselenophene 5-carbaldehyde, benzoselenophene 6-carbaldehyde, benzoselenophene, Carboxaldehyde, benzoselenophene 4-carboxylate, methyl benzoselenophene 5-carboxylate, methyl benzoselenophene 6-carboxylate, methyl benzoselenophene 7-carboxylate, benzoselenophene 4 - Methyl benzenesulfonate, methyl sulfonate, methyl benzoselenophene 5-sulfonate, methyl benzoselenophene 6-sulfonate, methyl benzoselenophene 7-sulfonate, benzoselenophene 4-carbonitrile, benzoselenophene 5-carbonitrile, benzoselenophene 6-carbonitrile , Benzoselenophene 7-carbonitrile, 4-hydroxybenzoselenophene, 5-hydroxybenzoselenophene, 6-hydroxybenzoselenophene, 7-hydroxybenzoselenophene, 4- Aminobenzoselenophenes, 6-aminobenzoselenophenes, 7-aminobenzoselenophenes, 4-carboxybenzeneselenophenes, 4-aminobenzoselenophenes, Carbamoylbenzeneselenophene, 7-carbamoylbenzoselenophene, 4-fluorobenzocelenophene, 5-fluorobenzocelenophene, 6-carbamoylbenzeneselenophene, -Fluorobenzoselenophene, 7-fluorobenzoselenophene, 4-chlorobenzene Bromobenzoselenophene, 5-bromobenzoselenophene, 6-bromobenzoselenophene, 7-chlorobenzoselenophene, 7-chlorobenzoselenophene, Iodobenzoselenophene, 5-iodobenzoselenophene, 6-iodobenzoselenophene, 7-iodobenzoselenophene, 4-dicyanovinylbenzocellenophen, 5- Dicyanovinylbenzoselenophene, 7-dicyanovinylbenzoselenophene, N-methylbenzoselenophene, N-ethylbenzoselenophene, Nn-propylbenzocellenophene, N-iso- Butylbenzeneselenophene, N-sec-butylbenzoselenophene, Nt-butylbenzoselenophene, benzoterulopene 4-carboxylic acid, benzoterulopene 5-carboxylic acid, benzotere 6-carboxylic acid, benzoterulopene 7-carboxylic acid, benzoterulopene 4-sulfonic acid, benzoterulophene 5-sulfonic acid, Sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, N-propylbenzoterulopene, 5-n-propylbenzoterulopene, 6-n-propylbenzotereulophene, Propylbenzotereulopene, 6-iso-propylbenzoterulopene, 7-iso-propylbenzotereulopene, 4-iso-propylbenzotetramine, Butylbenzotereulopene, 7-n-butylbenzoterulopene, 4-sec-butylbenzoterulophene, 4- Butylbenzoterulopene, 4-t-butylbenzoterulopene, 5-t-butylbenzoterulopene, 6-sec- -Butylbenzoterulopene, 6-t-butylbenzoterulopene, 7-t-butylbenzoterulopene, 4-methoxybenzoterulopene, 5-methoxybenzotere Methoxybenzoterulopene, 4-ethoxybenzotereulopene, 5-ethoxybenzoterulopene, 6-ethoxybenzotereulopene, 7- 4-n-propoxybenzoterulopene, 5-n-propoxybenzoterulopene, 6-n-propoxybenzoterulopene, 7-n-propoxybenzoterulopene, 4-isopropoxybenzoterulopene, 4-isopropoxybenzoterulopene, 5-iso-propoxybenzoterulopene, 6-iso- 4-sec-butoxybenzoterulopene, 5-n-butoxybenzotereulopene, 6-n-butoxybenzotereulopene, 7-n- butoxybenzoterulopene, 4-t-butoxybenzoterulopene, 5-t-butoxybenzyltoluene, 6-sec- But are not limited to, telulophene, 6-t-butoxybenzoterulopene, 7-t-butoxybenzoterulopene, 4- acetylbenzotetrolophen, But are not limited to, telulopene, 7-acetylbenzoterulopene, benzoterulopene 4-carbaldehyde, benzoterulopene 5-carbaldehyde, benzoterulopene 6-carbaldehyde, Methyl benzothalurophene 4-carboxylate, methyl benzothalurophene 5-carboxylate, methyl benzothalurophene 6-carboxylate, methyl benzothalurophene 7-carboxylate, benzothelurofen Methyl 4-sulfonate, methyl benzothelulophene 5-methylsulfonate, methyl benzothelulophene 6-sulfonate, methyl benzothelulophene 7-sulfonate, benzotetroleophene 4-carbonitrile, benzotetruophene 5-carbonitrile, Benzoterulopene, 6-carbonitrile, benzoterulopene 7-carbonitrile, 4-hydroxybenzotereulopene, 5-hydroxybenzotereulopene, 6-hydroxybenzotereulopene, 7-hydroxybenzo 4-nitrobenzoterulopene, 5-nitrobenzoterulopene, 6-nitrobenzoterulopene, 7-nitrobenzoterulopene, 4-amino Aminobenzoterulopene, 7-aminobenzoterulopene, 4-carbamoylbenzoterulopene, 5-carbamoylbenzoterulopene, 6-aminobenzothetramine, -Carbamoylbenzoterulopene, 7-carbamoylbenzoterulopene, 4-fluorobenzothelulopene, 5-fluorobenzoterulopene, 6-fluorobenzothelulopene, 7-fluoro Benzothiazole, benzothiazole, benzothiurilopene, 4-chlorobenzoterulopene, 5-chlorobenzoterulopene, 6-chlorobenzoterulopene, 7-chlorobenzotelulophene, But are not limited to, benzothiazole, benzothiurilopene, 6-bromobenzotelulophene, 7-bromobenzothetrirophene, 4-iodobenzotelulophene, Dicyanovinylbenzoterulopene, 7-dicyanovinylbenzoterulopene, 7-dicyanovinylbenzoterulopene, N-dicyanovinylbenzoterulophene, N, - methylbenzotereulopene, N-ethylbenzo Butylbenzotereulopene, Nt-butylbenzoterulopene, and the like can be given as examples of the compound represented by the formula have.

상기 도전체(125)들은 도 3에 도시된 바와 같이, 3:1 이상의 종횡비를 갖는 형상으로 이루어질 수 있다. 여기서, 종횡비란 도전체(125)의 길이(l)와 직경(d)의 비를 의미한다. 종횡비가 클수록 도전체(125)간 교차확률이 높아 전도율에 유리하다. 몇몇 실시예에서, 종횡비는 10:1 이상일 수 있다. 다른 실시예에서, 종횡비는 100:1 이상일 수 있다. The conductors 125 may have a shape with an aspect ratio of 3: 1 or greater, as shown in FIG. Here, the aspect ratio means the ratio of the length l of the conductor 125 to the diameter d. The larger the aspect ratio, the higher the crossing probability between the conductors 125, which is advantageous for the conductivity. In some embodiments, the aspect ratio can be at least 10: 1. In other embodiments, the aspect ratio may be greater than or equal to 100: 1.

상기 도전체(125)는 적어도 부분적으로 꼬여 있을 수 있다. 이 경우, 종횡비는 도전체(125)의 꼬임을 풀어 라인 형상으로 하였을 때의 길이(l)와 도전체(125)의 직경(d)의 비로 해석될 수 있다.The conductors 125 may be at least partially twisted. In this case, the aspect ratio can be interpreted as the ratio of the length 1 when the conductors 125 are twisted to form a line and the diameter d of the conductors 125.

도전 패턴(120)은 위에서 열거된 물질 들 외에, 도전체(125)의 전도율을 개선하거나, 도전체(125)의 분산성을 개선하거나, 도전체(125)의 안정성을 개선하기 위하여 금속 나노 입자, 무기 나노 입자, 폴리머 첨가제, 및 계면 활성제 중 적어도 하나를 더 포함하여 이루어질 수 있다.In addition to the materials listed above, the conductive pattern 120 may include metal nanoparticles to improve the conductivity of the conductor 125, improve the dispersibility of the conductor 125, or improve the stability of the conductor 125 , An inorganic nanoparticle, a polymer additive, and a surfactant.

상기 금속 나노 입자의 예로는 은(Ag), 알루미늄(Al), 금(Au), 베릴륨(Be), 카드뮴(Cd), 코발트(Co), 크롬(Cr), 구리(Cu), 철(Fe), 수은(Hg), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 니켈(Ni), 납(Pb), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 안티몬(Sb), 탄탈륨(Ta), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 아연(Zn), 루비듐(Ru), 오스뮴(Os), 이리듐(Ir), 로듐(Rh), 주석(Sn), 리튬(Li), 나트륨(Na), 칼륨(K), 칼슘(Ca), 스칸듐(Sc), 바나듐(V), 카본 블랙, 플러렌 등을 들 수 있다.Examples of the metal nanoparticles include metals such as silver, aluminum, gold, beryllium, cadmium, cobalt, chromium, copper, iron, ), Tungsten (Hg), magnesium (Mg), manganese (Mn), nickel (Ni), lead (Pb), palladium (Pd), platinum ), Tungsten (W), zinc (Zn), rubidium (Ru), osmium (Os), iridium (Ir), rhodium (Rh), tin (Sn), lithium (Li), sodium ), Calcium (Ca), scandium (Sc), vanadium (V), carbon black, and fullerene.

상기 무기 나노입자의 예로는 실리카, 알루미나(Al2O3), 지르코니아(Zirconia), 타이타니아(Titania), 안티몬 주석 산화물(Antimony Tin Oxide, ATO), 인듐 주석 산화물(ITO; Indium Tin Oxide), 산화인듐, 산화카드뮴, 산화주석, 산화아연, 산화티타늄 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic nanoparticles include silica, alumina (Al2O3), zirconia, titania, antimony tin oxide (ATO), indium tin oxide (ITO) Cadmium, tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, and the like.

상기 폴리머 첨가제의 예로는 고무 변성 폴리스티렌 수지, 나트륨폴리아크릴레이트(Sodium Polyacrylate), 니트로셀룰로오스, 니트릴고무, 디알릴테레프탈레이트 수지, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, 변성 폴리페닐렌에테르 수지, 부티랄, 부틸고무, 불소 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 비닐에스테르 수지, 세라믹 하이브리드 폴리머, 세라믹 혼성 폴리머, 셀룰로오스, 수첨스티렌-부타디엔 공중합체, 수첨폴리이소프렌 및 수첨폴리부타디엔, 스티렌, 스티렌-부타디엔 공중합체, 스티렌-아크릴 공중합체, 시클로올레핀계 수지, 신디오택틱 폴리스티렌 수지, 실리콘 수지, 아로마틱폴리아미드, 아세트산 비닐, 아세트산셀룰로오스 수지, 아크릴 고무, 아크릴 변형 실리케이트, 아크릴 수지, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS) 수지, 아크릴로니트릴-스티렌(AS) 수지, 아크릴산 멜라민, 아크릴산 우레탄, 알키드 수지, 액정 폴리에스테르 수지, 에틸렌-부텐-디엔 공중합체, 에틸렌비닐알코올 수지, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-프로필렌-디엔 공중합체, 에폭시 수지, 열가소성 폴리이미드 수지, 염화 비닐계 수지, 염화 폴리에틸렌, 염화 폴리프로필렌, 염화비닐 및 아세트산비닐의 공중합체, 우레아 수지, 우레탄 수지, 이오노머 수지, 인산화물, 젤라틴, 칼코게나이드(chalcogenides), 케톤 수지, 크실렌 수지, 클로로트리플루오로에틸렌·에틸렌 공중합체, 키틴, 테트라플루오로에틸렌·에틸렌 공중합체, 테트라플루오로에틸렌·퍼플루오로알킬비닐에테르 공중합체, 테트라플루오로에틸렌·헥사플루오로프로필렌 공중합체, 퍼플루오르카본술폰산(Nafion), 페놀 수지, 포스핀 옥사이드, 폴라사카라이드류, 폴리뉴클레오타이드, 폴리락트산 수지, 폴리메타크릴아마이드, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 폴리메틸펜텐, 폴리벤즈이미다졸, 폴리부타디엔, 폴리부텐, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴플루오로라이드, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐알코올, 폴리사카라이드, 폴리술폰 수지, 폴리스티렌 부타디엔 공중합체, 폴리스티렌 부타디엔 공중합체, 폴리스티렌 수지, 폴리스티렌술포네이트(PSS), 폴리실록산, 폴리아네톨술폰산나트륨염(Polyanetholesulfonic acid sodium salt), 폴리아닐린, 폴리아릴레이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리아믹산, 폴리아세탈 수지, 폴리아세틸렌, 폴리아크릴레이트, 폴리아크릴로니트릴 수지, 폴리아크릴산(PAA), 폴리에 테르설폰, 폴리에스테르, 폴리에테르니트릴, 폴리에테르설폰 수지, 폴리에테르케톤, 폴리에테르이미드, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌테트라플루오라이드, 폴리염화비닐 수지, 폴리염화비닐리덴 수지, 폴리올레핀, 폴리우레탄, 폴리이미드 수지, 폴리이소프렌, 폴리카보네이트, 폴리카보디이미드, 폴리케톤 수지, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리테트라플루오로에틸렌 공중합체, 폴리티올, 폴리페닐렌설파이드, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리펜텐, 폴리펩타이드, 폴리프로필렌, 폴리프탈아마이드, 폴리피롤, 푸란 수지, 플루오로비닐리딘, 환상 폴리올레핀 수지, ABS (아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체), PS-b-P4VP(poly(styrene-block-4-vinyl pyridine)), 아크릴산 2-카복시에틸, 아크릴산 3-카복시프로필, 아크릴산 2-카복시프로필, 아크릴산 4-카복시뷰틸, 아크릴산 3-카복시뷰틸, 아크릴산 2-카복시뷰틸, 아크릴산 6-카복시n-헥실, 아크릴산 5-카복시n-헥실, 아크릴산 4-카복시n-헥실, 아크릴산 3-카복시n-헥실, 아크릴산 2-카복시n-헥실, 아크릴산 4-카복시사이클로헥실, 아크릴산 4-카복시페닐, 아크릴산 ω-카복시-폴리카프로락톤, 2-아크릴로일옥시에틸석신산, 2-아크릴로일옥시에틸프탈산, 메타크릴산 2-카복시에틸, 메타크릴산 3-카복시프로필, 메타크릴산2-카복시프로필, 메타크릴산 4-카복시뷰틸, 메타크릴산 3-카복시뷰틸, 메타크릴산 2-카복시뷰틸, 메타크릴산 6-카복시n-헥실, 메타크릴산 5-카복시n-헥실, 메타크릴산 4-카복시n-헥실, 메타크릴산 3-카복시n-헥실, 메타크릴산 2-카복시n-헥실, 메타크릴산 4-카복시사이클로헥실, 메타크릴산 4-카복시페닐, 메타크릴산 ω-카복시-폴리카프로락톤, 2-메타크릴로일옥시에틸석신산, 2-메타크릴로일옥시에틸프탈산, N-(카복시에틸)아크릴아마이드, N-(카복시하이드록시메틸)아크릴아마이드, N-(3-카복시프로필)아크릴아마이드, N-(2-카복시프로필)아크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-카복시프로필)아크릴아마이드, N-(4-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-(3-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-(2-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-카복시헥실)아크릴아마이드, N-(5-카복시헥실)아크릴아마이드, N-(4-카복시헥실)아크릴아마이드,N-(3-카복시헥실)아크릴아마이드, N-(2-카복시헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(카복시에틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(카복시하이드록시메틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-카복시프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-카복시프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(6-카복시헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(5-카복시헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-카복시헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-카복시헥실)아크릴아마이드, N-(카복시에틸)메타크릴아마이드,N-(카복시하이드록시메틸)메타크릴아마이드, N-(3-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-(2-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-(4-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-(3-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-(2-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-(5-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-(4-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-(3-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-(2-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(카복시에틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(카복시하이드록시메틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(6-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(5-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시헥실)메타크릴아마이드,N-메틸-N-(2-카복시헥실)메타크릴아마이드, 3-아크릴로일아미노-3-메틸-4-설포뷰티르산, 아크릴산 2-설포에틸, 아크릴산 3-설포프로필, 아크릴산 2-설포프로필, 아크릴산4-설포뷰틸, 아크릴산 3-설포뷰틸, 아크릴산 2-설포뷰틸, 아크릴산 6-설포n-헥실, 아크릴산 5-설포n-헥실, 아크릴산4-설포n-헥실, 아크릴산 3-설포n-헥실, 아크릴산 2-설포n-헥실, 아크릴산 4-설포사이클로헥실, 메타크릴산 2-설포에틸, 메타크릴산 3-설포프로필, 메타크릴산 2-설포프로필, 메타크릴산 4-설포뷰틸, 메타크릴산 3-설포뷰틸, 메타크릴산2-설포뷰틸, 메타크릴산 6-설포n-헥실, 메타크릴산 5-설포n-헥실, 메타크릴산 4-설포n-헥실, 메타크릴산 3-설포n-헥실, 메타크릴산 2-설포n-헥실, 메타크릴산 4-설포사이클로헥실, N-(설포에틸)아크릴아마이드, N-(설포하이드록시메틸)아크릴아마이드, N-(3-설포프로필)아크릴아마이드, N-(2-설포프로필)아크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-설포프로필)아크릴아마이드, N-(4-설포뷰틸)아크릴아마이드, N-(3-설포뷰틸)아크릴아마이드, N-(2-설포뷰틸)아크릴아마이드,N-(6-설포헥실)아크릴아마이드, N-(5-설포헥실)아크릴아마이드, N-(4-설포헥실)아크릴아마이드, N-(3-설포헥실)아크릴아마이드, N-(2-설포헥실)아크릴아마이드, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산, N-메틸-N-(설포에틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(설포하이드록시메틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-설포프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-설포뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(6-설포헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(5-설포헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-설포헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포헥실)아크릴아마이드, N-(설포에틸)메타크릴아마이드, N-(설포하이드록시메틸)메타크릴아마이드, N-(3-설포프로필)메타크릴아마이드, N-(2-설포프로필)메타크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-설포프로필)메타크릴아마이드, N-(4-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-(3-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-(2-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-설포헥실)메타크릴아마이드, N-(5-설포헥실)메타크릴아마이드, N-(4-설포헥실)메타크릴아마이드, N-(3-설포헥실)메타크릴아마이드, N-(2-설포헥실)메타크릴아마이드, 메타크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산, N-메틸-N-(설포에틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(설포하이드록시메틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-설포프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(6-설포헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(5-설포헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-설포헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포헥실)메타크릴아마이드, 2-아크릴로일아미노-2-페닐-1-프로페인설폰산, 2-아크릴로일아미노-2-(4-클로로페닐)-1-프로페인설폰산, 2-메타크릴로일아미노-2-페닐-1-프로페인설폰산, 2-메타크릴로일아미노-2-(4-클로로페닐)-1-프로페인설폰산, 아크릴산 2-포스포노에틸, 아크릴산 3-포스포노프로필, 아크릴산 2-포스포노프로필, 아크릴산 4-포스포노뷰틸, 아크릴산 3-포스포노뷰틸, 아크릴산 2-포스포노뷰틸, 아크릴산 6-포스포노n-헥실, 아크릴산 5-포스포노n-헥실, 아크릴산 4-포스포노n-헥실, 아크릴산 3-포스포노n-헥실, 아크릴산 2-포스포노n-헥실, 아크릴산 4-포스포노사이클로헥실, 아크릴산 4-포스포노페닐, 메타크릴산 2-포스포노에틸, 메타크릴산 3-포스포노프로필,메타크릴산 2-포스포노프로필, 메타크릴산 4-포스포노뷰틸, 메타크릴산 3-포스포노뷰틸, 메타크릴산 2-포스포노뷰틸,메타크릴산 6-포스포노n-헥실, 메타크릴산 5-포스포노n-헥실, 메타크릴산 4-포스포노n-헥실, 메타크릴산 3-포스포노n-헥실, 메타크릴산 2-포스포노n-헥실, 메타크릴산 4-포스포노사이클로헥실, 메타크릴산 4-포스포노페닐, N-(포스포노에틸)아크릴아마이드, N-(3-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-(2-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-(4-포스포노뷰틸)아크릴아마이드, N-(3-포스포노뷰틸)아크릴아마이드, N-(2-포스포노뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-(5-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-(4-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-(3-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-(2-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(포스포노에틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-포스포노뷰틸)아크릴아마이드,N-메틸-N-(3-포스포노뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(6-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(5-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-(포스포노에틸)메타크릴아마이드, N-(3-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-(2-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-(4-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(3-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(2-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-(5-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-(4-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-(3-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-(2-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(포스포노에틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(6-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(5-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노헥실)메타크릴아마이드, 아크릴산 2-에틸설폰산, 메타크릴산 2-에틸설폰산, 아크릴산 2-설포에틸나트륨, 아크릴산 2-설포에틸칼륨, 아크릴산 2-설포에틸암모늄, 아크릴산 2-설포에틸테트라메틸암모늄, 메타크릴산 2-설포에틸나트륨, 메타크릴산 2-설포에틸칼륨, 메타크릴산 2-설포에틸암모늄, 메타크릴산 2-설포에틸테트라메틸암모늄, 메타크릴산 2-설포프로필나트륨, 메타크릴산 2-설포프로필칼륨, 메타크릴산 2-설포프로필암모늄, 메타크릴산 2-설포프로필테트라메틸암모늄, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산나트륨, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산칼륨, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산암모늄, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산테트라메틸암모늄, 아크릴산 나트륨, 아크릴산 칼륨, 메타크릴산 나트륨, 메타크릴산 칼륨, (메트)아크릴산에스터, 아크릴산 메틸, 아크릴산 n-뷰틸, 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 아이소프로필, (메트)아크릴산 n-뷰틸, (메트)아크릴산 i-뷰틸, (메트)아크릴산 t-뷰틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산사이클로헥실, (메트)아크릴산 라우릴, (메트)아크릴산 트라이데실, (메트)아크릴산 스테아릴, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 페닐, (메트)아크릴산 벤질, (메트)아크릴산 아이소보닐, (메트)아크릴산 글라이시딜, (메트)아크릴산테트라하이드로퍼푸릴, (메트)아크릴산 다이메틸아미노에틸, (메트)아크릴산 다이에틸아미노에틸, (메트)아크릴산 에틸트라이메틸암모늄 클로라이드, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 하이드록시프로필, (메트)아크릴산 메톡시에틸, (메트)아크릴산 에톡시에틸, (메트)아크릴산 1,4-뷰테인다이올, 폴리에틸렌 글라이콜의 다이(메트)아크릴레이트, 1,4-뷰테인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 1,6-헥세인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 1,9-노네인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인 트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올에테인 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 글라이세린 트라이(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트라이펜타에리쓰리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 트라이펜타에리쓰리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 트라이펜타에리쓰리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 트라이펜타에리쓰리톨 헵타(메트)아크릴레이트, 말론산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 말론산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 말론산/글라이세린/(메트)아크릴산, 말론산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 석신산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 석신산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 석신산/글라이세린/(메트)아크릴산, 석신산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 아디프산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 아디프산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 아디프산/글라이세린/(메트)아크릴산, 아디프산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 글루타르산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 글루타르산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 글루타르산/글라이세린/(메트)아크릴산, 글루타르산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 세바산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 세바스산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 세바스산/글라이세린/(메트)아크릴산, 세바스산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 푸마르산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 푸마르산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 푸마르산/글라이세린/(메트)아크릴산, 푸마르산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 이타콘산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 이타콘산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 이타콘산/글라이세린/(메트)아크릴산, 이타콘산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 무수말레산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 무수말레산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 무수말레산/글라이세린/(메트)아크릴산, 무수말레산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 헥사메틸렌 다이아이소시아네이트, 톨릴렌 다이이소시아네이트, 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 자일렌 다이아이소사이아네이트, 4,4'-메틸렌 비스(사이클로헥실아이소사이아네이트), 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 트라이메틸헥사메틸렌 다이아이소시아네이트, 벤질아민, 트라이-n-옥틸아민, 다이-n-옥틸아민, 2-에틸헥실아민, 3-(2-에틸헥실옥시)프로필아민, 아닐린, 다이메틸아닐린, 다이에틸아닐린, 다이-n-프로필아닐린, 다이-iso-프로필아닐린, 아크릴산 다이메틸아미노메틸, 아크릴산 다이메틸아미노에틸, 아크릴산 다이메틸아미노프로필,아크릴산 다이메틸아미노뷰틸, 아크릴산 다이메틸아미노헥실, 메타크릴산 다이메틸아미노메틸, 메타크릴산 다이메틸아미노에틸, 메타크릴산 다이메틸아미노프로필, 메타크릴산 다이메틸아미노뷰틸, 메타크릴산 다이메틸아미노헥실, 아크릴산다이에틸아미노메틸, 아크릴산 다이에틸아미노에틸, 아크릴산 다이에틸아미노프로필, 아크릴산 다이에틸아미노뷰틸, 아크릴산 다이에틸아미노헥실, 메타크릴산 다이에틸아미노메틸, 메타크릴산 다이에틸아미노에틸, 메타크릴산 다이에틸아미노프로필, 메타크릴산 다이에틸아미노뷰틸, 메타크릴산 다이에틸아미노헥실, N-(2-다이메틸아미노에틸)아크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)아크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)아크릴아마이드, N-(2-다이메틸아미노에틸)아크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)아크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)아크릴아마이드, N-(2-다이메틸아미노에틸)메타크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)메타크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)메타크릴아마이드, N-(2-다이메틸아미노에틸)메타크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)메타크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)메타크릴아마이드, 염화 벤잘코늄, 염화 트라이메틸벤질암모늄, 염화 알킬 다이에틸벤질암모늄, 브롬화 트라이에틸벤질암모늄, 염화 트라이옥틸메틸암모늄, 하이드록실화 트라이메틸벤질암모늄, 아크릴산 다이메틸아미노메틸, 아크릴산 다이메틸아미노에틸, 아크릴산 다이메틸아미노프로필,아크릴산 다이메틸아미노뷰틸, 아크릴산 다이메틸아미노헥실, 아크릴산 다이하이드록시에틸아미노에틸, 아크릴산 다이프로필아미노에틸, 아크릴산 다이뷰틸아미노에틸, 메타크릴산 다이메틸아미노메틸, 메타크릴산 다이메틸아미노에틸, 메타크릴산 다이메틸아미노프로필, 메타크릴산 다이메틸아미노뷰틸, 메타크릴산 다이메틸아미노헥실, 아크릴산 다이에틸아미노메틸, 아크릴산 다이에틸아미노에틸, 아크릴산 다이에틸아미노프로필, 아크릴산 다이에틸아미노뷰틸, 아크릴산 다이에틸아미노헥실, 메타크릴산 다이에틸아미노메틸, 메타크릴산 다이에틸아미노에틸, 메타크릴산 다이에틸아미노프로필, 메타크릴산 다이에틸아미노뷰틸, 메타크릴산 다이에틸아미노헥실, 메타크릴산 다이하이드록시에틸아미노에틸, 메타크릴산다이프로필아미노에틸, 메타크릴산 다이뷰틸아미노에틸, N-(2-다이메틸아미노에틸)아크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)아크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)아크릴아마이드,N-(2-다이메틸아미노에틸)아크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)아크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)아크릴아마이드, N-(2-다이메틸아미노에틸)메타크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)메타크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)메타크릴아마이드, N-(2-다이메틸아미노에틸)메타크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)메타크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)메타크릴아마이드, 다이메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 다이에틸아미노에틸 메타크릴레이트, 다이메틸아미노프로필메타크릴레이트, 다이메틸아미노에틸 아크릴레이트, 다이에틸아미노에틸 아크릴레이트, 다이메틸아미노뷰틸 메타크릴레이트, 다이하이드록시에틸아미노에틸 메타크릴레이트, 다이프로필아미노에틸 메타크릴레이트, 다이뷰틸아미노에틸 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 뷰틸 메타크릴레이트, 라우릴 메타크릴레이트, 에틸헥실 메타크릴레이트, 스테아릴 메타크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트, 페닐 메타크릴레이트, 사이클로헥실 메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트, 폴리에틸렌 글라이콜 모노아크릴레이트, 폴리프로필렌 글라이콜 모노메타크릴레이트, 폴리뷰틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜 모노메타크릴레이트 모노메틸에터, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트 모노뷰틸에터, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트 모노스테아릴에터, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트 모노페닐에터, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트 모노벤질에터, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트 모노올레일에테르 등을 들 수 있다. Examples of the polymer additive include rubber modified polystyrene resins, sodium polyacrylate, nitrocellulose, nitrile rubber, diallyl terephthalate resin, melamine resin, benzoguanamine resin, modified polyphenylene ether resin, butyral, Butadiene copolymer, hydrogenated polyisoprene and hydrogenated polybutadiene, styrene, styrene-butadiene copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-butadiene copolymer, Acrylic resin, acrylic resin, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, acrylic copolymer, cycloolefin resin, syndiotactic polystyrene resin, silicone resin, aromatic polyamide, vinyl acetate, cellulose acetate resin, acrylic rubber, acrylic modified silicate, , Acrylonitrile-styrene (AS) resin, melamine acrylate, acrylate urethane, alkyd resin, liquid crystal polyester resin, ethylene-butene-diene copolymer, ethylene vinyl alcohol resin, ethylene-propylene copolymer, ethylene-propylene-diene copolymer, A copolymer of vinyl chloride and vinyl acetate, a urea resin, a urethane resin, an ionomer resin, a phosphoric acid, a gelatin, a chalcogenide, a ketone resin, a xylene resin, a polyetherimide resin, a polyimide resin, a polyvinyl chloride resin, Resin, chlorotrifluoroethylene-ethylene copolymer, chitin, tetrafluoroethylene-ethylene copolymer, tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, Fluorocarbonsulfonic acid (Nafion), phenol resin, phosphine oxide, polacacarride, polynuclear Polyvinylidene fluoride resin, polyvinylidene fluoride resin, polyvinylidene fluoride resin, polyvinylidene fluoride resin, polyvinylidene fluoride resin, polyvinylidene fluoride resin, polyvinylidene fluoride resin, (PSS), a polysiloxane, a polyanetholesulfonic acid (PSS), a polyaniline, a polyvinyl alcohol, a polysaccharide, a polysulfone resin, a polystyrene butadiene copolymer, a polystyrene butadiene copolymer, a polystyrene resin, sodium salt, polyaniline, polyarylate resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyamic acid, polyacetal resin, polyacetylene, polyacrylate, polyacrylonitrile resin, polyacrylic acid (PAA) , Polyester, polyether nitrile, polyether sulfone resin, poly Polyolefin, polyurethane, polyimide resin, polyisoprene, polycarbonate, polycarbodiimide, polyetherketone, polyetherimide, polyetheretherketone, polyetherimide, polyethylene, polyethylene terephthalate, polyethylene tetrafluoride, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, Ketone resin, polychlorotrifluoroethylene, polytetrafluoroethylene copolymer, polythiol, polyphenylene sulfide, polyphenylene ether resin, polypentene, polypeptide, polypropylene, polyphthalamide, polypyrrole, furan resin, (Acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer), PS-b-P4VP (poly (styrene-block-4-vinyl pyridine)), 2-carboxyethyl acrylate, 3- Carboxypropyl, 2-carboxypropyl acrylate, 4-carboxybutyl acrylate, 3-carboxybutyl acrylate, 2-carboxybutyl acrylate , N-hexyl acrylate, n-hexyl acrylate, 5-carboxyhexyl acrylate, n-hexyl acrylate, n-hexyl acrylate, n-hexyl acrylate, n-hexyl acrylate, 4-carboxycyclohexyl acrylate, Carboxyphenyl, acrylic acid? -Carboxy-polycaprolactone, 2-acryloyloxyethylsuccinic acid, 2-acryloyloxyethylphthalic acid, 2-carboxyethyl methacrylate, 3-carboxypropyl methacrylate, Carboxypropyl methacrylate, 4-carboxybutyl methacrylate, 3-carboxybutyl methacrylate, 2-carboxybutyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, N-hexyl methacrylate, 3-carboxyhexyl n-hexyl methacrylate, 2-carboxyhexyl n-hexyl methacrylate, 4-carboxycyclohexyl methacrylate, 4-carboxyphenyl methacrylate, ? -carboxy-polycaprolactone, 2-methacryloyloxyethylsuccinic acid, 2-methacryloyloxyethylphthalic acid, N- ( (3-carboxypropyl) acrylamide, N- (2-carboxypropyl) acrylamide, N- (1,1-dimethyl- (3-carboxybutyl) acrylamide, N- (2-carboxybutyl) acrylamide, N- (6-carboxyhexyl) acrylamide, N- , N- (5-carboxyhexyl) acrylamide, N- (4-carboxyhexyl) acrylamide, N- N-methyl-N- (3-carboxypropyl) acrylamide, N-methyl-N- (2-carboxypropyl) (3-carboxypropyl) acrylamide, N-methyl-N- (4-carboxybutyl) acrylamide, N-methyl- Butyl) acryl (5-carboxyhexyl) acrylamide, N-methyl-N- (2-carboxybutyl) acrylamide, N- N-methyl-N- (2-carboxyhexyl) acrylamide, N- (carboxyhexyl) acrylamide, N- Amide, N- (carboxyhydroxymethyl) methacrylamide, N- (3-carboxypropyl) methacrylamide, N- Carboxybutyl) methacrylamide, N- (6-carboxybutyl) methacrylamide, N- (6-carboxybutyl) ) Methacrylamide, N- (5-carboxyhexyl) methacrylamide, N- (4-carboxyhexyl) methacrylamide, N- N-methyl-N- (carboxy N-methyl-N- (2-carboxypropyl) methacrylamide, N-methyl- Methacrylamide, N-methyl-N- (1,1-dimethyl-3-carboxypropyl) methacrylamide, N- N-methyl-N- (2-carboxybutyl) methacrylamide, N-methyl- Carboxyhexyl) methacrylamide, N-methyl-N- (2-carboxyhexyl) methacrylamide, N-methyl- Methacrylamide, 3-acryloylamino-3-methyl-4-sulfobutyrate, 2-sulfoethyl acrylate, 3-sulfopropyl acrylate, 2-sulfopropyl acrylate, 4-sulfobutyl acrylate, Butyl acrylate, 2-sulfobutyl acrylate, acrylic acid 6-sulfo n-hexyl acrylate, 5-sulfo n-hexyl acrylate, 4-sulfo n-hexyl acrylate, 3-sulfohexyl acrylate, n-hexyl acrylate, 4-sulfocyclohexyl acrylate, , Methacrylic acid 3-sulfopropyl, methacrylic acid 2-sulfopropyl, methacrylic acid 4-sulfobutyl, methacrylic acid 3-sulfobutyl, methacrylic acid 2-sulfobutyl, methacrylic acid 6-sulfo n-hexyl , N-hexyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, 4-sulfo n-hexyl methacrylate, 3-sulfo n-hexyl methacrylate, 2-sulfo n-hexyl methacrylate, 4-sulfocyclohexyl methacrylate, (Sulfopropyl) acrylamide, N- (sulfoethyl) acrylamide, N- (sulfoethyl) acrylamide, N- (3-sulfobutyl) acrylamide, N- (2-sulfobutyl) acrylamide, N- (4-sulfobutyl) acrylamide, N- ) Acrylamide, N- (5- N- (2-sulfohexyl) acrylamide, acrylamide 2-methylpropanesulfonic acid, N- (4-sulfohexyl) acrylamide, N- N-methyl-N- (sulfoethyl) acrylamide, N-methyl-N- (sulfohydroxymethyl) acrylamide, N- Acrylamide, N-methyl-N- (1,1-dimethyl-3-sulfopropyl) (3-sulfobutyl) acrylamide, N-methyl-N- (2-sulfobutyl) acrylamide, N- Acrylamide, N-methyl-N- (2-sulfohexyl) acrylamide, N- (Sulfoethyl) methacrylamide, N- (sulfohydroxymethyl) methacrylamide, N- (3- Methacrylamide, N- (2-sulfopropyl) methacrylamide, N- (1,1-dimethyl-3-sulfopropyl) N- (3-sulfobutyl) methacrylamide, N- (2-sulfobutyl) methacrylamide, N- Methacrylamide, 2-methylpropanesulfonic acid, N-methyl-N (3-sulfohexyl) methacrylamide, N- Methyl-N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide, N-methyl-N- (3- sulfopropyl) methacrylamide, N- Methyl-N- (4-sulfobutyl) methacrylamide, N-methyl-N- (1,1- N- (3-sulfobutyl) methacrylamide, N-methyl-N- (2-sulfobutyl) Methacrylamide, N-methyl-N- (4-sulfohexyl) methacrylamide, N-methyl- , N-methyl-N- (3-sulfohexyl) methacrylamide, N-methyl-N- (2-sulfohexyl) methacrylamide, 2-acryloylamino- , 2-acryloylamino-2- (4-chlorophenyl) -1-propanesulfonic acid, 2- methacryloylamino-2-phenyl-1-propanesulfonic acid, 2- methacryloylamino 2-phosphonoethyl acrylate, 3-phosphonopropyl acrylate, 2-phosphonopropyl acrylate, 4-phosphonobutyl acrylate, 3-phosphonoacrylic acid N-hexyl acrylate 5-phosphonohexyl acrylate, n-hexyl acrylate 4-phosphono-n-hexyl acrylate, 2-phosphonoacrylic acid 2-phosphono n-hexyl, acrylic acid 4-phosphonocycles Hexyl acrylate, 4-phosphonophenyl acrylate, 2-phosphonoethyl methacrylate, 3-phosphonopropyl methacrylate, 2-phosphonopropyl methacrylate, 4-phosphonobutyl methacrylate, 3- Phosphonobutyl methacrylate, 2-phosphonobutyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, methacrylic acid 3 -Phosphono n-hexyl methacrylate, 2-phosphono n-hexyl methacrylate, 4-phosphonocyclohexyl methacrylate, 4-phosphonophenyl methacrylate, N- (phosphonoethyl) (4-phosphonobutyl) acrylamide, N- (2-phosphonopropoxy) acrylamide, N- Amide, N- (3-phosphonobutyl) acrylamide, N- (2-phosphonobutyl) acrylamide, N- (6-phosphonohexyl) acrylamide, N- (2-phosphonohexyl) acrylamide, N-methyl-N- (phosphonoethyl) acrylamide, N- Amide, N-methyl-N- (3-phosphonopropyl) acrylamide, N-methyl- (4-phosphonobutyl) acrylamide, N-methyl-N- (3-phosphonobutyl) acrylamide, N-methyl- (5-phosphonohexyl) acrylamide, N-methyl-N- (4-phosphonohexyl) acrylamide, N-methyl- (3-phosphonohexyl) acrylamide, N-methyl-N- (2-phosphonohexyl) acrylamide, N- (phosphonoethyl) methacrylamide, N- -Phosphonopropyl) methacrylamide, N- (2-phosphonopropyl) methacrylamide, (3-phosphonobutyl) methacrylamide, N- (2-methoxyphenyl) methacrylamide, N- N- (5-phosphonohexyl) methacrylamide, N- (4-phosphonohexyl) methacrylamide, N- (3-phosphonohexyl) methacrylamide, N- (2-phosphonohexyl) methacrylamide, N-methyl-N- (phosphonoethyl) methacrylamide, N- Methyl-N- (1,1-dimethyl-3-phosphonopropyl) methacrylamide, N-methyl Methyl-N- (3-phosphonobutyl) methacrylamide, N-methyl-N- Methyl-N- (6-phosphonohexyl) methacrylamide, N-methyl-N- (5-phosphonohexyl) (3-phosphonohexyl) methacrylamide, N-methyl-N- (2-phosphonohexyl) methacrylamide, N-methyl- Methacrylic acid 2-ethylsulfonic acid, methacrylic acid 2-ethylsulfonic acid, 2-sulfoethyl acrylate, 2-sulfoethyl acrylate, 2-sulfoethyl acrylate, 2-sulfoethyltetramethylammonium acrylate , 2-sulfoethyl methacrylate, 2-sulfoethyl methacrylate, 2-sulfoethylammonium methacrylate, 2-sulfoethyltetramethylammonium methacrylate, 2-sulfopropyl sodium methacrylate, methacrylic 2-methylpropane sulfonic acid, acrylamide 2-methylpropane sulfonate, acrylamide 2-methylpropane sulfonate, acrylamide 2-methylpropane sulfonate, acrylamide 2-methylpropane sulfonate, Potassium 2-methylpropane sulfonate, acrylamide 2-methyl (Meth) acrylate, methyl acrylate, n-butyl acrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, (Meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, lauryl (Meth) acrylate, dimethylhexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (Meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, ethyltrimethylammonium (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, methoxyethyl (Meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of polyethylene glycol, 1,4- (Meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,9-nonene diol di (meth) acrylate, trimethylol propane tri Acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) Acrylic (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, tripentaerythritol penta (meth) acrylate, (Meth) acrylate, malonic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, malonic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid (Meth) acrylic acid, malonic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, malonic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, succinic acid / trimethylolethane / (Meth) acrylic acid, adipic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, adipic acid / trimethylol propane / trimethylol propane / Phenol / (meth) acrylic acid, adipic acid / glycerin (Meth) acrylic acid, adipic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, glutaric acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, glutaric acid / trimethylolpropane / (Meth) acrylic acid, glutaric acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, sebacic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, sebacic acid / trimethylolpropane / (Meth) acrylic acid, sebacic acid / glycerine / (meth) acrylic acid, sebacic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, fumaric acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, fumaric acid / trimethylolpropane / (Meth) acrylic acid, fumaric acid / glycerin / (meth) acrylic acid, fumaric acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, itaconic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, itaconic acid / trimethylolpropane / ) Acrylic acid, itaconic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, itaconic acid / penta (Meth) acrylic acid, maleic anhydride / glycerine / (meth) acrylic acid, maleic anhydride / trimethylol propane / (meth) (Meth) acrylic acid, hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylene diisocyanate, 4,4'-methylene bis ( Cyclohexyl isocyanate), isophorone diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, benzylamine, tri-n-octylamine, di-n-octylamine, 2- ethylhexylamine, 3- -Ethylhexyloxy) propylamine, aniline, dimethyl aniline, diethylaniline, di-n-propylaniline, di-iso-propylaniline, dimethylaminomethyl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, And examples thereof include methylaminopropyl acrylate, dimethylaminobutyl acrylate, dimethylaminohexyl acrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, dimethylaminopropyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, meta Diethylaminoethyl acrylate, diethylaminoethyl acrylate, diethylaminopropyl acrylate, diethylaminobutyl acrylate, diethylaminohexyl acrylate, diethylaminomethyl methacrylate, diethylamino methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, Diethylaminoethyl methacrylate, diethylaminopropyl methacrylate, diethylaminobutyl methacrylate, diethylaminohexyl methacrylate, N- (2-dimethylaminoethyl) acrylamide, N- (3-dimethylaminopropyl) Acrylamide, N- (4-dimethylaminobutyl) acrylamide, N- (6-dimethylaminohexyl) acrylamide Acrylamides such as N- (2-dimethylaminoethyl) acrylamide, N- (3-dimethylaminopropyl) acrylamide, N- Acrylamide, N- (2-dimethylaminoethyl) methacrylamide, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, N- (Dimethylaminoethyl) methacrylamide, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, N- (4-dimethylaminobutyl) methacrylamide Amide, N- (6-dimethylaminohexyl) methacrylamide, benzalkonium chloride, trimethylbenzylammonium chloride, alkyldiethylbenzylammonium chloride, triethylbenzylammonium bromide, trioctylmethylammonium chloride, hydroxylated trimethyl Benzylammonium, dimethylaminomethyl acrylate, acrylic Acrylic acid dimethylaminoethyl acrylate, diethylaminoethyl acrylate, dipropylaminoethyl acrylate, dibutylaminoethyl acrylate, dibutylaminoethyl acrylate, dimethylamino methacrylate Methyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, dimethylaminopropyl methacrylate, dimethylaminobutyl methacrylate, dimethylaminohexyl methacrylate, diethylaminomethyl acrylate, diethylaminoacrylate, diethylaminoacrylate Propyl acrylate, diethylaminoethyl acrylate, diethylaminohexyl acrylate, diethylaminomethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, diethylaminopropyl methacrylate, diethylaminobutyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, Ethylaminohexyl, methacrylic acid or less (3-dimethylaminopropyl) acrylamide, N- (2-dimethylaminoethyl) acrylamide, N- N- (3-dimethylaminopropyl) acrylamide, N (2-dimethylaminoethyl) acrylamide, N- Acrylamide, N- (2-dimethylaminoethyl) methacrylamide, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, N- Methacrylamide, N- (2-dimethylaminoethyl) methacrylamide, N- (4-dimethylaminobutyl) methacrylamide, N- Dimethylaminopropyl) methacrylamide, N- (4-dimethylaminobutyl) methacrylamide, N- (6-dimethylaminohexyl) methacrylamide, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, dimethylaminopropyl methacrylate, dimethylaminoethyl acrylate, diethylaminoethyl acrylate, Dimethylaminoethyl methacrylate, dihydroxyethylaminoethyl methacrylate, dipropylaminoethyl methacrylate, dibutylaminoethyl methacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, Acrylates such as methacrylate, ethylhexyl methacrylate, stearyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, benzyl methacrylate, phenyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, Polyethylene glycol monomethacrylate, polyethylene Polyglycol monoacrylate, polyglycol monoacrylate, polypropylene glycol monomethacrylate, polystyrene glycol monomethacrylate, polyethylene glycol monomethacrylate monomethylether, polyethylene glycol monomethacrylate mono Polyethylene glycol monomethacrylate monobutylether, polyethylene glycol monomethacrylate monostearyl ether, polyethylene glycol monomethacrylate monophenyl ether, polyethylene glycol monomethacrylate monobenzylether, polyethylene glycol monomethacrylate, Acrylate monooleate, and the like.

상기 계면활성제의 예로는 2-알킬-1-알킬-1-히드록시에틸 이미다졸리늄(2-alkyl-1-alkyl-1-hydroxyethyl imidazolium), 2-알킬-1-카르복시메틸-1-히드록시에틸 이미다졸리늄 베타인, 4급 암모늄, 나프탈렌 술폰산 포름알데히드 축합물, 다가 알코올 지방산 부분 에스테르, 도데실벤젠술폰산의 나트륨염(Na-DDBS), 도데실트리메틸암모니움 브로마이드(Dodecyltrimethylammonium bromide, DTAB), 도데실페닐에테르술폰산염, 디알킬술포숙신산, 리튬 도데실 설페이트(Lithium dodecyl sulfate, LDS), 석유 술폰산, 세틸트리메틸 암모늄 브로마이드(CTAB, Cetyl Trimethyl Ammonium Bromide), 소듐 도데실 설페이트(SDS, Sodium Dodecyl Sulfate), 소듐도데실벤젠설포네이트(Sodium dodecylbenzenesulfonate, SDBS), 소듐도데실설포네이트(Sodium dodecylsulfonate, SDSA), 소르비탄 지방산 에스테르, 알킬 황산, 알킬나프탈렌 술폰산, 알킬벤젠 술폰산, 알킬술폰산, 알킬인산, 알킬카르복실산, 제1 지방아민, 제2 지방아민, 제3 지방아민, 지방산 디에탄올 아미드, 테트라알킬암모늄, 트리알킬벤질암모늄 알킬피리디늄, 트리알킬아민 옥시드, 트리에탄올아민 지방산 부분 에스테르, 트리톤(Triton) X-100, 퍼플루오로알킬 벤젠 술폰산, 퍼플루오로알킬 카르복실산, 퍼플루오로알킬 폴리옥시에틸렌 에탄올, 폴리글리세린 지방산 에스테르, 폴리비닐피롤리돈(Poly(vinylpyrrolidone)), 폴리에틸렌 폴리아민 지방산 아미드, 폴리에틸렌옥사이드-폴리부틸렌옥사이드-폴리에틸렌옥사이드 3블럭 공중합체, 폴리옥시알킬디부틸페닐에테르, 폴리옥시알킬렌노닐페닐에테르, 폴리옥시알킬렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시알킬벤질페닐에테르, 폴리옥시알킬비스페닐에테르, 폴리옥시알킬스티릴페닐에테르, 폴리옥시알킬쿠밀페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 다가 알코올 지방산 부분 에스테르, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 수지 산에스테르, 폴리옥시에틸렌 스티렌화 페닐에테르 황산, 폴리옥시에틸렌 알킬 아민, 폴리옥시에틸렌 알킬에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬에테르 인산, 폴리옥시에틸렌 알킬에테르 황산, 폴리옥시에틸렌 알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬페닐에테르 인산, 폴리옥시에틸렌 지방산 디에틸, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 폴리스티릴 페닐에테르, 폴리옥시에틸렌ㆍ폴리프로필렌글리콜, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌-폴리옥시프로필렌 알킬에테르, 폴리옥시에틸렌-폴리옥시프로필렌글리콜, 폴리옥시에틸렌화 피마자유, 플루오로알킬 카르복실산, 황산화 유지, Brij-series, N,N,N-트리알킬-N-술포알킬렌 암모늄 베타인, N,N-디메틸-N-알킬-N-카르복시 메틸암모늄 베타인, N,N-디알킬모르폴리늄, N,N-디알킬아미노 알킬렌 카르복실산염, N,N-디알킬-N,N-비스폴리옥시에틸렌 암모늄 황산 에스테르 베타인, N-메틸-N-올레일 타우린, Triton X-series, Tween-series (Polyoxyethyelene Sorbitan Monooleate), α-술폰화 지방산, α-올레핀 술폰산, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리비닐피롤, 폴리비닐알코올, 가넥스(Ganax), 전분, 단당류(monosaccharide), 다당류(polysaccharide), 검아라빅(Gum Arabic, GA) , 나피온(Nafion, 퍼플루오르카본술폰산) 등을 들 수 있다.Examples of the surfactant include 2-alkyl-1-alkyl-1-hydroxyethyl imidazolium, 2-alkyl-1-carboxymethyl- (Na-DDBS), dodecyltrimethylammonium bromide (DTAB), dodecyltrimethylammonium bromide, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium bromide, ), Dodecylphenyl ether sulfonate, dialkylsulfosuccinic acid, lithium dodecyl sulfate (LDS), petroleum sulfonic acid, CTAB (Cetyl Trimethyl Ammonium Bromide), sodium dodecyl sulfate Dodecyl Sulfate, Sodium dodecylbenzenesulfonate (SDBS), Sodium dodecylsulfonate (SDSA), sorbitan fatty acid esters, alkylsulfuric acid, alkylnaphthalenesulfonic acid, alkylbenzenesulfonic acid A fatty acid amide, a fatty acid diethanolamide, a tetraalkylammonium, a trialkylbenzylammonium alkylpyridinium, a trialkylamine oxide, a trialkylamine, , Triethanolamine fatty acid partial ester, Triton X-100, perfluoroalkylbenzenesulfonic acid, perfluoroalkylcarboxylic acid, perfluoroalkylpolyoxyethylene ethanol, polyglycerin fatty acid ester, polyvinylpyrrolidone ( Poly (vinylpyrrolidone), polyethylene polyamine fatty acid amide, polyethylene oxide-polybutylene oxide-polyethylene oxide 3-block copolymer, polyoxyalkyl dibutyl phenyl ether, polyoxyalkylene nonyl phenyl ether, polyoxyalkylene octyl phenyl ether, Polyoxyalkyl benzyl phenyl ether, polyoxy alkyl biphenyl ether, polyoxyalkyl styryl phenyl ether, polyoxyalkyl Polyoxyethylene fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene resin acid esters, polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfuric acid, polyoxyethylene alkylamine, polyoxyethylene alkyl ether, poly Polyoxyethylene alkyl ether sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphates, dioxy polyoxyethylene fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, poly Oxyethylene-polypropylene glycol, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene-polyoxypropylene alkyl ether, polyoxyethylene-polyoxypropylene glycol, polyoxyethylenated castor oil, fluoroalkyl carboxylic acid, , Brij-series, N, N, N-tri Alkyl-N-sulfoalkylene ammonium betaine, N, N-dimethyl-N-alkyl-N-carboxymethylammonium betaine, N, N-dialkylmorphuronium, N-methyl-N-oleyl taurine, Triton X-series, Tween-series (Polyoxyethylene sorbitan monooleate), α-lysine Monosaccharide, polysaccharide, Gum Arabic (GA), Nafion (polyvinylpyrrolidone), polyvinylpyrroles, polyvinyl alcohols, Ganax, starch, monosaccharides, polysaccharides, Nafion, perfluorocarbonsulfonic acid), and the like.

도전 패턴(120)은 중앙부의 제1 영역(121)과 제1 영역(121) 주변에 형성된 제2 영역(122)을 포함한다. 제1 영역(121)은 제2 영역(122)보다 같은 공간 내의 도전체(125)의 밀도가 더 크다.The conductive pattern 120 includes a first region 121 in the center and a second region 122 formed in the periphery of the first region 121. The first region 121 has a greater density of the conductors 125 in the same space than the second region 122.

도전 패턴(120)을 구성하는 물질이 탄소나노튜브인 예를 들어 설명하면, 제1 영역(121)의 도전체(125)의 밀도는 제2 영역(122)의 도전체(125)의 밀도보다 크다. 즉, 같은 공간 내에서 제2 영역(122)보다 제1 영역(121)이 상기 공간을 채우는 탄소나노튜브의 양이 더 많다. The density of the conductors 125 in the first region 121 is greater than the density of the conductors 125 in the second region 122. For example, Big. That is, the amount of the carbon nanotube that the first region 121 fills the space is larger than the second region 122 in the same space.

도전체(125)의 밀도는 입체적으로 배치된 도전체(125)를 평면에 투영하였을 때의 밀도로 환산되어 계산될 수 있다. 따라서, 도전체(125)의 밀도 결정의 기준이 되는 공간은 도전체(125)가 배치되지 않는 영역을 포함할 수 있다. 이를 도전성 필름의 두께 관점에서 설명하면, 예를 들어, 제1 영역(121)은 제2 영역(122)보다 두께가 두꺼울 수 있다. 이 경우 제1 영역(121)이 제2 영역(122)과 같은 두께의 공간에서 제1 영역(121)과 동일한 밀도를 갖는다고 하더라도, 제1 영역(121)과 같은 두께의 공간을 기준으로 따지면 제2 영역(122)은 도전체(125)가 존재하지 않는 공간이 있어 밀도가 희석된다. 따라서, 이 경우 제1 영역(121)의 밀도가 제2 영역(122)의 밀도보다 크다고 해석된다.The density of the conductor 125 can be calculated by converting the density of the three-dimensionally arranged conductor 125 onto a plane. Therefore, the space serving as a reference for determining the density of the conductor 125 may include a region where the conductor 125 is not disposed. For example, the first region 121 may be thicker than the second region 122 in terms of the thickness of the conductive film. In this case, even if the first region 121 has the same density as the first region 121 in a space having the same thickness as that of the second region 122, The second region 122 has a space in which the conductor 125 does not exist, and the density is diluted. Therefore, in this case, it is interpreted that the density of the first region 121 is greater than the density of the second region 122. [

특정 공간에 탄소나노튜브가 채워져 있으면, 아무리 탄소나노튜브의 직경이 작아 광투과율이 높다고 하더라도, 탄소나노튜브가 채워져 있지 않은 경우에 비하여 광투과율이 낮아진다. 따라서, 이와 같은 제2 영역(122)의 존재는 제2 영역(122) 폭까지 모두 제1 영역(121)과 동일한 밀도로 도전체(125)가 채워져 있는 경우에 비해 도전성 필름의 전체적인 광투과율을 증가시킨다. When the carbon nanotube is filled in a specific space, the light transmittance is lower than when the carbon nanotube is not filled even if the diameter of the carbon nanotube is small and the light transmittance is high. Accordingly, the presence of the second region 122 allows the overall light transmittance of the conductive film to be lower than that of the case where the conductor 125 is filled to the width of the second region 122 at the same density as the first region 121 .

뿐만 아니라, 상대적으로 밀도가 낮은 제2 영역(122)으로 인해 도전체(125)의 사용량이 감소하므로, 원가가 감소하는 효과가 있다.In addition, since the amount of the conductor 125 is reduced due to the second region 122 having a relatively low density, the cost is reduced.

한편, 도전 패턴(120)의 전도율은 도전체(125)의 길이가 전체 패턴의 길이와 같지 않은 이상, 각 도전체(125)간 상호 접촉하는 접촉점의 개수에 비례한다. 즉, 각 도전체(125)가 더 많이 상호 교차하면 할수록 전도율이 높아진다. 각 도전체(125)의 교차점의 개수는 도전체(125)의 길이 및 도전체(125)의 밀도에 비례한다. 도전체(125)의 길이가 결정되어 있다면, 교차점의 개수는 도전체(125)의 밀도가 커질수록 커지며, 그에 따라 전도율이 증가한다. 이러한 관점에서, 제1 영역(121)은 제2 영역(122)보다 전도율이 높을 것임을 예상할 수 있다. 제2 영역(122)의 경우에도 제1 영역(121)보다는 정도가 덜 하지만, 도전체(125)가 분포되어 있고 이들간 교차점도 형성되어 있으므로, 제1 영역(121)보다는 낮은 전도율을 나타낸다. 따라서, 제2 영역(122)의 존재는 도전 패턴(125)이 제1 영역(121)에 해당하는 폭만으로 형성된 경우에 비해 전체적인 도전성 필름의 전도율을 증가시킨다. On the other hand, the conductivity of the conductive pattern 120 is proportional to the number of contact points between the conductors 125, as long as the length of the conductor 125 is not equal to the length of the entire pattern. That is, as the conductors 125 cross each other more, the conductivity increases. The number of intersections of each conductor 125 is proportional to the length of the conductor 125 and the density of the conductor 125. If the length of the conductor 125 is determined, the number of intersections increases as the density of the conductor 125 increases, thereby increasing the conductivity. From this point of view, it can be expected that the first region 121 will have a higher conductivity than the second region 122. The conductivity of the second region 122 is lower than that of the first region 121 but the conductivity is lower than that of the first region 121 since the conductors 125 are distributed and the intersections therebetween are formed. Therefore, the presence of the second region 122 increases the conductivity of the entire conductive film compared to the case where the conductive pattern 125 is formed only in the width corresponding to the first region 121. [

제1 영역(121)에 전압이 인가된 경우, 도전체(125)를 따라서 전하가 흐른다. 각 도전체(125)가 다른 도전체(125)와 교차하면, 이러한 교차점을 통해 다른 도전체(125)로 전하가 전달된다. 그런데, 일부의 루트는 제1 영역(121)의 폭 방향의 에지를 포함할 수 있고, 만약 제2 영역(122)이 없다면, 여기에서 특정 도전체(125)가 전하를 전달한 도전체(125)가 아닌 다른 도전체(125)와 교차하지 않는 경우가 발생하여 전하의 전달이 중지된다. 제2 영역(122)에 비록 낮은 밀도이지만 도전체(125)가 있어 상기 제1 영역(121)의 에지 부분의 도전체(125)와 교차점을 형성한다면, 전하의 전달이 중지되지 않고 계속될 수 있다. 이와 같이, 제2 영역(122)은 제1 영역(121)에 인가된 전압에 대해서도 전도율을 높이는 기능을 수행할 수 있다. When a voltage is applied to the first region 121, a charge flows along the conductor 125. When each conductor 125 intersects another conductor 125, charge is transferred to the other conductor 125 through this intersection. However, some of the roots may include an edge in the width direction of the first region 121, and if the second region 122 is not present, There is a case where the conductor does not intersect with the conductor 125 other than the conductor 125, and the transfer of the charge is stopped. If the second region 122 has a low density but a conductor 125 and forms an intersection with the conductor 125 at the edge portion of the first region 121, the transfer of charge can continue without stopping have. In this way, the second region 122 can also function to increase the conductivity with respect to the voltage applied to the first region 121.

뿐만 아니라, 제2 영역(122)은 전체 도전 패턴(120)의 전하 전달 기능을 다분화할 수 있다. 예를 들어, 도전 패턴(120)의 제1 영역(121)에 제1 전압이 인가되면, 제1 영역(121)은 제1 전류를 전달한다. 반면, 도전 패턴(120)의 제2 영역(122)에 같은 상기 제1 전압이 인가되면, 제2 영역(122)은 제1 영역(121)보다 저항이 크므로, 제1 전류보다는 작은 제2 전류를 전달한다. 상당히 낮은 전압이 인가될 경우, 제1 영역(121)의 경우 전류를 전달하지만, 제2 영역(122)의 경우 상대적으로 높은 저항에 의해 전류를 전달하지 않을 수도 있다. 즉, 도전 패턴(120)의 영역별로 서로 다른 전류를 흘릴 수 있어, 그에 따른 다양한 정보의 수집이 가능해진다.In addition, the second region 122 can differentiate the charge transfer function of the entire conductive pattern 120. For example, when a first voltage is applied to the first region 121 of the conductive pattern 120, the first region 121 carries a first current. On the other hand, when the same first voltage is applied to the second region 122 of the conductive pattern 120, since the second region 122 has a resistance higher than that of the first region 121, Current. When a significantly low voltage is applied, it may carry current in the first region 121 but not in the second region 122 due to a relatively high resistance. In other words, different electric currents can be supplied for each region of the conductive pattern 120, and various information can be collected accordingly.

본 발명의 다른 몇몇 실시예에서, 제2 영역(122)을 구성하는 도전체(125)가 주변부로 갈수록 공간을 기준으로 한 도전체(125)의 밀도가 작아진다. 즉, 제2 영역(122)은 제1 영역(121)과의 경계로부터 외측으로 멀어질수록 광투과율이 높아질 수 있다. 몇몇 실시예에서, 제2 영역(122)의 두께는 제1 영역(121)으로부터 멀어질수록 작아질 수 있다.In some other embodiments of the present invention, as the conductors 125 that make up the second region 122 move closer to the periphery, the density of the conductors 125 relative to the space becomes smaller. That is, the farther from the boundary between the second region 122 and the first region 121, the higher the light transmittance can be. In some embodiments, the thickness of the second region 122 may be smaller as it is away from the first region 121.

도전 패턴(120)은 도 1에 도시된 바와 같이, 평명도 상에서 일 방향으로 평행하게 연장된 복수의 스트라이프 패턴으로 구현될 수 있다. 이때, 각 스트라이프 패턴의 폭은 50㎛ 내지 10,000㎛일 수 있다. 이중 제2 영역을 제외한 제1 영역의 폭은 10㎛ 내지 5,000㎛일 수 있다. 이웃하는 스트라이프 패턴 사이의 간격은 50㎛ 내지 10,000㎛일 수 있다. 상술한 범위에 있을 때, 높은 투과도 및 전도율이 확보된 저항막 방식의 터치 패널로의 적용이 용이하다. The conductive pattern 120 may be embodied as a plurality of stripe patterns extending in parallel in one direction on a flatness degree, as shown in Fig. At this time, the width of each stripe pattern may be 50 탆 to 10,000 탆. The width of the first region other than the second region may be 10 탆 to 5,000 탆. The spacing between neighboring stripe patterns may be between 50 μm and 10,000 μm. In the above-mentioned range, it is easy to apply to a resistance film type touch panel in which high transmittance and conductivity are ensured.

도전 패턴(120)은 기판(110)의 표면에 직접 부착될 수도 있지만, 기판(110)의 표면처리에 의해 노출된 작용기와 결합되어 부착되거나, 접착층 또는 링커 등 다른 매개층을 개재하여 부착될 수도 있다. The conductive pattern 120 may be directly attached to the surface of the substrate 110, but it may be bonded to the functional group exposed by the surface treatment of the substrate 110, or may be attached via another intermediate layer such as an adhesive layer or a linker have.

이하, 더욱 다양한 도전 패턴이 구현된 본 발명의 다른 실시예들을 설명한다.Hereinafter, other embodiments of the present invention in which more various conductive patterns are implemented will be described.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다. 도 4를 참조하면, 본 실시예에 따른 도전성 필름은 도전 패턴(120a, 120b, 120c, 120d)이 섬형 패턴을 이루고 있는 점이 도 2의 실시예와 상이하다. 섬형 패턴을 이루고 있지만, 중심부는 상대적으로 도전체의 밀도가 큰 제1 영역(121a, 121b, 121c, 121d)이, 제1 영역(121a, 121b, 121c, 121d)의 주변은 상대적으로 도전체의 밀도가 작은 제2 영역(122a, 122b, 122c, 122d)이 배치되는 점은 동일하다. 각 섬형 패턴은 서로 절연되어 있을 수도 있지만, 도시하지 않은 콘택이나 연결배선을 통해 상호 전기적으로 연결될 수도 있다.4 is a plan view of a conductive film according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, the conductive film according to the present embodiment is different from the embodiment of FIG. 2 in that the conductive patterns 120a, 120b, 120c, and 120d form a island pattern. The periphery of the first regions 121a, 121b, 121c, and 121d is surrounded by the first regions 121a, 121b, 121c, and 121d, The second regions 122a, 122b, 122c, and 122d having a smaller density are disposed. The island patterns may be insulated from each other, but they may be electrically connected to each other through a contact (not shown) or a connection wiring.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다. 도 5를 참조하면, 도전성 필름은 복수의 제1 도전 패턴(220) 및 복수의 제2 도전 패턴(320)을 포함한다. 복수의 제1 도전 패턴(220) 및 복수의 제2 도전 패턴(320)은 모두 상술한 도전체를 포함한다. 각 제1 도전 패턴(220)은 복수의 섬형 패턴부(221)와 이웃하는 섬형 패턴부(221)를 연결하는 연결 패턴(222)을 포함하여 전체적으로 제1 방향(Y)으로 연장된 스트라이프 패턴으로 이루어져 있고, 이들이 제2 방향(X)을 따라 반복하여 배열되어 있다. 복수의 제2 도전 패턴(320)은 각 제1 도전 패턴(220)의 각 섬형 패턴부(221) 사이에 배치된 섬형 패턴으로 이루어져 있다. 제1 도전 패턴(220)의 각 섬형 패턴부(221)와 각 제2 도전 패턴(320)의 섬형 패턴은 서로 엇갈린 행렬 배열 구조를 갖는다. 분리되어 있는 각 제2 도전 패턴(320)들은 도시하지 않은 콘택이나 연결배선을 통해 제1 방향(Y)에 수직한 제2 방향(X)으로 전기적으로 연결될 수도 있다.5 is a plan view of a conductive film according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, the conductive film includes a plurality of first conductive patterns 220 and a plurality of second conductive patterns 320. The plurality of first conductive patterns 220 and the plurality of second conductive patterns 320 all include the conductors described above. Each of the first conductive patterns 220 includes a connection pattern 222 connecting the plurality of island pattern units 221 and adjacent island pattern units 221 to form a stripe pattern extending in the first direction Y as a whole And they are arranged repeatedly in the second direction X. The plurality of second conductive patterns 320 are formed in island patterns arranged between the island pattern portions 221 of the first conductive patterns 220. The island patterns of the first conductive patterns 220 and the island patterns of the second conductive patterns 320 have a matrix arrangement of staggered arrangement. The separated second conductive patterns 320 may be electrically connected in a second direction X perpendicular to the first direction Y through a contact or a connection wiring (not shown).

제1 도전 패턴(220)과 제2 도전 패턴(320)은 중심부가 상대적으로 도전체의 밀도가 큰 제1 영역으로, 제1 영역의 주변부는 상대적으로 도전체의 밀도가 작은 제2 영역으로 이루어진다. 몇몇 다른 실시예에서 제1 도전 패턴의 연결 패턴은 제1 영역만으로 이루어지거나, 제1 영역보다 전도율이 높은 제3 영역으로 이루어질 수도 있다.The first conductive pattern 220 and the second conductive pattern 320 are formed of a first region having a relatively large conductor density at the center portion and a second region having a relatively small conductor density at a peripheral portion of the first region . In some other embodiments, the connection pattern of the first conductive pattern may consist of only the first region, or may be a third region having a higher conductivity than the first region.

이상에서 설명한 본 발명의 실시예들에 따른 도전필름은 투명도전막으로 기능하므로, 광범위한 적용범위를 갖는다. The conductive film according to the embodiments of the present invention described above functions as a transparent conductive film, and thus has a wide application range.

예를 들어, 도 1 및 도 2의 실시예에 따른 도전성 필름은 저항막 방식의 터치 패널에 적용가능하다. 예컨대, 스프라이프 패턴을 갖는 2개의 도전성 필름을 상호 스프라이트 패턴이 교차하는 방향으로, 각 도전 패턴이 상호 마주보도록 배치하고, 그 사이에 다수의 압전소자를 개재함으로써, 저항막 방식의 터치 패널을 구성할 수 있다. For example, the conductive film according to the embodiment of FIGS. 1 and 2 is applicable to a resistive touch panel. For example, two conductive films having a sprite pattern are arranged so that the conductive patterns cross each other in the direction in which the sprite patterns cross each other, and a large number of piezoelectric elements are interposed therebetween. can do.

이와 같은 터치 패널은 상술한 것처럼, 투명도와 전도율이 동시에 개선될 수 있다.Such a touch panel can improve the transparency and the conductivity at the same time, as described above.

또, 도 5의 실시예에 따른 도전성 필름은 정전 방식의 터치 패널로 적용가능하다. 이와 같은 터치 패널의 경우에도 투명도와 전도율이 동시에 개선될 수 있다.In addition, the conductive film according to the embodiment of Fig. 5 can be applied to an electrostatic touch panel. Even in the case of such a touch panel, transparency and conductivity can be simultaneously improved.

나아가, 본 발명의 실시예들에 따른 도전성 필름은 높은 투명도와 높은 전도율을 동시에 보유하기 때문에, 액정표시장치, 유기EL 표시장치 등의 화소 전극이나 공통 전극으로 사용될 수 있다. 또, 태양전지의 투명 전극으로도 적용가능하다. 기타 투명 도전막이 요구되는 다양한 디스플레이나 조명 등에도 적용가능함은 물론이다.Further, since the conductive film according to the embodiments of the present invention has both high transparency and high conductivity, it can be used as a pixel electrode or a common electrode of a liquid crystal display device, an organic EL display device, or the like. It is also applicable as a transparent electrode of a solar cell. It goes without saying that the present invention is also applicable to various displays and lights that require other transparent conductive films.

이하, 본 발명의 실시예들에 따른 도전성 필름의 제조 방법에 대해 설명한다. 이하에서 설명하는 도전성 필름의 제조 방법은 예시적인 것에 불과하며, 더욱 다양한 방법으로 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 도전성 필름을 제조할 수 있음을 당업자라면 쉽게 이해할 수 있을 것이다.Hereinafter, a method of manufacturing a conductive film according to embodiments of the present invention will be described. It is to be understood by those skilled in the art that the method of manufacturing a conductive film described below is merely illustrative and that a conductive film according to various embodiments of the present invention can be manufactured in a more various ways.

도 6 및 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 6 and 7 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a conductive film according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 6을 참조하면, 기판(110) 상에 오픈부(410)를 정의하는 마스크 패턴(400)을 형성한다. 마스크 패턴(400)은 포토레지스트 패턴이나 하드 마스크 패턴으로 이루어질 수 있다. 마스크 패턴(400)은 오픈부(410)를 향해 하향 경사진 측벽402)을 포함한다. 오픈부(410)의 폭은 형성하려는 도전 패턴의 폭에 대응되도록 한다.First, referring to FIG. 6, a mask pattern 400 defining an open portion 410 is formed on a substrate 110. The mask pattern 400 may be formed of a photoresist pattern or a hard mask pattern. The mask pattern 400 includes a side wall 402 that is inclined downward toward the open portion 410). The width of the open portion 410 corresponds to the width of the conductive pattern to be formed.

도 7을 참조하면, 마스크 패턴(400)이 형성된 기판(110) 상에 소정의 종횡비를 갖는 경우 도전체(125)를 포함하는 조성물을 제공한다. 조성물에 포함된 도전체(125) 중 일부는 오픈부(410)를 통하여 노출된 기판(110)의 표면에 배치되지만, 다른 일부는 마스크 패턴(400)의 상면(404)에, 또 다른 일부는 마스크 패턴(400)의 측벽(402)에 배치된다. 몇몇 도전체(125)는 그 일단이 기판(110)의 표면에, 타단은 마스크 패턴(400)의 측벽(402)에 배치되기도 한다. Referring to FIG. 7, there is provided a composition comprising a conductor 125 having a predetermined aspect ratio on a substrate 110 on which a mask pattern 400 is formed. Some of the conductors 125 included in the composition are disposed on the surface of the substrate 110 exposed through the open portion 410 while the other portion is disposed on the top surface 404 of the mask pattern 400, And is disposed on the side wall 402 of the mask pattern 400. Some conductors 125 are disposed on the surface of the substrate 110 at one end and the sidewalls 402 of the mask pattern 400 at the other end.

기판(110) 측에서 바라보면, 오픈부(410)의 중앙부는 도전체(125)가 배치되는 데에 다른 제한이 없어 균일하게 도전체(125)가 배치되지만, 오픈부(410)의 주변부는 마스크 패턴(400)의 측벽(402)의 영향으로 온전히 기판(110)의 표면에 배치되지 못하고, 기판(110)과 마스크 패턴(400)의 측벽(402) 사이에 걸치거나, 마스크 패턴(400) 위에 부유하여 배치된다.The conductor 125 is uniformly disposed at the central portion of the open portion 410 without any limitation in the arrangement of the conductor 125. The peripheral portion of the open portion 410, The mask pattern 400 may not be disposed entirely on the surface of the substrate 110 due to the influence of the side wall 402 of the mask pattern 400 and may extend between the substrate 110 and the side wall 402 of the mask pattern 400, As shown in Fig.

이어, 기판(110)에 배치된 도전체(125)를 기판(110) 상에 고정한다. 도전체(125)를 기판(110) 상에 고정하는 방법은 예를 들어, 상기 조성물을 건조하는 것을 포함할 수 있다. 그와 동시에 또는 별도로 상기 조성물에 열 에너지 또는 자외선과 같은 빛 에너지를 가하여 도전체(125)를 기판(110) 표면에 고정할 수도 있다. 또 다른 방법으로, 조성물을 건조한 후 그 위에 접착제를 제공하여 기판(110) 상에 도전체(125)를 고정할 수도 있다. 또한, 조성물의 제공 전에 기판(110)의 표면을 산 등의 화합물, 플라즈마, 초음파 등을 이용하여 물리 또는 화학적으로 처리하거나, 기판(110)의 표면에 링커를 개재시키는 것에 의해 도전체(125)의 고정을 도모할 수도 있다. 그 밖에 도전체(125)를 기판(110)의 표면에 고정하는 다른 다양한 방법이 적용될 수 있다.Next, the conductor 125 disposed on the substrate 110 is fixed on the substrate 110. Methods of securing the conductor 125 on the substrate 110 can include, for example, drying the composition. At the same time or separately, the conductor 125 may be fixed to the surface of the substrate 110 by applying light energy such as thermal energy or ultraviolet rays to the composition. Alternatively, the composition may be dried and then provided with an adhesive thereon to secure the conductor 125 on the substrate 110. The surface of the substrate 110 may be physically or chemically treated with a compound such as acid, plasma, ultrasonic waves, or the like before the composition is provided, or the linker may be interposed between the surface of the substrate 110 and the conductor 125, It is also possible to fix the fixing member. Other various methods of fixing the conductor 125 to the surface of the substrate 110 may also be applied.

이어, 마스크 패턴(400)을 제거한다. 마스크 패턴(400)이 포토레지스트 패턴으로 이루어지는 경우, 애싱이나 스트리퍼를 이용하여 제거할 수 있다. 마스크 패턴(400)이 하드 마스크인 경우, 건식 또는 습식 식각 공정을 이용하여 마스크 패턴(400)을 제거할 수 있다. Then, the mask pattern 400 is removed. When the mask pattern 400 is made of a photoresist pattern, it can be removed by ashing or stripper. When the mask pattern 400 is a hard mask, the mask pattern 400 can be removed using a dry or wet etching process.

마스크 패턴(400)의 제거시 마스크 패턴(400)의 표면(404)에 배치되었던 도전체(125)는 함께 제거된다. 이때, 마스크 패턴(400)의 측벽(402)에 부유하여 배치되었던 도전체(125)도 함께 제거된다. 일단이 마스크 패턴(400)의 측벽(402)에 배치되고 타단이 기판(110)의 표면에 배치된 도전체(125)는 마스크 패턴(400)의 제거와 함께 제거될 수도 있고, 잔류할 수도 있다.The conductors 125 that were disposed on the surface 404 of the mask pattern 400 upon removal of the mask pattern 400 are removed together. At this time, the conductors 125, which were floated on the side wall 402 of the mask pattern 400, are also removed. The conductor 125 whose one end is disposed on the sidewall 402 of the mask pattern 400 and the other end is disposed on the surface of the substrate 110 may be removed or remained with the removal of the mask pattern 400 .

그 결과, 기판(110) 상에는 오픈부(410) 내의 도전체(125)만이 잔류하여 도전 패턴을 구성하게 된다. 다만, 마스크 패턴(400)의 측벽(402)에 인접한 영역은 상술한 것처럼 마스크 패턴(400)의 제거와 함께 부분적으로 제거되므로, 중심부보다 더 작은 밀도의 도전체(125)만이 잔류하게 된다. 따라서, 도 2에 도시된 바와 같이 잔류된 도전 패턴(120)은 중심부의 제1 영역(121) 및 제1 영역(121)의 주변부에 배치되고, 제1 영역(121)보다 도전체(125)의 밀도가 낮아 투과율이 높은 제2 영역(122)을 포함하게 된다.As a result, only the conductor 125 in the open portion 410 remains on the substrate 110 to form a conductive pattern. However, since the region adjacent to the side wall 402 of the mask pattern 400 is partially removed together with the removal of the mask pattern 400 as described above, only the conductor 125 having a smaller density than the center portion remains. 2, the remaining conductive pattern 120 is disposed in the peripheral region of the first region 121 and the first region 121 at the central portion, and is electrically connected to the conductive region 125, The second region 122 having a low transmittance and a low density.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, You will understand. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

Claims (17)

기판; 및
상기 기판 상에 형성되며, 도전체를 포함하는 도전 패턴을 포함하되,
상기 도전 패턴은 평면상 중심부에 위치하고 도전성을 갖는 제1 영역, 및 상기 제1 영역과 맞닿아 상기 제1 영역의 주변부에 형성되고 도전성을 갖는 제2 영역을 포함하며,
상기 제1 영역과 상기 제2 영역은 상호 전기적으로 연결되어 있고,
상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 상기 도전체의 밀도가 더 크며,
상기 제1 영역의 두께 방향으로의 상기 도전체의 밀도는 균일한 도전성 필름.
Board; And
A conductive pattern formed on the substrate, the conductive pattern including a conductor,
Wherein the conductive pattern includes a first region that is located at a center on a plane and has conductivity and a second region that is formed at a peripheral portion of the first region and has conductivity, the first region being in contact with the first region,
Wherein the first region and the second region are electrically connected to each other,
Wherein the first region has a greater density of the conductor than the second region,
Wherein the density of the conductor in the thickness direction of the first region is uniform.
제1 항에 있어서,
상기 제2 영역은 상기 제1 영역보다 광투과율이 높은 도전성 필름.
The method according to claim 1,
And the second region has a higher light transmittance than the first region.
제1 항에 있어서,
상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 전도율이 높은 도전성 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the first region has a higher conductivity than the second region.
삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 도전체는 종횡비가 3:1 이상인 도전성 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive material has an aspect ratio of 3: 1 or more.
삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 제2 영역은 상기 제1 영역의 경계로부터 외측으로 멀어질수록 상기 도전체의 밀도가 작아지는 도전성 필름.
The method according to claim 1,
And the density of the conductor decreases as the second region is further away from the boundary of the first region.
제1 항에 있어서,
상기 기판과 상기 도전 패턴의 부착을 매개하는 매개층을 더 포함하는 도전성 필름.
The method according to claim 1,
Further comprising an intermediate layer that mediates adhesion between the substrate and the conductive pattern.
기판; 및
상기 기판 상에 형성되며, 일 방향으로 평행하게 연장된 복수의 도전 패턴을 포함하되,
상기 각 도전 패턴은 평면상 중심부에 위치하고 도전성을 갖는 제1 영역, 및 상기 제1 영역과 맞닿아 상기 제1 영역의 주변부에 형성되고 도전성을 갖는 제2 영역을 포함하며,
상기 제1 영역과 상기 제2 영역은 상호 전기적으로 연결되어 있고,
상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 도전체의 밀도가 더 크며,
상기 제1 영역의 두께 방향으로의 도전체의 밀도는 균일한 도전성 필름.
Board; And
A plurality of conductive patterns formed on the substrate and extending in parallel in one direction,
Wherein each of the conductive patterns includes a first region that is located at a center on a plane and has conductivity and a second region that is formed at a peripheral portion of the first region and has a conductivity in contact with the first region,
Wherein the first region and the second region are electrically connected to each other,
Wherein the first region has a greater density of conductors than the second region,
Wherein the density of the conductor in the thickness direction of the first region is uniform.
삭제delete 제9 항에 있어서,
상기 각 도전 패턴의 선폭은 50㎛ 내지 10,000㎛인 도전성 필름.
10. The method of claim 9,
Wherein each of the conductive patterns has a line width of 50 mu m to 10,000 mu m.
제11 항에 있어서,
상기 각 도전 패턴의 제1 영역의 폭은 10㎛ 내지 5,000㎛인 도전성 필름.
12. The method of claim 11,
Wherein the first region of each conductive pattern has a width of 10 mu m to 5,000 mu m.
제11 항에 있어서,
이웃하는 상기 각 도전 패턴의 간격은 50㎛ 내지 10,000㎛인 도전성 필름.
12. The method of claim 11,
Wherein the interval between adjacent conductive patterns is 50 占 퐉 to 10,000 占 퐉.
기판; 및
상기 기판 상에 형성된 복수의 제1 도전 패턴 및 복수의 제2 도전 패턴을 포함하되,
상기 하나의 제1 도전 패턴은 복수의 섬형 패턴부 및 이웃하는 상기 섬형 패턴부를 연결하는 연결 패턴을 포함하여 제1 방향으로 연장된 스트라이프 패턴으로 형성되고,
상기 복수의 제1 도전 패턴은 제2 방향을 따라 반복하여 배열되고,
상기 각 제2 도전 패턴은 섬형 패턴으로 이루어지되, 상기 각 제2 도전 패턴은 상기 제2 방향으로 이웃하는 상기 제1 도전 패턴들 사이에 배치되며,
상기 각 제1 도전 패턴의 상기 섬형 패턴부 및 상기 각 제2 도전 패턴은 평면상 중심부에 위치하고 도전성을 갖는 제1 영역, 및 상기 제1 영역과 맞닿아 상기 제1 영역의 주변부에 형성되고 도전성을 갖는 제2 영역을 포함하고,
상기 제1 영역과 상기 제2 영역은 상호 전기적으로 연결되어 있고,
상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 도전체의 밀도가 더 크며,
상기 제1 영역의 두께 방향으로의 도전체의 밀도는 균일한 도전성 필름.
Board; And
A plurality of first conductive patterns and a plurality of second conductive patterns formed on the substrate,
Wherein the one first conductive pattern is formed in a stripe pattern extending in a first direction including a plurality of island pattern portions and a connection pattern connecting adjacent island pattern portions,
Wherein the plurality of first conductive patterns are repeatedly arranged along a second direction,
Wherein each of the second conductive patterns has a island pattern, each of the second conductive patterns is disposed between the adjacent first conductive patterns in the second direction,
Wherein the island-shaped pattern portion and the second conductive pattern of each first conductive pattern have a first region that is located at a center on a plane and has conductivity, and a second region that is formed at a peripheral portion of the first region, And a second region having a first region,
Wherein the first region and the second region are electrically connected to each other,
Wherein the first region has a greater density of conductors than the second region,
Wherein the density of the conductor in the thickness direction of the first region is uniform.
삭제delete 제14 항에 있어서,
상기 각 제1 도전 패턴의 섬형 패턴부와 상기 제2 도전 패턴은 서로 엇갈린 행렬 배열 구조를 갖는 도전성 필름.
15. The method of claim 14,
Wherein the island pattern portion of each first conductive pattern and the second conductive pattern have a matrix arrangement staggered from each other.
제1 항 내지 제3항, 제5항, 제7항 내지 제9항, 제11항 내지 제14항, 및 제16 항 중 어느 한 항에 따른 도전성 필름을 포함하는 터치 패널.A touch panel comprising the conductive film according to any one of claims 1 to 3, 5, 7 to 9, 11 to 14, and 16.
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