KR101650198B1 - Liquid crystal display device having low pre-tilt angle and manufacturing method of the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 낮은 선경사각으로 배열된 액정층을 갖는 액정표시장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 액정표시장치는, 배향막을 갖는 기판; 상기 배향막과 접촉하는 액정층; 그리고 상기 배향막과 상기 액정층 사이에 광 경화되어 상기 액정층을 상기 기판의 평면에 대해 수평상태로 유지하는 감광성 단량체를 포함한다. 본 발명에 따른 액정표시장치 제조 방법은, 제1 배향막을 갖는 박막트랜지스터 기판을 형성하는 단계; 제2 배향막을 갖는 칼라필터 기판을 형성하는 단계; 주 액정물질과 감광성 단량체의 혼합물을 상기 제1 배향막과 상기 제2 배향막 사이에 개재하도록 상기 박막트랜지스터 기판과 상기 칼라필터 기판을 합착하여 액정표시 패널을 형성하는 단계; 그리고 상기 액정표시 패널에 자외선을 조사하여, 상기 감광성 단량체를 경화시키는 단계를 포함한다. 본 발명에 의한 액정표시장치는 액정표시장치의 정면에서 바라본 여러 시야각에서도 명암비 비대칭이 발생하지 않는 양질의 액정표시장치를 얻을 수 있다.The present invention relates to a liquid crystal display device having a liquid crystal layer arranged at a low angle of view and a method of manufacturing the same. A liquid crystal display device according to the present invention includes: a substrate having an alignment film; A liquid crystal layer in contact with the alignment film; And a photosensitive monomer cured between the alignment layer and the liquid crystal layer to maintain the liquid crystal layer in a horizontal state with respect to the plane of the substrate. A method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes: forming a thin film transistor substrate having a first alignment film; Forming a color filter substrate having a second alignment layer; Forming a liquid crystal display panel by laminating the thin film transistor substrate and the color filter substrate so that a mixture of the main liquid crystal material and the photosensitive monomer is interposed between the first alignment layer and the second alignment layer; And irradiating the liquid crystal display panel with ultraviolet light to cure the photosensitive monomer. The liquid crystal display device according to the present invention can provide a liquid crystal display device of good quality that does not cause asymmetry of contrast even at various viewing angles viewed from the front of the liquid crystal display device.

Description

낮은 수직 선경사각을 갖는 액정표시장치 및 그 제조 방법 {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING LOW PRE-TILT ANGLE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device having a low vertical pre-

본 발명은 낮은 선경사각으로 배열된 액정층을 갖는 액정표시장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 수평전계에 의한 액정표시장치에서 배향막에 의해 초기 배향된 액정층이 수직면 상에서 갖는 수직 선경사각을 제거한 액정표시장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device having a liquid crystal layer arranged at a low angle of view and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a liquid crystal display device in which a vertical pre-scan square having a liquid crystal layer initially aligned on an vertical plane by an alignment film in a liquid crystal display device by a horizontal electric field is removed, and a manufacturing method thereof.

액티브 매트릭스(Active Matrix) 구동방식의 액정표시장치는 스위칭 소자로서 박막트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)를 이용하여 화상을 표시하고 있다. 이 액정표시장치는 음극선관(Cathode Ray Tube: CRT)에 비하여 소형화가 가능하여 휴대용 정보기기, 사무기기, 컴퓨터 등에서 표시기에 응용됨은 물론, 텔레비젼에도 응용되어 빠르게 음극선관을 대체하고 있다. 2. Description of the Related Art An active matrix liquid crystal display device displays an image using a thin film transistor (TFT) as a switching element. This liquid crystal display device can be downsized as compared with a cathode ray tube (CRT), and is applied not only to a display device in a portable information apparatus, an office equipment, a computer, but also to a television and quickly replace a cathode ray tube.

도 1은 종래 수평 전계형 액정표시패널을 나타내는 평면도이다. 도 2는 도 1에서 절취선 I-I'으로 자른 액정표시패널의 구조를 나타내는 단면도이다.1 is a plan view showing a conventional horizontal electric field type liquid crystal display panel. FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the structure of a liquid crystal display panel cut along a perforated line I-I 'in FIG.

도 1 및 2를 참조하면, 액정표시패널은 박막트랜지스터(TFT)가 형성된 박막트랜지스터 어레이 기판(10)와, 칼라필터(CF) 및 블랙 매트릭스(BM)가 형성된 칼라필터 기판(30)과, 그 사이에 개재된 액정층(20)을 포함한다. 수평 전계형 액정표시패널의 박막트랜지스터 어레이 기판은 하부 투명 기판(SUBL) 상에 교차되게 형성된 게이트 라인(GL) 및 데이터 라인(DL)과, 그 교차부마다 형성된 박막 트랜지스터(TFT)와, 그 교차 구조로 마련된 화소 영역에 수평 전계를 이루도록 형성된 화소 전극(PXL) 및 공통 전극(COM)과, 공통 전극(COM)과 접속된 공통 라인(CL)을 구비한다.1 and 2, a liquid crystal display panel includes a thin film transistor array substrate 10 on which a thin film transistor (TFT) is formed, a color filter substrate 30 on which a color filter CF and a black matrix BM are formed, And a liquid crystal layer 20 interposed therebetween. The thin film transistor array substrate of the horizontal electric field type liquid crystal display panel includes a gate line GL and a data line DL formed so as to intersect on a lower transparent substrate SUBL and a thin film transistor TFT formed at each intersection thereof, A pixel electrode PXL and a common electrode COM formed so as to form a horizontal electric field in a pixel region provided with a common electrode COM and a common line CL connected to the common electrode COM.

박막트랜지스터(TFT)는 게이트 라인(GL)에서 분기된 게이트 전극(G)과, 게이트 전극(G)을 덮는 게이트 절연막(GI) 위에서 게이트 전극(G)과 중첩하도록 형성된 반도체 층(A)과, 데이터 라인(DL)에서 분기되며 반도체 층(A)의 일측단과 접촉하는 소스 전극(S)과, 소스 전극(S)과 대향하며 반도체 층(A)의 타측단과 접촉하는 드레인 전극(D)을 포함한다. 그리고, 박막트랜지스터(TFT) 위에는 보호막(PASSI)가 형성되어 박막트랜지스터(TFT)를 보호한다. 보호막(PASSI) 위에는 화소전극(PXL)이 형성된다.The thin film transistor TFT includes a gate electrode G branched at the gate line GL and a semiconductor layer A formed so as to overlap the gate electrode G over the gate insulating film GI covering the gate electrode G, A source electrode S branched at the data line DL and in contact with one end of the semiconductor layer A and a drain electrode D opposed to the source electrode S and in contact with the other end of the semiconductor layer A do. A protective film PASSI is formed on the thin film transistor TFT to protect the thin film transistor TFT. A pixel electrode PXL is formed on the passivation film PASSI.

게이트라인(GL)은 박막트랜지스터(TFT)의 게이트전극(G)에 게이트신호를 공급한다. 데이터라인(DL)은 박막트랜지스터(TFT)의 드레인전극(D)을 통해 화소전극(PXL)에 화소신호를 공급한다. 게이트라인(GL)과 데이터라인(DL)은 교차구조로 형성되어 화소영역을 정의한다. 공통라인(CL)은 화소영역을 사이에 두고 게이트라 인(GL)과 나란하게 형성되며 액정 구동을 위한 기준전압을 공통전극(PXL)에 공급한다.The gate line GL supplies a gate signal to the gate electrode G of the thin film transistor TFT. The data line DL supplies the pixel signal to the pixel electrode PXL through the drain electrode D of the thin film transistor TFT. The gate line GL and the data line DL are formed in an intersecting structure to define a pixel region. The common line CL is formed in parallel with the gate line GL with the pixel region therebetween, and supplies a reference voltage for liquid crystal driving to the common electrode PXL.

박막트랜지스터(TFT)는 게이트 라인(GL)의 게이트 신호에 응답하여 데이터 라인(DL)의 화소 신호가 화소 전극(PXL)에 충전되어 유지되게 한다. 화소 전극(PXL)은 박막트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(D)과 접속되어 화소 영역에 형성된다. 공통 전극(COM)은 공통 라인(CL)과 접속되어 화소 영역에 형성된다. 특히, 화소 전극(PXL)과 공통전극(COM)은 화소 영역 내에서, 서로 평행하도록 배치된다. 이를 위해, 공통전극(COM)은 화소 영역 내에서 수직 방향으로 일정 간격 떨어져 배열된 다수의 막대 모양을 구비하며, 화소전극(PXL)는 공통전극(COM)들 사이에서 배치되는 막대 모양을 다수개 구비한다.The thin film transistor TFT causes the pixel signal of the data line DL to be charged and held in the pixel electrode PXL in response to the gate signal of the gate line GL. The pixel electrode PXL is connected to the drain electrode D of the thin film transistor TFT and is formed in the pixel region. The common electrode COM is connected to the common line CL and is formed in the pixel region. In particular, the pixel electrode PXL and the common electrode COM are arranged so as to be parallel to each other in the pixel region. To this end, the common electrode COM has a plurality of bar shapes arranged at regular intervals in the vertical direction within the pixel region, and the pixel electrode PXL includes a plurality of bar shapes disposed between the common electrodes COM Respectively.

이에 따라, 박막트랜지스터(TFT)를 통해 화소 신호가 공급된 화소 전극(PXL)과 공통 라인(CL)을 통해 기준 전압이 공급된 공통 전극(COM) 사이에 수평 전계가 형성된다. 특히, 수직 방향으로 배열된 막대 모양의 화소 전극(PXL)과 공통 전극(COM) 사이에 수평 전계가 형성된다.A horizontal electric field is formed between the pixel electrode PXL to which the pixel signal is supplied through the thin film transistor TFT and the common electrode COM to which the reference voltage is supplied through the common line CL. In particular, a horizontal electric field is formed between the bar-shaped pixel electrode PXL arranged in the vertical direction and the common electrode COM.

이러한 수평 전계에 의해, 박막 트랜지스터 어레이 기판(10)과 칼라필터 기판(30) 사이에 개재된 액정층(20)의 수평 방향으로 배열된 액정 분자들이 유전 이방성에 의해 회전하게 된다. 화소 영역을 투과하는 광 투과율이 달라지게 됨으로써 화상을 구현하게 된다. 액정층(20)은 액정표시장치 평면을 이루는 수평면 상에서 제1 방향으로 배열되는 상태와, 제2 방향으로 배열되는 상태 사이에서, 액정 분자들의 회전 정도에 따라 화소 영역을 투과하는 광 투과율을 변화 시킴으로써 화상 을 구현한다.This horizontal electric field causes the liquid crystal molecules arranged in the horizontal direction of the liquid crystal layer 20 interposed between the thin film transistor array substrate 10 and the color filter substrate 30 to rotate due to dielectric anisotropy. The light transmittance through the pixel region is changed, thereby realizing an image. The liquid crystal layer 20 changes the light transmittance through the pixel region in accordance with the degree of rotation of the liquid crystal molecules between a state in which the liquid crystal layer 20 is arranged in the first direction on the horizontal plane forming the plane of the liquid crystal display device and a state in which the liquid crystal layer 20 is arranged in the second direction And implements the image.

이를 위해서, 초기 상태에서는 액정층(20)의 액정 분자들이 일정한 방향으로 배향되어 있어야 한다. 액정 물질을 단순히 기판들 사이에 주입하는 것만으로는 균일한 액정 분자의 배열 상태를 얻을 수 없기 때문에 액정표시장치에는 액정분자들의 배향 방향을 설정하기 위한 배향막이 필수적으로 형성되어야 한다. 액정표시장치의 제조공정에서, 배향막의 제조공정은 폴리이미드 등의 유기막을 도포한 후, 배향막의 표면을 러빙포로 러빙하여 일정 방향의 무늬(예: 직선 홈)를 갖는 배향막을 형성한다. 그러면, 배향막에 제일 근접하는 액정층(20)의 액정 분자들은 배향막에 형성된 일정 방향의 무늬를 따라 균일한 방향으로 배향상태를 유지한다. 그리고, 중간 층에 있는 액정들은 배향막에 제일 근접하는 액정 분자들의 배향 상태에 영향을 받아 동일한 배향 상태를 유지한다.For this purpose, in the initial state, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 20 should be oriented in a certain direction. An alignment film for setting the alignment direction of the liquid crystal molecules must be essentially formed in the liquid crystal display device since uniform alignment of the liquid crystal molecules can not be obtained by simply injecting the liquid crystal material between the substrates. In the manufacturing process of the alignment film in the manufacturing process of the liquid crystal display device, after coating an organic film such as polyimide, the surface of the alignment film is rubbed with a rubbing cloth to form an alignment film having a pattern in a certain direction (e.g., straight groove). Then, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 20 closest to the alignment film maintain alignment in a uniform direction along a pattern in a certain direction formed on the alignment film. The liquid crystals in the intermediate layer are affected by the alignment state of the liquid crystal molecules closest to the alignment layer and maintain the same alignment state.

도 3a 및 3b는 종래 기술에 의한 박막 트랜지스터 기판 혹은 칼라필터 기판의 표면에 도포된 배향막에 러빙포를 이용하여 배향막을 처리하는 상태를 나타내는 도면들이다. 러빙포(50)를 이용하여 배향막(11, 31)에 무늬를 형성하면, 액정 분자(LCM)는 그 무늬를 따라 일정 방향으로 배열된다. 수평전계 방식의 액정표시장치에서는 액정 분자(LCM)들이 수평면 상에서 일정 방향으로 배향하도록 설계한다. 그러나, 배향막(11, 31)에 형성된 무늬는 배향막(11, 31)의 두께 방향으로 일정 깊이를 갖고 패인 형상을 갖기 때문에, 수직면 상에서 액정 분자(LCM)들이 수평 상태에 대해 기울어진 수직 선경사 각(프리틸트 각: Pre-tilt Angle)(α)을 갖는다. 또한, 러빙 방향에 따라서, 도 3a에서와 같이 수직 프리틸트 각은 우측으로 기울어 진 상태를 가질 수도 있고, 도 3b에서와 같이 좌측으로 기울어진 상태를 가질 수도 있다.3A and 3B are views showing a state in which an alignment film applied on a surface of a thin film transistor substrate or a color filter substrate according to the related art is processed with a rubbing cloth. When a pattern is formed on the alignment films 11 and 31 using the rubbing cloth 50, the liquid crystal molecules LCM are arranged in a predetermined direction along the pattern. In a horizontal electric field type liquid crystal display device, liquid crystal molecules (LCM) are designed to be oriented in a certain direction on a horizontal plane. However, since the pattern formed on the alignment films 11 and 31 has a depressed shape having a certain depth in the thickness direction of the alignment films 11 and 31, the liquid crystal molecules LCM on the vertical plane are inclined with respect to the horizontal state, (Pre-tilt angle) (?). Also, depending on the rubbing direction, the vertical pretilt angle may be inclined to the right as shown in FIG. 3A, or may be inclined to the left as shown in FIG. 3B.

또한, 배향막(11, 31)을 구비한, 박막 트랜지스터 기판(10)과 칼라필터 기판(30)을 액정층(20)을 사이에 두고 합착한 경우, 좌 또는 우 방향의 수직 프리틸트 각을 갖는 각각의 경우를 조합하면 모두 4가지의 경우의 수가 발생할 수 있다. 도 4a 내지 도 4d는 박막 트랜지스터 기판과 칼라필터 기판 사이에 개재하는 액정층들이 가질 수 있는 수직 프리틸트 각의 각 경우의 수를 나타내는 단면도들이다. 도 4a는 박막 트랜지스터 기판(10)의 배향막(11)에 근접한 액정분자들은 우 방향의 수직 프리틸트 각을 갖고, 칼라필터 기판(30)의 배향막(31)에 근접한 액정분자들은 좌 방향의 수직 프리틸트 각을 갖는 경우를 나타낸다. 도 4b는 박막 트랜지스터 기판(10)의 배향막(11)에 근접한 액정분자들과 칼라필터 기판(30)의 배향막(31)에 근접한 액정분자들 모두 우 방향의 수직 프리틸트 각을 갖는 경우를 나타낸다. 도 4c는 박막 트랜지스터 기판(10)의 배향막(11)에 근접한 액정분자들과 칼라필터 기판(30)의 배향막(31)에 근접한 액정분자들 모두 좌 방향의 수직 프리틸트 각을 갖는 경우를 나타낸다. 도 4a는 박막 트랜지스터 기판(10)의 배향막(11)에 근접한 액정분자들은 좌 방향의 수직 프리틸트 각을 갖고, 칼라필터 기판(30)의 배향막(31)에 근접한 액정분자들은 우 방향의 수직 프리틸트 각을 갖는 경우를 나타낸다.In the case where the thin film transistor substrate 10 and the color filter substrate 30 provided with the alignment films 11 and 31 are bonded together with the liquid crystal layer 20 interposed therebetween, Combining each case can result in a total of four cases. FIGS. 4A to 4D are cross-sectional views showing the number of vertical pretilt angles of the liquid crystal layers interposed between the thin film transistor substrate and the color filter substrate. 4A shows a case where the liquid crystal molecules near the alignment film 11 of the thin film transistor substrate 10 have a right vertical tilt angle and the liquid crystal molecules close to the alignment film 31 of the color filter substrate 30 are vertical left Tilt angle. 4B shows a case where both the liquid crystal molecules near the alignment film 11 of the thin film transistor substrate 10 and the liquid crystal molecules near the alignment film 31 of the color filter substrate 30 have a right vertical tilt angle. 4C shows a case where both the liquid crystal molecules near the alignment film 11 of the thin film transistor substrate 10 and the liquid crystal molecules near the alignment film 31 of the color filter substrate 30 have vertical left tilt pretilt angles. 4A shows a case where the liquid crystal molecules in the vicinity of the alignment film 11 of the thin film transistor substrate 10 have the vertical pretilt angle in the left direction and the liquid crystal molecules in the vicinity of the alignment film 31 of the color filter substrate 30 are in the vertical direction Tilt angle.

이와 같이 합착된 박막 트랜지스터 기판(10)과 칼라필터 기판(30) 사이에서 서로 다른 방향을 갖는 수직 프리틸트 각 때문에, 액정표시장치의 전면에서 시야각 방향에 따라 명암비가 비 대칭적으로 형성된다. 예를 들면, 도 4a 및 도 4d의 경우에는 액정표시장치 정면에서 바라보았을 때, 상하좌우 방향에서의 명암비 비대칭이 발생한다. 도 4b의 경우에는, 상부측에서 좌우 방향에서의 명암비 비대칭이, 도 4c의 경우에는, 하부측에서 좌우 방향에서의 명암비 비대칭이 발생한다.Due to the vertical pretilt angle, which is different between the thin film transistor substrate 10 and the color filter substrate 30, the contrast ratio is formed symmetrically along the viewing angle direction from the front surface of the liquid crystal display device. For example, in the case of Figs. 4A and 4D, when viewed from the front of the liquid crystal display device, contrast ratio asymmetry occurs in the up, down, left, and right directions. In the case of Fig. 4B, the contrast ratio asymmetry in the left and right direction is generated in the upper side. In Fig. 4C, the contrast ratio asymmetry in the lower side occurs in the left and right direction.

본 발명의 목적은 종래 기술에 의한 문제점을 개선하기 위해 안출된 것으로, 액정 배향을 위한 러빙 공정을 거치면서 형성된 수직 선경사각으로 인한 시야각 명암비 비대칭을 개선한 액정표시장치 및 그 제조 방법을 제공하는 데 있다. 본 발명의 다른 목적은, 액정 배향을 위한 러빙 공정에서 형성된 러빙 홈에 의해 액정분자들이 수직 선경사각을 갖지 않는 액정표시장치 및 그 제조 방법을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same that improve a viewing angle contrast ratio asymmetry due to a vertical pretilt angle formed through a rubbing process for liquid crystal alignment have. It is another object of the present invention to provide a liquid crystal display device in which liquid crystal molecules do not have a vertical pretilt angle by a rubbing groove formed in a rubbing process for liquid crystal alignment, and a manufacturing method thereof.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 액정표시장치는, 배향막을 갖는 기판; 상기 배향막과 접촉하는 액정층; 그리고 상기 배향막과 상기 액정층 사이에 광 경화되어 상기 액정층을 상기 기판의 평면에 대해 수평상태로 유지하는 감광성 단량체를 포함한다.In order to achieve the above object, a liquid crystal display device according to the present invention includes: a substrate having an alignment film; A liquid crystal layer in contact with the alignment film; And a photosensitive monomer cured between the alignment layer and the liquid crystal layer to maintain the liquid crystal layer in a horizontal state with respect to the plane of the substrate.

상기 배향막을 갖는 상기 기판은, 제1 배향막을 갖는 박막트랜지스터 기판과; 제2 배향막을 갖는 칼라필터 기판을 포함한다.Wherein the substrate having the alignment film comprises: a thin film transistor substrate having a first alignment film; And a color filter substrate having a second alignment layer.

상기 액정층은 상기 제1 배향막 및 상기 제2 배향막과 접촉하며, 상기 박막트랜지스터 기판 및 상기 칼라필터 기판 사이에 개재되며; 상기 감광성 단량체는 상기 제1 배향막과 상기 액정층 사이에서, 그리고 상기 제2 배향막과 상기 액정층 사이에서 광 경화된 것을 특징으로 한다.Wherein the liquid crystal layer is in contact with the first alignment layer and the second alignment layer and is interposed between the TFT substrate and the color filter substrate; Wherein the photosensitive monomer is photo-cured between the first alignment layer and the liquid crystal layer, and between the second alignment layer and the liquid crystal layer.

상기 박막트랜지스터 기판은, 서로 직교하여 게이트 라인과 데이터 라인; 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 형성한 매트릭스 배열을 갖는 화소 영역; 상기 화소 영역 내에 형성된 박막트랜지스터; 상기 박막트랜지스터에 접속하며 상기 화소 영역 내에 형성된 화소전극; 그리고 상기 화소 영역 내에서 화소 전극과 평행하게 배열되어 수평전계를 형성하는 공통전극을 더 포함한다.The thin film transistor substrate includes: gate lines and data lines; A pixel region having a matrix arrangement formed by the gate line and the data line; A thin film transistor formed in the pixel region; A pixel electrode connected to the thin film transistor and formed in the pixel region; And a common electrode arranged in parallel with the pixel electrode in the pixel region to form a horizontal electric field.

상기 광 경화된 감광성 단량체는 일측 단부는 상기 배향막의 배향 무늬와 연결되고, 타측 단부는 상기 액정층의 액정분자의 일측부에 결합된 것을 특징으로 한다.The photocured photosensitive monomer has one end connected to the alignment pattern of the alignment layer and the other end bonded to one side of the liquid crystal molecule of the liquid crystal layer.

상기 액정층의 상기 기판의 평면에 대한 수직 프리틸트 각이 0.3도 이하의 값을 갖는 수평 상태를 유지하는 것을 특징으로 한다.And a vertical pretilt angle of the liquid crystal layer with respect to a plane of the substrate is maintained at a horizontal value of 0.3 degrees or less.

또한, 본 발명에 따른 액정표시장치 제조 방법은, 제1 배향막을 갖는 박막트랜지스터 기판을 형성하는 단계; 제2 배향막을 갖는 칼라필터 기판을 형성하는 단계; 주 액정물질과 감광성 단량체의 혼합물을 상기 제1 배향막과 상기 제2 배향막 사이에 개재하도록 상기 박막트랜지스터 기판과 상기 칼라필터 기판을 합착하여 액정표시 패널을 형성하는 단계; 그리고 상기 액정표시 패널에 자외선을 조사하여, 상기 감광성 단량체를 경화시키는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, including: forming a thin film transistor substrate having a first alignment layer; Forming a color filter substrate having a second alignment layer; Forming a liquid crystal display panel by laminating the thin film transistor substrate and the color filter substrate so that a mixture of the main liquid crystal material and the photosensitive monomer is interposed between the first alignment layer and the second alignment layer; And irradiating the liquid crystal display panel with ultraviolet light to cure the photosensitive monomer.

상기 박막트랜지스터 기판을 형성하는 단계는, 투명 기판 위에 게이트 라인, 게이트 라인에서 분기하는 게이트 전극을 형성하는 단계; 상기 게이트 라인 및 상기 게이트 전극 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계; 상기 게이트 절연막 위에 상기 게이트 전극과 중첩하도록 반도체 층을 형성하는 단계; 상기 게이트 절연막 위에 상기 게이트 라인과 직교하는 데이터 라인, 상기 데이터 라인에서 분기하여 상기 반도체 층의 일측단과 접촉하는 소스 전극, 및 상기 소스 전극과 대향하며 상기 반도체 층의 타측단과 접촉하는 드레인 전극을 형성하는 단계; 상기 데이터 라인, 소스 전극, 드레인 전극을 덮는 보호막을 형성하는 단계; 상기 보호막 위에 상기 드레인 전극과 접속하는 화소전극을 형성하는 단계; 그리고 상기 화소전극을 덮는 상기 제1 배향막을 형성하는 단계를 더 포함한다.The step of forming the thin film transistor substrate includes: forming a gate electrode on the transparent substrate, the gate electrode branching from the gate line; Forming a gate insulating film on the gate line and the gate electrode; Forming a semiconductor layer on the gate insulating film so as to overlap with the gate electrode; A data line which is orthogonal to the gate line on the gate insulating film, a source electrode branched from the data line and in contact with one end of the semiconductor layer, and a drain electrode which is in contact with the other end of the semiconductor layer, step; Forming a protective film covering the data line, the source electrode, and the drain electrode; Forming a pixel electrode connected to the drain electrode on the protective film; And forming the first alignment layer covering the pixel electrode.

상기 게이트 라인 및 상기 게이트 전극을 형성하는 단계는, 상기 게이트 라인과 평해한 공통 배선과, 상기 공통 배선에서 분기하고 상기 화소 전극과 평행하게 배열되는 공통 전극을 더 형성하는 것을 특징으로 한다.The step of forming the gate line and the gate electrode may further include forming a common wiring line which is parallel to the gate line and a common electrode which branches off from the common wiring line and is arranged in parallel with the pixel electrode.

상기 화소전극을 형성하는 단계는, 상기 보호막 위에 상기 게이트 배선과 평행한 공통 배선과, 상기 공통 배선에서 분기하고 상기 화소 전극과 평행하게 배열되는 공통 전극을 더 형성하는 것을 특징으로 한다.The step of forming the pixel electrode may further include forming a common wiring on the protection film parallel to the gate wiring and a common electrode branched from the common wiring and arranged in parallel with the pixel electrode.

상기 칼라필터 기판을 형성하는 단계는, 투명 기판 위에 매트릭스 배열을 갖는 화소 영역을 정의하는 블랙 매트릭스를 형성하는 단계 상기 블랙 매트릭스 사이의 화소 영역 내에 칼라필터를 형성하는 단계; 상기 칼라필터 위에 상기 제1 배향막을 형성하는 단계를 더 포함한다.The forming of the color filter substrate may include forming a black matrix defining a pixel region having a matrix arrangement on a transparent substrate, forming a color filter in a pixel region between the black matrixes, And forming the first alignment layer on the color filter.

상기 액정표시 패널을 형성하는 단계는, 상기 주 액정물질과 상기 감광성 단량체의 함량비가 99.0:1.0 ~ 99.9:0.1의 값 중 어느 한 값을 갖도록 혼합하는 것을 특징으로 한다.The step of forming the liquid crystal display panel may be performed such that the content ratio of the main liquid crystal material and the photosensitive monomer has a value of 99.0: 1.0 to 99.9: 0.1.

상기 감광성 단량체를 경화시키는 단계는, 365nm의 파장을 갖는 자외선을 45mW/cm2의 에너지로 조사하는 것을 특징으로 한다.The step of curing the photosensitive monomer is characterized by irradiating ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm at an energy of 45 mW / cm 2 .

본 발명에 의한 액정표시장치에서는 러빙 공정을 거치면서 형성된 러빙 홈에 의해 액정분자들이 수직 선경사각을 갖지 않고 수평면 상태에 평행하게 배향된다. 따라서, 본 발명에 의한 액정표시장치는 액정표시장치의 정면에서 바라본 여러 시야각에서도 명암비 비대칭이 발생하지 않는다. 그 결과, 여러 시야각에서 명암비가 개선된 양질의 액정표시장치를 얻을 수 있다.In the liquid crystal display device according to the present invention, the liquid crystal molecules are oriented parallel to the horizontal plane state by the rubbing grooves formed through the rubbing process without having a vertical linear angle. Accordingly, in the liquid crystal display device according to the present invention, contrast ratio asymmetry does not occur even at various viewing angles viewed from the front of the liquid crystal display device. As a result, a high-quality liquid crystal display device with improved contrast ratio at various viewing angles can be obtained.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예들에 대하여 설명한다. 도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 의한 실시 예에 의한 액정표시장치를 제조하는 공정을 나타내는 단면도들이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. 5A to 5C are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

박막 트랜지스터 기판(100)과 칼라필터 기판(300)에 각각 배향막(101, 301)을 도포하고, 러빙포(500)로 배향막(101, 301)의 표면을 러빙 처리한다. 그러면, 배향막(101, 300)의 표면에 일정 방향을 갖는 무늬가 형성된다. (도 5a)The alignment films 101 and 301 are applied to the thin film transistor substrate 100 and the color filter substrate 300 and the surfaces of the alignment films 101 and 301 are rubbed with the rubbing cloth 500. Then, a pattern having a predetermined direction is formed on the surface of the alignment films 101 and 300. (Fig. 5A)

배향 처리된 배향막(101, 301)을 갖는 박막 트랜지스터 기판(100)과 칼라필 터 기판(300)을 액정층(200)을 개재하여 합착한다. 이 때, 액정층(200)은 설계된 액정표시장치의 광학적 성질을 만족하는 주 액정물질(210)을 주 성분으로하여, 감광성 단량체(220)을 소량 포함한다. 예를 들어, 주 액정물질(210)은 네마틱(Nematic) 액정으로 함량비 99.0~99.9% 정도이고, 감광선 단량체(220)는 함량비 0.1~1.0% 정도 포함하도록 액정층(200)을 조성한다. 감광성 단량체(Reactive Mesogen)(220)은 액정과 유사한 물질이면서, 빛에 반응하여 경화되는 성질을 갖고 있다. 액정층(200)은 배향막(101, 301)의 배향 처리 공정에서 형성된 러빙 무늬로 인하여 수평면 상에서 일정 방향으로 균일하게 배향된 상태를 유지한다. 이와 동시에, 러빙 무늬의 깊이에 의해서, 수직면상에서 보면, 약 1~3도의 수직 프리틸트 각을 갖고 경사진 상태로 배열된다. (도 5b)The thin film transistor substrate 100 and the color filter substrate 300 having alignment films 101 and 301 subjected to alignment treatment are bonded together via the liquid crystal layer 200. [ At this time, the liquid crystal layer 200 contains a main component of the main liquid crystal material 210 satisfying the optical properties of the designed liquid crystal display device and a small amount of the photosensitive monomer 220. For example, the main liquid crystal material 210 may be nematic liquid crystal in a content ratio of about 99.0 to about 99.9%, and the light-sensitive monomer 220 may be included in a content ratio of about 0.1 to about 1.0% do. The photosensitive monomer (Reactive Mesogen) 220 is a material similar to a liquid crystal, and has a property of curing in response to light. The liquid crystal layer 200 is uniformly oriented in a certain direction on the horizontal plane due to the rubbing pattern formed in the alignment treatment process of the alignment films 101 and 301. At the same time, depending on the depth of the rubbing pattern, it is arranged in an inclined state with a vertical pretilt angle of about 1 to 3 degrees on the vertical plane. (Fig. 5B)

완성된 액정표시패널에 자외선을 조사하여, 감광성 단량체(220)을 경화 시킨다. 그러면, 감광성 단량체(220)들이 경화된다. 이 때, 감광성 단량체(220)들은 주로 배향막(101, 301) 표면에 부착되면서 경화된다. 또한 배향막(101, 301)에 가장 근접하는 액정분자들과 결합하는 경향을 갖는다. 즉, 감광성 단량체(220)는 길죽한 고리 모양으로 경화되면서, 한쪽 끝은 배향 처리된 배향막(101, 301)의 러빙 무늬에 부착되면서 경화된다. 그리고, 다른 쪽 끝은 선경사각을 갖는 네마틱 액정분자의 아래로 쳐진 부분과 결합한다. 이로 인해, 배향막(101, 301)에 가장 근접하는 액정분자들이 수직 프리틸트 각이 0에 가깝게 수평 상태를 갖는다. 가장 큰 수직 프리틸트 각도라고 해도 0.3도 이하의 값을 갖는다. 감광성 단량체(220)을 경화시키는 공정의 조건은, 최대 광량을 갖는 파장대가 365nm인 자외선을 45mW/cm2 의 에너지로 조사하는 것이 바람직하다. (도 5c)The completed liquid crystal display panel is irradiated with ultraviolet rays to cure the photosensitive monomer (220). Then, the photosensitive monomer (s) 220 are cured. At this time, the photosensitive monomer 220 is cured while being attached mainly to the surfaces of the alignment films 101 and 301. And has a tendency to bond with the liquid crystal molecules closest to the alignment films 101 and 301. [ That is, while the photosensitive monomer 220 is cured in the form of an elongated ring, one end of the photosensitive monomer 220 is cured while being adhered to the rubbing pattern of the oriented films 101 and 301. And the other end is bonded to a portion of the nematic liquid crystal molecule having a downwardly inclined angle. As a result, the liquid crystal molecules closest to the alignment films 101 and 301 have a horizontal pretilt angle close to zero. Even the largest vertical pre-tilt angle has a value of 0.3 degrees or less. As a condition of the step of curing the photosensitive monomer 220, ultraviolet rays having a maximum wavelength of 365 nm are preferably irradiated at an energy of 45 mW / cm 2 . (Fig. 5C)

아래 표 1은 종래 기술에 의해 형성한 액정표시장치에서 배향막에 가장 근접한 액정분자들이 갖는 수직 프리틸트 각을 측정한 값과, 본 발명에 의해 형성한 액정표시장치에서 배향막에 가장 근접한 액정분자들이 갖는 수직 프리틸트 각을 측정한 값을 비교한 결과이다. 표 1에서는 종래 기술에 의한 샘플과 본 발명에 의한 샘플 모두 5개씩을 비교하였다. 표 1에서 종래 기술에 의한 액정표시장치에서도 본 발명과 동일한 조건으로 자외선을 조사하였다. 이는 감광성 단량체가 아닌 다른 원인에 의해 수직 프리틸트 각이 제거된 것인지를 알아보기 위함이었다. 본 발명에 의한 액정표시장치에 대해서는 자외선을 조사하기 전과 자외선을 조사한 후의 수직 프리틸트 값을 모두 측정하였다.Table 1 below shows the values obtained by measuring the vertical pretilt angles of the liquid crystal molecules closest to the alignment film in the liquid crystal display device formed by the conventional technique and the values obtained when the liquid crystal molecules closest to the alignment film in the liquid crystal display device formed according to the present invention And the vertical pre-tilt angle were measured. Table 1 compares five samples of the prior art sample and the sample of the present invention. In Table 1, ultraviolet rays were also irradiated on the liquid crystal display according to the prior art under the same conditions as in the present invention. This was done to see if the vertical pre-tilt angle was removed due to a cause other than the photosensitive monomer. In the liquid crystal display device according to the present invention, the vertical pretilt values before irradiation with ultraviolet light and after irradiation with ultraviolet light were both measured.

구분division 패널 샘플 번호Panel Sample Number 노광전 수직 프리틸트 각Vertical pretilt angle before exposure 노광후 수직 프리틸트 각Vertical pretilt angle after exposure

종래 기술

Conventional technology

Sample C1Sample C1 1.5281.528 1.4281.428 Sample C2Sample C2 1.5291.529 1.5431.543 Sample C3Sample C3 1.6101.610 1.7291.729 Sample C4Sample C4 1.5741.574 1.4921.492 Sample C5Sample C5 1.6791.679 1.6951.695

본 발명

Invention

Sample P1Sample P1 1.4771.477 0.0330.033 Sample P2Sample P2 1.6111.611 0.0040.004 Sample P3Sample P3 1.5051.505 0.0350.035 Sample P4Sample P4 1.4711.471 -0.008-0.008 Sample P5Sample P5 1.6291.629 -0.046-0.046

위 결과에서 알 수 있듯이, 감광성 단량체(220)가 경화된 후,배향막(101, 301)에 가장 근접하는 액정분자들이 수직 프리틸트 각이 0도에 가깝게 수평 상태로 바뀌었다. 감광성 단량체(220)를 단순히 포함한 상태에서는 종래 기술과 거의 동일한 수직 프리틸트 각을 갖는다. 하지만, 감광성 단량체(220)가 경화된 후에는 수직 프리틸트 각이 제거되었음을 알 수 있다. 종래 기술에 의한 액정표시장치에서는 자외선을 조사하기 전이나 후나 차이가 거의 발생하지 않았다. 즉, 감광성 단량체(220)가 배향막(101, 301)과 액정분자 사이에서 경화되면서, 수직 프리틸트 각으로 경사진 액정분자들을 수평상태로 되잡아주는 것을 알 수 있다. 그리고, 음수 각도 값은 좌(우) 방향 경사각이 우(좌) 방향 경사각으로 바뀌었음을 나타내는 것이다.As can be seen from the above results, after the photosensitive monomer 220 was cured, the liquid crystal molecules closest to the alignment films 101 and 301 were changed to a horizontal state with a vertical pretilt angle close to 0 degrees. In the state of simply containing the photosensitive monomer 220, it has a vertical pretilt angle almost equal to that of the prior art. However, it can be seen that the vertical pretilt angle is removed after the photosensitive monomer 220 is cured. The liquid crystal display device according to the prior art hardly generates a difference before or after irradiation with ultraviolet light. That is, it can be seen that the photosensitive monomer 220 is cured between the alignment films 101 and 301 and the liquid crystal molecules, and the liquid crystal molecules inclined at the vertical pretilt angle are held in a horizontal state. The negative angle value indicates that the left (right) direction inclination angle is changed to the right (left) direction inclination angle.

도 6은 종래 기술과 본 발명에 의한 액정표시장치에 대해 좌우 시야각 명암비를 측정한 결과를 나타내는 그래프이다. 종래 기술에의한 액정표시장치는 중앙부에 높은 값을 갖는 그래프 결과를 나타내었다. 이는 좌우 명암비의 차이가 크게 나타나고 있음을 의미한다. 한편, 본 발명에 의한 액정표시장치는 중앙부의 값이 낮으며 완만한 곡선을 갖는 그래프 결과를 나타내었다. 이는 좌우 명암비 차이가 별로 크게 나타나지 않았음을 의미한다.6 is a graph showing the result of measuring the left and right viewing angle contrast ratios of the liquid crystal display device according to the prior art and the present invention. The liquid crystal display according to the prior art shows a graphical result having a high value at the center. This means that the difference between the left and right contrast ratios is large. Meanwhile, the liquid crystal display device according to the present invention has a low center value and a gentle curve. This means that the difference between the left and right contrast ratio did not appear much.

지금까지 설명한 본 발명의 실시 예에서는, 배향막을 형성한 후에 액정표시장치를 제조하는 방법에 초점을 맞추어 설명하였다. 본 발명은 표시 패널의 평면 상에서 수평하게 액정층이 구동하는 수평전계 방식의 액정표시장치에 관련된 것이다. 따라서, 지금까지 알려진 수평전계 방식을 액정표시장치 및 그 제조 방법에 본 발명의 사상을 적용하는 것은 당해 기술자에게 있어서 자명한 것이므로 구체적인 설명은 생략하였다.The embodiments of the present invention described so far have focused on a method of manufacturing a liquid crystal display device after forming an alignment film. The present invention relates to a horizontal electric field type liquid crystal display device in which a liquid crystal layer is horizontally driven on a plane of a display panel. Therefore, it is obvious to those skilled in the art to apply the idea of the present invention to the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof so far, so that detailed description is omitted.

예를 들어, 수평전계를 형성하기 위해서는 박막트랜지스터에 접속하는 화소전극과, 공통전압을 인가하는 공통전극을 서로 평행하게 형성한다. 이를 위해, 공통 전압을 공급하는 공통 배선과 공통 배선에서 분기하는 공통 전극을 게이트 배선을 형성할 때 함께 형성할 수도 있다. 이 경우에는 화소 전극과 공통 전극은 수평 전계를 이루지만, 단면상에서는 서로 다른 평면상에서 형성된다.For example, in order to form a horizontal electric field, a pixel electrode connected to a thin film transistor and a common electrode for applying a common voltage are formed in parallel with each other. For this purpose, the common wiring for supplying the common voltage and the common electrode for branching in the common wiring may be formed together when the gate wiring is formed. In this case, the pixel electrode and the common electrode form a horizontal electric field, but they are formed on different planes in the cross-sectional view.

또는, 화소 전극을 형성할 때 화소 전극과 동일한 평면상에서, 서로 평행하게 형성할 수 있다. 이를 위해 박막트랜지스터를 덮는 보호막 위에 공통 배선과 공통 전극을 형성한 후, 마찬가지로 보호막 위에 박막트랜지스터와 접속하는 화소전극을 공통 전극과 평행하게 형성할 수 있다.Alternatively, when the pixel electrodes are formed, they can be formed in parallel with each other on the same plane as the pixel electrodes. To this end, after the common wiring and the common electrode are formed on the protective film covering the thin film transistor, the pixel electrode connected to the thin film transistor on the protective film can be formed in parallel with the common electrode.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

도 1은 종래 수평 전계형 액정표시패널을 나타내는 평면도.1 is a plan view showing a conventional horizontal electric field type liquid crystal display panel.

도 2는 도 1에서 절취선 I-I'으로 자른 액정표시패널의 구조를 나타내는 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of a liquid crystal display panel cut in a cutting line I-I 'in FIG. 1; FIG.

도 3a 및 3b는 종래 기술에 의한 박막 트랜지스터 기판 혹은 칼라필터 기판의 표면에 도포된 배향막에 러빙포를 이용하여 배향막을 처리하는 상태를 나타내는 도면들.FIGS. 3A and 3B are views showing a state in which an alignment film applied to a surface of a thin film transistor substrate or a color filter substrate according to a conventional technique is treated with a rubbing cloth. FIG.

도 4a 내지 도 4d는 박막 트랜지스터 기판과 칼라필터 기판 사이에 개재하는 액정층들이 가질 수 있는 수직 프리틸트 각의 각 경우의 수를 나타내는 단면도들.FIGS. 4A to 4D are cross-sectional views showing the number of vertical pretilt angles of the liquid crystal layers interposed between the thin film transistor substrate and the color filter substrate. FIG.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 의한 실시 예에 의한 액정표시장치를 제조하는 공정을 나타내는 단면도들.5A to 5C are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 6은 종래 기술과 본 발명에 의한 액정표시장치에 대해 좌우 시야각 명암비를 측정한 결과를 나타내는 그래프.6 is a graph showing the result of measuring the left and right viewing angle contrast ratios of the liquid crystal display device according to the prior art and the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>Description of the Related Art

SUBL: 하부 투명 기판 SUBU: 상부 투명 기판SUBL: Lower transparent substrate SUBU: Upper transparent substrate

TFT: 박막트랜지스터TFT: Thin film transistor

BM: 블랙 매트릭스 CF: 칼라필터BM: Black matrix CF: Color filter

SUB: 투명 기판 GL: 게이트 배선SUB: transparent substrate GL: gate wiring

DL: 데이터 배선 CL: 공통배선DL: Data wiring CL: Common wiring

G: 게이트 전극 COM: 공통전극G: gate electrode COM: common electrode

GI: 게이트 절연막 A: 반도체 층GI: gate insulating film A: semiconductor layer

S: 소스 전극 D: 드레인 전극S: source electrode D: drain electrode

PASSI: 보호막 PXL: 화소전극PASSI: protective film PXL: pixel electrode

10, 100: 박막트랜지스터 기판 30, 300: 칼라필터 기판10, 100: thin film transistor substrate 30, 300: color filter substrate

11, 101: 제1 배향막 31, 301: 제2 배향막11, 101: first alignment layer 31, 301: second alignment layer

20, 200: 액정층 210: 주 액정물질20, 200: liquid crystal layer 210: main liquid crystal material

220: 감광성 단량체 50, 500: 러빙포220: photosensitive monomer 50, 500: rubbing foil

Claims (13)

제1 배향막을 갖는 박막트랜지스터 기판;A thin film transistor substrate having a first alignment film; 제2 배향막을 갖는 칼라필터 기판;A color filter substrate having a second alignment layer; 상기 제1 배향막 및 상기 제2 배향막과 접촉하며, 상기 박막트랜지스터 기판 및 상기 칼라필터 기판 사이에 개재된 네마틱(Nematic) 액정층; 및A nematic liquid crystal layer in contact with the first alignment layer and the second alignment layer and interposed between the TFT substrate and the color filter substrate; And 상기 제1 배향막과 상기 액정층 사이에서, 그리고 상기 제2 배향막과 상기 액정층 사이에서 광 경화된 감광성 단량체를 포함하고,And a photosensitive monomer photo-cured between the first alignment film and the liquid crystal layer and between the second alignment film and the liquid crystal layer, 상기 액정층은 99.0~99.9%의 함량비를 갖는 주 액정물질과, 상기 주 액정물질에 대해 0.1~1.0%의 함량비를 갖는 상기 감광성 단량체의 혼합물로 이루어지고,Wherein the liquid crystal layer comprises a mixture of a main liquid crystal material having a content ratio of 99.0 to 99.9% and a photosensitive monomer having a content ratio of 0.1 to 1.0% with respect to the main liquid crystal material, 상기 액정층은 상기 기판들의 평면에 대한 수직 프리틸트 각이 0.3도 이하의 값으로 수평 상태를 유지하는 액정표시장치.Wherein the liquid crystal layer maintains a horizontal pretilt angle with respect to a plane of the substrates at a value of 0.3 degrees or less. 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 박막트랜지스터 기판은,In the thin film transistor substrate, 서로 직교하여 게이트 라인과 데이터 라인;A gate line and a data line orthogonal to each other; 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 형성한 매트릭스 배열을 갖는 화소 영역;A pixel region having a matrix arrangement formed by the gate line and the data line; 상기 화소 영역 내에 형성된 박막트랜지스터;A thin film transistor formed in the pixel region; 상기 박막트랜지스터에 접속하며 상기 화소 영역 내에 형성된 화소전극; 그리고A pixel electrode connected to the thin film transistor and formed in the pixel region; And 상기 화소 영역 내에서 화소 전극과 평행하게 배열되어 수평전계를 형성하는 공통전극을 더 포함하는 액정표시장치.And a common electrode arranged in parallel with the pixel electrode in the pixel region to form a horizontal electric field. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 광 경화된 감광성 단량체의 일측 단부는 상기 배향막의 배향 무늬와 연결되고, 타측 단부는 상기 액정층의 액정분자의 일측부에 결합된 액정표시장치.Wherein one end of the photocured photosensitive monomer is connected to the alignment pattern of the alignment layer and the other end is bonded to one side of the liquid crystal molecule of the liquid crystal layer. 삭제delete 제1 배향막을 갖는 박막트랜지스터 기판을 형성하는 단계;Forming a thin film transistor substrate having a first alignment film; 제2 배향막을 갖는 칼라필터 기판을 형성하는 단계;Forming a color filter substrate having a second alignment layer; 주 액정물질과 감광성 단량체의 혼합물로 이루어진 네마틱(Nematic) 액정층을 상기 제1 배향막과 상기 제2 배향막 사이에 개재하고 상기 박막트랜지스터 기판과 상기 칼라필터 기판을 합착하여 액정표시 패널을 형성하는 단계; 그리고A step of forming a liquid crystal display panel by interposing a nematic liquid crystal layer made of a mixture of a main liquid crystal material and a photosensitive monomer between the first alignment layer and the second alignment layer and attaching the thin film transistor substrate and the color filter substrate together ; And 상기 액정표시 패널에 자외선을 조사하여 상기 감광성 단량체를 경화시키는 단계를 포함하고,Irradiating the liquid crystal display panel with ultraviolet light to cure the photosensitive monomer, 상기 주 액정물질은 99.0~99.9%의 함량비를 갖고, 상기 감광성 단량체는 상기 주 액정물질에 대해 0.1~1.0%의 함량비를 갖고,Wherein the main liquid crystal material has a content ratio of 99.0 to 99.9%, the photosensitive monomer has a content ratio of 0.1 to 1.0% with respect to the main liquid crystal material, 상기 액정층은 상기 기판들의 평면에 대한 수직 프리틸트 각이 0.3도 이하의 값을 갖는 수평 상태를 유지하는 액정표시장치 제조 방법.Wherein the liquid crystal layer maintains a horizontal state where a vertical pretilt angle with respect to a plane of the substrates has a value of 0.3 degrees or less. 제 7 항에 있어서,8. The method of claim 7, 상기 박막트랜지스터 기판을 형성하는 단계는,Wherein forming the thin film transistor substrate comprises: 투명 기판 위에 게이트 라인, 게이트 라인에서 분기하는 게이트 전극을 형성하는 단계;Forming a gate line on the transparent substrate and a gate electrode branched from the gate line; 상기 게이트 라인 및 상기 게이트 전극 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계;Forming a gate insulating film on the gate line and the gate electrode; 상기 게이트 절연막 위에 상기 게이트 전극과 중첩하도록 반도체 층을 형성하는 단계;Forming a semiconductor layer on the gate insulating film so as to overlap with the gate electrode; 상기 게이트 절연막 위에 상기 게이트 라인과 직교하는 데이터 라인, 상기 데이터 라인에서 분기하여 상기 반도체 층의 일측단과 접촉하는 소스 전극, 및 상기 소스 전극과 대향하며 상기 반도체 층의 타측단과 접촉하는 드레인 전극을 형성하는 단계;A data line which is orthogonal to the gate line on the gate insulating film, a source electrode branched from the data line and in contact with one end of the semiconductor layer, and a drain electrode which is in contact with the other end of the semiconductor layer, step; 상기 데이터 라인, 소스 전극, 드레인 전극을 덮는 보호막을 형성하는 단계;Forming a protective film covering the data line, the source electrode, and the drain electrode; 상기 보호막 위에 상기 드레인 전극과 접속하는 화소전극을 형성하는 단계; 그리고Forming a pixel electrode connected to the drain electrode on the protective film; And 상기 화소전극을 덮는 상기 제1 배향막을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정표시장치 제조 방법.And forming the first alignment layer covering the pixel electrode. 제 8 항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 게이트 라인 및 상기 게이트 전극을 형성하는 단계는,Wherein forming the gate line and the gate electrode comprises: 상기 게이트 라인과 평행한 공통 배선과, 상기 공통 배선에서 분기하고 상기 화소 전극과 평행하게 배열되는 공통 전극을 더 형성하는 액정표시장치 제조 방법.A common wiring parallel to the gate line and a common electrode branched from the common wiring and arranged in parallel with the pixel electrode. 제 8 항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 화소전극을 형성하는 단계는,Wherein forming the pixel electrode includes: 상기 보호막 위에 상기 게이트 라인과 평행한 공통 배선과, 상기 공통 배선에서 분기하고 상기 화소 전극과 평행하게 배열되는 공통 전극을 더 형성하는 액정표시장치 제조 방법.And a common electrode which is parallel to the gate line and which is branched on the common wiring and is arranged in parallel with the pixel electrode is further formed on the protective film. 제 7 항에 있어서,8. The method of claim 7, 상기 칼라필터 기판을 형성하는 단계는,Wherein forming the color filter substrate comprises: 투명 기판 위에 매트릭스 배열을 갖는 화소 영역을 정의하는 블랙 매트릭스를 형성하는 단계Forming a black matrix defining a pixel region having a matrix arrangement on a transparent substrate 상기 블랙 매트릭스 사이의 화소 영역 내에 칼라필터를 형성하는 단계;Forming a color filter in a pixel region between the black matrices; 상기 칼라필터 위에 상기 제1 배향막을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정표시장치 제조 방법.And forming the first alignment layer on the color filter. 삭제delete 제 7 항에 있어서,8. The method of claim 7, 상기 감광성 단량체를 경화시키는 단계는,The step of curing the photosensitive monomer comprises: 365nm의 파장을 갖는 자외선을 45mW/cm2의 에너지로 조사하는 액정표시장치 제조 방법.And irradiating an ultraviolet ray having a wavelength of 365 nm at an energy of 45 mW / cm 2 .
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