KR101648178B1 - High frequency thermo therapic apparatus and method - Google Patents

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KR101648178B1 KR1020140067959A KR20140067959A KR101648178B1 KR 101648178 B1 KR101648178 B1 KR 101648178B1 KR 1020140067959 A KR1020140067959 A KR 1020140067959A KR 20140067959 A KR20140067959 A KR 20140067959A KR 101648178 B1 KR101648178 B1 KR 101648178B1
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Abstract

피부 조직을 흡입시켜 수용시키는 수용 공간을 갖는 흡입 하우징, 흡입 하우징에 연결되어 상기 수용 공간에 흡입압을 제공하는 흡입 모듈, 그리고 피부 조직을 향해 상기 피부 조직이 수용 공간으로 흡입되는 방향에 수직인 방향으로 고주파를 인가시키도록 수용 공간을 사이에 두고 서로 대향되되, 복수의 제1 분할 전극 및 제2 분할 전극을 구비하는 고주파 전극 구조물을 포함하는 고주파 온열 치료기가 개시된다.A suction module connected to the suction housing and providing a suction pressure to the accommodation space, and a suction module for sucking the skin tissue in a direction perpendicular to the direction in which the skin tissue is sucked into the accommodation space toward the skin tissue Frequency electrode structure including a plurality of first divided electrodes and a second divided electrode facing each other with a space therebetween for applying a high frequency to the first divided electrode and the second divided electrode.

Description

고주파 온열 치료기 및 그 방법{HIGH FREQUENCY THERMO THERAPIC APPARATUS AND METHOD}HIGH FREQUENCY THERMO THERAPIC APPARATUS AND METHOD FIELD OF THE INVENTION [0001]

본 발명의 일실시예는 고주파 온열 치료기 및 그 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 시술 대상이 되는 피부 조직에만 선택적으로 고주파 온열치료를 수행할 수 있는 고주파 온열 치료기 및 그 방법에 관련된다.
One embodiment of the present invention relates to a high-frequency thermal therapy apparatus and method thereof, and more particularly, to a high-frequency thermal therapy apparatus and method capable of selectively performing a high-frequency thermal treatment only on a skin tissue to be treated.

일반적으로 식생활이 윤택해짐에 따라 사람의 신체가 비만해지는 경향이 있는데, 이러한 비만현상은 몸속의 지방 세포가 증가하는 생리 현상으로서, 과다한 에너지 섭취, 내분비 계통의 이상, 운동 부족, 유전적 요인 등에 의하여 발생한다. 따라서, 비만을 치료하거나 과도한 지방을 제거하기 위해 운동이나 식이요법 등을 시도하거나, 혹은 고주파장비 등을 이용하여 시술을 시도하기도 한다. Generally, as the diet becomes healthier, the body of a person tends to become obese. Such obesity phenomenon is a physiological phenomenon in which the fat cells in the body are increased, and is caused by excessive energy consumption, endocrine system abnormality, lack of exercise, Occurs. Therefore, in order to treat obesity or to remove excess fat, exercise or dietary therapy may be tried, or high frequency equipment may be used to perform the procedure.

일반적인 고주파 온열 치료기는 고주파 출력부를 양극으로 나누고, 그 중 한 극(-)과는 플레이트를, 나머지 극(+)과는 전극 봉(이하 '시술 핸드피스'라 함)을 연결한 상태에서, 시술 대상 피부 조직 상에 상기 플레이트를 위치시킨 후, 시술 핸드피스를 여러 가지 형태를 그리면서 그 치료 시술부위의 표면을 마사지하게 된다. In a general high-frequency thermal therapy apparatus, a high-frequency output unit is divided into an anode, a plate with one electrode (-) and an electrode rod (hereinafter referred to as a "procedure handpiece") connected to the other electrode After placing the plate on the target dermal tissue, the treatment handpiece massages the surface of the treatment site by various shapes.

그러나, 상기와 같은 고주파 온열 치료기는 동일 부위의 반복 시술시, 시술 핸드피스와 플레이트 간의 교류 전류로서 형성되는 고주파 에너지가 시술을 원하지 않는 피부 조직에도 인가되어 영향을 줄 수 있다. 특히, 피하 지방층 분해를 위한 고주파 온열 치료의 경우, 피부 조직에 상대적으로 높은 온도의 열을 발생시키게 되므로, 피하 지방층 이외의 나머지 조직에까지 고주파가 인가되어 내장 조직의 열손상과 같은 의료 사고와 기타 부작용을 발생시키는 원인이 되고 있다.However, in the above-described high-frequency thermal therapy apparatus, high-frequency energy, which is formed as an alternating current between the procedure handpiece and the plate, may be applied to the skin tissue which is not desired to be performed. In particular, in the case of the high-frequency heat treatment for decomposing the subcutaneous fat layer, since the heat is generated at a relatively high temperature in the skin tissue, a high frequency is applied to the remaining tissues other than the subcutaneous fat layer, And the like.

상기와 같은 고주파 온열 치료기와 관련된 선행기술로는 오므론 가부시키가이샤에 의해 출원된 대한민국 특허출원 제1992-0000339호 및 유니온 메디칼에 의해 출원된 대한민국 특허출원 제2013-0009096호 등이 공지되어 있다.
Prior art related to the above-described high-frequency thermal therapy apparatus is disclosed in Korean Patent Application No. 1992-0000339 filed by Omron Corporation and Korean Patent Application No. 2013-0009096 filed by Union Medical.

본 발명의 일측면은, 고주파 온열 치료의 안전성을 향상시킬 수 있는 고주파 온열 치료기 및 그 방법을 제공할 수 있다.One aspect of the present invention can provide a high-frequency thermal therapy apparatus and method capable of improving the safety of high-frequency thermal therapy.

본 발명의 다른 측면은, 시술 대상자의 체형, 피부 조직 상태, 피하 지방층의 두께, 그리고 시술 부위 등을 고려하여 맞춤형으로 시술이 가능한 고주파 온열 치료기 및 그 방법을 제공할 수 있다.
Another aspect of the present invention provides a high-frequency thermal therapy apparatus and method that can be customized in consideration of a body shape, a skin tissue condition, a thickness of a subcutaneous fat layer, and a treatment site of a subject to be treated.

본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기는, 피부 조직을 흡입시켜 수용시키는 수용 공간을 갖는, 그리고 하판 및 상기 하판 가장자리로부터 수직하게 연장되는 측판으로 이루어져, 일측이 개방된 컵(cup) 형상을 갖는 흡입 하우징; 상기 흡입 하우징에 연결되어 상기 수용 공간에 흡입압을 제공하는 흡입 모듈; 상기 피부 조직을 향해, 상기 피부 조직이 상기 수용 공간으로 흡입되는 방향에 수직인 방향으로 고주파를 인가시키도록, 상기 수용 공간을 사이에 두고 서로 대향되는 고주파 전극 구조물; 및 상기 고주파 전극 구조물에 전력을 인가시키는 전원공급장치를 제어하는 제어기를 포함하되, 상기 고주파 전극 구조물은: 상기 측판의 일측판에 구비되며, 복수의 제1 분할 전극들을 갖는 제1 고주파 전극; 및 상기 수용 공간을 사이에 두고 상기 제1 분할 전극과 대향되도록 상기 일측판의 반대편인 타측판에 구비된 제2 분할 전극들을 갖는 제2 고주파 전극을 포함할 수 있다.The high-frequency thermal therapy apparatus according to one embodiment of the present invention includes a cup shape having an accommodating space for sucking and receiving skin tissue and a side plate vertically extending from the lower plate and the lower plate edge, ; A suction module connected to the suction housing to provide a suction pressure to the accommodation space; A high frequency electrode structure opposing each other with the accommodating space therebetween so as to apply a high frequency toward the skin tissue in a direction perpendicular to a direction in which the skin tissue is sucked into the accommodating space; And a controller for controlling a power supply for applying power to the high frequency electrode structure, wherein the high frequency electrode structure comprises: a first high frequency electrode provided on one side plate of the side plate and having a plurality of first divided electrodes; And a second high frequency electrode having second split electrodes provided on the other side plate opposite to the one side plate so as to face the first split electrode with the accommodation space interposed therebetween.

이때, 상기 제1 분할 전극과 상기 제2 분할 전극은 서로 마주보는 전극들로 구성된 복수의 전극조들로 구성되고, 상기 제어기는 상기 복수의 전극조들 각각을 독립적으로 제어하되, 상기 복수의 전극조들 중 인접하는 전극조들이 동시 또는 순차적으로 통전되지 않도록 하는 상기 복수의 전극조들에 대한 통전 메카니즘을 가질 수 있다.Here, the first split electrode and the second split electrode may be composed of a plurality of electrode tanks constituted of electrodes facing each other, and the controller may independently control each of the plurality of electrode taps, And may have an energizing mechanism for the plurality of electrode tanks such that adjacent ones of the tanks are not energized simultaneously or sequentially.

또한, 상기 흡입 모듈은: 상기 흡입 하우징에 연결된 흡입 라인; 상기 흡입 라인에 구비되는 흡입 펌프; 및 상기 수용 공간에 가해지는 흡입압을 측정하는 흡입압 측정기를 포함할 수 있다.The suction module may further comprise: a suction line connected to the suction housing; A suction pump provided in the suction line; And a suction pressure gauge for measuring a suction pressure applied to the accommodation space.

또한, 상기 흡입 하우징에 구비되어 상기 전극 구조물에 의해 발생되는 발열 온도를 측정하는 온도 측정기를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a temperature measuring unit provided in the suction housing and measuring a temperature of the heat generated by the electrode structure.

또한, 상기 흡입 하우징에 구비되어 상기 피부 조직을 냉각시키는 냉각 전극 구조물을 더 포함하되, 상기 냉각 전극 구조물은: 상기 측판의 일측판에 구비된 제1 냉각 전극; 및 상기 수용 공간을 사이에 두고 상기 제1 냉각 전극과 대향되도록 상기 측판의 타측판에 구비된 제2 냉각 전극을 포함할 수 있다.The cooling electrode structure may further include: a cooling electrode structure provided in the suction housing to cool the skin tissue, the cooling electrode structure comprising: a first cooling electrode provided on one side plate of the side plate; And a second cooling electrode provided on the other side plate of the side plate so as to face the first cooling electrode with the accommodation space interposed therebetween.

또한, 상기 고주파 온열 치료기는 상기 흡입 하우징의 개구 구조를 정의하는 개구 정의부를 더 포함할 수 있다.Further, the high-frequency thermal therapy apparatus may further include an opening defining portion defining an opening structure of the suction housing.

이때, 상기 개구 정의부는 서로 상이한 형상으로 정의된 복수의 개구 정의부들을 포함할 수 있다.In this case, the opening defining part may include a plurality of opening defining parts defined in different shapes.

또한, 상기 개구 정의부는 상기 흡입 하우징과 결합되는 부분은 편평하고, 상기 피부 조직과 결합되는 부분은 중앙으로부터 측방향으로 갈수록 두께가 증가하는 형상을 가질 수 있다.In addition, the portion of the opening defining portion that is coupled to the suction housing may be flat, and the portion of the opening defining portion coupled with the skin tissue may have a shape increasing in thickness from the center toward the lateral direction.

또한, 상기 개구 정의부는 상기 흡입 하우징에 비해 낮은 경도(hardness)를 갖는 연성 재질로 이루어질 수 있다.
Also, the opening defining portion may be made of a soft material having a lower hardness than the suction housing.

본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료 방법은, 수용 공간을 갖는 흡입 하우징을 구비한 시술 핸드피스를 준비하는 단계; 상기 피부 조직을 상기 흡입 하우징의 수용 공간으로 흡입시키는 단계; 및 상기 흡입 하우징에 수용된 상기 피부 조직에 복수의 발열 영역들이 발생되도록, 상기 피부 조직이 상기 수용 공간으로 흡입되는 방향에 수직인 방향으로 고주파를 발생시키는 단계를 포함하되, 상기 고주파를 발생시키는 단계는, 상기 복수의 발열 영역들 중 비인접 발열 영역들이 동시 또는 순차 발생되도록 상기 발열 영역들을 교번적으로 발생시킬 수 있다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a high-frequency thermal treatment method comprising the steps of: preparing a procedure handpiece having a suction housing having a receiving space; Sucking the skin tissue into the receiving space of the suction housing; And generating a high frequency in a direction perpendicular to a direction in which the skin tissue is sucked into the accommodation space so that a plurality of heat generating regions are generated in the skin tissue accommodated in the suction housing, Alternatively, the heat generating regions may be alternately generated so that the non-adjacent heat generating regions among the plurality of heat generating regions are generated simultaneously or sequentially.

이때, 상기 고주파를 발생시키는 단계는: 상기 발열 영역들 중 어느 하나의 발열 영역을 발생시키는 단계; 상기 어느 하나의 발열 영역과 비인접하는 다른 하나의 발열 영역을 발생시키는 단계; 및 상기 다른 하나의 발열 영역을 발생시킨 이후에, 상기 어느 하나의 발열 영역에 인접한 또 다른 하나의 발열 영역을 발생시키는 단계를 포함할 수 있다.At this time, the step of generating the high frequency may include: generating one of the heat generating regions; Generating another heat generating region in contact with any one of the heat generating regions; And generating another heat generation region adjacent to the one heat generation region after generating the other heat generation region.

또한, 상기 고주파를 발생시키는 단계는, 상기 수용 공간에 피부 조직이 위치되었을 때 고주파 전극들이 상기 피부 조직을 사이에 두고 양측에 배치되도록, 상기 고주파 전극들이 상기 흡입 하우징의 측판에 배치된 상태에서 이루어질 수 있다.
The generating of the high frequency may be performed in a state where the high frequency electrodes are disposed on the side plate of the suction housing such that the high frequency electrodes are disposed on both sides of the skin tissue when the skin tissue is positioned in the accommodation space .

본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기 및 그 방법은, 시술 대상자의 피부 조직을 흡입시켜 치료 대상 부분을 한정시킨 후, 고주파가 시술 대상자의 심부 조직을 향하지 않고 흡입된 피부 조직에만 한정되어 인가되도록 함으로써, 시술 대상 이외의 다른 부위에 고주파가 인가되는 것을 방지하여 고주파 온열 치료의 안전성을 높일 수 있다.A high-frequency thermal therapy apparatus and method according to an embodiment of the present invention is characterized in that after a portion to be treated is inhaled by inhaling the skin tissue of a treatment subject, the high frequency is limited to the inhaled skin tissue without being directed to the deep tissue of the treatment subject , It is possible to prevent the application of the high frequency to other parts other than the treatment target, thereby enhancing the safety of the high frequency thermal treatment.

본 발명의 다른 실시예에 따른 고주파 온열 치료기 및 그 방법은, 피부 조직을 흡입하는 상기 흡입 하우징의 앞단 부분에 탈부착 가능하게 구비되어 상기 흡입 하우징의 개구 구조를 정의하는 복수의 개구 정의부를 갖는 흡입형 시술 핸드피스를 구비하여, 시술 목적에 따라 다양한 흡입 하우징 또는 개구 정의부를 교체 사용함으로써 시술 대상자에 대한 맞춤형 시술이 가능하고, 직접 피부와 마찰되어 손상 및 마모가 심한 하우징 부분만을 부분 교체할 수 있어 유지 보수 비용을 줄일 수 있다.A high-frequency thermal therapy apparatus and method according to another embodiment of the present invention is a high-frequency thermal therapy apparatus and a method thereof, which are detachably mounted on a front end portion of the suction housing for sucking skin tissue, and which have a plurality of opening defining portions defining an opening structure of the suction housing A surgical procedure handpiece is provided and a variety of suction housings or opening defining parts are used in accordance with the purpose of the procedure, so that a customized operation can be performed on a patient to be treated, and only a portion of the housing, The maintenance cost can be reduced.

본 발명의 다른 실시예에 따른 고주파 온열 치료기 및 방법은 고주파 전극 구조물을 복수의 분할 전극들로 구성하고, 시술시 상기 분할 전극들의 통전 순서를 교번적으로 이루어지도록 하여, 각각의 분할 전극들에 의해 발생되는 고주파 발열 영역이 서로 중첩되어 과도한 발열이 발생되는 현상을 방지함으로써, 고주파 온열 치료의 안전성과 신뢰성을 높일 수 있다.
The high-frequency thermal therapy apparatus and method according to another embodiment of the present invention may be configured such that the high-frequency electrode structure is constituted by a plurality of divided electrodes, and the order of energization of the divided electrodes is alternately performed during the procedure, It is possible to enhance the safety and reliability of the high-frequency thermal treatment by preventing the occurrence of excessive heat generation by overlapping the generated high-frequency heating regions.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기를 개략적으로 보인 사시도이다.
도 2는 도 1의 I-I'선을 따라 절단한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기의 고주파 전극 구조물을 개략적으로 보인 도면이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기에서 서로 인접한 고주파 전극들이 통전될 경우 중첩 발열 영역이 발생되는 현상을 설명하기 위한 개념도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료 방법을 개략적으로 보인 순서도이다.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 고주파 온열 치료기를 개략적으로 보인 사시도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 고주파 온열 치료기를 개략적으로 보인 분해사시도이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 개구 정의부의 다양한 예들을 보여주는 사시도이다.
1 is a perspective view schematically showing a high-frequency thermal therapy apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along line I-I 'of FIG.
3 is a schematic view illustrating a high-frequency electrode structure of a high-frequency thermal therapy apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a conceptual diagram for explaining a phenomenon in which a superimposed heat generating region is generated when high-frequency electrodes adjacent to each other are energized in a high-frequency thermal processor according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a flowchart schematically illustrating a high-frequency thermal treatment method according to an embodiment of the present invention.
6A to 6C are views for explaining a high-frequency thermal treatment process according to an embodiment of the present invention.
7 is a perspective view schematically showing a high-frequency thermal therapy apparatus according to another embodiment of the present invention.
8 is an exploded perspective view schematically showing a high-frequency thermal therapy apparatus according to another embodiment of the present invention.
9 is a perspective view showing various examples of the aperture defining portion according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면들과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공될 수 있다. 명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. These embodiments are provided so that the disclosure of the present invention is complete and that those skilled in the art will fully understand the scope of the present invention. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

본 명세서에서 사용된 용어들은 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 단계는 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprise)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terms used herein are intended to illustrate embodiments and are not intended to limit the invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. It is to be understood that the terms 'comprise', and / or 'comprising' as used herein may be used to refer to the presence or absence of one or more other components, steps, operations, and / Or additions.

또한, 본 명세서에서 기술하는 실시예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 각 구성들의 세부 크기, 형태, 두께, 곡률 등은 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장되거나 도식화된 것으로서, 허용 오차 등에 의해 그 형태가 변형될 수 있다.
In addition, the embodiments described herein will be described with reference to cross-sectional views and / or plan views, which are ideal illustrations of the present invention. In the drawings, the detailed size, shape, thickness, curvature, etc. of each structure are exaggerated or schematized for effective explanation of technical contents, and the shape may be modified by tolerance or the like.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 고주파 온열 치료기 및 그 방법에 대해 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a high-frequency thermal therapy apparatus and method according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기를 개략적으로 보인 사시도이고, 도 2는 도 1의 I-I'선을 따라 절단한 단면도이며, 도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료 과정을 설명하기 위한 도면이다. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a high-frequency thermal therapy apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line I-I 'of FIG. 1, and FIGS. 1 is a diagram for explaining a high-frequency thermal treatment process according to an example.

도 1, 도 2 및 도 6a 내지 도 6c를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기는 피하 지방층의 분해 시술을 수행할 수 있는 의료기기일 수 있다. 상기 고주파 온열 치료기는 고주파 온열 치료의 제어를 위한 장비 본체(미도시됨) 및 상기 장비 본체에 연결되어 고주파 온열 시술시 실질적으로 시술 대상자에 접촉되어 고주파 온열 치료를 수행하는 시술 핸드피스(100)를 포함할 수 있다. 상기 장비 본체에는 시술자의 장비 제어를 위한 제어기 및 디스플레이, 그리고 각종 작동 버튼들이 구비될 수 있다.Referring to FIGS. 1, 2, and 6A to 6C, the high-frequency thermal therapy apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention may be a medical device capable of performing the subcutaneous fat layer decomposition procedure. The high-frequency thermal therapy apparatus includes a main body (not shown) for controlling the high-frequency thermal therapy, and a procedure handpiece 100 connected to the main body of the apparatus for performing high-frequency thermal therapy in a high- . The apparatus main body may include a controller, a display, and various operation buttons for controlling the equipment of the operator.

일실시예에서, 상기 시술 핸드피스(100)는 흡입 하우징(110), 흡입 모듈(120), 고주파 전극 구조물(130), 냉각 전극 구조물(140), 온도 측정기(150), 그리고 제어기(160)를 포함할 수 있다.In one embodiment, the procedure handpiece 100 includes a suction housing 110, a suction module 120, a high frequency electrode structure 130, a cooling electrode structure 140, a temperature meter 150, . ≪ / RTI >

일실시예에서, 상기 흡입 하우징(110)은 고주파 온열 시술의 대상이 되는 피부 조직(10)을 흡입하여 정의 및 수용할 수 있다. 상기 흡입 하우징(110)은 대체로 일측이 개방된 컵(cup) 형상을 가질 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 흡입 하우징(110)은 하판(112) 및 상기 하판(112)의 가장자리로부터 수직하게 연장되어 상기 흡입 하우징(110)의 측벽을 이루는 측판(114)을 포함할 수 있다. 이와 같은 구조의 흡입 하우징(110)은 일측에 개구(116)가 제공되고 나머지가 밀폐되는 구조를 가질 수 있으며, 상기 하판(112)과 상기 측판(114)에 의해 정의되는 내부 공간은 시술시 상기 피부 조직(10)이 위치되는 수용 공간(118)으로 정의될 수 있다.In one embodiment, the suction housing 110 may be defined and accommodated by inhalation of the skin tissue 10 to be subjected to the high-frequency thermal heating procedure. The suction housing 110 may have a cup shape which is open on one side. More specifically, the suction housing 110 may include a lower plate 112 and a side plate 114 extending vertically from the edge of the lower plate 112 to form side walls of the suction housing 110. The suction housing 110 having such a structure may have a structure in which an opening 116 is provided at one side and the other is closed, and an inner space defined by the lower plate 112 and the side plate 114 is formed in the above- May be defined as a receiving space 118 in which the skin tissue 10 is located.

일실시예에서, 상기 흡입 하우징(110)은 시술시 상기 피부 조직(10)에 직접적으로 접촉되므로 친환경적이면서도 인체에 무해한 재질로 이루어진다. 또한, 상기 흡입 하우징(110)은, 시술자가 상기 피부 조직(10)의 상태를 육안으로 확인할 수 있도록 투명 또는 반투명 재질로 이루어질 수 있다. 그 밖에도, 상기 흡입 하우징(110)은, 시술시 상기 수용 공간(118)과 외부 공간과의 완전한 밀폐 상태가 이루어지도록 제공되어야 하므로, 상기 피부 조직(10)과의 밀착력을 높이기 위해 가요성 재질로 이루어질 수 있다. 일 예로서, 상기 흡입 하우징(110)의 재질로는 투명 고무, 투명 플라스틱, 투명 수지(Resin), 그리고 투명 테플론(Teflon) 등이 사용될 수 있다.In one embodiment, the suction housing 110 is made of a material which is environmentally friendly and harmless to the human body since the suction housing 110 is directly contacted with the skin tissue 10 at the time of surgery. In addition, the suction housing 110 may be made of a transparent or translucent material so that the operator can visually confirm the condition of the skin tissue 10. In addition, since the suction housing 110 needs to be provided in a completely sealed state between the accommodation space 118 and the external space at the time of the operation, the suction housing 110 may be made of a flexible material Lt; / RTI > As the material of the suction housing 110, for example, transparent rubber, transparent plastic, transparent resin, and transparent Teflon may be used.

일실시예에서, 상기 흡입 모듈(120)은 상기 흡입 하우징(110)의 수용 공간(118)에 흡입압을 제공한다. 예컨대, 상기 흡입 모듈(120)은 흡입 라인(122) 및 상기 흡입 라인(122)에 연결된 흡입 펌프(124)를 구비할 수 있다. 상기 흡입 라인(122)의 일단은 상기 하판(112)에 제공된 흡입홀(112a)에 연결되고, 타단은 상기 흡입 펌프(124)에 연결될 수 있다. 이에 따라, 상기 흡입 펌프(124)가 구동되면, 상기 흡입 라인(122) 상에 흡입압이 가해져 상기 수용 공간(118) 내에 흡입압이 제공되며, 이러한 흡입압에 의해 상기 피부 조직(10)이 상기 수용 공간(118)으로 흡입될 수 있다. 한편, 상기 흡입 모듈(120)의 흡입압 조절을 위해, 상기 수용 공간(118) 내 압력을 측정할 수 있는 압력 측정기(미도시됨)가 구비될 수 있다. 상기 압력 측정기로는, 상기 흡입 라인(122) 상에 구비되어 상기 흡입 라인(124) 내 흡입압을 측정하는 압력계가 사용될 수 있다.In one embodiment, the suction module 120 provides suction pressure to the receiving space 118 of the suction housing 110. For example, the suction module 120 may include a suction line 122 and a suction pump 124 connected to the suction line 122. One end of the suction line 122 may be connected to the suction hole 112a provided in the lower plate 112 and the other end may be connected to the suction pump 124. Accordingly, when the suction pump 124 is driven, a suction pressure is applied to the suction line 122 to provide a suction pressure in the accommodation space 118, and the suction force causes the skin tissue 10 And can be sucked into the accommodation space 118. A pressure gauge (not shown) for measuring the pressure in the accommodation space 118 may be provided for adjusting the suction pressure of the suction module 120. The pressure gauge may be a pressure gauge provided on the suction line 122 to measure the suction pressure in the suction line 124.

일실시예에서, 상기 고주파 전극 구조물(130)는 고주파를 발생시키는 기능을 수행한다. 예컨대, 상기 고주파 전극 구조물(130)는 제1 고주파 전극(132) 및 상기 제1 고주파 전극(132)에 대향되는 제2 고주파 전극(134)을 구비할 수 있다. 상기 제1 고주파 전극(132)은 상기 측판(114) 중 일측판(114a)에 수직하게 배치되고, 상기 제2 고주파 전극(134)은 일측판(114a)의 반대편인 타측판(114b)에 수직하게 배치될 수 있다. 이에 따라, 시술시 상기 제1 및 제2 고주파 전극들(132, 134)은 상기 수용 공간(118) 내 피부 조직(10)에 대해 측방향으로 대향되어 고주파를 인가시킬 수 있다. 이 경우, 발생된 고주파는 시술 대상자의 심부 조직을 향하지 않고, 상기 수용 공간(10) 내에 위치된 피부 조직(10)에 한정하여 인가되도록 할 수 있다.In one embodiment, the high frequency electrode structure 130 performs a function of generating a high frequency. For example, the high-frequency electrode structure 130 may include a first high-frequency electrode 132 and a second high-frequency electrode 134 opposed to the first high-frequency electrode 132. The first high frequency electrode 132 is disposed perpendicularly to the one side plate 114a of the side plate 114 and the second high frequency electrode 134 is perpendicular to the other side plate 114b opposite to the one side plate 114a . Accordingly, the first and second high-frequency electrodes 132 and 134 may be laterally opposed to the skin tissue 10 in the receiving space 118 to apply high-frequency waves. In this case, the generated high-frequency waves can be applied to the skin tissue 10 positioned in the receiving space 10 without being directed toward the deep tissue of the subject.

일실시예에서, 상기 고주파 전극 구조물(130)에 의해 발생되는 고주파는 피부 조직(10)의 피하 지방층을 분해시킬 수 있을 정도의 열을 발생시킬 수 있다. 이렇게 발생된 열에 의하여 피부 조직 또는 피하 지방층이 대략 30℃ 내지 42℃의 범위로 가열될 수 있다. 상기 온도가 30℃ 미만이면 치료 효율이 낮고, 이와 반대로 상기 온도가 42℃를 초과할 경우에는 피부 괴사 등의 부작용이 발생될 수 있다. 다만, 상기 피부 조직(10)의 화상 방지가 가능한 조건에서 고주파의 열을 높이는 것이 지방 분해 효율을 높이는 것을 고려하면, 상기 피부 조직(10)의 화상을 방지하는 조건이라면 상기 열은 42℃을 초과하는 것이 지방 분해 효율 측면에서 바람직할 수 있다.In one embodiment, the high frequency generated by the high-frequency electrode structure 130 may generate enough heat to dissolve the subcutaneous fat layer of the skin tissue 10. By the heat thus generated, the skin tissue or subcutaneous fat layer can be heated to a range of about 30 캜 to 42 캜. If the temperature is less than 30 ° C, the treatment efficiency is low. On the other hand, if the temperature exceeds 42 ° C, adverse effects such as skin necrosis may occur. However, considering that raising the heat of the high frequency in the condition of preventing the burning of the skin tissue 10 enhances the lipolysis efficiency, if the condition is to prevent the image of the skin tissue 10, It may be preferable in terms of fat decomposition efficiency.

일실시예에서, 상기 냉각 전극 구조물(140)은, 상기 고주파 전극 구조물(130)에 의해 발생되는 발열에 의해 상기 피부 조직(10)에 화상이 발생되지 않도록, 시술시 상기 피부 조직(10)을 냉각시키는 기능을 수행한다. 상기 냉각 전극 구조물(140)은 상기 제1 고주파 전극(132)과 대향되도록 배치되는 제1 냉각 전극(142) 및 상기 제2 고주파 전극(134)과 대향되도록 배치되는 제2 냉각 전극(144)을 포함할 수 있다. 상기 제1 냉각 전극(142)은 상기 제1 고주파 전극(132)에 비해 상기 피부 조직(10)에 가깝도록 상기 일측판(114a)에 구비되고, 상기 제2 냉각 전극(144)은 상기 제2 고주파 전극(134)에 비해 상기 피부 조직(10)에 가깝도록 상기 타측판(114b)에 구비될 수 있다. 이에 따라, 상기 냉각 전극 구조물(140)은 상기 고주파 전극 구조물(130)에 비해 시술시 상기 피부 조직(10)에 인접하게 배치되어 기 설정된 냉각온도로 냉각되도록 하여, 상기 피부 조직(10) 표면의 화상을 방지할 수 있다.In one embodiment, the cooling electrode structure 140 is configured such that the skin tissue 10 is removed from the skin tissue 10 during operation so that an image is not generated in the skin tissue 10 due to heat generated by the high- Cooling function. The cooling electrode structure 140 includes a first cooling electrode 142 disposed to face the first high frequency electrode 132 and a second cooling electrode 144 disposed to face the second high frequency electrode 134 . The first cooling electrode 142 is provided on the one side plate 114a so as to be closer to the skin tissue 10 than the first high frequency electrode 132 and the second cooling electrode 144 is provided on the one side plate 114a, And may be provided on the other side plate 114b so as to be closer to the skin tissue 10 than the high frequency electrode 134. [ Accordingly, the cooling electrode structure 140 is disposed adjacent to the skin tissue 10 at the time of operation to be cooled to a predetermined cooling temperature as compared with the RF electrode structure 130, The image can be prevented.

일실시예에서, 상기 온도 측정기(150)는 상기 전극 구조물(130)에 의해 발생되는 발열 온도를 측정하는 기능을 수행한다. 상기 온도 측정기(150)로는 적어도 하나 이상의 온도 센서들이 사용될 수 있다. 예컨대, 상기 온도 측정기(150)는 상기 흡입 하우징(110)에 구비되는 제1 온도 센서(152) 및 제2 온도 센서(154)를 포함할 수 있다. 상기 제1 온도 센서(152)는 상기 제1 고주파 전극(132)에 인접하게 배치되고, 상기 제2 온도 센서(154)는 상기 제2 고주파 전극(134)에 인접하게 배치될 수 있다. 상기 제1 및 제2 온도 센서들(152, 154)은 상호 지정된 위치의 온도를 측정하여, 측정된 온도를 상기 제어기(160)로 전송할 수 있다.In one embodiment, the temperature gauge 150 measures the temperature of the heat generated by the electrode structure 130. At least one temperature sensor may be used as the temperature measurer 150. For example, the temperature measuring device 150 may include a first temperature sensor 152 and a second temperature sensor 154 provided in the suction housing 110. The first temperature sensor 152 may be disposed adjacent to the first high frequency electrode 132 and the second temperature sensor 154 may be disposed adjacent to the second high frequency electrode 134. The first and second temperature sensors 152 and 154 may measure temperatures at mutually designated locations and transmit the measured temperatures to the controller 160.

또한, 상기 온도 측정기(150)는 상기 냉각 전극 구조물(140)의 냉각 온도를 측정할 수도 있다. 이를 위해, 상기 온도 측정기(150)는 상기 제1 및 제2 온도 센서들(152, 154)과는 별개의 냉각 온도 센서들(미도시됨)을 구비하여, 상기 냉각 전극 구조물(140)에 의해 냉각 온도를 측정할 수 있다. 이와 같이 냉각 온도 센서들이 측정하는 냉각 온도 데이터는 상기 제어기(160)로 전송될 수 있다.Also, the temperature measuring device 150 may measure the cooling temperature of the cooling electrode structure 140. To this end, the temperature gauge 150 includes cooling temperature sensors (not shown) that are separate from the first and second temperature sensors 152 and 154, The cooling temperature can be measured. The cooling temperature data measured by the cooling temperature sensors may be transmitted to the controller 160.

상기 제어기(160)는 상술한 구성들(120, 130, 140, 150)을 제어하여 고주파 온열 치료를 수행할 수 있다. 예를 들면, 상기 제어기(160)는 시술시 상기 수용 공간(118) 내에 상기 피부 조직(10)이 적합한 압력으로 수용되어 고정되도록, 상기 흡입 모듈(120)을 제어할 수 있다. 또한, 상기 제어기(160)는 상기 온도 측정기(150)로부터 전송받은 온도 데이터를 분석하여, 고주파 온열 치료가 기 설정된 온도 범위로 시술되고 있는지 여부를 판단할 수 있다. 예컨대, 상기 제어기(160)는 상술한 온도 측정기(150)에 의해 시술시 상기 전극 구조물(130)에 의해 발열되는 온도가 대략 30℃ 내지 42℃의 범위를 만족하는지 여부를 판단할 수 있다. 이때, 시술시 상기 기설정된 온도 범위를 벗어나는 경우, 이에 대한 정보를 시술자가 알 수 있도록 경보음 또는 알람을 발생시키거나, 상기 장비 본체에 구비된 디스플레이 등을 통해 외부로 표시할 수 있다.The controller 160 may control the above-described constructions 120, 130, 140, and 150 to perform high-frequency thermal therapy. For example, the controller 160 may control the suction module 120 such that the skin tissue 10 is received and locked at a suitable pressure within the receiving space 118 during surgery. Also, the controller 160 may analyze the temperature data transmitted from the temperature measuring device 150 to determine whether the high-frequency thermal treatment is performed within a predetermined temperature range. For example, the controller 160 may determine whether the temperature generated by the electrode structure 130 during operation is within a range of approximately 30 ° C to 42 ° C by the temperature meter 150 described above. At this time, when the temperature is out of the predetermined temperature range during the operation, an alarm sound or an alarm may be generated so that the operator can know the information, or may be displayed externally through a display or the like provided in the apparatus main body.

그 밖에도, 상기 제어기(160)는 상기 고주파 전극 구조물(130)의 동작을 위해 상기 제1 및 제2 고주파 전극들(132, 134)에 전원을 인가시키는 전원공급장치(미도시됨)를 제어할 수 있다. 특히, 상기 제어기(160)는 상기 기 설정된 온도 범위를 벗어나는 경우, 상기 고주파 전극 구조물(130)로 인가되는 전력량을 조절하여, 상기 발명 온도가 상기 기 설정된 온도 범위 내로 들어오도록 상기 전원공급장치를 제어할 수 있다. 또한, 상기 제어기(160)는 상기 냉각 온도 센서들로부터 냉각 온도 데이터를 전송받아, 상기 제1 및 제2 냉각 전극들(142, 144)에 인가되는 전력량을 조절하여 상기 냉각 온도를 조절할 수 있다.
In addition, the controller 160 controls a power supply (not shown) for applying power to the first and second high frequency electrodes 132 and 134 for operation of the high frequency electrode structure 130 . In particular, when the controller 160 is out of the predetermined temperature range, the controller 160 adjusts the amount of power applied to the high frequency electrode structure 130 to control the power supply device such that the temperature of the invention falls within the predetermined temperature range. can do. The controller 160 may receive the cooling temperature data from the cooling temperature sensors and adjust the cooling temperature by adjusting the amount of power applied to the first and second cooling electrodes 142 and 144.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기의 시술 핸드피스(100)는 상기 흡입 모듈(120)에 의해 상기 흡입 하우징(110)에 흡입압이 제공되며, 이러한 흡입압에 의해 상기 흡입 하우징(110) 내부로 흡입된 피부 조직(10)은 상기 전극 구조물(130)의 발열 작용에 의해 설정된 온도로 발열되어 피하 지방층을 분해시킬 수 있는 구조를 갖는다. 이때, 상기 고주파 전극 구조물(130)은 상기 흡입 하우징(110)의 측판(114)에 수직하게 배치되어, 상기 피부 조직(10)에 대해서만 측방향으로 고주파(20)를 발생시키게 되므로, 시술 대상자의 심부 조직을 향해 고주파(20)가 발생되는 것을 원천적으로 방지할 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 실시예에 따른 고주파 온열 치료기는 고주파 온열 치료시 시술 대상이 되는 피부 조직에만 한정시켜 고주파 온열 치료를 수행하므로, 고주파가 시술 대상자의 심부 조직을 향하지 않도록 하여, 고주파가 시술 대상 이외의 조직에 작용하는 것을 방지할 수 있다.
As described above, in the treatment handpiece 100 of the high-frequency thermal therapy apparatus according to the embodiment of the present invention, the suction module 120 provides the suction pressure to the suction housing 110, The skin tissue 10 sucked into the suction housing 110 has a structure capable of decomposing the subcutaneous fat layer by generating heat at a temperature set by the heating action of the electrode structure 130. At this time, the high-frequency electrode structure 130 is vertically disposed on the side plate 114 of the suction housing 110 to generate a high-frequency wave 20 in the lateral direction only with respect to the skin tissue 10, It is possible to prevent generation of the high frequency wave 20 toward the deep tissue. Accordingly, the high-frequency thermal therapy apparatus according to the embodiment of the present invention performs the high-frequency thermal treatment only on the skin tissue to be treated in the high-frequency thermal therapy, so that the high frequency is not directed to the deep tissue of the subject, Can be prevented from acting on other tissues.

계속해서, 상술한 본 발명의 실시예에 따른 고주파 전극 구조물(130)에 대해 상세히 설명한다. 여기서, 앞서 살펴본 고주파 온열 치료기에 대해 중복되는 내용은 생략하거나 간소화될 수 있다.Next, the high frequency electrode structure 130 according to the embodiment of the present invention will be described in detail. Here, the redundant contents of the above-mentioned high-frequency thermal therapy apparatus can be omitted or simplified.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기의 고주파 전극 구조물을 개략적으로 보인 도면이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기에서 서로 인접한 고주파 전극들이 통전될 경우 발열 영역이 발생되는 현상을 설명하기 위한 개념도이다.FIG. 3 is a schematic view illustrating a high-frequency electrode structure of a high-frequency thermal therapy apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view of a high-frequency thermal treatment apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention, Is a conceptual diagram for explaining a phenomenon that occurs.

도 1 내지 4를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 전극 구조물(130)은 시술 대상자의 피부 조직이 흡입되는 수용 공간(118)을 사이에 두고 서로 마주하여 배치된 제1 고주파 전극(132)과 제2 고주파 전극(134) 각각은 동일 또는 유사한 크기를 갖는 복수의 전극들로 분할되어 제공될 수 있다. 일 예로서, 상기 제1 고주파 전극(132)은 일정 간격으로 서로 이격되어 흡입 하우징(110)의 일측판(114a)을 따라 배치되는 제1 분할 전극들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)를 구비할 수 있다. 상기 제2 고주파 전극(134)은 상기 제1 분할 전극들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)에 대향되도록 타측판(114b)을 따라 배치되는 제2 분할 전극들(134a, 134b, 134c, 134d, 134e, 134f)을 구비할 수 있다. 여기서, 상기 제1 분할 전극들(132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f)과 상기 제2 분할 전극들(134a, 134b, 134c, 134d, 134e, 134f)은 서로 마주보는 전극들 한 쌍이 하나의 전극조를 이룰 수 있다. 이에 따라, 도 3에 도시된 바와 같이, 총 여섯 개의 제1 내지 제6 전극조들(E1, E2, E3, E4, E5, E6)이 구비될 수 있다.1 to 4, a high-frequency electrode structure 130 according to an embodiment of the present invention includes a first high-frequency electrode (not shown) disposed to face each other with a space 118 in which skin tissue of a subject to be treated is sucked, 132 and the second high-frequency electrode 134 may be divided into a plurality of electrodes having the same or similar size. 132b, 132c, 132d, 132e, 132d, 132d, 132d, 132d, 132d, 132d, 132d, 132d, 132d, 132d, 132d, 132f. The second high frequency electrode 134 includes second divided electrodes 134a, 134b, and 134c disposed along the other side plate 114b to face the first divided electrodes 132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 134c, 134d, 134e, and 134f. Here, the first divided electrodes 132a, 132b, 132c, 132d, 132e, and 132f and the second divided electrodes 134a, 134b, 134c, 134d, 134e, Can be obtained. Accordingly, as shown in FIG. 3, a total of six first to sixth electrode tanks E1, E2, E3, E4, E5, and E6 may be provided.

상기와 같은 구조의 제1 및 제2 분할 전극들(132a~132f, 134a~134f)은 시술시 소정의 전력을 인가받아, 상기 제1 및 제2 분할 전극들(132a~132f, 134a~134f) 사이 공간에 고주파에 의한 발열 영역(Ta, Tb, Tc, Td, Te, Tf)을 발생시킬 수 있다. 이때, 상기 발열 영역(Ta, Tb, Tc, Td, Te, Tf)은 상기 제1 및 제2 분할 전극들(132a~132f, 134a~134f) 간의 이격 공간으로 정의될 수 있다. 즉, 상기 발열 영역(Ta, Tb, Tc, Td, Te, Tf)은 상기 제1 및 제2 분할 전극들(132a~132f, 134a~134f) 사이 공간에서 발생되어 시술 대상자의 피하 지방층에 온열 치료를 수행할 수 있다.The first and second divided electrodes 132a to 132f and 134a to 134f having the structure described above are applied with a predetermined electric power in the course of the operation and the first and second divided electrodes 132a to 132f and 134a to 134f, (Ta, Tb, Tc, Td, Te, and Tf) due to high frequency can be generated in the interspace. The heating regions Ta, Tb, Tc, Td, Te, and Tf may be defined as spaced spaces between the first and second divided electrodes 132a to 132f and 134a to 134f. That is, the heating regions Ta, Tb, Tc, Td, Te, and Tf are generated in the space between the first and second divided electrodes 132a to 132f and 134a to 134f, Can be performed.

여기서, 상기 제1 및 제2 분할 전극들(132a~132f, 134a~134f)에 대한 통전 메커니즘은 상호 인접하지 않는 분할 전극들을 통해 전류의 통전이 교번적으로 이루어지는 것을 기초로 할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 제1 내지 제6 전극조들(E1, E2, E3, E4, E5, E6) 중 서로 인접하는 전극 조들을 동시 또는 순차 통전시키는 경우, 각각의 조들 사이 공간에 발생되는 발열 영역이 상호 중첩되어 과도한 발열 영역이 발생될 수 있다. 예컨대, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제1 전극조(E1)와 상기 제2 전극조(E2)가 동시 또는 연속 순서로 통전되는 경우, 각각의 발열 영역(Ta, Tb) 사이에는 상호 중첩되는 발열 영역(이하, '중첩 발열 영역'이라 함, 30)이 발생될 수 있다. 상기 중첩 발열 영역(30)은 기설정된 발열 온도를 벗어나는 높은 발열 온도를 갖게 되므로, 시술 대상자의 특정 조직에 과도한 고열 치료가 이루어져, 화상 등의 부작용이 발생될 수 있다. Here, the energizing mechanism for the first and second divided electrodes 132a to 132f and 134a to 134f may be based on alternating current conduction through the non-adjacent split electrodes. More specifically, when the electrode tanks adjacent to each other among the first through sixth electrode tanks E1, E2, E3, E4, E5, and E6 are simultaneously or sequentially energized, May overlap with each other and an excessive heat generating region may be generated. For example, as shown in FIG. 4, when the first electrode group E1 and the second electrode group E2 are energized in a simultaneous or sequential order, the respective heating regions Ta and Tb overlap each other (Hereinafter, referred to as an " overlapping heat generating region ", 30) may be generated. Since the super heat generation region 30 has a high heat generation temperature exceeding a preset exothermic temperature, an excessive heat treatment is performed on a specific tissue of a subject to be treated, and side effects such as burns may occur.

상기와 같은 부작용을 해결하기 위해, 본 발명의 실시예에 따른 통전 매커니즘은 상호 인접하지 않은 전극 조들의 통전이 교번적으로 이루어지도록 제공될 수 있다. 예컨대, 상기 제1 전극조(E1)의 통전이 첫번째로 이루어지고, 상기 제6 전극조(E6)의 통전이 두번째로 이루어지고, 상기 제4 전극조(E4)의 통전이 세번째로 이루어지고, 이어서 상기 제5 전극조(E5)와 제3 전극조(E3)의 순으로 통전이 진행될 수 있다. 즉, 상기 제1 내지 제5 전극조들(E1~E6)에 대해 서로 인접하지 않는 전극 조들이 무작위로 통전되도록 하고, 서로 인접하는 전극조들은 동시 또는 순차 통전되지 않도록 함으로써, 시술시 상기 발열 영역(Ta, Tb, Tc, Td, Te, Tf)이 서로 중첩되어 과도한 발열 영역의 발생으로 인해 시술 대상자의 화상 등을 방지할 수 있다.In order to solve the above-mentioned side effects, the energization mechanism according to the embodiment of the present invention may be provided such that energization of the electrode tanks not adjacent to each other is alternately performed. For example, the first electrode group E1 is energized for the first time, the sixth electrode group E6 is energized for the second time, the fourth electrode group E4 is energized for the third time, The fifth electrode group E5 and the third electrode group E3 may be energized in this order. That is, the electrode tanks that are not adjacent to the first to fifth electrode tanks E1 to E6 are randomly energized, and the adjacent electrode tanks are not simultaneously or sequentially energized, (Ta, Tb, Tc, Td, Te, and Tf) are overlapped with each other to prevent an image of the subject to be treated due to an excessive heat generating region.

상기와 같은 통전 매커니즘의 구현을 위해, 상기 제어기(160)는 전원공급장치를 제어하여 상기 제1 및 제2 분할 전극들(132a~132f, 134a~134f ) 각각에 공급되는 전력을 독립적 및 선택적으로 제어하여, 상기와 같은 교번적 또는 랜덤적 통전 프로세스가 진행되도록 할 수 있다.In order to implement the energization mechanism as described above, the controller 160 controls the power supply to independently and selectively supply the power to the first and second divided electrodes 132a to 132f, 134a to 134f So that the alternating or random energization process as described above can be performed.

상기와 같은 고주파 온열 치료기는 시술시 발열 영역이 제1 및 제2 고주파 전극들(132, 134) 각각은 복수의 분할 전극들(132a~132f, 134a~134f)로 나누어 구성하고, 이들 분할 전극들(132a~132f, 134a~134f) 중 서로 마주보는 전극들로 구성된 제1 내지 제6 전극조들(E1~E6)의 통전이 상호 중첩되지 않도록 제어함으로써, 발열 영역(Ta, Tb, Tc, Td, Te, Tf) 중 서로 인접하는 발열 영역이 서로 중첩되어 과도한 발열 영역의 발생되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 고주파 온열 치료기 및 방법은 고주파 전극 구조물을 복수의 분할 전극들로 구성하고, 시술시 상기 분할 전극들의 통전 순서를 교번적으로 이루어지도록 하여, 각각의 분할 전극들에 의해 발생되는 고주파 발열 영역이 서로 중첩되어 과도한 발열이 발생되는 것을 방지함으로써, 고주파 온열 치료의 안전성과 신뢰성을 높일 수 있다.
In the above-described high-frequency thermal therapy apparatus, the first and second high-frequency electrodes 132 and 134 are divided into a plurality of divided electrodes 132a to 132f and 134a to 134f, respectively, Tb, Tc, and Td by controlling the energization of the first to sixth electrode troughs E1 to E6, which are made up of opposing electrodes, among the first to fourth electrode troughs 132a to 132f and 134a to 134f, , Te, and Tf are overlapped with each other to prevent an excessive heat generating region from being generated. Accordingly, in the high-frequency thermal therapy apparatus and method according to the present invention, the high-frequency electrode structure is constituted by a plurality of divided electrodes, and the order of energization of the divided electrodes is alternately performed in practice, It is possible to prevent the excessive heat generation due to superimposition of the high-frequency heat generating regions, thereby improving the safety and reliability of the high-frequency thermal treatment.

이하, 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료 방법에 대해 상세히 설명한다. 여기서, 앞서 살펴본 본 발명의 실시예에 따른 고주파 온열 치료기에 대해 중복되는 내용은 생략하거나 간소화될 수 있다.Hereinafter, a high-frequency thermal treatment method according to an embodiment of the present invention will be described in detail. Here, the redundant contents of the high frequency thermal therapy apparatus according to the embodiment of the present invention can be omitted or simplified.

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료 방법을 보여주는 순서도이고, 도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료 과정을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 5 is a flowchart illustrating a high-frequency thermal treatment method according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 6A to 6C illustrate a high-frequency thermal treatment process according to an embodiment of the present invention.

도 5 및 도 6a를 참조하면, 흡입 하우징(110)을 갖는 시술 핸드피스(100)를 준비할 수 있다(S110). 상기 시술 핸드피스(100)를 준비하는 단계는, 일측에 개구(116)가 형성된 컵 형상의 흡입 하우징(110), 상기 흡입 하우징(110)의 수용 공간(118)에 흡입압을 제공하는 흡입 모듈(120), 그리고 상기 흡입 하우징(110)의 측판(114)에 구비되는 고주파 전극 구조물(130) 등으로 구성된 핸드피스 구조물을 제작하여 이루어질 수 있다.Referring to FIGS. 5 and 6A, a procedure handpiece 100 having a suction housing 110 may be prepared (S110). The step of preparing the handpiece 100 includes a cup-shaped suction housing 110 having an opening 116 formed at one side thereof, a suction module 110 for providing suction pressure to the receiving space 118 of the suction housing 110, A high frequency electrode structure 130 provided on the side plate 114 of the suction housing 110, and the like.

시술 핸드피스(100)의 준비가 완료되면, 시술 대상자의 피부 조직(10)을 흡입 하우징(110)의 수용 공간(118)으로 흡입시킬 수 있다(S120). 예컨대, 시술자는 상기 흡입 하우징(110)를 시술 대상이되는 피부 조직(10)에 밀착시킬 수 있다. 그리고, 시술자는 상기 장비 본체(도시되지 않음)에 제공된 제어기(160)를 조작하여 흡입 펌프(124)를 가동시킴으로써, 흡입 라인(122)을 통해 상기 수용 공간(118)에 기 설정된 흡입압을 제공할 수 있다. 이에 따라, 상기 피부 조직(10)이 상기 수용 공간(118)으로 인입되어 수용될 수 있다. 이때, 상기 제어기(160)는 상기 피부 조직(10)이 시술시간 동안 상기 수용 공간(118) 내에 고정 위치되도록 상기 흡입 펌프(124)를 제어하여 상기 흡입압을 조절할 수 있다.When the preparation of the procedure handpiece 100 is completed, the subject's skin tissue 10 can be sucked into the receiving space 118 of the suction housing 110 (S120). For example, the operator can bring the suction housing 110 into close contact with the skin tissue 10 to be treated. The practitioner operates the controller 160 provided in the apparatus main body (not shown) to operate the suction pump 124 to provide a predetermined suction pressure to the accommodating space 118 through the suction line 122 can do. Accordingly, the skin tissue 10 can be drawn into the receiving space 118 and accommodated therein. At this time, the controller 160 may control the suction pump 124 to adjust the suction pressure so that the skin tissue 10 is fixedly positioned in the accommodation space 118 during the procedure time.

도 5 및 도 6b를 참조하면, 상기 수용 공간(118) 내 상기 피부 조직(10)에 대해 측방향으로 고주파를 발생시켜 고주파 온열 치료를 수행할 수 있다(S130). 보다 구체적으로, 고주파 전극 구조물(130)은 상기 흡입 하우징(110)의 측판(114)에 배치되므로, 상기 수용 공간(118)으로 상기 피부 조직(10)이 흡입되는 방향(이하, '상하방향'이라 함, X)에 대체로 수직하는 방향(이하, '측방향'이라 함, Y)으로 고주파(20)를 발생시킬 수 있다. 상기 고주파(20)는 제1 및 제2 고주파 전극들(132, 134) 사이에서 교류 전류 흐름을 발생시켜 상기 피부 조직(10)의 피하 지방층을 분해시키기 위한 열을 발생시킬 수 있다. Referring to FIGS. 5 and 6B, a high-frequency thermal treatment may be performed by generating a high frequency in a lateral direction with respect to the skin tissue 10 in the accommodation space 118 (S130). More specifically, since the high frequency electrode structure 130 is disposed on the side plate 114 of the suction housing 110, the direction in which the skin tissue 10 is sucked into the receiving space 118 (hereinafter, The high frequency 20 can be generated in a direction substantially perpendicular to the X direction (hereinafter, referred to as 'lateral direction'). The high frequency wave 20 generates an alternating current flow between the first and second high frequency electrodes 132 and 134 to generate heat for decomposing the subcutaneous fat layer of the skin tissue 10.

여기서, 상기 상하방향(X)은 상기 피부 조직(10)이 상기 수용 공간(118)으로 유입되거나 또는 상기 수용 공간(118)으로부터 유출되는 방향이고, 상기 측방향(Y)은 상기 고주파(20)의 교류 전류가 흐르는 방향일 수 있다. 이 경우, 상기 고주파(20)는 상기 상하 방향(X)을 따라 상기 수용 공간(118) 내에 위치된 상기 피부 조직(10)에만 작용되므로, 시술 대상자의 심부 조직을 향하지 않을 수 있다. 이에 따라, 상기 고주파(20)는 시술 대상이 되는 조직에만 한정시켜 피하 지방층에 대한 온열 치료를 수행하며, 시술 대상자의 나머지 조직, 특히 내장 조직 등에 영향을 주지 않을 수 있다.Here, the vertical direction X is a direction in which the skin tissue 10 flows into or out of the accommodation space 118, and the lateral direction Y is a direction in which the high- The direction in which the alternating current flows. In this case, since the high frequency wave 20 is applied only to the skin tissue 10 located in the receiving space 118 along the up and down direction X, it may not be directed to the deep tissue of the subject to be treated. Accordingly, the high-frequency wave 20 is limited to the tissue to be treated and performs the hyperthermia treatment on the subcutaneous fat layer, and may not affect the remaining tissues of the subject, particularly the intestinal tissue.

도 5 및 도 6c를 참조하면, 고주파 온열 치료를 종료할 수 있다(S140). 예컨대, 제어기(160)는 고주파 전극 구조물(130) 및 냉각 전극 구조물(140)로 인가되는 전력 공급을 중단시킬 수 있다. 그리고, 상기 흡입 모듈(120)의 흡입 펌프(124)의 가동을 중단시켜, 상기 수용 공간(118) 내 흡입압을 해제시켜, 상기 피부 조직(10)이 상기 흡입 하우징(110)으로부터 분리되도록 할 수 있다. 시술자는 상기 피부 조직(10)에 대한 상태를 체크한 후, 고주파 온열 치료 시술이 정상적으로 진행되었는지 여부를 판단할 수 있다.Referring to FIGS. 5 and 6C, the high-frequency thermal treatment can be terminated (S140). For example, controller 160 may interrupt power supply to high frequency electrode structure 130 and cooling electrode structure 140. The operation of the suction pump 124 of the suction module 120 is stopped to release the suction pressure in the accommodation space 118 so that the skin tissue 10 is separated from the suction housing 110 . After checking the condition of the skin tissue 10, the practitioner can determine whether or not the high-frequency thermal treatment has been normally performed.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 온열 치료기는 컵(cup) 형상을 가지어 피부 조직(10)을 흡입시키는 상기 수용 공간(118)을 갖는 상기 흡입 하우징(110)을 구비하고, 상기 고주파 전극 구조물(130)을 상기 흡입 하우징(110)의 측판(114)에 배치시킴으로써, 시술시 상기 수용 공간(118) 내 피부 조직(10)을 향해 측방향(Y)으로 고주파(20)가 인가되도록 할 수 있다. 이 경우, 상기 수용 공간(118) 내 위치된 상기 피부 조직(10)에만 상기 고주파 온열 치료가 진행될 수 있어, 시술 대상자의 다른 피부 조직으로 고주파(20)가 인가되는 것을 원천적으로 방지할 수 있다. 이에 따라, 본 발명에 따른 고주파 온열 치료기 및 그 방법은 시술 대상자의 피부 조직을 흡입시켜 치료 대상 부분을 한정시킨 후, 고주파가 시술 대상자의 심부 조직을 향하지 않고 흡입된 피부 조직에만 한정되어 인가되도록 함으로써, 시술 대상 이외의 다른 부위에 고주파가 인가되는 것을 방지하여 고주파 온열 치료의 안전성을 높일 수 있다.
As described above, the high-frequency thermal therapy apparatus according to an embodiment of the present invention includes the suction housing 110 having a cup shape and having the accommodation space 118 for sucking the skin tissue 10 The high frequency electrode structure 130 is disposed on the side plate 114 of the suction housing 110 so that the high frequency electrode structure 130 is arranged in the lateral direction Y toward the skin tissue 10 in the accommodating space 118, Can be applied. In this case, the high-frequency thermal treatment can be performed only on the skin tissue 10 positioned in the receiving space 118, so that the application of the high-frequency wave 20 to other skin tissues of the patient to be treated can be prevented originally. Accordingly, in the high-frequency thermal therapy apparatus and method of the present invention, after a portion to be treated is inhaled by inhaling the skin tissue of a subject to be treated, high frequency waves are applied only to the inhaled skin tissue without being directed toward the deep tissue of the subject , It is possible to prevent the high frequency from being applied to other parts other than the treatment target, thereby enhancing the safety of the high frequency thermal treatment.

이하, 본 발명의 다른 실시예에 따른 고주파 온열 치료기에 대해 상세히 설명한다. 여기서, 앞서 살펴본 고주파 온열 치료기에 대해 중복되는 내용은 생략하거나 간소화될 수 있다.Hereinafter, a high-frequency thermal therapy apparatus according to another embodiment of the present invention will be described in detail. Here, the redundant contents of the above-mentioned high-frequency thermal therapy apparatus can be omitted or simplified.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 고주파 온열 치료기를 개략적으로 보인 사시도이고, 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 고주파 온열 치료기를 개략적으로 보인 분해사시도이다.FIG. 7 is a perspective view schematically showing a high-frequency thermal therapy apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is an exploded perspective view schematically showing a high-frequency thermal therapy apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 7 및 도 8을 참조하면, 다른 실시예에서, 시술 핸드피스(101)는 상술한 시술 핸드피스(100)의 흡입 하우징(110) 앞단 개구 부분이 교체 가능하도록 구성될 수 있다. 보다 구체적으로, 전술한 시술 핸드피스(100)는 흡입 하우징(110)이 일체형으로 구성된 것에 반해, 본 실시예에서의 시술 핸드피스(101)는 흡입 하우징(110')의 앞단 개구 부분의 구조만을 변경할 수 있도록, 상기 흡입 하우징(110')의 개구 앞단 형상을 정의하는 개구 정의부(102)를 더 구비할 수 있다. 이때, 상기 개구 정의부(102)가 교체 사용될 수 있도록 탈부착 가능한 구조로 이루어질 수 있다. 상기 개구 정의부(102)는 상기 흡입 하우징(110')의 개구 앞단 부분에 상응하게 결합되도록 제공될 수 있다. 7 and 8, in another embodiment, the operation handpiece 101 may be configured such that the opening portion of the front end of the suction handpiece 100 of the procedure handpiece 100 described above is replaceable. More specifically, the above-described handpiece 100 is constructed such that the suction housing 110 is integrally formed, whereas the handpiece 101 in the present embodiment is configured only in the structure of the front end opening portion of the suction housing 110 ' The opening defining portion 102 defines a shape of the front end of the opening of the suction housing 110 'so as to be changed. At this time, the opening defining part 102 can be detachably attached so that it can be used for replacement. The opening defining portion 102 may be provided so as to correspond to a front end portion of the opening of the suction housing 110 '.

한편, 도시되지는 않았으나, 상기 개구 정의부(102)와 상기 흡입 하우징(110')은 오링(O-ring)과 같은 실링 부재를 사이에 두고 서로 밀착될 수 있다. 또한, 상기 개구 정의부(102)의 양측에는 한 쌍의 연결 탭(102a)이 돌출되어 구비될 수 있다. 상기 연결 탭(102a)의 원터치 체결을 통해 개구 정의부(102)는 흡입 하우징(110')의 나머지 몸체와 손쉽게 연결될 수 있다.Meanwhile, although not shown, the opening defining portion 102 and the suction housing 110 'may be in close contact with each other with a sealing member such as an O-ring therebetween. A pair of connection tabs 102a may protrude from both sides of the opening defining portion 102. [ Through the one-touch fastening of the connection tab 102a, the opening defining portion 102 can be easily connected to the remaining body of the suction housing 110 '.

상기 개구 정의부(102)는 상기 흡입 하우징(110')의 개구 앞단과 상응하는 형상으로 제공되어 상기 흡입 하우징(110')의 개구 앞단에 결합되는 하우징 결합부(102c) 및 상기 하우징 결합부(102c)의 반대편이고 시술시 시술 대상자의 피부 조직에 밀착되는 피부 밀착부(102b)를 가질 수 있다. 상기 하우징 결합부(102c)는 대체로 편평한 구조를 가지며, 상기 피부 밀착부(102b)는 다양한 시술 대상자들의 체형 또는 시술 부위 등을 고려하여 다양한 형상을 가질 수 있다. 즉, 상기 개구 정의부(102)는 일측면이 상기 흡입 하우징(110')과의 결합을 위해 그 형상이 정의되고, 타측면은 다양한 시술 대상자들의 체형 등을 고려하여 그 형상이 정의될 수 있다. 이를 위해, 상기 피부 밀착부(102b)가 상이한 다양한 개구 정의부들이 구비될 수 있다.
The opening defining portion 102 has a housing coupling portion 102c provided in a shape corresponding to the front end of the opening of the suction housing 110 'and coupled to the front end of the opening of the suction housing 110' 102c and may have a skin contact portion 102b that is in close contact with the skin tissue of the subject during the procedure. The housing attachment portion 102c has a generally flat structure, and the skin contact portion 102b may have various shapes in consideration of the body shape of the various treatment subjects, the operation site, and the like. That is, the shape of the opening defining part 102 is defined for coupling one side to the suction housing 110 ', and the shape of the other side can be defined in consideration of the body shape of various treatment subjects and the like . For this purpose, the skin contact portion 102b may be provided with various opening defining portions.

도 9은 본 발명의 다른 실시예에 따른 개구 정의부의 다양한 예들을 보여주는 사시도이다. 도 9를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 개구 정의부는 제1 내지 제3 개구 정의부들(103, 104, 105)을 포함할 수 있다.9 is a perspective view showing various examples of the aperture defining portion according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 9, the aperture defining portion according to another embodiment of the present invention may include first to third aperture defining portions 103, 104, and 105.

도 9의 (a)를 참조하면, 상기 제1 개구 정의부(103)는 상기 제2 및 제3 개구 정의부들(104, 105)에 비해 상대적으로 초고도 비만 환자와 같이 매우 두꺼운 피하 지방층을 갖는 시술 대상자에 적합한 구조를 가질 수 있다. 이를 위해, 상기 제1 개구 정의부(103)는 피부 밀착부(103b)가 중앙으로부터 측방향으로 갈수록 측벽 두께(T1)가 두꺼워지는 형상으로 이루어져, 양측 벽들의 높이가 상대적으로 높은 측벽 구조를 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 개구 정의부(103)는 상기 흡입 하우징(110')과 결합하여 수용 공간의 용적을 증가시키면서, 상대적으로 넓은 피부 조직의 수용이 가능할 수 있다. 9 (a), the first opening defining portion 103 has a relatively thick subcutaneous fat layer as compared with the second and third opening defining portions 104 and 105, And can have a structure suitable for the subject. To this end, the first opening defining portion 103 has a shape in which the thickness of the sidewall T1 becomes thicker toward the side from the center of the skin contact portion 103b, and has a sidewall structure having a relatively high height of both sidewalls . Accordingly, the first opening defining portion 103 can be coupled with the suction housing 110 'to increase the volume of the accommodation space, and allow a relatively large skin tissue to be accommodated.

도 9의 (b)를 참조하면, 상기 제2 개구 정의부(104)는 상기 제1 개구 정의부(103)에 비해 피부 밀착부(104b)가 중앙으로부터 측방향으로 갈수록 두께가 두꺼워지되, 그 두꺼워지는 정도가 작을 수 있다. 이 경우, 상기 제2 개구 정의부(104)는 상기 제1 개구 정의부(103)의 측벽 두께(T1)에 비해 상대적으로 얇은 측벽 두께(T2)를 가질 수 있다. 따라서, 상기 제2 개구 정의부(104)는 고도 비만 환자와 같이 초고도 비만 환자에 비해 상대적으로 얇고 초도 비만 환자에 비해 상대적으로 두꺼운 피하 지방층을 갖는 시술 대상자에 적합한 구조를 가질 수 있다.Referring to FIG. 9B, the second opening defining portion 104 is thicker than the first opening defining portion 103 as the skin contacting portion 104b is laterally extended from the center, The degree of thickening may be small. In this case, the second opening defining portion 104 may have a sidewall thickness T2 relatively thinner than the sidewall thickness T1 of the first opening defining portion 103. Accordingly, the second opening defining portion 104 may have a structure that is relatively thin compared to an ultra-high-density obese patient such as a high obesity patient, and a structure suitable for a subject having a relatively thick subcutaneous fat layer as compared with a first-degree obese patient.

도 9의 (c)을 참조하면, 상기 제3 개구 정의부(105)는 상기 제1 및 제2 개구 정의부들(103, 104)에 비해 피부 밀착부(105b)가 중앙으로부터 측방향으로 갈수록 두께가 두꺼워지되, 그 두꺼워지는 정도가 매우 작거나 없을 수 있다. 이 경우, 상기 제3 개구 정의부(105)는 상기 제1 및 제2 개구 정의부들(103, 104)의 측벽 두께들(T1, T2)에 비해 상대적으로 얇은 측벽 두께(T3)를 가질 수 있다. 따라서, 상기 제3 개구 정의부(105)는 초도 비만 환자 또는 마른 비만 환자, 그리고 정상 체형이지만 슬림(slim)한 몸매를 희망하는 정상인과 같이 상대적으로 얇은 피하 지방층을 갖는 시술 대상자에 적합한 구조를 가질 수 있다.Referring to FIG. 9C, the third opening defining portion 105 is formed so that the skin contact portion 105b is thicker in the lateral direction from the center than the first and second opening defining portions 103 and 104, Thick, but the degree of thickening may be very small or absent. In this case, the third opening defining portion 105 may have a thinner side wall thickness T3 than the side wall thicknesses T1 and T2 of the first and second opening defining portions 103 and 104 . Therefore, the third opening defining portion 105 has a structure suitable for a subject who has a relatively thin subcutaneous fat layer, such as a first obese person or a dry obese person, and a normal person who desires a slim body, .

한편, 상기와 같은 개구 정의부들(103, 104, 105)은 상기 흡입 하우징(110')과 상이한 재질로 이루어질 수 있다. 예컨대, 상기 개구 정의부들(103, 104, 105)은 직접적으로 피부 조직에 접촉함과 더불어, 시술시 상기 흡입 하우징(110')의 수용 공간과 밀착하여 외부 공간과 효과적으로 공기 유입을 차단시킬 필요가 있다. 이를 위해, 상기 개구 정의부들(103, 104, 105)은 상기 흡입 하우징(110')에 비해 상대적으로 인체에 무해하면서도 밀폐 효율이 높은 재질로 이루어지는 것이 바람직할 수 있다. 이에 따라, 상기 개구 정의부들(103, 104, 105)은 인체에 무해한 인체 친화적인 재질로 이루어지면서도, 상기 흡입 하우징(110')에 비해 상대적으로 낮은 경도(hardness)를 갖는 연성 재질로 이루어지는 것이 바람직할 수 있다.Meanwhile, the opening defining portions 103, 104, and 105 may be made of a material different from that of the suction housing 110 '. For example, the opening defining parts 103, 104, and 105 need to directly contact the skin tissue and be in close contact with the receiving space of the suction housing 110 'during operation to effectively block air inflow with the external space have. For this purpose, it is preferable that the opening defining parts 103, 104 and 105 are made of a material which is relatively harmless to the human body and high in sealing efficiency as compared with the suction housing 110 '. Accordingly, the opening defining parts 103, 104 and 105 are made of a soft material which is harmless to the human body and is made of a soft material having a relatively low hardness as compared with the suction housing 110 ' Lt; / RTI >

상기와 같은 개구 정의부들(103, 104, 105)은 시술시 상기 흡입 하우징(110')을 대신하여 시술 대상자의 피부와 접촉되는 부분으로 작용될 수 있다. 상기 개구 정의부(102)의 형태를 다양하게 하거나, 여러 형태의 일단부들을 구비하여, 시술 대상자의 피부 상태나 체형에 맞는 일단부를 선택하여 상기 흡입 하우징(110')에 체결함으로써, 하나의 흡입형 핸드피스로 다양한 체형의 시술 대상자에 대해 시술이 가능할 수 있다.The opening defining portions 103, 104, and 105 may be used as a portion that is in contact with the skin of the subject to be treated, instead of the suction housing 110 '. The opening defining portion 102 may be variously shaped and one end portion of various shapes may be provided so that one end portion corresponding to the skin condition or the body shape of the subject to be treated is selected and fastened to the suction housing 110 ' Type handpiece, it is possible to perform operations on various types of operation target persons.

상술한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 고주파 온열 치료기는 피부 조직(10)을 흡입하는 상기 흡입 하우징(110')의 앞단 부분에 탈부착 가능하게 구비되어 상기 흡입 하우징(110')의 개구 구조를 정의하는 복수의 개구 정의부(102)를 갖는 흡입형 시술 핸드피스(101)를 구비하여, 시술 목적에 따라 다양한 흡입 하우징(110') 또는 개구 정의부(102)를 교체 사용함으로써 시술 대상자에 대한 맞춤형 시술이 가능하고, 직접 피부와 마찰되어 손상 및 마모가 심한 하우징 부분만을 부분 교체할 수 있어 유지 보수 비용을 줄일 수 있다.
As described above, the high-frequency thermal therapy apparatus according to another embodiment of the present invention is detachably attached to the front end portion of the suction housing 110 'for sucking the skin tissue 10, so that the opening of the suction housing 110' Type surgical handpiece 101 having a plurality of opening defining portions 102 defining a structure so that various suction housings 110 'or opening defining portions 102 can be used in accordance with the purpose of the operation, And it is possible to partially replace only the portion of the housing where damage and abrasion are severe due to friction with the skin, thereby reducing the maintenance cost.

지금까지 본 발명에 따른 고주파 온열 치료기 및 그 방법에 관한 구체적인 실시예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 실시 변형이 가능함은 자명하다. 그러므로 본 발명의 범위에는 설명된 실시예에 국한되어 전해져서는 안 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다. 전술된 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적인 것이 아닌 것으로 이해되어야 하며, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술될 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 그 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
Although the embodiments of the high-frequency thermal therapy apparatus and the method according to the present invention have been described above, it is apparent that various modifications may be made without departing from the scope of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, but should be determined by the scope of the appended claims and equivalents thereof. It is to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and should not be construed as limiting, and the scope of the present invention is indicated by the appended claims rather than the foregoing description, and the meaning and scope of the claims and their equivalents It is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and similarities.

10 : 피부 조직 20 : 고주파
30 : 중첩 발열 영역 100 : 시술 핸드피스
110 : 흡입 하우징 112 : 하판
114 : 측판 116 : 개구
118 : 수용 공간 120 : 흡입 모듈
122 : 흡입 라인 124 : 흡입 펌프
130 : 고주파 전극 구조물 132 : 제1 고주파 전극
132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f : 제1 분할 전극들
134 : 제2 고주파 전극
134a, 134b, 134c, 134d, 134e, 134f : 제2 분할 전극들
140 : 냉각 전극 구조물 142 : 제1 냉각 전극
144 : 제2 냉각 전극 150 : 온도 측정기
152 : 제1 온도 센서 154 : 제2 온도 센서
160 : 제어기
10: skin tissue 20: high frequency
30: superimposed heat region 100: procedure handpiece
110: Suction housing 112: Lower plate
114: side plate 116: opening
118: accommodation space 120: suction module
122: suction line 124: suction pump
130: high frequency electrode structure 132: first high frequency electrode
132a, 132b, 132c, 132d, 132e, 132f:
134: second high frequency electrode
134a, 134b, 134c, 134d, 134e, and 134f:
140: cooling electrode structure 142: first cooling electrode
144: second cooling electrode 150: temperature measuring instrument
152: first temperature sensor 154: second temperature sensor
160:

Claims (12)

피부 조직을 흡입시켜 수용시키는 수용 공간을 갖는, 그리고 하판 및 상기 하판 가장자리로부터 수직하게 연장되는 측판으로 이루어져, 일측이 개방된 컵(cup) 형상을 갖는 흡입 하우징;
상기 흡입 하우징에 연결되어 상기 수용 공간에 흡입압을 제공하는 흡입 모듈;
상기 피부 조직을 향해, 상기 피부 조직이 상기 수용 공간으로 흡입되는 방향에 수직인 방향으로 고주파를 인가시키도록, 상기 수용 공간을 사이에 두고 서로 대향되는 고주파 전극 구조물; 및
상기 고주파 전극 구조물에 전력을 인가시키는 전원공급장치를 제어하는 제어기를 포함하고,
상기 고주파 전극 구조물은:
상기 측판의 일측판에 구비되며, 복수의 제1 분할 전극들을 갖는 제1 고주파 전극; 및
상기 수용 공간을 사이에 두고 상기 제1 분할 전극과 대향되도록 상기 일측판의 반대편인 타측판에 구비된 제2 분할 전극들을 갖는 제2 고주파 전극을 포함하며,
상기 제1 분할 전극과 상기 제2 분할 전극은 서로 마주보는 전극들로 구성된 복수의 전극조들을 포함하고,
상기 제어기는 상기 복수의 전극조들 각각을 독립적으로 제어하되, 상기 복수의 전극조들 중 인접하는 전극조들이 동시 또는 순차적으로 통전되지 않도록 하는 상기 복수의 전극조들에 대한 통전 메카니즘을 갖는 고주파 온열 치료기.
A suction housing having a cup shape with one side opened and having a receiving space for sucking and accepting skin tissue, and a side plate vertically extending from the lower plate and the lower plate edge;
A suction module connected to the suction housing to provide a suction pressure to the accommodation space;
A high frequency electrode structure opposing each other with the accommodating space therebetween so as to apply a high frequency toward the skin tissue in a direction perpendicular to a direction in which the skin tissue is sucked into the accommodating space; And
And a controller for controlling a power supply for applying power to the high-frequency electrode structure,
The high-frequency electrode structure includes:
A first high frequency electrode provided on one side plate of the side plate and having a plurality of first divided electrodes; And
And a second high frequency electrode having second split electrodes provided on the other side plate opposite to the one side plate so as to face the first split electrode with the space therebetween,
Wherein the first split electrode and the second split electrode comprise a plurality of electrode troughs,
Wherein the controller independently controls each of the plurality of electrode tanks, wherein a high frequency heating element having an energizing mechanism for the plurality of electrode tanks, which prevents adjacent electrode tanks among the plurality of electrode tanks from simultaneously or sequentially energizing, Therapeutic equipment.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 흡입 모듈은:
상기 흡입 하우징에 연결된 흡입 라인;
상기 흡입 라인에 구비되는 흡입 펌프; 및
상기 수용 공간에 가해지는 흡입압을 측정하는 흡입압 측정기를 포함하는 고주파 온열 치료기.
The method according to claim 1,
The suction module comprises:
A suction line connected to the suction housing;
A suction pump provided in the suction line; And
And a suction pressure measuring device for measuring a suction pressure applied to the accommodation space.
제 1 항에 있어서,
상기 흡입 하우징에 구비되어 상기 전극 구조물에 의해 발생되는 발열 온도를 측정하는 온도 측정기를 더 포함하는 고주파 온열 치료기.
The method according to claim 1,
Further comprising a temperature measuring unit provided in the suction housing and measuring a temperature of the heat generated by the electrode structure.
제 1 항에 있어서,
상기 흡입 하우징에 구비되어 상기 피부 조직을 냉각시키는 냉각 전극 구조물을 더 포함하되,
상기 냉각 전극 구조물은:
상기 측판의 일측판에 구비된 제1 냉각 전극; 및
상기 수용 공간을 사이에 두고 상기 제1 냉각 전극과 대향되도록 상기 측판의 타측판에 구비된 제2 냉각 전극을 포함하는 고주파 온열 치료기.
The method according to claim 1,
And a cooling electrode structure provided in the suction housing to cool the skin tissue,
The cooling electrode structure comprises:
A first cooling electrode provided on one side plate of the side plate; And
And a second cooling electrode provided on the other side plate of the side plate so as to face the first cooling electrode with the accommodation space interposed therebetween.
제 1 항에 있어서,
상기 고주파 온열 치료기는 상기 흡입 하우징의 개구 구조를 정의하는 개구 정의부를 더 포함하는 고주파 온열 치료기.
The method according to claim 1,
Wherein the high-frequency thermal therapy apparatus further comprises an opening defining portion defining an opening structure of the suction housing.
제 6 항에 있어서,
상기 개구 정의부는 서로 상이한 형상으로 정의된 복수의 개구 정의부들을 포함하는 고주파 온열 치료기.
The method according to claim 6,
Wherein the opening defining portion includes a plurality of opening defining portions that are defined to have different shapes from each other.
제 6 항에 있어서,
상기 개구 정의부는 상기 흡입 하우징과 결합되는 부분은 편평하고, 상기 피부 조직과 결합되는 부분은 중앙으로부터 측방향으로 갈수록 두께가 증가하는 형상을 갖는 고주파 온열 치료기.
The method according to claim 6,
Wherein the portion of the opening defining portion coupled to the suction housing is flat, and the portion of the opening defining portion coupled with the skin tissue has a shape increasing in thickness from the center toward the lateral direction.
제 6 항에 있어서,
상기 개구 정의부는 상기 흡입 하우징에 비해 낮은 경도(hardness)를 갖는 연성 재질로 이루어지는 고주파 온열 치료기.
The method according to claim 6,
Wherein the opening defining portion is made of a soft material having a lower hardness than the suction housing.
고주파에 의한 발열을 이용하여 피부 조직의 피하 지방층을 분해시키는 고주파 온열 치료 방법에 있어서,
수용 공간을 갖는 흡입 하우징을 구비한 시술 핸드피스를 준비하는 단계;
상기 피부 조직을 상기 흡입 하우징의 수용 공간으로 흡입시키는 단계; 및
상기 흡입 하우징에 수용된 상기 피부 조직에 복수의 발열 영역들이 발생되도록, 상기 피부 조직이 상기 수용 공간으로 흡입되는 방향에 수직인 방향으로 고주파를 발생시키는 단계를 포함하되,
상기 고주파를 발생시키는 단계는, 상기 복수의 발열 영역들 중 비인접 발열 영역들이 동시 또는 순차 발생되도록 상기 발열 영역들을 교번적으로 발생시키는 고주파 온열 치료 방법.
A high-frequency thermal treatment method for decomposing a subcutaneous fat layer of a skin tissue using heat generated by a high frequency,
Preparing a procedure handpiece having a suction housing with a receiving space;
Sucking the skin tissue into the receiving space of the suction housing; And
Generating a high frequency in a direction perpendicular to a direction in which the skin tissue is sucked into the accommodation space so that a plurality of heat generating regions are generated in the skin tissue accommodated in the suction housing,
Wherein the generating of the high frequency alternately generates the heat generating regions so that the non-adjacent heat generating regions among the plurality of heat generating regions are generated simultaneously or sequentially.
제 10 항에 있어서,
상기 고주파를 발생시키는 단계는:
상기 발열 영역들 중 어느 하나의 발열 영역을 발생시키는 단계;
상기 어느 하나의 발열 영역과 비인접하는 다른 하나의 발열 영역을 발생시키는 단계; 및
상기 다른 하나의 발열 영역을 발생시킨 이후에, 상기 어느 하나의 발열 영역에 인접한 또 다른 하나의 발열 영역을 발생시키는 단계를 포함하는 고주파 온열 치료 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein generating the high frequency comprises:
Generating a heat generating region of any one of the heat generating regions;
Generating another heat generating region in contact with any one of the heat generating regions; And
And generating another heat generating region adjacent to the one heat generating region after generating the other heat generating region.
제 10 항에 있어서,
상기 고주파를 발생시키는 단계는, 상기 수용 공간에 피부 조직이 위치되었을 때 고주파 전극들이 상기 피부 조직을 사이에 두고 양측에 배치되도록, 상기 고주파 전극들이 상기 흡입 하우징의 측판에 배치된 상태에서 이루어지는 고주파 온열 치료 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the step of generating the high frequency wave includes a step of generating a high frequency wave in a state where the high frequency electrodes are disposed on the side plate of the suction housing such that the high frequency electrodes are disposed on both sides of the skin tissue, Treatment method.
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