KR101630453B1 - Novel amide compound and crystalline polymer resin composition comprising the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 신규한 아미드 화합물, 그를 포함하는 결정성 고분자 수지 조성물, 및 이러한 β형 결정을 포함하는 결정성 고분자 수지로부터 제조된 제품에 관한 것이다. 본 발명의 신규한 아미드 화합물은 핵제로 사용시 β형 결정의 함량을 증가시킬 수 있고 가공성도 향상시킬 수 있다.The present invention relates to a novel amide compound, a crystalline polymer resin composition containing the same, and a product made from a crystalline polymer resin containing such a? -Form crystal. The novel amide compound of the present invention can increase the content of the? -Form crystal when used as a nucleating agent and improve the processability.
아미드 화합물, 핵제, 결정성 고분자, 폴리프로필렌, β 결정구조 Amide compounds, nucleating agents, crystalline polymers, polypropylene, beta crystal structure
Description
본 발명은 신규한 아미드 화합물 및 그를 포함하는 결정성 고분자 수지 조성물에 관한 것이다. 더욱 상세하게, 본 발명은 주쇄의 양말단에 방향족 말단기를 포함하여 결정화 속도 증가에 의해서 가공성을 향상시킬 수 있는 핵제 (nucleant)로 이용가능한 신규한 아미드 화합물 및 그를 포함하는 결정성 고분자 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a novel amide compound and a crystalline polymer resin composition containing the same. More specifically, the present invention relates to a novel amide compound which can be used as a nucleant which can improve the processability by increasing the rate of crystallization by including an aromatic terminal group at both ends of the main chain and a crystalline polymer resin composition containing the same .
폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부텐-1, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리페닐렌설파이드, 폴리아미드 등의 결정성 고분자 수지는 용융성형 후의 결정화가 지연되어 성형 사이클성이 낮고, 가열 성형 후의 결정화 진행에 의해서 수축되거나 커다란 결정이 생성되어 강도가 저하되는 문제점을 갖는다. 이러한 문제를 해결하기 위해서 결정 핵제 등을 첨가하여 고분자 수지의 결정화 온도를 높여서 미세한 결정의 생성을 촉진하는 방법이 이용되고 있다.The crystalline polymer resin such as polyethylene, polypropylene, polybutene-1, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene sulfide, and polyamide has a low molding cycle performance due to delayed crystallization after melt molding, There is a problem that shrinkage or large crystals are generated by the progress of crystallization and the strength is lowered. In order to solve such a problem, a method of increasing the crystallization temperature of the polymer resin by adding a crystal nucleating agent or the like to promote the generation of fine crystals has been used.
예를 들어 폴리프로필렌은 고분자 사슬의 분자구조와 결정성으로 인해서 비교적 우수한 강도와 우수한 기계적인 성질을 갖는다. 특히 결정성 폴리프로필렌은 경도, 강성, 내열성, 표면광택 등이 우수하여 종래부터 다양한 용도로 사용되어 왔다. 구체적으로 결정성 폴리프로필렌은 고강성을 요구하는 자동차의 내외장재 등의 각종 공업 용품에 사용되고 있다. For example, polypropylene has relatively good strength and excellent mechanical properties due to the molecular structure and crystallinity of the polymer chains. Particularly, crystalline polypropylene has been used for various purposes because of its excellent hardness, rigidity, heat resistance and surface gloss. Specifically, crystalline polypropylene is used in various industrial products such as automobile interior and exterior materials requiring high rigidity.
결정성 폴리프로필렌은 α, β, γ 및 δ 결정형 및 용융 폴리프로필렌을 급냉 시 형성되는 스멕틱 결정형으로 존재할 수 있다는 것이 알려져 있다. β형 결정(이하, “β형”으로 칭함)은 α형과 비교시 융점이 낮고 밀도가 작으며 양자의 결정상태 및 파편의 상태가 달라 응용상 흥미로운 특성을 가지고 있다. 고함량의 β형을 포함하는 폴리프로필렌은 폴리프로필렌을 용융시킨 다음 냉각시킬 때 β형의 형성을 유도하는 적합한 핵제를 부가함으로써 제조될 수 있다.It is known that crystalline polypropylene can be present in the α, β, γ and δ crystalline forms and the smectic crystalline forms formed upon quenching the molten polypropylene. The β-form crystal (hereinafter referred to as "β-form") has a low melting point and a low density as compared with the α-form, and crystal states and debris states thereof are different. Polypropylene containing a high content of beta form can be prepared by melting a polypropylene and then adding a suitable nucleating agent to induce the formation of beta form when cooled.
이러한 핵제로서는 감마-퀴나크리돈, 다이애시드와 칼슘스테아레이트 (미국특허 제5,231,126호), 다이아마이드(미국특허 제6,235,823호) 등이 알려져 있다. 감마-퀴나크리돈 핵제는 수지 조성물 제조 후 착색되는 문제가 있고, 다이애시드와 칼슘 스테아레이트를 사용하는 β 핵제와 다이아마이드계 핵제는 수지의 종류에 따라 β 결정 형성 능력이 변화하여 재현성이 불량한 문제점이 있다.Examples of such nucleating agents are gamma-quinacridone, diacid and calcium stearate (U.S. Patent No. 5,231,126), diamide (U.S. Patent No. 6,235,823), and the like. The gamma -quinacridone nucleating agent is colored after the preparation of the resin composition, and the beta nucleating agent and the diamide nucleating agent using the diacid and the calcium stearate vary in their ability to form? Crystals depending on the type of resin, .
본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 극복하기 위한 것으로, 본 발명의 하나의 목적은 핵제로 사용시 결정화 속도를 향상시키고 반응성 및 수율을 향상시킬 수 있는 신규한 아미드 화합물을 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a novel amide compound which can improve the crystallization rate, reactivity and yield when it is used as a nucleating agent.
본 발명의 다른 목적은 본 발명의 상기 신규한 아미드 화합물을 β-핵제로서 포함하는 결정성 고분자 수지 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a crystalline polymer resin composition containing the novel amide compound of the present invention as a? -Coupling agent.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은 하기 화학식 1의 구조를 갖는 아미드 화합물에 관한 것이다.One aspect of the present invention for achieving the above object is to an amide compound having a structure represented by the following general formula (1).
상기 식에서, X는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지상 알킬기이거나 하기 화학식 2에서 선택되는 1종이고, A1 및 A2는 서로 동일하거나 상이하며, 하기 화학식 3으로 표시되는 군에서 선택되는 방향족 유기기이다.Wherein X is a straight chain or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or 1 group selected from the following formula (2), A 1 and A 2 are the same or different and are selected from the group consisting of an aromatic group Device.
상기 식에서, D는 단일결합이거나, O, S, CO, SO, SO2, NH2, CONH, 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지상 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 알콕실렌기이고, R1은 각각 독립적으로 프로톤, C1~C5의 알킬기 또는 할로겐기임).Wherein, D represents a single bond or, O, S, CO, SO, SO 2, NH 2, CONH, alkylene group, substituted C 1 -
본 발명의 다른 양상은 결정성 고분자 수지와 β-핵제를 포함하는 결정성 고분자 수지 조성물로서, 상기 β-핵제가 상기 화학식 1의 아미드 화합물인 것을 특 징으로 하는 결정성 고분자 수지 조성물에 관한 것이다. Another aspect of the present invention relates to a crystalline polymer resin composition comprising a crystalline polymer resin and a β-nucleating agent, wherein the β-nucleating agent is an amide compound of the above formula (1).
본 발명의 또 다른 양상은 상기 결정성 고분자 조성물을 포함하는 제품에 관한 것이다.Another aspect of the present invention relates to a product comprising the crystalline polymer composition.
본 발명의 신규한 아미드 화합물을 핵제로 이용할 경우 종래의 핵제에 비해, 결정의 크기가 작으며 융점이 낮아 프로필렌 단독중합체에 소량 가하여도 50%이상의 β형 결정을 형성시킬 수 있다. 또한 낮은 온도에서 압출기로 펠렛화시킬 수 있어 가공성이 향상된다. When the novel amide compound of the present invention is used as a nucleating agent, the size of the crystal is small and the melting point is low as compared with the conventional nucleating agent, so that a β-form crystal of 50% or more can be formed even if a small amount is added to the propylene homopolymer. In addition, it can be pelletized with an extruder at a low temperature, thereby improving workability.
이하에서 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한 “치환”은 할로겐 원자, C1 내지 C20의 알킬기, C1 내지 C20의 알콕시기, C6 내지 C30의 아릴기, 및 C6 내지 C30의 아릴옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기에 의해서 치횐되는 것을 의미한다. Unless otherwise specified herein, " substituted " refers to a substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a C1 to C20 alkyl group, a C1 to C20 alkoxy group, a C6 to C30 aryl group, and a C6 to C30 aryloxy group It means to be struck by.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한 “알킬기”, “알킬렌기” 및 “알콕실렌기”는 각각 C1 내지 C20의 알킬기, C2 내지 C20의 알킬렌기, 및 C2 내지 C20의 알콕실렌기를 의미한다.Unless otherwise specified in the present specification, the terms "alkyl group", "alkylene group" and "alkoxysilyl group" mean a C1 to C20 alkyl group, a C2 to C20 alkylene group, and a C2 to C20 alkoxylene group, respectively.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한 방향족 고리 내에 존재하는 적어도 하나의 CH가 N, O, S 및 P로 이루어진 군에서 선택되는 헤테로 원자로 치환될 수 있다.At least one CH present in the aromatic ring may be substituted with a heteroatom selected from the group consisting of N, O, S and P, unless otherwise specified herein.
본 발명의 신규한 아미드 화합물은 분자의 양 말단에 벌키한 구조의 방향족기가 존재하는 아미드 화합물로서, β형 결정 생성 시, 지방족기와는 달리 구정의 생성 속도에 비해 핵의 생성 속도가 빠르므로 결정의 크기가 더 적어진다. 또한 본 발명의 신규한 아미드 화합물은 구조적인 특이성으로 인해서 기존의 아미드계 핵제에 비하여 융점이 100℃ 정도 낮다. 이러한 특징은 핵제 발현의 가장 중요한 변수로 작용할 수 있는데, 낮은 온도에서 결정성 고분자 수지에 용해되어 소량으로도 β형 결정이 형성될 수 있도록 한다. 또한 성형 및 가공에 있어서도 결정성 고분자 수지와의 혼합성 향상 및 넓은 성형 및 가공 온도 범위를 갖는다. The novel amide compound of the present invention is an amide compound having a bulky structure at both ends of the molecule. Since the nucleation rate of the amide compound is faster than that of the aliphatic group, The size is smaller. Further, the novel amide compound of the present invention has a melting point as low as 100 DEG C as compared with the conventional amide nucleating agent due to its structural specificity. This feature can be the most important parameter of nucleating agent. It is dissolved in crystalline polymer resin at a low temperature so that β-form crystals can be formed in a small amount. In addition, it has an improved mixing property with the crystalline polymer resin and a wide molding and processing temperature range in molding and processing.
본 발명의 하나의 실시예의 신규한 아미드 화합물은 하기 화학식 1로 표시될 수 있다. The novel amide compound of one embodiment of the present invention can be represented by the following general formula (1).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 식에서, X는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지상 알킬기이거나 하기 화학식 2에서 선택되는 1종이고, A1 및 A2는 서로 동일하거나 상이하며, 하기 화학식 3으로 표시되는 군에서 선택되는 방향족 유기기이다.Wherein X is a straight chain or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or 1 group selected from the following formula (2), A 1 and A 2 are the same or different and are selected from the group consisting of an aromatic group Device.
[화학식 2] (2)
상기 식에서, D는 단일결합이거나, O, S, CO, SO, SO2, NH2, CONH, 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지상 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 알콕실렌기이고, R1은 각각 독립적으로 프로톤, C1~C5의 알킬기 또는 할로겐기임. Wherein, D represents a single bond or, O, S, CO, SO, SO 2, NH 2, CONH, alkylene group, substituted C 1 -
[화학식 3](3)
상기 화학식 1의 화합물에서 상기 X는 하기 화학시 4의 군에서 선택되는 연결기일 수 있다. In the compound of Formula 1, X may be a linking group selected from the group of
상기 식에서, R1은 각각 독립적으로 프로톤, C1 내지 C5의 알킬기 또는 할로겐기이다. In the above formula, R 1 is each independently a proton, a C1 to C5 alkyl group or a halogen group.
상기 화학식 1의 화합물의 예들은 하기 화학식 5 내지 7의 구조를 갖는 화합물을 예로 들 수 있으나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. Examples of the compound of formula (1) include, but are not limited to, compounds having the structures of the following formulas (5) to (7).
상기 식에서, R1은 각각 독립적으로 C1~C5의 알킬기 또는 할로겐기이고, R2는 단일결합이거나, O, S, CO, SO, SO2, NH2, CONH, 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지상 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 알콕실렌기임.
Wherein R 1 is independently a C1 to C5 alkyl group or a halogen group and R 2 is a single bond or a straight chain or branched chain having 1 to 20 carbon atoms such as O, S, CO, SO, SO 2 , NH 2 , A substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkoxysilylene group having 2 to 20 carbon atoms.
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본 발명의 신규한 아미드 화합물은 기본적으로 통상의 아미드화 반응에 의해서 제조될 수 있다. 통상의 아미드화 반응이란 카르복실산에 아민을 반응하는 것 이외에, 카르복실산의 전환반응물 (산염화물, 산무수물, 에스터화물)에 가아민 분해 반응을 이용하는 아미드화 반응으로 수행될 수 있으며 하기 방법의 어느 하나 를 대표예로 들 수 있다. 상기의 반응은 고체-고체 반응 및 고체-액체의 반응으로 이루어져 있으므로 비활성 용매 중에서 반응을 수행할 수 있다.The novel amide compound of the present invention can be prepared basically by a conventional amidation reaction. The usual amidation reaction can be carried out by an amidation reaction using a carboxylic acid conversion reaction product (acid chloride, acid anhydride, esterified product) using a aminolysis reaction in addition to reacting an amine with a carboxylic acid, Either one may be a representative example. Since the reaction consists of a solid-solid reaction and a solid-liquid reaction, the reaction can be carried out in an inert solvent.
(i) 비활성 용매 중에서 상기 디카르복실산을 약 60∼200℃에서 약 2∼8시간 동안 상기 모노아민과 반응시킨다. 모노아민은 통상 디카르복실산 1당량당 약 2∼10당량으로 사용된다. 이 방법에서는 반응을 촉진하기 위해 활성제를 사용하는 것이 바람직하다. 이때 사용될 수 있는 활성제로는 오산화인, 폴리인산, 오산화인-메탄술폰산, 인 에스테르(예. 트리페닐 포스파이트)-피리딘, 인 에스테르-금속염(예. 염화리튬), 트리페닐포스핀-헥사클로로에탄 등이 포함된다. 통상 디카르복실산 1몰당 약 1몰의 활성제가 사용된다.(i) reacting the dicarboxylic acid in an inert solvent with the monoamine at about 60 to about 200 DEG C for about 2 to about 8 hours; Monoamines are generally used in about 2 to 10 equivalents per equivalent of dicarboxylic acid. In this process it is preferred to use an activator to promote the reaction. Active agents that can be used here include phosphorus pentoxide, polyphosphoric acid, phosphorus pentoxide - methanesulfonic acid, phosphorous ester (eg triphenylphosphite) -pyridine, phosphorus ester metal salt (eg lithium chloride), triphenylphosphine- Ethane and the like. Usually about 1 mole of active agent per mole of dicarboxylic acid is used.
(ii) 상기 디카르복실산은 통상적으로 싸이오닐-클로라이드로 처리해 줌으로써 디카르복실산의 산염화물로 전환된다. 이들 반응은 친핵성 아실 치환 반응 경로로 일어나며, 디카르복실산은 먼저 반응성이 큰 클로로설파이트 중간체로 바뀌어 반응하게 된다. 비활성 용매중에서 상기 디카르복실산의 산염화물을 약 20∼150℃에서 약 1∼10시간동안 상기 모노아민과 반응시킨다. 디카르복실산의 산염화물은 암모니아 및 아민류와 빠르게 반응하여 좋은 수득률로 아미드를 생성한다. 모노아민은 통상 디카르복실산 산염화물 1당량당 1∼4당량으로 사용된다.(ii) The dicarboxylic acid is usually converted to the acid chloride of the dicarboxylic acid by treatment with thionyl-chloride. These reactions take place in the nucleophilic acylation reaction pathway, where the dicarboxylic acid reacts first with a highly reactive chlorosulfite intermediate. The acid chloride of the dicarboxylic acid in an inert solvent is reacted with the monoamine at about 20 to 150 DEG C for about 1 to 10 hours. Acid chlorides of dicarboxylic acids react rapidly with ammonia and amines to produce amides with good yields. The monoamine is usually used in an amount of 1 to 4 equivalents per equivalent of the dicarboxylic acid acid chloride.
(iii) 에스터는 암모니아나 아민과 반응하여 아미드를 형성한다. 비활성 용매 중에서 상기 디카르복실산의 디에스테르, 특히 디(C1~3) 알킬 에스테르를 약 0 ∼150℃에서 약 3∼10시간동안 촉매 존재 하에 상기 모노아민과 반응시킨다. 모노아민은 통상 디카르복실산 디에스테르 1당량당 약 1∼10 당량으로 사용된다. 촉매는 에스테르-아미드 상호교환반응에 상용되는 산 또는 염기성 촉매일 수 있으며, 바람직한 것은 염기성 촉매이다. 그러나 위 반응은 디카르복실산과 아민의 직접 반응 및 디카르복실산의 산염화물을 이용한 반응에 비해 낮은 수득률을 가지게 되어 자주 이용되지는 않는다.(iii) The ester reacts with ammonia or an amine to form an amide. The diester of the dicarboxylic acid, in particular the di (C1-3) alkyl ester, in an inert solvent is reacted with the monoamine in the presence of a catalyst at about 0 to 150 DEG C for about 3 to 10 hours. Monoamines are usually used in about 1 to 10 equivalents per equivalent of dicarboxylic acid diester. The catalyst may be an acidic or basic catalyst that is compatible with the ester-amide interchange reaction, and preferred is a basic catalyst. However, the above reaction is not often used because it has a lower yield than the direct reaction between dicarboxylic acid and amine and the reaction with acid chloride of dicarboxylic acid.
(iv) 디카르복실산의 산무수물을 제조하는 가장 일반적인 방법은 산염화물과 카르복시 음이온과의 친핵성 아실 치환 반응이다. 디카르복실산의 산무수물을 이용한 아미드 반응은 디카르복실산의 산염화물의 반응과 동일하다. 산무수물이 산염화물보다는 더 느리게 반응을 하지만, 두 작용기의 반응 형태는 같은 방법으로 진행된다. (iv) The most common method for preparing acid anhydrides of dicarboxylic acids is the nucleophilic acylation reaction of acid chlorides and carboxy anions. The amide reaction using the acid anhydride of the dicarboxylic acid is the same as the reaction of the acid chloride of the dicarboxylic acid. Although the acid anhydride reacts more slowly than the acid chloride, the reaction forms of the two functional groups proceed in the same way.
상기 방법에서 사용될 수 있는 비활성 용매로는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 클로로포름, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 테트라히드로푸란, 디옥산, 아세토니트릴, 및 N-메틸피롤리돈이 포함된다. 바람직하게는 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등이 포함된다.Inert solvents which can be used in the above method include benzene, toluene, xylene, chloroform, chlorobenzene, dichlorobenzene, tetrahydrofuran, dioxane, acetonitrile, and N-methylpyrrolidone. N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like are preferable.
상기 방법에서 사용되는 디카르복실산으로는 지방족, 지환족 또는 방향족 디카르복실산을 들 수 있다. 구체적으로, 지방족 디카르복실산으로는 C3~20, 바람직하게는 C3~14 포화 또는 불포화 지방족 디카르복실산, 예컨대 말론산, 디페닐말론산, 숙신산, 페닐숙신산, 디페닐숙신산, 글루타르산, 3,3-디메틸글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세박산, 1,12-도데칸이산, 1,14-테트라데칸이 산, 1,18-옥타데칸이산 등이 포함된다.The dicarboxylic acid used in the above process may be an aliphatic, alicyclic or aromatic dicarboxylic acid. Specific examples of the aliphatic dicarboxylic acid include C3-20, preferably C3-14 saturated or unsaturated aliphatic dicarboxylic acids such as malonic acid, diphenylmalonic acid, succinic acid, phenylsuccinic acid, diphenylsuccinic acid, glutaric acid , 3,3-dimethylglutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, 1,12-dodecanedioic acid, 1,14-tetradecanedioic acid, 1,18- And discrete.
지환족 디카르복실산으로는 C6~30, 바람직하게는 C8~12 포화 또는 불포화 치환족 디카르복실산, 예컨대 1,2-시클로헥산 디카르복실산, 1,4-시클로헥산디카르복실산, 1,4-시클로헥산디아세트산 등이 포함된다.The alicyclic dicarboxylic acids include C6-30, preferably C8-12 saturated or unsaturated dicarboxylic acids such as 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid , 1,4-cyclohexane diacetic acid, and the like.
방향족 디카르복실산으로는 C8~30 , 바람직하게는 C8~22 방향족 디카르복실산, 예컨대 p-페닐렌디아세트산, p-페닐렌디에탄산, 프탈산, 4-t-부틸프탈산, 이소프탈산, 5-t-부틸이소프탈산, 테레프탈산, 1,8-나프탈산, 1,4-나프탈렌디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 2,7-나프탈렌디카르복실산, 디펜산, 3,3′-비페닐디카르복실산, 4,4′-비페닐디카르복실산, 4,4′-비나프틸디카르복실산, 비스(3-카르복시페닐) 메탄, 비스(4-카르복시페닐) 메탄, 2,2-비스(3-카르복시페닐) 프로판, 2,2-비스(4-카르복실페닐) 프로판, 3,3′-술포닐디벤조산, 4,4′-술포닐디벤조산, 3,3′-옥시디벤조산, 4,4′-옥시디벤조산, 3,3′-카르보닐디벤조산, 4,4′-카르보닐디벤조산, 3,3′-티오디벤조산, 4,4′-티오디벤조산, 4,4′-(p-페닐렌디옥시) 디벤조산, 4,4′-이소프탈로일디벤조산, 4,4′-테레프탈로일디벤조산, 디티오살리실산 등이 포함된다.Examples of the aromatic dicarboxylic acids include C8-30, preferably C8-22 aromatic dicarboxylic acids such as p-phenylenediacetic acid, p-phenylenediethanoic acid, phthalic acid, 4-t-butylphthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,8-naphthalic acid, 1,4-naphthalene dicarboxylic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, 2,7-naphthalene dicarboxylic acid, diphenic acid, 3 , 3'-biphenyldicarboxylic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 4,4'-binaphthyldicarboxylic acid, bis (3-carboxyphenyl) methane, bis (3-carboxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-carboxyphenyl) propane, 3,3'-sulfonyldibenzoic acid, 4,4'-sulfonyldibenzoic acid, 3 , 3'-oxydibenzoic acid, 4,4'-oxydibenzoic acid, 3,3'-carbonyldibenzoic acid, 4,4'-carbonyldibenzoic acid, 3,3'- - thiodibenzoic acid, 4,4 '- (p-phenylenedioxy) dibenzoic acid, 4,4'-isophthaloyldibenzoic acid, 4,4'- Dodecylbenzoic acid, dithiosalicylic acid, and the like.
상기 방법 (i),(ii),(iii) 및 (iv)에 사용되는 모노아민은 R1-NH2 에 상응하는 나프틸, 안트라센 및 헤테로 방향족 고리 화합물이다. 예컨대 1 -나프틸아민, 2-나프틸아민, 1-안트라센 아민, 2-안트라센 아민, 5-안트라센 아민, 아데닌, 히스타민, 피롤, 이미다졸, 인돌, 벤지미다졸, 벤조트리아졸, 퀴놀린, 퀴놀린-5-아민, 퓨린, 피리미딘, 티오펜-2-메틸아민, 티아진, 옥사진, 나아민 A 등이고, 특히 바람직 한 것은 1-나프틸 아민 또는 2-나프틸 아민이다.The monoamines used in the above methods (i), (ii), (iii) and (iv) are R 1 -NH 2 Naphthyl, anthracene and heteroaromatic cyclic compounds corresponding to < RTI ID = 0.0 > For example, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, 1-anthraceneamine, 2-anthraceneamine, 5-anthraceneamine, adenine, histamine, pyrrole, imidazole, indole, benzimidazole, benzotriazole, quinoline, quinoline Pyridine, thiophene-2-methylamine, thiazine, oxazine, Namine A and the like. Particularly preferred is 1-naphthylamine or 2-naphthylamine.
이상의 방법에 의해서 제조되는 신규한 아미드 화합물은 각각 크로마토그래피, 재침전, 재결정, 분별결정 등의 통상의 방법에 의해서 단리 정제될 수 있다.The novel amide compounds prepared by the above methods can be isolated and purified by conventional methods such as chromatography, reprecipitation, recrystallization, fractional crystallization and the like.
상기 방법에서 디아민은 지환족, 복소환 또는 방향족 디아민이다. 따라서, X는 하기 지환족, 복소환 및 방향족 디아민의 어느 하나의 2개 아미노기를 제거하여 형성한 잔기인 것이 바람직하다.In the process, the diamine is an alicyclic, heterocyclic or aromatic diamine. Therefore, it is preferable that X is a residue formed by removing two amino groups of any one of the following alicyclic, heterocyclic, and aromatic diamines.
지환족 디아민으로는 C4~28 , 바람직하게는 C6~15 지환족 디아민, 예컨대 1,2-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노시클로헥산, 4,4′-디아미노디시클로헥실, 4,4′-디아미노-3,3′-디메틸디시클로헥실, 4,4′-디아미노디시클로헥실메탄, 4,4′-디아미노-3,3′-디메틸디시클로헥실메탄, 1,3-비스(아미노메틸) 시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸) 시클로헥 산이 포함되며, 부가적으로 이소포론디아민, 멘텐디아민 등이 포함된다.Examples of the alicyclic diamine include C4-28, preferably C6-15 alicyclic diamines such as 1,2-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, 4,4'-diaminodicyclohexyl, 4 , 4'-diamino-3,3'-dimethyldicyclohexyl, 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldicyclohexylmethane, 3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, and additionally isophoronediamine, mentenediamine and the like.
복소환 디아민으로는 고리구조에 1 또는 2개 질소 또는 황원자를 포함하는 탄소수 4∼14의 5-또는 6-원복소환 디아민, 예컨대 2,3-디아미노피리딘, 2,6-디아미노피리딘, 3,4-디아미노피리딘, o-톨리딘술폰 등이 포함된다.Examples of the heterocyclic diamines include 5- or 6-membered cyclic diamines having 4 to 14 carbon atoms containing 1 or 2 nitrogen atoms or sulfur atoms in the ring structure such as 2,3-diaminopyridine, 2,6-diaminopyridine, 3 , 4-diaminopyridine, o-tolylidine sulfone, and the like.
방향족 디아민으로는 탄소수 6∼28, 바람직하게는 6∼15의 방향족 디아민, 예컨대 o-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, 2,3-디아미노톨루엔, 2,4-디아미노틀루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,4-디아미노톨루엔, 4,6-디메틸-m-페닐렌디아딘, 2,5-디메틸-p-페닐렌디아민, 4,5-디메틸-o-페닐렌디아민, 2,4-디아미노 메시틸렌, 1,5-디아미노나프탈렌, 1,8-디아미노나프탈렌, 2,3-디아미노나프탈렌, 2,7-디아미노나프탈렌, 9,10-디아미노펜안트렌, 3,3′,5,5′-테트라메틸벤지딘, 3,3′-디메틸-4,4′-디아미노비페닐, 3,3′-디메톡시-4,4′-디아미노비페닐, 4,4′-디아미노디페닐메탄, 3,3′-디아미노디페닐메탄, 3,4′-디아미노디페닐메탄, 4,4′-메틸렌디-o-톨루이딘, 4,4′-메틸렌디-2,6-크실리딘, 4,4′-메틸렌디-2,6-디에틸아닐린, 4,4′-디아미노-1,2-디페닐에탄, 4,4′-디아미노-2,2′-디메틸비벤질, 4,4′-디아미노스틸벤, 3,4′-디아미노-2,2-디페닐프로판, 4,4′-디아미노-2,2-디페닐프로판, 4,4′-디아미노디페닐에테르, 3,4′-디아미노디페닐에테르, 4,4′-디오디아닐린, 2,2′-디티오디아닐린, 4,4′-디티오디아닐린, 3,3′-디아미노디페닐술폰, 4,4′-디아미노디페닐술폰, 3,3′-디아미노벤조페논, 4,4′-디아미노벤조페논, 4,4′-디아미노벤즈아닐리드, 2,7-디아미노플루오렌, 3,7-디아미노-2-메톡시플루오렌, 비스-p-아미노페닐아닐린, 1,3-비스(4-아미노페닐프로필) 벤젠, 1.4-비스(4-아미노페닐프로필) 벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시) 벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시) 벤젠, 4,4′-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 비스 [4 -(4-아미노페녹시) 페닐] 에테르, 비스 [4 -(4-아미노페녹시) 페닐] 술폰, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌 등이 포함된다. Examples of the aromatic diamine include aromatic diamines having 6 to 28, preferably 6 to 15 carbon atoms, such as o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,3-diaminotoluene, 2,4- Diaminotoluene, 3,4-diaminotoluene, 4,6-dimethyl-m-phenylenediamine, 2,5-dimethyl-p-phenylenediamine, 4,5- Dimethyl-o-phenylenediamine, 2,4-diaminomesitylene, 1,5-diaminonaphthalene, 1,8-diaminonaphthalene, 2,3-diaminonaphthalene, 2,7- , 10-diaminophenthrene, 3,3 ', 5,5'-tetramethylbenzidine, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy- '-Diaminobiphenyl, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-methylenedio- Toluene, 4,4'-methylene di-2,6-xylidine, 4,4'-methylene di-2,6-diethylaniline, 4,4'-diamino-2,2 -Dimethylbibenzyl, 4,4'-diaminostilbene, 3,4'-diamino-2,2-diphenylpropane, 4,4'-diamino-2,2-diphenylpropane, '-Diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diiodianiline, 2,2'-dithiodianiline, 4,4'-dithiodianiline, 3,3'- Diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzanilide, 2,7 Aminophenyl aniline, 1,3-bis (4-aminophenylpropyl) benzene, 1,4-bis (4-aminophenyl) (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [ 4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone and 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene.
본 발명의 신규한 아미드 화합물은 β-핵제로서 결정성 고분자 수지의 제조 단계 중 임의의 단계, 즉 중합반응 중 또는 중합체 제조후 결정성 고분자 수지에 첨가될 수 있다. The novel amide compound of the present invention can be added to the crystalline polymer resin at any stage during the production of the crystalline polymer resin as a? -Nucleating agent, that is, during the polymerization reaction or after the production of the polymer.
본 발명의 다른 양상은 상기 아미드 화합물을 핵제로서 포함하는 결정성 고 분자 수지 조성물에 관한 것이다. Another aspect of the present invention relates to a crystalline high molecular weight resin composition comprising the amide compound as a nucleating agent.
본 발명의 결정성 고분자 수지 조성물은 결정성 고분자 수지와 β-핵제를 포함하는 결정성 고분자 수지 조성물로서, 상기 β-핵제로서 하기 화학식 1의 아미드 화합물을 포함한다.The crystalline polymer resin composition of the present invention is a crystalline polymer resin composition comprising a crystalline polymer resin and a β-nucleating agent, wherein the β-nucleating agent comprises an amide compound represented by the following formula (1).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
상기 식에서, X는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지상 알킬기이거나 하기 화학식 2에서 선택되는 1종이고, A1 및 A2는 서로 동일하거나 상이하며, 하기 화학식 3으로 표시되는 군에서 선택되는 방향족 유기기이다.Wherein X is a straight chain or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or 1 group selected from the following formula (2), A 1 and A 2 are the same or different and are selected from the group consisting of an aromatic group Device.
[화학식 2] (2)
상기 식에서, A1은 단일결합이거나, -O-, -S-, -CO-, -SO2-, -NH2-, -CONH-, 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지상 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 알콕실렌기이고, R1은 각각 독립적으로 프로톤, C1~C5의 알킬기 또는 할로겐기임. Wherein A 1 is a single bond or a straight or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, -O-, -S-, -CO-, -SO 2 -, -NH 2 -, -CONH- A substituted or unsubstituted alkoxysilyl group having 2 to 20 carbon atoms, and each R 1 is independently a proton, a
[화학식 3](3)
본 발명에 있어서의 결정성 고분자 수지로서는 예를 들면 저밀도 폴리에틸렌, 직쇄상 저밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부텐-1, 폴리-3-메틸부틸, 에틸렌/프로필렌 블럭 또는 랜덤 공중합체 등의 α-올레핀 중합체; 폴리 에틸렌 테레프탈레이트 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리헥사메틸렌테레프탈레이트 등의 열가소성 직쇄 폴리에스데르; 폴리페닐렌술파이드 및 폴리카프롤락톤, 폴리헥사메틸렌아디포아미드 등의 직쇄 폴리아미드 등을 들 수 있다. 특히, 본 발명은 결정성 α-올레핀 중합체, 특히 폴리프로필렌. 에릴렌/프로필렌 공중합체 및 이들 프로필렌 중합체와 다른 α-올레핀 중합체와의 혼합물 등의 폴리프로필렌계 수지에 적용하는 경우에 특히 유용하다.As the crystalline polymer resin in the present invention, there may be mentioned, for example, low-density polyethylene, linear low density polyethylene, high density polyethylene, polypropylene, polybutene-1, poly-3-methylbutyl, Olefin polymers; Thermoplastic linear polyesters such as polyethylene terephthalate polybutylene terephthalate and polyhexamethylene terephthalate; Polyphenylene sulfide, and straight chain polyamides such as polycaprolactone and polyhexamethylene adipamide. In particular, the present invention relates to crystalline < RTI ID = 0.0 > a-olefin < / RTI > Ethylene / propylene copolymers, and mixtures of these propylene polymers with other? -Olefin polymers.
본원에서 사용되는 용어 “폴리프로필렌 수지”는 폴리프로필렌 단독중합체 뿐 아니라 주로 프로필렌으로 이루어진 중합체, 특히 50중량% 이상, 바람직하게는 80중량% 이상의 프로필렌으로 이루어진 중합체를 의미한다. 후자의 중합체의 예로는 프로필렌-에틸렌 랜덤 공중합체, 프로필렌-에틸렌 블록 공중합체, 상기 폴리프로필렌 수지와 소량의 열가소성 수지, 예컨대 고밀도 폴리에틸렌, 폴리부텐-1, 폴리-4-메틸펜텐-1등의 중합체 배합물을 들 수 있다.The term " polypropylene resin " as used herein means a polymer composed mainly of propylene as well as a polypropylene homopolymer, especially a polymer consisting of at least 50 wt%, preferably at least 80 wt% propylene. Examples of the latter polymer include a propylene-ethylene random copolymer, a propylene-ethylene block copolymer, a polymer such as a polypropylene resin and a small amount of a thermoplastic resin such as high density polyethylene, polybutene-1 and poly- ≪ / RTI >
상기 β-핵제의 첨가량은 원하는 효과를 얻을 수 있는 한 특별히 제한되지 않는다. 일반적으로는 β형 결정의 함량을 증대시키는데 유효한 양으로 사용된다. 특히 결정성 고분자 수지, 특히 폴리프로필렌 수지 100중량부를 기준으로 약0.0001∼5중량부, 바람직하게는 약 0.001∼1중량부의 β-핵제가 사용될 수 있다. β-핵제의 사용량이 0.0001중량부 미만이면 β형 결정의 형성이 충분할 수 없는 반면, β-핵제의 사용량이 5중량부 초과이면 그 이상의 상응하는 효과를 얻을 수 없어 비경제적이다.The amount of the β-nucleating agent added is not particularly limited as long as a desired effect can be obtained. It is generally used in an amount effective to increase the content of the? -Form crystal. In particular, about 0.0001 to 5 parts by weight, preferably about 0.001 to 1 part by weight of? -Nucleating agent based on 100 parts by weight of a crystalline polymer resin, especially a polypropylene resin, can be used. When the amount of the? -nucleating agent used is less than 0.0001 part by weight, formation of the? -form crystal can not be sufficient. On the other hand, if the amount of the? -nucleating agent is more than 5 parts by weight, no corresponding effect can be obtained.
본 발명의 β-핵제는 아주 적은 첨가량으로도 결정성 폴리프로필렌 수지가 β-결정 형태로 전이될 수 있도록 하며 또 적합한 성형 조건하에서 상술한 바와 같은 β형 결정 함량을 갖는 성형 제품을 얻을 수 있다. 본 발명의 결정성 고분자 수지 조성물에 의하면 약 5∼98%, 구체적으로 약 20∼90%의 β형 함량을 갖는 성형물이 통상의 성형 조건하에서 수득할 수 있다.The β-nucleating agent of the present invention enables the crystalline polypropylene resin to be transferred into β-crystal form even with a very small amount of addition, and a molded product having β-type crystal content as described above can be obtained under suitable molding conditions. According to the crystalline polymer resin composition of the present invention, a molded article having a β-form content of about 5 to 98%, specifically about 20 to 90%, can be obtained under ordinary molding conditions.
본 발명의 결정성 고분자 수지 조성물에 있어서, 각 성분을 첨가하는 방법은 특별히 제한을 받지 않고, 일반적으로 사용되는 방법 예를 들면, 결정성 고분자 수지 분말 혹은 펠렛과, 첨가제 분말을 건조 혼합하는 방법, 각 성분을 고농도로 포함하는 마스터 배치(batch)를 작성하고, 이를 결정성 고분자 수지에 첨가하는In the crystalline polymer resin composition of the present invention, the method of adding each component is not particularly limited, and examples of a commonly used method include a method of dry-blending the crystalline polymer resin powder or pellet with the additive powder, A master batch containing each component at a high concentration is prepared and added to the crystalline polymer resin
방법 등을 사용할 수 있다. 화학식 1의 β-핵제는 임의 단계에서, 즉 중합반응 동안 또는 중합체가 제조된 후에 폴리프로필렌 수지에 부가될 수 있다.Method or the like can be used. The β-nucleating agent of formula (1) may be added to the polypropylene resin at any stage, ie during the polymerization reaction or after the polymer is prepared.
본 발명의 수지 조성물에는 본 발명의 유리한 효과에 나쁜 영향을 주지 않는 농도 범위로 기타의 첨가제가 부가될 수 있다. 이러한 기타의 첨가제들은 안정화제, 산화방지제, 항균제, 자외선 흡수제, 열안정화제, 광 안정화제, 중화제, 대전방지제, 블록방지제, 중금속 불활성화제, 방염제, 윤활제, 과산화물, 히드로탈사이트, 발포제, 탄성중합체, 가공보조제, 부가적 핵제, 강화제, 가소제 등 및 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. 또, 본 발명의 결정성 고분자 수지 조성물에는 필요에 따라서, 페놀계 항산화제, 유기 포스파이트 또는 포스포나이트 등의 유기 인계 항산화제, 티오에테르계 항산화제, 자외선 횹수제 또는 힌더드 아민 화합물 등의 광안정제를 가하여, 그 산화안정성 및 광안정성을 더욱 개선할 수 있고, 특히 페놀계 항산화제 및/또는 유기 인계 항산화제를 병용함으로써 가열 가공시에 착색 및 기계적 물성의 지하를 방지할 수 있다.Other additives may be added to the resin composition of the present invention in a concentration range that does not adversely affect the advantageous effects of the present invention. These other additives may be selected from the group consisting of stabilizers, antioxidants, antimicrobials, ultraviolet absorbers, heat stabilizers, light stabilizers, neutralizers, antistatic agents, block inhibitors, heavy metal deactivators, flame retardants, lubricants, peroxides, hydrotalcites, , Processing aids, additional nucleating agents, reinforcing agents, plasticizers, and the like, and mixtures thereof. The crystalline polymer resin composition of the present invention may contain, if necessary, an organic phosphorus-based antioxidant such as a phenolic antioxidant, an organic phosphite or phosphonite, a thioether-based antioxidant, an ultraviolet light- A light stabilizer can be added to further improve the oxidation stability and the light stability. In particular, the phenol-based antioxidant and / or the organic phosphorus-based antioxidant can be used in combination to prevent under-coloration and mechanical properties at the time of heat processing.
본 발명의 수지 조성물을 사용하면, 최종 생성물중에서 α형 대 β형의 비율은 적합한 고화 조건에 의해 소망하는 바와 같이 제어될 수 있다. 상술한 성형 조건하에서 냉각 조건을 적합하게 선택하는 것에 의해 α형 대 β형 비율을 제어할 수 있다. When the resin composition of the present invention is used, the ratio of? Type to? Type in the final product can be controlled as desired by suitable solidification conditions. By appropriately selecting the cooling conditions under the above-described molding conditions, the? -Type to? -Type ratio can be controlled.
본 발명에 따른 결정성 고분자 수지 조성물, 특히 결정성 폴리프로필렌 수지 조성물은 다양한 형상의 제품을 제조하기 위해 유리하게 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 결정성 고분자 수지 조성물은 자동차 장치(예컨대, 범퍼, 계기판, 뱃터리, 라이닝, 자동차 라이트, 도어 패널, 윈도우, 좌석 등판, 외장 패널 등), 도로 교통 설비, 비행기, 기차, 승용차용 설비, 우주 설비, 건축 및 디자인 설비, 일반적 및 전기/전자장치, 위생제품(예컨대, 샤워실, 목욕좌석, 커버 및 세면대 등), 개인위생제품, 광학용 및 산업용 필름, 산업용 및 가정용 파이프, 대형짐 포장재, 음식물 포장재, 다양한 종류의 가정용 제품 등에 이용될 수 있다. The crystalline polymer resin composition, particularly the crystalline polypropylene resin composition, according to the present invention can be advantageously used for producing articles of various shapes. For example, the crystalline polymer resin composition of the present invention can be applied to a wide range of applications such as automobile devices (e.g., bumpers, instrument panels, batters, lining, automobile lights, door panels, windows, (Such as showers, bath seats, covers and washbasins), personal hygiene products, optical and industrial films, industrial and household products, Pipes, large-size packaging materials, food packaging materials, and various kinds of household products.
본 발명의 또 다른 양상은 본 발명의 결정성 고분자 수지 조성물을 포함하는 제품에 관한 것으로, 이러한 제품은 바람직하게 사출성형, 압출성형, 압축성형, 블로우성형, 및 통상의 성형기를 이용한 기타 성형법을 의해서 성형된 제품일 수 있다. 바람직한 성형조건은 선택되는 성형방법, 성형 재료 등에 따라서 선택될 수 있다. Another aspect of the present invention relates to a product comprising the crystalline polymer resin composition of the present invention, which is preferably produced by injection molding, extrusion molding, compression molding, blow molding, and other molding methods using a conventional molding machine Molded product. The preferred molding conditions can be selected according to the molding method selected, the molding material and the like.
종전보다 β형 결정을 훨씬 많이 포함하는 본 발명의 성형제품은 상기 혼합법을 사용하여 제조한 본 발명의 결정성 고분자 수지 조성물을 상기 성형 조건하에 성형함으로써 용이하게 수득할 수 있다. 본 발명의 성형제품은 가공성 및 기계 특성이 우수하여 패키지, 시트, 필름 등의 다양한 형태로 제조될 수 있다. The molded product of the present invention containing much more beta -form crystals than before can be easily obtained by molding the crystalline polymer resin composition of the present invention produced using the above mixing method under the above molding conditions. The molded product of the present invention is excellent in processability and mechanical characteristics and can be manufactured in various forms such as a package, a sheet, and a film.
이하에서 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명한 것이나, 이들은 단 지 설명의 목적을 위한 것으로 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but these are for the purpose of illustration only and are not intended to limit the present invention.
[실시예][Example]
각 실시예 및 비교예에서 수득되는 폴리프로필렌 펠렛의 β형 함량은 아래의 방법에 의해서 측정하였다. The? -Form content of the polypropylene pellets obtained in each of the examples and comparative examples was measured by the following method.
엑스선 회절분석기(XRD)를 이용한 β-형 함량 측정을 위하여, 칩 혹은 플레이트 형태(약 5mmX5mm)에 시료를 XRD(D8 Discover, Bruker AXS社)의 고니오미터 (goniometer)에 고정하고, 180초간 X선을 조사하여 도 1의 2D 패턴을 얻는다. 수득된 2D 패턴은 1D 패턴으로 변환되어 2theta 5도~30도 범위의 데이터를 저장한다.(도 1) 저장한 데이터에는 α- 및 β-형 결정의 피크가 포함되어 있으며 배경 제거 후(도 2) α1(110), β1(300), α2(040), α3(130)에 해당하는 피크의 강도(Intensity)에서 하기 방정식을 이용하여 β-형 함량(면적 %)을 계산한다:In order to measure the content of β-form using an X-ray diffraction analyzer (XRD), a sample was fixed to a goniometer of XRD (D8 Discover, Bruker AXS) in chip or plate form (about 5 mm × 5 mm) A line is irradiated to obtain the 2D pattern of Fig. The obtained 2D pattern is converted into a 1D pattern to store data in the range of 2 degrees to 5 degrees to 30 degrees. (Fig. 1). The stored data includes peaks of? And? -Type crystals, ) The beta -type content (area%) is calculated from the intensity of peaks corresponding to alpha 1 (110), beta 1 (300), alpha 2 (040) and alpha 3 (130) using the following equation :
β-형 함량(%)=100× Iβ1/[Iβ1+(Iα1+ Iα2+ Iα3)]-type content (%) = 100 x I beta 1 / [I beta 1 + (I alpha 1 + I alpha 2 + I alpha 3 )]
[상기 식 중, Iα1, Iα2, Iα3은 α-형의 피크(110), (040), (130)의 강도이고 Iβ1은 β-형의 피크 (300)의 강도이다].I alpha 1 , I alpha 2 and I alpha 3 are the intensities of the alpha -type peaks (110), (040) and (130), and I beta 1 is the intensity of the beta -type peak (300).
또한 엑스선 회절분석기(XRD)로 얻어진 β-형 함량은 시차 주사 열량계(DSC)로 검증 평가할 수 있다. 잘게 절단된 시료(5∼10mg)를 시차 주사 열량계(DSC)의 시료 홀더에 고정하고 질소 기체 분위기하에서 측정한다. 10℃/분의 비율로 실온부터 200℃까지 승온하여 5분간 유지하고, 같은 비율로 강온한다. 이렇게 기록된 α- 및 β-형 결정은 각기 다른 온도 영역에서 용융점을 갖는다. DSC 온도기록계 상에 형성된 α형 결정 및 β형 결정의 피크면적에서 하기 방정식을 이용하여 β형 함량(면적 %)을 계산한다: In addition, the content of β-form obtained by X-ray diffractometer (XRD) can be verified and evaluated by differential scanning calorimetry (DSC). A finely cut sample (5 to 10 mg) is fixed in a sample holder of a differential scanning calorimeter (DSC) and measured under a nitrogen gas atmosphere. The temperature is raised from room temperature to 200 占 폚 at a rate of 10 占 폚 / min, held for 5 minutes, and then cooled at the same rate. The α- and β-form crystals thus recorded have melting points at different temperature ranges. (Content% of area) is calculated from the peak area of the? -Form crystal and the? -Form crystal formed on the DSC temperature recorder using the following equation:
β형 함량(%) = 100× Aβ/(Aα+Aβ)beta type content (%) = 100 x A beta / (A alpha + A beta )
상기 식 중, Aα은 α형의 피크면적이고, Aβ은 β형의 피크면적임.In the above formula, A ? Is a peak area of? Type, and A ? Is a peak area of? Type.
합성례Synthetic example 1 One
교반기, 온도계, 응축기 및 기체 입구가 장치된 4목 반응기(2L)에 2,6-나프탈렌디카르복실산(2,6-Naphthalenedicarboxylic acid) 6.48g(0.03몰), 동결 파쇄하여 준비한 1-나프틸아민(1-Naphthylamine) 9.45g(0.066몰), 트리페닐포스파이트 (Triphenyl phosphate) 20.48g(0.066몰), 피리딘(Pyridine) 23.7g(0.3몰) 및 N,N’-디메틸포름아미드(N,N’-Dimethylformamide) 50g을 충전하고, 질소기체 분위기하에 110℃에서 3시간 교반하에 반응을 수행한다. 반응 종결 후, 1℃/분으로 냉각하여 30℃가 될 때까지 결정화를 수행한다. 결정화가 완료되면 혼합물들을 0.8㎛ 맴브레인 필터를 이용하여 여과로 회수한다. 회수과정에서 여과된 액은 추후 반응에 재사용한다. 여과액량은 전체 반응물 100중량부 기준 84 중량부 정도이다. 여과 후, 회수된 반응혼합물은 200ml의 이소프로필알코올/물=1:1에 부어 재침전 및 세척한다. 혼합물을 2시간 이상 교반한 후, 침전물의 pH를 측정하여 6~7범위에 들면 교반을 종료한다. 세척과정이 완료되면 혼합물들을 0.8㎛ 맴브레인 필터를 이용하여 여과로 회수한다. 회수과정에서 여과된 액은 추후 세척 반응에 재사용한다. 위 여과액에는 미반응아민(1-나프틸아민)과 활성제(트리페닐포스파이트, 피리딘) 그리고 유기용매인 N,N’-디메틸포름아미드, 이소프로필알코올이 포함되어 있다. 위 여과액 중에 포함되어 있는 물질은 박막 증발기(Thin Film Evaporator)나 증별 분류장치(Distillation Column)를 이용하여 회수한다. 회수 단계를 거친 용매는 초기 투입 100중량부 기준 98중량부 이상이 회수되어 재사용된다. 세척 반응 후, 회수된 반응혼합물은 110℃에서 감압 하에 건조시켜 N,N’-디나프틸-2,6-나프탈렌디카르복스아미드(N,N’-dinaphthyl-2,6- naphthalenedicarboxamide) 12.04g(수율 86%)을 수득한다. 이 화합물은 융점 285.4℃, 분자량 466.53g/mol의 회색 분말이었다. (0.03 mol) of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid was added to a 4-neck reactor (2 L) equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser and a gas inlet, and 1-naphthyl N, N'-dimethylformamide (N, N'-dimethylformamide), 9.45 g (0.066 mol) of 1-naphthylamine, 20.48 g (0.066 mol) of triphenyl phosphate, 23.7 g N'-dimethylformamide) was charged, and the reaction was carried out under nitrogen gas atmosphere at 110 DEG C for 3 hours with stirring. After completion of the reaction, the mixture is cooled to 1 캜 / min and crystallization is carried out until the temperature reaches 30 캜. When the crystallization is complete, the mixture is recovered by filtration using a 0.8 mu m membrane filter. In the recovery process, the filtrate is reused for further reaction. The amount of filtrate is about 84 parts by weight based on 100 parts by weight of the total reactants. After filtration, the recovered reaction mixture is poured into 200 ml of isopropyl alcohol / water = 1: 1, reprecipitated and washed. After the mixture is stirred for 2 hours or more, the pH of the precipitate is measured. When the pH is in the range of 6 to 7, stirring is completed. When the washing process is completed, the mixture is recovered by filtration using a 0.8 mu m membrane filter. In the recovery process, the filtrate is reused for subsequent washing reactions. The filtrate contains unreacted amine (1-naphthylamine), activator (triphenylphosphite, pyridine) and organic solvents such as N, N'-dimethylformamide and isopropyl alcohol. The material contained in the supernatant is recovered using a thin film evaporator or a distillation column. The recovered solvent is recovered in an amount of 98 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the initial charge. After the washing reaction, the recovered reaction mixture was dried under reduced pressure at 110 ° C to obtain 12.04 g of N, N'-dinaphthyl-2,6-naphthalenedicarboxamide (Yield: 86%). This compound was a gray powder having a melting point of 285.4 DEG C and a molecular weight of 466.53 g / mol.
실시예 1에서 수득된 신규한 아미드 화합물의 NMR(도 3), IR(도 4), DSC(도 5), 융점계(Melting Point Meter)(도 6a-도 6c), TGA(도 7) 및 질량분석기(Mass Spectrometry, MALDI-ToF MS)(도 8)로 측정하여 그 결과를 도 3 내지 도 8에 나타내었다. (FIG. 3), IR (FIG. 4), DSC (FIG. 5), Melting Point Meter (FIGS. 6A to 6C), TGA Mass spectrometry (MALDI-ToF MS) (FIG. 8). The results are shown in FIGS. 3 to 8. FIG.
NMR 측정시의 조건은 아래와 같다: The conditions for NMR measurement are as follows:
시료 5mg을 TFA 0.5ml에 녹인 후, CDCl3로 희석하여 제올사(JEOL社)5 mg of the sample was dissolved in 0.5 ml of TFA, diluted with CDCl 3 ,
ECX 400 모델을 이용하여 1H NMR로 상온하에서 Scan 수 100으로 Using an
분석한다. Analyze.
IR 측정시의 조건은 아래와 같다: The conditions for IR measurement are as follows:
Bruker社 IFS 88을 이용하여 시료자체를 ATR(감쇠 전반사)법으로 분석한다. Bruker IFS 88 is used to analyze the sample itself by ATR (Attenuated Total Reflection) method.
DSC 측정시의 조건은 아래와 같다: The conditions for DSC measurement are as follows:
시료 : 2.2mg Sample: 2.2 mg
시작 온도: 40.0 ℃, 정지온도: 400.0 ℃ Starting temperature: 40.0 캜, Stopping temperature: 400.0 캜
승온률(Heatign rate): 10.0 ℃/min. Heatign rate: 10.0 DEG C / min.
융점 측정시(Melt Point Meter)의 조건은 아래와 같다: The conditions of the Melt Point Meter are as follows:
시료 : 2mg Sample: 2 mg
시작 온도: 230.0 ℃, 정지온도: 350.0 ℃ Starting temperature: 230.0 캜, Stopping temperature: 350.0 캜
승온률(Heatign rate): 5.0 ℃/min. Heatign rate: 5.0 占 폚 / min.
Onset point threshold: 70% Single point threshold: 50% Onset point threshold: 70% Single point threshold: 50%
Clear point threshold: 10% Clear point threshold: 10%
TGA 측정시의 조건은 아래와 같다: The conditions for TGA measurement are as follows:
시료 : 0.4mg Sample: 0.4 mg
시작 온도: 40.0 ℃, 정지온도: 850.0 ℃ Starting temperature: 40.0 캜, Stopping temperature: 850.0 캜
승온률(Heatign rate): 20.0 ℃/min. Heatign rate: 20.0 DEG C / min.
MALDI-ToF 측정시의 조건은 아래와 같다: The conditions for measuring MALDI-ToF are as follows:
시료 4mg을 2ml DMF에 용해 후, Dithranol과 시료를 1:1 혼합하여 4 mg of the sample was dissolved in 2 ml of DMF, and Dithranol and the sample were mixed in a ratio of 1: 1
시료 용액 1μl를 시료판에 분주한다. Laser Shot 수는 100회이며, 1 μl of sample solution is dispensed on the sample plate. The number of laser shots is 100,
분석 범위는 10~850m/z로 설정한다. The analysis range is set to 10 ~ 850m / z.
합성례Synthetic example 2 2
모노아민으로 1- 나프틸아민 대신에 2-나프틸아민(2-Naphthylamine) 9.45g(0.066몰)을 사용하는 것 이외는 실시예 1의 공정을 반복 실시하여 N,N’-디나프틸-2,6-나프탈렌디카르복스아미드(N,N’-dinaphthyl-2,6- naphthalenedicarboxamide) 11.43g(수율 71%)을 수득한다. 수득된 화합물의 융점은 276.15 ℃이었다. The procedure of Example 1 was repeated, except that 9.45 g (0.066 mol) of 2-naphthylamine was used instead of 1-naphthylamine as the monoamine to obtain N, N'-dinaphthyl- 11.43 g (yield 71%) of 2,6-naphthalenedicarboxamide (N, N'-dinaphthyl-2,6-naphthalenedicarboxamide) was obtained. The melting point of the obtained compound was 276.15 占 폚.
합성례Synthetic example 3 3
1-안트라실아민(1-Anthraceneamine) 12.75g(0.066몰)을 모노아민으로 사용하는 것 이외는 합성례 1의 공정을 반복 실시하여 N,N’-디안트라실-2,6-나프탈렌디카르복스아미드(N,N’-dianthracyl-2,6-naphthalenedicarboxamide) 14.62g(17.00g,수율 76%)을 수득한다. 수득된 화합물의 열분해 온도는 910.21℃, 분자량 566.65g/mol이었다. 수득된 신규한 아미드 화합물의 NMR 결과를 도 9에 나타내었다. N, N'-dianthracal-2,6-naphthalenedicarboxylic acid (1-anthraceneamine) was obtained by repeating the steps of Synthesis Example 1 except that 12.75 g (0.066 mol) of 1-anthraceneamine was used as the monoamine. 14.62 g (17.00 g, yield 76%) of N, N'-dianthracyl-2,6-naphthalenedicarboxamide is obtained. The obtained compound had a thermal decomposition temperature of 910.21 占 폚 and a molecular weight of 566.65 g / mol. The NMR results of the obtained novel amide compound are shown in Fig.
합성례Synthetic example 4 4
티오펜-2-메틸아민(Thiophene-2-methylamine) 7.47g(0.066몰)을 모노아민으로 사용하는 것 이외는 합성례 1의 공정을 반복 실시하여 N,N’-디티오펜-2-메틸-2,6-나프탈렌디카르복스아미드(N,N’-dithiophene-2-methyl-2,6- naphthalenedicarboxamide) 10.50g(12.20g,수율 86%)을 수득한다. 수득된 화합물의 열분해 온도는 705.89℃, 분자량 406.52g/mol이었다. 수득된 신규한 아미드 화합물의 NMR 결과를 도 10에 나타내었다. The procedure of Synthesis Example 1 was repeated except that 7.47 g (0.066 moles) of thiophene-2-methylamine was used as the monoamine to obtain N, N'-dithiophene-2-methyl- 10.50 g (12.20 g, 86% yield) of 2,6-naphthalene dicarboxamide (N, N'-dithiophene-2-methyl-2,6-naphthalenedicarboxamide) is obtained. The obtained compound had a thermal decomposition temperature of 705.89 占 폚 and a molecular weight of 406.52 g / mol. The NMR results of the obtained novel amide compounds are shown in Fig.
합성례Synthetic example 5 5
아데닌(Adenine) 8.92g(0.066몰)을 모노아민으로 사용하는 것 이외는 합성례 1의 공정을 반복 실시하여 N,N’-디아데닐-2,6-나프탈렌디카르복스아미드(N,N’-diadenyl-2,6-naphthalenedicarboxamide) 10.80g(13.51g,수율 80%)을 수득한다. 수득된 화합물의 열분해 온도는 1211.26℃, 분자량 450.41g/mol이었다. 수득된 신규한 아미드 화합물의 NMR 결과를 도 11에 나타내었다. N, N'-diadenyl-2,6-naphthalenedicarboxamide (N, N ', N'-diphenylmethacrylate) was repeated by repeating the steps of Synthesis Example 1 except that 8.92 g (0.066 mol) of adenine was used as the monoamine. -diadenyl-2,6-naphthalenedicarboxamide) (13.51 g, yield 80%). The obtained compound had a thermal decomposition temperature of 1211.26 캜 and a molecular weight of 450.41 g / mol. The NMR results of the obtained novel amide compound are shown in Fig.
합성례Synthetic example 6 6
히스타민(Histamine) 7.34g(0.066몰)을 모노아민으로 사용하는 것 이외는 합성례 1의 공정을 반복 실시하여 N,N’-디히스타밀-2,6-나프탈렌디카르복스아미드 (N,N’-dihistamyl-2,6-naphthalenedicarboxamide) 9.65g(12.07g,수율 80%)을 수득한다. 수득된 화합물의 분자량은 402.45g/mol이었다. 수득된 신규한 아미드 화합물의 NMR 결과를 도 12에 나타내었다. The procedure of Synthesis Example 1 was repeated except that 7.34 g (0.066 mol) of histamine was used as the monoamine to prepare N, N'-dihistamyl-2,6-naphthalenedicarboxamide (N, N -dihistamyl-2,6-naphthalenedicarboxamide) (12.07 g, yield 80%). The molecular weight of the obtained compound was 402.45 g / mol. The NMR results of the obtained novel amide compounds are shown in Fig.
합성례Synthetic example 7 7
퀴놀린-5-아민(Quinolin-5-amine) 9.52g(0.066몰)을 모노아민으로 사용하는 것 이외는 합성례 1의 공정을 반복 실시하여 N,N’-디-5-퀴놀리닐-2,6-나프탈렌디카르복스아미드(N,N’-di-5-quinolinyl-2,6-naphthalenedicarboxamide) 12.08g(14.06g,수율 80%)을 수득한다. 수득된 화합물의 열분해 온도는 857.15℃,분자량 468.51g/mol이었다. 수득된 신규한 아미드 화합물의 NMR 결과를 도 13에 나타내었다. The procedure of Synthesis Example 1 was repeated except that 9.52 g (0.066 moles) of quinolin-5-amine was used as the monoamine to obtain N, N'-di-5-quinolinyl- , 12.08 g (14.06 g, yield 80%) of 6-naphthalenedicarboxamide (N, N'-di-5-quinolinyl-2,6-naphthalenedicarboxamide). The obtained compound had a pyrolysis temperature of 857.15 DEG C and a molecular weight of 468.51 g / mol. The NMR results of the obtained novel amide compounds are shown in Fig.
실시예Example 1 One
프로필렌 단독중합체 분말 100중량부에 합성례 1에서 수득된 N,N’- 디나프틸-2,6-나프탈렌디카르복스아미드0.5중량부를 가하고, 혼합물을 일축 압출기로 260℃에서 펠렛화한다. 생성된 펠렛의 β형 함량은 84.2%이다. 0.5 part by weight of N, N'-dinaphthyl-2,6-naphthalenedicarboxamide obtained in Synthesis Example 1 was added to 100 parts by weight of the propylene homopolymer powder, and the mixture was pelletized at 260 DEG C by a single screw extruder. The? -Form content of the resulting pellets is 84.2%.
비교예Comparative Example 1 One
프로필렌 단독중합체 분말 100중량부에 N,N’- 디시클로헥실-2,6-나프탈렌디카르복스아미드 0.5중량부를 가하고, 혼합물을 일축 압출기로 260℃에서 펠렛화한다. 생성된 펠렛의 β형 함량은 73.5 %이다.0.5 part by weight of N, N'-dicyclohexyl-2,6-naphthalenedicarboxamide was added to 100 parts by weight of the propylene homopolymer powder, and the mixture was pelletized at 260 DEG C by a single screw extruder. The? -Form content of the resulting pellets is 73.5%.
실시예Example 2 2
펠렛화 온도 조건을 220℃로 사용하는 것 이외는 실시예 1의 공정을 반복실시하여 펠렛을 제공한다. 이 펠렛의 β형 함량은 79.9%이다. The procedure of Example 1 was repeated except that the pelletization temperature condition was used at 220 캜 to provide pellets. The? -Form content of this pellet is 79.9%.
실시예Example 3 3
프로필렌 단독중합체 분말 100중량부에 N,N’- 디나프틸-2,6-나프탈렌디카르복스아미드 0.1중량부를 가하고, 혼합물을 일축 압출기로 230℃에서 펠렛화한다. 생성된 펠렛의 β형 함량은 75.3%이다. 0.1 part by weight of N, N'-dinaphthyl-2,6-naphthalenedicarboxamide was added to 100 parts by weight of the propylene homopolymer powder, and the mixture was pelletized at 230 DEG C by a single screw extruder. The? -Form content of the resulting pellets is 75.3%.
이상에서 본 발명의 바람직한 구현예를 들어 본 발명에 대해서 상세하게 설명하였으나, 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명이 다양하게 변경 또는 변형될 수 있음은 당 업자에게 자명하므로, 이러한 모든 변경 및 변형 예들도 본 발명의 보호범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention. All changes and modifications are to be construed as being included within the scope of protection of the present invention.
도 1은 실시예 1에서 수득된 수지 조성물의 X선 회절분석결과를 도시한 것이다.Fig. 1 shows the results of X-ray diffraction analysis of the resin composition obtained in Example 1. Fig.
도 2는 실시예 1에서 수득된 수지 조성물의 X선 회절분석결과에서 배경을 제거한 후의 결과를 도시한 것이다. Fig. 2 shows the results after removing the background from the X-ray diffraction analysis results of the resin composition obtained in Example 1. Fig.
도 3은 합성례 1에서 수득된 아미드 화합물의 NMR 결과이다.3 shows NMR results of the amide compound obtained in Synthesis Example 1. FIG.
도 4는 합성례 1에서 수득된 아미드 화합물의 IR 결과를 도시한 것이다.4 shows the IR result of the amide compound obtained in Synthesis Example 1. Fig.
도 5는 합성례 1에서 수득된 아미드 화합물의 DSC 평가 결과를 도시한 것이다.5 shows the DSC evaluation result of the amide compound obtained in Synthesis Example 1. Fig.
도 6a-c는 합성례 1에서 수득된 아미드 화합물의 융점계를 이용하여 평가한 결과를 도시한 것이다.6A-6C show the results of evaluation using the melting point system of the amide compound obtained in Synthesis Example 1. FIG.
도 7은 합성례 1에서 수득된 아미드 화합물의 TGA를 이용한 열분해 평가 결과를 도시한 것이다.7 shows the result of pyrolysis evaluation of the amide compound obtained in Synthesis Example 1 using TGA.
도 8은 합성례 1에서 수득된 아미드 화합물의 MALDI-ToF MS를 이용한 평가 결과를 도시한 것이다. 8 shows the evaluation results of the amide compound obtained in Synthesis Example 1 using MALDI-ToF MS.
도 9는 합성례 3에서 수득된 아미드 화합물의 NMR 결과를 도시한 것이다.9 shows NMR results of the amide compound obtained in Synthesis Example 3. Fig.
도 10은 합성례 4에서 수득된 아미드 화합물의 NMR 결과를 도시한 것이다.10 shows NMR results of the amide compound obtained in Synthesis Example 4. Fig.
도 11은 합성례 5에서 수득된 아미드 화합물의 NMR 결과를 도시한 것이다.11 shows NMR results of the amide compound obtained in Synthesis Example 5.
도 12는 합성례 6에서 수득된 아미드 화합물의 NMR 결과를 도시한 것이다.12 shows NMR results of the amide compound obtained in Synthesis Example 6. Fig.
도 13은 합성례 7에서 수득된 아미드 화합물의 NMR 결과를 도시한 것이다.13 shows NMR results of the amide compound obtained in Synthesis Example 7. Fig.
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