KR101622672B1 - Treating device and method for nitric oxide originated anodizing process - Google Patents

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Abstract

본 발명은 제1 미스트 제거기; 제2 미스트 제거기; 및 상기 제1 미스트 제거기와 상기 제2 미스트 제거기 사이에 구비되는 균등화 조;를 포함하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리장치에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 양극산화공정에서 발생한 배기 가스에서 10 μm 이상이고 40 μm 이하인 황 산화물 및 질소 산화물의 기체를 분리하는 제1 미스트 제거 단계; 상기 제1 미스트 제거 단계를 통과한 배기 가스를 체류시키는 균등화 단계; 및 균등화를 거친 배기 가스에서 2 μm 이상이고 10 μm 이하인 황 산화물 및 질소 산화물의 기체를 분리하는 제2 미스트 제거 단계;를 포함하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리방법에 관한 것이다.The present invention relates to a first mist eliminator; A second mist eliminator; And an equalizing tank provided between the first mist eliminator and the second mist eliminator.
According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a first mist removing step of separating gases of sulfur oxides and nitrogen oxides of 10 탆 or more and 40 탆 or less from the exhaust gas generated in the anodizing process; An equalizing step of keeping the exhaust gas passing through the first mist removing step; And a second mist removing step of separating gases of sulfur oxides and nitrogen oxides of 2 탆 or more and 10 탆 or less from the equalized exhaust gas.

Description

양극산화공정용 질소 산화물 처리장치 및 처리방법 {TREATING DEVICE AND METHOD FOR NITRIC OXIDE ORIGINATED ANODIZING PROCESS}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an apparatus for treating nitrogen oxide in an anodic oxidation process,

본 발명은 양극산화공정용 질소 산화물 처리장치 및 처리방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for treating nitrogen oxide for an anodizing process.

도금 (鍍金)은 어떤 물체의 표면 상태를 본 재료의 성질보다 더 유용하게 하기 위해 다른 물질을 해당 물체의 표면에 얇게 입히는 것을 말하며, 일반적으로는 금속 제품에 다른 금속 재료를 입히는 것을 말한다.Plating refers to the thinning of another material on the surface of the object in order to make the surface condition of an object more useful than the properties of the material, and generally refers to applying a different metal material to a metal product.

도금은 그 방법에 따라 크게 전기도금, 융해금속 침지도금, 용사분무도금, 증착도금, 음극분무도금 등이 있으며, 금속을 음극에 걸고 도금하는 전기도금과 달리, 양극산화법은 금속을 양극에 걸고 희석-산의 액에서 전기분해를 하면 양극에서 발생하는 산소에 의해서 소지금속과 대단한 밀착력을 가진 산화피막 (산화알미늄: Al203)이 형성된다.Plating can be classified into electroplating, fused metal spray plating, spray plating, vapor deposition plating and cathodic spray plating depending on the method. Unlike electroplating in which a metal is plated on a negative electrode, - When electrolysis is carried out in an acid solution, an oxide film (aluminum oxide: Al 2 O 3 ) having a great adhesion with the base metal is formed by the oxygen generated from the anode.

양극산화란 아노다이징, 즉 양극 (Anode)과 산화 (Oxidizing)의 합성어 (Ano-dizing) 이다. 양극산화의 가장 대표적인 소재는 알루미늄이고 그 외에 Mg, Zn, Ti, Ta, Hf, Nb의 금속 소재 상에도 양극산화법에 의한 처리를 하고 있으며, 비정질 (amorphous)의 산화피막은 치밀한 산화물로 내식성이 우수하고, 내마모성이 우수하며, 도장 밀착력이 우수하고, 본딩 성능의 개선 인산법이나 크롬산법에 의한 엷은 양극피막은 본딩성과 내구성능을 개선하며, 하드 아노다이징 후에 수동으로 연마나 혼닝으로 표면을 부드럽게 하고, 그 위에 테프론 코팅을 하면 완벽한 윤활성능을 발휘할 수 있고, 유기염료를 피막의 기공 속에 흡착시켜 장식 목적의 특유한 색상 구현이 가능하는 등 많은 장점이 있다. 최근에는 마그네슘과 티탄 소재 상의 아노다이징 처리도 점차 그 용도가 늘어 가고 있다.Anodic oxidation is anodizing, that is, anodizing of anode and oxidation. The most typical material of anodic oxidation is aluminum, and the metal materials of Mg, Zn, Ti, Ta, Hf and Nb are also treated by anodic oxidation. The amorphous oxide film is dense oxide and has excellent corrosion resistance. And has excellent abrasion resistance, excellent coating adhesion, and improved bonding performance. Poor anodic coating by phosphoric acid method or chromic acid method improves bonding and durability and smoothes the surface by manual polishing or hunting after hard anodizing, Teflon coating on it has a lot of advantages such as perfect lubrication performance, adsorption of organic dye in the pores of coating, and unique coloring for decorative purpose. In recent years, the anodizing treatment of magnesium and titanium materials has also been increasingly used.

그러나, 전술한 양극산화법의 장점에도 불구하고, 양극산화공정은 다량의 질소 산화물 (NOx) 기체, 황 산화물 (SOx) 기체 등의 오염 물질을 발생시키는 문제점이 있다. 양극산화공정 상에서 발생하는 질소 산화물 (NOx) 기체 중 특히, 이산화질소는 흡입 기도를 강하게 자극하며, 눈과 목에 자극, 가슴의 긴장, 두통, 구역질, 점차적인 무력함이 일어날 수 있고, 치료받지 않는 경우 폐수종으로 인하여 결과적으로 사망할 수 있으며, 피부 액체상태의 산화 질소에 노출될 경우 심각한 부식이 발생할 수 있으며, 더욱이, 이산화질소 기체는 적갈색을 띄어, 양극산화공정으로 과량으로 발생된 이산화질소 기체를 적절하게 처리하지 못한다면, 양극산화공정 시설은 근로자 및 인근 주민들에게 큰 위협이 될 수 있다.However, despite the advantages of the anodic oxidation method described above, the anodic oxidation process has a problem of generating a large amount of contaminants such as nitrogen oxide (NOx) gas and sulfur oxide (SOx) gas. Of the nitrogen oxides (NOx) gases generated during the anodic oxidation process, nitrogen dioxide strongly stimulates the airways and may cause eye and neck irritation, chest tightness, headache, nausea, gradual ineffectiveness, In addition, the nitrogen dioxide gas is reddish brown, and the nitrogen dioxide gas generated by the anodization process is excessively generated in the anodic oxidation process appropriately. If not treated, the anodising facility can pose a major threat to workers and their neighbors.

질소 산화물을 처리하는 기술은 습식 (Wet) 처리 기술과 건식 (Dry) 처리 기술로 나눌 수 있으며, 또한, 질소 산화물을 NH4+ 환원시킬 수 있는 기술, 포집 후 재처리하는 기술 또는 무해한 질소 가스로 환원시키는 기술로 나눌 수 있다. The technology for treating nitrogen oxides can be divided into wet process and dry process. In addition, the technology to reduce nitrogen oxides to NH4 + , the technology to process after collecting, or the reduction to harmless nitrogen gas It is possible to divide it into the technology to make.

건식 (Dry) 기술 중 선택적 촉매 환원법 (Selective Catalytic Reduction, SCR), 선택적 비촉매 환원법 (Selective Noncatalytic Reduction, SNCR)은 안정적으로 질소 산화물을 처리하는 기술이나, 초기 투자비용 부담과 운영비용 등의 어려움으로 대형소각로나 대기업 방지시설로서의 설치사례가 대부분이다.Selective Catalytic Reduction (SCR) and Selective Noncatalytic Reduction (SNCR) in dry technology are technologies to treat nitrogen oxides stably but difficulties such as initial investment cost and operational cost Most of the cases are installed as large incinerators or large enterprise prevention facilities.

양극산화공정에서 발생하는 질소 산화물은 연소에 의한 질소 산화물의 발생과는 다른 양상을 보이는데, 연소에 의한 질소 산화물은 지속적으로 대량의 질소 산화물이 발생하는 반면, 양극산화공정에서 발생하는 질소 산화물은 금속을 아노다이징액에 담지하는 순간 5000 ppm 내지 10000 ppm의 질소 산화물 배기 가스 가 대량으로 발생하는 반면, 그 이후 공정에는 질소 산화물 배기 가스의 배출량이 평균 500 ppm 정도로 급격히 감소한다.Nitrogen oxides generated during the anodic oxidation process are different from those generated by combustion. Nitrogen oxides generated by combustion consistently generate a large amount of nitrogen oxides, Nitrogen oxide exhaust gas of 5000 ppm to 10000 ppm is generated in a large amount at the moment of supporting the nitrogen oxide exhaust gas on the anodizing solution. On the other hand, the emission amount of the nitrogen oxide exhaust gas drops sharply to about 500 ppm on average.

양극산화공정에 있어서, 선택적 촉매 환원법은 금속의 아노다이징액 담지 공정 이후의 공정에 적용하기에는 높은 설치비, 촉매 교환비, 연료비 등으로 유지관리비가 많이 들어 비경제적이며, 질소 산화물의 제거효율이 낮은 선택적 비촉매 환원법을 적용하기에는 금속의 아노다이징액 담지 공정 순간의 다량의 질소 산화물 배기 가스를 처리하기에는 양극산화공정에 적합하지 않다.In the anodic oxidation process, the selective catalytic reduction method is not economical due to high maintenance cost due to high installation cost, catalyst replacement cost, fuel cost, and the like, which is applied to the process after the anodizing solution holding step of metal, It is not suitable for the anodizing process to treat a large amount of nitrogen oxide exhaust gas at the moment of the anodizing liquid holding step of the metal to apply the reduction method.

따라서, 순간적으로 다량의 질소 산화물이 배출된 이후, 상대적으로 낮은 질소 산화물이 배출되는 양극산화공정의 특성에 적합하도록, 금속의 아노다이징액 담지 공정 순간의 다량의 질소 산화물 배기 가스를 적절하게 처리할 수 있으면서, 촉매를 사용하지 않아 저비용이고, 적은 공간을 차지하는 질소 산화물 배기 가스의 처리기술의 도입이 요구되고 있다.Therefore, it is possible to appropriately treat a large amount of nitrogen oxide exhaust gas at the moment of the anodizing liquid holding step of the metal so as to be suitable for the characteristic of the anodizing process in which a relatively low amount of nitrogen oxide is discharged instantaneously and then a relatively low amount of nitrogen oxide is discharged There is a demand for introducing a treatment technology of nitrogen oxide exhaust gas which is low in cost and does not use a catalyst and occupies a small space.

일본 특허공개공보 제2007-027949호 (2007.02.01)Japanese Patent Laid-Open No. 2007-027949 (2007.02.01)

본 발명은 다량의 질소 산화물이 배출된 이후, 상대적으로 낮은 질소 산화물이 배출되는 양극산화공정의 특성에 적합하도록, 금속을 아노다이징액에 담지하는 순간 발생하는 다량의 질소 산화물 배기 가스를 적절하게 처리할 수 있으면서, 저비용이고 적은 공간을 차지하며, 효율적으로 질소 산화물 배기 가스를 처리하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리장치 및 처리방법을 제공하고자 한다.The present invention is characterized in that after a large amount of nitrogen oxides are discharged, a large amount of nitrogen oxide exhaust gas generated at the moment of supporting the metal on the anodizing liquid is suitably treated so as to be suitable for the characteristics of the anodizing process in which relatively low nitrogen oxides are discharged And an object of the present invention is to provide a nitrogen oxide treatment apparatus and a treatment method for an anodic oxidation process which are capable of efficiently treating nitrogen oxide exhaust gas at low cost and occupying a small space.

본 발명은 제1 미스트 제거기 (10); 제2 미스트 제거기 (30); 및 상기 제1 미스트 제거기 (10)와 상기 제2 미스트 제거기 (30) 사이에 구비되는 균등화 조 (20);를 포함하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리장치를 제공한다.The present invention relates to a first mist eliminator (10); A second mist eliminator 30; And an equalization tank (20) provided between the first mist eliminator (10) and the second mist eliminator (30).

또한, 본 발명은 양극산화공정에서 발생한 배기 가스에서 10 μm 이상이고 40 μm 이하인 황 산화물 및 질소 산화물의 기체를 분리하는 제1 미스트 제거 단계; 상기 제1 미스트 제거 단계를 통과한 배기 가스를 체류시키는 균등화 단계; 및 균등화를 거친 배기 가스에서 2 μm 이상이고 10 μm 이하인 황 산화물 및 질소 산화물의 기체를 분리하는 제2 미스트 제거 단계;를 포함하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a first mist removing step of separating gases of sulfur oxides and nitrogen oxides of 10 탆 or more and 40 탆 or less from the exhaust gas generated in the anodizing process; An equalizing step of keeping the exhaust gas passing through the first mist removing step; And a second mist removing step of separating gases of sulfur oxides and nitrogen oxides of 2 탆 or more and 10 탆 or less from the equalized exhaust gas.

본 발명의 양극산화공정용 질소 산화물 처리장치 및 처리방법은 제1 미스트 제거기 (10), 제2 미스트 제거기 (30) 및 상기 제1 미스트 제거기 (10)와 상기 제2 미스트 제거기 (30) 사이에 구비되는 균등화 조 (20) 및 이에 상응하는 단계를 포함하여, 균등화 조 (20)가 금속을 아노다이징액에 담지하는 순간 발생하는 다량의 질소 산화물 배기 가스에 대한 버퍼 (buffer) 역할을 함으로써, 평균 질소 산화물 처리 용량을 크게 높이지 않고도, 상대적으로 적은 비용과 공간으로 안정적으로 양극산화공정에서 발생하는 질소 산화물을 처리할 수 있다.The nitrogen oxide treatment apparatus and method for treating an anodic oxidation process of the present invention includes a first mist eliminator (10), a second mist eliminator (30), and a second mist eliminator (30) The equalization tank 20 functions as a buffer for a large amount of nitrogen oxide exhaust gas generated at the moment when the equalization tank 20 carries the metal on the anodizing solution, including the equalization tank 20 and the corresponding step, The nitrogen oxide generated in the anodic oxidation process can be stably treated with relatively little cost and space without significantly increasing the oxide treatment capacity.

또한, 본 발명의 양극산화공정용 질소 산화물 처리장치 및 처리방법은 제1 미스트 제거기 (10) 및 제2 미스트 제거기 (30)의 구비와 함께, 팩타워 (40) 내부에 질소 산화물 배기 가스를 패킹층 (43)에 적절하게 분배하는 기체 분배기 (45)를 구비하여 배기 가스와 세정 용액의 접촉 면적을 높여 뛰어난 질소 산화물 처리 효율을 제공한다.The nitrogen oxide treatment apparatus and method for treating an anodizing process of the present invention are not limited to the first mist eliminator 10 and the second mist eliminator 30 but may also include nitrogen oxide exhaust gas packed in the pack tower 40 And a gas distributor 45 for appropriately distributing the gas to the layer 43 to increase the contact area between the exhaust gas and the cleaning solution to provide excellent nitrogen oxide treatment efficiency.

또한, 본 발명의 양극산화공정용 질소 산화물 처리장치 및 처리방법은 세정용액과 환원용액을 사용하여, 질소 산화물을 효율적으로 처리함과 동시에 최종적으로 무해한 질소로 변환시킨다.Further, the apparatus and method for treating an anodic oxidation process of the present invention efficiently treat nitrogen oxides and simultaneously convert them to harmless nitrogen using a cleaning solution and a reducing solution.

도 1은 팩타워 (40)의 내부에 기체 분배기 (45)를 구비하지 않은 본 발명의 실시예 중 일 예를 도시한 것이다.
도 2는 팩타워 (40)의 내부에 기체 분배기 (45)를 구비한 본 발명의 실시예 중 일 예를 도시한 것이다.
도 3은 균등화 조 (20)의 내부에 제1 미스트 제거기 (10), 제2 미스트 제거기 (30), 교반기 (21) 및 흡입 밸브 (22) 를 구비한 본 발명의 실시예 중 일 예를 도시한 것이다.1 shows an embodiment of the present invention in which the gas distributor 45 is not provided inside the pack tower 40. In Fig.
2 shows an example of an embodiment of the present invention having a gas distributor 45 inside a pack tower 40. As shown in Fig.
3 shows an example of an embodiment of the present invention in which the first mist eliminator 10, the second mist eliminator 30, the stirrer 21 and the suction valve 22 are provided in the equalization tank 20 It is.

본 발명에 있어서, 질소 산화물 기체는 양극산화공정에서 배출되는 기체에 포함된 것이다.In the present invention, the nitrogen oxide gas is contained in the gas discharged in the anodizing process.

본 명세서에 있어서, "배기 가스"는 상기 양극산화공정에서 배출되는 기체 또는 본 발명의 질소 산화물 처리장리 중 일부에서 처리된 기체를 의미한다.As used herein, "exhaust gas" means a gas discharged in the anodizing process or a gas treated in a part of the nitrogen oxide processing plant of the present invention.

양극산화공정에서 배출되는 기체는 질소 산화물 기체 및 황 산화물 기체를 포함한다. 양극산화공정의 경우, 배출되는 기체가 황 산화물이 질소 산화물에 비하여 월등히 많이 함유되어 있으며, 본 발명의 질소 산화물 처리장치 및 처리방법은 질소 산화물 기체를 처리함과 동시에 황 산화물 기체를 처리할 수 있다.The gases discharged in the anodizing process include nitrogen oxide gas and sulfur oxide gas. In the case of the anodic oxidation process, the exhaust gas contains much larger amount of sulfur oxide than the nitrogen oxide, and the nitrogen oxide treatment apparatus and treatment method of the present invention can treat the nitrogen oxide gas and simultaneously treat the sulfur oxide gas .

본 발명은 제1 미스트 제거기 (10); 제2 미스트 제거기 (30); 및 상기 제1 미스트 제거기 (10)와 상기 제2 미스트 제거기 (30) 사이에 구비되는 균등화 조 (20);를 포함하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리장치를 제공한다.The present invention relates to a first mist eliminator (10); A second mist eliminator 30; And an equalization tank (20) provided between the first mist eliminator (10) and the second mist eliminator (30).

양극산화공정에서 발생하는 배기 가스에서 제1 미스트 제거기 (10)와 제2 미스트 제거기 (30)가 미세 입자 형태의 액체 상태인 질소 산화물 및 황 산화물을 제거할 수 있으며, 제1 미스트 제거기 (10) 및 제2 미스트 제거기 (30)에서 황 산화물을 미리 처리함에 따라, 질소 산화물보다 황 산화물을 먼저 처리하는 알카리계의 세정 용액의 특성에 따라, 질소 산화물의 처리 효율이 높아 진다.The first mist eliminator 10 and the second mist eliminator 30 can remove nitrogen oxides and sulfur oxides in the form of fine particles in the exhaust gas generated in the anodic oxidation process, And the second mist eliminator 30, the treatment efficiency of the nitrogen oxide is increased according to the characteristics of the alkaline cleaning solution that treats the sulfur oxide first rather than the nitrogen oxide.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 양극산화공정에서 발생되는 질소 산화물 기체는 제 1 미스트 제거기 (10)로 유입되거나, 팩타워 (4)의 기체 유입관 (42)으로 유입된다.In an embodiment of the present invention, the nitrogen oxide gas generated in the anodizing process flows into the first mist eliminator 10 or into the gas inlet pipe 42 of the pack tower 4.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 제 1 미스트 제거기 (10)가 공정이 실시되는 제한된 공간 중 어느 한 곳에 위치하여, 상기 양극산화공정에서 배출되는 기체가 상기 제 1 미스트 제거기 (10)로 유입되거나, 별도의 배출 기체의 흡입기기를 구비하여, 흡입된 상기 양극산화공정에서 배출되는 기체가 흡입기기와 연결관으로 연결된 상기 제 1 미스트 제거기 (10)로 유입될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first mist eliminator 10 is located in one of the confined spaces where the process is performed, so that the gas discharged from the anodic oxidation process flows into the first mist eliminator 10 Alternatively, a separate exhaust gas suction device may be provided so that the gas discharged from the sucked anodizing process may be introduced into the first mist eliminator 10 connected to the suction device via the connection pipe.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 팩타워 (40)가 공정이 실시되는 제한된 공간 중 어느 한 곳에 위치하여, 상기 양극산화공정에서 배출되는 기체가 상기 제 1 미스트 제거기 (10)로 유입되거나, 별도의 배출 기체의 흡입기기를 구비하여, 흡입된 상기 양극산화공정에서 배출되는 기체가 흡입기기와 연결관으로 연결된 상기 팩타워 (40)의 기체 유입관 (42)으로 유입된다.In one embodiment of the present invention, the pack tower 40 is located at any one of the limited spaces where the process is performed, so that the gas discharged from the anodizing process flows into the first mist eliminator 10, And the gas discharged from the sucked anodizing process flows into the gas inlet pipe 42 of the pack tower 40 connected to the suction device through the connection pipe.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 미스트 제거기 (10), 균등화 조 (20) 및 상기 제2 미스트 제거기 (30)는 제1 미스트 제거기 (10)로 유입된 배기 가스가 균등화 조 (20)와 제2 미스트 제거기 (30)를 통과하여 제2 미스트 제거기 (30)에서 외부로 배출된다.The first mist eliminator 10, the equalization tank 20 and the second mist eliminator 30 are arranged in such a manner that the exhaust gas flowing into the first mist eliminator 10 flows into the equalizer tank 20 And the second mist eliminator 30 and is discharged to the outside through the second mist eliminator 30. [

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 제1 미스트 제거기 (10)와 제2 미스트 제거기 (20)는 배기 가스 중 액체 형태로 존재하는 질소 산화물 및 황 산화물을 제거하는 것이다. 양극산화공정에서 발생한 황 산화물은 공기 중 수분과 쉽게 반응하여 아황산 (H2SO3) 미스트 (mist)를 발생시키며, 양극산화공정에서 발생한 질소 산화물, 특히 이산화질소는 액화온도가 21.2 ℃로 밀도 2.6g/cm3 로 일부 응축된 미스트가 발생하므로, 제1 미스트 제거기 (10) 및 제2 미스트 제거기는 각각 전술한 바와 같은 미세 입자의 액체 형태로 존재하는 황 산화물 및 질소 산화물의 미스트를 제거한다.In one embodiment of the present invention, the first mist eliminator 10 and the second mist eliminator 20 remove nitrogen oxides and sulfur oxides present in liquid form in the exhaust gas. The sulfur oxides generated in the anodizing process easily react with moisture in the air to generate sulfite (H 2 SO 3 ) mist. The nitrogen oxides generated in the anodizing process, especially nitrogen dioxide, have a liquefaction temperature of 21.2 ° C. and a density of 2.6 g / cm < 3 >, so that the first mist eliminator 10 and the second mist eliminator respectively remove the mist of sulfur oxides and nitrogen oxides present in liquid form of the fine particles as described above.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 제1 미스트 제거기 (10)와 제2 미스트 제거기 (20)는 각각 독립적으로 플레이트형 또는 메쉬형일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the first mist eliminator 10 and the second mist eliminator 20 may be independently plate-shaped or mesh-shaped.

상기 플레이트형은 배기 가스가 통과하는 면에 곡면의 플레이트를 구비하며, 상기 플레이트가 배기 가스 중 액체 형태의 미스트와 접촉하여 배기 가스 중 미스트를 제거하는 것을 의미한다.The plate type has a curved plate on the surface through which the exhaust gas passes and means that the plate is in contact with liquid type mist in the exhaust gas to remove mist in the exhaust gas.

상기 메쉬형은 배기 가스가 통과하는 면에 격자 형태의 메쉬를 구비하며, 상기 메쉬가 배기 가스 중 액체 형태의 미스트와 접촉하여 배기 가스 중 미스트를 제거하는 것을 의미한다.The mesh type has a grid-shaped mesh on the surface through which the exhaust gas passes, and the mesh contacts the liquid type mist in the exhaust gas to remove the mist in the exhaust gas.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 제1 미스트 제거기 (10)와 제2 미스트 제거기 (20)는 각각 독립적으로 미스트 제거면을 포함하며, 상기 미스트 제거면은 스테인레스 강, 폴리프로필렌 (polypropylene), 폴리테트라플루오로에틸렌 (polytetrafluoroethylene), 섬유강화플라스틱 (Fiber Reinforced Plastics, FRP)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상으로 구성된다.In an embodiment of the present invention, the first mist eliminator 10 and the second mist eliminator 20 each independently include a mist removing surface, and the mist removing surface may be made of stainless steel, polypropylene, poly And at least one member selected from the group consisting of polytetrafluoroethylene, fiber reinforced plastics (FRP), and the like.

상기 미스트 제거면이 스테인레스 강, 폴리프로필렌 (polypropylene), 폴리테트라플루오로에틸렌 (polytetrafluoroethylene), 섬유강화플라스틱 (Fiber Reinforced Plastics, FRP)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 경우, 산성의 배기 가스에 의한 부식을 방지할 수 있다.When the mist removing surface is at least one selected from the group consisting of stainless steel, polypropylene, polytetrafluoroethylene, fiber reinforced plastic (FRP), corrosion by acidic exhaust gas Can be prevented.

상기 스테인레스 강은 오스테나이트계 합금강일 수 있으며, 더 구체적으로, 오스테나이트계 크롬 니켈의 합금일 수 있고, 더욱 구체적으로는 316L 타입의 스테인레스 강일 수 있다. 또한 상기 스테인레스 강은 니켈-크롬-몰데브늄 합금강일 수 있으며, 더 구체적으로, Alloy 20 타입의 스테인레스 강일 수 있고, 구체적인 예로는 카펜터 (Carpenter)사에서 제조된 상품명 20Cb-3, G.O 칼슨 (G.O Carlson)사에서 제조된 상품명 ALLOY C20 PLUS, 니크로퍼 (Nicrofer)사의 상품명3620 Nb 등일 수 있다.The stainless steel may be an austenitic alloy steel. More specifically, it may be an alloy of austenitic chromium nickel. More specifically, the stainless steel may be 316L type stainless steel. Further, the stainless steel may be a nickel-chrome-molybdenum alloy steel, and more specifically, may be an Alloy 20 type stainless steel. Specific examples of the stainless steel include 20Cb-3 manufactured by Carpenter Co., ALLOY C20 PLUS manufactured by Carlson Corporation, 3620 Nb manufactured by Nicrofer Co., Ltd., and the like.

상기 폴리테트라플루오로에틸렌은 듀폰 (Du pont)사에서 제조된 상품명 테플론 (Teflon)일 수 있다.The polytetrafluoroethylene may be Teflon (trade name) manufactured by DuPont.

제1 미스트 제거기 (10)와 제2 미스트 제거기 (20)는 각각 독립적으로 코크-글리취 (Koch-Glitsch) 사에서 제조된 상품명 플렉스쉐브론(Flexchevron), 플렉시버 (Flexiber), 디미스터-플러스 (DEMISTER-PLUS)일 수 있다.The first mist eliminator 10 and the second mist eliminator 20 are each independently manufactured by Flexchevron, Flexiber, Demister Plus (trade name, manufactured by Koch-Glitsch) DEMISTER-PLUS).

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 미스트 제거기 (10) 및 상기 제2 미스트 제거기 (30)는 입자 크기가 2 μm 이상이고 40 μm 이하인 황 산화물 및 질소 산화물을 분리하는 것이다.In one embodiment of the present invention, the first mist eliminator 10 and the second mist eliminator 30 separate sulfur oxides and nitrogen oxides having a particle size of 2 μm or more and 40 μm or less.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 질소 산화물 처리장치 처리장치는 팩타워 (40)를 더 포함하며, 상기 팩타워 (40)는 액체 유입관 (41); 상기 액체 유입관 (41)의 하부에 구비되며, 질소 산화물이 유입되는 기체 유입관 (42); 및 하나 이상의 패킹층 (43);을 포함한다.In one embodiment of the present invention, the nitrogen oxide processing apparatus treatment apparatus further comprises a pack tower (40), the pack tower (40) comprising a liquid inlet pipe (41); A gas inlet pipe 42 provided at a lower portion of the liquid inlet pipe 41 and introducing nitrogen oxide therein; And one or more packing layers (43).

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 팩타워 (40)는 기체 분배기 (45)를 더 포함하고, 상기 패킹층 (43)은 둘 이상이며, 상기 기체 분배기 (45)는 상기 기체 유입관 (42) 상부에 구비되며, 상기 패키층의 하부에 이격되어 구비되는 것을 특징으로 한다.In one embodiment of the present invention, the pack tower 40 further comprises a gas distributor 45, wherein the packing layer 43 is more than two and the gas distributor 45 is connected to the gas inlet pipe 42 ), And is spaced apart from the lower portion of the package layer.

기체 분배기 (45)는 팩타워 (40) 내부의 배기 가스를 상기 기체 분배기 (45)의 상부에 구비된 패킹층 (43)과 상기 기체 분배기 (45)의 하부에 구비된 패킹층 (43)에 각각 상하로 분배시켜, 각 패킹층마다 세정 용액과 배기 가스가 접촉하는 확률을 증가시켜, 질소 산화물 처리 효율을 증가시킨다.The gas distributor 45 separates the exhaust gas from the pack tower 40 into a packing layer 43 provided on the gas distributor 45 and a packing layer 43 provided on the lower portion of the gas distributor 45 So as to increase the probability that the cleaning solution and the exhaust gas are in contact with each of the packing layers, thereby increasing the nitrogen oxide treatment efficiency.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 기체 분배기 (45)는 기체 분배공을 포함하며, 상기 기체 분배공의 내면 둘레에는 나선형 홈이 형성된 것이다. 상기 기체 분배공의 내면 둘레에 나선형 홈은 분배 기체가 통과할 때 소용돌이를 일으키는 와류를 발생시켜, 세정 용액과 배기 가스가 접촉하는 확률을 증가시켜, 질소 산화물 처리 효율을 증가시킨다.In one embodiment of the present invention, the gas distributor 45 includes a gas distribution hole, and a spiral groove is formed around the inner surface of the gas distribution hole. A spiral groove around the inner surface of the gas distribution hole generates a swirling vortex when the distributing gas passes through it, increasing the probability of contact between the cleaning solution and the exhaust gas, thereby increasing the nitrogen oxide treatment efficiency.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 기체 유입관 (42)은 상기 제1 미스트 제거기 (10), 상기 제2 미스트 제거기 (30) 및 균등화 조 (20)에서 처리된 배기 가스가 유입되는 것이다.The exhaust gas processed in the first mist eliminator 10, the second mist eliminator 30 and the equalization tank 20 is introduced into the gas inflow pipe 42 according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 기체 유입관 (42)은 양극산화공정에서 배출되는 기체가 직접 유입되는 것이다. 이 경우, 팩타워 (40)의 내부에 제1 미스트 제거기 (10)가 구비되고, 제 1미스트 제거기 (10)로 팩타워 (40) 내부에 유입된 배기 가스가 유입된다. 또는, 팩타워 (40)가 기체 배출구 (46)를 더 포함하고, 상기 기체 배출구 (46)는 제1 미스트 제거기 (10)에 연결되며, 팩타워 (40)의 내부의 배기 가스가 상기 기체 배출구 (46)를 통하여 제1 미스트 제거기 (10)로 유입된다. In one embodiment of the present invention, the gas inlet pipe (42) directly flows the gas discharged in the anodizing process. In this case, the first mist eliminator 10 is provided in the pack tower 40, and the exhaust gas flowing into the pack tower 40 flows into the first mist eliminator 10. Alternatively, the pack tower 40 may further include a gas outlet 46, which is connected to the first mist eliminator 10, and the exhaust gas inside the pack tower 40 flows into the gas outlet Is introduced into the first mist eliminator (10) through the second mist eliminator (46).

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 기체 유입관 (42)은 배기 가스가 30 m3/m2·min 이상이고 300 m3/m2·min 이하인 속도로 유입되는 것이다.In one embodiment of the present invention, the gas inlet pipe 42 is an inlet of exhaust gas at a rate of not less than 30 m 3 / m 2 · min and not more than 300 m 3 / m 2 · min.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 팩타워 (40)는 기체 분배기 (45)를 더 포함하고, 상기 기체 분배기 (45)는 상기 기체 유입관 (42) 상부에 구비되며, 상기 패키층의 하부에 이격되어 구비되는 것이다.In an embodiment of the present invention, the pack tower 40 further comprises a gas distributor 45, the gas distributor 45 is provided above the gas inlet pipe 42, As shown in FIG.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 균등화 조 (20)는 내부에 상기 제1 미스트 제거기 (10) 및 상기 제2 미스트 제거기를 구비한다.In one embodiment of the present invention, the equalization tank 20 includes the first mist eliminator 10 and the second mist eliminator.

상기 균등화 조 (20)는 내부에 흡입 밸브 (22)를 더 구비한다. 상기 흡입 밸브 (22)는 더 구비할 수 있다. 상기 흡입 밸브 (22)는 상기 제1 미스트 제거기 (10) 및 상기 제2 미스트 제거기에서 제거된 액체 상태의 황 산화물 및 액체 상태의 질소 산화물을 배출할 수 있다.The equalization tank 20 further includes a suction valve 22 therein. The suction valve 22 may further be provided. The suction valve 22 can discharge the sulfur oxides in the liquid state and the nitrogen oxides in the liquid state removed from the first mist eliminator 10 and the second mist eliminator.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 균등화 조 (20)는 교반기 (21)를 더 포함하고, 상기 교반기 (21)는 상기 균등화 조 (20) 내부에 구비되는 것이다.In one embodiment of the present invention, the equalization tank 20 further includes an agitator 21, and the agitator 21 is provided inside the equalization tank 20.

상기 교반기 (21)는 구체적으로 무동력 교반기일 수 있다. 상기 무동력 교반기는 하나 또는 둘 이상의 나선팔을 구비한 바람개비형 (pin wheel type)일 수 있다.The stirrer 21 may be a non-powered stirrer. The non-powered agitator may be a pin wheel type having one or more spiral arms.

구체적으로, 상기 교반기 (21)는 제1 미스트 제거기 (10) 또는 제2 미스트 제거기 (30)이 메쉬형인 경우, 수평으로 설치된 상부 메쉬와 하부 메쉬 사이에 구비될 수 있다.Specifically, when the first mist eliminator 10 or the second mist eliminator 30 is a mesh type, the agitator 21 may be provided between the upper mesh and the lower mesh that are horizontally installed.

상기 교반기 (21)는 균등화 조 (20) 내부에 통과하는 배기 가스의 체류 시간을 조절하여, 배기 가스에 대한 버퍼 (buffer) 역할을 더 효과적으로 제어할 수 있다.The agitator 21 may control the residence time of the exhaust gas passing through the equalization tank 20 to more effectively control the role of the buffer for the exhaust gas.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 균등화 조 (20)는 내부에 상기 제1 미스트 제거기 (10) 및 상기 제2 미스트 제거기를 구비되며, 제1 미스트 제거기 (10)로 유입된 배기 가스가 제1 미스트 제거기 (10)를 거친 다음, 제2 미스트 제거기 (30)를 거쳐서 균등화 조 (20) 외부로 배출되는 것이다.In one embodiment of the present invention, the equalization tank 20 is provided with the first mist eliminator 10 and the second mist eliminator, and the exhaust gas introduced into the first mist eliminator 10 1 mist eliminator 10 and then discharged to the outside of the equalization tank 20 through the second mist eliminator 30. [

구체적으로, 상기 제1 미스트 제거기 (10)는 플레이트형이고, 상기 제2 미스트 제거기 (30)는 메쉬형일 수 있다. 더 구체적으로, 상기 미스트 제거기 (30)는 상부 메쉬 패드 (31) 및 하부 메쉬 패드 (32)를 더 포함하고, 상기 상부 메쉬 패드 (31)와 하부 메쉬 패드 (32) 사이에 교반기 (21)를 구비할 수 있다.Specifically, the first mist eliminator 10 may be plate-shaped, and the second mist eliminator 30 may be mesh-shaped. More specifically, the mist eliminator 30 further includes an upper mesh pad 31 and a lower mesh pad 32, and a stirrer 21 is interposed between the upper mesh pad 31 and the lower mesh pad 32 .

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 균등화 조 (20)는 수평 또는 수직으로 설치된 것이다. 바람직하게는, 상기 균등화 조 (20)는 중력의 영향없이 배기 가스의 체류 시간을 제어하기 위하여, 수평으로 설치되는 것이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the equalization tank 20 is installed horizontally or vertically. Preferably, the equalization tank 20 is installed horizontally to control the residence time of the exhaust gas without the influence of gravity.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 균등화 조는 배기 가스의 평균 체류 시간이 1초 이상이고 20초 이하이다.In one embodiment of the present invention, the equalization tank has an average residence time of the exhaust gas of 1 second or more and 20 seconds or less.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 액체 유입관 (41)은 수산화칼륨 용액, 수산화나트륨 용액, 암모니아 용액, 황화나트륨 용액, 치오황산나트륨 용액, 아환산나트륨 용액, 과산화수소수, 다황화칼슘 용액, 탄산나트륨 용액, 탄산칼슘 용액 및 탄산암모늄 용액으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 세정 용액이 유입되는 것이다.In one embodiment of the present invention, the liquid inflow pipe 41 may be made of a metal such as potassium hydroxide solution, sodium hydroxide solution, ammonia solution, sodium sulfide solution, sodium thiosulfate solution, sodium hypobromite solution, hydrogen peroxide solution, sodium polysulfide solution, Solution, a calcium carbonate solution, and an ammonium carbonate solution.

팩타워 (40) 내부의 배기 가스가 세정 용액과 접촉하면, 배기 가스에 포함된 질소 산화물이 이온 형태로 세정 용액에 용해되어, 배기 가스 중의 질소 산화물을 흡수한다.When the exhaust gas inside the pack tower 40 comes into contact with the cleaning solution, the nitrogen oxide contained in the exhaust gas is dissolved in the cleaning solution in the form of ions to absorb the nitrogen oxide in the exhaust gas.

상기 질소 산화물의 흡수의 일 예로, 세정 용액이 수산화칼륨 용액인 경우, 하기와 같은 반응이 일어나서 질소 산화물이 세정 용액으로 흡수된다.As an example of the absorption of the nitrogen oxide, when the cleaning solution is a potassium hydroxide solution, the following reaction occurs and the nitrogen oxide is absorbed into the cleaning solution.

NO + NO2 + 2NaOH ↔ 2NaNO2 + H2O NO + NO 2 + 2NaOH ↔ 2NaNO 2 + H 2 O

2NO2 + 2NaOH ↔ NaNO2 + NaNO3 + H2O2NO 2 + 2NaOH ↔ NaNO 2 + NaNO 3 + H 2 O

팩타워 (40)의 패킹층 (43)은 팩타워 (40) 내부의 배기 가스와 액체 유입관 (41)을 통하여 유입되는 세정 용액이 접촉하는 면적을 넓혀 주므로, 질소 산화물 처리 효율을 증가시킨다.The packing layer 43 of the pack tower 40 increases the contact area between the exhaust gas inside the pack tower 40 and the cleaning solution flowing through the liquid inflow pipe 41 and thus increases the nitrogen oxide treatment efficiency.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 세정 용액이 팩타워 (40)의 액체 유입관 (41)을 통하여 유입되며, 유입된 세정 용액은 팩타워 (40)의 패킹층 (43)을 통과하여, 팩타워 (40)의 액체 배출구 (44)를 통하여 외부로 배출된다.The cleaning solution is introduced through the liquid inflow pipe 41 of the pack tower 40 and the introduced cleaning solution passes through the packing layer 43 of the pack tower 40, And is discharged to the outside through the liquid outlet 44 of the tower 40.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 액체 유입관 (41)은 세정 용액이 60 L/m2·min 이상이고 600 L/m2·min 이하이다.In one embodiment of the present invention, the liquid inlet pipe 41 has a cleaning solution of 60 L / m 2 min min or more and 600 L / m 2 min min or less.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 액체 유입관 (41)에서 유입되는 세정 용액의 유입속도 : 상기 기체 유입관 (42)에서 유입되는 배기 가스의 유입속도의 비가 1 : 200 이상이고 1 : 1000 이하이다.The ratio of the inflow rate of the cleaning solution flowing in the liquid inflow pipe 41 to the inflow rate of the exhaust gas flowing in the gas inflow pipe 42 is 1: 200 or more and 1: 1000 Or less.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 질소 산화물 처리장치는 환원조 (50)를 더 포함하고, 상기 팩타워 (40)는 상기 환원조 (50)와 연결된 액체 배출구 (44)를 더 포함한다.The nitrogen oxide processing apparatus may further include a reducing tank 50 and the pack tower 40 may further include a liquid outlet 44 connected to the reducing tank 50. In this embodiment,

팩타워 (40)의 액체 배출구 (44)를 통하여 배출된 세정 용액은 환원조 (50)로 유입된다.The cleaning solution discharged through the liquid outlet 44 of the pack tower 40 flows into the reduction tank 50.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 환원조 (50)는 설파민 산 용액 및 소디움보로하이드라이드 (NaBH4)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 환원 용액을 포함한다.In one embodiment of the invention, the reduced crude (50) comprises at least one reducing solution is selected from the group consisting of an acid solution and sodium Sulphate beam hydride (NaBH 4) to.

환원조 (50)로 유입된 세정 용액은 환원조 (50)에 포함된 세정 용액과 반응하여, 세정 용액에 용해된 질소 산화물 이온을 환원시키며, 종국적으로 질소 산화물 이온은 질소 기체로 배출된다. 이러한 과정을 통하여, 양극산화공정에서 배출된 기체 중 유해한 질소 산화물 기체를 무해한 질소 기체로 변환하여 처리한다.The cleaning solution introduced into the reduction tank 50 reacts with the cleaning solution contained in the reduction tank 50 to reduce the nitrogen oxide ions dissolved in the cleaning solution. Finally, the nitrogen oxide ions are exhausted to the nitrogen gas. Through this process, the harmful nitrogen oxide gas in the gas discharged from the anodic oxidation process is converted into harmless nitrogen gas and treated.

상기 질소 산화물의 이온의 환원의 일 예로, 환원 용액이 설파민 산 용액인 경우, 하기와 같은 반응이 일어나서 질소 산화물의 이온이 환원된다.As an example of the reduction of the ions of the nitrogen oxide, when the reducing solution is a sulfamic acid solution, the following reaction occurs and the ions of the nitrogen oxide are reduced.

NO2 - + NH2SO2OH → N2 ↑ + HSO4 - + H2ONO 2 - + NH 2 SO 2 OH -> N 2 ↑ + HSO 4 - + H 2 O

본 발명은 양극산화공정에서 발생한 배기 가스에서 10 μm 이상이고 40 μm 이하인 황산화물 및 질소 산화물의 기체를 분리하는 제1 미스트 제거 단계; 상기 제1 미스트 제거 단계를 통과한 배기 가스를 체류시키는 균등화 단계; 및 균등화를 거친 배기 가스에서 2 μm 이상이고 10 μm 이하인 황 산화물 및 질소 산화물의 기체를 분리하는 제2 미스트 제거 단계;를 포함하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리방법을 제공한다.A first mist removing step of separating gases of sulfur oxides and nitrogen oxides of 10 μm or more and 40 μm or less from the exhaust gas generated in the anodizing process; An equalizing step of keeping the exhaust gas passing through the first mist removing step; And a second mist removing step of separating gases of sulfur oxides and nitrogen oxides of 2 탆 or more and 10 탆 or less from the equalized exhaust gas.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 질소 산화물의 기체를 패킹층 (43)에서 세정 용액과 접촉시키는 습식 단계; 및 상기 세정용액을 질소로 환원시키는 환원 단계;를 더 포함한다.In one embodiment of the present invention, a wet step of contacting the gas of nitrogen oxide with the cleaning solution in the packing layer 43; And a reducing step of reducing the cleaning solution to nitrogen.

본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 균등화 단계는 배기 가스의 평균 체류시간이 1초 이상이고 20초 이하이다.In one embodiment of the present invention, the equalization step has an average residence time of the exhaust gas of 1 second or more and 20 seconds or less.

본 발명의 양극산화공정용 질소 산화물 처리방법은 특별한 설명이 없다면, 본 발명의 양극산화공정용 질소 산화물 처리장치에 대한 설명이 적용된다.The nitrogen oxide treatment method for the anodizing process of the present invention is applied to the description of the nitrogen oxide treatment equipment for the anodizing process of the present invention unless otherwise described.

이하, 시험예 및 실시예를 들어 본 발명의 구성 및 효과를 보다 구체적으로 설명한다. 그러나 이들 시험예 및 실험예는 본 발명에 대한 이해를 돕기 위해 예시의 목적으로만 제공된 것일 뿐 본 발명의 범주 및 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the constitution and effects of the present invention will be described in more detail with reference to test examples and examples. However, these test examples and experimental examples are provided for illustrative purposes only in order to facilitate understanding of the present invention, and the scope and scope of the present invention are not limited by the following examples.

<실시예><Examples>

질소 산화물 및 황 산화물의 전처리 장치의 설치Installation of pretreatment of nitrogen oxides and sulfur oxides

양극산화공정 장치가 위치한 공간에 양극산화공정에서 발생하는 배기 가스가 흡입되는 흡입구를 설치하고, 흡입구를 배기관에 연결하여, 이를 균등화 조의 배기 가스 유입구에 설치하였다. 용적이 12 m2인 균등화 조를 수평으로 설치한 후, 균등화 조의 배기 가스 유입구의 전면에 위치하도록, 균등화 조 내부에 플레이트형의 코크-글리취 (Koch-Glitsch) 사에서 제조된 상품명 플렉스쉐브론(Flexchevron)을 제1 미스트 제거기로 설치하였다. 메쉬형의 코크-글리취 (Koch-Glitsch) 사에서 제조된 플렉시버 (Flexiber)를 제2 미스트 제거기로 제1 미스트 제거기 후면에 위치하면서, 균등화 조 내부의 중앙에 원통형으로 설치하였으며, 제거기 사이에 균등한 간격으로 바람개비형의 무동력 교반기를 설치하였다. 균등화 조의 배기 가스 배출구는 배기 가스 유입구에 수평으로 반대 위치로, 제2 미스트 제거기에서 통과하는 배기 가스가 배출될 수 있도록 구비하였다. 또한, 제거된 미스트들을 배출할 수 있도록, 균등화 조의 하부에 흡입 밸브를 구비하였다. 이렇게 설치한 질소 산화물 및 황 산화물의 전처리 장치를 도 3에 나타내었다.An inlet port through which the exhaust gas generated in the anodic oxidation process is installed in the space where the anodization processing apparatus is located, and an inlet port is connected to the exhaust pipe and installed in the exhaust gas inlet port of the equalizing tank. A 12-m 2 equalization tank was installed horizontally, and then placed in the equalization tank so as to be positioned at the front of the exhaust gas inlet of the equalization tank. The plate was placed under the trade name of Flex Chevron (manufactured by Koch-Glitsch) Flexchevron) was installed as a first mist eliminator. The mesh-type Flexiber manufactured by Koch-Glitsch was installed at the rear of the first mist eliminator with a second mist eliminator and installed in a cylindrical shape in the center of the equalization tank, A vane-type non-powered stirrer was installed at even intervals. The exhaust gas outlet of the equalization tank was provided so that the exhaust gas passing through the second mist eliminator could be discharged to the opposite position horizontally to the exhaust gas inlet. Further, a suction valve was provided at the lower part of the equalization tank so as to discharge the removed mist. FIG. 3 shows a pretreatment apparatus for the nitrogen oxides and sulfur oxides thus installed.

질소 산화물 및 황 산화물의 전처리 장치와 팩타워 및 환원조의 설치Installation of pre-treatment equipment of nitrogen oxides and sulfur oxides and pack towers and reduction tanks

상기 균등화 조의 배기가스 배출구를 배기관을 통하여 팩타워의 기체유입관으로 연결시켰다.The exhaust gas outlet of the equalization tank was connected to the gas inlet pipe of the pack tower through an exhaust pipe.

팩타워는 높이가 10 m이고, 지면에서 5 m 위치에 제2 패킹층, 0.5 m 위치에 기체 분배기, 2 m 위치에 제 1 패킹층을 각각 설치하였고, 팩타워 상부에 액체 유입관을 구비하였다. 또한, 팩타워 하부에는 액체 배출구를 구비하였으며, 액체 배출구는 배수관을 통하여 환원조에 연결시켰다.The pack tower had a height of 10 m, a second packing layer at a position of 5 m from the ground, a gas distributor at a position of 0.5 m, a first packing layer at a position of 2 m, and a liquid inlet pipe at the top of the pack tower . Further, a liquid outlet was provided at the bottom of the pack tower, and the liquid outlet was connected to the reduction tank through a drain pipe.

양극산화공정에서 발생하는 배기 가스 중 질소 산화물 및 황 산화물의 처리Treatment of nitrogen oxides and sulfur oxides in the exhaust gas generated in the anodic oxidation process

전술한 바와 같이 설치된 질소 산화물 및 황 산화물의 전처리 장치, 팩타워 및 환원조를 통하여, 양극산화공정에서 발생하는 배기 가스를 처리하였다.The exhaust gas generated in the anodic oxidation process was treated through the pretreatment device for nitrogen oxides and sulfur oxides installed as described above, a pack tower, and a reduction tank.

배기관을 통하여 균등화 조에 유입된 배기 가스는 균등화 조 내부에서 평균 1 m/sec의 속도로 통과하였으며, 균등화 조 내부에 배기 가스의 평균 체류시간은 측정 결과 6 초였다. 제1 미스트 제거기에서 측정 결과, 배기 가스 중에 함유된 평균 입자 크기가 10 μm 이상이고 40 μm 이하의 미스트를 제1 미스트 제거기 미설치된 경우에 대비하여 90 % 이상 제거함을 확인하였으며, 제2 미스트 제거기에서 측정 결과, 배기 가스 중에 함유된 평균 입자 크기가 2 μm 이상이고 10 μm 이하의 미스트를 제2 미스트 제거기 미설치된 경우에 대비하여 90 % 이상 제거함을 확인하였다.The exhaust gas flowing into the equalization tank through the exhaust pipe passed through the equalization tank at an average speed of 1 m / sec. The mean residence time of the exhaust gas in the equalization tank was 6 seconds. As a result of the measurement in the first mist eliminator, it was confirmed that at least 90% of the mist having an average particle size of 10 μm or more and less than 40 μm contained in the exhaust gas was removed in the first mist eliminator, As a result of the measurement, it was confirmed that at least 90% of the mist particles having an average particle size of 2 μm or more and less than 10 μm contained in the exhaust gas were removed in preparation of the second mist remover.

균등화 조에서 처리를 거친 배기 가스는 팩타워로 유입되었으며, 팩타워에서는 기체 유입관에서 배기 가스가 평균 120 m3/m2·min의 속도로 유입되었다. 또한, 팩타워의 액체 유입관에는 세정 용액으로 수산화칼륨 용액이 240 L/m2·min의 속도로 유입시켰으며, 팩타워의 액체 배출구로는 팩타워의 패킹층들을 포함한 공간에서 배기 가스와 세정 용액이 접촉하여 질소 산화물 및 황 산화물이 처리된 폐액이 배출되었다.The exhaust gas treated in the equalization tank flowed into the pack tower, and the exhaust gas from the gas inlet pipe flowed at an average rate of 120 m 3 / m 2 · min at the pack tower. In addition, potassium hydroxide solution was flowed into the liquid inlet pipe of the pack tower at a rate of 240 L / m 2 · min as a cleaning solution, and as a liquid outlet port of the pack tower, The solution contacted and the waste solution treated with nitrogen oxides and sulfur oxides was discharged.

배출된 폐액은 환원조로 유입되었으며, 환원조에는 설파민 산 용액이 유입되어 폐액을 환원시켰으며, 환원조의 배기구로 질소 산화물이 처리된 질소가 배출됨을 확인하였다.It was confirmed that the discharged waste liquid was introduced into the reduction tank, the sulfuric acid solution was introduced into the reduction tank to reduce the waste liquid, and the nitrogen oxide-treated nitrogen was discharged into the exhaust gas of the reduction tank.

균등화 조의 배기 가스 유입구와 팩타워의 상단의 기체 배출구에서 질소 산화물의 농도를 측정하여 처리효율을 확인 한 결과 99%였다.The concentration of nitrogen oxides was measured at the exhaust gas inlet of the equalization tank and the gas outlet at the top of the pack tower, and the treatment efficiency was confirmed to be 99%.

Claims (20)

제1 미스트 제거기;
제2 미스트 제거기;
균등화 조; 및
팩타워를 포함하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리장치로서,
상기 제1 미스트 제거기 및 상기 제2 미스트 제거기는 상기 균등화 조 내부에서 이격되어 구비되고,
상기 균등화 조는 교반기를 더 포함하고,
상기 교반기는 상기 균등화 조 내부에서, 상기 제1 미스트 제거기와 상기 제2 미스트 제거기 사이에 구비되며,
상기 팩타워는 액체 유입관; 기체 유입관; 둘 이상의 패킹층; 및 기체 분배기를 포함하는 것이고,
상기 액체 유입관은 수산화칼륨 용액, 수산화나트륨 용액, 암모니아 용액, 황화나트륨 용액, 치오황산나트륨 용액, 아환산나트륨 용액, 과산화수소수, 다황화칼슘 용액, 탄산나트륨 용액, 탄산칼슘 용액 및 탄산암모늄 용액으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 세정 용액이 유입되는 것이며,
상기 기체 유입관은 상기 액체 유입관의 하부에 구비되며 상기 제1 미스트 제거기, 상기 제2 미스트 제거기 및 균등화 조에서 처리된 배기 가스가 유입되는 것이고,
상기 기체 분배기는 상기 기체 유입관 상부 및 상기 패킹층의 하부에 이격되어 구비되는 것을 특징으로 하는 질소 산화물 처리장치.A first mist eliminator;
A second mist eliminator;
Equalization tank; And
A nitrogen oxide processing apparatus for an anodizing process comprising a pack tower,
Wherein the first mist eliminator and the second mist eliminator are spaced apart from each other in the equalization tank,
Wherein the equalization tank further comprises an agitator,
Wherein the agitator is provided between the first mist eliminator and the second mist eliminator in the equalization tank,
The pack tower includes a liquid inlet pipe; Gas inlet pipe; Two or more packing layers; And a gas distributor,
The liquid inlet tube is composed of a potassium hydroxide solution, a sodium hydroxide solution, an ammonia solution, a sodium sulfide solution, a sodium thiosulfate solution, a sodium hypobisulfate solution, a hydrogen peroxide solution, a calcium polysulfide solution, a sodium carbonate solution, a calcium carbonate solution and an ammonium carbonate solution Is introduced into the cleaning solution,
The gas inlet pipe is provided at a lower portion of the liquid inlet pipe, and the exhaust gas processed in the first mist eliminator, the second mist eliminator and the equalization tank is introduced,
Wherein the gas distributor is spaced apart from the upper portion of the gas inlet pipe and the lower portion of the packing layer. 제1항에 있어서,
상기 제1 미스트 제거기 및 상기 제2 미스트 제거기는 각각 독립적으로 플레이트형 또는 메쉬형인 것을 특징으로 하는 질소 산화물 처리장치.The method according to claim 1,
Wherein the first mist eliminator and the second mist eliminator are independently plate-shaped or mesh-shaped. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 기체 유입관은 배기 가스가 30 m3/m2·min 이상이고 300 m3/m2·min 이하인 속도로 유입되는 것을 특징으로 하는 질소 산화물 처리장치.The method according to claim 1,
Wherein the gas inlet pipe is introduced at a rate that the exhaust gas is not less than 30 m 3 / m 2 · min and not more than 300 m 3 / m 2 · min. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 균등화 조는 수평으로 설치된 것을 특징으로 하는 질소 산화물 처리장치.The method according to claim 1,
Wherein the equalization tank is horizontally installed. 제1항에 있어서,
상기 균등화 조는 배기 가스의 평균 체류 시간이 1초 이상이고 20초 이하인 것을 특징으로 하는 질소 산화물 처리장치.The method according to claim 1,
Wherein the equalization tank has an average residence time of the exhaust gas of 1 second or more and 20 seconds or less. 제1항에 있어서,
상기 제1 미스트 제거기 및 상기 제2 미스트 제거기는 입자 크기가 2 μm 이상이고 40 μm 이하인 황 산화물 및 질소 산화물을 분리하는 것을 특징으로 하는 질소 산화물 처리장치.The method according to claim 1,
Wherein the first mist eliminator and the second mist eliminator separate sulfur oxides and nitrogen oxides having a particle size of 2 탆 or more and 40 탆 or less. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 액체 유입관은 세정 용액이 60 L/m2·min 이상이고 600 L/m2·min 이하인 속도로 유입되는 것을 특징으로 하는 질소 산화물 처리장치.The method according to claim 1,
Wherein the liquid inflow pipe is introduced at a rate that the cleaning solution is not less than 60 L / m 2占 퐉 and not more than 600 L / m 2占 퐉. 제1항에 있어서,
상기 액체 유입관에서 유입되는 세정 용액의 유입속도 : 상기 기체 유입관에서 유입되는 배기 가스의 유입속도의 비가 1 : 200 이상이고 1 : 1000 이하인 것을 특징으로 하는 질소 산화물 처리장치.The method according to claim 1,
Wherein the ratio of the inflow rate of the cleaning solution flowing in the liquid inflow pipe to the inflow rate of the inflow gas flowing in the gas inflow pipe is 1: 200 or more and 1: 1000 or less. 제1항에 있어서,
상기 질소 산화물 처리장치는 환원조를 더 포함하고,
상기 팩타워는 상기 환원조와 연결된 액체 배출구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질소 산화물 처리장치.The method according to claim 1,
Wherein the nitrogen oxide processing apparatus further comprises a reducing tank,
Wherein the pack tower further comprises a liquid outlet connected to the reducing vessel. 삭제delete 양극산화공정에서 발생한 배기 가스에서 10 μm 이상이고 40 μm 이하인 황 산화물 및 질소 산화물의 기체를 분리하는 제1 미스트 제거 단계;
상기 제1 미스트 제거 단계를 통과한 배기 가스를 체류시키는 균등화 단계;
균등화를 거친 배기 가스에서 2 μm 이상이고 10 μm 이하인 황 산화물 및 질소 산화물의 기체를 분리하는 제2 미스트 제거 단계;
분리된 질소 산화물의 기체를 팩타워의 패킹층에서 세정 용액과 접촉시키는 습식 단계; 및
상기 세정용액을 질소로 환원시키는 환원 단계를 포함하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리방법로서,
상기 세정 용액은 수산화칼륨 용액, 수산화나트륨 용액, 암모니아 용액, 황화나트륨 용액, 치오황산나트륨 용액, 아환산나트륨 용액, 과산화수소수, 다황화칼슘 용액, 탄산나트륨 용액, 탄산칼슘 용액 및 탄산암모늄 용액으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상이고,
상기 팩타워는 액체 유입관; 상기 액체 유입관의 하부에 구비되며, 질소 산화물이 유입되는 기체 유입관; 하나 이상의 패킹층; 및 기체 분배기을 포함하는 것이며,
상기 기체 분배기는 상기 기체 유입관 상부에 구비되며, 상기 패킹층의 하부에 이격되어 구비되는 것이고,
상기 기체 유입관은 상기 제2 미스트 제거 단계에서 분리된 질소 산화물의 기체가 유입되는 것을 특징으로 하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리방법.A first mist removing step of separating gases of sulfur oxides and nitrogen oxides of 10 탆 or more and 40 탆 or less from the exhaust gas generated in the anodic oxidation process;
An equalizing step of keeping the exhaust gas passing through the first mist removing step;
A second mist removing step of separating gases of sulfur oxides and nitrogen oxides of 2 탆 or more and 10 탆 or less from the equalized exhaust gas;
A wetting step of bringing the gas of separated nitrogen oxide into contact with the cleaning solution in the packing layer of the pack tower; And
And a reducing step of reducing the cleaning solution to nitrogen, the method comprising:
The cleaning solution may be selected from the group consisting of potassium hydroxide solution, sodium hydroxide solution, ammonia solution, sodium sulfide solution, sodium thiosulfate solution, sodium hypobisulfate solution, hydrogen peroxide solution, calcium polysulfide solution, sodium carbonate solution, calcium carbonate solution and ammonium carbonate solution Any one or more selected,
The pack tower includes a liquid inlet pipe; A gas inflow pipe provided at a lower portion of the liquid inflow pipe and into which nitrogen oxides flow; At least one packing layer; And a gas distributor,
The gas distributor is provided on the gas inflow pipe and is spaced apart from the lower portion of the packing layer,
Wherein the gas inlet pipe introduces the nitrogen oxide gas separated in the second mist removing step. 제18항에 있어서,
상기 균등화 단계는 배기 가스의 평균 체류시간이 1초 이상이고 20초 이하인 것을 특징으로 하는 양극산화공정용 질소 산화물 처리방법.19. The method of claim 18,
Wherein the equalizing step includes a step of maintaining an average residence time of the exhaust gas of 1 second or more and 20 seconds or less. 삭제delete
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