KR101618090B1 - Method for manufacturing a conducting film and the device thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전도성 필름 제조방법 및 장치에 관한 것으로, 롤 형태로 권취된 기재를 언와인딩하면서 이송되는 기재 위에 탄소나노튜브 용액을 코팅하는 단계, 탄소나노튜브 용액이 코팅된 기재를 저온상태에서 건조시키는 저온 건조단계를 포함하여, 가요성이 우수한 디스플레이를 구현할 수 있고 탄소나노튜브의 채널 저항을 최소화하면서 건조성능을 극대화할 수 있을 뿐만 아니라 고온 내구성이 낮은 기재를 선택할 수 있게 된다. The present invention relates to a method and apparatus for producing a conductive film, comprising the steps of: coating a carbon nanotube solution on a substrate to be transported while unwinding the substrate wound in a roll form; drying the substrate coated with the carbon nanotube solution A low-temperature drying step can be carried out to provide a flexible display, maximize the drying performance while minimizing the channel resistance of the carbon nanotubes, and select substrates with low temperature and high durability.

Description

전도성 필름 제조방법 및 장치{ Method for manufacturing a conducting film and the device thereof } FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a conductive film,

본 발명은 전도성 필름 제조방법 및 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 탄소나노튜브 박막이 코팅된 전도성 필름 제조방법 및 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a conductive film, and more particularly, to a method and apparatus for manufacturing a conductive film coated with a carbon nanotube thin film.

일반적으로, 전도성 필름은 액정소자, PDP, LCD, OLED 등과 같은 디스플레이 또는 조명 장치의 투명전극 등으로 이용되고 있으며, 광 투과도 및 도전성 효과를 필요로 하는 태양전지에도 이용되고 있다.In general, a conductive film is used as a transparent electrode of a display or a lighting device such as a liquid crystal device, a PDP, a LCD, an OLED, or the like, and is also used in a solar cell requiring a light transmittance and a conductive effect.

종래 투명 전도성 필름은 투명 기판에 ITO와 같은 금속 산화물을 적층하여 제조하게 되는데, 도전성 물질인 ITO전극은 디스플레이가 대형화되면 면저항이 크게 증가되는 문제점이 있다. 전극의 면저항이 증가되면 전압을 균일하게 인가하기가 어려워져 발광 균일도가 저하된다. Conventionally, a transparent conductive film is manufactured by laminating a metal oxide such as ITO on a transparent substrate. However, the ITO electrode, which is a conductive material, has a problem that the sheet resistance is greatly increased when the display is enlarged. If the sheet resistance of the electrode is increased, it becomes difficult to apply the voltage uniformly, and the uniformity of light emission is lowered.

이에 ITO에 금속 산화물을 도핑(doping)하여 보다 낮은 면저항을 구현하는 방법이 사용되고 있으나, ITO에 도핑된 금속 산화물은 결정화 온도를 상승시키고 그로 인해 에너지 소비가 증가하게 된다.Thus, a method of doping ITO with a metal oxide to realize a lower sheet resistance is used, but the metal oxide doped in ITO increases a crystallization temperature and thereby increases energy consumption.

한편, 진공상태에서 플라즈마를 발생시켜 이온화한 아르곤 등의 가스를 가속하여 금속 산화물에 충돌시킴으로써 원자를 분출시켜 ITO상에 막을 형성하는 스퍼터링(Sputtering) 증착의 경우, 230℃까지 승온되므로 사용할 수 있는 기재에 제한이 있었다. 즉, 230℃의 고온에서 내구성을 지닌 고가의 기재를 사용해야 하므로 재료비가 많이 드는 문제점이 있었다. On the other hand, in the case of sputtering deposition in which a plasma is generated in a vacuum state and ions of argon or the like ionized are accelerated to collide with metal oxides to eject atoms to form a film on ITO, . That is, expensive materials having durability at a high temperature of 230 DEG C must be used, which causes a problem of a large material cost.

ITO전극은 가요성(flexibility)이 낮아 수 만회의 반복적인 굽힘 동작시 쉽게 단선되는 문제점이 있었다. The ITO electrode has a low flexibility and thus has a disadvantage in that it is easily broken during repeated bending operations of several tens of times.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래 전도성 필름 제조방법 및 장치가 가지는 문제점들을 개선하기 위해 창출된 것으로, 가요성이 우수한 디스플레이를 구현할 수 있고 탄소나노튜브의 채널 저항을 최소화하면서 건조성능을 극대화할 수 있을 뿐만 아니라 고온 내구성이 낮은 기재를 선택할 수 있는 전도성 필름 제조방법 및 장치를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention has been made in order to overcome the problems of the conventional method and apparatus for producing a conductive film as described above, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a display device capable of maximizing a drying performance while minimizing channel resistance of a carbon nanotube It is another object of the present invention to provide a conductive film production method and apparatus capable of selecting a substrate having low durability at high temperature.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 전도성 필름 제조방법은, 롤 형태로 권취된 기재를 언와인딩하면서 이송시키는 단계, 이송되는 기재 위에 탄소나노튜브 용액을 코팅하는 단계, 탄소나노튜브 용액이 코팅된 기재를 10℃ 이하의 저온상태에서 건조시키는 저온 건조단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. In order to accomplish the above object, the present invention provides a method for manufacturing a conductive film, comprising the steps of: transporting a substrate wound in a roll form while unwinding; coating a carbon nanotube solution on a substrate to be transferred; And a low-temperature drying step of drying the coated substrate at a low temperature of 10 DEG C or lower.

상기 저온 건조단계에서는 3~5℃의 온도에서 10~30분 동안 건조시키는 것이 바람직하다. In the low-temperature drying step, drying is preferably performed at a temperature of 3 to 5 ° C for 10 to 30 minutes.

본 발명의 실시예에 따른 전도성 필름 제조방법에 있어서, 저온건조된 기재를 가열하여 10℃ 이상의 상온으로 승온시키는 가열단계를 더 포함할 수 있다. In the method of manufacturing a conductive film according to an embodiment of the present invention, the method may further include a heating step of heating the low-temperature dried substrate to raise the temperature to 10 ° C or more.

본 발명의 실시예에 따른 전도성 필름 제조방법에 있어서, 건조된 기재를 세정하여 이물질을 제거하는 세정단계, 및 탄소나노튜브 용액이 코팅된 기재 위에 보호필름을 부착하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method of manufacturing a conductive film according to an embodiment of the present invention may further include a cleaning step of cleaning the dried substrate to remove foreign substances, and a step of attaching a protective film on the substrate coated with the carbon nanotube solution.

본 발명의 실시예에 따른 전도성 필름 제조방법에 있어서, 상기 탄소나노튜브 용액은 탄소나노튜브 분말을 탈이온수에 혼합한 것을 사용할 수 있다.
In the method of manufacturing a conductive film according to an embodiment of the present invention, the carbon nanotube solution may be a mixture of carbon nanotube powder and deionized water.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 전도성 필름 제조장치는, 기재가 롤 형태로 권취되는 언와인더, 상기 언와인더에 권취된 기재를 견인하여 연속적으로 이송시키는 리와인더, 이송되는 기재 위에 탄소나노튜브 용액을 코팅하는 코팅유닛, 및 기재 주위의 온도를 10℃ 이하의 상태로 저온 건조시키는 저온 건조유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다. In order to accomplish the above object, the present invention provides an apparatus for manufacturing a conductive film, comprising: an unwinder wound around a substrate in a roll form; a rewinder for traversing and continuously transporting a substrate wound on the unwinder; A coating unit for coating a carbon nanotube solution on the substrate, and a low-temperature drying unit for drying the substrate around the substrate at a temperature of 10 占 폚 or less at a low temperature.

본 발명의 The 실시예에In the embodiment 따른 전도성 필름 제조장치에 있어서, 상기 저온 건조유닛은 이송되는 기재와 소정간격을 두고  Wherein the low-temperature drying unit is spaced apart from the substrate to be transferred by a predetermined distance 이격되어Apart 구비되고 냉매가  And the refrigerant is 충진되어Filled 외부와  Outside 열교환하는Heat-exchanged 열교환기, 및 상기 열교환기로 냉매를 순환공급하는 냉매공급원을 포함할 수 있다.  A heat exchanger, and a coolant supply source for circulating and supplying the coolant through the heat exchanger.

본 발명의 The 실시예에In the embodiment 따른 전도성 필름 제조장치에 있어서, 상기 열교환기는 기재의 상부 및 하부에 1쌍이 서로 마주보게 구비될 수 있다.  The heat exchanger may be provided with one pair on the upper and lower sides of the substrate so as to face each other.

본 발명의 The 실시예에In the embodiment 따른 전도성 필름 제조장치에 있어서, 상기 열교환기는 격자 형태의  Wherein the heat exchanger is a lattice type 냉매유로를The refrigerant flow path 구비될 수 있다.  .

본 발명의 The 실시예에In the embodiment 따른 전도성 필름 제조장치에 있어서, 상기 냉매는 모노-에틸렌 글리콜 수용액이나 겔던( Wherein the refrigerant is a mono-ethylene glycol aqueous solution or a gelatin GaldenGalden )을 사용할 수 있다. ) Can be used.

본 발명의 실시예에 따른 전도성 필름 제조장치에 있어서, 저온 건조된 기재를 가열하여 10℃ 이상의 상온상태로 승온시키는 가열유닛을 포함할 수 있다. In the apparatus for producing a conductive film according to the embodiment of the present invention, the apparatus may include a heating unit for heating the low-temperature dried substrate to raise the temperature to a normal temperature state of 10 占 폚 or more.

본 발명의 실시예에 따른 전도성 필름 제조장치에 있어서, 기재를 세정하여 이물질을 제거하는 세정유닛, 및 기재의 표면에 보호필름을 부착하는 라미네이터를 더 포함할 수 있다. The apparatus for manufacturing a conductive film according to an embodiment of the present invention may further include a cleaning unit for cleaning the substrate to remove foreign substances, and a laminator for attaching a protective film to the surface of the substrate.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.The features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 전도성 필름 제조방법 및 장치에 의하면, 전도성 물질로 탄소나노튜브를 사용함으로써 가요성이 우수한 디스플레이를 구현할 수 있고, 코팅된 탄소나노튜브 용액을 저온 건조시킴으로써 탄소나노튜브의 채널 저항을 최소화하면서 건조성능을 극대화할 수 있을 뿐만 아니라 고온 내구성이 낮은 기재를 선택할 수 있으며 기재에 대한 재료비를 절감할 수 있는 효과가 있다. As described above, according to the method and apparatus for producing a conductive film according to the present invention, a display having excellent flexibility can be realized by using carbon nanotubes as a conductive material, and by drying the coated carbon nanotube solution at a low temperature, It is possible not only to maximize the drying performance while minimizing the channel resistance of the substrate, but also to select a substrate having a low temperature and high durability and to reduce the material cost of the substrate.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전도성 필름 제조방법을 나타낸 흐름도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 전도성 필름 제조장치를 나타낸 개략적 구성도이다.FIG. 1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a conductive film according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic block diagram showing an apparatus for producing a conductive film according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전도성 필름 제조방법은, 롤 형태로 권취된 기재를 언와인딩 및 리와인딩하면서 이송시키는 단계(S10), 이송되는 기재 위에 탄소나노튜브 용액을 코팅하는 단계(S20), 탄소나노튜브 용액이 코팅된 기재를 저온상태에서 건조시키는 저온 건조단계(S30), 저온건조된 기재를 가열하여 10℃ 이상의 상온으로 승온시키는 가열단계(S40), 건조된 기재를 세정하여 이물질을 제거하는 세정단계(S50), 및 탄소나노튜브 용액이 코팅된 기재 위에 보호필름을 부착하는 단계(S60)를 포함한다. Referring to FIG. 1, a method of manufacturing a conductive film according to an embodiment of the present invention includes: (S10) transporting a substrate wound in a roll form while unwinding and rewinding (S10); coating a carbon nanotube solution (S30) drying the base material coated with the carbon nanotube solution at a low temperature (S30), heating the base material (S40) A cleaning step (S50) of removing foreign substances by washing the carbon nanotube solution, and a step (S60) of attaching a protective film on the substrate coated with the carbon nanotube solution.

기재(substrate)는 연성(flexible)의 필름 형태로 형성되고 소정의 폭을 가지고 롤(roll) 형태로 언와인더(unwinder)에 권취되어 있다. The substrate is formed in the form of a flexible film and is wound on an unwinder in the form of a roll with a predetermined width.

상기 이송단계(S10)에서는 롤 형태로 권취된 기재의 일단을 언와인딩(unwinding)하면서 타단을 리와인딩(rewinding)하여 기재(1)를 이송시킨다. In the transferring step S10, one end of the base material wound in a roll form is unwound while the other end is rewound to transfer the base material 1.

기재의 이송이 시작되면 먼저 기재 위에 탄소나노튜브 용액을 코팅(coating)한다(S20). When the substrate is transferred, the carbon nanotube solution is coated on the substrate (S20).

상기 탄소나노튜브(Cabon Nanotube, CNT) 용액은 탄소나노튜브 분말을 탈이온수(De-ionized water)에 혼합한 것으로, 계면활성제를 첨가하여 혼합하는 것도 가능하다. 탄소나노튜브 용액은 겔(gel)이나 페이스트(paste)상태보다 점도가 낮은 용액으로 코팅이 가능한 상태이다. The carbon nanotube (CNT) solution is prepared by mixing carbon nanotube powder with deionized water. The carbon nanotube powder may be mixed with a surfactant. The carbon nanotube solution can be coated with a solution having a viscosity lower than that of the gel or paste.

상기 코팅단계(S20)에서는 슬릿(slit) 형태의 노즐을 이용하여 탄소나노튜브 용액을 기재의 표면에 코팅하여 전도층을 형성한다. In the coating step S20, carbon nanotube solution is coated on the surface of the substrate using a slit-shaped nozzle to form a conductive layer.

이와 같이 탄소나노튜브 용액을 사용하게 되면 코팅공정을 통해 전도층을 형성할 수 있고, 코팅공정을 통해 전도층을 형성함으로써 종래 스퍼터링과 같은 증착법을 사용할 때와는 달리 기재가 고온으로 가열되지 않는다. When the carbon nanotube solution is used, the conductive layer can be formed through the coating process, and the conductive layer is formed through the coating process, so that the substrate is not heated to a high temperature unlike the conventional deposition method such as sputtering.

탄소나노튜브 용액의 코팅이 완료되면 기재를 건조시킨다(S30). When the coating of the carbon nanotube solution is completed, the substrate is dried (S30).

한편, 탄소나노튜브는 고온(가령 100℃ 이상) 열풍으로 가열하게 되면 채널 저항이 증가하여 전도성능을 저하시키게 된다. 이에 상기 저온 건조단계(S30)에서는 건조공간을 만들고 그 건조공간의 내부 온도를 10℃ 이하의 온도로 설정한다. 특히 3~5℃의 온도에서 건조시키게 되면 탄소나노튜브의 채널 저항을 최소화하면서 건조성능을 극대화할 수 있게 된다. On the other hand, when the carbon nanotubes are heated by a high temperature (for example, 100 ° C or more) hot air, the channel resistance is increased and the conduction performance is lowered. In the low-temperature drying step (S30), a drying space is formed and the internal temperature of the drying space is set to 10 ° C or lower. In particular, drying at a temperature of 3 to 5 ° C can maximize drying performance while minimizing the channel resistance of carbon nanotubes.

저온 상태에서의 건조시간은 10~30분 정도 소요된다. 건조 시간은 탄소나노튜브 용액의 코팅량에 따라 달라질 수 있고, 건조 온도에 따라서도 달라질 수 있다. The drying time in the low temperature state takes about 10 to 30 minutes. The drying time may vary depending on the coating amount of the carbon nanotube solution, and may vary depending on the drying temperature.

기재를 저온상태로 건조시키게 되면 기재의 온도가 고온으로 상승하지 않게 되므로 고온에 내구성이 있는 기재를 사용하지 않아도 되고, 그로 인해 고온 내구성은 낮으나 장력 등의 다른 물성이 우수한 소재의 기재를 선택할 수 있게 되며, 기재에 대한 재료비를 절감할 수 있게 된다. If the substrate is dried at a low temperature, the temperature of the substrate will not rise to a high temperature. Therefore, it is not necessary to use a durable substrate at a high temperature. As a result, a base material having low durability at high temperature, And the material cost for the base material can be reduced.

여기서, 기재가 3~5℃의 저온 건조된 상태에서 대략 18~20℃ 정도의 상온에 급작스럽게 노출되면 결로 현상이 발생하게 되는데, 이러한 기재의 결로 현상을 방지하기 위해 기재를 가열시킨다(S40). If the substrate is suddenly exposed to a room temperature of about 18 to 20 ° C in a low-temperature drying state at 3 to 5 ° C, condensation may occur. In order to prevent condensation of the substrate, the substrate is heated (S 40) .

상기 가열단계(S40)에서는 15~25℃ 정도의 열을 가하여 기재를 가열한다. 열풍을 직접 기재에 가하는 것도 가능하고, 열교환기를 이용하여 간접 가열하는 것도 가능하다. 가열공정을 통해 기재의 온도가 저온에서 상온 상태로 서서히 상승하게 되고, 그로 인해 기재의 표면에 결로를 방지할 수 있게 된다. In the heating step (S40), the substrate is heated by applying heat of about 15 to 25 deg. Hot air can be directly applied to the substrate, or indirect heating can be performed using a heat exchanger. The temperature of the substrate gradually rises from a low temperature to a room temperature state through the heating process, thereby preventing condensation on the surface of the substrate.

한편, 저온 건조단계에서 완전하게 건조되지 못한 경우에는 가열단계에서 2차적으로 완전하게 건조가 이루어지게 된다. On the other hand, if it is not completely dried in the low-temperature drying step, the drying is completed secondarily in the heating step.

건조가 완료된 후에는 기재를 세정하고 보호필름을 부착시킨다.After drying is completed, the substrate is washed and a protective film is attached.

상기 세정단계(S50)에서는 20~25℃ 정도의 세정액으로 기재를 세정한다. 세정액을 기재에 분사하는 것도 가능하고, 세정액이 담긴 수조에 기재를 침전 통과시켜 세정하는 것도 가능하다. 세정액은 탈이온수(De-ionized water)를 사용할 수 있다. 세정 후에는 기재의 표면에 잔류하는 세정액을 블로잉으로 제거하거나 다시 열을 가하여 건조시키는 공정을 거칠 수 있다. In the cleaning step (S50), the substrate is cleaned with a cleaning liquid at about 20 to 25 deg. It is also possible to spray the cleaning liquid onto the base material, and to wash the base material through the settling in the water tank containing the cleaning liquid. The cleaning liquid may be de-ionized water. After the cleaning, the cleaning liquid remaining on the surface of the base material may be removed by blowing, or may be subjected to a process of heating again by heating.

상기 보호필름 부착단계(S60)에서는 세정이 완료된 기재의 전도층 위에 보호필름을 부착한다. 보호필름까지 부착된 기재는 다시 롤(roll) 형태로 권취된다.
In the step of attaching the protective film (S60), a protective film is attached on the conductive layer of the cleaned substrate. The substrate attached up to the protective film is again wound in a roll form.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전도성 필름 제조장치는, 기재(1)가 롤 형태로 권취되는 언와인더(11), 상기 언와인더(11)에 권취된 기재(1)를 견인하여 연속적으로 이송시키는 리와인더(12), 이송되는 기재(1) 위에 탄소나노튜브 용액을 코팅하는 코팅유닛(20), 기재(1)를 저온 건조시키는 저온 건조유닛(30), 저온 건조된 기재(1)를 가열하는 가열유닛(40), 기재(1)를 세정하여 이물질을 제거하는 세정유닛(50), 기재(1)의 표면에 보호필름을 부착하는 라미네이터(60)를 포함한다. 2, an apparatus for manufacturing a conductive film according to an embodiment of the present invention includes an unwinder 11 in which a base material 1 is wound in a roll form, a base material 1 wound around the unwinder 11, A coating unit 20 for coating the carbon nanotube solution on the substrate 1 to be transferred, a low temperature drying unit 30 for drying the substrate 1 at a low temperature, a low temperature drying A cleaning unit 50 for cleaning the base material 1 to remove foreign substances and a laminator 60 for attaching a protective film to the surface of the base material 1 .

상기 언와인더(11)는 롤(roll) 형태로 권취된 연성(flexible)의 기재(1)를 지지하면서 리와인더(12)의 권취동작시 풀어주게 된다. 언와인더(11)에는 브레이크 기능이 구비되어 리와인더(12)의 권취동작시 기재(1)의 장력을 조절하게 된다. The unwinder 11 is released during a winding operation of the rewinder 12 while supporting a flexible base material 1 wound in a roll form. The unwinder 11 is provided with a braking function to adjust the tension of the substrate 1 during the winding operation of the rewinder 12.

상기 리와인더(12)는 권취모터에 의해 축회전하면서 기재(1)를 권취한다. 언와인더(11)로부터 풀어지는 기재(1)는 보호필름(2)과 함께 합지되면서 리와인더(12)에 롤 형태로 권취된다.
The rewinder 12 winds the base material 1 while being rotated by a winding motor. The base material 1 unwound from the unwinder 11 is rolled into the rewinder 12 while being laminated together with the protective film 2.

상기 코팅유닛(20)은 슬릿(slit) 형태의 노즐을 구비하고 탄소나노튜브 용액을 기재(1)의 표면에 코팅하여 전도층을 형성한다. 슬릿 노즐은 기재(1)의 이송방향을 가로지르는 방향으로 고정되어 구비되고, 리와인더(12)의 구동에 의해 언와인더(11)로부터 기재(1)가 풀리면서 이송됨에 따라 기재(1)의 표면에 연속하여 탄소나노튜브 용액을 코팅하게 된다.
The coating unit 20 has a slit-shaped nozzle, and a carbon nanotube solution is coated on the surface of the base material 1 to form a conductive layer. The slit nozzle is fixed in a direction transverse to the conveying direction of the base material 1 and as the base material 1 is conveyed while being unwound from the unwinder 11 by driving of the rewinder 12, The carbon nanotube solution is continuously coated on the surface.

상기 저온 건조유닛(30)은 이송되는 기재(1)와 소정간격을 두고 이격되어 구비되는 열교환기(31), 및 상기 열교환기(31)로 냉매를 냉매공급라인(32)을 통해 순환공급하는 냉매공급원(33)을 포함한다. The low-temperature drying unit 30 includes a heat exchanger 31 spaced apart from the substrate 1 by a predetermined distance and a heat exchanger 31 circulating and supplying the refrigerant through the refrigerant supply line 32 And a refrigerant supply source 33.

상기 열교환기(31)는 기재(1)의 상부 및 하부에 1쌍이 서로 마주보게 구비된다. 도 2에 도시된 열교환기(31)는 관(pipe) 형상의 유로를 격자 형태로 구비하고 유로의 내부에 냉매가 충진되어 있다. 관 형상의 유로는 금속 재질로 형성되어 냉매와 외부 공기를 열교환시키게 된다. The heat exchanger (31) is provided such that one pair of the heat exchanger (31) is opposed to the upper portion and the lower portion of the substrate (1). The heat exchanger 31 shown in FIG. 2 has a pipe-shaped flow path in a lattice form and a coolant is filled in the flow path. The tubular flow path is formed of a metal material to exchange heat between the refrigerant and the outside air.

1쌍의 열교환기(31)가 기재(1)의 상부 및 하부에 인접하게 구비됨으로써 냉기를 기재(1)에 가하여 저온 건조시키게 된다. 다시 말하면, 서로 소정간격을 두고 구비된 1쌍의 열교환기(31) 사이 공간으로 기재(1)가 통과함으로써 기재(1)에 코팅된 탄소나노튜브 용액을 저온 상태로 건조시키게 된다.A pair of heat exchangers 31 are provided adjacent to the upper and lower portions of the substrate 1 to apply cold air to the base material 1 and dry it at a low temperature. In other words, the substrate 1 is passed through a space between a pair of heat exchangers 31 provided at a predetermined interval to dry the carbon nanotube solution coated on the substrate 1 at a low temperature.

1쌍의 열교환기(31)는 건조공간의 내부 온도를 10℃ 이하의 온도로 설정한다. 특히 3~5℃의 온도에서 건조시키게 되면 탄소나노튜브의 채널 저항을 최소화하면서 건조성능을 극대화할 수 있게 된다. The pair of heat exchangers (31) sets the internal temperature of the drying space to a temperature of 10 DEG C or lower. In particular, drying at a temperature of 3 to 5 ° C can maximize drying performance while minimizing the channel resistance of carbon nanotubes.

저온 상태에서의 건조시간은 10~30분 정도 소요된다. 이를 위해 상기 언와인더(11)와 리와인더(12)는 일정 시간 동안 정지될 수 있다. 한편, 열교환기(31)는 기재(1)의 이송방향을 따라 소정의 길이로 연장되어 형성됨으로써 소정의 길이에 해당하는 기재(1)의 탄소나노튜브 용액을 동시에 건조시킬 수 있게 된다. 따라서, 열교환기(31)의 이송방향의 길이만큼 기재(1)에 탄소나노튜브 용액이 코팅된 상태에서 언와인더(11)와 리와인더(12)의 회전을 정지시키고 일정 시간 동안 건조시키게 된다. 설정된 일정 시간이 경과되면 다시 언와인더(11)와 리와인더(12)를 회전시키게 된다. The drying time in the low temperature state takes about 10 to 30 minutes. For this, the unwinder 11 and the rewinder 12 may be stopped for a predetermined time. The heat exchanger 31 is formed to extend along the feeding direction of the base material 1 by a predetermined length, so that the carbon nanotube solution of the base material 1 corresponding to a predetermined length can be dried at the same time. Therefore, the rotation of the unwinder 11 and the rewinder 12 is stopped with the carbon nanotube solution coated on the substrate 1 by the length of the heat exchanger 31 in the conveying direction, and is dried for a predetermined time. The unwinder 11 and the rewinder 12 are rotated again after a predetermined time has elapsed.

여기서, 언와인더(11)와 리와인더(12)의 회전속도를 조절하여 기재(1)의 이송속도를 조절할 수 있게 되고, 기재(1)의 이송속도에 따라 기재(1)가 열교환기(31)를 통과하는 시간이 결정된다. 따라서, 기재(1)가 열교환기(31)를 통과하는 시간이 건조에 소요되는 시간보다 작을 경우에는 언와인더(11)와 리와인더(12)의 회전을 정지시키지 않고도 기재(1)를 서서히 이송시키면서 건조공정을 수행할 수 있게 된다. The feeding speed of the base material 1 can be controlled by adjusting the rotational speeds of the unwinder 11 and the rewinder 12 so that the base material 1 is heated by the heat exchanger 31 ) Is determined. Therefore, when the time for the base material 1 to pass through the heat exchanger 31 is shorter than the time required for drying, the base material 1 is slowly transported without stopping the rotation of the unwinder 11 and the rewinder 12 So that the drying process can be performed.

상기 냉매는 열교환기(31)에서 열교환작용을 한 후 냉매공급원(33)으로 순환하여 포집된다. 냉매공급원(33)으로 회수되는 냉매는 냉동싸이클에 의해 냉각된 후 열교환기(31)로 다시 순환하게 된다. The refrigerant is circulated through the heat exchanger (31) to the refrigerant supply source (33) after being heat-exchanged. The refrigerant recovered into the refrigerant supply source 33 is cooled by the refrigeration cycle and then circulated back to the heat exchanger 31.

한편, 냉매는 외부의 냉각수단 없이 충진량에 따라 냉매의 냉각작용이 일어나 기준 온도로 회복되는 성질을 가진 냉매를 사용하는 것도 가능하다. 이 경우 냉매공급원(33)에 기준량 이상의 냉매가 충진되어 있으면 잔류 냉매에 의해 회수된 냉매가 다시 냉각되고, 기준량 이하로 냉매가 소진되면 기준량 이상으로 냉매를 충진시켜 줌으로써 냉매의 온도를 기준치 이하로 유지할 수 있게 된다.
On the other hand, it is also possible to use a refrigerant having a property that the cooling action of the refrigerant occurs and the temperature of the refrigerant is restored to the reference temperature according to the amount of the refrigerant without external cooling means. In this case, if the coolant supply source 33 is charged with a refrigerant equal to or higher than the reference amount, the refrigerant recovered by the residual refrigerant is cooled again, and when the refrigerant is exhausted below the reference amount, .

상기 가열유닛(40)은 기재(1)의 상부 및 하부에 1쌍이 서로 마주보게 구비된다. 가열유닛(40)은 전기히터나 열풍건조기 및 적외선 건조기 등이 사용될 수 있다. 전기히터의 경우 탄소나노튜브 용액이 코팅된 기재(1)에 인접하게 구비되어 기재(1)를 복사열에 의해 가열하게 된다.
The heating unit (40) is provided such that one pair of the heating unit (40) is opposed to the upper and lower sides of the substrate (1). The heating unit 40 may be an electric heater, a hot air dryer, an infrared dryer, or the like. In the case of an electric heater, the carbon nanotube solution is provided adjacent to the base material 1 coated with the solution to heat the base material 1 by radiant heat.

상기 세정유닛(50)은 세정액을 기재에 분사하여 세정한다. 20~25℃ 정도의 세정액으로 기재를 세정한다. 세정액은 탈이온수(De-ionized water)를 사용할 수 있다. 세정 후에는 기재의 표면에 잔류하는 세정액을 블로잉으로 제거하거나 다시 열을 가하여 건조시키는 공정을 거칠 수 있다.
The cleaning unit 50 blows a cleaning liquid onto the substrate to clean it. The substrate is cleaned with a cleaning liquid at about 20 to 25 ° C. The cleaning liquid may be de-ionized water. After the cleaning, the cleaning liquid remaining on the surface of the base material may be removed by blowing, or may be subjected to a process of heating again by heating.

상기 라미네이터(60)는 세정이 완료된 기재(1)의 전도층 위에 보호필름(2)을 부착한다. 보호필름(2)까지 부착된 기재(1)는 리와인더(12)에 롤(roll) 형태로 권취된다.
The laminator 60 attaches the protective film 2 on the conductive layer of the cleaned substrate 1. The substrate 1 to which the protective film 2 is attached is wound on the rewinder 12 in the form of a roll.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명은 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It is obvious that the modification or the modification is possible by the person.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

11 : 언와인더
12 : 리와인더
20 : 코팅유닛
30 : 저온 건조유닛
31 : 열교환기
32 : 냉매공급라인
33 : 냉매공급원
40 : 가열유닛
50 : 세정유닛
60 : 라미네이터11: un winder
12: Rewinder
20: Coating unit
30: Low temperature drying unit
31: Heat exchanger
32: Refrigerant supply line
33: Refrigerant supply source
40: Heating unit
50: Cleaning unit
60: Laminator

Claims (9)

롤 형태로 권취된 기재를 언와인딩하면서 이송시키는 단계;
이송되는 기재 위에 탄소나노튜브 용액을 코팅하는 단계;
탄소나노튜브 용액이 코팅된 기재를 3~5℃의 저온상태에서 건조시키는 저온 건조단계; 및
저온건조된 기재를 가열하여 10℃ 이상의 상온으로 승온시키는 가열단계;를 포함하는 전도성 필름 제조방법.Transporting the substrate wound in roll form while unwinding;
Coating a carbon nanotube solution on the transferred substrate;
A low-temperature drying step of drying the substrate coated with the carbon nanotube solution at a low temperature of 3 to 5 DEG C; And
And a heating step of heating the low-temperature dried substrate to raise the temperature to a normal temperature of 10 占 폚 or more. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 저온 건조단계에서는,
10~30분 동안 건조시키는 것을 특징으로 하는 전도성 필름 제조방법.The method according to claim 1, wherein in the low-temperature drying step,
Followed by drying for 10 to 30 minutes. 삭제delete 제1항에 있어서,
건조된 기재를 세정하여 이물질을 제거하는 세정단계; 및
탄소나노튜브 용액이 코팅된 기재 위에 보호필름을 부착하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름 제조방법.The method according to claim 1,
A cleaning step of cleaning the dried substrate to remove foreign matter; And
And attaching a protective film on the substrate coated with the carbon nanotube solution. 제1항에 있어서, 상기 탄소나노튜브 용액은,
탄소나노튜브 분말을 탈이온수에 혼합한 것을 특징으로 하는 전도성 필름 제조방법.The carbon nanotube solution according to claim 1,
Wherein the carbon nanotube powder is mixed with deionized water. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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