KR101614298B1 - Manufacturing method for mold using low-glossy and anti-fouling micro-pattern transferring film for etching - Google Patents

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Abstract

본 발명은 에칭용 저광택 방오(防汚: anti-fouling) 마이크로패턴 전사 필름 을 이용한 금형의 제조 방법에 관한 것으로서, 기재(substrae) 필름의 상면 또는 저면에 각각 0.05~0.09mm의 직경을 가지는 다수의 전사 잉크 인쇄 영역이 상호 0.05~0.09mm의 간격으로 이격하여 위치하며, 상기한 전사 잉크 인쇄 영역을 제외한 에칭 영역은 전체적으로 상호 연결 형성되어 있는 마이크로패턴 전사 필름을 이용하여 금형이 제조되며, 본 발명의 제조방법에 따른 금형을 이용하면 사출성형품의 표면에 만족스러운 정도의 저광택성을 부여하면서도 우수한 방오성과 저오염성을 부여할 수가 있다.The present invention relates to a method of manufacturing a mold using an anti-fouling micro pattern transfer film for etching, and more particularly, to a method of manufacturing a mold using an anti-fouling micro pattern transfer film for etching, The transfer ink printing area is spaced apart from each other by an interval of 0.05 to 0.09 mm and the etching area except for the transfer ink printing area is formed as a whole using a micro pattern transfer film. By using a mold according to the production method, excellent antifouling property and low staining property can be imparted while satisfactory low glossiness is imparted to the surface of the injection molded article.

Description

에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 이용한 금형의 제조 방법{MANUFACTURING METHOD FOR MOLD USING LOW-GLOSSY AND ANTI-FOULING MICRO-PATTERN TRANSFERRING FILM FOR ETCHING}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of manufacturing a mold using a low-gloss antifouling micro pattern transfer film for etching,

본 발명은 에칭용 저광택 방오(防汚: anti-fouling) 마이크로패턴 전사 필름 을 이용한 금형의 제조 방법에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 화학적 에칭 방법을 이용하여 기존의 엠보싱 가공된 플라스틱 사출 금형 표면에 특정한 마이크로 패턴을 추가 가공함으로써 사출되는 플라스틱 성형품에 우수한 저광택성을 지니면서도 우수한 방오성 및 저오염성을 부여할 수가 있는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 이용한 금형의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a mold using an anti-fouling micro pattern transfer film for etching, and more particularly, to a method of manufacturing a mold using a chemical etching method, To a method of manufacturing a mold using a low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching which can impart excellent antifouling property and low staining property to an injection molded plastic article by further processing a micropattern.

일반적으로 차량의 내외장재 부품은 경량성, 대량생산의 효율성 및, 가공의 용이성 등의 관점에서 주로 플라스틱 사출성형물이 이용되고 있으며, 금형의 내표면에는 사출 성형물의 기능성 및 상품성 향상을 위한 특정한 미세 패턴이 형성된다.
In general, plastic injection molded articles are mainly used from the viewpoints of light weight, efficiency of mass production, easiness of processing, and the like. In the inner surface of the mold, a specific fine pattern for improving the functionality and commerciality of the injection molded article .

종래에는 이러한 사출성형물의 안정적인 생산과 관리에 주로 초점이 맞추어져 있었지만, 근자에 이르러는 산업과 문화의 발전에 따른 생활수준의 향상에 따라 소비자들이 제품자체의 본연의 기능뿐만 아니라 제품의 외관 및 그에 부여된 질감과 같은 감성적 품질도 중요하게 여기는 경향이 강화되는 추세에 있으므로, 이러한 시대적 추세에 따라, 차량의 대시 보드나 센터페시아 또는 글로브박스 등과 같은 차량의 내외장용 수지 사출성형품 또는 생활 속의 인테리어 수지 사출성형품과 같은 다양한 수지 사출성형품의 감성적 품질 향상 및 고급감 부여를 위하여 천연 가죽 등과 같은 고품질 질감을 가지는 다양한 엠보싱 패턴이 널리 적용되고 있다.Conventionally, the main focus is on the stable production and management of such injection-molded products. However, as the living standards of the industry and culture have improved, it has become more and more important for consumers to understand not only the function of the product itself, The tendency to attach importance to the emotional quality such as the applied texture tends to be strengthened. Therefore, according to the tendency of the times, there is a tendency that the resin injection molding product for interior and exterior use of a vehicle such as a dashboard of a vehicle, a center fascia or a glove box, Various embossing patterns having high quality textures such as natural leather and the like have been widely applied for improving emotional quality and imparting a high quality to various resin injection molded articles such as molded articles.

그러나 상기한 바와 같은 엠보싱 표면을 가지는 사출성형품은 그 외표면의 미세 엠보싱 형상으로 인하여 오염도가 높아지기 쉽고, 일단 오염되면 오염 제거가 잘되지 않는다는 문제점이 있었다.However, the injection-molded product having an embossed surface as described above tends to have a high degree of contamination owing to the fine embossing shape of the outer surface thereof, and has a problem in that it is difficult to remove the contamination once it is contaminated.

이러한 문제점의 해결을 위해서는 사출성형품의 표면을 평활면으로 처리하여 광택성을 높여 오염율을 낮추는 방법이 있으나, 이는 사출성형품 표면의 광택성 향상이 제품에 저급한 느낌을 부여하여 제품의 감성 품질을 심각하게 저하시킨다는 문제점이 있었다.In order to solve these problems, there is a method of lowering the contamination rate by improving the glossiness by treating the surface of the injection molded article with a smooth surface. However, since the improvement of the glossiness of the injection molded article gives a low feeling to the product, .

사출성형품의 광택을 낮춤으로써 제품에 고급감을 부여하기 위한 전형적인 종래기술로서는 하기의 것들을 들 수 있다.Typical conventional techniques for imparting a sense of quality to a product by lowering the gloss of an injection-molded product include the following.

한국 공개특허 제10-1992-7002832호(1992.10.28. 공개)는 플라스틱 성형물의 표면에 형성된 요철의 표면에 다시 미세한 요철을 가진 전사층이 형성된 무광택 표면을 가지는 인모울드 요철품을 개시(開示)하고 있다.Korean Unexamined Patent Application Publication No. 10-1992-7002832 (published Oct. 28, 1992) discloses a process for producing a molded article, which comprises the steps of opening a humanoid unevenness having a matte surface on which a transfer layer having fine irregularities is formed, .

그러나 상기한 방법은 미세 요철을 가지는 라미네이트 시트를 몰드 내에 세팅하고 사출 성형하는 인몰드 데코레이션(IMD) 방법으로서, 사출 성형품의 표면에 3차원적인 질감을 사출 성형 자체에 의하여 직접 표현하는 것이 아니라, 별도의 장식 필름을 이용하는 것이므로 표면 질감의 내구성이 열등함은 물론, 3차원적인 질감의 표현에 있어 충분히 만족스러운 것은 못되었다.However, the above-mentioned method is an in-mold decoration (IMD) method in which a laminate sheet having micro-irregularities is set in a mold and injection molding is performed. In this method, three-dimensional texture on the surface of an injection- , The durability of the surface texture is not only poor but also satisfactory in terms of the expression of the three-dimensional texture.

또한 한국 등록특허 제0868975호(2008.11.10. 등록)는 다중에칭 가공된 엠보싱 표면을 가지는 금형에 직경 0.05~0.2mm의 도트 형상의 미세 패턴을 추가적으로 에칭함으로써, 최종 사출성형품의 에보싱 표면에 상기 직경의 미세 돌기를 형성함으로써 저광택화 또는 무광택화를 이루는 저광택 또는 무광택 플라스틱 성형용 금형의 제조방법을 제안하고 있다.Korean Registered Patent No. 0868975 (registered on Nov. 10, 2008) discloses a method in which a dot-shaped fine pattern having a diameter of 0.05 to 0.2 mm is additionally etched into a mold having an embossing surface subjected to multiple etching, And forming fine protrusions having a small diameter, thereby achieving a low-gloss or matte-like shape.

그러나 상기한 제조방법은 그에 따른 금형을 이용하여 사출성형되는 제품의 광택을 만족스러운 정도로 저감시키고는 있지만 저광택성을 부여하기 위한 마이크로패턴이 기존의 엠보싱 표면에 양각으로 돌출된 형태이므로 사출성형 제품의 표면이 오염되기 쉽다는 문제점이 있음과 아울러, 일단 오염되고 나면 오염물의 제거도 용이하지 않다는 새로운 문제점을 야기하고 있음과 아울러, 이러한 저광택성 마이크로패턴은 그 크기가 상대적으로 커서 기존 엠보싱 패턴을 왜곡시키게 된다는 문제점이 있다.However, since the micro-pattern for imparting low gloss is protruded on the embossed surface in the embossing form, the manufacturing method of the injection-molded product There is a problem that the surface is easily contaminated and the contamination is not easily removed once it is contaminated. In addition, such a low-gloss micropattern is relatively large in size, and thus the existing embossing pattern is distorted .

특히 상기한 저광택성을 부여하기 위한 양각 돌출형 마이크로패턴은 차량 제조 공장에서 사출성형 내장재 등의 조립 시 작업용 장갑으로부터 미세 보풀이 붙어 오염되기 쉽다는 심각한 문제점이 있다.In particular, the embossed protruding micro pattern for imparting low glossiness has a serious problem in that it is liable to be contaminated with fine napping from a work glove when assembling an injection molding interior material in a vehicle manufacturing factory.

상기한 바와 같은 저광택성 부여를 위한 양각 돌출형 마이크로패턴을 가지는 사출성형품의 제조를 위한 금형을 에칭하기 위하여 사용되는 마이크로패턴 전사 필름의 전형적인 예를 모식도인 비교예 1인 도 8과 그 부분 확대 사진인 도 9를 참조하여 설명하면, 기재(substrate) 필름 표면에 약 0.14mm 일정 간격을 두고 상호 이격한 직경 약 0.14mm의 원형의 도트 형상의 공간부가 다수 형성되도록 그 주변 영역 전체에 전사 잉크가 인쇄되어 있으며(도 8에서는 백색 부분이 마스킹을 위한 전사 잉크 인쇄 영역이며, 도 9에서는 청색 영역이 전사 잉크 인쇄 영역임), 따라서 상기한 원형의 도트 부분이 금형에 음각으로 에칭되며, 결과적으로 상기한 금형에 의해 사출성형되는 물품은 표면 확대 사진인 도 10 및 그 단면 모식도인 도 11에 나타낸 바와 같이 상기한 원형 도트 부분이 양각으로 돌출된 형태로 성형되게 된다.A typical example of a micro pattern transfer film used to etch a metal mold for producing an injection molded article having a protruding protruding micro pattern for imparting low gloss as described above is shown in FIG. 8 and FIG. 8 Referring to FIG. 9, a transfer ink is printed on the entire surface of a substrate film so that a large number of circular dot-shaped space portions having a diameter of about 0.14 mm and spaced apart from each other at regular intervals of about 0.14 mm are formed (In Fig. 8, a white portion is a transfer ink printing region for masking, and in Fig. 9, a blue region is a transfer ink printing region), so that the circular dot portion is etched in a mold at a recessed angle, As shown in Fig. 10, which is an enlarged view of the surface, and Fig. 11, which is a schematic cross-sectional view thereof, Bit portion is to be formed into a shape protruding in relief.

한국 공개특허 제10-1992-7002832호(1992.10.28. 공개)Korean Patent Publication No. 10-1992-7002832 (published on October 28, 1992) 한국 등록특허 제0868975호(2008.11.10. 등록)Korean Registered Patent No. 0868975 (registered on Nov. 10, 2008)

따라서 본 발명의 목적은 사출성형품의 표면에 충분히 만족스러운 정도의 저광택성을 부여하면서도 우수한 방오성 및 저오염성을 부여할 수가 있는 금형의 제조에 유용하게 적용될 수 있는 에칭용 마이크로패턴 전사 필름을 이용한 금형의 효과적인 제조방법을 제공하기 위한 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a mold for a mold using an etching micro pattern transfer film, which can be effectively applied to the production of a mold capable of giving a satisfactory degree of low gloss to the surface of an injection molded article, And to provide an effective manufacturing method.

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상기한 본 발명의 목적을 원활히 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 일 양태에 따르면, (A) 수지 사출성형용 금형강 내표면에 엠보싱 패턴을 에칭하는 단계와, (B) PVA, 셀로판, PE, PP 및, PET로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종의 투명 수지 필름으로 된 기재(substrae) 필름의 저면에 각각 0.05~0.09mm의 직경을 가지는 원형으로 된 다수의 전사 잉크 인쇄 영역이 상호 0.05~0.09mm의 간격으로 이격하여 위치하며 상기한 전사 잉크 인쇄 영역을 제외한 에칭 영역이 전체적으로 상호 연결 형성되어 있는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 엠보싱 패턴이 형성된 수지 사출성형용 금형강 표면에 부착하여 상기한 엠보싱 패턴 상에 마스킹 영역으로서의 전사 잉크 인쇄 영역을 전사하고 상기한 기재(substrate) 필름을 제거하는 단계, (C) 상기한 전사 잉크 인쇄 영역을 제외한 부분을 에칭하여 상기한 엠보싱 패턴 상에 저광택 방오 마이크로패턴을 형성하는 단계로 구성되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 이용한 금형의 제조 방법이 제공된다.(A) etching the embossed pattern on the inner surface of the metal mold for resin injection molding, and (B) applying the PVA, the cellophane, the PE, the PP A plurality of circular transfer printing ink areas each having a diameter of 0.05 to 0.09 mm are formed on the bottom surface of a substrate made of one kind of transparent resin film selected from the group consisting of PET, The low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching having the etching areas except for the transfer ink printing area formed as a whole is connected to the surface of the metal mold for resin injection molding in which the embossed pattern is formed, Transferring the transfer ink printing area as a masking area on the substrate, and removing the substrate film; (C) And forming a low-gloss antifouling micro-pattern on the embossed pattern by etching a portion of the embossed pattern except for the area of the embossed pattern.

상기한 단계 (B)에서의 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름이 100# ~ 600#의 실크사, 바람직하게는 200# ~ 400#의 실크사로 된 실크스크린 인쇄에 의하여 제조될 수 있다.The low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching in the above step (B) can be produced by silk screen printing of silks of 100 # to 600 #, preferably of silks of 200 # to 400 #.

상기한 에칭 단계(C)에서의 에칭 깊이가 5~30㎛의 범위이다.The etching depth in the etching step (C) is in the range of 5 to 30 mu m.

또한 상기한 단계 (A) 또는 (C) 단계 후에는 샌드블라스팅 처리할 수 있다.After the step (A) or (C), the sandblasting may be performed.

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본 발명에 따른 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 이용한 금형의 제조방법에 따르면, 사출성형품의 표면에 만족스러운 정도의 저광택성을 부여하면서도 우수한 방오성과 저오염성을 부여할 수가 있는 금형을 효과적으로 제조할 수 있으며, 상기한 제조방법에 따른 금형을 이용하면 충분히 만족스러운 정도의 우수한 저광택성을 지니면서도 우수한 방오성 및 저오염성을 지니는 표면 패턴을 가지는 사출 성형품을 효과적으로 성형할 수가 있다.According to the method for producing a mold using the low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching according to the present invention, a mold capable of imparting excellent antifouling property and low staining property to a surface of an injection molded article with satisfactory low glossiness can be effectively manufactured By using the mold according to the above-described manufacturing method, it is possible to effectively mold an injection-molded article having a surface pattern having excellent antifouling property and low staining property while having satisfactory low gloss and satisfactory degree.

도 1은 본 발명에 적용되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름의 바람직한 패턴 모식도이다.
도 2는 본 발명에 적용되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름의 다른 바람직한 패턴 모식도이다.
도 3은 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름의 비교 패턴 모식도이다.
도 4는 본 발명에 적용되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름의 부분 확대 사진이다.
도 5는 도 4의 전사 필름을 이용하여 제조된 금형으로 사출성형한 성형품의 표면 확대도로서, 저광택 방오 마이크로패턴 미형성 및 형성 경우를 대비한 비교도이다.
도 6은 도 5의 저광택 방오 마이크로패턴 형성 경우의 단면 모식도이다.
도 7은 본 발명에 따른 제조방법으로 제조된 금형에 의하여 저광택 방오 마이크로패턴이 형성된 사출성형품 (좌측)과 기존의 저광택 마이크로패턴이 형성된 사출성형품(우측)의 표면에 대한 3배 확대 사진이다.
도 8은 종래의 에칭용 저광택 마이크로패턴 전사 필름의 패턴 모식도이다.
도 9는 종래의 에칭용 저광택 마이크로패턴 전사 필름의 부분 확대 사진이다.
도 10은 도 9의 전사 필름을 이용하여 제조된 금형으로 사출성형한 성형품의 표면 확대도이다.
도 11은 도 10의 단면 모식도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a schematic pattern diagram of a low gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching applied to the present invention. FIG.
2 is another exemplary pattern schematic diagram of the low gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching applied to the present invention.
3 is a comparative pattern diagram of the low gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching.
4 is a partial enlarged photograph of the low gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching applied to the present invention.
Fig. 5 is an enlarged view of the surface of a molded product injection-molded with a mold manufactured using the transfer film of Fig. 4, which is a comparative diagram for the case of forming and forming a low-gloss antifouling micropattern.
6 is a schematic cross-sectional view of the low-gloss antifouling micropattern formed in Fig.
Fig. 7 is a three-fold enlarged photograph of the injection molded article (left side) on which the low-gloss antifouling micropattern is formed by the mold manufactured by the manufacturing method according to the present invention and the injection molded article (right side) on which the existing low gloss micropattern is formed.
8 is a pattern schematic diagram of a conventional low-gloss micro-pattern transfer film for etching.
FIG. 9 is a partially enlarged photograph of a conventional low-gloss micropattern film for etching.
10 is an enlarged view of the surface of a molded product injection-molded with a mold manufactured using the transfer film of Fig.
11 is a schematic cross-sectional view of Fig.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 적용되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름의 바람직한 패턴 모식도로서, 기재(substrae) 필름의 일표면 상에 각각 한 변(side: 邊)의 길이가 0.08mm인 다수의 정방형 전사 잉크 인쇄 영역(도 1에서의 백색 부분)이 상호 0.08mm 이격하여 배열되며, 상기한 전사 잉크 인쇄 영역(백색 부분)을 제외한 에칭 영역(도 1에서의 회색 부분)은 전체적으로 상호 연결 형성되어 있는 후술하는 실시예 1의 경우를 나타낸다.Fig. 1 is a schematic pattern diagram of a low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching applied to the present invention. Fig. 1 is a schematic view showing a state in which a plurality of square-shaped transcripts each having a side length of 0.08 mm on one surface of a substra- (White portions in Fig. 1) are arranged at a distance of 0.08 mm from each other, and the etching regions (gray portions in Fig. 1) except for the transfer ink printing region (white portion) In the case of the first embodiment.

본 발명에 있어서는, 상기한 다수의 전사 잉크 인쇄 영역(백색 부분) 각각의 치수는 0.04~1.0mm의 직경 또는 한 변의 길이를 가지며, 상기한 다수의 전사 잉크 인쇄 영역은 상호 0.04~1.0mm의 간격으로 이격하여 위치하며, 특정하게는 상기한 전사 잉크 인쇄 영역 각각의 직경 또는 한 변의 길이 및, 상기한 전사 잉크 인쇄 영역 각각의 상호 이격 거리는 각각 0.05~0.09mm로 형성될 수 있다.In the present invention, each of the plurality of transfer ink printing areas (white areas) has a diameter of 0.04 to 1.0 mm or a length of one side, and the plurality of transfer ink printing areas are spaced apart from each other by 0.04 to 1.0 mm The length of one side of each of the transfer ink printing areas, and the mutual separation distance of each of the transfer ink printing areas may be 0.05 to 0.09 mm, respectively.

또한 상기한 각각의 전사 잉크 인쇄 영역(도 1에서의 백색 부분)은 원형, 타원형, 정방형, 장방형, 다이아몬드형, 다각형, 십자형의 어느 형상 단독 또는 이들 형상의 복합 형태로 이루어지는 기하학적 형상일 수 있다.Each of the transfer ink printing areas (white areas in FIG. 1) may be a circular shape, an elliptical shape, a square shape, a rectangular shape, a diamond shape, a polygonal shape, a cross shape, or a geometric shape composed of a composite shape of these shapes.

도 2는 본 발명에 적용되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름의 다른 바람직한 패턴 모식도로서, 도시된 예에서는 기재(substrae) 필름의 일표면 상에 각각 일변의 길이가 0.04mm인 다수의 정방형 전사 잉크 인쇄 영역(도 1에서의 백색 부분)이 상호 0.04mm 이격하여 배열되며, 상기한 전사 잉크 인쇄 영역(백색 부분)을 제외한 에칭 영역(도 1에서의 회색 부분)이 전체적으로 상호 연결 형성되어 있는 실시예 2의 경우를 나타낸다.2 is a schematic view of another preferred pattern of the low gloss antifouling micropattern film for etching applied to the present invention. In the illustrated example, a plurality of square transfer inks each having a length of 0.04 mm on one side of a substrate, (White portions in FIG. 1) are arranged at a distance of 0.04 mm from each other, and the etching regions (gray portions in FIG. 1) except for the transfer ink printing region (white portion) 2, respectively.

도 3은 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름의 비교 패턴 모식도로서, 도시된 예에서는 상기한 전사 잉크 인쇄 영역(백색 부분)을 제외한 에칭 영역(도 1에서의 회색 부분)이 전체적으로 상호 연결 형성되어 있기는 하지만, 기재(substrae) 필름의 일표면 상에 각각 일변의 길이가 0.12mm인 다수의 정방형 전사 잉크 인쇄 영역(도 1에서의 백색 부분)이 상호 0.12mm 이격하여 배열된 경우로서 비교예 2를 나타낸다.3 is a comparative pattern diagram of the low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching. In the illustrated example, the etching regions (the gray portions in FIG. 1) except for the transfer ink printing region (white portion) However, in the case where a plurality of square transfer ink printing areas (white areas in Fig. 1) each having a length of one side of 0.12 mm are arranged on one surface of a substrate (substrae) film at a distance of 0.12 mm from each other, .

이어서, 도 4는 본 발명에 적용되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름의 확대사진으로서, 사진 상에서 원형의 청색으로 된 부분이 마스킹을 위한 전사 잉크 인쇄 영역이며 회색으로 된 영역이 에칭되는 부분이다.Next, Fig. 4 is an enlarged photograph of the low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching applied to the present invention, in which the part of circular blue color on the photograph is the transfer ink printing area for masking and the gray area is etched.

도시된 예에서는 일변의 길이가 0.06mm인 다수의 원형 전사 잉크 인쇄 영역(청색 부분)이 상호 좌우로 0.06mm, 그리고 상하로 0.05mm 이격하게 형성된 경우를 나타내며, 따라서 에칭이 일어나는 영역인 회색 영역은 상호 전체적으로 연결되어있기는 하지만 상기한 에칭 영역이 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이 직선상으로 형성된 영역으로 한정되는 것이 아니라, 곡선상으로 연결 형성된 영역으로 한정된다.In the illustrated example, a plurality of circular transfer ink printing areas (blue areas) each having a side length of 0.06 mm are formed to be 0.06 mm apart from each other and 0.05 mm apart from the upper and lower sides, Although the etching regions are connected to each other as a whole, the etching regions are not limited to regions formed in a straight line as shown in Figs. 1 and 2, but are defined as curved connecting regions.

도 5는 도 4의 전사 필름을 이용하여 제조된 금형으로 사출성형한 성형품의 표면 확대도로서, 기존의 엠보싱 패턴 형성면에 저광택 방오 마이크로패턴을 형성하지 않은 경우(좌측) 및 이를 형성한 경우(우측)를 대비한 15배 확대 비교도이다.Fig. 5 is an enlarged view of the surface of a molded product injection-molded from a mold manufactured using the transfer film of Fig. 4, in the case where the low-gloss antifouling micropattern is not formed on the existing embossed pattern forming surface (left side) Right) is a 15 times magnification comparison chart.

한편, 도 6은 도 4의 저광택 방오 마이크로패턴을 형성한 경우의 표면에 대한 단면 모식도로서, 금형에 있어서는 도 4에서의 청색으로 표시된 마스킹 영역이 원형 돌출부로 남고 회색으로 표시된 영역이 저광택 방오 마이크로패턴으로 에칭된 결과(도 6에서의 백색 부분과 동일), 사출성형품에 있어서는 금형 표면과는 반대로 마스킹 영역이 미세한 음각 만입부로 형성된다.
On the other hand, FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the surface of the mold in which the low-gloss antifouling micropattern shown in FIG. 4 is formed. In the mold, the masking area indicated by blue in FIG. 4 is left as a circular protrusion, (The same as the white part in Fig. 6), the injection-molded article has a masking region formed as a fine depressed portion contrary to the mold surface.

따라서 종래의 저광택 사출성형품의 표면에 대한 15배율 확대도인 도 10의 경우에서는 저광택 마이크로패턴이 양각 돌출부로 형성되는 반면, 본 발명의 제조방법에 따른 금형에 의한 저광택 방오 사출성형품의 표면에 대한 15배율 확대도인 도 6의 경우에서는 저광택 방오 마이크로패턴이 더욱 미세한 음각 만입부로 형성된다. Therefore, in the case of Fig. 10, which is a magnification of 15 magnifications on the surface of the conventional low-gloss injection-molded article, the low-gloss micropattern is formed as the embossed projection, while the surface of the low-gloss antifouling injection- In the case of Fig. 6, which is an enlarged magnification diagram, the low-gloss antifouling micropattern is formed as a finer depressed portion.

이어서, 도 7은 본 발명의 제조방법에 따른 금형에 의한 저광택 방오 마이크로패턴이 형성된 사출성형품(좌측)과 기존의 저광택 마이크로패턴이 형성된 사출성형품(우측)의 표면에 대한 3배 확대 사진이다.Next, Fig. 7 is a three-fold enlarged photograph of the injection molded article (left side) formed with the low-gloss antifouling micropattern by the mold according to the manufacturing method of the present invention and the injection molded article (right side) formed with the existing low gloss micropattern.

부연하면, 상기한 금형 에칭을 위한 전사 잉크는 매우 다양한 종류가 당업계 공지이므로 이에 대한 부연은 생략하기로 하며, 통상적으로 스크린 인쇄용 UV 잉크와 인쇄용 점착제, 기타 첨가제가 혼합된 것이다.In addition, since a variety of types of transfer ink for the above-described mold etching are well known in the art, a further description thereof will be omitted. In general, the UV inks for screen printing, the pressure-sensitive adhesive for printing, and other additives are mixed.

또한 본 발명에 있어서, 저광택 방오 마이크로패턴은 스크린 인쇄를 통하여 PVA(폴리비닐알코올) 필름 또는 셀로판(상품명) 필름 등과 같은 수전사 필름이나, 또는 PE(촐리에틸렌), PP(폴리프로필렌), PET(폴리에틸렌 테레프탈레이트) 등과 같은 투명의 필름 기재(substrate) 상에 인쇄함으로써, 본 발명에 따른 전사 필름을 제조하게 된다.Further, in the present invention, the low-gloss antifouling micro pattern may be a water-transfer film such as a PVA (polyvinyl alcohol) film or a cellophane (trade name) film or a PE (cholorethylene), PP (polypropylene) Polyethylene terephthalate) or the like on a transparent film substrate to produce a transfer film according to the present invention.

본 발명에 적용되는 상기한 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름은 패턴 이미지를 포토샵이나, 일러스트레이터, 코렐드로우, 또는 3D맥스 등과 같은 디자인 프로그램을 이용하여 패턴 이미지의 편집, 수정, 보정 등을 통하여 제공되며, 금형의 에칭에 적합하게 디자인된 소정의 패턴에 대한 데이터를 컴퓨터필름출력기(CTF, Computer To Film)로 출력하여 얻어지며, 전사 잉크 인쇄 영역 각각의 직경 내지 변의 길이는 0.04~1mm, 바람직하게는 0.05~0.09mm 정도이나, 이는 디자인하고자 하는 천연 가죽 패턴의 형상이나 크기, 종류와 같은 다양한 파라메터에 의해 다양하게 변화될 수 있다.The above-described low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching applied to the present invention provides a pattern image through editing, correction and correction of a pattern image using a design program such as Photoshop, Illustrator, Corel Draw, or 3D Max And data of a predetermined pattern designed for etching of the mold is output to a computer film output (CTF). The length of each of the transfer ink printing areas is from 0.04 to 1 mm, Is in the range of 0.05 to 0.09 mm, but it can be variously changed by various parameters such as shape, size, and kind of natural leather pattern to be designed.

본 발명에 있어서 전사 잉크 인쇄 영역 각각의 직경 내지 변의 길이 및 이격 거리가 0.04mm 미만인 경우에는 방오성 및 오염 제거성은 우수해지는 반면 광택도가 상승하게 될 우려가 있어 바람직하지 못하며, 역으로 1mm를 초과하는 경우에는 방오성 및 오염 제거성이 열등하게 됨과 아울러 광택도 저하도 더 이상 기대하기 곤란하며 엠보싱 바탕 패턴의 손상을 가져올 우려가 있으므로 역시 바람직하지 못하다.In the present invention, when the diameter and the side length and the separation distance of each of the transfer ink printing areas are less than 0.04 mm, the antifouling property and the decontamination property are improved but the glossiness is likely to be increased. Conversely, The antifouling property and the decontamination property are inferior, the glossiness is not expected to be lowered further, and the embossed background pattern may be damaged, which is also undesirable.

전술한 바와 같은 소정의 패턴에 대한 데이터를 이용하여 컴퓨터필름출력기로 전술한 바와 같은 기재 필름 상에 인쇄하여 출력한 다음, 출력된 포지티브 필름을 이용하여 본 발명에 적용되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름으로서의 네가티브 전사 필름을 제작하게 되며, 상기한 네가티브 전사 필름은 내산성 전사 잉크를 이용한 실크스크린 인쇄에 의해 제작된다.The data on the predetermined pattern as described above is printed on a base film as described above with a computer film printer and outputted. Then, using the outputted positive film, the low-gloss antifouling micro pattern for etching applied to the present invention A negative transfer film as a film is produced. The above negative transfer film is produced by silk screen printing using an acid-resistant transfer ink.

상기한 실크스크린 인쇄에 있어서는 인쇄판을 구성하는 실크사는 정밀 인쇄에 큰 영향을 미치므로, 100~600#의 실크사가 이용되며, 바람직하게는 200~400#의 실크사를 이용한다.In the above-mentioned silk screen printing, the silk yarn constituting the printing plate has a great influence on the precision printing, and therefore silk yarns of 100-600 # are used, preferably 200-400 # silk yarns.

상기한 네가티브 필름의 기재 역시 전술한 포지티브 필름의 그것과 같은 종류가 사용되며, 그 두께는 약 10~40㎛ 정도이다.
The base of the above negative film is also of the same type as that of the above-mentioned positive film, and its thickness is about 10 to 40 mu m.

이어서, 본 발명에 따른 상기한 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 이용한 금형의 제조 방법은 하기의 단계로 구성된다.Next, a method of manufacturing a mold using the low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching according to the present invention comprises the following steps.

(A) 엠보싱 패턴 형성 단계:(A) embossing pattern forming step:

수지 사출성형용 금형 내표면에 엠보싱 패턴을 에칭하여 형성한다.And is formed by etching an embossing pattern on the inner surface of the mold for resin injection molding.

(B) 저광택 방오 마이크로패턴 전사:(B) low-gloss antifouling micro pattern transfer:

전술한 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 엠보싱 패턴이 형성된 수지 사출성형용 금형 표면에 부착하여 상기한 엠보싱 패턴 상에 마스킹 영역으로서의 전사 잉크 인쇄 영역을 전사하고 기재 필름을 제거한다.The above-mentioned low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching is attached to the surface of the mold for resin injection molding on which the embossing pattern is formed, the transfer ink printing area as the masking area is transferred onto the embossing pattern and the base film is removed.

(C) 저광택 방오 마이크로패턴 에칭 단계:(C) low-gloss antifouling micro-pattern etching step:

마스킹 영역으로서의 상기한 전사 잉크 인쇄 영역을 제외한 부분을 에칭하여 상기한 엠보싱 패턴 상에 저광택 방오 마이크로패턴을 형성한다.A portion of the masking area other than the transfer ink printing area is etched to form a low-gloss antifouling micropattern on the embossing pattern.

한편, 상기한 단계 (B)에서 사용되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름은 100# ~ 600#의 실크사, 바람직하게는 200# ~ 400#의 실크사로 된 실크스크린 인쇄에 의하여 제조된 것일 수 있다.On the other hand, the low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching used in the above step (B) may be one produced by silk screen printing of silks of 100 # to 600 #, preferably of silks of 200 # to 400 # have.

또한 본 발명의 제조방법에 있어서, 상기한 저광택 방오 마이크로패턴에칭 단계(C)에서의 에칭 깊이는 5~30㎛의 범위이다.Further, in the manufacturing method of the present invention, the etching depth in the low-gloss and antifouling micropattern etching step (C) is in the range of 5 to 30 μm.

또한 필요하다면, 상기한 단계 (A) 또는 (C) 단계 후에 샌드블라스팅 처리를 수행할 수도 있음은 물론이다.Needless to say, the sandblasting may be performed after the step (A) or (C).

참고로, 본 발명의 제조방법에 따른 금형으로 성형한 차량 내장재 성형품의 표면 사진은 도 7에 첨부한 바와 같다.For reference, a photograph of the surface of a vehicle interior material molded article formed by a mold according to the manufacturing method of the present invention is as shown in Fig.

전술한 바와 같은 본 발명에 따른 금형의 제조방법에 의하여 제조되는 금형을 이용하여 사출 성형하면, 상기한 금형의 내표면에 미세하게 형성된 저광택 방오 마이크로패턴에 대응하는 저광택 방오 패턴이 사출 성형품의 표면에 그대로 구현된다.When injection molding is carried out using a mold manufactured by the method of manufacturing a mold according to the present invention as described above, a low-gloss antifouling pattern corresponding to the low-gloss antifouling micropattern finely formed on the inner surface of the mold is applied to the surface of the injection- .

따라서 본 발명에 적용되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 이용하는 본 발명에 따른 금형의 제조방법에 의해 제조된 금형에 의해 성형되는 사출품은, 저광택성을 지니면서도 방오성 및 오염 제거성이 우수하여 고급스러우면서도 때가 잘 타지 않고 때가 타더라도 걸레질 등에 의해 용이하게 오염된 때를 제거할 수가 있어, 자동차내장재, 핸드폰, 가전제품, 인테리어 용품 등 높은 감성 품질과 클린성이 요구되는 수지 성형품의 사출 성형에 유용하게 적용 가능하다.Therefore, the injection molded product formed by the mold according to the present invention using the low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching applied to the present invention is excellent in antifouling property and decontamination property, It is possible to remove contamination easily due to mopping and the like even when the time does not burn well and is useful for injection molding of a resin molded product which requires high sensitivity quality and cleanliness such as automobile interior materials, mobile phones, Applicable.

이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하기로 하나, 이는 본 발명을 예증하기 위한 것일 뿐 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples and comparative examples, but the present invention is not limited thereto.

실시예 1:
Example 1:

국내 굴지의 자동차 제작사인 H사의 내장재 플라스틱 부품에 적용되고 있는 가죽 무늬 패턴 HL-320 기본 가죽 패턴을 구현함에 있어서, 도 2에 나타낸 바와 같은 저광택 방오 마이크로패턴을 상기한 기본 가죽 패턴의 엠보싱 바탕 패턴 상에 에칭 가공하고, 이를 이용하여 시편을 사출성형하였다.In embodying the leather pattern pattern HL-320 basic leather pattern which is applied to the plastic material of interior plastic of H company which is a leading automobile maker in Korea, the low-gloss antifouling micro pattern as shown in Fig. 2 is formed on the embossed background pattern image And the specimen was injection-molded by using this.

시편 상에 형성된 저광택 방오 마이크로패턴을 독일 BYK사의 광택측정기로 광택도(GU: Gloss Unit)를 측정하고, Testfabric사의 KCS-80 오염포(grass/mud)를 이용하여 표면 오염률(방오성 정도) 및 오염 잔존율을 측정하였다.Gloss Unit (GU: Gloss Unit) was measured with a gloss meter of BYK, Germany, and the surface contamination rate (degree of stain resistance) was measured using KCS-80 grass / mud of Testfabric Co., The residual rate of contamination was measured.

그 결과를 후기하는 표 1에 나타낸다.
The results are shown in Table 1 below.

실시예 2:
Example 2:

H사의 가죽 무늬 패턴 HL-320 기본 가죽 패턴을 구현함에 있어서, 도 3에 나타낸 바와 같은 저광택 방오 마이크로패턴을 상기한 기본 가죽 패턴의 엠보싱 바탕 패턴 상에 에칭 가공하고, 이를 이용하여 시편을 사출성형하였으며, 실시예 1과 동일하게 광택, 오염률(방오성 정도) 및 오염 잔존율을 측정하였다.In implementing the leather pattern pattern HL-320 basic leather pattern of Company H, a low-gloss antifouling micropattern as shown in FIG. 3 was etched on the embossed background pattern of the basic leather pattern, and the specimen was injection molded , And the gloss, the contamination rate (degree of antifouling property) and the residual percentage of contamination were measured in the same manner as in Example 1.

그 결과를 후기하는 표 1에 나타낸다.
The results are shown in Table 1 below.

비교예 1:
Comparative Example 1:

H사의 가죽 무늬 패턴 HL-320 기본 가죽 패턴을 구현함에 있어서, 도 8에 나타낸 바와 같은 종래의 저광택 마이크로패턴을 상기한 기본 가죽 패턴의 엠보싱 바탕 패턴 상에 에칭 가공하고, 이를 이용하여 시편을 사출성형하였으며, 실시예 1과 동일하게 광택, 오염률(방오성 정도) 및 오염 잔존율을 측정하였다.In implementing the leather pattern pattern HL-320 basic leather pattern of Company H, a conventional low-gloss micropattern as shown in FIG. 8 is etched on the embossed background pattern of the basic leather pattern described above, and the specimen is injection- , And the gloss, the contamination rate (degree of antifouling property) and the residual percentage of contamination were measured in the same manner as in Example 1.

그 결과를 후기하는 표 1에 나타낸다.
The results are shown in Table 1 below.

비교예 2:
Comparative Example 2:

H사의 가죽 무늬 패턴 HL-320 기본 가죽 패턴을 구현함에 있어서, 도 3에 나타낸 바와 같은 저광택 마이크로패턴을 상기한 기본 가죽 패턴의 엠보싱 바탕 패턴 상에 에칭 가공하고, 이를 이용하여 시편을 사출성형하였으며, 실시예 1과 동일하게 광택, 오염률(방오성 정도) 및 오염 잔존율을 측정하였다.In implementing the leather pattern pattern HL-320 basic leather pattern of Company H, a low-gloss micropattern as shown in FIG. 3 was etched on the embossed background pattern of the basic leather pattern, and the specimen was injection- The gloss, the contamination rate (degree of antifouling property) and the residual percentage of contamination were measured in the same manner as in Example 1.

그 결과를 후기하는 표 1에 나타낸다.The results are shown in Table 1 below.

항목Item 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 평가 기준Evaluation standard 오염율(%)Contamination rate (%) 22.522.5 20.320.3 36.636.6 2828 25% 이하25% or less 오염잔존율(%)Residual rate of contamination (%) 11.311.3 10.510.5 17.717.7 15.615.6 15% 이하15% or less 광택도(GU)Glossiness (GU) 1.51.5 1.71.7 1.51.5 1.51.5 1.8±0.21.8 ± 0.2

상기한 결과로부터, 광택도는 실시예 1,2 및 비교예 1,2 모두 H사의 평가 기준 규격을 충족하는 수준이었으나, 오염율 및 오염 잔존율은 실시예 1,2의 경우에는 이를 월등히 충족하는 매우 우수한 반면, 비교예 1은 이에 훨씬 미달하였으며, 비교예 2의 경우에는 상기한 평가 기준 규격을 약간 하회하는 수준인 것으로 판명되었다.From the results described above, it was found that the glossiness of each of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 satisfied the rating standard of Company H, but the contamination rate and residual contamination rate were significantly higher than those of Examples 1 and 2 On the other hand, Comparative Example 1 was far less than that, and Comparative Example 2 was found to be slightly below the above-mentioned evaluation standard.

부연하면, 저광택 방오 마이크로패턴이 적용된 비교예 2의 경우에는 각각의 마스킹 영역의 크기가 너무 커서 상대적으로 오염율 및 오염 잔존율을 만족시키지 못하는 결과를 얻은 반면, 실시예 2의 경우에는 상대적으로 저광택 방오 마이크로패턴이 너무 작아서 대단히 우수한 저오염율 및 오염 잔존율을 나타내기는 하지만 낮은 광택의 구현에 있어 평가 기준 규격 내이기는 하지만 충분히 만족스럽지는 못한 결과를 얻었다.
Further, in the case of Comparative Example 2 in which the low-gloss antifouling micropattern was applied, the size of each masking region was so large that the contamination rate and the residual contamination rate could not be satisfied relatively. On the other hand, in Example 2, Although the anti-fouling micropattern is too small to exhibit a very good low contamination rate and residual contamination rate, it is not satisfactory even though it is within the standard of evaluation in the implementation of low gloss.

이상, 본 발명에 관하여 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며 당업자라면 본 발명의 영역으로부터 일탈하는 일 없이도 다양한 변경 및 수정이 가능함은 물론이나, 이 또한 본 발명의 영역 내이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims.

Claims (10)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 하기의 단계로 구성되는 에칭용 저광택 방오(防汚: anti-fouling) 마이크로패턴 전사 필름을 이용한 금형의 제조 방법:
(A) 수지 사출성형용 금형강 내표면에 엠보싱 패턴을 에칭하는 단계;
(B) PVA, 셀로판, PE, PP 및, PET로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종의 투명 수지 필름으로 된 기재(substrae) 필름의 저면에 각각 0.05~0.09mm의 직경을 가지는 원형으로 된 다수의 전사 잉크 인쇄 영역이 상호 0.05~0.09mm의 간격으로 이격하여 위치하며 상기한 전사 잉크 인쇄 영역을 제외한 에칭 영역이 전체적으로 상호 연결 형성되어 있는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 엠보싱 패턴이 형성된 수지 사출성형용 금형강 표면에 부착하여 상기한 엠보싱 패턴 상에 마스킹 영역으로서의 전사 잉크 인쇄 영역을 전사하고 상기한 기재(substrate) 필름을 제거하는 단계; 및
(C) 상기한 전사 잉크 인쇄 영역을 제외한 부분을 에칭하여 상기한 엠보싱 패턴 상에 저광택 방오 마이크로패턴을 형성하는 단계.
A method for manufacturing a mold using an anti-fouling micro pattern transfer film for etching comprising the steps of:
(A) etching an embossed pattern on the inner surface of the mold steel for resin injection molding;
(B) a plurality of circular protrusions each having a diameter of 0.05 to 0.09 mm on the bottom surface of a substrate made of one kind of transparent resin film selected from the group consisting of PVA, cellophane, PE, PP and PET; The low-gloss antifouling micro-pattern transfer film was embossed into a low-gloss antifouling micro-pattern transfer film in which the ink print areas were spaced apart from each other by an interval of 0.05 to 0.09 mm and the etching areas except for the transfer ink printing area were interconnected as a whole. Transferring the transfer ink printing area as a masking area onto the embossing pattern by attaching to the surface of the mold steel for injection molding with the pattern formed, and removing the substrate film; And
(C) forming a low-gloss antifouling micropattern on the embossed pattern by etching a portion except for the transfer ink printing area.
제6항에 있어서, 상기한 단계 (B)에서의 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름이 100# ~ 600#의 실크사로 된 실크스크린 인쇄에 의하여 제조되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 이용한 금형의 제조 방법.7. The method according to claim 6, wherein the low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching in the step (B) is a mold using a low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching produced by silk screen printing of 100 # to 600 # ≪ / RTI > 제6항에 있어서, 상기한 에칭 단계(C)에서의 에칭 깊이가 5~30㎛인 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 이용한 금형의 제조 방법.The method of manufacturing a mold according to claim 6, wherein the etching depth in the etching step (C) is 5 to 30 占 퐉. 제6항에 있어서, 상기한 단계 (A) 또는 (C) 단계 후에 샌드블라스팅 처리가 수행되는 에칭용 저광택 방오 마이크로패턴 전사 필름을 이용한 금형의 제조방법.



The method of manufacturing a mold according to claim 6, wherein the sandblasting treatment is performed after the step (A) or (C) is performed using the low-gloss antifouling micro-pattern transfer film for etching.



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