KR101589748B1 - Organic Light Emitting Diode Display Device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판, 상기 기판 상에 서로 마주보게 위치하는 제 1 전극 및 제 2 전극 및 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 위치하며, 적어도 정공수송층 및 발광층을 포함하는 유기막층을 포함하며, 상기 제 1 전극과 상기 정공수송층 사이에 전자끌게물질과 정공저지물질을 포함하는 버퍼층을 더 포함하는 유기전계발광표시장치에 관한 것이다.The organic electroluminescent device includes a substrate, a first electrode and a second electrode opposing each other on the substrate, and an organic layer disposed between the first electrode and the second electrode, the organic layer including at least a hole transport layer and a light emitting layer, And a buffer layer including an electron attracting material and a hole blocking material between the first electrode and the hole transporting layer.

유기전계발광표시장치 Organic electroluminescent display device

Description

유기전계발광표시장치{Organic Light Emitting Diode Display Device}[0001] The present invention relates to an organic light emitting diode display device,

본 발명은 유기전계발광표시장치에 관한 것으로, 보다 자세하게는 전자끌게물질과 정공저지물질이 혼합된 버퍼층을 구비하여 구동전압을 낮추고 수명을 향상시킬 수 있는 유기전계발광표시장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an organic light emitting display, and more particularly, to an organic light emitting display having a buffer layer formed by mixing an electron attracting material and a hole blocking material.

최근, 평판표시장치(FPD: Flat Panel Display)는 멀티미디어의 발달과 함께 그 중요성이 증대되고 있다. 이에 부응하여 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display: LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display: FED), 유기전계발광표시장치(Organic Light Emitting Diode Display Device) 등과 같은 여러 가지의 평면형 디스플레이가 실용화되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, the importance of flat panel displays (FPDs) has been increasing with the development of multimedia. In response to this, a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), an organic light emitting diode display device A variety of planar displays, such as a liquid crystal display, are being put into practical use.

특히, 유기전계발광표시장치는 응답속도가 1ms 이하로서 고속의 응답속도를 가지며, 소비 전력이 낮고 자체 발광이다. 또한, 시야각에 문제가 없어서 장치의 크기에 상관없이 동화상 표시 매체로서 장점이 있다. 또한, 저온 제작이 가능하고, 기존의 반도체 공정 기술을 바탕으로 제조 공정이 간단하므로 차세대 평판 표시 장치로 주목받고 있다.Particularly, the organic light emitting display device has a response speed of 1 ms or less, a high response speed, low power consumption, and self light emission. In addition, there is no problem in the viewing angle, which is advantageous as a moving picture display medium regardless of the size of the apparatus. In addition, it can be manufactured at a low temperature and has been attracting attention as a next generation flat panel display device because of its simple manufacturing process based on existing semiconductor processing technology.

이러한 유기전계발광표시장치는 제 1 전극과 제 2 전극 사이에 정공주입층(Hole Injection Layer, HIL), 정공수송층(Hole Transporting Layer, HTL), 발광층(Emitting Layer, EML), 전자수송층(Electron Transporting Layer, ETL) 및 전자주입층(Electron Injection Layer, EIL)이 개재된 구조로 이루어진다.The organic light emitting display includes a hole injection layer (HIL), a hole transporting layer (HTL), an emission layer (EML), an electron transporting layer Layer, ETL) and an electron injection layer (EIL) are interposed.

그러나, 이러한 구조의 유기전계발광표시장치는 구동전압 및 발광효율은 상승될 수 있으나, 수명 특성이 저하되는 문제점이 있다.However, although the driving voltage and the light emitting efficiency of the organic light emitting display device having such a structure can be increased, there is a problem that the lifetime characteristics are degraded.

따라서, 본 발명은 전자끌게물질과 정공저지물질이 혼합된 버퍼층을 구비하여, 구동전압, 발광효율 및 수명 특성이 우수한 유기전계발광표시장치를 제공한다.Accordingly, the present invention provides an organic electroluminescent display device having a buffer layer formed by mixing an electron attracting material and a hole blocking material, and having excellent driving voltage, light emitting efficiency, and lifetime characteristics.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광표시장치는 기판, 상기 기판 상에 서로 마주보게 위치하는 제 1 전극 및 제 2 전극 및 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 위치하며, 적어도 정공수송층 및 발광층을 포함하는 유기막층을 포함하며, 상기 제 1 전극과 상기 정공수송층 사이에 전자끌게물질과 정공저지물질을 포함하는 버퍼층을 더 포함할 수 있다.In order to achieve the above object, an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a first electrode and a second electrode facing each other on the substrate, And a buffer layer including an electron attracting material and a hole blocking material between the first electrode and the hole transporting layer, the organic layer including at least a hole transporting layer and a light emitting layer.

상기 제 1 전극과 상기 버퍼층 사이에 정공주입층을 더 포함할 수 있다.And a hole injection layer between the first electrode and the buffer layer.

상기 전자끌게물질은 시안화기(-CN), 하이드록시기(-OH) 및 할라이드기(-I, -Br, -F)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 작용기를 포함할 수 있다.The electron attracting material may include at least one functional group selected from the group consisting of a cyanide group (-CN), a hydroxyl group (-OH) and a halide group (-I, -Br, -F).

상기 전자끌게물질은 HAT(CN)6, CuPc, F4-TCNQ, PTCDA, 2,4,7-trinitrofluorenone, 1,4-dicyanobenzene, 9,10-dicyanoanthracene, 1,2,4,5-tetracyanobenzene 및 tetrafluoro-1,4-benzoquinone로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.Wherein the electron withdrawing material is selected from the group consisting of HAT (CN) 6 , CuPc, F 4 -TCNQ, PTCDA, 2,4,7-trinitrofluorenone, 1,4-dicyanobenzene, 9,10-dicyanoanthracene, tetrafluoro-1,4-benzoquinone, and the like.

상기 정공저지물질은 rubrene, NPB, TBP, TAPC, TCTA 및 2-TMATA로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.The hole blocking material may include at least one selected from the group consisting of rubrene, NPB, TBP, TAPC, TCTA and 2-TMATA.

상기 전자끌게물질과 상기 정공저지물질의 혼합 비율은 1:1 내지 10:1일 수 있다.The mixing ratio of the electron attracting material and the hole blocking material may be 1: 1 to 10: 1.

상기 버퍼층의 두께는 1 내지 50nm일 수 있다.The thickness of the buffer layer may be 1 to 50 nm.

상기 정공저지물질의 에너지 준위는 상기 정공수송층의 에너지 준위보다 작을 수 있다.The energy level of the hole blocking material may be smaller than the energy level of the hole transporting layer.

상기 제 1 전극은 투명전극 또는 반사전극일 수 있다.The first electrode may be a transparent electrode or a reflective electrode.

본 발명의 유기전계발광표시장치는 전자끌게물질과 정공저지물질이 혼합된 버퍼층을 구비함으로써, 구동전압, 발광효율 및 수명 특성을 동시에 향상시킬 수 있는 이점이 있다. The organic electroluminescent display device of the present invention has a buffer layer in which an electron attracting material and a hole blocking material are mixed, thereby being capable of simultaneously improving a driving voltage, a luminous efficiency and a lifetime characteristic.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광표시장치를 나타낸 도면이다.1 is a view illustrating an organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광표시장치는 액티브 매트릭스 구조 또는 패시브 매트릭스 구조일 수 있으나, 본 실시 예에서는 액 티브 매트릭스 구조로 이루어진 유기전계발광표시장치를 예로 설명한다.1, an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention may have an active matrix structure or a passive matrix structure. In this embodiment, an organic light emitting display having an active matrix structure will be described as an example .

보다 자세하게는, 유리, 플라스틱 또는 금속으로 이루어진 기판(100) 상에 버퍼층(105)이 위치한다. 버퍼층(105)은 기판(100)에서 유출되는 알칼리 이온 등과 같은 불순물로부터 후속 공정에서 형성되는 박막 트랜지스터(TFT)를 보호하기 위해 형성하는 것으로, 실리콘 산화물(SiO2), 실리콘 질화물(SiNx) 등으로 이루어질 수 있다.More specifically, the buffer layer 105 is placed on a substrate 100 made of glass, plastic or metal. The buffer layer 105 is formed to protect a thin film transistor (TFT) formed in a subsequent process from impurities such as alkali ions or the like flowing out from the substrate 100. The buffer layer 105 is made of silicon oxide (SiO2), silicon nitride (SiNx) .

버퍼층(105) 상에 반도체층(110)이 위치한다. 반도체층(110)은 비정질 실리콘으로 이루어질 수 있으며, 비정질 실리콘을 결정화한 다결정 실리콘으로 이루어질 수 있다. 반도체층(110) 상에 반도체층(110)을 덮는 게이트 절연막(115)이 위치한다. 게이트 절연막(115)은 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 이중층으로 이루어질 수 있다.The semiconductor layer 110 is located on the buffer layer 105. The semiconductor layer 110 may be formed of amorphous silicon and may be formed of polycrystalline silicon that crystallizes amorphous silicon. A gate insulating layer 115 is formed on the semiconductor layer 110 to cover the semiconductor layer 110. The gate insulating film 115 may be a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a double layer thereof.

게이트 절연막(115) 상에 반도체층(110)의 일정 영역과 대응되는 게이트 전극(120)이 위치한다. 게이트 전극(120)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금일 수 있다. 게이트 전극(120) 상에 게이트 전극(120)을 덮는 층간 절연막(125)이 위치한다. 층간 절연막(125)은 게이트 절연막(115)과 동일한 물질로 이루어질 수 있으며 예를 들어, 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 이중층으로 이루어질 수 있다.A gate electrode 120 corresponding to a certain region of the semiconductor layer 110 is located on the gate insulating film 115. The gate electrode 120 may be formed of any one selected from the group consisting of Mo, Al, Cr, Au, Ti, Ni, Alloy. An interlayer insulating film 125 covering the gate electrode 120 is disposed on the gate electrode 120. The interlayer insulating layer 125 may be made of the same material as the gate insulating layer 115, and may be formed of, for example, a silicon oxide layer, a silicon nitride layer, or a double layer thereof.

층간 절연막(125) 상에 소오스 전극(135a) 및 드레인 전극(135b)이 위치한다. 여기서, 소오스 전극(135a) 및 드레인 전극(135b)은 게이트 절연막(115) 및 층 간 절연막(125)을 관통하는 콘택홀(130a, 130b)을 통해 반도체층(110)에 연결될 수 있다. 그리고, 소오스 전극(135a) 및 드레인 전극(135b)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni) 또는 구리(Cu) 등으로 이루어질 수 있다. A source electrode 135a and a drain electrode 135b are located on the interlayer insulating film 125. [ The source electrode 135a and the drain electrode 135b may be connected to the semiconductor layer 110 through the contact holes 130a and 130b penetrating the gate insulating layer 115 and the interlayer insulating layer 125. [ The source electrode 135a and the drain electrode 135b may be formed of a metal such as Mo, Al, Cr, Au, Ti, Ni, Lt; / RTI >

본 발명의 일 실시예에서는 반도체층 상부에 게이트 전극이 위치하는 탑(Top) 게이트형 박막 트랜지스터(TFT)를 개시하였지만, 이와는 달리 게이트 전극이 반도체층 하부에 위치하는 바텀(Bottom) 게이트형 박막 트랜지스터(TFT)일 수도 있다.In an embodiment of the present invention, a top gate type thin film transistor (TFT) in which a gate electrode is disposed on a semiconductor layer is disclosed. Alternatively, a bottom gate type thin film transistor (TFT).

소오스 전극(135a) 및 드레인 전극(135b) 상에 패시베이션막(140)이 위치한다. 패시베이션막(140)은 실리콘산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 다중층으로 이루어질 수 있다. The passivation film 140 is located on the source electrode 135a and the drain electrode 135b. The passivation film 140 may be formed of a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a multilayer thereof.

패시베이션막(140) 상에 양극인 제 1 전극(150)이 위치한다. 제 1 전극(150)은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명도전막으로 이루어질 수 있다. 특히, 전면발광일 경우에는 제 1 전극(150)에 알루미늄(Al), 은(Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca) 또는 이들의 합금으로 이루어진 반사층을 더 포함할 수 있다. A first electrode 150, which is an anode, is located on the passivation film 140. The first electrode 150 may be a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide). Particularly, in the case of the entire light emission, the first electrode 150 may further include a reflective layer made of aluminum (Al), silver (Ag), gold (Au), magnesium (Mg), calcium (Ca) have.

제 1 전극(150) 상에 인접하는 제 1 전극들을 절연시키기 위하여 뱅크층(155)이 위치한다. 뱅크층(155)은 폴리이미드(polyimide), 벤조사이클로부틴계 수지(benzocyclobutene series resin), 아크릴레이트(acrylate) 등의 유기물로 이루어질 수 있다. 뱅크층(155)에는 제 1 전극(150)을 노출시키는 개구부(157)가 위 치할 수 있다.A bank layer 155 is positioned to isolate adjacent first electrodes on the first electrode 150. The bank layer 155 may be formed of an organic material such as polyimide, benzocyclobutene series resin, or acrylate. The bank layer 155 may have an opening 157 for exposing the first electrode 150.

그리고, 뱅크층(155)을 포함하는 기판(100) 상에 적어도 발광층을 포함하는 유기막층(160)이 위치할 수 있다. 그리고, 유기막층(160)은 정공주입층, 정공수송층, 전자수송층 및 전자주입층 중 적어도 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다.An organic film layer 160 including at least a light emitting layer may be disposed on the substrate 100 including the bank layer 155. The organic layer 160 may further include at least one of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

유기막층(160) 상에 음극인 제 2 전극(170)이 위치한다. 제 2 전극(170)은 일함수가 낮은 금속들로 은(Ag), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca) 등을 사용할 수 있으며, 전면발광일 때에는 빛이 투과될 수 있을 정도로 얇은 두께로 이루어질 수 있고, 배면발광일 때에는 빛을 제 1 전극(150) 방향으로 반사시킬 수 있도록 충분한 두께로 이루어질 수 있다.A second electrode 170, which is a cathode, is disposed on the organic layer 160. The second electrode 170 may be formed of a metal having a low work function such as silver (Ag), magnesium (Mg), calcium (Ca), or the like, and may be thin And may have a thickness sufficient to reflect light toward the first electrode 150 when the backlight is emitted.

하기에서는 전술한 유기전계발광표시장치의 유기막층에 대한 본 발명의 실시 예들에 대해서 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention with respect to the organic film layer of the organic light emitting display device described above will be described.

도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광표시장치를 나타낸 도면이다. 2 is a view illustrating an organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광표시장치(200)는 양극(210), 버퍼층(220), 정공수송층(230), 발광층(240), 전자수송층(250), 전자주입층(260) 및 음극(270)이 차례로 적층된 구조로 이루어질 수 있다.2, an organic light emitting display 200 according to an exemplary embodiment of the present invention includes an anode 210, a buffer layer 220, a hole transport layer 230, a light emitting layer 240, an electron transport layer 250, The electron injection layer 260 and the cathode 270 may be sequentially stacked.

보다 자세하게는, 양극(210)은 전술한 바와 같이, 일함수가 높은 ITO와 같은 물질로 이루어질 수 있다. More specifically, the anode 210 may be made of a material such as ITO having a high work function, as described above.

정공수송층(230)은 정공의 수송을 원활하게 하는 역할을 하며, NPD(N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenyl benzidine), TPD(N,N'-bis-(3-methylphenyl)-N,N'-bis- (phenyl)-benzidine), s-TAD 및 MTDATA(4,4',4"-Tris(N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino)-triphenylamine)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The hole transport layer 230 plays a role of facilitating the transport of holes and is formed of a hole transport material such as NPD (N, N-dinaphthyl-N, N'-diphenyl benzidine), TPD (N, , N'-bis- (phenyl) -benzidine), s-TAD and MTDATA (4,4 ', 4 "-tris (N-3-methylphenyl-N-phenylamino) But is not limited thereto.

발광층(240)은 적색, 녹색 및 청색 발광층으로 나뉠수 있다. 발광층(240)이 적색인 경우에는, CBP(carbazole biphenyl) 또는 mCP(1,3-bis(carbazol-9-yl)를 포함하는 호스트 물질을 포함하며, PIQIr(acac)(bis(1-phenylisoquinoline)acetylacetonate iridium), PQIr(acac)(bis(1-phenylquinoline)acetylacetonate iridium), PQIr(tris(1-phenylquinoline)iridium) 및 PtOEP(octaethylporphyrin platinum)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 도펀트를 포함하는 인광물질로 이루어질 수 있고, 이와는 달리 PBD:Eu(DBM)3(Phen) 또는 Perylene을 포함하는 형광물질로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The light emitting layer 240 may be divided into red, green, and blue light emitting layers. When the light emitting layer 240 is red, it includes a host material including CBP (carbazole biphenyl) or mCP (1,3-bis (carbazol-9-yl) a dopant comprising at least one selected from the group consisting of acetylacetonate iridium, PQIr (acac) bis (1-phenylquinoline) acetylacetonate iridium, PQIr (tris (1-phenylquinoline) iridium) and PtOEP (octaethylporphyrin platinum) Phosphorescent material. Alternatively, the fluorescent material may include PBD: Eu (DBM) 3 (Phen) or Perylene. However, the present invention is not limited thereto.

발광층(240)이 녹색인 경우에는, CBP 또는 mCP를 포함하는 호스트 물질을 포함하며, Ir(ppy)3(fac tris(2-phenylpyridine)iridium)을 포함하는 도펀트 물질을 포함하는 인광물질로 이루어질 수 있고, 이와는 달리, Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum)을 포함하는 형광물질로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.When the light emitting layer 240 is green, the light emitting layer 240 may be made of a phosphorescent material containing a dopant material including a host material including CBP or mCP and containing Ir (ppy) 3 (fac tris (2-phenylpyridine) iridium) Alternatively, it may be made of a fluorescent material including Alq3 (tris (8-hydroxyquinolino) aluminum), but is not limited thereto.

발광층(240)이 청색인 경우에는, CBP 또는 mCP를 포함하는 호스트 물질을 포함하며, (4,6-F2ppy)2Irpic을 포함하는 도펀트 물질을 포함하는 인광물질로 이루어 질 수 있고, 이와는 달리, spiro-DPVBi, spiro-6P, 디스틸벤젠(DSB), 디스트릴아릴렌(DSA), PFO계 고분자 및 PPV계 고분자로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함하는 형광물질로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.When the light emitting layer 240 is blue, it may be made of a phosphorescent material including a host material including CBP or mCP and including a dopant material including (4,6-F 2 ppy) 2 Irpic, Alternatively, the fluorescent material may include any one selected from the group consisting of spiro-DPVBi, spiro-6P, distyrylbenzene (DSB), distyrylarylene (DSA), PFO polymer and PPV polymer. It does not.

전자수송층(250)은 전자의 수송을 원활하게 하는 역할을 하며, Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq 및 SAlq로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다. The electron transport layer 250 serves to smooth the transport of electrons and may be made of any one or more selected from the group consisting of Alq3 (tris (8-hydroxyquinolino) aluminum), PBD, TAZ, spiro-PBD, BAlq, But are not limited thereto.

전자주입층(260)은 전자의 주입을 원활하게 하는 역할을 하며, LiF, Li, Ba 및 BaF2로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 사용할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The electron injection layer 260 serves to smoothly inject electrons, and may be any one selected from the group consisting of LiF, Li, Ba, and BaF 2 , but is not limited thereto.

음극(270)은 일함수가 낮은 금속들로 은(Ag), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca) 등으로 이루어질 수 있다.The cathode 270 may be made of a metal having a low work function, such as silver (Ag), magnesium (Mg), calcium (Ca), or the like.

본 발명의 일 실시 예에서는, 제 1 전극인 양극(210)과 정공수송층(230) 사이에 버퍼층(220)을 더 포함할 수 있다. 버퍼층(220)은 양극(210)이 발광층(240)에 공급하는 정공의 이동 속도를 조절하는 역할을 할 수 있다. In an embodiment of the present invention, a buffer layer 220 may be further provided between the anode 210, which is the first electrode, and the hole transport layer 230. The buffer layer 220 may control the movement speed of the holes supplied to the light emitting layer 240 by the anode 210.

일반적으로, 정공의 이동속도와 전자의 이동속도의 차이로 인해, 전하 이동 밸런스가 저하되고, 이에 따라 유기전계발광표시장치의 구동전압 및 수명 특성이 저하되는 현상이 발생된다. 본 발명의 일 실시 예에서는 이를 보상하기 위해 버퍼층(220)을 더 포함할 수 있다.In general, the charge transfer balance is lowered due to the difference between the movement speed of holes and the movement speed of electrons, and thus the driving voltage and lifetime characteristics of the organic electroluminescence display device are deteriorated. In an embodiment of the present invention, a buffer layer 220 may be further included to compensate for this.

버퍼층(220)은 전자끌게물질과 정공저지물질을 포함할 수 있다. 전자끌게물 질은 시안화기(-CN), 하이드록시기(-OH) 및 할라이드기(-I, -Br, -F)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 물질들로 HAT(CN)6, CuPc, F4-TCNQ, PTCDA, 2,4,7-trinitrofluorenone, 1,4-dicyanobenzene, 9,10-dicyanoanthracene, 1,2,4,5-tetracyanobenzene 및 tetrafluoro-1,4-benzoquinone로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상일 수 있다.The buffer layer 220 may include an electron attracting material and a hole blocking material. The electron attracting material is a material containing at least one selected from the group consisting of a cyanide group (-CN), a hydroxyl group (-OH) and a halide group (-I, -Br, -F) 6 , CuPc, F 4 -TCNQ, PTCDA, 2,4,7-trinitrofluorenone, 1,4-dicyanobenzene, 9,10-dicyanoanthracene, 1,2,4,5-tetracyanobenzene and tetrafluoro-1,4-benzoquinone May be any one or more selected from the group.

정공저지물질은 rubrene, NPB, TBP, TAPC, TCTA 및 2-TMATA로 이루어진 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 rubrene일 수 있다. The hole blocking material may include at least one selected from the group consisting of rubrene, NPB, TBP, TAPC, TCTA and 2-TMATA, preferably rubrene.

전자끌게물질과 정공저지물질은 1:1 내지 10:1의 혼합비율로 이루어질 수 있다. 여기서, 정공저지물질의 비율이 전자끌게물질보다 작으면, 양극에서 주입되는 정공의 이동속도가 저하되어 구동전압이 증가되고 발광효율이 떨어지는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다. 또한, 전자끌게물질이 정공저지물질에 대해 10:1의 비율 이하이면, 정공저지물질의 비율이 작아져 그만큼 정공의 이동속도가 늘어나게 되어 수명이 저하되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다.The electron attracting material and the hole blocking material may be mixed at a mixing ratio of 1: 1 to 10: 1. Here, if the ratio of the hole blocking material is smaller than that of the electron attracting material, there is an advantage that the moving speed of holes injected from the anode is decreased, driving voltage is increased, and luminous efficiency is prevented from being lowered. In addition, if the ratio of the electron attracting material to the hole blocking material is less than 10: 1, the hole blocking material ratio becomes small, and the hole moving speed is increased accordingly, so that the lifetime can be prevented from being lowered.

보다 자세하게, 도 3의 에너지 밴드구조를 참조하여 구동원리를 설명하면, 양극(ITO)로부터 주입되는 정공은 발광층(EML)을 향해 이동하고, 음극(Al)으로부터 주입되는 전자도 발광층(EML)을 향해 이동하면, 발광층(EML)에서 정공과 전자가 엑시톤을 형성하여 발광하게 된다. 3, electrons injected from the anode (ITO) move toward the light-emitting layer (EML), and electrons injected from the cathode (Al) also travel through the light-emitting layer (EML) The hole and the electron form an exciton in the light emitting layer (EML) to emit light.

여기서, 전자끌게물질은 에너지 준위가 매우 높아 정공주입을 원할하게 하는 역할을 하기 때문에 구동전압 및 발광효율을 향상시키지만 반면 그 수명이 저하되게 된다. 따라서, 버퍼층에 정공저지물질을 혼합하여 형성할 수 있다. 즉, 버퍼층의 정공저지물질의 에너지 준위는 정공수송층(HTL)의 에너지 준위보다 낮기 때문에, 양극(ITO)에서 주입된 정공이 버퍼층이라는 에너지 준위 차이 즉, 장벽으로 인해 이동속도가 저하되게 된다. 따라서, 유기막층의 수명 특성을 향상시킬 수 있다.Here, the electron attracting material has a very high energy level, and thus plays a role of facilitating hole injection, thereby improving the driving voltage and the luminous efficiency, but the lifetime of the electron attracting material is lowered. Therefore, the hole blocking material can be mixed with the buffer layer. That is, since the energy level of the hole blocking material in the buffer layer is lower than the energy level of the hole transporting layer (HTL), the holes injected from the anode (ITO) are lowered in energy level due to the difference in energy level. Therefore, the lifetime characteristics of the organic film layer can be improved.

그러므로, 본 발명의 일 실시 예에서는 전자끌게물질과 정공저지물질이 혼합된 버퍼층을 구비함으로써, 전자끌게물질로 인해 구동전압 및 발광효율을 향상시키면서 정공저지물질로 인해 수명특성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 효과를 나타낼 수 있다.Therefore, in an embodiment of the present invention, by providing the buffer layer in which the electron attracting material and the hole blocking material are mixed, it is possible to improve the driving voltage and the light emitting efficiency due to the electron attracting material and to prevent the lifetime characteristic from being deteriorated due to the hole blocking material The effect can be shown.

도 4는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 유기전계발광표시장치를 나타낸 도면이다.4 is a view illustrating an organic light emitting display according to another embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 유기전계발광표시장치(300)는 양극(310), 정공주입층(320), 버퍼층(330), 정공수송층(340), 발광층(350), 전자수송층(360), 전자주입층(370) 및 음극(380)이 차례로 적층된 구조일 수 있다.4, the OLED display 300 includes an anode 310, a hole injection layer 320, a buffer layer 330, a hole transport layer 340, a light emitting layer 350, , An electron transport layer 360, an electron injection layer 370, and a cathode 380 are stacked in this order.

본 실시 예에서는 전술한 실시 예와 동일한 구성에 대해 설명을 생략하기로 한다. In the present embodiment, description of the same configuration as that of the above embodiment will be omitted.

전술한 실시 예와는 달리, 본 실시 예에서는 양극(310)과 버퍼층(330) 사이에 정공주입층(320)을 더 포함할 수 있다. Unlike the above-described embodiment, in this embodiment, a hole injection layer 320 may further be interposed between the anode 310 and the buffer layer 330.

정공주입층(320)은 전술하였듯이, 양극(310)으로부터 정공의 주입을 원할하 게 돕는 역할을 하는 것으로, 본 실시 예에서는 정공주입층(320)을 더 포함하여, 양극(310)에서 버퍼층(330)으로의 에너지 준위 장벽을 낮춰 유기전계발광표시장치의 구동전압 및 발광효율을 더욱 상승시킬 수 있는 이점이 있다.The hole injection layer 320 serves to facilitate the injection of holes from the anode 310. In this embodiment, the hole injection layer 320 further includes a hole injection layer 320, 330 can be lowered and the driving voltage and the luminous efficiency of the organic light emitting display device can be further increased.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 개시한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, a preferred embodiment will be described to facilitate understanding of the present invention. However, the following examples are illustrative of the present invention, but the present invention is not limited to the following examples.

<비교예><Comparative Example>

유리기판 상에 제 1 전극으로 ITO를 320Å의 두께로 적층하고, 정공주입층으로 CuPc를 50Å의 두께로 적층하고, 정공수송층으로 NPD를 700Å의 두께로 적층하고, 청색 발광층으로 호스트 CBP에 도펀트 spiro-DPVBi를 혼합하여 300Å의 두께로 적층하고, 전자수송층으로 Alq3를 200Å의 두께로 형성하였고, 전자주입층으로 LiF를 10Å의 두께로 형성하였고, 제 2 전극으로 Al을 1000Å의 두께로 형성하여 소자를 제작하였다.ITO was deposited as a first electrode on the glass substrate to a thickness of 320 Å, CuPc was deposited as a hole injection layer to a thickness of 50 Å, NPD was deposited to a thickness of 700 Å to form a hole transport layer, dopant spiro by mixing -DPVBi deposited to a thickness of 300Å, and the Alq 3 was formed as the electron transport layer to a thickness of 200Å, a LiF was formed as an electron injection layer to a thickness of 10Å, first by forming an Al electrode as a second to a thickness of 1000Å The device was fabricated.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

전술한 비교예와 동일한 조건 하에, 정공주입층 대신에 HAT(CN)6과 rubrene을 4:1의 비율로 공증착하여 버퍼층을 형성한 것만을 달리하여 소자를 제작하였다. Except that the HAT (CN) 6 and rubrene were co-deposited in a ratio of 4: 1 instead of the hole injection layer under the same conditions as the above-described comparative example to form a buffer layer.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

전술한 비교예와 동일한 조건 하에, 정공주입층 대신에 HAT(CN)6과 rubrene을 3.3:1의 비율로 공증착하여 버퍼층을 형성한 것만을 달리하여 소자를 제작하였다. Except that the buffer layer was formed by co-deposition of HAT (CN) 6 and rubrene at a ratio of 3.3: 1 instead of the hole injection layer under the same conditions as the above-described comparative example.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

전술한 비교예와 동일한 조건 하에, 정공주입층과 정공수송층 사이에 HAT(CN)6과 rubrene을 10:1의 비율로 공증착하여 버퍼층을 형성한 것만을 달리하여 소자를 제작하였다. Under the same conditions as the above-described comparative example, a device was fabricated except that a buffer layer was formed by co-depositing HAT (CN) 6 and rubrene at a ratio of 10: 1 between the hole injection layer and the hole transport layer.

전술한 비교예, 실시예 1 내지 실시예 3에 따라 제작된 소자의 구동전압, 휘도, 효율, 색좌표, 외부광자효율 및 수명을 측정하여 하기 표 1에 나타내었고, 비교예와 실시예 1-3에 따라 제작된 소자의 수명 그래프를 도 5에 나타내었다. The driving voltage, luminance, efficiency, chromaticity coordinates, external photon efficiency and lifetime of the devices manufactured according to the above-described Comparative Examples and Examples 1 to 3 were measured and shown in the following Table 1, FIG. 5 shows a lifetime graph of a device manufactured according to the present invention.


구동전압
(V)
Driving voltage
(V)
휘도
(cd/A)
Luminance
(cd / A)
효율
(lm/W)
efficiency
(lm / W)
색좌표Color coordinates 외부광자효율
(EQE %)
External photon efficiency
(EQE%)
수명(hr) (휘도 50%에 도달하는데까지 걸리는 시간)Life (hr) (time to reach 50% luminance)
CIE_xCIE_x CIE_yCIE_y 비교예Comparative Example 3.53.5 4.34.3 3.93.9 0.1490.149 0.0610.061 7.87.8 9090 실시예1Example 1 3.53.5 4.64.6 4.24.2 0.1490.149 0.0610.061 8.38.3 120120 실시예2Example 2 3.53.5 4.74.7 4.34.3 0.1490.149 0.0600.060 8.58.5 200200 실시예3Example 3 3.53.5 4.74.7 4.34.3 0.1490.149 0.0630.063 8.78.7 230230

상기 표 1 및 도 5를 참조하면, 실시예 1 내지 3에 따라 제작된 소자는 비교예와 거의 동등한 구동전압과 색좌표를 나타내면서, 휘도, 효율 및 수명 특성이 보다 향상된 것을 알 수 있다. Referring to Table 1 and FIG. 5, it can be seen that the device fabricated according to Examples 1 to 3 exhibits substantially the same driving voltage and color coordinates as the comparative example, and further improved luminance, efficiency, and lifetime characteristics.

상기와 같이, 본 발명의 실시 예들에 따른 유기전계발광표시장치는 전자끌게물질과 정공저지물질이 혼합된 버퍼층을 구비함으로써, 구동전압, 발광효율 및 수명 특성을 동시에 향상시킬 수 있는 이점이 있다. As described above, the organic light emitting display device according to embodiments of the present invention has a buffer layer in which an electron attracting material and a hole blocking material are mixed, thereby improving the driving voltage, the light emitting efficiency, and the lifetime characteristics at the same time.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood that the invention may be practiced. It is therefore to be understood that the embodiments described above are to be considered in all respects only as illustrative and not restrictive. In addition, the scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the detailed description. Also, all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광표시장치를 나타낸 도면.1 and 2 show an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 유기전계발광표시장치의 에너지 밴드 구조를 나타낸 도면.3 is a diagram illustrating an energy band structure of an organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 유기전계발광표시장치는 나타낸 도면.4 is a view illustrating an organic light emitting display according to another embodiment of the present invention.

도 5는 비교예와 실시예 1 내지 3에 따라 제작된 소자의 수명을 나타낸 그래프.5 is a graph showing the lifetime of the device fabricated according to Comparative Example and Examples 1 to 3;

Claims (9)

기판;Board; 상기 기판 상에 서로 마주보게 위치하는 제 1 전극 및 제 2 전극; 및A first electrode and a second electrode facing each other on the substrate; And 상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 위치하며, 적어도 정공수송층 및 발광층을 포함하는 유기막층을 포함하고,And an organic layer disposed between the first electrode and the second electrode and including at least a hole transporting layer and a light emitting layer, 상기 제 1 전극과 상기 정공수송층 사이에 전자끌게물질과 정공저지물질을 포함하는 버퍼층을 더 포함하며,A buffer layer including an electron attracting material and a hole blocking material between the first electrode and the hole transporting layer, 상기 전자끌게물질은 Copper Phthalocyanine(CuPc), 2,3,5,6-Tetrafluoro-7,7,8,8-tetracyanop-quinodimethane(F4-TCNQ), 3,4,9,10 perylenetetracarboxylic dianhydride(PTCDA), 2,4,7-trinitrofluorenone, 1,4-dicyanobenzene, 9,10-dicyanoanthracene, 1,2,4,5-tetracyanobenzene 및 tetrafluoro-1,4-benzoquinone로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상이고, The electron withdrawing material may be selected from the group consisting of Copper Phthalocyanine (CuPc), 2,3,5,6-Tetrafluoro-7,7,8,8-tetracyanop-quinodimethane (F 4 -TCNQ), 3,4,9,10 perylenetetracarboxylic dianhydride ), 2,4,7-trinitrofluorenone, 1,4-dicyanobenzene, 9,10-dicyanoanthracene, 1,2,4,5-tetracyanobenzene and tetrafluoro-1,4-benzoquinone, 상기 정공저지물질은 N, N’-bis(1-naphthyl)-N, N’-diphenyl-1,1’-biphenyl-4,4’-diamine(NPB), Tributylphosphate(TBP), 1,1-bis(di-4-tolylaminophenyl)cyclohexane(TATC), 4,4',4"-tris(N-carbazolyl)-triphenylamine(TCTA) 및 4,4′,4"-Tris[2-naphthyl(phenyl)amino](2-TNATA)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상이며,The hole blocking material may be selected from the group consisting of N, N'-bis (1-naphthyl) -N, N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'- diamine (NPB), tributylphosphate bis (di-4-tolylaminophenyl) cyclohexane (TATC), 4,4 ', 4 "-tris (N-carbazolyl) -triphenylamine (TCTA) and 4,4' ] (2-TNATA), &lt; / RTI &gt; 상기 전자끌게물질과 상기 정공저지물질의 혼합 비율은 1:1 내지 10:1인 유기전계발광표시장치.Wherein the mixing ratio of the electron attracting material and the hole blocking material is 1: 1 to 10: 1. 제 1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 전극과 상기 버퍼층 사이에 정공주입층을 더 포함하는 유기전계발광표시장치.And a hole injection layer between the first electrode and the buffer layer. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 버퍼층의 두께는 1 내지 50nm인 유기전계발광표시장치.Wherein the buffer layer has a thickness of 1 to 50 nm. 제 1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 정공저지물질의 에너지 준위는 상기 정공수송층의 에너지 준위보다 작은 유기전계발광표시장치.And the energy level of the hole blocking material is smaller than the energy level of the hole transporting layer. 제 1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 전극은 투명전극 또는 반사전극인 유기전계발광표시장치.Wherein the first electrode is a transparent electrode or a reflective electrode.
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