KR101558872B1 - heating glass window having thermal conductive pattern and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 열전도성 금속패턴을 포함하는 발열 창에 관한 것으로, 본 발명의 발열 창에 따르면, 투명 기재의 표면에 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학기상증착법을 이용하여 형성된 금속 산화막과 미세-리소그래피 공정으로 상기 금속 산화막의 표면에 형성된 열전도성 패턴을 포함하여, 전기 전도도가 높고, 저항이 낮아 저전압에서도 우수한 발열성능을 나타낸다. 이로 인해, 실내외 온도 차이에 의해 발생하는 서리 및 결로 현상을 방지하고, 냉·온방시 에너지를 절감하는 효과가 있다. 또한, 가시광선 투과율이 높아 가시도가 우수하여 건물의 창 또는 차량의 유리 등에 광범위하게 적용될 수 있다.The present invention relates to a heat generating window including a thermally conductive metal pattern. According to the heat generating window of the present invention, a metal oxide film formed by using an electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition method and a micro-lithography process And a thermally conductive pattern formed on the surface of the metal oxide film, and has high electrical conductivity and low resistance, thus exhibiting excellent heat generation performance even at a low voltage. Therefore, it is possible to prevent the frost and condensation phenomenon caused by the temperature difference between the indoor and the outdoor, and to reduce the energy in the cooling and heating. In addition, it has high visible light transmittance and excellent visibility and can be widely applied to a window of a building or a glass of a vehicle.

Description

열전도성 패턴을 포함하는 발열 창 및 이의 제조방법{heating glass window having thermal conductive pattern and manufacturing method thereof}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a heating window including a thermal conductive pattern and a manufacturing method thereof,

본 발명은 열전도성 금속패턴을 포함하는 발열 창에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 상호 적층 접합되는 제 1, 제 2 투명 기재, 그리고 상기 투명 기재 사이에 배열되는 금속 산화막, 열전도성 패턴, 발열단자 등을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 투명한 발열 창 및 이의 제조방법에 관한 것이다.[0001] The present invention relates to a heat generating window including a thermally conductive metal pattern, and more particularly, to a heat generating window including a first and a second transparent substrate laminated to each other and a metal oxide film arranged between the transparent substrates, And a method of manufacturing the same.

겨울철 또는 장마철과 같이 외부와 내부의 기온 차이가 생길 경우, 창에 습기 또는 성에가 발생한다. 이를 해결하기 위하여 자동차의 전면 유리의 테두리에 열선을 설치하는 발열 장치(특허 문헌 1), 또는 유리에 열선 시트를 부착하거나 직접 열선을 형성하여 열을 발생시켜서 유리의 표면 온도를 높이는 발열 유리가 개발되었다. 그러나 아파트의 베란다유리 및 건물의 유리창과 같은 대면적을 요구하는 장소에 적용하기가 어렵고, 전원을 받아 열을 발생시키는데 소모되는 시간 및 연료의 손실이 크며, 시인성이 좋지 않다는 문제가 있다.If there is a difference in temperature between the outside and inside, such as during the winter season or during the rainy season, the window will become wet or hot. In order to solve this problem, a heating device (Patent Document 1) in which a heating wire is installed on the rim of the front glass of an automobile or a heating glass which increases the surface temperature of glass by generating heat by attaching a heating wire sheet to the glass or directly heating the glass . However, it is difficult to apply it to a place requiring a large area such as a veranda glass of an apartment and a glass window of a building, and there is a problem in that the time consumed to generate heat and the loss of fuel are large, and visibility is poor.

이러한 발열 유리는 자동차용 또는 건축용 유리에 열을 원활히 발생시키기 위하여 낮은 저항을 갖는 것도 중요하지만, 사람 눈에 거슬리지 않아야 한다. 이 때문에 기존의 투명 발열 유리는 인듐 주석 산화물(ITO)같은 산화물 박막 재료를 스퍼터링 방법이나 화학기상증착방법을 통하여 발열층을 제조하는 방법들이 제안 되었으나 높은 시트 저항으로 인하여 40 V 이하의 저전압에서 구동되기 힘들다는 문제가 있다.It is also important that such a heat-resistant glass has low resistance in order to smoothly generate heat in automotive or architectural glass, but it should not be disturbing to the human eye. For this reason, conventional transparent heat generating glasses have been proposed to produce a heating layer by a sputtering method or a chemical vapor deposition method on an oxide thin film material such as indium tin oxide (ITO), but are driven at a low voltage of 40 V or less due to high sheet resistance There is a problem that it is hard.

상기 문제를 해결하기 위한 발열유리가 개발되었으나, 발열 속도가 낮고 내부 가시광선을 보호하지 못해 일교차에 대한 제어가 어렵다는 문제가 있다. (특허 문헌 2)Although a heat-generating glass for solving the above problem has been developed, there is a problem that it is difficult to control the day-to-day variation because the heat generation rate is low and the inside visible light can not be protected. (Patent Document 2)

(특허 문헌 1) 특허 문헌 1. 한국공개실용신안 제 2000-0003151호(Patent Document 1) Patent Document 1. Korean Utility Model Publication No. 2000-0003151 (특허 문헌 2) 특허 문헌 2. 한국공개특허 제 10-2011-0083513호(Patent Document 2) Patent Document 2: Korean Patent Publication No. 10-2011-0083513

본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학기상증착법을 이용하여 금속 산화막을 증착하고, 상기 금속 산화막 표면에 열전도성 패턴을 형성함으로써, 저전압에서 발열 성능이 우수하고, 가시광선 투과율이 높은 투명한 발열 창 및 이를 제조하는 방법을 제공하고자 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a metal oxide film by depositing a metal oxide film using an electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition Which is excellent in heat generation performance and has a high visible light transmittance, and a method for manufacturing the same.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 제 1 투명 기재; 상기 제 1 투명 기재 상에 형성된 열전도성 패턴; 상기 열전도성 패턴의 표면에 형성된 금속 산화막; 상기 금속 산화막에 전원을 공급하기 위해 금속 산화막의 일부분에 형성된 발열단자; 및 상기 발열단자 위에 압착된 제 2 투명 기재;를 포함하는 발열 창을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display comprising: a first transparent substrate; A thermally conductive pattern formed on the first transparent substrate; A metal oxide film formed on the surface of the thermally conductive pattern; A heating terminal formed on a part of the metal oxide film to supply power to the metal oxide film; And a second transparent substrate pressed onto the heating terminal.

상기 제 1, 제 2 투명 기재는 유리 또는 플라스틱 기판인 것을 특징으로 한다.And the first and second transparent substrates are glass or plastic substrates.

상기 금속 산화막은 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학기상증착법으로 증착되며, 상기 금속 산화막은 불소가 도핑된 산화주석(FTO), 산화인듐주석(ITO) 및 알류미늄이 도핑된 산화아연(AZO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 한다.The metal oxide film is deposited by an electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition method. The metal oxide film is formed of fluorine-doped tin oxide (FTO), indium tin oxide (ITO), and aluminum-doped zinc oxide And the like.

상기 열전도성 패턴은 미세-리소그래프 공정을 통해 제조되는 것을 특징으로 하며, 상기 열전도성 패턴은 구리, 은, 니켈, 크롬 및 니켈크롬합금으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 한다. Wherein the thermally conductive pattern is fabricated through a micro-lithographic process, wherein the thermally conductive pattern is characterized by any one selected from the group consisting of copper, silver, nickel, chromium and nickel chromium alloys.

상기 발열단자는 바 또는 테이프 형태이고, 구리를 포함하는 것을 특징으로 한다.The heat generating terminal is in the form of a bar or tape, and is characterized by including copper.

상기 금속 산화막의 두께는 100 ~ 300 nm인 것을 특징으로 한다.The thickness of the metal oxide layer is 100 to 300 nm.

상기 열전도성 패턴은 선폭이 15 ~ 50 μm인 것을 특징으로 한다.Wherein the thermally conductive pattern has a line width of 15 to 50 mu m.

상기 발열 창은 5 ~ 30 V의 전압에서 발열량이 10 ~ 35 W/m2 이고, 가시광선 투과율은 85 ~ 95% 이상이며, 시트 저항 값은 10 ~ 50 Ω/cm 인 것을 특징으로 한다.The heat generating window has a calorific value of 10 to 35 W / m 2 at a voltage of 5 to 30 V, a visible light transmittance of 85 to 95% or more, and a sheet resistance value of 10 to 50 Ω / cm.

또한, 본 발명은 ⅰ) 제 1 투명 기재 상에 미세-리소그래피를 이용하여 열전도성 패턴을 형성하는 단계; ⅱ) 상기 열전도성 패턴 상에 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학 기상 증착을 이용하여 금속 산화막을 증착하는 단계; ⅲ) 상기 금속 산화막과 전기적으로 연결된 발열단자를 형성하는 단계; 및 ⅳ) 상기 발열단자 상에 제 2 투명 기재를 부착하고 압착하는 단계;를 포함하는 발열 창의 제조방법을 제공한다.The present invention also relates to a method of forming a thermally conductive pattern comprising: i) forming a thermally conductive pattern using fine-lithography on a first transparent substrate; Ii) depositing a metal oxide film on the thermally conductive pattern using electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition; Iii) forming a heating terminal electrically connected to the metal oxide film; And iv) attaching and pressing a second transparent substrate on the heat generating terminal.

상기 투명 기재는 유리 또는 플라스틱 기판인 것을 특징으로 하며, 상기 열전도성 패턴은 구리, 은, 니켈, 크롬 및 니켈크롬합금로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 한다.Wherein the transparent substrate is a glass or plastic substrate, and the thermally conductive pattern is any one selected from the group consisting of copper, silver, nickel, chromium and nickel chromium alloys.

상기 금속 산화막은 불소가 도핑된 주석산화막(FTO), 산화 인듐 주석막(ITO) 및 알류미늄이 도핑된 산화 아연막(AZO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 한다.The metal oxide film is any one selected from the group consisting of a fluorine-doped tin oxide film (FTO), an indium tin oxide film (ITO), and an aluminum-doped zinc oxide film (AZO).

상기 발열단자는 바(bar) 또는 테이프 형태인 것을 특징으로 하고, 상기 발열단자는 구리를 포함하는 것을 특징으로 한다.The heating terminal may be in the form of a bar or a tape, and the heating terminal may include copper.

본 발명의 발열 창에 따르면, 투명 기재의 표면에 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학기상증착법을 이용하여 형성된 금속 산화막과 미세-리소그래피 공정으로 열전도성 패턴의 표면에 형성된 금속 산화막을 포함하는 투명한 발열 창으로써, 전기 전도도가 높고, 저항이 낮아 저전압에서도 우수한 발열성능을 나타낸다. 이로 인해, 실내외 온도 차이에 의해 발생하는 서리 및 결로 현상을 방지하고, 냉·온방시 에너지를 절감하는 효과가 있다. 또한, 가시광선 투과율이 높아 가시도가 우수하여 건물의 유리창 또는 차량의 유리 등에 광범위하게 적용될 수 있다.According to the heat generating window of the present invention, as a transparent heat window including a metal oxide film formed on the surface of a transparent substrate by using electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition and a metal oxide film formed on the surface of the thermal conductive pattern by a micro-lithography process , Exhibits excellent heat conductivity even at a low voltage due to its high electrical conductivity and low resistance. Therefore, it is possible to prevent the frost and condensation phenomenon caused by the temperature difference between the indoor and the outdoor, and to reduce the energy in the cooling and heating. In addition, since the visible light transmittance is high, it is excellent in visibility and can be widely applied to a glass window of a building or a glass of a vehicle.

도 1은 본 발명에 따라 제조된 발열 창의 구조를 나타내는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 실시예 1 내지 4에 따라 제조된 각 발열 창의 열전도성 패턴을 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1 내지 4에 따라 제조된 각 발열 창의 발열 특성을 측정한 그래프이다.
1 is a schematic view showing the structure of a heat generating window manufactured according to the present invention.
Fig. 2 shows the thermal conductive patterns of the respective heat generating windows manufactured according to the first to fourth embodiments of the present invention.
FIG. 3 is a graph illustrating the heat generation characteristics of each of the heat generating windows manufactured according to Examples 1 to 4 of the present invention.

이하에서는 본 발명에 따른 발열 창 및 이의 제조방법에 관하여 도면과 함께 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a heat generating window according to the present invention and a method for manufacturing the same will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명에 따라 제조된 발열 창의 구조를 나타내는 개략도로서, 이를 참고하면 본 발명에 따른 발열 창은 제 1 투명 기재(10); 상기 제 1 투명 기재(10) 상에 형성된 열전도성 패턴(20); 상기 열전도성 패턴(20)의 표면에 형성된 금속 산화막(30); 상기 금속 산화막(30)에 전원을 공급하기 위해 금속 산화막의 일 부분에 형성된 발열단자(40); 및 상기 발열단자(40) 위에 압착된 제 2 투명 기재(50);를 포함한다.FIG. 1 is a schematic view showing a structure of a heat generating window manufactured according to the present invention. Referring to FIG. 1, the heat generating window according to the present invention includes a first transparent substrate 10; A thermally conductive pattern (20) formed on the first transparent substrate (10); A metal oxide film 30 formed on the surface of the thermally conductive pattern 20; A heating terminal 40 formed on a part of the metal oxide film to supply power to the metal oxide film 30; And a second transparent substrate (50) pressed onto the heating terminal (40).

이러한, 상기 발열 창은 상호 적층 접합되는 상기 제1, 제2 투명 기재(10,50), 그리고 상기 제1, 제2 투명 기재(10,50) 사이에 배열되는 상기 금속 산화막(30), 열전도성 패턴(20), 발열단자(40) 등을 포함하여 구성된다. 이러한 상기 제1, 제2 투명기재(10,50)는 가시광선 투과율이 70% 이상인 것이면 이에 제한되지 않으나, 바람직하게는 유리 또는 플라스틱 기판을 사용할 수 있고, 이 중 유리 기판을 사용하는 것이 더욱 바람직하다.The heat generating window may include the first and second transparent substrates 10 and 50 to be laminated to each other and the metal oxide film 30 arranged between the first and second transparent substrates 10 and 50, A conductive pattern 20, a heating terminal 40, and the like. The first and second transparent substrates 10 and 50 are not limited to those having a visible light transmittance of 70% or more, but a glass or plastic substrate may be preferably used, and a glass substrate is more preferably used Do.

또한, 본 발명의 발열 창은 상기 제 1 투명 기재(10)의 어느 한 면에 미세-리소그래피를 이용하여 열전도성 패턴(20)을 코팅하고, 제 1 투명 기재(10)와 금속 산화막(30)의 사이에 위치하며, 열전도성 패턴은 열전도도가 우수한 금속이면 이에 제한되지 않으나, 구리, 은, 니켈, 크롬 및 니켈크롬합금을 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 사용하는 것이 바람직하다.The heat generating window of the present invention is formed by coating a thermally conductive pattern 20 on one surface of the first transparent substrate 10 by using micro-lithography and coating the first transparent substrate 10 and the metal oxide film 30, And the thermally conductive pattern is not limited to a metal having excellent thermal conductivity, but it is preferable to use any one selected from the group consisting of copper, silver, nickel, chromium and nickel chromium alloys.

이러한, 상기 열전도성 패턴(20)은 빛의 회절 및 간섭 효과를 최소화하고, 시인성을 방해하지 않는 형태의 패턴이라면 이에 제한되지 않으나. 바람직하게는 도 2a 내지 도 2d에서 도시된 것과 같은 형태의 열전도성 패턴을 사용할 수 있다. 보다 구체적으로, 도 2a는 동일한 크기를 갖는 격자 구조로 이루어진 패턴이고, 도 2b는 상기 도 2a의 격자구조 내에 원형(21)을 더 포함하는 것을 특징으로 하며, 이 때, 원형(21)의 지름은 어느 하나의 사각형 한 면의 길이와 동일하다. 또한, 도 2c는 상기 도 2a의 격자구조 내에 대각선(22)이 더 포함되는 것을 특징으로 하며, 상기 대삭선(22)은 상기 격자구조의 4 개의 모서리가 모인 중심부에서 X 모양이 되도록 위치하는 것을 특징으로 한다.The thermally conductive pattern 20 is not limited to a pattern that minimizes diffraction and interference effects of light and does not disturb visibility. Preferably, a thermally conductive pattern of the type shown in Figures 2A-2D can be used. 2A is a pattern of a lattice structure having the same size, and Fig. 2B is a pattern further comprising a circle 21 in the lattice structure of Fig. 2A. In this case, the diameter of the circle 21 Is equal to the length of one of the squares. 2C is characterized in that a diagonal line 22 is further included in the lattice structure of FIG. 2A, and the major line 22 is positioned so as to be in the shape of an X at the center of the four corners of the lattice structure .

또한, 도 2d는 상기 도 2a의 격자구조 내에 마름모(23)를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, FIG. 2D is characterized in that it further includes a rhombus 23 in the lattice structure of FIG. 2A.

이러한, 상기 열전도성 패턴(20)은 선폭이 15 ~ 50 μm일 수 있으며, 보다 바람직하기로는 15 ~ 35 μm 이하이면 발열 온도를 향상시키고 넓은 면적에서도 발열 성능이 우수하여 가시광선을 거의 차단하지 않아 가시도에 방해되지 않는다.The thermal conductive pattern 20 may have a line width of 15 to 50 mu m, more preferably 15 to 35 mu m or less, so as to improve the heat generating temperature and excel in heat generation performance even in a large area, It does not interfere with visibility.

또한, 상기 열전도성 패턴(20)은 개구율과 연관관계가 있으며, 열전도성 패턴의 선폭이 두껍고, 선간 간격이 좁으면 개구율, 가시광선 투과율 및 저항이 낮아지게 된다. 따라서 본 발명에 따른 열전도성 패턴의 선폭 및 패턴 형상을 조절하여 우수한 발열 성능 및 가시광선 투과율을 나타내는 발열 창의 제작이 가능하다.In addition, the thermally conductive pattern 20 is related to the aperture ratio, and when the line width of the thermally conductive pattern is thick and the interval between lines is narrow, the aperture ratio, visible light transmittance and resistance become low. Accordingly, it is possible to manufacture a heat-generating window having excellent heat-generating performance and visible light transmittance by adjusting the line width and pattern shape of the thermally conductive pattern according to the present invention.

또한, 상기 열전도성 패턴(20)의 표면에 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학기상증착법을 이용하여 금속 산화막(30)을 형성하며, 이는 열전도성 패턴(20)과 발열단자(40)의 사이에 위치하게 된다. 이를 통해, 스파터링 및 화학기상증착법을 이용하여 증착한 것에 비해 기판과 금속 산화막의 우수한 접착력을 가지며, 높은 전기 전도도를 나타내며, 열에 약한 기판의 표면에 막을 형성시키기에 적합하다.The metal oxide film 30 is formed on the surface of the thermally conductive pattern 20 by using the electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition method. The metal oxide film 30 is positioned between the thermally conductive pattern 20 and the heat generating terminal 40 . As a result, it is suitable for forming a film on the surface of a substrate which has a good adhesion to a substrate and a metal oxide film, exhibits a high electric conductivity, and is weak against heat, compared with a deposition using a sputtering and chemical vapor deposition method.

상기 금속 산화막(30)은 불소가 도핑된 산화주석(FTO), 산화인듐주석(ITO) 및 알류미늄이 도핑된 산화아연(AZO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 사용할 수 있다. 보다 바람직하게는 불소가 도핑된 산화주석을 사용하는 것이 좋은데, 이는, 일반적으로 종래 투명 금속 산화막은 시간이 경과됨에 따라서 열화되어 시트 저항이 일반적으로 제조시 저항의 최고 3 ~ 10배까지 높아지게 된다. 그러나, 상기 증착 과정에서 불소가 도핑된 산화주석을 이용할 경우, 열화현상 발생정도가 낮다.The metal oxide film 30 may be any one selected from the group consisting of fluorine-doped tin oxide (FTO), indium tin oxide (ITO), and aluminum-doped zinc oxide (AZO). It is more preferable to use fluorine-doped tin oxide. In general, the conventional transparent metal oxide film deteriorates with the lapse of time, so that the sheet resistance generally increases up to 3 to 10 times of the resistance in manufacturing. However, when fluorine-doped tin oxide is used in the deposition process, the degree of deterioration is low.

이러한, 금속 산화막의 두께는 100 ~ 300 nm인 것이 바람직하며, 상기 금속 산화막의 두께가 100 nm 미만일 경우에는 충분한 전도성을 나타내지 못할 수 있고, 300 nm를 초과할 경우에는 가시광선 투과율이 저하될 수 있다.If the thickness of the metal oxide layer is less than 100 nm, the thickness of the metal oxide layer may not be sufficient. When the thickness of the metal oxide layer is more than 300 nm, the visible light transmittance may decrease .

또한, 본 발명에서는 금속 산화막(30)의 표면에 열전도성 패턴(20)을 더 포함함으로써, 전원이 공급되고 발열되는데 소모되는 시간을 단축하고, 균일한 열전달이 이루어질 수 있도록 하였다. 이로 인해, 본 발명의 발열 창은 저전압에서 우수한 발열 속도 및 성능을 갖는다.In addition, in the present invention, the heat conductive pattern 20 is further provided on the surface of the metal oxide film 30 so that the time consumed for power supply and heat generation is shortened and uniform heat transfer can be performed. As a result, the heating window of the present invention has excellent heating rate and performance at low voltage.

상기 금속 산화막(30)에 전원을 공급하기 위하여 금속 산화막(30) 표면의 일 부분에 발열단자(40)를 형성하며, 상기 발열단자(40)는 바 또는 테이프 형태 인 것을 사용할 수 있다. 구체적으로, 상기 발열단자(40)는 구리를 포함할 수 있다.A heating terminal 40 may be formed on a part of the surface of the metal oxide film 30 to supply power to the metal oxide film 30. The heating terminal 40 may be in the form of a bar or a tape. Specifically, the heating terminal 40 may include copper.

또한, 상기 발열단자(40) 위에 제 2 투명기재(50)가 놓아 질 수 있다. 여기서, 상기 제 2 투명기재(50)는 상기 제 1 투명기재(10)와 동일한 크기인 것이 바람직하다.In addition, the second transparent substrate 50 may be placed on the heat generating terminal 40. Here, the second transparent material 50 is preferably the same size as the first transparent material 10.

본 발명에 따라 제조된 발열 창은 발열량이 10 내지 35 W/m2일 수 있으며, 30 V 이하에서도 상기와 같은 발열량을 나타내며, 시트 저항이 15 ~ 50 Ω/m이며, 가시광선 투과율이 85 ~ 95%이다. 따라서, 전술한 바와 같이 투과도가 높고, 투명하며, 저전압하에서도 우수한 발열 성능을 나타내므로, 자동차 등에 사용이 가능하다.The heat generating window manufactured according to the present invention may have a calorific value of 10 to 35 W / m 2 and exhibits the same calorific value even at 30 V or less, a sheet resistance of 15 to 50 Ω / m, a visible light transmittance of 85 to 100 Ω / 95%. Therefore, as described above, since it has a high transparency, transparency, and excellent heat generation performance even under a low voltage, it can be used in automobiles and the like.

또한, 본 발명은 ⅰ) 투명 기재 상에 미세-리소그래피를 이용하여 열전도성 패턴을 형성하는 단계, ⅱ) 상기 열전도성 패턴 상에 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학 기상 증착을 이용하여 금속 산화막을 증착하는 단계, ⅲ) 상기 금속 산화막과 전기적으로 연결된 발열단자를 형성하는 단계, 및 ⅳ) 상기 발열단자 상에 투명 기재를 부착하고 압착하는 단계를 포함하는 발열 창의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method of depositing a metal oxide film on a transparent substrate, comprising the steps of: i) forming a thermally conductive pattern using fine-lithography on a transparent substrate, ii) depositing a metal oxide film on the thermally conductive pattern using electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition Forming a heating terminal electrically connected to the metal oxide film; and iv) attaching and pressing a transparent substrate on the heating terminal.

우선, 상기 ⅰ) 단계에서 열전도성 패턴은 포토리소그래피법에 의하여 투명기재 상에 형성되는 것이 바람직하며, 보다 구체적으로 포토리소그래피 공정은 투명 기재의 전면에 열전도성 패턴 재료층을 형성하고, 그 위에 포토레지스트층을 형성하여 선택적 노광 및 현상 공정을 통해 포토레지스트층을 패턴화한 후, 패턴화된 포토레지스트층을 마스크로 이용하여 열전도성 패턴 재료층을 패턴화하고나서 포토레지스트층을 제거하는 방식으로 수행될 수 있다.First, in the step i), it is preferable that the thermally conductive pattern is formed on a transparent substrate by photolithography. More specifically, in the photolithography process, a thermally conductive pattern material layer is formed on the entire surface of the transparent substrate, A photoresist layer is patterned through a selective exposure and development process by forming a resist layer, patterning the thermally conductive pattern material layer using the patterned photoresist layer as a mask, and then removing the photoresist layer .

다음으로, 상기 단계에서 제조된 열전도성 패턴 상에 금속 산화막을 형성하기 위하여 높은 이온화율을 갖는 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학기상증착을 이용하였으며, 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학기상증착은 전자의 자장에 의한 회전 주파수와 전원으로 가해지는 마이크로 웨이브 주파수가 일치할 때 발생하는 전자 사이크로트론 공명 플라즈마를 이용하여 높은 에너지를 갖는 고밀도의 플라즈마 이온으로 형성한다, 상기 플라즈마 이온이 형성된 하단에 유기금속화합물 또는 금속 산화물인 금속 전구체를 공급함과 동시에 저주파 직류 양 또는 음전압을 인가하면 공급된 금속 전구체에서 금속이온이 발생한다. 상기 금속이온은 플라즈마 이온 및 금속 전구체 중의 유기물과 충돌로 과응축되어 기판의 표면에 금속이온간의 화학적 결합으로 증착하여 투명 전도성 금속 산화막을 형성하게된다. 여기서 금속 전구체는 미량이기 때문에 공급위치에 따른 물질 전달 효과에 따라 균일도에 큰 영향을 받게 된다, 따라서, 금속 전구체 공급위치는 전자 사이크로트론 형성영역 바로 위 마이크로파 도입부에 공급하는 것이 바람직하다.
Next, an electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition having a high ionization rate was used to form a metal oxide film on the thermally conductive pattern produced in the above step, and the electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition Density plasma ion having a high energy using an electron cyclotron resonance plasma generated when a rotation frequency of the plasma ion is equal to a microwave frequency applied to a power source. When a metal precursor, which is a metal oxide, is supplied and a low-frequency direct current positive or negative voltage is applied, metal ions are generated in the supplied metal precursor. The metal ions collide with plasma ions and organic substances in the metal precursor, and are condensed and deposited on the surface of the substrate by chemical bonding between metal ions to form a transparent conductive metal oxide film. Therefore, the metal precursor supply position is preferably supplied to the microwave introducing portion just above the electron cyclotron forming region. Therefore, it is preferable that the metal precursor supply position is provided to the microwave introducing portion just above the electron cyclotron forming region.

이하, 구체적인 실시예를 상세히 설명한다.
Hereinafter, specific examples will be described in detail.

(실시예 1)(Example 1)

소다 라임 유리의 표면에 불소가 첨가된 주석 산화물(FTO)층을 형성하기 위하여 전자 사이크로트론 공명 화학증착법을 이용하였으며, 상기 증착은 마이크로파 출력(microwave power) 1400 W, 전자석의 전류 165A, 반응기 내 증착 압력 10 mtorr이고, 투입가스량은 테트라메틸틴(tetramethyltin, TMT) 4,7 sccm, 아르곤(Ar) 6 sccm, 불소(SF6) 0.2 sccm, 수소(H2) 8.4 sccm, 산소(O2) 36.7 sccm이며, 이때, 테트라메틸틴 전구체가 공급되는 노즐과 기판과의 거리 5 cm, 수소 노즐과 기판과의 거리 3 cm이며, 회전속도는 15 RPM이며, Bubbler 압력은 테트라메틸틴 43.8 torr의 조건 하에서 진행하였으며, 증착시간은 7 분으로 하여 대략 400 nm의 두께를 갖는 산화물층을 제조하였다.Electron cyclotron resonance chemical vapor deposition was used to form a fluorine-doped tin oxide (FTO) layer on the surface of the soda lime glass. The deposition was carried out at a microwave power of 1400 W, an electromagnet current of 165 A, The deposition pressure is 10 mtorr and the amount of the introduced gas is 4,7 sccm of tetramethyltin (TMT), 6 sccm of argon (Ar), 0.2 sccm of fluorine (SF6), 8.4 sccm of hydrogen (H2) and 36.7 sccm of oxygen At this time, the distance between the nozzle to which the tetramethyltin precursor was supplied and the substrate was 5 cm, the distance between the hydrogen nozzle and the substrate was 3 cm, the rotation speed was 15 RPM, and the Bubbler pressure was 43.8 torr of tetramethyltin , And the deposition time was 7 minutes to prepare an oxide layer having a thickness of approximately 400 nm.

상기 산화물층의 표면 상에 열전도성 패턴을 형성하기 위하여 포토리소그래피를 이용하였다. 상기 열전도성 패턴은 니켈크롬합금을 사용하였으며, 상기 포토레지스트층을 형성한 후, soft bake를 95 ℃에서 3 분 동안 수행하고, 마스크를 정렬하여 13초 동안 노광을 수행한다. 다음으로 developer 용액에 45 초 동안 넣어 둔 후, 포토레지스트층을 제거하고 증류수로 세척하여 에어건으로 물기를 제거한다. 최종적으로 현미경을 사용하여 도 2a와 같은 패턴형상을 확인하고 110 ℃에서 3 분동안 hard bake를 수행하여 발열 창을 제조하였다.
Photolithography was used to form a thermally conductive pattern on the surface of the oxide layer. The thermally conductive pattern used was a nickel chromium alloy. After the photoresist layer was formed, a soft bake was performed at 95 ° C for 3 minutes, and the mask was aligned and exposed for 13 seconds. Next, put in the developer solution for 45 seconds, remove the photoresist layer, and rinse with distilled water to remove water from the air gun. Finally, the pattern shape as shown in FIG. 2A was confirmed using a microscope and hard bake was performed at 110 ° C for 3 minutes to produce a heat window.

(실시예 2 내지 4)(Examples 2 to 4)

실시예 2 내지 4는 각각 도 2b 내지 도 2d의 패턴형상인 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 발열 창을 제조하였다.
Examples 2 to 4 produced heat generating windows in the same manner as in Example 1, except that the pattern shapes of Figs. 2B to 2D were used, respectively.

(실험예)(Experimental Example)

다양한 전압(0 ~ 100 V) 및 발생전류(0 ~ 1 A)의 측정을 위한 가변 직류전압기, 균일한 온도 측정을 위한 0.7 mm 두께를 갖는 유리 기판, 열전도성 패턴을 포함하는 산화물층, 상기 산화물층 상에 형성된 유리 기판으로 구성된 발열 창을 측정하였다.A variable DC voltage source for measurement of various voltages (0 to 100 V) and generated currents (0 to 1 A), a glass substrate having a thickness of 0.7 mm for uniform temperature measurement, an oxide layer comprising a thermally conductive pattern, A heating window composed of a glass substrate formed on the oxide layer was measured.

가변직류전압기를 사용하여 일정 전압을 상기 실시예에 따른 발열 창에 가했을 때 발생하는 열과 전류를 측정하였다. 온도의 균일한 측정을 위해 유리 기판을 사용하였으며 양면을 덮고 압착하였으며, 표면 온도 측정은 온도 검출용 열화상 카메라를 이용하여 유리 기판의 온도가 일정해지는 시간이 흐른 뒤 기록하였다. 상기 결과는 하기 도 3 및 표 1에 나타내었다.A variable DC voltage was used to measure the heat and current generated when a constant voltage was applied to the heating window according to the above embodiment. In order to measure the temperature uniformly, a glass substrate was used and both sides were covered and pressed. The surface temperature was measured after the temperature of the glass substrate became constant by using a thermal imaging camera for temperature detection. The results are shown in Fig. 3 and Table 1 below.

이동도
(cm2/Vs)
Mobility
(cm 2 / Vs)
전기전도도
(1/Ω·cm)
Electrical conductivity
(1 /? Cm)
비저항
(×10-4Ω·cm)
Resistivity
(× 10 -4 Ω · cm)
시트 저항
(Ω/cm)
Sheet resistance
(Ω / cm)
발열 온도
(℃)
Heating temperature
(° C)
가시광 투과도
(550nm)
Visible light transmittance
(550 nm)
실시예
1
Example
One
6262 740740 13.513.5 4545 5252 8787
실시예
2
Example
2
6767 10411041 9.69.6 3232 5757 8888
실시예
3
Example
3
108108 15871587 6.36.3 2121 7878 8585
실시예
4
Example
4
124124 23802380 4.24.2 1414 7676 8888

도 3은 본 발명의 실시예 1 내지 4에 따라 제조된 발열 창의 발열 성능을 측정하여 나타낸 맵핑 이미지로서 인가전압 5 V에서 시간 경과에 따른 박막의 온도 변화를 측정한 것이다. 또한, 표 1은 본 발명의 실시예 1 내지 4 따른 발열 창에 형성된 열전도성 패턴에 따라 나타나는 성능을 비교한 것이다.FIG. 3 is a mapping image obtained by measuring the heat generating performance of the heat generating window manufactured according to the first to fourth embodiments of the present invention, and the temperature change of the thin film with time at an applied voltage of 5 V is measured. Table 1 compares the performances according to the thermal conductive patterns formed in the heat generating window according to Examples 1 to 4 of the present invention.

이를 통해 초기 온도 24 ℃에서 전압을 인가시켜 주면, 발열 창의 온도가 증가하여 5 분 동안 유지시켜주었을 때, 파괴온도가 패턴 a에서는 52 ℃, b는 57 ℃, c는 78 ℃, d는 76 ℃임을 확인하였다.In this case, when the voltage is applied at an initial temperature of 24 ° C, when the temperature of the heating window is increased and maintained for 5 minutes, the breakdown temperature is 52 ° C for the pattern a, 57 ° C for the b, 78 ° C for the c, 76 ° C Respectively.

이는 인가전압이 5 V일 때 온도 균일도가 a는 30% 이하이고 b는 25% 이하, c는 13% 이하, d는 10% 이하임을 확인할 수 있다. 이를 통해, 본 발명에 따른 발열 창은 눈에 보이지 않는 미세한 열전도성 패턴에 의해 5 V의 낮은 저전압에서도 우수한 발열 성능을 나타낸다는 것을 확인하였다.It can be seen that when the applied voltage is 5 V, the temperature uniformity is less than 30%, b is less than 25%, c is less than 13%, and d is less than 10%. As a result, it was confirmed that the heat generating window according to the present invention exhibits excellent heat generating performance even at a low low voltage of 5 V due to an invisible fine thermal conductive pattern.

또한, 가시광선투과율이 80% 이상이고, 저항 값이 50 Ω/cm 이하로, 종래 기술에 비하여 현저히 낮은 값임을 알 수 있다.In addition, it is understood that the visible light transmittance is 80% or more and the resistance value is 50? / Cm or less, which is a significantly lower value than the conventional art.

Claims (19)

제 1 투명 기재;
상기 제 1 투명 기재 상에 형성된 열전도성 패턴;
상기 열전도성 패턴의 표면에 형성된 금속 산화막;
상기 금속 산화막에 전원을 공급하기 위해 금속 산화막의 일 부분에 형성된 발열단자; 및
상기 발열단자 위에 압착된 제 2 투명 기재;를 포함하고,
상기 금속 산화막은 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학기상증착법으로 증착되는 것을 특징으로 하는 발열 창.
A first transparent substrate;
A thermally conductive pattern formed on the first transparent substrate;
A metal oxide film formed on the surface of the thermally conductive pattern;
A heating terminal formed on a part of the metal oxide film to supply power to the metal oxide film; And
And a second transparent substrate pressed onto the heating terminal,
Wherein the metal oxide film is deposited by an electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition method.
제1항에 있어서,
상기 제 1, 제 2 투명 기재는 유리 또는 플라스틱 기판인 것을 특징으로 하는 발열 창.
The method according to claim 1,
Wherein the first and second transparent substrates are glass or plastic substrates.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 금속 산화막은 불소가 도핑된 주석산화막(FTO), 산화 인듐 주석막(ITO) 및 알류미늄이 도핑된 산화 아연막(AZO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 하는 발열 창.
The method according to claim 1,
Wherein the metal oxide film is any one selected from the group consisting of a fluorine-doped tin oxide film (FTO), an indium tin oxide film (ITO), and an aluminum-doped zinc oxide film (AZO).
제1항에 있어서,
상기 열전도성 패턴은 미세-리소그래프 공정을 통해 제조되는 것을 특징으로 하는 발열 창.
The method according to claim 1,
Characterized in that the thermally conductive pattern is produced through a micro-lithographic process.
제1항 또는 제5항에 있어서,
상기 열전도성 패턴은 구리, 은, 니켈, 크롬 및 니켈크롬합금로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 하는 발열 창.
6. The method according to claim 1 or 5,
Wherein the thermally conductive pattern is any one selected from the group consisting of copper, silver, nickel, chromium and nickel chromium alloys.
제1항에 있어서,
상기 발열단자는 바 또는 테이프 형태인 것을 특징으로 하는 발열 창.
The method according to claim 1,
Wherein the heat generating terminal is in the form of a bar or tape.
제1항 또는 제7항에 있어서,
상기 발열단자는 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 발열 창.
8. The method of claim 1 or 7,
Wherein the heat generating terminal comprises copper.
제1항에 있어서,
상기 금속 산화막의 두께는 100 ~ 300 nm인 것을 특징으로 하는 발열 창.
The method according to claim 1,
Wherein the metal oxide film has a thickness of 100 to 300 nm.
제1항에 있어서,
상기 열전도성 패턴은 선폭이 15 ~ 50 μm인 것을 특징으로 하는 발열 창.
The method according to claim 1,
Wherein the thermally conductive pattern has a line width of 15 to 50 占 퐉.
제1항 또는 제10항에 있어서,
상기 열전도성 패턴은 십자 모양, 별표(*), 마름모가 포함된 십자모양, 원형이 포함된 십자모양인 것을 특징으로 하는 발열 창.
11. The method according to claim 1 or 10,
Wherein the thermally conductive pattern is a cross shape including a cross, an asterisk (*), a cross shape including a rhombus, and a cross shape including a circle.
제1항에 있어서,
상기 발열 창은 5 ~ 30 V의 전압에서 발열량이 10 ~ 35 W/m2 인 것을 특징으로 하는 발열 창.
The method according to claim 1,
Wherein the heat generating window has a heating value of 10 to 35 W / m 2 at a voltage of 5 to 30 V.
제1항에 있어서,
상기 발열 창은 가시광선 투과율이 85 ~ 95%이고, 시트 저항 값이 50~10 Ω/cm인 것을 특징으로 하는 발열 창,
The method according to claim 1,
Wherein the heat generating window has a visible light transmittance of 85 to 95% and a sheet resistance value of 50 to 10? / Cm,
ⅰ) 제 1 투명 기재 상에 미세-리소그래피를 이용하여 열전도성 패턴을 형성하는 단계;
ⅱ) 상기 열전도성 패턴 상에 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학 기상 증착을 이용하여 금속 산화막을 증착하는 단계;
ⅲ) 상기 금속 산화막과 전기적으로 연결된 발열단자를 형성하는 단계; 및
ⅳ) 상기 발열단자 상에 제 2 투명 기재를 부착하고 압착하는 단계;를 포함하는 발열 창의 제조방법.
I) forming a thermally conductive pattern using micro-lithography on a first transparent substrate;
Ii) depositing a metal oxide film on the thermally conductive pattern using electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition;
Iii) forming a heating terminal electrically connected to the metal oxide film; And
Iv) attaching and pressing the second transparent substrate on the heating terminal.
제14항에 있어서,
상기 제 1, 제 2 투명 기재는 유리 또는 플라스틱 기판인 것을 특징으로 하는 발열 창의 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the first and second transparent substrates are glass or plastic substrates.
제14항에 있어서,
상기 열전도성 패턴은 구리, 은, 니켈, 크롬 및 니켈크롬합금로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 하는 발열 창의 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the thermally conductive pattern is any one selected from the group consisting of copper, silver, nickel, chromium and nickel chromium alloys.
제14항에 있어서,
상기 금속 산화막은 불소가 도핑된 주석산화막(FTO), 산화 인듐 주석막(ITO) 및 알류미늄이 도핑된 산화 아연막(AZO)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 하는 발열 창의 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the metal oxide film is any one selected from the group consisting of a fluorine-doped tin oxide film (FTO), an indium tin oxide film (ITO), and an aluminum-doped zinc oxide film (AZO).
제14항에 있어서,
상기 발열단자는 바 또는 테이프 형태인 것을 특징으로 하는 발열 창의 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the heat generating terminal is in the form of a bar or a tape.
제14항 또는 제18항에 있어서,
상기 발열단자는 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 발열 창의 제조방법.
The method according to claim 14 or 18,
Wherein the heat generating terminal comprises copper.
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