KR101546458B1 - Fabrication method for copper clad sheet - Google Patents

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KR101546458B1
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Abstract

The present invention relates to a fabrication method for a copper clad sheet, which comprises the steps of: providing an aluminum sheet; removing an oxide film formed on a surface of the aluminum sheet; and forming a copper layer using a plating method on the aluminum sheet wherein the oxide film is removed.

Description

동박 적층시트의 제조방법{Fabrication method for copper clad sheet}[0001] The present invention relates to a copper clad sheet,

본 발명은 동박 적층시트의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 알루미늄 시트 위에 동박을 형성하여 전자파 차폐, 방열판 등의 용도로 사용할 수 있는 동박 적층시트의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a copper-clad laminated sheet, and more particularly, to a method for producing a copper-clad laminated sheet capable of forming a copper foil on an aluminum sheet to be used for electromagnetic wave shielding, heat radiation plate and the like.

최근 전자파 차폐 재료, 디스플레이용 방사판 또는 방열판 등의 소재로 금속시트의 이용이 많아지고 있다. 이러한 금속시트 중 널리 이용되고 있는 것이 알루미늄 기재 위에 구리층이 형성된 동박 적층시트이다. BACKGROUND ART [0002] Recently, metal sheets are increasingly used for materials such as an electromagnetic wave shielding material, a radiation plate for display, or a heat sink. Among these metal sheets, a copper-clad laminated sheet having a copper layer formed on an aluminum substrate is widely used.

알루미늄 위에 구리층을 형성하기 위한 기존의 기술들은 전해 동도금법, 환원 동도금법이다. 알루미늄 위에 구리층이 형성된 동박 적층시트는 알루미늄과 구리층의 접착력이 문제되는데, 전해 동도금법은 접착력 확보를 위하여 탈지, 산세, 징케이트 처리와 같은 복잡한 공정을 적용하고 있고, 환원 동도금법도 탈지, 촉매화 처리, 중화 처리와 같이 복합한 공정을 적용하고 있다. 이러한 복잡한 단계의 처리 공정들은 동박 적층시트의 제조원가를 증가시키고, 불필요한 화학물질이 배출되는 등 문제점을 가지고 있다. Conventional techniques for forming a copper layer on aluminum are electrolytic copper plating and reduced copper plating. In the copper-plated laminated sheet having a copper layer formed on aluminum, there is a problem of adhesion between the aluminum and the copper layer. In the electrolytic copper plating method, complicated processes such as degreasing, pickling and sizing treatment are applied for securing the adhesion, And a composite process such as chemical treatment and neutralization treatment is applied. Such complicated processing steps increase the manufacturing cost of the copper-clad laminated sheet and cause problems such as unnecessary chemical substances being discharged.

알루미늄 위에 구리층을 형성하기 위한 다른 도금방법으로는 치환도금법이 있다. 치환도금법이란 환원 동도금법와 같이 무전해 도금의 한 종류인데, 종류가 다른 금속간의 이온화 경향 차이를 이용한 도금법으로 침지도금이라고도 불린다.Another plating method for forming a copper layer on aluminum is the displacement plating method. The displacement plating method is a type of electroless plating such as a reduction copper plating method, which is also referred to as an immersion plating by a plating method using a difference in ionization tendency between metals of different kinds.

알루미늄 위에 치환도금법으로 구리층을 형성하는 선행기술로는 일본공개특허 제2012-41579호가 있다. 상기 선행문헌은 알루미늄 또는 알루미늄 합금의 재료 표면에 치환도금을 이용하여 아연과 구리 등의 피막을 형성하는 기술을 개시하고 있다. 그러나 상기 선행문헌은 알루미늄의 산화막을 제거하는 과정이 치환도금과 동시에 일어나므로 부분적으로 알루미늄 산화막이 남게 되어 알루미늄과 구리층의 접착력이 저하되는 문제점을 가지고 있다.Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-41579 discloses a prior art in which a copper layer is formed on aluminum by displacement plating. This prior art discloses a technique for forming a film of zinc or copper on the surface of a material made of aluminum or an aluminum alloy using substitution plating. However, since the process of removing the aluminum oxide film is performed simultaneously with the displacement plating, the aluminum oxide film is partially left, and the adhesion of aluminum and the copper layer is deteriorated.

따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 첫 번째 과제는 알루미늄의 표면에 형성되어 있던 산화막을 효과적으로 제거하여 알루미늄과 구리층의 접착력을 향상시킨 동박 적층시트의 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, a first object of the present invention is to provide a method of manufacturing a copper-clad laminated sheet in which an oxide film formed on the surface of aluminum is effectively removed to improve adhesion between aluminum and a copper layer.

본 발명이 해결하고자 하는 두 번째 과제는 전자파 차폐, 반사시트, 방열시트 등의 용도로 이용할 수 있는 동박 적층시트를 제공하는 것이다.A second object of the present invention is to provide a copper-clad laminated sheet which can be used for electromagnetic shielding, a reflection sheet, a heat-radiating sheet, and the like.

본 발명은 상기 첫 번째 과제를 달성하기 위하여, 알루미늄 시트를 제공하는 단계와, 상기 알루미늄 시트 표면에 형성된 산화막을 제거하는 단계와, 상기 산화막이 제거된 알루미늄 시트에 도금법을 이용하여 동박층을 형성하는 단계를 포함하는 동박 적층시트의 제조방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: providing an aluminum sheet; removing an oxide film formed on the surface of the aluminum sheet; forming a copper foil layer on the aluminum sheet from which the oxide film has been removed, The method comprising the steps of:

본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 산화막을 제거하는 단계는 강알칼리 용액을 이용하여 pH 8.5 내지 10.5의 범위에서 수행되는 것이 바람직하다.According to an embodiment of the present invention, it is preferable that the step of removing the oxide film is performed in a pH range of 8.5 to 10.5 using a strong alkali solution.

본 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 산화막이 제거된 알루미늄 시트에 도금법을 이용하여 동박층을 형성하는 단계는 치환도금법에 의하여 수행될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the step of forming the copper foil layer on the aluminum sheet from which the oxide film has been removed by the plating method may be performed by a substitution plating method.

본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 동박 적층시트의 제조방법은 상기 동박층이 형성된 알루미늄 시트의 반대면에 점착제를 이용하여 고분자 수지 캐리어를 부착시키는 단계를 더 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the method of manufacturing a copper-clad laminated sheet may further include the step of attaching a polymeric resin carrier to an opposite surface of the aluminum sheet on which the copper foil layer is formed, using an adhesive.

본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 치환도금법은 pH 9.5 내지 12.5의 범위에서 수행되는 것이 바람직하다.According to another embodiment of the present invention, the displacement plating method is preferably performed in the range of pH 9.5 to 12.5.

본 발명은 상기 두 번째 과제를 달성하기 위하여, 고분자 수지 캐리어와, 상기 고분자 수지 캐리어 위에 형성된 점착제층과, 상기 점착제층 위에 부착된 알루미늄 시트와, 상기 알루미늄 시트 위에 형성된 동박층을 포함하고, 상기 동박층은 치환도금법에 의하여 형성된 것을 특징으로 하는 동박 적층시트를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a pressure sensitive adhesive sheet comprising a polymer resin carrier, a pressure sensitive adhesive layer formed on the polymer resin carrier, an aluminum sheet adhered on the pressure sensitive adhesive layer, and a copper foil layer formed on the aluminum sheet, Layer is formed by a displacement plating method.

본 발명의 동박 적층시트의 제조방법은 아래의 효과를 가진다.The method for manufacturing a copper-clad laminated sheet of the present invention has the following effects.

1. 치환도금을 수행하기에 앞서 강알칼리 용액을 이용하여 산화막을 제거하는 단계를 별도로 수행하므로 균일한 도금이 가능하고, 알루미늄 기재와 구리층 사이의 높은 접착력을 구현할 수 있다. 1. Since the step of removing the oxide film using the strong alkaline solution is separately performed prior to performing the displacement plating, uniform plating is possible and a high adhesion force between the aluminum base and the copper layer can be realized.

2. 치환도금법을 이용하여 알루미늄 위에 구리층을 형성하므로, 전해도금법이나 환원도금법에서 필요한 전처리 과정인 탈지, 산세, 징케이트 처리, 촉매화 처리, 중화처리 등의 복잡한 공정을 알칼리 용액의 전처리로 간단히 수행할 수 있다. 2. Since a copper layer is formed on aluminum by substitution plating method, complicated processes such as degreasing, pickling, zincate treatment, catalytic treatment and neutralization treatment, which are necessary for electrolytic plating and reduction plating, are easily performed by pretreatment of alkali solution Can be performed.

3. 알칼리 용액의 전처리 과정이 소정의 pH 범위에서 수행되어 산화물의 효과적인 제거와 알루미늄 하지층의 손상방지를 동시에 만족시킬 수 있다.3. The pretreatment process of the alkaline solution is performed in a predetermined pH range, so that the effective removal of the oxide and the prevention of the damage of the aluminum ground layer can be satisfied at the same time.

4. 치환동도금의 과정이 소정의 pH 범위에서 수행되어, 스멋(smut) 도금이나 거친 피막 형성과 같은 불량 도금을 방지할 수 있다.4. The process of substitution copper plating is carried out in a predetermined pH range to prevent defective plating such as smut plating or coarse film formation.

5. 구리층 형성과정이 알칼리 용액의 전처리와 치환동도금의 2단계로만 수행되므로, 불필요한 화학물질의 배출량이 적어서 친환경적이고, 롤 투 롤(roll to roll)의 대량생산 방법에도 효과적으로 적용할 수 있다.5. Since the copper layer formation process is performed only in two steps of pretreatment of alkaline solution and replacement copper plating, it can be effectively applied to environmentally-friendly, roll-to-roll mass production methods with a small amount of unnecessary chemical emissions.

도 1은 전해 동도금법을 이용한 동박 적층판의 제조과정을 나타내는 흐름도이다.
도 2는 환원 동도금법을 이용한 동박 적층판의 제조과정을 나타내는 흐름도이다.
도 3은 본 발명의 동박 적층시트의 제조방법의 공정순서를 나타내는 흐름도이다.
도 4, 도 5, 도 6, 도 7은 각각 정상적인 치환도금 구리층, 스멋(smut)이 발생한 치환도금 구리층, 붉고 거친 구리층, 얼룩 및 접착력 저하 구리층의 표면 사진이다.
1 is a flowchart showing a manufacturing process of a copper-clad laminate using an electrolytic copper plating method.
2 is a flowchart showing a manufacturing process of the copper-clad laminate using the reduced copper plating method.
3 is a flow chart showing a process sequence of a method for manufacturing a copper-clad laminated sheet of the present invention.
FIGS. 4, 5, 6, and 7 are photographs of the surface of a normal substituted copper layer, a smoothed substituted copper layer, a red coarse copper layer, a stain, and a poorly adhered copper layer.

본 발명은 동박 적층시트의 제조방법으로서, 알루미늄 시트를 제공하는 단계와, 상기 알루미늄 시트 표면에 형성된 산화막을 제거하는 단계와, 상기 산화막이 제거된 알루미늄 시트에 도금법을 이용하여 동박층을 형성하는 단계를 포함한다.A method for manufacturing a copper-clad laminated sheet, comprising the steps of: providing an aluminum sheet; removing an oxide film formed on the surface of the aluminum sheet; forming a copper foil layer on the aluminum sheet from which the oxide film has been removed, .

도금법은 금속 이온이 포함된 용액에 도금대상물을 담그고 금속을 석출시키는 방법으로 표면에 금속막을 형성하는 기술이다. 도금법은 크게 전해도금과 무전해 도금으로 나눌 수 있다. 전해도금은 도금대상물을 전극으로 이용하고 전류를 흘리면서 전극 표면의 산화환원 반응을 일으키는 방식이다. 무전해 도금은 외부에서 전류를 인가하지 않고 용액에 포함된 금속이온을 석출시키는 방식인데, 다시 환원도금과 치환도금으로 분류된다. 환원도금은 환원제가 금속이온을 환원하여 도금대상물 상에 금속을 석출시키는 도금법이고, 촉매의 사용여부에 따라 비촉매 도금과 자기촉매도금으로 나뉜다. 치환도금은 침지도금이라고도 불리는데, 서로 다른 금속 사이의 전위차를 이용하는 도금법으로 소재 금속보다 환원력이 강한 금속이온을 포함하는 용액에 침지하여 소재 금속이 용출하면서 방출된 전자를 용액 중의 금속이온이 받아들여 피막이 형성되는 원리로 진행된다.The plating method is a technique in which a metal film is formed on a surface by immersing an object to be plated in a solution containing metal ions and depositing a metal. The plating method can be divided into electrolytic plating and electroless plating. Electrolytic plating is a method in which a redox reaction is caused on the surface of an electrode while an object to be plated is used as an electrode and an electric current is supplied. Electroless plating is a method in which metal ions contained in a solution are precipitated without applying current from the outside, and then classified into reduction plating and displacement plating. Reduction plating is a plating method in which a reducing agent reduces metal ions to precipitate a metal on a plating object, and is divided into non-catalyst plating and self-catalyst plating depending on whether the catalyst is used or not. Substitution plating is also called immersion plating. It is a plating method using a potential difference between different metals. It is immersed in a solution containing metal ions having a stronger reducing power than the material metal, .

알루미늄은 공기에 노출되면 표면에 자연 산화막이 생성되므로 도금의 전처리 과정이 까다롭다. 도금법을 이용하여 알루미늄에 구리층을 형성하는 종래의 기술을 설명하면 다음과 같다. When aluminum is exposed to air, a natural oxide film is formed on the surface, so the pretreatment process of the plating is difficult. A conventional technique of forming a copper layer on aluminum using a plating method will be described as follows.

도 1은 전해 동도금법을 이용한 동박 적층판의 제조과정을 나타내는 흐름도이다. 도 1을 참조하면, 먼저 알루미늄 기재를 탈지 처리하고, 이어서 산세과정을 진행하며, 이어서 징케이트 처리 또는 크로메이트 처리 등을 이용하여 비 반응성 금속을 얇게 형성하고, 마지막으로 비 반응성 금속 위에 전해 동도금을 수행한다. 이와 같이 전해 동도금법을 이용하여 알루미늄 기재 위에 구리층을 형성하는 과정은 복잡한 단계의 전처리 과정을 거쳐야 하므로 비용이 증가하고 환경에 유해한 화학물질이 많이 배출되는 문제점을 가지고 있다.1 is a flowchart showing a manufacturing process of a copper-clad laminate using an electrolytic copper plating method. Referring to FIG. 1, first, the aluminum substrate is subjected to a degreasing process, followed by a pickling process, followed by a zincate treatment or a chromate treatment to form a thin non-reactive metal. Finally, electrolytic copper plating is performed on the non- do. The process of forming the copper layer on the aluminum substrate using the electrolytic copper plating method requires a complicated pre-treatment process, which increases the cost and causes a large amount of chemicals harmful to the environment.

도 2는 환원 동도금법을 이용한 동박 적층판의 제조과정을 나타내는 흐름도이다. 도 2를 참조하면, 먼저, 알루미늄 기재를 탈지하고, 이어서 촉매화 처리를 하고, 이어서 중화처리를 하고 환원 동도금을 수행한다. 그러나 환원 동도금법도 복잡한 전처리를 피할 수 없고, 이로 인하여 롤 투 롤 방식의 대량생산방식을 적용할 수 없는 등의 문제점을 가지고 있다.2 is a flowchart showing a manufacturing process of the copper-clad laminate using the reduced copper plating method. Referring to FIG. 2, first, the aluminum substrate is degreased, then catalyzed, then neutralized and subjected to reduced copper plating. However, the reduced copper plating method can not avoid complicated pretreatment, and therefore, there is a problem that the roll-to-roll type mass production method can not be applied.

본 발명의 동박 적층시트 제조방법은 알루미늄 기재 위의 구리층을 치환도금법으로 형성하는 것이 특징이다. 치환도금에서도 알루미늄 기재 표면의 두꺼운 산화막이 문제되는데, 본 발명에서는 치환도금의 전처리 단계로 강알칼리 용액을 이용하여 산화막을 먼저 제거하므로 치환도금이 균일하게 이루어지도록 하고, 알루미늄과 구리층 사이의 높은 접착력을 구현할 수 있다.The method for manufacturing a copper-clad laminated sheet of the present invention is characterized in that a copper layer on an aluminum substrate is formed by a displacement plating method. In the present invention, since the oxide film is first removed by using a strong alkali solution as a pretreatment step of the substitution plating, the replacement plating is made uniform, and the high adhesion force between the aluminum and the copper layer Can be implemented.

도 3은 본 발명의 동박 적층시트의 제조방법의 공정순서를 나타내는 흐름도이다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 동박 적층시트의 제조방법은 전처리 단계와 치환도금 단계의 2단계로 이루어진다. 전처리 단계는 알루미늄 기재 표면에 형성된 산화막을 제거하는 단계로서, 강알칼리 용액에 알루미늄 기재를 침지시키는 방식으로 수행된다. 전처리 용액은 강알칼리염으로 탄산칼슘, 수산화칼륨, 수산화나트륨 등을 포함할 수 있고, 계면활성제를 더 포함할 수 있다. 전처리 용액은 산도가 매우 중요한데, 전처리 용액의 산도는 pH 8.5 내지 10.5의 범위에 있는 것이 바람직하다. pH가 8.5 미만이면 알루미늄 산화물의 제거가 어렵고, pH가 10.5을 초과하면 과도한 알루미늄의 용해가 일어나면서 알루미늄 하지층이 손상될 수 있다. 전처리 용액의 산도는 더 바람직하게는 pH 9 내지 10의 범위에 있다. 3 is a flow chart showing a process sequence of a method for manufacturing a copper-clad laminated sheet of the present invention. Referring to FIG. 3, the method for manufacturing the copper-clad laminated sheet of the present invention comprises two steps of a pretreatment step and a displacement plating step. The pretreatment step is a step of removing the oxide film formed on the surface of the aluminum substrate, and is performed by immersing the aluminum substrate in the strong alkaline solution. The pretreatment solution may include calcium carbonate, potassium hydroxide, sodium hydroxide and the like as a strong alkali salt, and may further contain a surfactant. The acidity of the pretreatment solution is very important, and the acidity of the pretreatment solution is preferably in the range of pH 8.5 to 10.5. If the pH is less than 8.5, it is difficult to remove the aluminum oxide. If the pH exceeds 10.5, excessive aluminum dissolution may occur and the aluminum ground layer may be damaged. The pH of the pretreatment solution is more preferably in the range of pH 9 to 10.

치환동도금 단계는 산화막이 제거된 알루미늄 표면에서 알루미늄을 용출시키면서 구리층을 형성하는 단계이다. 치환동도금에 이용되는 용액은 구리염과 착화제를 포함한다. 구리염은 유산염, 질산염, 염화물 형태일 수 있고, 모노카르본산, 다가 카르본산, 히드록시카르본산 등의 가용성 유기산염일 수 있고, 수용성 금속 착제일 수 있다. 구체적인 구리염은 유산동, 염화동, 청화동, 피로인산동일 수 있다. 착화제는 시안화칼륨, 시안화나트륨 등의 시안화화합물을 사용할 수 있고, 에틸렌디아민, 부틸아민, 테트라에틸아민 등 지방족 아민 혹은 개미산, 주석산 등의 유기산 사용도 가능하며, 기본적으로 물에 용해될 수 있는 착화제인 것이 바람직하다. 구리염과 착화제는 1:1 내지 1:3의 중량비율로 혼합되는 것이 바람직하다. 치환동도금 용액은 pH 조절제를 더 포함할 수 있다. pH 조절제로는 수산화나트늄, 수산화칼륨 등의 강알칼리염이 이용될 수 있다. 치환동도금 용액의 산도는 pH 9.5 내지 12.5의 범위에 있는 것이 바람직하다. 치환동도금 용액의 산도가 pH 9.5 미만이면 스멋(smut) 도금이 이루어질 수 있고, pH 12.5를 초과하면 동도금 표면에 붉고 거친 피막이 형성될 수 있다. 치환동도금 용액의 산도는 더 바람직하게는 pH 10 내지 12의 범위에 있다.The replacement copper plating step is a step of forming a copper layer while eluting aluminum from the aluminum surface from which the oxide film has been removed. The solution used for the replacement copper plating includes a copper salt and a complexing agent. The copper salt may be in the form of a sulfate salt, a nitrate salt or a chloride salt, and may be a soluble organic acid salt such as a monocarboxylic acid, a polycarboxylic acid or a hydroxycarboxylic acid, and may be a water soluble metal complex. Specific copper salts may be the same as lactic acid, chloride, copper blue, pyrophosphoric acid. The complexing agent may be a cyanide compound such as potassium cyanide or sodium cyanide. An aliphatic amine such as ethylenediamine, butylamine or tetraethylamine, or an organic acid such as formic acid or tartaric acid may be used. Basically, It is desirable that it is. The copper salt and the complexing agent are preferably mixed in a weight ratio of 1: 1 to 1: 3. The substituted copper plating solution may further comprise a pH adjusting agent. As the pH adjusting agent, strong alkaline salts such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like may be used. The acidity of the substituted copper plating solution is preferably in the range of pH 9.5 to 12.5. If the acidity of the substituted copper plating solution is less than pH 9.5, smut plating may be achieved, and if pH 12.5 is exceeded, red and rough coatings may be formed on the copper plating surface. The acidity of the substituted copper plating solution is more preferably in the range of pH 10 to 12. [

본 발명의 동박 적층시트 제조방법에 의하여 제조된 동박 적층시트는 표면광택 및 전기전도도와 방열성이 우수하여, 반도체, 인쇄회로기판 등의 기판 제작과, 스마트폰과 같은 통신기기의 전자파 차폐에 이용될 수 있고, 디스플레이소자나 조명기기용 반사판이나 방열판으로 이용될 수 있다. The copper-clad laminated sheet produced by the method for producing a copper-clad laminate sheet of the present invention is excellent in surface gloss, electrical conductivity and heat dissipation property, and can be used for producing substrates such as semiconductors and printed circuit boards and for shielding electromagnetic waves of communication devices such as smart phones And can be used as a reflector or a heat sink for a display device or a lighting device.

동박 적층시트를 다양한 용도로 이용하기 위해서는 캐리어에 점착된 상태로 제품화되는 것이 유리하다. 이를 위하여 PET와 같은 고분자 수지 캐리어에 점착제층을 형성하고, 점착제층 위에 동박 적층시트의 알루미늄층을 적층하면 캐리어가 구비된 동박 적층시트가 제조된다. 이와 같은 구조의 캐리어가 구비된 동박 적층시트는 캐리어와 알루미늄 상 동박층을 점착제층에서 분리하여 인쇄회로기판의 도전층, 전자파 차폐층, 반사판, 방열판 등의 다양한 용도로 이용할 수 있다.In order to use the copper-clad laminated sheet for various purposes, it is advantageous to commercialize the product in a state of being adhered to a carrier. To this end, a pressure-sensitive adhesive layer is formed on a polymeric resin carrier such as PET, and an aluminum layer of a copper-clad laminate sheet is laminated on a pressure-sensitive adhesive layer to produce a copper-clad laminated sheet having a carrier. The copper-clad laminated sheet having such a carrier having such a structure can be used for various purposes such as a conductive layer of a printed circuit board, an electromagnetic wave shielding layer, a reflection plate, a heat sink, etc. by separating the carrier and the aluminum foil layer from the adhesive layer.

아래에서 실시예를 이용하여 본 발명의 동박 적층시트 제조방법에 관하여 설명한다.
Hereinafter, a method for manufacturing a copper-clad laminated sheet of the present invention will be described with reference to examples.

실시예 1-1(전처리)Example 1-1 (Pretreatment)

증류수 1000ml에 탄산칼슘 5g을 용해시키고, 계면활성제인 Cecle MC 563를 1g 첨가하여 전처리 용액을 제조하였다. 이때 전처리 용액의 산도는 pH 9였다. 전처리 용액에 10cm × 10cm 크기의 알루미늄 시트(삼아알루미늄 AL1235)를 5분간 담가 알루미늄 표면에 형성된 산화막을 제거하였다.
5 g of calcium carbonate was dissolved in 1000 ml of distilled water and 1 g of Cecle MC 563 as a surfactant was added to prepare a pretreatment solution. The acidity of the pretreatment solution was pH 9. A 10 cm x 10 cm aluminum sheet (San Al aluminum AL1235) was immersed in the pretreatment solution for 5 minutes to remove the oxide film formed on the aluminum surface.

실시예Example 1-2(전처리) 1-2 (Pretreatment)

증류수 1000ml에 탄산칼슘 7 g을 용해시켜 전처리 용액의 산도는 pH 10으로 조절하고, 전처리 시간을 5분간으로 조절한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일한 방법으로 전처리를 수행하였다.
Pretreatment was carried out in the same manner as in Example 1-1, except that 7 g of calcium carbonate was dissolved in 1000 ml of distilled water to adjust the acidity of the pretreatment solution to pH 10 and the pretreatment time to 5 minutes.

비교예 1-1(전처리)Comparative Example 1-1 (Pretreatment)

증류수 1000ml에 탄산칼슘 3g을 용해시켜 전처리 용액의 산도는 pH 8로 조절하고, 전처리 시간을 10분간으로 조절한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일한 방법으로 전처리를 수행하였다.
Pretreatment was carried out in the same manner as in Example 1-1, except that 3 g of calcium carbonate was dissolved in 1000 ml of distilled water to adjust the acidity of the pretreatment solution to pH 8 and the pretreatment time to 10 minutes.

비교예 1-2(전처리)Comparative Example 1-2 (Pretreatment)

증류수 1000ml에 탄산칼슘 10g을 용해시켜 전처리 용액의 산도는 pH 11로 조절하고, 전처리 시간을 2분간으로 조절한 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일한 방법으로 전처리를 수행하였다.
Pretreatment was carried out in the same manner as in Example 1-1 except that 10 g of calcium carbonate was dissolved in 1000 ml of distilled water to adjust the acidity of the pretreatment solution to pH 11 and the pretreatment time to 2 minutes.

실시예 2-1(치환도금)Example 2-1 (Substitutional plating)

증류수 1000ml에 유산동 100g, 착화제인 부틸아민 100g, 산도조절제인 수산화나트늄 2g을 용해시켜 치환도금용 용액을 제조하였다. 이때 치환도금용 용액의 산도는 pH 10이었다. 치환도금용 용액에 실시예 1-1에서 전처리된 알루미늄 시트를 5분간 담가 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
100 g of lactic acid, 100 g of butylamine as a complexing agent, and 2 g of sodium hydroxide as an acidity regulator were dissolved in 1000 ml of distilled water to prepare a solution for substitutional plating. At this time, the acidity of the solution for substitutional plating was pH 10. The aluminum sheet pretreated in Example 1-1 was immersed in the solution for substitutional plating for 5 minutes to form a copper layer on the aluminum surface.

실시예 2-2(치환도금)Example 2-2 (Substitution plating)

증류수 1000ml에 유산동 100g, 착화제인 테트라에틸아민 100g, 산도조절제인 수산화나트늄 3g을 용해시켜 치환도금용 용액을 제조하였다. 이때 치환도금용 용액의 산도는 pH 11이었으며, 실시예 2-1와 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
100 g of lactic acid, 100 g of tetraethylamine as a complexing agent and 3 g of sodium hydroxide as an acidity regulator were dissolved in 1000 ml of distilled water to prepare a solution for substitutional plating. At this time, the acidity of the solution for substitutional plating was pH 11, and a copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-1.

실시예 2-3(치환도금)Example 2-3 (Substitutional plating)

증류수 1000ml에 유산동 100g, 착화제인 에틸아민 100g, 산도조절제인 수산화나트늄 4g을 용해시켜 치환도금용 용액을 제조하였다. 이때 치환도금용 용액의 산도는 pH 12이었으며, 실시예 2-1와 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
100 g of lactic acid, 100 g of ethylamine as a complexing agent and 4 g of sodium hydroxide as an acidity regulator were dissolved in 1000 ml of distilled water to prepare a solution for substitutional plating. At this time, the acidity of the solution for substitutional plating was pH 12, and a copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-1.

실시예 2-4(치환도금)Example 2-4 (Substitutional plating)

실시예 1-2에서 전처리된 알루미늄 시트를 이용한 것을 제외하고는 실시예 2-1과 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-1 except that the aluminum sheet pretreated in Example 1-2 was used.

실시예 2-5(치환도금)Example 2-5 (Substitution plating)

실시예 1-2에서 전처리된 알루미늄 시트를 이용한 것을 제외하고는 실시예 2-2와 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-2, except that the aluminum sheet pretreated in Example 1-2 was used.

실시예 2-6(치환도금)Example 2-6 (Substitution plating)

실시예 1-2에서 전처리된 알루미늄 시트를 이용한 것을 제외하고는 실시예 2-3과 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-3 except that the aluminum sheet pretreated in Example 1-2 was used.

비교예 2-1(치환도금)Comparative Example 2-1 (Substitutional plating)

비교예 1-1에서 전처리된 알루미늄 시트를 이용한 것을 제외하고는 실시예 2-1과 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-1 except that the aluminum sheet pretreated in Comparative Example 1-1 was used.

비교예 2-2(치환도금)Comparative Example 2-2 (Substitutional plating)

비교예 1-1에서 전처리된 알루미늄 시트를 이용한 것을 제외하고는 실시예 2-2와 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-2 except that the aluminum sheet pretreated in Comparative Example 1-1 was used.

비교예 2-3(치환도금)Comparative Example 2-3 (Substitution Plating)

비교예 1-1에서 전처리된 알루미늄 시트를 이용한 것을 제외하고는 실시예 2-3과 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-3, except that the aluminum sheet pretreated in Comparative Example 1-1 was used.

비교예 2-4(치환도금)Comparative Example 2-4 (Substitutional Plating)

증류수 1000ml에 유산동 100g, 착화제인 에틸렌디아민 100g, 산도조절제인 수산화나트늄 1g을 용해시켜 치환도금용 용액을 제조하였다. 이때 치환도금용 용액의 산도는 pH 9였다. 치환도금용 용액에 실시예 1-1에서 전처리된 알루미늄 시트를 5분간 담가 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
100 g of lactic acid, 100 g of ethylenediamine as a complexing agent and 1 g of sodium hydroxide as an acidity regulator were dissolved in 1000 ml of distilled water to prepare a solution for substitutional plating. At this time, the acidity of the solution for substitutional gold was pH 9. The aluminum sheet pretreated in Example 1-1 was immersed in the solution for substitutional plating for 5 minutes to form a copper layer on the aluminum surface.

비교예 2-5(치환도금)Comparative Example 2-5 (Substitutional plating)

치환도금용 용액에 수산화나트륨 5g을 용해시켜 산도를 pH 13으로 조절한 것을 제외하고는 비교예 2-4와 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Comparative Example 2-4, except that 5 g of sodium hydroxide was dissolved in the solution for substitutional plating to adjust the acidity to pH 13. [

비교예 2-6(치환도금)Comparative Example 2-6 (Substitutional plating)

증류수 1000ml에 유산동 100g, 착화제인 에틸렌디아민 100g, 산도조절제인 수산화나트늄 1g을 용해시켜 치환도금용 용액을 제조하였다. 이때 치환도금용 용액의 산도는 pH 9였다. 치환도금용 용액에 실시예 1-2에서 전처리된 알루미늄 시트를 5분간 담가 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
100 g of lactic acid, 100 g of ethylenediamine as a complexing agent and 1 g of sodium hydroxide as an acidity regulator were dissolved in 1000 ml of distilled water to prepare a solution for substitutional plating. At this time, the acidity of the solution for substitutional gold was pH 9. The aluminum sheet pretreated in Example 1-2 was immersed in the solution for substitutional plating for 5 minutes to form a copper layer on the aluminum surface.

비교예 2-7(치환도금)Comparative Example 2-7 (Substitutional plating)

치환도금용 용액에 수산화나트륨 5g을 용해시켜 산도를 pH 13으로 조절한 것을 제외하고는 비교예 2-6과 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Comparative Example 2-6, except that 5 g of sodium hydroxide was dissolved in the solution for substitutional plating to adjust the pH to 13.

비교예 2-8(치환도금)Comparative Example 2-8 (Substitution Plating)

전처리 단계를 생략한 것을 제외하고는 실시예 2-1과 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-1 except that the pretreatment step was omitted.

비교예 2-9(치환도금)Comparative Example 2-9 (Substitution Plating)

전처리 단계를 생략한 것을 제외하고는 실시예 2-2와 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-2, except that the pretreatment step was omitted.

비교예 2-10(치환도금)Comparative Example 2-10 (Substitutional plating)

전처리 단계를 생략한 것을 제외하고는 실시예 2-3과 동일한 방법으로 알루미늄 표면에 구리층을 형성하였다.
A copper layer was formed on the aluminum surface in the same manner as in Example 2-3, except that the pretreatment step was omitted.

아래의 표 1와 표 2에 실시예들과 비교예의 전처리 용액 및 치환도금 용액의 산도를 정리하였다.
Table 1 and Table 2 below summarize the acidity of the pretreatment solution and the displacement plating solution of the examples and the comparative example.


실시예 2-1Example 2-1 실시예 2-2Example 2-2 실시예 2-3Example 2-3 실시예 2-4Examples 2-4 실시예 2-5Example 2-5 실시예 2-6Examples 2-6 비교예 2-1Comparative Example 2-1 비교예 2-2Comparative Example 2-2
전처리
용액 산도
Pretreatment
Solution pH
pH 9pH 9 pH 9pH 9 pH 9pH 9 pH 10pH 10 pH 10pH 10 pH 10pH 10 pH 8pH 8 pH 8pH 8
치환도금 용액 산도Substitution plating solution pH pH 10pH 10 pH 11pH 11 pH 12pH 12 pH 10pH 10 pH 11pH 11 pH 12pH 12 pH 10pH 10 pH 11pH 11


비교예 2-3Comparative Example 2-3 비교예 2-4Comparative Example 2-4 비교예 2-5Comparative Example 2-5 비교예 2-6Comparative Example 2-6 비교예 2-7Comparative Example 2-7 비교예 2-8Comparative Example 2-8 비교예 2-9Comparative Example 2-9 비교예 2-10Comparative Example 2-10
전처리
용액 산도
Pretreatment
Solution pH
pH 8pH 8 pH 9pH 9 pH 9pH 9 pH 10pH 10 pH 10pH 10 -- -- --
치환도금 용액 산도Substitution plating solution pH pH 12pH 12 pH 9pH 9 pH 13pH 13 pH 9pH 9 pH 13pH 13 pH 10pH 10 pH 11pH 11 pH 12pH 12

평가예 1(도금상태 외관 판별)Evaluation Example 1 (Determination of appearance of plating state)

실시예들과 비교예들에 따라 형성된 구리층의 외관을 관찰하여 스멋(smut) 발생 여부, 표면 색깔, 거칠기 등을 관찰하였다.The appearance of the copper layer formed according to Examples and Comparative Examples was observed to observe the occurrence of smut, surface color, roughness and the like.

실시예들은 스멋(smut)이 관찰되지 않았고, 표면색이 정상적인 도금색을 띠고, 이상적인 거칠기가 관찰되지 않았다.In the examples, no smut was observed, the surface color had a normal plating color, and no ideal roughness was observed.

이에 반하여 비교예들은 스멋(smut)이나 얼룩이 발생하거나, 표면이 비정상적으로 붉은 색을 띠거나, 거친 표면을 가졌다.On the contrary, the comparative examples have smut or smudge, the surface is abnormally reddish, or has a rough surface.

도 4, 도 5, 도 6, 도 7은 각각 정상적인 치환도금 구리층, 스멋(smut)이 발생한 치환도금 구리층, 붉고 거친 구리층, 얼룩 및 접착력 저하 구리층의 표면 사진이다.
FIGS. 4, 5, 6, and 7 are photographs of the surface of a normal substituted copper layer, a smoothed substituted copper layer, a red coarse copper layer, a stain, and a poorly adhered copper layer.


실시예 2-1Example 2-1 실시예 2-2Example 2-2 실시예 2-3Example 2-3 실시예 2-4Examples 2-4 실시예 2-5Example 2-5 실시예 2-6Examples 2-6 비교예 2-1Comparative Example 2-1 비교예 2-2Comparative Example 2-2
스멋 발생 여부Spurt occurrence 없음none 없음none 없음none 없음none 없음none 없음none 없음none 없음none 비정상
색깔 및 거칠기
abnormal
Color and roughness
없음none 없음none 없음none 없음none 없음none 없음none 얼룩 및 접착력 저하Stain and poor adhesion 얼룩 및 접착력 저하Stain and poor adhesion


비교예 2-3Comparative Example 2-3 비교예 2-4Comparative Example 2-4 비교예 2-5Comparative Example 2-5 비교예 2-6Comparative Example 2-6 비교예 2-7Comparative Example 2-7 비교예 2-8Comparative Example 2-8 비교예 2-9Comparative Example 2-9 비교예 2-10Comparative Example 2-10
스멋 발생 여부Spurt occurrence 없음none 있음has exist 없음none 있음has exist 없음none 없음none 없음none 없음none 비정상
색깔 및 거칠기
abnormal
Color and roughness
얼룩 및 접착력 저하Stain and poor adhesion 없음none 붉고 거친 표면Red and rough surface 없음none 붉고 거친 표면Red and rough surface 얼룩 및 접착력 저하Stain and poor adhesion 얼룩 및 접착력 저하Stain and poor adhesion 얼룩 및 접착력 저하Stain and poor adhesion

평가예 2(구리층 접착력 테스트)Evaluation Example 2 (Copper layer adhesion test)

실시예들과 비교예들에 의하여 형성된 동박 적층시트에 대하여 구리층과 알루미늄층의 접착력을 테스트하였다. 접착력 테스트는 각기 다른 접착력을 가진 접착 테이프를 사용하여 크로스컷 테스트로 수행되었다. 접착테이프로는 일본 이치방(700gf/cm), 3M 602 (400gf/cm), 3M Scotch Cat. 122 (200gf/cm)를 사용하였으며 도금후에 동박표면에 칼집을 내고 접착테이프를 칼집낸 표면에 붙인 후 90도 각도로 이탈하여 동박이 알루미늄과 이탈하는지의 여부를 관찰하였다.
The adhesion between the copper layer and the aluminum layer was tested on the copper-clad laminated sheet formed by the examples and comparative examples. Adhesion tests were carried out in cross-cut tests using adhesive tapes with different adhesive strengths. Adhesive tapes include Japan Ichiban (700 gf / cm), 3M 602 (400 gf / cm), 3M Scotch Cat. 122 (200 gf / cm) was used. After plating, a sheath was made on the surface of the copper foil, and the adhesive tape was attached to the cut surface and then detached at an angle of 90 degrees.


실시예 2-1Example 2-1 실시예 2-2Example 2-2 실시예 2-3Example 2-3 실시예 2-4Examples 2-4 실시예 2-5Example 2-5 실시예 2-6Examples 2-6 비교예 2-1Comparative Example 2-1 비교예 2-2Comparative Example 2-2
접착력Adhesion 700gf/cm
이상
700gf / cm
More than
700gf/cm
이상
700gf / cm
More than
700gf/cm
이상
700gf / cm
More than
700gf/cm
이상
700gf / cm
More than
700gf/cm
이상
700gf / cm
More than
700gf/cm
이상
700gf / cm
More than
200gf/cm
이하
200 gf / cm
Below
200gf/cm
이하
200 gf / cm
Below


비교예 2-3Comparative Example 2-3 비교예 2-4Comparative Example 2-4 비교예 2-5Comparative Example 2-5 비교예 2-6Comparative Example 2-6 비교예 2-7Comparative Example 2-7 비교예 2-8Comparative Example 2-8 비교예 2-9Comparative Example 2-9 비교예 2-10Comparative Example 2-10
접착력Adhesion 200gf/cm
이하
200 gf / cm
Below
200gf/cm
이하
200 gf / cm
Below
400~
700 gf/cm
400 ~
700 gf / cm
200gf/cm
이하
200 gf / cm
Below
400~
700 gf/cm
400 ~
700 gf / cm
200~
400 gf/cm
200 ~
400 gf / cm
200~
400 gf/cm
200 ~
400 gf / cm
200~
400 gf/cm
200 ~
400 gf / cm

평가예 3(동박적층시트의 내열성 테스트)Evaluation Example 3 (Heat resistance test of the copper-clad laminated sheet)

또한 형성된 동박층은 높은 온도에서 사용 시 알루미늄과 동박층간에 계면분리가 일어나지 않아야 하므로 실시예와 비교예에 의해 형성된 동박적층시트에 대하여 내열성테스트를 진행하였다. 내열성테스트는 260도 이상으로 용융된 납조에 도금된 샘플을 약 10 - 60초간 띄운 후 꺼내어 도금표면에 기포나 동박층의 이탈이 있는지 여부를 확인 하였다.
Also, since the formed copper foil layer should not undergo interface separation between aluminum and the copper foil layer when used at a high temperature, the heat resistance test was conducted on the copper foil laminated sheet formed by the examples and the comparative examples. In the heat resistance test, the sample plated on the molten lead bath at a temperature of 260 ° C or higher was floated for about 10 to 60 seconds, and then removed to confirm whether bubbles or copper foil layer were separated from the plating surface.


실시예 2-1Example 2-1 실시예 2-2Example 2-2 실시예 2-3Example 2-3 실시예 2-4Examples 2-4 실시예 2-5Example 2-5 실시예 2-6Examples 2-6 비교예 2-1Comparative Example 2-1 비교예 2-2Comparative Example 2-2
결과result 이상
없음
More than
none
이상
없음
More than
none
이상
없음
More than
none
이상
없음
More than
none
이상
없음
More than
none
이상
없음
More than
none
기포
발생
bubble
Occur
기포
발생
bubble
Occur


비교예 2-3Comparative Example 2-3 비교예 2-4Comparative Example 2-4 비교예 2-5Comparative Example 2-5 비교예 2-6Comparative Example 2-6 비교예 2-7Comparative Example 2-7 비교예 2-8Comparative Example 2-8 비교예 2-9Comparative Example 2-9 비교예 2-10Comparative Example 2-10
결과result 기포
발생
bubble
Occur
동박
이탈
Copper foil
Breakaway
이상
없음
More than
none
기포
발생
bubble
Occur
이상
없음
More than
none
동박
이탈
Copper foil
Breakaway
동박
이탈
Copper foil
Breakaway
동박
이탈
Copper foil
Breakaway

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 일 구현예를 이용하여 설명한 것으로써, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 갖는 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에서 설명된 구현예는 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이런 구현예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, . Therefore, the embodiments described in the present invention are not intended to limit the scope of the present invention but to limit the scope of the present invention. The scope of protection of the present invention should be construed according to the claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

Claims (6)

알루미늄 시트를 제공하는 단계;
pH 8.5 내지 10.5의 강알칼리 용액에 상기 알루미늄 시트를 침지하여 상기 알루미늄 시트 표면에 형성된 산화막을 제거하는 단계; 및
pH 9.5 내지 12.5의 치환 동도금액에 상기 산화막이 제거된 알루미늄 시트를 침지하여 동박층을 형성하는 단계;를 포함하되,
상기 치환 동도금액의 pH는 상기 강알칼리 용액의 pH와 같거나 큰 것을 특징으로 하는 동박 적층시트의 제조방법.
Providing an aluminum sheet;
immersing the aluminum sheet in a strong alkaline solution having a pH of 8.5 to 10.5 to remove an oxide film formed on the surface of the aluminum sheet; And
and dipping the aluminum sheet from which the oxide film has been removed in a replacement copper plating solution having a pH of 9.5 to 12.5 to form a copper foil layer,
Wherein the pH of the replacement copper plating solution is equal to or greater than the pH of the strong alkaline solution.
제1항에 있어서,
상기 산화막을 제거하는 단계는 pH 9 내지 10의 강알칼리 용액을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 동박 적층시트의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of removing the oxide film is performed using a strong alkaline solution having a pH of 9 to 10.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 동박층이 형성된 알루미늄 시트의 반대면에 점착제를 이용하여 고분자 수지 캐리어를 부착시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 동박 적층시트의 제조방법.
The method according to claim 1,
Further comprising the step of attaching a polymeric resin carrier to an opposite surface of the aluminum sheet on which the copper foil layer is formed by using an adhesive.
제1항에 있어서,
상기 동박층을 형성하는 단계는 pH 10 내지 12의 치환 동도금액을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 동박 적층시트의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of forming the copper foil layer is performed using a replacement copper plating solution having a pH of 10 to 12.
제1항, 제2항, 제4항 및 제5항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 것으로,
고분자 수지 캐리어; 상기 고분자 수지 캐리어 위에 형성된 점착제층; 상기 점착제층 위에 부착된 알루미늄 시트; 및 상기 알루미늄 시트 위에 치환 동도금법에 의하여 형성된 동박층;을 포함하고,
상기 알루미늄 시트와 동박층간 접착 테이프를 사용한 크로스컷 테스트로 측정한 접착력이 700 gf/cm 이상이고, 내열도(260℃)를 갖는 것을 특징으로 하는 동박 적층시트.
6. A process for the preparation of a compound of formula I according to claim 1, 2, 4 and 5,
Polymer resin carriers; A pressure-sensitive adhesive layer formed on the polymeric resin carrier; An aluminum sheet attached on the pressure-sensitive adhesive layer; And a copper foil layer formed on the aluminum sheet by a substitutional copper plating method,
Wherein the adhesive sheet has an adhesive strength of 700 gf / cm or more and a heat resistance (260 DEG C) as measured by a cross-cut test using the aluminum sheet and the copper foil interlaminar adhesive tape.
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