KR101521389B1 - Apparatus for decomposing harmful gas including perfluorinated compounds - Google Patents
Apparatus for decomposing harmful gas including perfluorinated compounds Download PDFInfo
- Publication number
- KR101521389B1 KR101521389B1 KR1020140077694A KR20140077694A KR101521389B1 KR 101521389 B1 KR101521389 B1 KR 101521389B1 KR 1020140077694 A KR1020140077694 A KR 1020140077694A KR 20140077694 A KR20140077694 A KR 20140077694A KR 101521389 B1 KR101521389 B1 KR 101521389B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- air supply
- connection lines
- gas
- exhaust
- processing chamber
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
- B01D2257/206—Organic halogen compounds
- B01D2257/2066—Fluorine
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 유해가스 분해장치 분야에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 과불화화합물을 포함하는 유해가스를 분해 처리하는 장치 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to the field of noxious gas decomposition apparatus, and more particularly, to an apparatus for decomposing and treating noxious gas containing a perfluorinated compound.
과불화화합물(PFCs)은 지방족 탄화수소에서 다량의 플루오르가 치환되어 있는 화합물로서 최근 그에 대한 규제가 강화되고 있다. 이러한 과불화화합물은 지구온난화지수(global warming potential)가 이산화탄소 대비 수천~수만 배로 매우 높아 지구 온난화의 주범으로 지목 받고 있다. 또한 이러한 과불화화합물의 일부는 조리용기나 종이컵의 코팅제나 냉매로도 사용되고 있지만, 뇌, 신경, 간 독성을 유발하고 호르몬을 교란한다고 추정되고 있다.Perfluorocompounds (PFCs) are compounds in which a large amount of fluorine is substituted in aliphatic hydrocarbons. These perfluorinated compounds are considered to be the main cause of global warming because of their global warming potential which is thousands to tens of thousands times higher than that of carbon dioxide. Some of these perfluorinated compounds are also used as coatings or refrigerants in cooking vessels and paper cups, but they are believed to cause brain, nerve, and liver toxicity and disturb hormones.
과불화화합물은 메모리나 LCD와 같은 반도체 디바이스 생산 공정이 주 발생원이다. 이를테면, 식각공정의 에칭제(etchant) 및 화학증착공정(chemical vapor deposition process)의 반응기(chamber) 세정제로 많이 사용되면서 대량으로 배출되고 있고, 대표적으로는 CF4, CHF3, C3F6, CH2F2, C3F4, C2F6, C3F8, C4F10, C5F8, SF6, NF3 등을 들 수 있다. 그 외 PFCs는 종래에 사용되던 클로로-플루오로카본(chloro-fluorocarbon; CFC)을 대체하여 세정제, 에칭제, 용매, 반응원료 등의 목적으로 사용하거나 제조하는 공정 및 작업장에서 배출되는 폐가스에도 포함된다.Perfluorinated compounds are the main source of semiconductor device production processes such as memory and LCD. For example, it is widely used as a cleaning agent for an etching etchant and a chemical vapor deposition process, and is discharged in large quantities. Typically, CF 4 , CHF 3 , C 3 F 6 , CH 2 F 2 , C 3 F 4 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 10 , C 5 F 8 , SF 6 and NF 3 . Other PFCs are also included in the waste gas discharged from the workplace and processes used or manufactured for the purpose of replacing chloro-fluorocarbon (CFC), which is conventionally used, for cleaning agents, etching agents, solvents, reaction materials .
이와 같이 과불화화합물이 반도체 디바이스 공정과 같은 공산품의 생산 과정에서 주로 발생되고 있기 때문에, 이를 효율적으로 분해 처리하는 것이 매우 중요하고 또한 필수적이라고 할 수 있다.
Since the perfluorinated compound is mainly generated in the production process of a commercial product such as a semiconductor device process, it is very important and necessary to efficiently decompose the product.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 감안한 것으로서, 과불화화합물을 포함하는 유해가스를 분해 처리할 수 있는 장치를 제공한다.The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and provides an apparatus capable of decomposing and treating noxious gas containing a perfluorinated compound.
본 발명은 처리 챔버가 다수개의 구획 공간 구성된 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치를 제공한다.The present invention provides a noxious gas cracking apparatus wherein the process chamber comprises a perfluorinated compound comprising a plurality of compartment spaces.
본 발명은 내열성 또는 내화학성이 뛰어난 합금강을 채용하거나, 또는 금속 표면에 내열성 또는 내화학성을 가지는 코팅층을 채용함으로써 긴 장치 수명을 가지는 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치를 제공한다.
The present invention provides a noxious gas decomposition apparatus comprising an alloyed steel having excellent heat resistance or chemical resistance, or a perfluorinated compound having a long device life by adopting a coating layer having heat resistance or chemical resistance on a metal surface.
본 발명은 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치를 제공하며, 이는: 내부에 처리 챔버를 제공하고, 유해가스의 유입 또는 처리된 가스의 배출이 이루어지는 급배기구를 구비하는 반응기 본체; 상기 처리 챔버 내에 수용된 축열체; 상기 처리 챔버 내 상기 축열체 상에 배치된 촉매; 및 상기 반응기 본체의 상기 급배기구에 연결되어 유해가스 및 처리된 가스를 급기 또는 배기하는 급배기장치부;를 포함한다.The present invention provides a noxious gas decomposition apparatus comprising a perfluorinated compound, comprising: a reactor body provided with a process chamber therein and having an exhaust port through which a noxious gas is introduced or a treated gas is discharged; A regenerator accommodated in the processing chamber; A catalyst disposed on the regenerator in the processing chamber; And an air supply and exhaust unit connected to the air supply and exhaust port of the reactor body for supplying or exhausting noxious gas and treated gas.
상기 처리 챔버는 하나 이상의 파티션에 의해 분리되고, 각각 상기 축열체와 상기 촉매가 배치되는 다수개의 구획 공간을 포함하고, 상기 급배기구는 상기 다수개의 구획 공간 각각마다 형성된 것일 수 있다.The process chamber may include a plurality of compartment spaces separated by one or more partitions and each of the regenerator and the catalyst are disposed, and the air supply / exhaust port may be formed for each of the plurality of compartment spaces.
상기 처리 챔버의 상부가 서로 연결된 공간을 형성하도록, 상기 하나 이상의 파티션은 상기 반응기 본체의 내부 바닥면으로부터 소정 높이를 가질 수 있다.The one or more partitions may have a predetermined height from the inner bottom surface of the reactor body such that the top of the processing chamber forms a space connected to each other.
적어도 유해가스 또는 처리된 가스가 접촉하는 부위는 Ni, Cr, 및 Fe을 포함하는 합금강, 또는 Ni, Cr, Mo, 및 Fe을 포함하는 합금강으로 형성될 수 있다.At least the portion where the harmful gas or the treated gas comes into contact may be formed of an alloy steel containing Ni, Cr, and Fe, or an alloy steel including Ni, Cr, Mo, and Fe.
적어도 유해가스 또는 처리된 가스가 접촉되는 부위의 금속 표면에는 내열 또는 내화학성을 가지는 코팅층이 구비될 수 있다. 여기서, 상기 코팅층은 Xylylene 또는 Parylene을 함유한 폴리머 코팅층, 또는 PTFE(polytetrafluoroethylene), PFA(perfluoroalkoxy), FEP(fluorinated ethylene propylene copolymer) 또는 ETFE(ethylene tetrafluoroethylene copolymer)을 함유한 복합수지 코팅층일 수 있다.At least a metal surface on which a harmful gas or a treated gas is contacted may be provided with a coating layer having heat resistance or chemical resistance. Here, the coating layer may be a polymer coating layer containing Xylylene or Parylene, or a composite resin coating layer containing PTFE (polytetrafluoroethylene), PFA (perfluoroalkoxy), FEP (fluorinated ethylene propylene copolymer) or ETFE (ethylene tetrafluoroethylene copolymer).
상기 급배기장치부는: 상기 급배기구 마다에 연결된 배관 형태의 연결라인들; 상기 연결라인들의 일측이 연결된 배관 형태의 급기라인; 상기 연결라인들의 타측이 연결된 배관 형태의 배기라인; 및 상기 연결라인들과 상기 급기라인의 연결부 및 상기 연결라인들과 상기 배기라인의 연결부에 각각 설치되어 상기 연결라인들 각각과 상기 급기라인 간의 개폐 및 상기 연결라인들 각각과 상기 배기라인 간의 개폐하도록 설치되는 댐퍼부들;을 포함한다.The air supply and exhaust unit includes: connection lines in the form of piping connected to each of the air supply and exhaust ports; A supply line in the form of a pipe connected to one side of the connection lines; An exhaust line in the form of a pipe connected to the other side of the connection lines; And a connection line connecting the connection lines and the air supply line, and a connecting line connecting the connection lines and the exhaust line, respectively, so as to open and close each of the connection lines and the air supply line, And damper portions to be installed.
상기 급배기장치부에 의한 상기 댐퍼부 각각의 개폐 동작 제어에 의해 상기 급배기구 각각에 연결된 상기 연결라인은 정해진 주기 마다 상기 급기라인 또는 상기 배기라인에 연결될 수 있다.
The connection line connected to each of the air supply / exhaust ports may be connected to the air supply line or the exhaust line at predetermined intervals by the opening / closing operation control of each of the damper portions by the air supply / exhaust unit.
본 발명에 따르면, 과불화화합물을 포함하는 유해가스를 효율적으로 처리하고 또한 사용 수명이 긴 분해장치가 제공된다. 이러한 장치는 처리 챔버를 각각 축열체와 촉매가 수용된 다수개의 구획 공간으로 분리하고 각각의 구획 공간으로 유해가스를 급기 또는 배기하여 처리함으로써 처리 효율이 높다. 더구나, 이러한 구성을 이용하여 각 구획 공간에서의 가스의 흐름 방향을 주기적으로 전환할 수 있기 때문에 열회수율이 높다. 나아가, 유해가스 또는 처리된 가스가 접촉하는 부위에는 내열성 또는 내화학성이 좋은 합금강을 적용하고 또한 금속 표면에 내열성 또는 내화학성이 뛰어난 코팅층을 배치함으로써 불화수소, 기타 산성물질, 및 열기 등에 노출된 악조건 속에서도 장치를 비교적 안전하게 장시간 사용할 수 있다.
According to the present invention, a decomposition apparatus which efficiently processes noxious gas containing a perfluorinated compound and has a long service life is provided. Such an apparatus has a high processing efficiency by separating the processing chamber into a plurality of compartment spaces each containing a heat accumulator and a catalyst, and treating and discharging noxious gas into the compartment spaces. Moreover, since the flow direction of gas in each compartment space can be periodically switched using this configuration, the heat recovery rate is high. Further, alloy steel having good heat resistance or chemical resistance is applied to the portion where the harmful gas or the treated gas is in contact, and a coating layer having excellent heat resistance or chemical resistance is disposed on the metal surface, so that the bad condition exposed to hydrogen fluoride, The device can be used relatively safely for a long period of time.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치를 도시한 정면도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치를 도시한 측면도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치를 도시한 평면도이다
도 5a 및 5b는 도 1의 본 발명의 바람직한 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치에서 반응기 본체의 측벽과 천정부를 제거하여 내부가 보이도록 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치에 채용되는 급배기장치부를 도시한 도면이다.1 is a perspective view showing a noxious gas decomposition apparatus including a perfluorinated compound according to a preferred embodiment of the present invention.
2 is a front view showing a noxious gas decomposition apparatus including a perfluorinated compound according to a preferred embodiment of the present invention.
3 is a side view showing a noxious gas decomposition apparatus including a perfluorinated compound according to a preferred embodiment of the present invention.
4 is a plan view showing a noxious gas decomposition apparatus including a perfluorinated compound according to a preferred embodiment of the present invention
FIGS. 5A and 5B are views showing the inside of the reactor body by removing the side walls and the ceiling of the reactor body in the noxious gas decomposition apparatus containing the preferred perfluorinated compound of the present invention of FIG. 1;
6 is a view showing an air supply and exhaust unit employed in a noxious gas decomposition apparatus containing a perfluorinated compound of the present invention.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시예를 설명함에 있어서, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the embodiments of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.
도 1 내지 도 5은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치를 나타내는 도면이다. 도 1은 개략적인 사시도이고, 도 2는 개략적인 정면도이며, 도 3은 개략적인 측면도이며, 도 4는 위에서 내려다본 평면도이다. 참고적으로 도 2에서는 이해의 편의를 위해, 일부분의 내부가 보이도록 도시하였다. 또한 도 5a 및 5b는 도 1의 본 발명의 바람직한 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치에서 반응기 본체(11)의 측벽과 천정부를 제거하여 내부가 보이도록 도시한 도면이다.1 to 5 are views showing a noxious gas decomposition apparatus containing a perfluorinated compound according to a preferred embodiment of the present invention. Figure 1 is a schematic perspective view, Figure 2 is a schematic front view, Figure 3 is a schematic side view, and Figure 4 is a top plan view from above. For reference, in FIG. 2, for the sake of understanding, a part of the interior is shown to be seen. 5A and 5B are views showing the inside of the reactor
도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치는 유해가스가 처리되는 처리 챔버(111)를 내부에 제공하는 반응기 본체(11)와, 처리 챔버(111)로 유해가스를 공급하고 처리된 가스를 배기하기 위해 반응기 본체(11)에 연결되는 급배기장치부(12)를 포함한다.Referring to the drawings, a noxious gas decomposition apparatus including a perfluorinated compound according to a preferred embodiment of the present invention includes a
반응기 본체(11)는 그 내부에 유해가스의 분해 처리가 수행되는 밀폐된 처리 챔버(111)를 제공한다. 이를 위해, 반응기 본체(11)는 내부에 밀폐된 공간을 가지는 바닥부, 측벽부, 및 천정부를 형성하는 벽체들로 이루어질 수 있다. 도시한 바와 같이 반응기 본체(11)는 육면체와 같은 형태를 가질 수 있지만, 그에 한정되는 것은 아니다. 또한 벽체들은 내면에 내화부재가 배치될 수 있다.The
도면에서 알 수 있는 바와 같이, 반응기 본체(11)는 지지프레임(13)에 의해 소정 높이로 지지되고, 급배기장치부(12)는 반응기 본체(11)의 아래에서 가스를 공급하거나 배기할 수 있다.As can be seen in the figure, the
반응기 본체(11) 내부에 제공되는 처리 챔버(111)는 바람직하게는 소정 높이의 하나 이상의 파티션(112)들에 의해 다수개의 구획 공간(1111, 1112, 1113)으로 나뉠 수 있다. 파티션(112)들이 반응기 본체(11)의 천정보다 낮은 높이를 가지기 때문에 처리 챔버(111) 내부에서 상부 공간은 가스가 이동가능하도록 연결되어 있다.The
도 5에서 보이는 바와 같이, 반응기 본체(11)에는 유해가스가 유입되거나 처리된 가스가 배출되는 하나 이상의 급배기구(113)가 구비되며, 이들은 다수개의 구획 공간(1111, 1112, 1113) 각각에 배치된다. 바람직하게 급배기구(113)들은 각 구획 공간(1111, 1112, 1113)의 저면 부위에 형성되고, 이를 통해 처리 챔버(111)의 각 구획 공간(1111, 1112, 1113) 내부로 유해가스가 유입되거나 처리된 가스가 배출된다. 도 4에서는 급배기구(113)에 제1그리드(114)가 배치된 상태를 보여준다.5, the reactor
처리 챔버(111)의 각 구획 공간(1111, 1112, 1113) 내부에는 축열체(151)와 촉매(152)가 수용된다. 축열체(151)와 촉매(152)는 도시한 한 바와 같이 각 구획 공간(1111, 1112, 1113) 내에서 적층된 일체형으로 배치될 수 있다.The
도 5a와 5b에서 잘 보이는 바와 같이, 각각의 급배기구(113)에는 제1그리드(114)가 배치된다. 제1그리드(114)는 처리 챔버(111)의 각 구획 공간(1111, 1112, 1113)에 배치된 축열체(151) 및 촉매(152)를 지지하면서 유입 또는 배출되는 가스를 통과시킨다.As best seen in FIGS. 5A and 5B, the
따라서 제1그리드(114)는 처리 챔버(111), 구체적으로 각 구획 공간(1111, 1112, 1113) 내부로 유입되는 가스의 기류를 분산시켜서 균일한 풍량이 각 구획 공간(1111, 1112, 1113) 내부로 이송되도록 하는 역할을 수행할 수 있어야 한다. 또한 제1그리드(114)는 처리 챔버(111) 내부로 분진이 유입되는 것을 방지하고 축열체(151)의 열손실을 방지하는 역할도 수행한다.Accordingly, the
또한 각 급배기구(113) 부위의 반응기 본체(11)의 저면의 외측에는 호퍼부(116)가 배치된다. 아래에서 설명되는 급배기장치부(12)는 이러한 호퍼부(116)를 통해 각 급배기구(113)에 연결된다.A
또한 호퍼부(116)에는 제2그리드(117)가 배치된다. 제2그리드(117) 역시 기류를 분산시키고, 처리 챔버(111) 내부로 유입되는 가스에 함유된 분진을 저감시키며, 처리 챔버(111) 내에 배치된 축열체(151)의 열손실을 방지하는 기능을 수행한다.A
바람직하게는 제2그리드(117) 상에는 하부 축열체가 더 배치될 수 있고, 이러한 하부 축열체(153)는 교체가 가능하도록 구성할 수 있다. 하부 축열체(153)는 유입되는 유해 가스를 예열하고, 챔버 내 축열체(151)의 열손실을 방지할 수 있다.Preferably, a lower accumulator body may further be disposed on the
이와 같이 본 발명의 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치는 제1그리드(114)와 제2그리드(117)의 이중 그리드 구조를 가지기 때문에, 축열체(151)의 열손실이 효율적으로 방지됨과 더불어 및 열회수율이 향상될 수 있다.As described above, since the noxious gas decomposition apparatus including the perfluorinated compound of the present invention has the double grid structure of the
상술한 바와 같이, 급배기장치부(12)는 호퍼부(116)를 통해서 각 급배기구(113)에 연결되며, 도 6은 본 발명의 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치에 채용되는 급배기장치부(12)를 보여주는 도면이다.As described above, the air supply and
도 6을 참조하여, 급배기장치부(12)는 반응기 본체(11)의 급배기구(113)들과 연결된 배관으로서 연결라인(121)을 포함한다. 연결라인(121)들의 일측에는 배관 형태의 급기라인(122)이 연결되고, 연결라인(121)의 타측에는 배기라인(123)이 연결된다. 연결라인(121)들과 급기라인(122)의 연결부위 그리고 연결라인(121)들과 배기라인(123)의 연결부위에는 연결을 개폐할 수 있는 댐퍼부(124)가 배치된다. 이러한 각각의 댐퍼부(124)의 개폐 동작에 의해서 각 연결라인(121)들은 급기라인(122)에 연결되거나 배기라인(123)에 연결된다. 따라서, 처리 챔버(111)의 해당 구획 공간(1111, 1112, 1113)으로 유해가스를 공급하거나 처리된 가스를 배기하게 된다.6, the air supply and
바람직하게는, 본 발명의 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치의 급배기장치부(12)는 각 댐퍼부(124)의 개폐 동작을 제어하여 주기적으로 가스의 흐름을 공급하는 방향 또는 배기하는 방향으로 전환할 수 있다. 즉, 어느 구획 공간의 급배기구(113)로는 유해가스가 유입되고, 다른 구획 공간의 급배기구(113)로는 배기되도록 할 수 있고, 이러한 가스 흐름 방향을 주기적으로 전환할 수 있다. 따라서, 열회수율이 향상될 수 있다.Preferably, the air supply /
참고적으로, 도 5a에서와 같이 댐퍼부(124)의 실린더가 횡방향으로 동작하도록 설치된 형태의 수평형 댐퍼부가 적용될 수도 있고, 도 5b 및 나머지 도면들에서 보여주는 바와 같이 댐퍼부(124)의 실린더가 종방향으로 동작하는 수직형 댐퍼부가 적용될 수도 있다. 참고적으로, 수직형 및 수평형 댐퍼부에 대해서는 동일하게 도면부호 124를 부여하였다.For reference, a horizontal type damper unit in which the cylinder of the
도 2에서 잘 보이는 바와 같이, 각 연결라인(121)의 하부에는 포집통(125)이 배치되어 배출되는 분진을 수용하게 된다.As shown in FIG. 2, a collecting
또한, 호퍼부(116), 포집통(125) 등에는 투시창(18)을 배치하여 내부 상태를 관찰할 수 있도록 함으로써, 문제 발생시에 신속한 조치를 취할 수 있도록 할 수 있다.In addition, the
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치는 적어도 유해가스 또는 처리된 가스가 접촉하는 부위에 Ni, Cr, 및 Fe를 포함하는 합금강, 또는 Ni, Cr, Mo, 및 Fe를 포함하는 합금강을 적용할 수 있다.The noxious gas decomposition apparatus containing a perfluorinated compound according to a preferred embodiment of the present invention is characterized in that at least a noxious gas or an alloyed steel containing Ni, Cr, and Fe or Ni, Cr, Mo, Fe alloy can be applied.
Ni, Cr, 및 Fe를 포함하는 합금강의 경우에는, Ni은 73 내지 79중량%, Cr은 14 내지 16중량%, Fe는 4 내지 11중량%, 및 불가피한 불순물로 이루어질 수 있다. 바람직하게 Ni, Cr, 및 Fe를 포함하는 합금강은 Ni 76중량%, Cr15중량%, Fe 8중량%, 및 불가피한 불순물로 이루어질 수 있다.In the case of alloy steels containing Ni, Cr and Fe, Ni may be composed of 73 to 79 wt%, Cr 14 to 16 wt%, Fe 4 to 11 wt%, and inevitable impurities. Preferably, the alloy steel containing Ni, Cr, and Fe may consist of 76 wt% of Ni, 15 wt% of Cr, 8 wt% of Fe, and inevitable impurities.
Ni, Cr, Mo, 및 Fe을 포함하는 합금강의 경우에는, Ni 60 내지 62 중량%, Cr 21 내지 22 중량%, Mo 8 내지 10 중량%, Fe 7 내지 9 중량%, 및 불가피한 불순물로 이루어질 수 있다. 이 경우 바람직하게는 Ni 61 중량%, Cr 21.5 중량%, Mo 9 중량%, 및 Fe 8 중량%일 수 있다.In the case of alloy steels containing Ni, Cr, Mo and Fe, it is preferable that the alloy steel is composed of 60 to 62% by weight of Ni, 21 to 22% by weight of Cr, 8 to 10% by weight of Mo, 7 to 9% by weight of Fe and unavoidable impurities have. In this case, it may preferably be 61% by weight of Ni, 21.5% by weight of Cr, 9% by weight of Mo and 8% by weight of Fe.
또한, Ni, Cr, Mo, 및 Fe을 포함하는 합금강의 경우에는, Ni 56 내지 58 중량%, Cr 15 내지 17 중량%, Mo 15 내지 17 중량%, Fe 5 내지 6 중량%, 및 불가피한 불순물로 이루어질 수 있다. 이 경우 바람직하게는 Ni 57 중량%, Cr 16 중량%, Mo 16 중량%, Fe 5.5 중량%, 및 불가피한 불순물로 이루어질 수 있다.Further, in the case of alloy steels containing Ni, Cr, Mo and Fe, it is preferable that 56 to 58 wt% of Ni, 15 to 17 wt% of Cr, 15 to 17 wt% of Mo, 5 to 6 wt% of Fe, Lt; / RTI > In this case, it may preferably consist of 57% by weight of Ni, 16% by weight of Cr, 16% by weight of Mo, 5.5% by weight of Fe, and inevitable impurities.
또한, Ni, Cr, Mo, 및 Fe을 포함하는 합금강의 경우에는, Ni 58 내지 60 중량%, Cr 20 내지 21 중량%, Mo 14.0 내지 14.5 중량%, Fe 2.2 내지 2.4 중량%, 및 불가피한 불순물로 이루어질 수 있다. 이 경우 바람직하게는 Ni 59 중량%, Cr 20.5 중량%, Mo 14.2 중량%, Fe 2.3 중량%, 및 불가피한 불순물로 이루어질 수 있다.In the case of alloy steels containing Ni, Cr, Mo and Fe, it is preferable that the alloy steel contains 58 to 60 wt% of Ni, 20 to 21 wt% of Cr, 14.0 to 14.5 wt% of Mo, 2.2 to 2.4 wt% of Fe, Lt; / RTI > In this case, it may preferably be composed of 59% by weight of Ni, 20.5% by weight of Cr, 14.2% by weight of Mo, 2.3% by weight of Fe, and inevitable impurities.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치는 적어도 유해가스 또는 처리된 가스와 접촉하는 부위의 금속 표면에 폴리머 코팅층 또는 복합수지 코팅층이 구비되어 내열성 및 내화학성이 향상될 수 있다.The noxious gas decomposition apparatus comprising a perfluorinated compound according to a preferred embodiment of the present invention is characterized in that a polymer coating layer or a composite resin coating layer is provided on at least a metal surface in contact with a noxious gas or a treated gas to improve heat resistance and chemical resistance .
폴리머 코팅층은 Xylylene 또는 Parylene을 함유한 폴리머 코팅소재를 적용할 수 있고, 복합수지 코팅층은 PTFE(polytetrafluoroethylene), PFA(perfluoroalkoxy), FEP(fluorinated ethylene propylene copolymer), 또는 ETFE(ethylene tetrafluoroethylene copolymer)을 함유한 복합수지 코팅소재를 적용할 수 있다.The polymer coating layer may be a polymer coating material containing Xylylene or Parylene and the composite resin coating layer may be formed of a material containing PTFE (polytetrafluoroethylene), PFA (perfluoroalkoxy), FEP (fluorinated ethylene propylene copolymer), or ETFE (ethylene tetrafluoroethylene copolymer) A composite resin coating material can be applied.
이상, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해서 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명하다 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments.
11: 반응기 본체 12: 급배기장치부
13: 지지프레임 111: 처리 챔버
112: 파티션 113: 급배기구
114: 제1그리드 1111, 1112, 1113: 구획 공간
116: 호퍼부 117: 제2그리드
118: 투시창 121: 연결라인
122: 급기라인 123: 배기라인
124: 댐퍼부 125: 포집통11: Reactor main body 12: Supply and exhaust unit
13: support frame 111: processing chamber
112: partition 113:
114:
116: Hopper section 117: Second grid
118: view window 121: connection line
122: air supply line 123: exhaust line
124: damper part 125: collection container
Claims (8)
내부에 처리 챔버를 제공하고, 유해가스의 유입 또는 처리된 가스의 배출이 이루어지는 급배기구를 구비하는 반응기 본체;
상기 급배기구에 배치되는 제1그리드;
상기 처리 챔버 내에 수용된 축열체;
상기 처리 챔버 내 상기 축열체 상에 배치된 촉매;
상기 급배기구 부위의 반응기 본체의 저면의 외측에 배치되는 호퍼부;
상기 호퍼부에 배치되는 제2그리드; 및
상기 호퍼부를 통해 상기 급배기구에 연결되어 유해가스 및 처리된 가스를 급기 또는 배기하는 급배기장치부;를 포함하고,
상기 제2그리드 상에는 하부 축열체가 더 배치되는 것인, 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치.
10. A noxious gas decomposition apparatus comprising a perfluorinated compound,
A reactor body provided with a processing chamber therein and having an exhaust port through which a noxious gas is introduced or a processed gas is discharged;
A first grid disposed in the air supply / discharge port;
A regenerator accommodated in the processing chamber;
A catalyst disposed on the regenerator in the processing chamber;
A hopper portion disposed on an outer side of a bottom surface of the reactor main body at the air supply / exhaust port portion;
A second grid disposed in the hopper portion; And
And an air supply and exhaust unit connected to the air supply and exhaust port through the hopper unit to supply or exhaust the noxious gas and the processed gas,
And a lower regenerator is further disposed on the second grid.
상기 처리 챔버는 하나 이상의 파티션에 의해 분리되고, 각각 상기 축열체와 상기 촉매가 배치되는 다수개의 구획 공간을 포함하고,
상기 급배기구는 상기 다수개의 구획 공간 각각마다 형성된 것인, 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치.
The method according to claim 1,
Wherein the processing chamber is separated by one or more partitions and includes a plurality of compartment spaces in which the regenerator and the catalyst are disposed, respectively,
Wherein the air supply / discharge port is formed for each of the plurality of compartment spaces.
상기 처리 챔버의 상부가 서로 연결된 공간을 형성하도록, 상기 하나 이상의 파티션은 상기 반응기 본체의 내부 바닥면으로부터 소정 높이를 가지는 것인, 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치.
The method of claim 2,
Wherein the at least one partition has a predetermined height from the inner bottom surface of the reactor body such that the top of the processing chamber forms a space connected to each other.
적어도 유해가스 또는 처리된 가스가 접촉하는 부위는 Ni, Cr, 및 Fe을 포함하는 합금강, 또는 Ni, Cr, Mo, 및 Fe을 포함하는 합금강으로 형성된 것인, 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치.
The method according to claim 1,
Wherein at least a portion where the harmful gas or the treated gas comes into contact is formed of an alloy steel containing Ni, Cr, and Fe or an alloy steel containing Ni, Cr, Mo, and Fe, Device.
적어도 유해가스 또는 처리된 가스가 접촉되는 부위의 금속 표면에는 내열 또는 내화학성을 가지는 코팅층이 구비된 것인, 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치.
The method according to claim 1,
Wherein the metal surface of the portion where at least the noxious gas or the treated gas is contacted is provided with a coating layer having heat resistance or chemical resistance.
상기 코팅층은 Xylylene 또는 Parylene을 함유한 폴리머 코팅층, 또는 PTFE(polytetrafluoroethylene), PFA(perfluoroalkoxy), FEP(fluorinated ethylene propylene copolymer) 또는 ETFE(ethylene tetrafluoroethylene copolymer)을 함유한 복합수지 코팅층인 것인, 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치.
The method of claim 5,
Wherein the coating layer is a polymer coating layer containing Xylylene or Parylene or a composite resin coating layer containing PTFE (polytetrafluoroethylene), PFA (perfluoroalkoxy), FEP (fluorinated ethylene propylene copolymer) or ETFE (ethylene tetrafluoroethylene copolymer) And a decomposition device for decomposing the noxious gas.
상기 급배기구 마다에 연결된 배관 형태의 연결라인들;
상기 연결라인들의 일측이 연결된 배관 형태의 급기라인;
상기 연결라인들의 타측이 연결된 배관 형태의 배기라인; 및
상기 연결라인들과 상기 급기라인의 연결부 및 상기 연결라인들과 상기 배기라인의 연결부에 각각 설치되어 상기 연결라인들 각각과 상기 급기라인 간의 개폐 및 상기 연결라인들 각각과 상기 배기라인 간의 개폐하도록 설치되는 댐퍼부들;을 포함하는 것인, 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치.
4. The air conditioner according to claim 3, wherein the air supply /
Connection lines in the form of pipes connected to each of the air supply / exhaust ports;
A supply line in the form of a pipe connected to one side of the connection lines;
An exhaust line in the form of a pipe connected to the other side of the connection lines; And
The connection lines are connected to the connection lines and the connection lines of the connection lines and the connection lines of the connection lines and the connection lines of the connection lines are opened and closed between the connection lines and between the connection lines and the connection line, And a damper part (22) which is connected to the damper part (22).
상기 급배기장치부에 의한 상기 댐퍼부 각각의 개폐 동작 제어에 의해 상기 급배기구 각각에 연결된 상기 연결라인은 정해진 주기 마다 상기 급기라인 또는 상기 배기라인에 연결되는 것인, 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해장치.The method of claim 7,
Wherein the connection line connected to each of the air supply / exhaust ports is connected to the air supply line or the air supply line at regular intervals by an opening / closing operation control of each of the damper portions by the air supply / discharge unit. Gas decomposition apparatus.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140077694A KR101521389B1 (en) | 2014-06-24 | 2014-06-24 | Apparatus for decomposing harmful gas including perfluorinated compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140077694A KR101521389B1 (en) | 2014-06-24 | 2014-06-24 | Apparatus for decomposing harmful gas including perfluorinated compounds |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR101521389B1 true KR101521389B1 (en) | 2015-05-20 |
Family
ID=53395013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140077694A KR101521389B1 (en) | 2014-06-24 | 2014-06-24 | Apparatus for decomposing harmful gas including perfluorinated compounds |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101521389B1 (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180073859A (en) * | 2016-12-23 | 2018-07-03 | 주식회사 에코프로 | Method and apparatus for decomposition of perfluoro compound |
KR20200066873A (en) * | 2018-12-03 | 2020-06-11 | 김종현 | Entry-level type apparatus for regenerative thermal oxidation process |
KR20210136249A (en) | 2020-05-07 | 2021-11-17 | 코아텍주식회사 | Catalyst Disassembly Device and Method of PFCs Gas |
CN113832370A (en) * | 2020-06-24 | 2021-12-24 | 中国科学院金属研究所 | Medium-temperature oxidation-resistant nickel-based corrosion-resistant alloy and preparation process thereof |
KR20230007890A (en) * | 2021-07-06 | 2023-01-13 | 엠에이티플러스 주식회사 | High-capacity gas treatment system for rooftops |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000334267A (en) * | 1999-05-25 | 2000-12-05 | Trinity Ind Corp | Heat storage type waste gas treating device |
KR20010091707A (en) * | 2000-03-17 | 2001-10-23 | 스기우라 후미오 | Exhast gas processing apparatus |
KR20030011036A (en) * | 2002-12-10 | 2003-02-06 | 유문하 | Regenerative thermal oxidizer |
KR20130119134A (en) * | 2012-04-23 | 2013-10-31 | 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 | Apparatus and method of treating perfluoro compounds |
-
2014
- 2014-06-24 KR KR1020140077694A patent/KR101521389B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000334267A (en) * | 1999-05-25 | 2000-12-05 | Trinity Ind Corp | Heat storage type waste gas treating device |
KR20010091707A (en) * | 2000-03-17 | 2001-10-23 | 스기우라 후미오 | Exhast gas processing apparatus |
KR20030011036A (en) * | 2002-12-10 | 2003-02-06 | 유문하 | Regenerative thermal oxidizer |
KR20130119134A (en) * | 2012-04-23 | 2013-10-31 | 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 | Apparatus and method of treating perfluoro compounds |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180073859A (en) * | 2016-12-23 | 2018-07-03 | 주식회사 에코프로 | Method and apparatus for decomposition of perfluoro compound |
KR101939609B1 (en) * | 2016-12-23 | 2019-01-18 | 주식회사 에코프로 | Method and apparatus for decomposition of perfluoro compound |
KR20200066873A (en) * | 2018-12-03 | 2020-06-11 | 김종현 | Entry-level type apparatus for regenerative thermal oxidation process |
KR102243827B1 (en) * | 2018-12-03 | 2021-04-23 | 김종현 | Entry-level type apparatus for regenerative thermal oxidation process |
KR20210136249A (en) | 2020-05-07 | 2021-11-17 | 코아텍주식회사 | Catalyst Disassembly Device and Method of PFCs Gas |
KR102466748B1 (en) * | 2020-05-07 | 2022-11-14 | 코아텍주식회사 | Catalyst Disassembly Device for PFCs Gas |
CN113832370A (en) * | 2020-06-24 | 2021-12-24 | 中国科学院金属研究所 | Medium-temperature oxidation-resistant nickel-based corrosion-resistant alloy and preparation process thereof |
KR20230007890A (en) * | 2021-07-06 | 2023-01-13 | 엠에이티플러스 주식회사 | High-capacity gas treatment system for rooftops |
KR102572931B1 (en) | 2021-07-06 | 2023-08-31 | 엠에이티플러스 주식회사 | High-capacity gas treatment system for rooftops |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101521389B1 (en) | Apparatus for decomposing harmful gas including perfluorinated compounds | |
JP4074322B2 (en) | Combustion gas generator using electrolysis and in-vehicle combustion gas generator | |
CN107073392B (en) | Exhaust gas treatment device | |
TW409170B (en) | Large quantity supply apparatus for the gas in semiconductor process | |
US9708720B2 (en) | Gas generation device | |
CN102792100A (en) | Decontamination arrangement and method | |
WO2010143464A1 (en) | Fluorine gas generating device | |
AU2014284045B2 (en) | System for recovering and recycling acid mist generated in electrolytic cells for electrowinning or electrorefining non-ferrous metals | |
TW201317398A (en) | Anodic compartment for metal electrowinning cells | |
US20120318665A1 (en) | Apparatus for Generating Fluorine Gas | |
TW200416306A (en) | Fluorine gas generator | |
KR101465006B1 (en) | Water treating apparatus using plasma | |
US9194050B2 (en) | Fluorine gas generator | |
JP4929404B2 (en) | Electrolysis using electrolysis | |
JP2007239918A (en) | Diaphragm valve and substrate treating device | |
KR101521390B1 (en) | Grid and apparatus for decomposing harmful gas therewith | |
JP6086229B2 (en) | Detoxification processing equipment | |
JP2016013498A (en) | Apparatus and method for aerating/purifying contaminated water | |
KR101740311B1 (en) | Wet scrubber using vortex and elimination method of noxious gas using the same | |
CN110624394B (en) | Double-layer biological filter | |
KR101642866B1 (en) | A cartridge with double pipe for adsorbing type of scrubber | |
SU1662603A1 (en) | Device for air cleaning | |
JP2016190206A (en) | Removal method of arsine in exhaust gas | |
JP2014188497A (en) | Detoxification treatment apparatus and detoxification treatment method | |
CN202105579U (en) | Neutralization device for chlorine-containing gas |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180514 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190508 Year of fee payment: 5 |