KR101499067B1 - Dental implant assembly - Google Patents
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Abstract
본 발명은 양극산화 공법을 이용하여 임플란트 조립체의 상부 구조물에 산화막을 형성함으로써 임플란트 시술시 초기 골 손실을 방지하는 동시에 상부 구조물이 치은과 대응되는 색상을 나타내도록 하여 심미감을 향상시킬 수 있도록 하는 치과용 임플란트 조립체에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체의 상부 구조물에 대하여, 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층을 형성한 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체가 제공된다.The present invention relates to a method of manufacturing a dental prosthesis that can prevent an initial bone loss in an implant procedure by forming an oxide film on an upper structure of an implant assembly using an anodic oxidation method, To an implant assembly.
According to the present invention, there is provided a dental implant assembly to be performed in the oral cavity to replace teeth, wherein an oxide coating layer is formed on the upper structure of the dental implant assembly using an anodic oxidation method to improve esthetics and gingiva responsiveness Wherein the dental implant assembly comprises:
Description
본 발명은 환자의 상실된 치아를 회복하는데 사용되는 치과용 임플란트 조립체에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 양극산화 공법을 이용하여 임플란트 조립체의 상부 구조물에 산화막을 형성함으로써 임플란트 시술시 초기 골 손실을 방지하는 동시에 상부 구조물이 치은과 대응되는 색상을 나타내도록 하여 심미감을 향상시킬 수 있도록 하는 치과용 임플란트 조립체에 관한 것이다.The present invention relates to a dental implant assembly for use in restoring a lost tooth of a patient, and more particularly, to an initial dental implant assembly for preventing an initial bone loss during an implant operation by forming an oxide film on an upper structure of the implant assembly using an anodic oxidation So that the upper structure exhibits hues corresponding to the gingiva, thereby improving the esthetics of the dental implant.
임플란트란 상실된 인체 조직을 회복시켜 주는 대치물을 의미하는데, 치과에서는 일반적으로 상실된 치아의 치근(뿌리)을 대신할 수 있도록 자연치근이 빠져나간 치조골에 픽스츄어(Fixture)를 매식하여 유착시킨 후 인공치아(즉, 보철물)를 고정시켜 치아의 원래 기능을 회복하도록 하는 대치물을 의미한다.Implant refers to a replacement that restores the lost human tissue. In the dentist, a fixture is implanted in the alveolar bone that has been removed from the natural root to replace the root (root) of the lost tooth, (I. E., Prosthesis) to restore the original function of the tooth.
이와 같은 치과용 임플란트는 인공치아와 치근과의 결합방법에 따라서 다양하게 분류될 수 있다. 그 중에서 스크류의 결합력을 이용한 것으로서 스크류 타입 임플란트가 있는데, 종래의 스크류 타입 임플란트 시스템(임플란트 조립체)은, 픽스츄어, 지대주(Abutment) 및 인공치아 등으로 구성된다.Such dental implants can be classified into various types according to the method of bonding the artificial teeth and the root teeth. Among them, there are screw type implants using the screw coupling force. The conventional screw type implant system (implant assembly) is composed of a fixture, an abutment and an artificial tooth.
픽스츄어는 치조골에 매식되어 전체 임플란트 시스템을 고정하는 역할을 하는데, 인체 골조직과의 융합을 위해서 생체적합성이 우수한 티타늄 등으로 제조된다. 지대주는 픽스츄어에 결합되어, 인공치아를 고정하여 지지하는 역할을 한다. 인공치아는 인상채득, 작업모형 제작, 납형제작, 매몰 및 소환 공정 등의 공정을 통해 치아의 형태로 제작된다.The fixture is immersed in the alveolar bone and serves to fix the entire implant system, and is made of titanium or the like having excellent biocompatibility for fusion with the human bone tissue. The abutment is attached to the fixture and serves to fix and support the artificial tooth. Artificial teeth are made in the form of teeth through processes such as impression making, work modeling, lead-making, burial and summoning.
도 1에 도시된 바와 같이 종래기술에 따른 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어(1)와, 이 픽스츄어(1)에 결합되는 상부 구조물로서의 지대주(5)와, 이 지대주(5)에 의해 픽스츄어(1)에 고정되는 인공치아(도시생략)를 포함한다. 지대주(5)와 픽스츄어(1) 사이의 결합은 나사결합에 의해 이루어질 수 있는데, 도 1에는 픽스츄어(1)의 내주홀 내주면에 형성되는 암나사부(2)와 지대주(5)의 하단 외주면에 형성되는 숫나사부(6) 사이의 나사결합에 의해 지대주(5)가 픽스츄어(1)에 결합되는 방식이 예시되어 있다.1, the prior art implant assembly includes a fixture 1 immobilized on an alveolar bone, an
최근, 임플란트 시술시 기능적인 부분뿐만 아니라 심미적인 요인도 고려하여 임플란트 시술이 이루어질 것이 점차 요구되고 있다. 임플란트 시술을 받는 환자들 중에는 치은이 두꺼운 환자들도 있는 것에 반해서 얇은 치은을 갖는 환자의 수도 적지 않다. 치은이 얇은 환자의 경우, 임플란트 시술을 받은 후, 임플란트 조립체, 특히 지대주와 같은 상부구조물이 얇은 치은을 통해 비치는 경우가 있는데, 이는 심미적으로 매우 좋지 않다.Recently, it is increasingly demanded that the implant treatment is performed considering not only the functional part but also the aesthetic factor in the implant treatment. Some patients undergoing implant surgery have fewer gingiva, while others with thin gingiva have fewer gingiva. In the case of patients with thin gingiva, after the implant procedure, the implant structures, especially superstructures such as the abutments, may be seen through the thin gingiva, which is not very good aesthetically.
이러한 문제를 해결하고자 최근에는 상부구조물에 금색의 질화 티타늄(TiN)을 코팅하거나 세라믹 소재를 부착하여 심미적인 부분은 해결하려는 노력을 하고 있다. 하지만 금색은 치은의 색상과 대응되지 않기 때문에 문제해결에 한계가 있고, 세라믹 소재를 부착하는 방식은 세라믹 소재를 지대주에 부착하는 과정에서 필수적으로 실시해야 하는 열처리(베이킹)시 티타늄 소재나 기타 임플란트 제조용 금속소재의 산화를 초래하여 지대주 표면이나 구조상의 변형이나 변질을 발생시키는 문제가 있었다.In order to solve this problem, recently, TiN (gold nitride) is coated on the upper structure or ceramic material is attached to solve the aesthetic part. However, since gold does not correspond to the color of the gingiva, there is a limitation in solving the problem. In the case of attaching the ceramic material to the abutment, it is essential to perform the heat treatment (baking) Causing oxidation of the metal material and causing deformation or deterioration of the abutment surface or structure.
또, 치은의 색상은 한가지만 나타나지 않으며, 성별, 식생활 습관, 기호에 따라서 환자마다 다양한 색상이 나타나게 된다. 이와 같이 개개인의 치은 색상이 다르기 때문에 환자의 치은과 유사한 색상을 갖는 상부 구조물을 선택할 수 있다면, 상부구조물이 치은을 통해 비치는 문제점을 해결할 수 있다.In addition, there is only one color of gingiva, and various colors are displayed for each patient according to gender, eating habits, and preferences. Thus, if the upper structure having a color similar to the gingiva of the patient can be selected because the color of the individual gingiva is different, the problem that the upper structure is exposed through the gingival can be solved.
한편, 일반적으로 매립형(submerged type) 임플란트 조립체의 시술시, 픽스츄어의 식립 후 골 높이(bone level)가 1~2mm 정도 낮아지는 골 손실(bone loss)이 발생하게 된다. 이러한 문제를 해결하기 위해 상부 구조물에 레이저를 이용하여 미세홈(micro groove)을 형성하여 치은 반응성을 높여 골 손실이 일어나는 것을 방지하기 위한 많은 노력이 있었다. 하지만 레이저를 이용한 미세가공은 많은 비용과 특별한 기술을 요구하며, 대량생산적용이 어렵다는 단점이 있다.On the other hand, when a submerged type implant assembly is applied, a bone loss occurs in which the bone level is lowered by 1 to 2 mm after the fixture is placed. In order to solve this problem, there has been a lot of efforts to prevent the bone loss from occurring by increasing the reactivity of the gingiva by forming a micro groove using a laser on the superstructure. However, micromachining using laser requires a lot of cost and special technology, and it is disadvantage that it is difficult to apply in mass production.
이러한 종래의 문제점들을 해결하기 위한 본 발명은, 양극산화 공법을 이용하여 임플란트 조립체의 상부 구조물에 비정질 이산화티탄 산화막을 형성함으로써 임플란트 시술시 초기 골 손실을 방지하는 동시에 상부 구조물이 치은과 대응되는 색상을 나타내도록 하여 심미감을 향상시킬 수 있도록 하는 치과용 임플란트 조립체를 제공하고자 하는 것이다.In order to solve these conventional problems, an amorphous titanium dioxide oxide film is formed on an upper structure of an implant assembly using an anodic oxidation method, thereby preventing initial bone loss during implantation, Thereby improving the esthetics of the dental implant assembly.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체의 상부 구조물에 대하여, 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층을 형성한 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체가 제공된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a dental implant assembly that is performed in an oral cavity to replace a tooth, wherein an upper structure of the dental implant assembly includes: Wherein the oxide coating layer is formed using an oxidation method.
상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며, 상기 상부 구조물은 상기 지대주일 수 있다.The dental implant assembly includes a fixture inserted into an alveolar bone and an abutment coupled to the fixture to position the prosthesis on the fixture, and the superstructure may be the abutment.
상기 산화막 코팅층은 비정질의 이산화티탄으로 이루어지는 것이 바람직하다.It is preferable that the oxide coating layer is made of amorphous titanium dioxide.
상기 산화막 코팅층의 두께는 10 나노미터 이상 500 나노미터 이하 범위의 값 중에서 선택되는 것이 바람직하다.The thickness of the oxide coating layer is preferably selected from the range of 10 nanometers to 500 nanometers.
상기 산화막 코팅층이 가지는 Lab 값은, L: 50~80, a: -10~50, b: -30~50의 값을 가지는 것이 바람직하다.It is preferable that the Lab value of the oxide coating layer has a value of L: 50 to 80, a: -10 to 50, and b: -30 to 50.
상기 산화막 코팅층은 상기 지대주의 적어도 일부 표면에 걸쳐 형성되는 것이 바람직하다.The oxide coating layer is preferably formed over at least a part of the surface of the abutment.
상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함할 수 있다.The fixture includes a fixture engaging portion that is inserted into the fixture when the fixture is engaged with the fixture, a prosthesis engaging portion on which the prosthesis is put, and a fixture portion located between the fixture engaging portion and the prosthesis engaging portion, And may include a contacting gingival portion.
여기에서 상기 산화막 코팅층은 상기 치은 접촉부에 형성될 수 있다.The oxide coating layer may be formed on the gingival contact portion.
상기 픽스츄어 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 하단 노출경계선이라 하고, 상기 보철물 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 상단 노출경계선이라 할 때, 상기 산화막 코팅층은 상기 하단 노출경계선으로부터 상기 상단 노출경계선 사이에 형성되는 것이 바람직하다.The boundary line between the fixture engaging portion and the gingival abutment portion is referred to as a lower end impression boundary line and the boundary line between the denture bonding portion and the gingival contact portion is referred to as an upper impression boundary line, And is preferably formed between the boundary lines.
상기 산화막 코팅층은 상기 치은 접촉부와 상기 보철물 결합부에 형성될 수 있다.The oxide coating layer may be formed on the gingival contact portion and the prosthetic joint.
상기 산화막 코팅층은 상기 하단 노출경계선을 넘어 상기 픽스츄어 결합부의 상단 일부의 영역까지 추가로 형성될 수 있다. 또, 상기 산화막 코팅층은 상기 상단 노출경계선을 넘어 상기 보철물 결합부의 하단 일부의 영역까지 추가로 형성될 수 있다.The oxide coating layer may be further formed to a region of an upper end portion of the fixture coupling portion beyond the lower exposure boundary line. Further, the oxide coating layer may be further formed to a region of the lower end portion of the prosthesis bonding portion beyond the upper exposure boundary line.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며, 상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며, 상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되며, 상기 산화막 코팅층의 두께는 10 나노미터 이상 500 나노미터 이하 범위의 값 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체가 제공된다.According to another aspect of the present invention there is provided a dental implant assembly for use in an oral cavity to replace a tooth, the dental implant assembly comprising: a fixture immersed in alveolar bone; Wherein the abutment includes a fixture engaging portion inserted into the fixture when the fixture is engaged with the prosthesis, a prosthesis engaging portion on which the prosthesis is put, and a fixture engaging portion engaging with the fixture engaging portion, An oxide coating layer is formed on the gingival contact portion using an anodic oxidation method to improve esthetics and gingiva responsiveness, and a thickness of the oxide coating layer is 10 And a value in the range of from nanometer to 500 nanometers. A plant assembly is provided.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며, 상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며, 상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되며, 상기 산화막 코팅층이 가지는 Lab 값은, L: 50~80, a: -10~50, b: -30~50의 값을 가지는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체가 제공된다.According to a further aspect of the present invention there is provided a dental implant assembly for intraoral implantation to replace a tooth, said dental implant assembly comprising: a fixture immersed in alveolar bone; A fixture coupled to the fixture, wherein the abutment includes a fixture engaging portion inserted into the fixture when the fixture is engaged with the prosthesis, a prosthesis engaging portion on which the prosthesis is placed, And a gingival contact portion positioned between the gum interface and the gum interface, wherein an oxide coating layer is formed on the gum contact portion using an anodic oxidation method to improve esthetics and gingival responsiveness, Wherein a value of L is in the range of 50 to 80, a is in the range of -10 to 50, and b is in the range of -30 to 50. It is provided.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며, 상기 픽스츄어는, 최상단까지 나사산이 형성되어 있는 외부표면과, 상기 지대주와의 결합을 위해 형성되는 내부홀을 포함하며, 상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 상기 내부홀에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며, 상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체가 제공된다.According to a further aspect of the present invention there is provided a dental implant assembly for intraoral implantation to replace a tooth, said dental implant assembly comprising: a fixture immersed in alveolar bone; And an abutment coupled to the fixture, wherein the fixture includes an outer surface having a threaded portion formed at an uppermost end thereof and an inner hole formed for engagement with the abutment, wherein the abutment is provided with the fixture A fixture engaging portion to be inserted into the inner hole of the fixture when the fixture engages with the fixture, a prosthetic joint portion to which the prosthesis is put, and a gingival contact portion that is positioned between the fixture engaging portion and the prosthetic joint portion and contacts the gingiva In order to improve esthetics and gingival responsiveness, the gingival contact portion is coated with an oxide film The dental implant assembly, characterized in that is formed is provided.
상술한 바와 같은 본 발명에 의하면, 양극산화 공법을 이용하여 임플란트 조립체의 상부 구조물에 비정질 이산화티탄 산화막을 형성한 치과용 임플란트 조립체가 제공될 수 있다.According to the present invention as described above, a dental implant assembly in which an amorphous titanium dioxide film is formed on an upper structure of an implant assembly using an anodic oxidation method can be provided.
그에 따라 본 발명에 따른 치과용 임플란트 조립체에 의하면, 산화막에 의해 임플란트 시술시 초기 골 손실을 방지할 수 있게 된다. 즉, 본 발명에 의하면, 치은과 접촉하는 임플란트 조립체의 표면에 산화막이 형성됨에 따라 치은 세포와의 사이에서 반응성(즉, 세포반응성)이 향상될 수 있고, 결과적으로 골 유착을 원활하게 하여 임플란트 조립체의 안정적인 식립이 가능하게 된다.Therefore, according to the dental implant assembly of the present invention, the initial bone loss can be prevented by the oxide film when the implant is performed. That is, according to the present invention, as the oxide film is formed on the surface of the implant assembly contacting the gingiva, the reactivity (i.e., cell reactivity) with the gingival cells can be improved, It is possible to stably place the cap.
또한, 본 발명에 따른 치과용 임플란트 조립체에 의하면, 산화막에 의해 상부 구조물이 치은과 대응되는 색상을 나타내도록 하여 심미감을 향상시킬 수 있으며, 종래 행해지던 금색의 질화티타늄 코팅에 비해 심미감을 향상시킬 수 있게 된다.In addition, according to the dental implant assembly of the present invention, the upper structure can exhibit a hue corresponding to the gingiva by the oxide film, thereby improving the esthetics and improving the esthetics compared to the gold titanium nitride coating .
또한, 본 발명에 따른 치과용 임플란트 조립체에 의하면, 사출 또는 가압성형 후 고온의 열처리가 필요하고 열처리 이후 기계가공이 필요한 종래의 세라믹 제품에 비해 열처리가 필요 없어 가공성이 향상될 수 있고 기계가공이 필요 없다는 장점을 가지며, 세라믹의 낮은 기계적 신뢰성과 난 가공성, 그리고 높은 제조단가로 인한 단점을 극복할 수 있게 된다.In addition, according to the dental implant assembly according to the present invention, heat treatment is unnecessary compared to conventional ceramic products which require heat treatment after injection or press molding and which require machining after heat treatment, so that processability can be improved and machining is required And it is possible to overcome the disadvantages of low mechanical reliability, machinability and high manufacturing cost of ceramics.
도 1은 종래기술에 따른 임플란트 조립체의 측단면도,
도 2는 본 발명의 제1 실시형태에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도,
도 3은 본 발명의 제1 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도,
도 4는 본 발명의 제1 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도,
도 5는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도,
도 6은 본 발명의 제2 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도,
도 7은 본 발명의 제2 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도이다.1 is a side cross-sectional view of an implant assembly according to the prior art,
2 is a side elevational side view of an implant assembly according to a first embodiment of the present invention;
3 is a side elevation view of an implant assembly according to a first modification of the first embodiment of the present invention;
4 is a side elevational side view of an implant assembly according to a second modification of the first embodiment of the present invention;
5 is a side elevational side view of an implant assembly according to a second embodiment of the present invention;
6 is a side elevational side view of an implant assembly according to a first modification of the second embodiment of the present invention;
7 is a side view of the abutment of the implant assembly according to the second modification of the second embodiment of the present invention.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 치과용 임플란트 조립체를, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a dental implant assembly according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
본 발명에 따른 치과용 임플란트 조립체는, 도 1에 도시된 종래의 치과용 임플란트 조립체와 마찬가지로, 치조골에 매식되는 픽스츄어(1)와, 이 픽스츄어(1) 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 픽스츄어(1)에 결합되는 상부 구조물로서의 지대주(5)를 포함한다. 지대주(5)에는 종래와 마찬가지로 보철물(도시생략)이 부착될 수 있다.The dental implant assembly according to the present invention comprises a fixture 1 immersed in an alveolar bone, as well as the conventional dental implant assembly shown in Fig. 1, and a fixture 1, And an
도 2 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따르면, 임플란트 조립체의 심미성 향상과 치은 반응성 향상을 위하여, 양극산화 방식을 이용하여 임플란트 제조용 티타늄 또는 티타늄 합금의 표면에 산화막, 즉 비정질의 이산화티탄 산화막 코팅층(10)을 형성한다. 이러한 산화막 코팅층(10)은 임플란트 조립체의 상부 구조물에 형성되는 것이 바람직하다.As shown in FIGS. 2 to 7, according to the present invention, in order to improve the esthetics of the implant assembly and the gingival responsiveness, an oxide film, that is, amorphous titanium dioxide or titanium oxide is formed on the surface of the titanium or titanium alloy for implant- An oxide
도면에는 산화막 코팅층(10)이 지대주(5)에만 형성되어 있는 것으로 예시되어 있지만, 필요에 따라 픽스츄어(1)에도 산화막 코팅층이 형성될 수 있다. 본 명세서에서 "상부 구조물"이란, 임플란트 시술이 이루어진 후 환자의 치은을 통해 색상이 비춰보일 수 있는 임플란트 조립체의 부분을 의미하는 것이다. 따라서, 본 명세서에서 상부 구조물은 지대주를 의미하는 것일 수도 있고, 지대주와 픽스츄어의 상단부분을 함께 의미하는 것일 수도 있다.Although the
양극산화 방식을 이용하여 임플란트 제조용 티타늄 또는 티타늄 합금의 표면에 형성된 산화막 코팅층(10)은, 산화막의 두께 및 표면형상에 따라 빛이 산란되는 각도 및 양이 변화하여 다양한 색상이 나타나게 된다. 이러한 산화막의 특성을 이용하여, 환자의 치은과 대응되는 색상이 상부 구조물에 나타나도록 산화막 코팅층(10)을 형성할 수 있다.In the
산화막 코팅층(10)의 두께는 환자의 치은과 대응되는 색상을 표현하기 위해 조절될 수 있으며, 바람직하게는 10 나노미터 이상 500 나노미터 이하, 더욱 바람직하게는 20 나노미터 이상 200 나노미터 이하 범위의 두께 중에서 선택된 값의 두께를 갖는다. 산화막 코팅층(10)의 두께가 10 나노미터 미만이거나 500 나노미터 초과의 값을 가질 경우, 산화막 코팅층(10)이 치은과 유사한 색상을 나타낼 수 없어 바람직하지 않다.The thickness of the
치은의 색상은 환자마다 다소 상이하지만, 형성되는 산화막 코팅층(10)의 두께를 적절히 변화시켜 개개의 환자의 치은과 대응되는 색상을 가지도록 할 수 있다. 또한, 사전에 다양한 두께의 산화막 코팅층(10)을 갖는 지대주를 제작해 두고, 환자의 치은 색상과 비교하여 가장 유사한 색상의 지대주를 선택하여 시술에 사용할 수 있다.The color of the gingiva is slightly different for each patient, but the thickness of the
산화막 코팅층(10)이 나타내는 색상은, 분광측색계 등의 장비를 이용하여 객관적으로 측정된 Lab 값(lightness, redness, yellowness)을 수치화함으로써, 일반적으로 치은과 대응되는 색상 범위 내에서의 Lab 값을 가지도록 할 수 있다.The color represented by the
본 발명에 따르면, 산화막 코팅층(10)이 가지는 Lab 값은, L: 50~80, a: -10~50, b: -30~50의 값을 가지는 것이 바람직하며, L: 55~65, a: 10~40, b: -20~30의 값을 가지는 것이 더욱 바람직하다. 산화막 코팅층이 상기 값을 벗어나면 산화막 코팅층이 나타내는 색상이 치은의 색상에 대응되지 않기 때문에 바람직하지 않다.According to the present invention, the Lab value of the
한편, 본 발명에 따르면, 임플란트 조립체의 외부 표면에 치은과 유사한 색상의 산화막 코팅층(10)을 형성하여 심미감을 향상시킬 수 있는 동시에 치은 반응성을 향상시켜 초기 임플란트 식립시에 일어나는 골 손실을 예방할 수 있다. 즉, 본 발명에 따라 형성되는 산화막 코팅층(10)은 치은 반응성을 향상시켜 치은조직과 임플란트 조립체 사이의 결합력을 증가시키기 때문에 골 손실을 예방할 수 있다.
According to the present invention, an
도 2에는 본 발명의 제1 실시형태에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다.Fig. 2 shows a side view of the abutment of the implant assembly according to the first embodiment of the present invention.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시형태에 따른 임플란트 조립체는, 심미성 향상을 위하여 양극산화 방식을 이용하여 임플란트 조립체의 상부 구조물에 형성되는 산화막 코팅층(10)을 포함한다.As shown in FIG. 2, the implant assembly according to the first embodiment of the present invention includes an
본 제1 실시형태에 있어서 상부 구조물은 임플란트 조립체의 지대주이고, 산화막 코팅층(10)은 상부 구조물로서의 지대주(5)의 일부 표면에 걸쳐 형성된다. 지대주(5)는, 픽스츄어(1)와 지대주가 결합될 때(도 1 참조) 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부(11)와, 보철물(도시생략)이 씌워지는 보철물 결합부(15)와, 이 픽스츄어 결합부(11)와 보철물 결합부(15) 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부(13)를 포함한다. 치은 접촉부(13)는 지대주(5)에 보철물과 픽스츄어가 결합된 상태에서 외부에 노출되어 치은과 직접 접촉하는 부분이다.In the first embodiment, the upper structure is an abutment of the implant assembly, and the oxide
픽스츄어 결합부(11)와 치은 접촉부(13) 사이의 경계선을 하단 노출경계선(12)이라 하고, 보철물 결합부(15)와 치은 접촉부(13) 사이의 경계선을 상단 노출경계선(14)이라 할 때, 제1 실시형태에 있어서 산화막 코팅층(10)은, 하단 노출경계선(12)으로부터 상단 노출경계선(14) 사이에 형성된다. 상단 노출경계선(14)은 도 2에 도시된 바와 같이 지대주(5)의 폭이 가장 넓은 지점에 상응할 수 있다.
The boundary line between the
도 3에는 본 발명의 제1 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다. 도 3에 도시된 제1 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주는, 산화막 코팅층(10)이 하단 노출경계선(12)과 상단 노출경계선(14) 사이의 치은 접촉부(13)에만 형성되는 것이 아니라, 하단 노출경계선(12)을 지나 아래쪽까지 연장되는 동시에 상단 노출경계선(14)을 지나 위쪽까지 연장되어 형성된다는 점에서 도 2의 지대주와 차이점을 갖는다.Fig. 3 is a side view of the abutment of the implant assembly according to the first modification of the first embodiment of the present invention. The abutment of the implant assembly according to the first modification of the first embodiment shown in Fig. 3 is formed such that the
본 발명의 제1 실시형태의 제1 변형예에 따르면, 하단 노출 경계선(12)을 넘어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다. 이와 같이 산화막 코팅층(10)이 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부, 예를 들어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 대략 10~20% 정도의 산화막 추가형성 영역(22)에도 형성될 경우, 지대주가 픽스츄어에 완전히 결합되지 않아 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부가 외부에 노출되더라도 심미감을 손상시키지 않을 수 있다.According to the first modification of the first embodiment of the present invention, the oxide
또한, 본 발명의 제1 실시형태의 제1 변형예에 따르면, 상단 노출 경계선(14)을 넘어 보철물 결합부(15)의 하단 일부에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다. 이와 같이 산화막 코팅층(10)이 보철물 결합부(15)의 하단 일부, 예를 들어 보철물 결합부(15)의 하단 대략 10~20% 정도의 산화막 추가형성 영역(24)에도 형성될 경우, 보철물 결합부(15)가 보철물에 의해 완전히 덮이지 않아 보철물 결합부(15)의 하단 일부가 외부에 노출되더라도 심미감을 손상시키지 않을 수 있다.Also, according to the first modification of the first embodiment of the present invention, the
도 3에는 산화막 추가형성 영역(22, 24)이 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부와 보철물 결합부(15)의 하단 일부에 모두 형성된 것으로 도시되어 있지만, 산화막 추가형성 영역은 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부에만 형성될 수도 있고 보철물 결합부(15)의 하단 일부에만 형성될 수도 있다.
3 shows that the oxide film
도 4에는 본 발명의 제1 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다. 도 4에 도시된 제1 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주는, 산화막 코팅층(10)이 치은 접촉부(13)와 보철물 결합부(15)에 걸쳐 형성된다는 점에서 도 2의 지대주와 차이점을 갖는다.Fig. 4 is a side view of the abutment of the implant assembly according to the second modification of the first embodiment of the present invention. The abutment of the implant assembly according to the second modification of the first embodiment shown in Fig. 4 is the same as that of the abutment of Fig. 2 in that the
도 4에 도시된 제1 실시형태의 제2 변형예에 따르면, 도 2와 같이 산화막 코팅층(10)을 중간 부분에 한정하여 형성하는 것에 비해 산화막의 형성작업을 용이하게 실시할 수 있다.According to the second modification of the first embodiment shown in Fig. 4, the oxide film forming operation can be easily performed as compared with the case where the oxide
도 4에는 보철물 결합부(15)의 전체 표면에 산화막 코팅층이 형성된 것으로 도시되어 있지만, 보철물 결합부(15)의 상단, 즉 치은 접촉부(13)의 반대쪽 말단 부분에 대해서는 부분적으로 산화막 코팅층이 형성되지 않을 수도 있으며, 본 발명은 보철물 결합부의 전체 표면이 완벽하게 산화막 코팅층으로 덮일 것을 요구하지는 않는다.4 shows that an oxide coating layer is formed on the entire surface of the
또한, 도 4에 도시하지는 않았지만, 도 3에서와 같이, 하단 노출 경계선(12)을 넘어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부, 즉 산화막 추가형성 영역(22)에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다.
3, an oxide
도 5에는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다.Figure 5 shows a side view of the abutment of an implant assembly according to a second embodiment of the present invention.
픽스츄어와 지대주 사이의 결합방식에 따라 지대주(5)의 형태는 다양하게 변형될 수 있으며, 도 2 내지 도 4에는 하단에 숫나사부(6)가 형성되는 지대주의 일례가 도시되어 있고 도 5 내지 도 7에는 하단에 숫나사부가 형성되지 않은 지대주의 다른 예가 도시되어 있다. 도 2 내지 도 4에 도시된 지대주의 경우 픽스츄어의 내부에 형성되는 암나사부에 숫나사부가 체결됨으로써 지대주가 픽스츄어에 결합된다. 도 5 내지 도 7에 도시된 지대주의 경우 지대주의 내부에 관통구멍(도시생략)이 형성되고 이 관통구멍을 통하여 나사부재를 삽입하여 픽스츄어의 내부에 형성되는 암나사부에 나사부재를 체결함으로써 지대주가 픽스츄어에 결합된다.The shape of the
도 5에 도시된 바와 같이, 전술한 제1 실시형태와 마찬가지로, 본 제2 실시형태에 있어서 상부 구조물은 임플란트 조립체의 지대주이고, 산화막 코팅층(10)은 상부 구조물로서의 지대주(5)의 일부 표면에 걸쳐 형성된다. 지대주(5)는, 픽스츄어(1)와 지대주가 결합될 때(도 1 참조) 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부(11)와, 보철물(도시생략)이 씌워지는 보철물 결합부(15)와, 이 픽스츄어 결합부(11)와 보철물 결합부(15) 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부(13)를 포함한다. 치은 접촉부(13)는 지대주(5)에 보철물과 픽스츄어가 결합된 상태에서 외부에 노출되어 치은과 직접 접촉하는 부분이다.5, in the second embodiment, the upper structure is an abutment of the implant assembly, and the oxide
픽스츄어 결합부(11)와 치은 접촉부(13) 사이의 경계선을 하단 노출경계선(12)이라 하고, 보철물 결합부(15)와 치은 접촉부(13) 사이의 경계선을 상단 노출경계선(14)이라 할 때, 제2 실시형태에 있어서 산화막 코팅층(10)은, 하단 노출경계선(12)으로부터 상단 노출경계선(14) 사이에 형성된다. 상단 노출경계선(14)은 도 5에 도시된 바와 같이 지대주(5)의 폭이 가장 넓은 지점에 상응할 수 있다.
The boundary line between the
도 6에는 본 발명의 제2 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다. 도 6에 도시된 제1 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주는, 산화막 코팅층(10)이 하단 노출경계선(12)과 상단 노출경계선(14) 사이의 치은 접촉부(13)에만 형성되는 것이 아니라, 하단 노출경계선(12)을 지나 아래쪽까지 연장되는 동시에 상단 노출경계선(14)을 지나 위쪽까지 연장되어 형성된다는 점에서 도 5의 지대주와 차이점을 갖는다.Fig. 6 is a side view of the abutment of the implant assembly according to the first modification of the second embodiment of the present invention. The implant abutment of the implant assembly according to the first modification of the first embodiment shown in Fig. 6 is formed such that the
본 발명의 제2 실시형태의 제1 변형예에 따르면, 하단 노출 경계선(12)을 넘어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다. 이와 같이 산화막 코팅층(10)이 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부, 예를 들어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 대략 10~20% 정도의 산화막 추가형성 영역(22)에도 형성될 경우, 지대주가 픽스츄어에 완전히 결합되지 않아 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부가 외부에 노출되더라도 심미감을 손상시키지 않을 수 있다.According to the first modification of the second embodiment of the present invention, the oxide
또한, 본 발명의 제2 실시형태의 제1 변형예에 따르면, 상단 노출 경계선(14)을 넘어 보철물 결합부(15)의 하단 일부에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다. 이와 같이 산화막 코팅층(10)이 보철물 결합부(15)의 하단 일부, 예를 들어 보철물 결합부(15)의 하단 대략 10~20% 정도의 산화막 추가형성 영역(24)에도 형성될 경우, 보철물 결합부(15)가 보철물에 의해 완전히 덮이지 않아 보철물 결합부(15)의 하단 일부가 외부에 노출되더라도 심미감을 손상시키지 않을 수 있다.According to the first modification of the second embodiment of the present invention, the oxide
도 6에는 산화막 추가형성 영역(22, 24)이 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부와 보철물 결합부(15)의 하단 일부에 모두 형성된 것으로 도시되어 있지만, 산화막 추가형성 영역은 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부에만 형성될 수도 있고 보철물 결합부(15)의 하단 일부에만 형성될 수도 있다.
6 shows that the oxide film
도 7에는 본 발명의 제2 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다. 도 7에 도시된 제2 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주는, 산화막 코팅층(10)이 치은 접촉부(13)와 보철물 결합부(15)에 걸쳐 형성된다는 점에서 도 5의 지대주와 차이점을 갖는다.Fig. 7 is a side view of the abutment of the implant assembly according to the second modification of the second embodiment of the present invention. The abutment of the implant assembly according to the second modification of the second embodiment shown in Fig. 7 is different from the abutment of Fig. 5 in that the
도 7에 도시된 제2 실시형태의 제2 변형예에 따르면, 도 5와 같이 산화막 코팅층(10)을 중간 부분에 한정하여 형성하는 것에 비해 산화막의 형성작업을 용이하게 실시할 수 있다.According to the second modification of the second embodiment shown in Fig. 7, the oxide film forming operation can be easily performed as compared with the case where the oxide
도 7에는 보철물 결합부(15)의 전체 표면에 산화막 코팅층이 형성된 것으로 도시되어 있지만, 보철물 결합부(15)의 상단, 즉 치은 접촉부(13)의 반대쪽 말단 부분에 대해서는 부분적으로 산화막 코팅층이 형성되지 않을 수도 있으며, 본 발명은 보철물 결합부의 전체 표면이 완벽하게 산화막 코팅층으로 덮일 것을 요구하지는 않는다.7 shows that the oxide coating layer is formed on the entire surface of the
또한, 도 7에 도시하지는 않았지만, 도 6에서와 같이, 하단 노출 경계선(12)을 넘어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부, 즉 산화막 추가형성 영역(22)에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다.
6, an oxide
도 2 내지 도 7에 도시된 바와 같이 산화막 코팅층(10)을 지대주(5)의 일부 구간에 걸쳐서만 형성하기 위해서, 산화막 처리 이전에 마스킹(masking) 처리를 실시하는 것이 바람직하다.As shown in FIGS. 2 to 7, in order to form the
본 발명에 따르면, 마스킹 처리에 의해 지대주(5)의 일부 구간, 특히 지대주와 픽스츄어가 서로 결합되는 픽스츄어 결합부(11)(더욱 상세하게는, 지대주 결합부(11)의 하부 또는 나사산이 형성된 부분)에 대하여 산화막이 형성되지 않도록 함으로써, 기계적인 물성이 변화하는 것을 방지할 수 있다. 즉, 산화막이 형성되면서 지대주의 치수가 변화하는 것을 방지할 수 있어, 지대주가 픽스츄어에 결합된 후 저작운동을 통해 반복적으로 가해지는 하중에 의해 지대주가 쉽게 풀려 버리는 문제나, 피로강도가 저하되어 지대주가 파절되는 문제를 예방할 수 있다.According to the present invention, a portion of the
이상과 같이 본 발명을 예시된 도면을 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 이상에서 설명된 실시예와 도면에 의해 한정되지 않으며, 특허청구범위 내에서 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자들에 의해 다양한 수정 및 변형이 이루어질 수 있음은 물론이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation, Various modifications and changes may be made by those skilled in the art.
1 : 픽스츄어 2 : 암나사부
5 : 지대주 6 : 숫나사부
10 : 산화막 코팅층 11 : 픽스츄어 결합부
12 : 하단 노출경계선 13 : 치은 접촉부
14 : 상단 노출경계선 15 : 보철물 결합부
22, 24: 산화막 추가형성 영역1: Fixture 2: Female threads
5: abutment 6: male screw
10: oxide coating layer 11:
12: lower exposure boundary 13: gingival contact
14: upper exposure boundary line 15:
22, 24: oxide film addition forming region
Claims (14)
상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며,
상기 상부 구조물은 상기 지대주이며,
상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며,
상기 산화막 코팅층은 상기 치은 접촉부에 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.A dental implant assembly to be performed in the oral cavity to replace a tooth, the dental implant assembly comprising an oxide coating layer formed on an upper structure of the dental implant assembly using an anodization method to improve esthetics and gingiva responsiveness, In this case,
Wherein the dental implant assembly comprises a fixture engraved in the alveolar bone and abutment coupled to the fixture to position the prosthesis on the fixture,
Wherein the upper structure is the abutment,
The fixture includes a fixture engaging portion that is inserted into the fixture when the fixture is engaged with the fixture, a prosthesis engaging portion on which the prosthesis is put, and a fixture portion located between the fixture engaging portion and the prosthesis engaging portion, Comprising a contacting gingival portion,
Wherein the oxide coating layer is formed on the gingival contact portion.
상기 산화막 코팅층은 비정질의 이산화티탄으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.The method according to claim 1,
Wherein the oxide coating layer is made of amorphous titanium dioxide.
상기 산화막 코팅층의 두께는 10 나노미터 이상 500 나노미터 이하 범위의 값 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the oxide coating layer is selected from the range of 10 nanometers to 500 nanometers.
상기 산화막 코팅층이 가지는 Lab 값은, L: 50~80, a: -10~50, b: -30~50의 값을 가지는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.The method according to claim 1,
Wherein the oxide film coating layer has a Lab value of L: 50 to 80, a: -10 to 50, and b: -30 to 50. 2. The dental implant assembly of claim 1,
상기 픽스츄어 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 하단 노출경계선이라 하고, 상기 보철물 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 상단 노출경계선이라 할 때, 상기 산화막 코팅층은 상기 하단 노출경계선으로부터 상기 상단 노출경계선 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.The method according to claim 1,
The boundary line between the fixture engaging portion and the gingival abutment portion is referred to as a lower end impression boundary line and the boundary line between the denture bonding portion and the gingival contact portion is referred to as an upper impression boundary line, Wherein the implant is formed between the perimeter and the perimeter of the dental implant.
상기 산화막 코팅층은 상기 치은 접촉부와 상기 보철물 결합부에 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.The method according to claim 1,
Wherein the oxide coating layer is formed on the gingival contact portion and the denture bonding portion.
상기 픽스츄어 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 하단 노출경계선이라 하고, 상기 보철물 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 상단 노출경계선이라 할 때, 상기 산화막 코팅층은 상기 하단 노출경계선을 넘어 상기 픽스츄어 결합부의 상단 일부의 영역까지 추가로 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.The method according to claim 1 or 9,
The boundary line between the fixture engaging portion and the gingival abutment portion is referred to as a lower end impression boundary line and the boundary line between the denture bonding portion and the gingival contact portion is referred to as an upper impression boundary line, To the region of the upper end of the crown engagement portion. ≪ Desc / Clms Page number 13 >
상기 픽스츄어 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 하단 노출경계선이라 하고, 상기 보철물 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 상단 노출경계선이라 할 때, 상기 산화막 코팅층은 상기 상단 노출경계선을 넘어 상기 보철물 결합부의 하단 일부의 영역까지 추가로 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.The method according to claim 1,
The boundary line between the fixture engaging portion and the gingival abutment portion is referred to as a lower end impression boundary line and the boundary line between the denture bonding portion and the gingival contact portion is referred to as an upper impression boundary line, And further to a region of a lower end portion of the engaging portion.
상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며,
상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며,
상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되며,
상기 산화막 코팅층의 두께는 10 나노미터 이상 500 나노미터 이하 범위의 값 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.CLAIMS 1. A dental implant assembly that is implanted in an oral cavity to replace a tooth,
Wherein the dental implant assembly comprises a fixture engraved in the alveolar bone and abutment coupled to the fixture to position the prosthesis on the fixture,
The fixture includes a fixture engaging portion that is inserted into the fixture when the fixture is engaged with the fixture, a prosthesis engaging portion on which the prosthesis is put, and a fixture portion located between the fixture engaging portion and the prosthesis engaging portion, Comprising a contacting gingival portion,
The gingival contact portion is formed with an oxide coating layer using an anodization method to improve esthetics and gingiva responsiveness,
Wherein the thickness of the oxide coating layer is selected from the range of 10 nanometers to 500 nanometers.
상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며,
상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며,
상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되며,
상기 산화막 코팅층이 가지는 Lab 값은, L: 50~80, a: -10~50, b: -30~50의 값을 가지는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.CLAIMS 1. A dental implant assembly that is implanted in an oral cavity to replace a tooth,
Wherein the dental implant assembly comprises a fixture engraved in the alveolar bone and abutment coupled to the fixture to position the prosthesis on the fixture,
The fixture includes a fixture engaging portion that is inserted into the fixture when the fixture is engaged with the fixture, a prosthesis engaging portion on which the prosthesis is put, and a fixture portion located between the fixture engaging portion and the prosthesis engaging portion, Comprising a contacting gingival portion,
The gingival contact portion is formed with an oxide coating layer using an anodization method to improve esthetics and gingiva responsiveness,
Wherein the oxide film coating layer has a Lab value of L: 50 to 80, a: -10 to 50, and b: -30 to 50. 2. The dental implant assembly of claim 1,
상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며,
상기 픽스츄어는, 최상단까지 나사산이 형성되어 있는 외부표면과, 상기 지대주와의 결합을 위해 형성되는 내부홀을 포함하며,
상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 상기 내부홀에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며,
상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.CLAIMS 1. A dental implant assembly that is implanted in an oral cavity to replace a tooth,
Wherein the dental implant assembly comprises a fixture engraved in the alveolar bone and abutment coupled to the fixture to position the prosthesis on the fixture,
The fixture includes an outer surface on which a thread is formed to the uppermost end and an inner hole formed for engagement with the abutment,
Wherein the abutment is formed by a fixture engaging portion inserted into the inner hole of the fixture when the fixture is engaged with the fixture, a prosthesis engaging portion on which the prosthesis is put, and a fixture engaging portion located between the fixture engaging portion and the prosthesis engaging portion Comprising a gingival contact in contact with the gingiva,
Wherein the gingival contact portion is formed with an oxide coating layer using an anodization method to improve esthetics and gingival responsiveness.
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KR1020130092498A KR101499067B1 (en) | 2013-08-05 | 2013-08-05 | Dental implant assembly |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2017074312A (en) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | 有限会社アトキンス | Shade guide for abutment of dental implant, and usage thereof |
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JP2007252897A (en) * | 2006-02-28 | 2007-10-04 | Straumann Holding Ag | Abutment with hydroxylated surface |
KR100831341B1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-05-22 | 주식회사 덴티움 | The abutment in which the oxidation layer is formed and the manufacturing method |
KR101156075B1 (en) * | 2003-12-11 | 2012-06-21 | 노벨 바이오케어 서비시스 아게 | Arrangement with an implant and/or a unit belonging to said implant, and method for production of the implant and/or unit |
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2013
- 2013-08-05 KR KR1020130092498A patent/KR101499067B1/en active IP Right Grant
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