KR101491213B1 - Cleaning Apparatus for UV Reactor - Google Patents
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Abstract
본 발명은 자외선 반응기용 세정 장치에 관한 것으로, 본 발명의 자외선 반응기용 세정 장치는 분사 노즐을 구비하여 분사 노즐을 통해 자외선 반응기의 자외선 램프를 세척함으로써 자외선 반응기의 자외선 램프에 부착된 오염물 및 스케일 물질을 선택적으로 제거할 수 있으며, CIP 탱크의 용량을 줄여 컴팩트한 설계가 가능하다. 또한, 본 발명의 자외선 반응기용 세정 장치는 자외선 반응기의 위치에 상관없이 자외선 반응기로부터 배출되는 세정액을 흡입하여 효과적으로 회수할 수 있다.The present invention relates to a cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor, and a cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor according to the present invention includes a spray nozzle for cleaning an ultraviolet ray lamp of an ultraviolet ray reactor through an injection nozzle to remove contaminants and scale substances Can be selectively removed, and a compact design can be achieved by reducing the capacity of the CIP tank. In addition, the cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor of the present invention can effectively recover the cleaning liquid discharged from the ultraviolet ray reactor regardless of the position of the ultraviolet ray reactor.
Description
본 발명은 자외선 반응기용 세정 장치에 관한 것으로, 더 자세하게는 분사 노즐을 구비하여 분사 노즐을 통해 자외선 반응기의 자외선 램프를 세척함으로써 자외선 반응기의 자외선 램프에 부착된 오염물 및 스케일 물질을 선택적으로 제거할 수 있는 자외선 반응기용 세정 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor, and more particularly, to a cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor which comprises a spray nozzle and is capable of selectively removing contaminants and scale materials attached to an ultraviolet lamp of an ultraviolet ray reactor by washing the ultraviolet lamps of the ultraviolet ray reactor through an injection nozzle To a cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor.
일반적으로, 대형 선박이 빈 배로 운항할 경우, 선박의 무게 중심이 선박 상부에 위치하게 되어 선박이 전복될 위험성이 있고 프로펠러가 물 속에 잠기지 못하여 추진효율이 떨어지게 된다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 선박 내부의 탱크에 바닷물을 채워 선박의 평형을 잡는데, 상기 탱크에 채워지는 바닷물을 '평형수(ballast water)'라고 한다.Generally, when a large ship is operated on an empty ship, the center of gravity of the ship is located at the upper portion of the ship, so there is a danger that the ship will overturn and the propeller can not be immersed in the water. To solve this problem, the tank inside the ship is filled with seawater to balance the ship. The seawater filled in the tank is called 'ballast water'.
상기 평형수는 선박이 빈 배로 운항할 경우에 탱크에 채워지고, 선박에 화물 등이 적재될 경우에는 바다로 버려진다. 예를 들어, 유조선에 원유가 적재되지 않은 경우에는 유조선의 탱크에 평형수를 채운 상태로 운항하고, 원유를 적재하기 위해 항구에 들어가기 직전에 평형수를 바다로 배출한다.The ballast water is filled into the tank when the ship is empty and when the cargo is loaded on the ship, it is thrown into the sea. For example, if the tanker is not loaded with crude oil, the tanker tank is filled with ballast water and the ballast water is discharged to the sea just before entering the port to load the crude oil.
따라서 선체내부에 선박 평형수를 채우거나 배출할 때에는 선박 평형수와 함께 플랑크톤을 비롯한 각종 생물이 함께 선체내부로 유입되거나 배출되는데, 이로 인하여 선박 평형수가 배출되는 지역에서는 선박 평형수를 채운 지역의 각종 생물종이 유입됨으로써 생태계가 교란되거나 파괴되는 현상이 빈번하게 발생하게 된다.Therefore, when filling or discharging ship equilibrium in the hull, various kinds of plankton and other creatures are introduced or discharged into the hull together with the ballast water. Therefore, in the area where ballast water is discharged, Ecosystem is disturbed or destroyed frequently by the inflow of biological paper.
이와 같은 선박 평형수를 통해 유입되는 해양생물로 인한 생태계 파괴의 위험성이 전세계적으로 인식되면서, 국제해사기구(International Maritime Organ -ization, IMO)에서는 해양환경 및 생태계 보호를 위한 선진국의 선박 평형수의 관리 및 규제를 강화하기 위해 2004년 2월, "선박 밸러스트 수와 침전물 관리를 위한 국제협약"을 체결하였고, 2009년부터 단계적으로 모든 선박에 선박 평형수 처리시스템 탑재를 의무화하고 있다.The International Maritime Organization (IMO) recognizes that the risk of destruction of ecosystems due to marine organisms entering the marine equilibrium is recognized globally, and the International Maritime Organization (IMO) In February 2004, we signed the "International Convention for Sediment Management and Ballast Water Management" to strengthen management and regulation. We are obliged to install the ship ballast water treatment system on all vessels from 2009 onwards.
이에 따라 국내외적으로 선박 평형수의 처리 및 관리기술에 관한 연구개발이 활발하게 진행되고 있으며, 그 기술로는 자외선을 이용한 살균방식, 오존분해방식, 전기분해방식 등이 주류를 이루고 있다.As a result, research and development on the processing and management technology of ship equilibrium water has been progressing actively in domestic and abroad. The technologies such as sterilization method using ultraviolet rays, ozone decomposition method and electrolysis method are mainstream.
그 중에서 자외선을 이용한 살균방식은 자외선 램프에서 방출되는 자외선을 평형수 내의 미생물에 조사하여 미생물의 DNA 구조를 파괴시켜 살균하는 방식으로, 이는 생태계 파괴 및 인체에 유해성이 없고 설치 및 관리가 용이하여 널리 사용되고 있다.Among them, the ultraviolet sterilization method is a method in which ultraviolet rays emitted from ultraviolet lamps are irradiated to microorganisms in equilibrium water to destroy the DNA structure of microorganisms and sterilize. This is a method of disinfecting ecosystems and being harmless to human body, .
도 1은 종래의 자외선을 이용한 선박 평형수 처리장치를 나타낸 도면이고, 도 2는 도 1에 도시된 선박 평형수 처리장치에서 CIP 유닛(200)을 나타낸 도면이다.FIG. 1 is a view showing a conventional ship ballast water treatment apparatus using ultraviolet rays, and FIG. 2 is a view showing a
도 1을 참조하면, 종래의 자외선을 이용한 선박 평형수 처리장치는 자외선 램프를 구비하는 자외선 반응기(100)를 이용하여 유입 또는 유출되는 평형수를 살균처리하도록 구성되어 있다.Referring to FIG. 1, a conventional ballast water treatment apparatus using ultraviolet rays is configured to sterilize ballast water flowing in or out by using an
하지만, 종래의 선박 평형수 처리장치에서 평형수에 자외선을 조사하기 위해서는 자외선 반응기(100)내의 자외선 램프가 평형수에 노출될 수 밖에 없는데, 이렇게 자외선 램프가 평형수에 노출되면 자외선 램프의 표면에 오염물이나 스케일 물질(Calcium carbonate, Magnesium carbonate 등)이 부착되어 자외선 투과율이 저하되는 문제점이 있다.However, in order to irradiate ultraviolet rays to the ballast water in the conventional ballast water treatment apparatus, the ultraviolet lamp in the
이러한 문제점을 해결하기 위하여, 종래의 선박 평형수 처리장치에서는 CIP(Cleaning in Place) 유닛(200)을 이용하여 자외선 반응기(100)의 자외선 램프에 부착된 오염물 및 스케일 물질을 세척하여 제거하고 있다.In order to solve such a problem, a conventional ship ballast water treatment apparatus uses a CIP (Cleaning in Place)
일반적으로 CIP 유닛(200)은 도 2에 도시된 바와 같이 자외선 반응기(100)에 충수된 물을 배출하기 위해 벤트 밸브(VV: Vent Valve)를 열고 드레인 밸브(DV: Drain Valve)를 열어 자외선 반응기(100)에 충수된 물을 오수 저장 탱크(bilge holding tank)로 배출한다. 그 다음, 청수 공급 밸브(FV: Fresh water filling Valve)를 열어 청수를 자외선 반응기(100)로 보내 자외선 반응기(100) 내부를 세척한 후 배출시킨다. 그리고, CIP 탱크(TK)에 저장된 세정액을 CIP 펌프(CP)를 이용하여 펌핑하고 세정액 공급 밸브(IV: Injection Valve)를 통해 자외선 반응기(100)내로 유입시킨 후, 상부 배출 밸브(OV: Outlet Valve)를 열어 순환시키면서 자외선 램프를 세척한다. 세척이 완료되면 세척에 의해 일부 오염된 세척액은 중력에 의해 회수 밸브(RV: Return Valve)를 통해 다시 CIP 탱크(TK)로 회수하여 재사용할 수 있도록 저장하고, CIP 탱크(TK) 내부의 pH가 증가하면 세정액을 오수 저장 탱크로 배출하고 새로운 세정액으로 교환하여 세척한다.2, the
그러나, 이러한 화학적 세정방식은 세정액이 자외선 반응기(100)를 완전히 충수하는 조건으로 세정하게 되므로 CIP 탱크(TK)의 크기가 자외선 반응기(100)보다 크게 설계되어야 하며, 세정액에 의해 원하지 않는 부분도 동시에 세정되어 오염을 과중시키는 결과를 초래하며, 중력에 의해 세척액을 회수해야 하기 때문에 CIP 탱크(TK)의 설치 위치가 자외선 반응기(100)의 아래로 제한되는 문제점이 있다.
However, since the chemical cleaning method cleans the cleaning liquid under the condition that the cleaning liquid completely adheres to the
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 분사 노즐을 구비하여 분사 노즐을 통해 자외선 반응기의 자외선 램프를 세척함으로써 CIP 탱크의 크기를 최소화하면서 자외선 반응기의 자외선 램프에 부착된 오염물 및 스케일 물질을 선택적으로 제거할 수 있도록 하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide an ultraviolet lamp which is equipped with an injection nozzle to clean an ultraviolet lamp of an ultraviolet ray reactor through an injection nozzle, So that contaminants and scale materials attached to the ultraviolet lamp can be selectively removed.
본 발명의 다른 목적은 자외선 반응기의 위치에 상관없이 자외선 반응기로부터 배출되는 세정액을 효과적으로 회수할 수 있도록 하는 것이다.
Another object of the present invention is to effectively recover the cleaning liquid discharged from the ultraviolet ray reactor regardless of the position of the ultraviolet ray reactor.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치는, 세정액이 저장된 CIP 탱크; 상기 CIP 탱크로부터 유입되는 세정액을 펌핑하여 배출하는 CIP 펌프; 상기 CIP 펌프로부터 배출되는 세정액을 자외선 반응기로 이송하는 세정액 공급 밸브; 상기 세정액 공급 밸브에 의해 이송된 세정액을 자외선 반응기내의 자외선 램프에 분사하는 분사 노즐; 상기 분사 노즐을 통해 상기 자외선 램프에 분사되어 상기 자외선 램프를 세척하고 흘러내리는 세정액을 회수하기 위한 회수 라인; 상기 회수 라인에 연결되어 상기 자외선 반응기로부터 배출되는 세정액을 흡입하여 배출하는 흡입 밸브; 상기 CIP 펌프의 토출측에 분기 연결되어 상기 CIP 펌프로부터 배출되는 세정액을 상기 CIP 탱크로 회수하는 회수 밸브를 포함하고, 상기 흡입 밸브로부터 배출되는 세정액이 상기 CIP 펌프로 유입되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a cleaning apparatus for a UV reactor, including: a CIP tank storing a cleaning liquid; A CIP pump for pumping and discharging a cleaning liquid flowing from the CIP tank; A cleaning liquid supply valve for delivering the cleaning liquid discharged from the CIP pump to the ultraviolet ray reactor; A spray nozzle for spraying the cleaning liquid delivered by the cleaning liquid supply valve to an ultraviolet lamp in an ultraviolet reactor; A recovery line for recovering a cleaning liquid sprayed to the ultraviolet lamp through the injection nozzle to clean and flow the ultraviolet lamp; A suction valve connected to the recovery line for sucking and discharging the cleaning liquid discharged from the ultraviolet reactor; And a recovery valve connected to the discharge side of the CIP pump and connected to the CIP tank for recovering the cleaning liquid discharged from the CIP pump to the CIP tank, wherein the cleaning liquid discharged from the suction valve flows into the CIP pump.
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상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치는, 세정액이 저장된 CIP 탱크; 상기 CIP 탱크로부터 유입되는 세정액을 펌핑하여 배출하는 CIP 펌프; 상기 CIP 펌프로부터 이덕터를 통해 배출되는 세정액을 자외선 반응기로 이송하는 세정액 공급 밸브; 상기 세정액 공급 밸브에 의해 이송된 세정액을 자외선 반응기내의 자외선 램프에 분사하는 분사 노즐; 상기 분사 노즐을 통해 상기 자외선 램프에 분사되어 상기 자외선 램프를 세척하고 흘러내리는 세정액을 회수하기 위한 회수 라인; 상기 회수 라인에 연결되어 상기 자외선 반응기로부터 배출되는 세정액을 흡입하여 배출하는 흡입 밸브; 상기 CIP 펌프의 토출측에 구동부가 연결되어 상기 CIP 펌프에 의해 구동되며, 상기 흡입 밸브의 출력측에 흡입부가 연결되어 상기 흡입 밸브로부터 배출되는 세정액을 흡입하여 상기 CIP 펌프로부터 배출되는 세정액과 혼합하여 배출하는 상기 이덕터; 및 상기 이덕터의 배출부에 분기 연결되어 상기 이덕터를 통해 배출되는 세정액을 상기 CIP 탱크로 회수하는 회수 밸브를 포함하고, 상기 이덕터를 통해 배출되는 세정액이 상기 세정액 공급 밸브 및 상기 회수 밸브로 동시에 유입되어 상기 CIP 탱크의 세정액의 레벨이 일정하게 유지되는 것을 특징으로 한다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a cleaning apparatus for a UV reactor, including: a CIP tank storing a cleaning liquid; A CIP pump for pumping and discharging a cleaning liquid flowing from the CIP tank; A cleaning liquid supply valve for delivering the cleaning liquid discharged from the CIP pump through the eductor to the ultraviolet ray reactor; A spray nozzle for spraying the cleaning liquid delivered by the cleaning liquid supply valve to an ultraviolet lamp in an ultraviolet reactor; A recovery line for recovering a cleaning liquid sprayed to the ultraviolet lamp through the injection nozzle to clean and flow the ultraviolet lamp; A suction valve connected to the recovery line for sucking and discharging the cleaning liquid discharged from the ultraviolet reactor; A driving unit is connected to the discharge side of the CIP pump and is driven by the CIP pump. A suction unit is connected to an output side of the suction valve to suck the cleaning liquid discharged from the suction valve and mix with the cleaning liquid discharged from the CIP pump The eductor; And a recovery valve connected to the exhaust part of the eductor for branching the cleaning liquid to be discharged through the eductor to the CIP tank, wherein the cleaning liquid discharged through the eductor is supplied to the cleaning liquid supply valve and the recovery valve So that the level of the cleaning liquid in the CIP tank is kept constant.
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본 발명의 자외선 반응기용 세정 장치는 분사 노즐을 구비하여 분사 노즐을 통해 자외선 반응기의 자외선 램프를 세척하며, 이에 따라 CIP 탱크의 크기를 최소화할 수 있으며, 자외선 램프에 부착된 오염물 및 스케일 물질을 선택적으로 제거할 수 있는 효과가 있다.The cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor of the present invention is provided with a spray nozzle to clean an ultraviolet lamp of an ultraviolet ray reactor through an injection nozzle, thereby minimizing the size of a CIP tank, and to selectively remove contaminants and scale substances attached to an ultraviolet lamp As shown in FIG.
또한, 본 발명의 자외선 반응기용 세정 장치는 자외선 반응기의 위치에 상관없이 자외선 반응기로부터 배출되는 세정액을 효과적으로 회수할 수 있는 효과가 있다.
In addition, the cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor of the present invention has an effect of effectively recovering a cleaning liquid discharged from an ultraviolet ray reactor regardless of the position of the ultraviolet ray reactor.
도 1은 종래의 자외선을 이용한 선박 평형수 처리장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 선박 평형수 처리장치에서 CIP 유닛을 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a conventional apparatus for treating a ballast water using ultraviolet rays.
Fig. 2 is a view showing a CIP unit in the ship water ballast water treatment apparatus shown in Fig. 1. Fig.
3 is a view illustrating a cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing a cleaning apparatus for a UV reactor according to another embodiment of the present invention.
5 is a view illustrating a cleaning apparatus for a UV reactor according to another embodiment of the present invention.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하여 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, so that those skilled in the art can easily carry out the technical idea of the present invention.
본 발명의 바람직한 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하거나 간략하게 설명한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치(300)를 나타낸 도면이다.3 is a view showing a
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치(300)는, 세정액이 저장된 CIP 탱크(TK), 상기 CIP 탱크(TK)로부터 유입되는 세정액을 펌핑하여 배출하는 CIP 펌프(CP), 펌핑된 세정액을 이송하는 세정액 공급 밸브(IV: Injection Valve), 세정액의 분사를 위한 분사 노즐(IN: Injection Nozzle), 세정액의 회수를 위한 회수 밸브(RV: Return Valve), 세정액을 오수 저장 탱크로 이송하기 위한 드레인 밸브(DV: Drain Valve), 청수의 공급을 위한 청수 공급 밸브(FV: Fresh water filling Valve) 및 자외선 반응기(100)의 배수를 위한 벤트 밸브(VV: Vent Valve)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 3, a
상기 CIP 탱크(TK)에는 세정액이 저장되며, 상기 CIP 펌프(CP)는 상기 CIP 탱크(TK)로부터 유입되는 세정액을 펌핑하여 배출한다.The cleaning liquid is stored in the CIP tank (TK), and the CIP pump (CP) pumps and discharges the cleaning liquid flowing from the CIP tank (TK).
상기 세정액 공급 밸브(IV)는 상기 CIP 펌프(CP)에 의해 펌핑된 세정액을 분사 노즐(IN)로 이송하며, 상기 분사 노즐(IN)은 상기 세정액 공급 밸브(IV)에 의해 이송된 세정액을 자외선 반응기(100)내의 자외선 램프(L)에 분사한다.The cleaning liquid supply valve IV transfers the cleaning liquid pumped by the CIP pump CP to the injection nozzle IN and the cleaning liquid delivered by the cleaning liquid supply valve IV is supplied to the spray nozzle IN via ultraviolet And emits ultraviolet rays to the ultraviolet lamp L in the
상기 분사 노즐(IN)을 통해 자외선 램프(L)에 분사되어 자외선 램프(L)를 세척하고 흘러내리는 세정액은 중력에 의해 자외선 반응기(100)의 하부에 연결된 회수 라인(RL)으로 유입되며, 회수 라인(RL)으로 유입된 세정액은 회수 밸브(RV)를 통해 CIP 탱크(TK)로 회수된다. The cleaning liquid injected into the ultraviolet lamp L through the injection nozzle IN and washing and flowing down the ultraviolet lamp L flows into the collection line RL connected to the lower portion of the
즉, 종래에는 세정액이 자외선 반응기(100)의 내부를 완전히 충수한 후 순환하면서 자외선 램프(L)를 세정하기 때문에 세정액에 의해 원하지 않는 부분도 동시에 세정되는 문제점이 있지만, 본 발명의 자외선 반응기용 세정 장치(300)는 분사 노즐(IN)을 통해 자외선 램프(L)의 표면에 부착된 오염물 및 스케일 물질만을 선택적으로 제거할 수 있다. 또한, 종래에는 세정액이 자외선 반응기(100)를 완전히 충수하는 방식으로 세정하기 때문에 CIP 탱크(TK)의 용적이 자외선 반응기(100) 보다 커야 하지만, 본 발명에서는 분사 노즐(IN)을 통해 분사되어 램프 표면을 흘러 내리는 세정액을 바로 회수하는 방식으로 세정하므로 CIP 탱크(TK)의 용적을 획기적으로 줄이는 것이 가능하여 컴팩트한 설비가 가능하게 된다.In other words, conventionally, there is a problem that an undesired portion is simultaneously cleaned by the cleaning liquid because the cleaning liquid completely cleans the inside of the
한편, 본 실시예에서는 자외선 램프의 표면에 분사된 세정액을 중력에 의해 회수하는 구조에 대하여 설명하였지만, 중력에 의해 세정액을 회수하는 구조는 자외선 반응기(100)의 위치가 상부로 제한되는 문제점이 있다. In the meantime, although the structure for recovering the cleaning liquid sprayed on the surface of the ultraviolet lamp by gravity has been described in the present embodiment, there is a problem that the position of the
이를 위해 본 발명에서는 펌프 회수 방식을 이용하여 자외선 반응기(100)의 위치에 상관없이 자외선 반응기로부터 배출되는 세정액을 회수할 수 있도록 하며, 이에 대하여 좀 더 자세히 설명하면 다음과 같다.To this end, in the present invention, the cleaning liquid discharged from the ultraviolet ray reactor can be recovered regardless of the position of the
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치(400)를 나타낸 도면이다.4 is a view showing a
도 4를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치(400)는, 도 3에 도시된 자외선 반응기용 세정 장치(300)와 비교하여, 자외선 반응기(100)로부터 배출되는 세정액을 흡입 밸브(SV: Suction Valve)에 의해 흡입하여 CIP 펌프(CP)로 회수하는 점을 제외하고는 다른 구성요소는 동일하다.4, a
즉, 종래와 같이 중력에 의해 세정액을 회수하는 구조는 자외선 반응기(100)의 위치가 상부로 제한되지만, 본 발명에서는 자외선 반응기(100)의 위치에 상관없이 흡입 밸브(SV)를 이용하여 자외선 반응기(100)로부터 배출되는 세정액을 흡입하여 회수할 수 있다. That is, although the position of the
여기에서, CIP 펌프(CP)의 위치는 세정액의 흡입시 충수 조건을 만족할 수 있도록 자외선 반응기(100)나 CIP 탱크(TK) 보다 하부에 위치하도록 설치하거나, CIP 펌프(CP)의 흡입측에 진공장치를 추가할 수도 있다.The position of the CIP pump CP may be set to be lower than the
한편, 상기 CIP 탱크(TK)에 저장된 세정액의 양이 최소 레벨 이하인 경우 CIP 펌프(CP)가 작동 중지(shut-up)되기 때문에 상기 CIP 탱크(TK)에 저장되는 세정액의 양은 적절한 레벨을 유지해야 한다. On the other hand, when the amount of the cleaning liquid stored in the CIP tank TK is below the minimum level, the amount of the cleaning liquid stored in the CIP tank TK is maintained at an appropriate level since the CIP pump CP is shut- do.
좀 더 자세히 설명하면, 흡입 밸브(SV)를 열어 자외선 반응기(100)측 순환루프를 이용하여 세정운전이 이루어지도록 하고, 세정운전 중에 CIP 탱크(TK)에 저장된 세정액의 양이 소정 레벨 이하가 되면, 세정액 공급 밸브(IV)를 잠그고 회수 밸브(RV)를 열어 CIP 탱크(TK)로 세정액을 회수하는 회수운전을 교대로 해야 한다.More specifically, the suction valve SV is opened to perform the cleaning operation using the circulation loop on the
이를 위해, 본 발명에서는 연속적인 세정운전이 가능하도록 이덕터를 이용하여 자외선 반응기(100)로부터 배출되는 세정액을 CIP 탱크(TK)로 다시 유입시키며, 이에 대하여 좀 더 자세히 설명하면 다음과 같다.To this end, in the present invention, the cleaning liquid discharged from the
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치(500)를 나타낸 도면이다.5 is a view showing a
도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 자외선 반응기용 세정 장치(500)는, 도 4에 도시된 자외선 반응기용 세정 장치(400)와 비교하여, 자외선 반응기(100)로부터 배출되는 세정액이 흡입 밸브(SV)를 통해 이덕터(ED)로 유입되는 점을 제외하고는 다른 구성요소는 동일하다.5, a
상기 이덕터(ED)의 흡입부는 흡입 밸브(SV)에 연결되고, 구동부는 CIP 펌프(CP)의 토출측과 연결되며, 배출부는 세정액 공급 밸브(IV)와 회수 밸브(RV)에 연결된다.The suction part of the eductor ED is connected to the suction valve SV and the driving part is connected to the discharge side of the CIP pump CP and the discharge part is connected to the cleaning liquid supply valve IV and the recovery valve RV.
상기 이덕터(ED)는 상기 흡입 밸브(SV)로부터 유입되는 세정액을 흡입하여 상기 CIP 펌프(CP)에 의해 펌핑된 세정액과 혼합하고, 혼합된 세정액을 세정액 공급 밸브(IV)와 회수 밸브(RV)로 동시에 유입시키며, 이에 따라 회수 밸브(RV)를 통해 세정액이 CIP 탱크(TK)로 유입되어 세정액의 레벨을 일정하게 유지하면서 세정운전을 계속할 수 있게 되는 것이다. The eductor ED sucks the cleaning liquid introduced from the suction valve SV and mixes the cleaning liquid with the cleaning liquid pumped by the CIP pump CP and supplies the mixed cleaning liquid to the cleaning liquid supply valve IV and the recovery valve RV So that the cleaning liquid can flow into the CIP tank TK through the recovery valve RV and the cleaning operation can be continued while the level of the cleaning liquid is kept constant.
즉, 자외선 반응기(100)로 세정액이 분사되는 만큼 상기 이덕터(ED)를 이용하여 세정액을 CIP 탱크(TK)로 회수하여 CIP 탱크(TK)의 세정액의 양을 적절한 레벨로 유지할 수 있으며, 이에 따라 CIP 펌프(CP)의 캐비테이션(Cavitation)을 방지할 수 있다. 여기에서, 이덕터(ED)의 위치는 CIP 탱크(TK)의 탱크 회수 라인(T_RL: Tank Return Line)으로 이동시킬 수도 있다.That is, as the cleaning liquid is injected into the
상술한 바와 같이, 본 발명의 자외선 반응기용 세정 장치는 분사 노즐을 구비하여 분사 노즐을 통해 자외선 반응기의 자외선 램프를 세척함으로써 자외선 반응기의 자외선 램프에 부착된 오염물 및 스케일 물질을 선택적으로 제거할 수 있으며, CIP 탱크(TK)의 용적을 줄여 컴팩트한 설계가 가능하다.As described above, the cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor of the present invention has an injection nozzle and can selectively remove contaminants and scale substances attached to an ultraviolet lamp of an ultraviolet ray reactor by washing an ultraviolet lamp of the ultraviolet ray reactor through an injection nozzle , The volume of the CIP tank (TK) can be reduced and a compact design possible.
또한, 본 발명의 자외선 반응기용 세정 장치는 자외선 반응기의 위치에 상관없이 자외선 반응기로부터 배출되는 세정액을 흡입하여 효과적으로 회수할 수 있다.In addition, the cleaning apparatus for an ultraviolet ray reactor of the present invention can effectively recover the cleaning liquid discharged from the ultraviolet ray reactor regardless of the position of the ultraviolet ray reactor.
이제까지 본 발명에 대하여 그 바람직한 실시예들을 중심으로 설명하였다. 그러나, 본 발명의 실시예는 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공 되어지는 것으로, 본 발명의 범위가 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 여러 가지 다른 형태로 변형이 가능함은 물론이다.
The preferred embodiments of the present invention have been described above. It is to be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and alternative arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Of course.
300, 400, 500 : 자외선 반응기용 세정 장치
TK : CIP 탱크
CP : CIP 펌프
IV(Injection Valve) : 세정액 공급 밸브
IN(Injection Nozzle) : 분사 노즐
DV(Drain Valve) : 드레인 밸브
SV(Suction Valve) : 흡입 밸브
VV(Vent Valve) : 벤트 밸브
FV(Fresh water filling Valve) : 청수 공급 밸브
RV(Return Valve) : 회수 밸브
ED(Eductor) : 이덕터
RL(Return Line) : 회수 라인
T_RL(Tank Return Line) : 탱크 회수 라인300, 400, 500: Cleaning device for UV reactor
TK: CIP tank
CP: CIP pump
IV (Injection Valve): Cleaning liquid supply valve
IN (Injection Nozzle): Injection nozzle
DV (Drain Valve): Drain Valve
SV (Suction Valve): Suction valve
VV (Vent Valve): Bent valve
FV (Fresh water filling valve): fresh water supply valve
RV (Return Valve): Return Valve
ED (Eductor): EDUCATOR
RL (Return Line): Return Line
T_RL (Tank Return Line): Tank return line
Claims (4)
상기 CIP 탱크로부터 유입되는 세정액을 펌핑하여 배출하는 CIP 펌프;
상기 CIP 펌프로부터 배출되는 세정액을 자외선 반응기로 이송하는 세정액 공급 밸브;
상기 세정액 공급 밸브에 의해 이송된 세정액을 자외선 반응기내의 자외선 램프에 분사하는 분사 노즐;
상기 분사 노즐을 통해 상기 자외선 램프에 분사되어 상기 자외선 램프를 세척하고 흘러내리는 세정액을 회수하기 위한 회수 라인;
상기 회수 라인에 연결되어 상기 자외선 반응기로부터 배출되는 세정액을 흡입하여 배출하는 흡입 밸브;
상기 CIP 펌프의 토출측에 분기 연결되어 상기 CIP 펌프로부터 배출되는 세정액을 상기 CIP 탱크로 회수하는 회수 밸브를 포함하고,
상기 흡입 밸브로부터 배출되는 세정액이 상기 CIP 펌프로 유입되는 것을 특징으로 하는 자외선 반응기용 세정 장치.
A CIP tank in which a cleaning liquid is stored;
A CIP pump for pumping and discharging a cleaning liquid flowing from the CIP tank;
A cleaning liquid supply valve for delivering the cleaning liquid discharged from the CIP pump to the ultraviolet ray reactor;
A spray nozzle for spraying the cleaning liquid delivered by the cleaning liquid supply valve to an ultraviolet lamp in an ultraviolet reactor;
A recovery line for recovering a cleaning liquid sprayed to the ultraviolet lamp through the injection nozzle to clean and flow the ultraviolet lamp;
A suction valve connected to the recovery line for sucking and discharging the cleaning liquid discharged from the ultraviolet reactor;
And a recovery valve connected to the discharge side of the CIP pump to recover the cleaning liquid discharged from the CIP pump to the CIP tank,
Wherein the cleaning liquid discharged from the suction valve flows into the CIP pump.
상기 CIP 탱크로부터 유입되는 세정액을 펌핑하여 배출하는 CIP 펌프;
상기 CIP 펌프로부터 이덕터를 통해 배출되는 세정액을 자외선 반응기로 이송하는 세정액 공급 밸브;
상기 세정액 공급 밸브에 의해 이송된 세정액을 자외선 반응기내의 자외선 램프에 분사하는 분사 노즐;
상기 분사 노즐을 통해 상기 자외선 램프에 분사되어 상기 자외선 램프를 세척하고 흘러내리는 세정액을 회수하기 위한 회수 라인; 및
상기 회수 라인에 연결되어 상기 자외선 반응기로부터 배출되는 세정액을 흡입하여 배출하는 흡입 밸브;
상기 CIP 펌프의 토출측에 구동부가 연결되어 상기 CIP 펌프에 의해 구동되며, 상기 흡입 밸브의 출력측에 흡입부가 연결되어 상기 흡입 밸브로부터 배출되는 세정액을 흡입하여 상기 CIP 펌프로부터 배출되는 세정액과 혼합하여 배출하는 상기 이덕터; 및
상기 이덕터의 배출부에 분기 연결되어 상기 이덕터를 통해 배출되는 세정액을 상기 CIP 탱크로 회수하는 회수 밸브를 포함하고,
상기 이덕터를 통해 배출되는 세정액이 상기 세정액 공급 밸브 및 상기 회수 밸브로 동시에 유입되어 상기 CIP 탱크의 세정액의 레벨이 일정하게 유지되는 것을 특징으로 하는 자외선 반응기용 세정 장치.
A CIP tank in which a cleaning liquid is stored;
A CIP pump for pumping and discharging a cleaning liquid flowing from the CIP tank;
A cleaning liquid supply valve for delivering the cleaning liquid discharged from the CIP pump through the eductor to the ultraviolet ray reactor;
A spray nozzle for spraying the cleaning liquid delivered by the cleaning liquid supply valve to an ultraviolet lamp in an ultraviolet reactor;
A recovery line for recovering a cleaning liquid sprayed to the ultraviolet lamp through the injection nozzle to clean and flow the ultraviolet lamp; And
A suction valve connected to the recovery line for sucking and discharging the cleaning liquid discharged from the ultraviolet reactor;
A driving unit is connected to the discharge side of the CIP pump and is driven by the CIP pump. A suction unit is connected to an output side of the suction valve to suck the cleaning liquid discharged from the suction valve and mix with the cleaning liquid discharged from the CIP pump The eductor; And
And a recovery valve connected to the discharging portion of the eductor for recovering the cleaning liquid discharged through the eductor to the CIP tank,
Wherein the cleaning liquid discharged through the eductor simultaneously flows into the cleaning liquid supply valve and the recovery valve to maintain a level of the cleaning liquid in the CIP tank.
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