KR101486531B1 - Double cold mirror type uv curing apparatus - Google Patents

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김상길
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(주)에스유티
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Abstract

The UV curing apparatus according to the present invention reduces the installation costs, the maintenance costs, and the power consumption of a UV lamp and extends the lifetime of the UV lamp by having high intensity of light arriving on an object by directly radiating a light on the object, or using a reflecting shade manufactured in an optimal radius of curvature making the light radiated by being reflected by the reflection shade be not lost and completely arrive on the object.

Description

더블 콜드미러형 유브이 경화장치{DOUBLE COLD MIRROR TYPE UV CURING APPARATUS}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a double cold mirror type UV curing apparatus,

본 발명은 더블 콜드미러형 유브이 경화장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유브이 램프에서 조사되는 유브이가 유실되지 않고 제품에 조사되고, 장치의 내부의 온도를 감소시켜, 경화품질을 향상시키는 더블 콜드미러형 유브이 경화장치에 관한 것이다.The present invention relates to a double cold mirror type UV curing apparatus, and more particularly, to a double cold mirror type UV curing apparatus which irradiates a product without loss of UV light irradiated from the UV lamp, reduces the temperature inside the apparatus, Type UV curing apparatus.

유브이 경화장치는 유브이본드가 도포된 제품에 유브이를 조사하면 유브이 본드가 순간적으로 경화되는 화학반응을 이용하는 것으로, 유브이 경화장치를 이용해 제품의 표면경도를 향상시키거나 제품에 내스크래치성을 부여할 수 있다. 이런 유브이 경화과정이 제품의 생산에 필수적으로 요구됨에 따라 반도체, 전자, 의료, 통신 등 여러 기술분야에서 다양하게 활용되고 있다.The UVA hardening device utilizes a chemical reaction that instantaneously cures the UVA bond when the UVA bond is irradiated on the product coated with the UVA bond. It is possible to improve the surface hardness of the product or to impart scratch resistance to the product by using the UVA hardening device have. Since the process of UV curing is indispensable for the production of the product, it is widely used in various technical fields such as semiconductor, electronics, medical, and communication.

도 1은 종래기술에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치의 유브이 램프 유닛을 나타낸 단면도이다. 종래기술에 따른 자외선 경화장치는 유브이램프(1)와 유브이램프(1)에서 제품을 향하지 않은 방향으로 조사되는 유브이를 반사시키는 반사갓(2)과, 반사갓의 하측에서 유브이를 지정된 각도로 굴절시키는 콜드미러(4)를 포함하여 이루어진다. 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 기술에 따른 유브이 경화장치는, 유브이램프(1)에서 직접 조사되거나, 반사각(2)을 통해 반사된 빛이 콜드미러(4)로 조사된 후 굴절되어 피경화품(3)이 위치하는 곳으로 온전히 조사되는 것이 아니라, 유브이 램프(1)에서 직접 조사되거나, 반사각(2)을 통해 반사된 빛이 콜드미러(4)가 설치된 범위에 벗어도록 조사되어 유브이의 손실이 발생하게 된다. 따라서, 제품에 도달하는 광량이 낮아지게 되므로 광량을 높이기 위해 다수의 유브이램프(1)를 설치하거나, 높은 전력을 사용해야하므로, 설치비 및 유지비가 증가되고, 손실된 유브이로 인해 장치의 내부의 온도가 급격히 높아지기 때문에 피경화물의 온도를 상승시켜 피경화물에 열변형이 일어나거나, 제품이 소손될 수 있으며, 유브이본드가 제대로 경화되지 않는 문제를 야기시킬 수 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2010-0023397에는 상기의 종래의 기술과 유사한 구조의 유브이 경화장치가 예시된다.
1 is a cross-sectional view showing a UV lamp unit of a double cold mirror type UV curing apparatus according to the related art. The UV curing apparatus according to the related art includes a UV lamp 1 and a reflector 2 for reflecting the UV light emitted from the UV lamp 1 in a direction not directed toward the product and a reflector 2 for refracting the UV light at a specified angle from the lower side of the reflector. And a mirror (4). As shown in FIG. 1, the conventional UV-curing apparatus is irradiated with light directly from the UV lamp 1 or reflected by the reflection angle 2 to the cold mirror 4, The light irradiated directly from the UV lamp 1 or reflected through the reflection angle 2 is irradiated so as to be out of the range in which the cold mirror 4 is installed, Loss occurs. Therefore, since the amount of light reaching the product is lowered, it is necessary to install a plurality of U-shaped lamps (1) to increase the light amount or to use high power, so that the installation cost and the maintenance cost are increased, The temperature of the object to be cured may be raised to cause thermal deformation in the object to be cured, the product may be burned, and the problem may occur that the cured material of the cured product is not properly cured.
Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2010-0023397 exemplifies a UV curing apparatus having a structure similar to that of the prior art.

본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 유브이램프에서 조사되고, 콜드미러에서 굴절되는 빛을 피경화품으로 온전히 조사되도록 하여, 유브이램프의 설치비 및 유지비와 전력소모량을 감소시키고, 피경화물의 열변형 및 소손을 방지하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems, and to provide a method and an apparatus for irradiating light from a UV lamp and refracted in a cold mirror, To prevent thermal deformation and burn-out.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치는, 내부에 공간을 형성하는 하우징; 상기 하우징의 내부에 위치하며, 유브이를 조사하는 유브이 램프; 상기 유브이 램프에서 조사되는 유브이를 반사시키는 반사갓; 상기 유브이 램프와 상기 피경화물의 사이의 공간을 차단하거나 개방하는 셔터; 상기 유브이 램프에서 직접 조사되거나, 반사갓에 반사되어 조사되는 유브이를 상기 피경화물을 향한 방향으로 굴절시키는 콜드미러;를 포함하여 이루어지며, 상기 반사갓은, 구간별 곡률반경이 다르고, 전체적으로 볼록한 형상으로 이루어지고, 상측부터 제1구간과, 제2구간, 제3구간으로 나뉘는 반사갓을 포함하여 이루어지며, 상기 제1구간과 상기 제2구간과 상기 제3구간의 수직길이는 상기 반사갓의 전체 수직 길이에 대비하여 각각 0.4~0.5, 0.4~0.5, 0.05~0.15의 범위 내에 있고, 상기 제1구간과 상기 제2구간과 상기 제3구간의 곡률반경은 각각 30~100mm, 100~180mm, 50~100mm의 범위 내에 있으며, 상기 제1구간과 상기 제2구간과 상기 제3구간은 곡률반경이 다른 다수의 원호가 연결된 곡선의 형태이며, 상기 제1구간과 상기 제2구간은 다수의 원호의 곡률반경이 하측 이동할수록 상기 곡률반경의 범위 내에서 커지며, 상기 제3구간은 다수의 원호의 곡률반경이 하측으로 이동할수록 상기 곡률반경의 범위 내에서 작아지는 것을 특징으로 한다.
상기 콜드미러의 굴절 각도를 조절하기 위한 손잡이;와 각도가 표시되어 있는 지시명판;과 상기 콜드미러의 각도를 가르키는 지시 바늘을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
According to an aspect of the present invention, there is provided a double-cold mirror type UV curing apparatus comprising: a housing defining a space therein; A U-shaped lamp located inside the housing and irradiating the U-beam; A reflector reflecting the UV light irradiated from the UV lamp; A shutter for blocking or opening a space between the UV lamp and the object to be cured; And a cold mirror which reflects the UV light directly irradiated from the UV lamp or reflected by the reflector toward the direction of the object, wherein the reflector has a different radius of curvature and has a generally convex shape And a reflector which is divided into a first section from the upper side, a second section and a third section, wherein a vertical length of the first section, the second section and the third section is equal to an entire vertical length of the reflector The radius of curvature of the first section, the radius of curvature of the second section, and the radius of curvature of the third section are 30 to 100 mm, 100 to 180 mm, and 50 to 100 mm, respectively, in the range of 0.4 to 0.5, 0.4 to 0.5, and 0.05 to 0.15, Wherein the first section, the second section, and the third section are in the form of curved lines in which a plurality of arcs having different curvature radii are connected, and the first section and the second section are curved radii of a plurality of arcs Lower The radius of curvature increases as the radius of curvature increases, and the third section decreases in radius of curvature as the radius of curvature of the plurality of arcs moves downward.
A handle for adjusting the refraction angle of the cold mirror; an instruction name plate for displaying an angle; and an indicating needle for indicating an angle of the cold mirror.

본 발명은 유브이램프에서 피경화품으로 직접조사되거나, 반사갓에 반사되어 조사되는 빛이 유실되지 않고 콜드미러로 온전히 도달하게 하게 하는 최적의 곡률반경으로 제작된 반사갓을 사용하고, 피경화품에 도달하는 광량이 높아진다. 즉, 낮은 전력과 적은 수의 유브이 램프를 사용하여 유브이 경화가 가능하기 때문에 유브이 램프의 설치비가 감소되고, 피경화물의 열변형 및 소손을 방지할 유브이 램프의 수명을 늘리는 효과가 있다.The present invention uses a reflector which is irradiated directly from the UV lamp to the object to be cured or is made to have an optimal radius of curvature that allows the light reflected by the reflector to be completely emitted to the cold mirror without being lost, The amount of light to be emitted is increased. That is, since the UV lamp can be cured using a low power and a small number of UV lamps, the installation cost of the UV lamp is reduced, and the lifetime of the UV lamp to prevent thermal deformation and burnout of the cured product is increased.

도 1은 종래의 더블 콜드미러형 유브이 경화장치의 반사갓에 따른 유브이의 조사 범위를 나타내는 단면도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치를 나타낸 사시도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치를 나타낸 단면도.
도 4와 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치에서 유브이 램프 유닛의 셔터의 회전하는 모습을 나타내는 단면도.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치의 후면을 나타낸 단면도.
도 7a 및 도 7b, 도7c는 본 발명의 실시예에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치의 설치 방향에 따른 유브이의 조사 방향을 나타낸 단면도.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치의 반사갓에 따른 유브이의 조사 범위를 나타내는 단면도.
도 9은 본 발명의 실시예에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치의 반사갓과 종래의 기술에 따른 반사갓의 광량을 비교한 표.
도 10은 본 발명의 실시예에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치의 반사갓과 종래의 기술에 따른 반사갓의 광량을 비교할 때의 유브이 램프 및 반사갓의 구조를 나타낸 단면도.
도 11는 본 발명의 실시예에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치에서 콜드미러의 설치 전 후의 광량 및 장치 내부의 온도를 비교한 표.
도 12은 본 발명의 실시예에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치의 반사갓의 곡률반경을 나타낸 단면도.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view showing an irradiation range of a UV lamp according to a reflector of a conventional double cold mirror type UV curing apparatus. FIG.
2 is a perspective view of a double cold mirror type UV curing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view illustrating a double cold mirror type UV curing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 and 5 are sectional views showing a rotation of a shutter of a UV lamp unit in a double cold mirror type UV curing apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view illustrating a rear surface of a double cold mirror type UV curing apparatus according to an embodiment of the present invention.
7A, 7B, and 7C are cross-sectional views illustrating irradiation directions of a UV-curing UV-curing apparatus according to an embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view showing an irradiation range of a UV lamp according to a reflector of a double cold mirror type UV curing apparatus according to an embodiment of the present invention.
9 is a chart comparing light intensities of a reflector of a double cold mirror type UV curing apparatus and a reflector according to a conventional technique according to an embodiment of the present invention.
10 is a sectional view showing the structure of a reflector of a double cold mirror type UV curing apparatus according to an embodiment of the present invention and a reflector of a UV lamp when a light amount of a reflector according to the related art is compared.
11 is a table comparing the light amount before and after the installation of the cold mirror and the temperature inside the apparatus in the double cold mirror type UV curing apparatus according to the embodiment of the present invention.
12 is a cross-sectional view showing a radius of curvature of a reflector of a double cold mirror type UV curing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명에 따른 실시예를 구체적으로 설명하도록 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2와 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 유브이 경화 장치는, 유브이 램프 유닛(110)과 환풍장치(120) 등이 위치하는 장치부(100)와, 피경화물(3)을 장치의 내부 및 외부로 이동시키는 컨베이어부(200)와, 장치부(100)의 하측에 위치하는 지지부(300)로 이루어진다.2 and 3, the UV curing apparatus according to the embodiment of the present invention includes a device unit 100 in which the UV lamp unit 110 and the ventilation device 120 are located, A conveyor unit 200 for moving the apparatus 100 to the inside and the outside of the apparatus, and a support unit 300 located below the apparatus unit 100.

도 4 및 도 6에 도시된 바와 같이, 유브이 램프 유닛(110)은 내부에 공간을 형성하는 하우징(116)과, 하우징(116)에 내부에 장착되는 유브이 램프(111)와, 유브이 램프(111)의 주변부를 감싸는 반사갓(112)과, 반사갓(112)을 고정하는 커버(113)와, 반사갓(112)의 하측에 위치하고 회전을 통해 유브이 램프(111)와 피경화물(3)의 사이를 차단하는 두 개의 셔터(114)와, 셔터(114)의 셔터회전장치(115), 유브이 램프(111)에서 조사되는 빛을 굴절시키는 콜드미러(117)와, 콜드미러(117)의 각도를 조절하기 위한 손잡이(117a) 및 콜드미러(117)의 각도를 표시하기 위한 각도 명판(118) 및 지시바늘(118a)과, 배기를 위한 배기 덕트(119)로 이루어진다. 반사갓(112)은 콜드미러로 제작되어 유브이 램프(111)에서 발산하는 빛이 반사갓(112)을 향해 조사되면, 적외선은 투과시키고 자외선만을 반사시켜 피경화물(3)을 향해 조사한다. 반사갓(112)은 곡선형태의 단면을 가진 판의 형상이 유브이 램프(111)를 중심으로 좌우로 대칭되는 형태로, 두 개의 판이 한 쌍으로 이루어지며, 한 쌍의 반사갓(112)은 유브이 램프(111)의 빛이 하방을 향해 조사되도록 유브이 램프(111)의 하방이 개방된 형태이다.4 and 6, the U-shaped lamp unit 110 includes a housing 116 forming a space therein, a U-shaped lamp 111 mounted inside the housing 116, a U- A cover 113 for fixing the reflector 112 and a cover 113 for covering the periphery of the reflector 112. The cover 113 is disposed below the reflector 112 and blocks the gap between the U- A cold mirror 117 for refracting the light irradiated from the U-turn lamp 111 and a shutter rotating device 115 for controlling the angle of the cold mirror 117 An angle name plate 118 and an indicating needle 118a for indicating the angle of the cold mirror 117 and an exhaust duct 119 for exhausting the knob 117a. The reflector 112 is made of a cold mirror. When the light emitted from the UV lamp 111 is irradiated toward the reflector 112, the reflector 112 transmits infrared rays, reflects only ultraviolet rays, and irradiates the visor 3. The reflector 112 has a shape in which the shape of a plate having a curved cross section is symmetrical to the left and right with respect to the Ube lamp 111. The pair of reflectors 112 is formed of a pair of reflectors 112, 111 is opened downward so that the light of the lamp 111 is irradiated downward.

셔터(114)는 유브이 램프(111)의 조사량을 조절하기 위해 설치되며, 셔터(114)의 회전을 통해 유브이 램프(111)와 피경화물(3)의 사이가 차단되거나 개방된다. 또한 셔터(114)에는 핀형상으로 돌출된 다수의 돌출부(114b)가 형성되어 있는데, 이는 셔터(114)의 휘어짐을 방지하는 동시에 셔터(114)에 전달된 열을 방열하는 기능을 한다. 따라서 알루미늄과 같이 열 전도율이 높은 재료를 사용하여 셔터(114)를 제작하면 전술한 방열기능을 더욱 향상시킬 수 있다.The shutter 114 is provided to adjust the irradiation amount of the U-shaped lamp 111 and the U-turn ramp 111 is interrupted or opened by the rotation of the shutter 114. [ The shutter 114 also has a plurality of projecting portions 114b protruding in a pin shape to prevent the shutter 114 from warping and to dissipate the heat transferred to the shutter 114. [ Therefore, when the shutter 114 is formed using a material having a high thermal conductivity such as aluminum, the aforementioned heat radiation function can be further improved.

셔터(114)는 셔터회전장치(115)를 이용해 회전하며, 셔터회전장치(115)는 상하로 구동하는 실린더(115a)와 실린더(115a)의 구동부에 고정되는 고정부(115b), 고정부(115b)에 연결되고 실린더(115a)의 축을 중심으로 대칭되는 두 개의 연결부(115c)와, 한쪽 끝부분이 연결부(115c)에 연결되고 반대쪽 끝부분이 셔터(114)에 고정되는 회전부(115d)로 이루어진다. 상기에 설명한 바와 같이 연결부(115c)는 2개가 실린더(115a)의 축을 중심으로 대칭되게 형성되기 때문에, 연결부(115c)와 이어지는 회전부(115d) 및 셔터(114) 또한 실린더(115a)의 축을 중심으로 대칭하는 형상으로 각각 2개씩 형성된다. 실린더(115a)는 유브이 램프 유닛(110)의 장축의 양쪽 면 중 어느 한 면의 외부에 설치된다.The shutter 114 rotates using the shutter rotating device 115. The shutter rotating device 115 includes a cylinder 115a which is driven up and down and a fixing part 115b which is fixed to the driving part of the cylinder 115a, 115b which is symmetrical about the axis of the cylinder 115a and a rotation part 115d connected to the connection part 115c at one end and fixed to the shutter 114 at the opposite end . The connecting portion 115c and the rotating portion 115d and the shutter 114 which are connected to the connecting portion 115c are also arranged around the axis of the cylinder 115a as the two connecting portions 115c are formed symmetrically about the axis of the cylinder 115a, Two symmetrical shapes are formed. The cylinder 115a is installed on either side of both sides of the long axis of the UV lamp unit 110. [

도 4와 도 5를 참조하면, 실린더(115a)가 하측으로 구동하면, 실린더(115a)에 고정된 고정부(115b)와 고정부(115b)에 연결된 연결부(115c)가 함께 하측으로 이동하고, 이때에 연결부(115c)와 연결된 회전부(115d)와, 회전부(115d)에 고정된 셔터가 유브이 램프(111)와 피경화물(3)의 사이를 개방하는 방향으로 회전하면서, 셔터(114)로 차단되었던 유브이 램프(111)와 피경화물(3)의 사이가 개방된다. 또한, 유브이 램프(111)와 피경화물(3)의 사이가 개방된 상태에서, 실린더(115a)가 상측으로 구동하면, 실린더(115a)에 고정된 고정부(115b)와 고정부(115b)에 연결된 연결부(115c)가 함께 상측으로 이동하고, 이때에 연결부(115c)와 연결된 회전부(115d)가 실린더(115a)가 하측으로 구동할 때와 반대의 방향으로 회전하면서, 회전부(115d)에 고정된 셔터(114)가 회전부(115d)와 함께 회전하므로, 유브이 램프(111)와 피경화물(3)의 사이를 차단하게 된다. 이때에 셔터(114)의 회전 각도는 실린더(115a)의 구동거리를 통하여서 1차적으로 조절할 수 있으며, 동시에 걸림부(114a)가 하우징(116)에 장착된 하우징 돌출부(116a)에 걸리게 하므로 회전을 정지시킬 수 있다.4 and 5, when the cylinder 115a is driven downward, the fixed portion 115b fixed to the cylinder 115a and the connecting portion 115c connected to the fixed portion 115b move down together, At this time, the rotation part 115d connected to the connection part 115c and the shutter fixed to the rotation part 115d are rotated in the direction to open the space between the U- And the space between the U-shaped lamp 111 and the transparent object 3 is opened. When the cylinder 115a is driven upward while the space between the U-shaped lamp 111 and the handpiece 3 is opened, the fixing portion 115b fixed to the cylinder 115a and the fixing portion 115b fixed to the cylinder 115a The connecting portion 115c moves upward so that the rotating portion 115d connected to the connecting portion 115c rotates in a direction opposite to that when the cylinder 115a is driven downward and the rotating portion 115d is fixed to the rotating portion 115d The shutter 114 rotates together with the rotating portion 115d so as to block the gap between the U-shaped lamp 111 and the pinhole. At this time, the rotation angle of the shutter 114 can be adjusted primarily through the driving distance of the cylinder 115a. At the same time, since the locking portion 114a is caught by the housing projection portion 116a mounted on the housing 116, It can be stopped.

셔터(114)의 개폐여부는 제어부에서 제어하며, 제어부에서는 유브이 조사량과 경화 진행 여부를 감지하여 셔터(114)의 개폐여부를 결정한다.Whether the shutter 114 is open or closed is controlled by the control unit, and the control unit detects whether or not the shutter 114 is open or closed by sensing the amount of UV irradiation and progress of curing.

유브이 램프(111)에서 직접 조사되거나, 반사갓(112)에 반사되어 조사되는 빛은 콜드미러(117)를 향해 조사되며, 콜드미러(117)에서 빛이 굴절된 후 피경화물(3)을 향해 빛이 조사된다. 콜드미러(117)는 적외선은 통과시키고, 자외선만을 반사시키기 때문에 피경화물(3)에는 자외선, 즉 유브이만이 조사된다. 도 4 및 도 5에서는 유브이 램프(111)에서 빛이 하측 방향으로 조사되고, 유브이 램프(111)의 하측에 위치한 콜드미러(117)가 빛을 좌측방향으로 굴절되도록 유브이 램프 유닛(110)을 설치한 도면을 예시하였지만, 도 7a 및 도 7b, 도 7c에 도시된 바와 같이, 사용자의 필요에 따라 유브이 램프 유닛(110)의 설치 방향을 조절하여 유브이의 조사 방향을 조절할 수 있다.Light irradiated directly from the UV lamp 111 or reflected by the reflector 112 is irradiated toward the cold mirror 117. After the light is refracted by the cold mirror 117, . Since the cold mirror 117 passes infrared rays and reflects only ultraviolet rays, only the ultraviolet rays, that is, the ultraviolet rays, are irradiated to the object glass 3. 4 and 5, light is irradiated downward from the U-turn lamp 111, and the cold mirror 117 located below the U-take lamp 111 is installed with the U-take lamp unit 110 so that the light is refracted in the left direction. However, as shown in FIGS. 7A, 7B, and 7C, the installation direction of the UV lamp unit 110 may be adjusted according to the needs of the user to adjust the irradiation direction of the UV lamp.

도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화장치의 유브이 램프(111)에서 조사되는 유브이의 조사 범위는 콜드미러(117)를 향해 조사되고, 콜드미러(117)에서 굴절된 유브이가 피경화물(3)에 집중되어 조사되므로 유브이의 유실이 발생하지 않는다. 이는 최적의 반사갓(112)의 곡률반경이 적용되었기 때문에 유브이의 유실이 발생하지 않는 것이다.8, the irradiation range of the UV light irradiated from the UV lamp 111 of the double cold mirror type UV curing apparatus according to the present invention is irradiated toward the cold mirror 117 and refracted by the cold mirror 117 (3), the loss of the U-boat does not occur. This is because the radius of curvature of the optimal reflector 112 is applied so that the loss of the uvu does not occur.

도 9a 및 도 9b, 도 9c에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 반사갓(112)의 효과를 알아보기 위해, 종래의 반사갓과 최적의 곡률반경로 제작된 본 발명에 따른 반사갓(112)의 광량을 비교해 보았으며, 비교를 위해 2개의 챔버를 준비하였다. 본 실험은 최적의 곡률반경이 적용된 반사갓(112)의 효과를 알아보기 위한 것으로, 도 10과 같이, 콜드미러(117)가 설치되지 않은 상태에서, 유브이 램프(111)의 하측에 위치한 피경화물(3)로 조사되는 빛의 광량을 측정한 것이다. 종래의 반사갓을 기존 반사갓으로 칭하고, 본 발명에 따른 반사갓(112)을 개선 반사갓으로 칭한다. 광량은 mJ/㎠의 단위와 mW/㎠의 단위로 측정되었으며, 두 단위 중에 mJ/㎠의 단위를 기준으로 설명하고자 한다.9A, 9B and 9C, in order to examine the effect of the reflector 112 according to the present invention, the light amount of the reflector 112 according to the present invention, which is made of a conventional reflector and an optimum radius of curvature, , And two chambers were prepared for comparison. As shown in FIG. 10, in order to examine the effect of the reflector 112 to which the optimal radius of curvature is applied, in the state where the cold mirror 117 is not installed, 3) of the light source. The conventional reflector is referred to as an existing reflector, and the reflector 112 according to the present invention is referred to as an improved reflector. The amount of light was measured in units of mJ / cm 2 and mW / cm 2, and will be described based on units of mJ / cm 2 in the two units.

도 9a를 참조하면, 첫 번째 실험에서는, 1번 챔버와 2번 챔버에 모두 기존 반사갓을 설치하고, 챔버당 2등의 유브이 램프(111)를 설치한 후 120W의 전력을 사용하여 광량을 측정한 결과를 나타내었다. 1번 챔버의 광량은 3695mJ/㎠이고, 2번 챔버의 광량은 3373mJ/㎠로, 1번 챔버와 2번 챔버의 광량은 유사한 값으로 측정된다.Referring to FIG. 9A, in the first experiment, a conventional reflector is installed in both the first chamber and the second chamber, and two light sources such as a Ube lamp 111 are installed in the chamber, and the light amount is measured using a power of 120 W The results are shown. The light amount of the first chamber is 3695 mJ / cm 2, the light amount of the second chamber is 3373 mJ / cm 2, and the light amounts of the first chamber and the second chamber are measured to be similar.

도 9b를 참조하면, 두 번째 실험에서는, 1번 챔버에 개선 반사갓(112)을 설치하고, 2번 챔버에 기존 반사갓을 설치하며, 챔버당 2등의 유브이 램프(111)를 설치하고, 100W와 120W, 160W의 전력에서 각각의 광량을 측정한 결과를 나타내었다. 또한 개선 반사갓을 사용한 챔버가 기존 반사갓을 사용한 챔버 대비하여 증가한 광량의 비율을 나타내기 위해 광량 증가율을 표기하였다.Referring to FIG. 9B, in the second experiment, the improvement reflector 112 is installed in the first chamber, the existing reflector is installed in the second chamber, the Ubei lamp 111 is installed in the second chamber, 120W, and 160W, respectively. In addition, the rate of increase of the light amount of the chamber using the improved reflector was indicated to show the ratio of the amount of light increased compared to the chamber using the existing reflector.

100W의 전력에서 1번 챔버의 광량은 5762mJ/㎠이고, 2번 챔버의 광량은 2904mJ/㎠이며, 광량 증가율은 98%이다. 또한 120W의 전력에서 1번 챔버의 광량은 7231mJ/㎠이고, 2번 챔버의 광량은 3343mJ/㎠으며, 광량 증가율은 123%이다. 160W의 전력에서의 1번 챔버의 광량은 8351mJ/㎠이고, 2번 챔버의 광량은 3948mJ/㎠이며, 광량 증가율은 112%이다. 두 번째 실험의 결과에 따르면, 개선 반사갓(112)을 사용했을 때에 기존 반사갓을 사용할 때보다 광량이 두 배정도 증가함을 알 수 있다.At a power of 100 W, the light amount of the first chamber is 5762 mJ / cm 2, the light amount of the second chamber is 2904 mJ / cm 2, and the light amount increase rate is 98%. In addition, the light amount of the first chamber is 7231 mJ / cm 2, the light amount of the second chamber is 3343 mJ / cm 2, and the light amount increase rate is 123% at a power of 120 W. The light amount of the first chamber is 8351 mJ / cm 2 at a power of 160 W, the light amount of the second chamber is 3948 mJ / cm 2, and the light amount increase rate is 112%. According to the results of the second experiment, when the improved reflector 112 is used, the light amount is doubled as compared with the conventional reflector.

도 9c를 참조하면, 세 번째 실험에서는 1번 챔버에 개선 반사갓(112)을 설치하고, 2번 챔버에 기존 반사갓을 설치하며, 챔버당 1등의 유브이 램프(111)를 설치하고, 100W와 120W, 160W의 전력에서 각각의 광량을 측정한 결과를 나타내었다.Referring to FIG. 9C, in the third experiment, an improved reflector 112 is installed in the first chamber, a conventional reflector is installed in the second chamber, a Ubei lamp 111 is installed per chamber, and 100W and 120W , And 160 W, respectively.

100W의 전력에서 1번 챔버의 광량은 2991mJ/㎠이고, 2번 챔버의 광량은 1312mJ/㎠이며, 광량 증가율은 128%이다. 또한 120W의 전력에서 1번 챔버의 광량은 3878mJ/㎠이고, 2번 챔버의 광량은 1629mJ/㎠이며, 광량 증가율은 138%이다. 160W의 전력에서의 1번 챔버의 광량은 4331mJ/㎠이고, 2번 챔버의 광량은 1906mJ/㎠이며, 광량 증가율은 127%이다. 세 번째 실험의 결과에 따르면, 개선 반사갓(112)을 사용했을 때에 기존 반사갓을 사용할 때보다 광량이 두 배 이상 증가함을 알 수 있으며, 첫 번째 실험과 세 번째 실험을 비교해 보면, 120W의 전력을 사용했을 때에, 기존 반사갓을 사용하고 2개의 유브이 램프(111)를 사용했을 때의 광량인 3695mJ/㎠와, 개선 반사갓을 사용하고 1개의 유브이 램프(111)를 사용했을 때의 광량인 3878mJ/㎠가 유사한 값을 보이기 때문에, 유브이 램프(111)를 1등만 설치하여도 개선 반사갓(112)을 사용하면 기존 반사갓을 사용할 때에 유브이 램프(111)를 2등을 설치했을 때와 유사한 광량을 나타낼 수 있다는 것을 확인할 수 있다.At a power of 100 W, the light amount of the first chamber is 2991 mJ / cm 2, the light amount of the second chamber is 1312 mJ / cm 2, and the light amount increase rate is 128%. In addition, the light amount of the first chamber is 3878 mJ / cm 2 at a power of 120 W, the light amount of the second chamber is 1629 mJ / cm 2, and the light amount increase rate is 138%. The light amount of the first chamber at the power of 160 W is 4331 mJ / cm 2, the light amount of the second chamber is 1906 mJ / cm 2, and the light amount increase rate is 127%. According to the results of the third experiment, it is seen that when using the improved reflector 112, the light amount increases more than twice as compared with the use of the existing reflector. When comparing the first experiment with the third experiment, The light amount when using the existing reflector and using the two Ube lamps 111 is 3695 mJ / cm 2 and the light amount when one of the Ube lamps 111 is used by using the improved reflector is 3878 mJ / cm 2 Even if only the first lamp of the lamp 111 is installed, the use of the improved lamp shade 112 can produce a quantity of light similar to that of the second lamp installed in the lamp 111 when the existing lamp shade is used .

따라서 개선 반사갓(112)을 사용하면, 전력의 사용량과 유브이 램프(111)의 수를 줄일 수 있기 때문에, 기존 반사갓을 사용할 때보다 생산비용을 절감할 수 있다.Therefore, when the improved reflector 112 is used, the amount of power used and the number of the U-shaped lamps 111 can be reduced, so that the production cost can be reduced as compared with the case of using the existing reflector.

또한, 도 11에 도시된 바와 같이, 콜드미러(117)의 적용에 따른 장치의 내부의 온도의 변화값을 확인하기 위한 실험을 진행하였다. 1번 챔버에 콜드미러(117)가 미적용된 유브이 램프 유닛을 설치하고, 2번 챔버에 콜드미러(117)가 적용된 유브이 램프 유닛(110)을 설치한 후에, 160W의 전력에서 챔버 당 1등의 램프를 설치하여 장치 내부의 온도와 광량을 측정해 보았다. 1번 챔버의 광량은 4331mJ/㎠이고 2번 챔버의 광량은 3093mJ/㎠로 콜드미러(117)가 적용되지 않은 1번 챔버의 광량이 2번 챔버의 광량보다 1.4배 정도 높았만, 1번 챔버의 온도는 110℃로 많은 열이 발생하는 데에 반해 2번 챔버의 온도는 45℃로 1번 챔버의 온도가 2번 챔버보다 2.4배 가량 높은 것을 알 수 있다. 따라서 콜드미러(117)를 적용했을 때의 광량이 피경화물을 경화시키기에 충분한 양일 경우에는 콜드미러(117)를 적용하여 장치의 내부의 온도를 내려서, 장치 내부의 높은 온도로 인한 피경화물의 변형 및 소실뿐만 아니라 유브이 본드가 제대로 경화되지 않는 현상을 예방할 수 있다.As shown in FIG. 11, an experiment was conducted to confirm the change in the temperature of the inside of the apparatus due to the application of the cold mirror 117. A UV lamp unit in which the cold mirror 117 is not installed in the first chamber and a UV lamp unit 110 in which the cold mirror 117 is applied to the second chamber is installed and then the first lamp I installed the lamp and measured the temperature and the amount of light inside the device. The light amount of the first chamber was 4331 mJ / cm 2, the light amount of the second chamber was 3093 mJ / cm 2, and the light amount of the first chamber without the cold mirror 117 was 1.4 times higher than the light amount of the second chamber, The temperature of the second chamber is 45 ° C, while the temperature of the first chamber is 2.4 times higher than that of the second chamber. Therefore, when the amount of light when the cold mirror 117 is applied is sufficient to cure the object to be cured, the temperature of the inside of the device is lowered by applying the cold mirror 117, and the deformation of the object to be cured And can prevent the phenomenon that the U-Bond is hardened properly as well as the disappearance.

도 12를 참조하면, 본 발명에 따른 더블 콜드미러형 유브이 경화 장치의 실시예에 따른 반사갓(112)의 내측 곡률반경을 나타내었다. 반사갓(112)의 내측 곡률반경은 수직 길이를 기준으로 3구간으로 나누어 설명할 수 있으며, 반사갓(112)의 전체의 수직 길이를 1로 보았을 때에 상측부에 해당하는 제1구간(410)은 전체 수직 길이의 0.4~0.5의 범위 내의 길이를 가지고, 중간부에 해당하는 제2구간(420)은 전체 수직길이의 0.4~0.5의 범위 내의 길이를 가지고, 하측부에 해당하는 제3구간(430)은 전체 수직길이의 0.05~0.15의 범위 내의 길이를 가진다. 12, the radius of curvature of the inner side of the reflector 112 according to the embodiment of the double cold mirror type UV curing apparatus according to the present invention is shown. The inner radius of curvature of the reflector 112 can be divided into three sections based on the vertical length. When the vertical length of the reflector 112 is 1, the first section 410 corresponding to the upper part is the entire The second section 420 corresponding to the intermediate section has a length within the range of 0.4 to 0.5 of the total vertical length and the third section 430 corresponding to the lower section has the length within the range of 0.4 to 0.5 of the vertical length, Has a length in the range of 0.05 to 0.15 of the total vertical length.

제1구간(410)에는 30~100mm의 곡률반경을 갖는 다수의 원호가 연결되어 곡선의 형태를 그리며, 다수의 원호의 곡률반경은 하측으로 이동할수록 상기 범위 내에서 커진다. 또한 제2구간(420)에는 100~180mm의 곡률반경을 갖는 다수의 원호가 연결되어 곡선의 형태를 그리며, 각 원호의 곡률반경도 하측으로 이동할수록 상기 범위 내에서 커진다. 제3구간(430)은 50~100mm의 곡률반경을 갖는 다수의 원호가 연결되어 곡선의 형태를 그리며, 각 원호의 곡률반경은 하측 이동할수록 상기 범위 내에서 작아진다. In the first section 410, a plurality of arcs having a radius of curvature of 30 to 100 mm are connected to form a curved line, and the radius of curvature of the arcs increases within the range as it moves downward. In the second section 420, a plurality of arcs having a radius of curvature of 100 to 180 mm are connected to form a curve, and the radius of curvature of each arc also increases within the range as it moves downward. In the third section 430, a plurality of arcs having a radius of curvature of 50 to 100 mm are connected to form a curve, and the radius of curvature of each arc decreases within the range as the lower part moves.

상기 제1구간(410)과 제2구간(420) 및 제3구간(430)의 수평 방향 길이의 비율은 각 구간별 수직길이와 곡률반경에 따라 그 비율이 정해지고, 그 비율은 도면과 같다.The ratio of the horizontal lengths of the first section 410, the second section 420 and the third section 430 is determined according to the vertical length and the radius of curvature of each section, .

반사갓(112)의 곡률반경을 표현하기 위해 우측부의 반사갓(112)만 표기하였으나, 실제 반사갓(112)은 표기된 우측부의 반사갓(112)과 일정거리만큼 이격된 좌측부의 반사갓(112)이 우측부의 반사갓(112)과 대칭되게 설치된다. The reflector 112 of the right side is marked with the reflector 112 of the right side and the reflector 112 of the right side is spaced apart from the reflector 112 of the displayed right side by a predetermined distance in order to express the radius of curvature of the reflector 112, (112).

본 발명인 더블 콜드미러형 유브이 경화장치는 전술한 실시예에 국한하지 않고, 본 발명의 청구 범위에 기재된 기술 사상이 허용되는 범위 내에서 다양하게 변형하여 실시할 수 있다.The double-cold mirror type UV curing apparatus of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be variously modified and embodied within the scope of the technical idea described in the claims of the present invention.

3 : 피경화물, 100 : 장치부, 110 : 유브이 램프 유닛,
111 : 유브이 램프, 112 : 반사갓, 113 : 커버,
114 : 셔터, 114a : 걸림부, 114b : 돌출부,
115 : 셔터회전장치, 115a : 실린더, 115b : 고정부,
115c : 연결부, 115d : 회전부, 116 : 하우징,
116a : 하우징 돌출부, 117 : 콜드미러, 118 : 각도 명판,
118a : 지시바늘 119 : 배기덕트, 120 : 환풍장치,
200 : 컨베이어부, 300 : 지지부, 410 : 제1구간,
420 : 제2구간, 430 : 제3구간
3: a transparent object, 100: a device unit, 110: a UV lamp unit,
111: Ubei lamp, 112: Reflector, 113: Cover,
114: shutter, 114a: engaging portion, 114b: projecting portion,
115: shutter rotating device, 115a: cylinder, 115b: fixing portion,
115c: connecting portion, 115d: rotating portion, 116: housing,
116a: housing projection, 117: cold mirror, 118: angular name plate,
118a: Indicating needle 119: Exhaust duct, 120: Ventilation device,
200: conveyor part, 300: support part, 410: first section,
420: the second section, 430: the third section

Claims (2)

내부에 공간을 형성하는 하우징;
상기 하우징의 내부에 위치하며, 유브이를 조사하는 유브이 램프;
상기 유브이 램프에서 조사되는 유브이를 반사시키는 반사갓;
상기 유브이 램프와 피경화물의 사이의 공간을 차단하거나 개방하는 셔터;
상기 유브이 램프에서 직접 조사되거나, 반사갓에 반사되어 조사되는 유브이를 상기 피경화물을 향한 방향으로 굴절시키는 콜드미러;를 포함하여 이루어지며,

상기 반사갓은,
구간별 곡률반경이 다르고, 전체적으로 볼록한 형상으로 이루어지고, 상측부터 제1구간과, 제2구간, 제3구간으로 나뉘는 반사갓을 포함하여 이루어지며,
상기 제1구간과 상기 제2구간과 상기 제3구간의 수직길이는 상기 반사갓의 전체 수직 길이에 대비하여 각각 0.4~0.5, 0.4~0.5, 0.05~0.15의 범위 내에 있고,
상기 제1구간과 상기 제2구간과 상기 제3구간의 곡률반경은 각각 30~100mm, 100~180mm, 50~100mm의 범위 내에 있으며,
상기 제1구간과 상기 제2구간과 상기 제3구간은 곡률반경이 다른 다수의 원호가 연결된 곡선의 형태이며,
상기 제1구간과 상기 제2구간은 다수의 원호의 곡률반경이 하측 이동할수록 상기 곡률반경의 범위 내에서 커지며, 상기 제3구간은 다수의 원호의 곡률반경이 하측으로 이동할수록 상기 곡률반경의 범위 내에서 작아지는 것을 특징으로 하는 더블 콜드미러형 유브이 경화장치
A housing defining a space therein;
A U-shaped lamp located inside the housing and irradiating the U-beam;
A reflector reflecting the UV light irradiated from the UV lamp;
A shutter for blocking or opening a space between the UV lamp and the object to be cured;
And a cold mirror for directly refracting the UV light irradiated from the UV lamp or reflected by the reflector toward the object to be measured,

The reflector
And a reflector which is divided into a first section, a second section and a third section from the upper side,
The vertical length of the first section, the second section and the third section is in the range of 0.4 to 0.5, 0.4 to 0.5, and 0.05 to 0.15, respectively, as compared with the total vertical length of the reflector,
The radius of curvature of the first section, the second section and the third section is in the range of 30 to 100 mm, 100 to 180 mm, 50 to 100 mm,
The first section, the second section, and the third section are in the form of curved lines in which a plurality of arcs having different radiuses of curvature are connected,
The radius of curvature of the plurality of arcs increases as the radius of curvature of the plurality of arcs moves downward within the range of the radius of curvature as the radius of curvature of the arcs moves downward in the first section and the second section, Wherein the temperature is reduced within a range of from < RTI ID = 0.0 >
청구항 1에 있어서,
상기 콜드미러의 굴절 각도를 조절하기 위한 손잡이;와 각도가 표시되어 있는 지시명판;과 상기 콜드미러의 각도를 가르키는 지시 바늘을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 더블 콜드미러형 유브이 경화장치.
The method according to claim 1,
Wherein the cold mirror includes a handle for adjusting an angle of refraction of the cold mirror, an instruction name plate on which an angle is displayed, and an indicator pointing to an angle of the cold mirror.
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