KR101484648B1 - Gas filtering device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 습식 가스 세정장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 열분해 가스에 함유된 이물질을 유체가 포집함으로써 가스의 순도를 향상시키고, 이물질을 포집하기 위한 습식 가스 세정장치 내부에서 가스와 유체의 활발한 접촉을 유도하여 이물질의 세정력을 증가시키며, 이물질의 포집량을 향상시키기 위한 습식 가스 세정장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE
일반적으로 폐기물은 소각로 내에서 완전 연소되고, 폐기물의 소각에 의해 발생되는 고열은 소각시설 주위의 주택 또는 시설물의 난방, 온수공급 등에 이용하게 된다. 그런데, 이러한 소각 시스템에는 다이옥신, 퓨란 및 휘발성유기화합물(VOCs)을 규제치 이하로 낮추기 위한 대기 오염 조절 시스템을 갖춘 소각로가 필요하고, 중금속이 포함된 유해한 재를 처리하는 것이 문제시된다.Generally, the waste is completely burned in the incinerator, and the high heat generated by the incineration of the waste is used for the heating and hot water supply of houses or facilities around the incinerator. Incineration systems, however, require an incinerator with an air pollution control system to reduce dioxins, furans and volatile organic compounds (VOCs) below regulatory levels, and it is problematic to dispose of hazardous ash containing heavy metals.
이러한 소각상의 문제점을 개선하기 위한 방법으로서 플라즈마 열분해 및 용융 방법이 개발되었다. 미국등록특허 5,280,757(등록일: 1994.01.25. 발명의 명칭: MUNICIPAL SOLID WASTE DISPOSAL PROCESS)에 언급된 종래 기술에 기재된 바에 의하면, 플라즈마 열분해 공정은 폐기물의 열분해와 유리화에 적합한 플라즈마 가열의 현저한 장점으로 인하여 연료 연소에 비해 유용한 폐기물 처리 장치로 상당한 주목을 받고 있다. 플라즈마 토치는 이온화된 플라즈마 가스에 고압의 아크를 가함으로써 극히 고온의 불꽃을 생성한다. 이에 의하면 플라즈마 토치(plasma torch) 즉, 플라즈마 발생기에 의해 발생되는 초고온 플라즈마를 이용하여 통상 4,000℃ 내지 7,000℃ 범위의 고온 환경을 만들 수 있는데, 이러한 고온 환경에서는 알려진 모든 물질이 용융되고 산업적 이익이 있는 대부분 공정의 반응이 촉진될 뿐 아니라, 재래식 방법에 의한 저온의 연소 화염 또는 옥시아세틸렌 화염에서는 불가능한 반응도 가능해지게 된다. 아울러, 열분해 가스에 함유된 이물질을 유체가 분무 상태로 분사되며 포집하는 선행기술로는 국내등록특허 제10-0237737호(등록일: 1999.10.11. 발명의 명칭: 선회류를 이용한 분사장치와 이것을 이용한 혼합장치 및 흡수세정장치)가 제시되어 있다.Plasma pyrolysis and melting methods have been developed as methods for improving these incineration problems. According to US Pat. No. 5,280,757 (filed on Jan. 25, 1994, entitled "MUNICIPAL SOLID WASTE DISPOSAL PROCESS"), the plasma pyrolysis process has a remarkable advantage of plasma heating suitable for pyrolysis and vitrification of waste, Has received considerable attention as a useful waste disposal apparatus compared to combustion. The plasma torch generates an extremely hot spark by applying a high pressure arc to the ionized plasma gas. According to this, by using a plasma torch, that is, an ultra-high-temperature plasma generated by a plasma generator, a high-temperature environment in the range of usually 4,000 ° C. to 7,000 ° C. can be created. In such a high- Not only the reaction of the process is promoted, but also the reaction which is impossible in the low-temperature combustion flame or the oxyacetylene flame by the conventional method becomes possible. As a prior art in which foreign matter contained in pyrolysis gas is sprayed and collected in a spray state, it is disclosed in Korean Patent No. 10-0237737 (filed on Oct. 11, 1999, entitled " Spraying Apparatus Using Swirl Flow, A mixing device and an absorption cleaning device).
이러한 플라즈마 열분해장치는 분사되는 유체가 유해가스 입자를 충분히 포집하지 못하기 때문에 집진력이 저감되는 문제점이 있다. 따라서, 이를 개선할 필요성이 요청된다.
Such a plasma pyrolysis apparatus has a problem that the collecting force is reduced because the injected fluid can not sufficiently collect the noxious gas particles. Therefore, there is a need to improve this.
본 발명은 상기와 같은 문제점들을 개선하기 위하여 안출된 것으로서, 습식 가스 세정장치 내부로 유입되는 열분해 가스에 함유된 이물질을 유체가 분무 상태로 분사되면서 포집함으로써 가스의 순도를 향상시키고자 하는 습식 가스 세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been conceived in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a method and apparatus for cleaning a wet gas cleaning apparatus for collecting foreign matter contained in a pyrolysis gas introduced into a wet gas scrubber, The purpose of the device is to provide.
그리고, 본 발명은 습식 가스 세정장치 내부에서 배출되려는 가스와 유체에 와류를 발생시킴으로써 가스와 유체의 활발한 접촉을 유도하여 이물질의 세정력을 증가시키며, 이물질의 포집량을 향상시키고자 하는 습식 가스 세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
The present invention relates to a wet type gas cleaning apparatus for generating a vortex in a gas and a fluid to be discharged from a wet gas scrubber and thereby increasing the cleaning power of a foreign substance by inducing vigorous contact between the gas and the fluid, The purpose is to provide.
본 발명에 따른 습식 가스 세정장치는: 이물질을 함유한 기체가 유입되는 기체유입구를 일측에 형성하고, 상기 이물질을 포집하도록 유체가 유입되는 유체유입구를 타측에 구비하는 이젝팅유닛; 상기 이젝팅유닛에 연장되고, 상기 기체와 상기 유체에 직진성을 부여하는 커플러; 상기 커플러에 연장되고, 유동되는 상기 기체와 상기 유체의 이송 속도를 줄여 상기 유체에 상기 이물질이 흡착되도록 유도하는 벤츄리관; 및 상기 벤츄리관을 따라 유동되는 상기 기체와 상기 유체가 와류를 발생시켜 상기 이물질의 흡착성을 향상시키기 위한 와류생성부를 포함한다.An apparatus for cleaning a wet type gas according to the present invention includes: an ejecting unit having a gas inlet through which a gas containing a foreign substance flows in one side and a fluid inlet through which a fluid flows to collect the foreign substance; A coupler extending from the ejecting unit and imparting a straightness to the base and the fluid; A venturi tube extending to the coupler and reducing a transfer speed of the fluid and the fluid to be introduced to induce the foreign matter to be adsorbed to the fluid; And a vortex generating unit for generating the vortex flow of the gas flowing along the venturi tube and the fluid to improve the adsorption of the foreign matter.
상기 이젝팅유닛은 상기 유체를 분무 유도하기 위해 노즐을 구비할 수 있다.The ejecting unit may include a nozzle for spraying the fluid.
상기 노즐은, 상기 이젝팅유닛의 타측에 삽입되고, 상기 유체를 상기 이젝팅유닛으로 공급 안내하기 위해 공급홀을 통공하는 바디; 상기 공급홀에 삽입되고, 상기 유체를 미립화한 채 토출 유도하기 위해 미세홀을 갖는 인서트부재; 및 일측이 상기 미세홀의 내측면에서 연장되고, 타측이 자유단을 형성하여 상기 이젝팅유닛 내부로 토출되는 유체의 미립도를 향상시키는 보조미립부재를 포함한다.A body inserted into the other side of the ejecting unit and passing through the supply hole to supply and guide the fluid to the ejecting unit; An insert member inserted into the supply hole and having a fine hole for discharging the fluid while atomizing the fluid; And an auxiliary fine member extending on one side of the inner surface of the fine hole and forming a free end on the other side to improve the degree of fineness of the fluid discharged into the ejecting unit.
상기 노즐은, 상기 인서트부재 둘레면과 상기 바디 내측면 사이에 형성되어 상기 미세홀의 내부 압력 증가에 의한 상기 인서트부재의 팽창을 허용하는 완충공간을 더 포함할 수 있다.The nozzle may further include a buffer space formed between the circumferential surface of the insert member and the inner surface of the body to allow expansion of the insert member due to an increase in internal pressure of the minute hole.
상기 벤츄리관은 내부로 공급된 기체와 열교환하도록 냉각수를 공급하는 포켓을 둘레면에 형성할 수 있다.The venturi pipe may be formed on the circumferential surface with a pocket for supplying cooling water to heat exchange with the gas supplied to the inside.
상기 와류생성부는, 상기 벤츄리관 내측면에 돌출되어 상기 유체의 와류 흐름 세기를 증가시키는 플레이트부재를 포함한다.The vortex generation portion includes a plate member protruding from a side surface of the venturi tube to increase a vortex flow strength of the fluid.
상기 와류생성부는, 상기 플레이트부재에 돌출되게 형성되어, 상기 벤츄리관의 내측에서 상기 벤츄리관의 장착홀에 삽입되는 끼움돌기; 및 상기 벤츄리관의 외측에서 상기 장착홀을 막고, 상기 끼움돌기를 수용하기 위해 끼움홈부를 갖는 후크를 더 포함한다.The vortex generating unit includes: a fitting protrusion protruding from the plate member, the fitting protrusion being inserted into the mounting hole of the venturi pipe at an inner side of the venturi pipe; And a hook having an insertion groove portion for accommodating the fitting projection and for fitting the fitting hole outside the venturi tube.
상기 후크는 상기 벤츄리관으로부터 제거시 잡을 수 있도록 손잡이를 구비할 수 있다.
The hook may be provided with a handle so that it can be held when removed from the venturi pipe.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 습식 가스 세정장치는 종래 기술과 달리 습식 가스 세정장치 내부로 유입되는 열분해 가스에 함유된 이물질을 유체가 분무 상태로 분사되면서 포집함으로써 가스의 순도를 향상시킬 수 있다.As described above, the wet-type gas cleaning apparatus according to the present invention improves the purity of the gas by collecting foreign matter contained in the pyrolysis gas introduced into the wet-type gas scrubber, while spraying the fluid in the spray state have.
그리고, 본 발명은 습식 가스 세정장치 내부에서 배출되려는 가스와 유체에 와류를 발생시킴으로써 가스와 유체의 활발한 접촉을 유도하여 이물질의 세정력을 증가시키며, 이물질의 포집량을 향상시킬 수 있다.
The present invention generates a vortex in a gas and a fluid to be discharged from the wet gas scrubber, thereby inducing active contact between the gas and the fluid, thereby increasing the detergency of the foreign matter and improving the amount of foreign matter trapped.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 정면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 종단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 노즐 확대 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 와류생성부 확대 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 사시도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 종단면도이다.1 is a perspective view of a wet scrubbing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a front view of a wet scrubbing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a longitudinal sectional view of a wet gas cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is an enlarged cross-sectional view of a nozzle of a wet scrubbing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is an enlarged cross-sectional view of a vortex generator of a wet gas scrubber according to an embodiment of the present invention.
6 is a perspective view of a wet scrubbing apparatus according to another embodiment of the present invention.
7 is a longitudinal sectional view of a wet gas cleaning apparatus according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 습식 가스 세정장치의 실시예들을 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다. 또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 작업자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
Hereinafter, embodiments of a wet gas cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this process, the thicknesses of the lines and the sizes of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation. In addition, the terms described below are defined in consideration of the functions of the present invention, and these may vary depending on the intention or custom of the operator, the operator. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout this specification.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 정면도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 종단면도이다.FIG. 1 is a perspective view of a wet gas cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a front view of a wet gas cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cross- 1 is a longitudinal sectional view of a gas cleaning apparatus.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 노즐 확대 단면도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 와류생성부 확대 단면도이다.FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a nozzle of a wet scrubbing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is an enlarged sectional view of a scrubbing section of a wet scrubbing apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 가스 세정장치는 이젝팅유닛(10), 커플러(30), 벤츄리관(40) 및 와류생성부(100)를 포함한다.1 to 5, a wet gas cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes an
특히, 본 발명에 따른 습식 가스 세정장치는 소각로 등에서 발생하는 열분해 기체에 포함된 이물질을 분리하는 설비이다. 여기서, '이물질'은 재, 다이옥신, 퓨란 및 휘발성유기화합물 등이다.Particularly, the wet gas cleaning apparatus according to the present invention is a facility for separating foreign matter contained in a pyrolysis gas generated in an incinerator or the like. Here, 'foreign substances' are ashes, dioxins, furans and volatile organic compounds.
이젝팅유닛(10)은 이물질을 함유한 기체가 유입되는 기체유입구(12)를 일측에 형성한다. 이젝팅유닛(10)은 양측으로 개방되는 관 형상으로 이루어지고, 다양한 재질로 적용 가능하다. 특히, 기체유입구(12)는 이젝팅유닛(10)의 다양한 위치에 형성될 수 있는데, 편의상, 이젝팅유닛(10)의 둘레면에서 중공인 중심 방향으로 연결되는 것으로 도시한다. 즉, 이물질을 함유한 기체는 이젝팅유닛(10)의 둘레면을 통해 중공인 내부로 공급된다.The ejecting unit (10) forms a gas inlet (12) at one side through which a gas containing a foreign substance flows. The ejecting
아울러, 이젝팅유닛(10)은 타측에 유체가 유입되도록 유체유입구(14)를 형성한다. 유체유입구(14)는 이젝팅유닛(10)의 다양한 위치에 형성될 수 있는데, 편의상, 이젝팅유닛(10)의 개방된 상측에 구비된다.In addition, the ejecting
따라서, 유체는 유체유입구(14)를 통해 이젝팅유닛(10)의 내부로 강제 공급되며, 이송 방향으로 기체의 흐름 방향을 설정한다. 즉, 이물질을 함유한 기체와 유체는 이젝팅유닛(10)에서 혼합되어 이젝팅유닛(10)의 개방된 하측으로 이송된다.Thus, the fluid is forcibly supplied to the inside of the ejecting
특히, 기체유입구(12)의 중심축은 유체유입구(14)의 중심축과 수직되게 배치될 수도 있고, 수직을 제외한 경사지게 배치될 수도 있다. 아울러, 유체유입구(14)로 유입되는 유체는 공급압력이 한정되지 않고, 액체 상태 또는 분무 상태로 공급될 수 있다. 그리고, 유체는 물 등 다양하게 적용 가능하다.In particular, the central axis of the
또한, 커플러(30)는 이젝팅유닛(10)의 개방된 하측으로 이송되는 기체와 유체에 직진성을 부여하는 역할을 한다. 즉, 서로 다른 방향에서 이젝팅유닛(10)의 내부로 공급되는 기체와 유체는 혼합 후 커플러(30)에 의해 이젝팅유닛(10)의 중심축 방향으로 이송 안내된다. 이에 따라, 커플러(30)는 이젝팅유닛(10)의 개방된 하측에 연장 구비된다. 물론, 커플러(30)는 이젝팅유닛(10)에 일체로 제작될 수도 있고, 이젝팅유닛(10)에 분리 가능하게 구비될 수도 있다. In addition, the
그리고, 벤츄리관(40)은 커플러(30)의 하측에 연장된다. 즉, 벤츄리관(40)은 커플러(30)와 중심축끼리가 일치되도록 연결된다. 그리고, 벤츄리관(40)은 기체와 유체의 이송 방향을 따라 점차적으로 확경(擴徑)된다. 그래서, 벤츄리관(40)은 베르누이법칙에 따라 유동되는 기체와 유체의 이송 속도를 줄이는 역할을 한다. 이로 인해, 기체에 함유된 이물질이 유체에 흡착되도록 하는 공간이 제공된다.The
물론, 벤츄리관(40)은 커플러(30)에 분리 가능하게 결합될 수도 있고, 커플러(30)에 일체로 제작될 수도 있다.Of course, the
한편, 와류생성부(100)는 벤츄리관(40)을 따라 유동되는 기체와 유체가 와류를 발생시켜 이물질의 흡착성을 향상시키는 역할을 한다. 즉, 와류생성부(100)는 기체와 유체에 와류를 강하게 발생시킴으로써 벤츄리관(40) 내부에서 유체의 활발한 접촉을 유도하여 이물질의 세정력을 증가시키며, 이물질의 포집량을 향상시키는 역할을 한다.On the other hand, the
특히, 이젝팅유닛(10)은 유체를 분무 유도하기 위해 노즐(20)을 구비한다. 즉, 노즐(20)은 이젝팅유닛(10) 내부로 토출되는 유체를 분무화 유도하는 역할을 한다. 이때, 유체가 초기에 분무 상태로 노즐(20)에 유입시 더욱 미립화시키는 역할을 하고, 초기에 액체 상태로 노즐(20)에 유입시 분무화시키는 역할을 한다.In particular, the ejecting
특히, 노즐(20)은 바디(22), 인서트부재(24) 및 보조미립부재(26)를 포함한다.In particular, the
바디(22)는 이젝팅유닛(10)의 타측 즉, 이젝팅유닛(10)의 개방된 상측에 삽입되고, 유체를 이젝팅유닛(10)으로 공급 안내하기 위해 공급홀(23)을 통공한다. 따라서, 바디(22)는 관 형상으로 형성된다. 물론, 바디(22)는 다양한 형상 및 다양한 재질로 적용 가능하다.The
특히, 바디(22)는 기체유입구(12)의 중심축에 대응되는 위치까지 이젝팅유닛(10)에 삽입될 수 있다. 이는, 유체가 기체의 영향을 받지 않고 안정적으로 이젝팅유닛(10) 내부로 공급될 수 있도록 하기 위함이다.Particularly, the
그리고, 인서트부재(24)는 공급홀(23)에 축 삽입되고, 유체를 미립화한 채 토출 유도하기 위해 미세홀(25)을 형성한다. 물론, 바디(22)가 미세홀(25)을 갖도록 제작될 수도 있다. 이때, 미세홀(25)의 직경 및 개수는 한정하지 않는다.The
아울러, 보조미립부재(26)는 일측이 미세홀(25)의 내측면에서 연장되고, 타측이 자유단을 형성한다. 그리고, 보조미립부재(26)는 유체의 이송 방향으로 연장 형성된다. 그래서, 보조미립부재(26)는 이송되는 유체에 의해 진동(흔들림)이 발생하게 된다. 이로 인해, 이젝팅유닛(10) 내부로 토출되는 유체의 미립도를 더욱 향상시킨다. 물론, 보조미립부재(26)의 두께, 개수 및 형상은 한정하지 않는다.In addition, the auxiliary
이때, 보조미립부재(26)는 인서트부재(24)에 일체로 제작되고, 인서트부재(24)는 보조미립부재(26)가 충분한 진동이 발생될 수 있도록 고무 또는 수지 재질로 제작될 수 있다.At this time, the
또한, 유체가 미세홀(25)로 공급된 후 보조미립부재(26)에 의해 진동이 발생함에 따라, 미세홀(25)은 보조미립부재(26)에 의해 이송되는 유체의 흐름 저항이 발생됨으로써, 인서트부재(24)는 유체의 공급측에서 과도한 압력이 발생하게 된다.Further, as the fluid is supplied to the fine holes 25 and vibration is generated by the auxiliary
그래서, 노즐(20)은 완충공간(28)을 더 포함한다. 완충공간(28)은 인서트부재(24) 둘레면과 바디(22) 내측면 사이에 형성되어 미세홀(25)의 내부 압력 증가에 의한 인서트부재(24)의 팽창을 허용하는 역할을 한다.Thus, the
즉, 인서트부재(24)는 유체의 공급측에서 과도한 압력 발생시, 완충공간(28) 방향으로 팽창될 수 있다. 인서트부재(24)는 팽창되며 내부 공간으로 확장됨으로써 평압 유지 또는 감압된다. 물론, 완충공간(28)은 인서트부재(24) 둘레면 내부에 형성될 수도 있고, 내부 체적은 다양하게 적용 가능하다. 아울러, 인서트부재(24)는 충분히 팽창할 수 있는 재질로 이루어진다.That is, the
한편, 와류생성부(100)는 벤츄리관(40) 내측면에 돌출되어 유체의 와류 세기를 증가시키는 플레이트부재(110)를 포함한다. 이때, 플레이트부재(110)는 이송되는 유체와 기체가 충돌될 수 있도록 판 형상으로 이루어지는데, 평판이나 곡률지는 등 다양하게 형성될 수 있다. 아울러, 플레이트는 유체의 이송 방향에 대해 수직되거나 경사지게 배치될 수도 있다. 물론, 플레이트부재(110)의 배치 및 개수는 한정하지 않는다.The
유체와 기체는 플레이트부재(110)에 부딪히며 역류하거나 방사상으로 퍼짐으로써 와류를 세게 형성하게 되어, 벤츄리관(40) 내부에서의 유체의 활발한 접촉을 유도하여 이물질의 세정력을 증가시키며, 이물질의 포집량을 향상시킨다.The fluid and the gas collide with the
따라서, 유체는 플레이트부재(110)에 부딪힘으로써 더욱 미립화되고, 이물질은 기체로부터 분리되며 유체에 최대한 포집된다.Thus, the fluid is further atomized by collision with the
또한, 플레이트부재(110)는 설치되는 경사가 조절 가능하도록 하여 기체와 유체의 와류 강도(세기)를 조절할 수 있고, 벤츄리관(40)에 분리 가능하게 결합할 수도 있다.In addition, the
그래서, 와류생성부(100)는 끼움돌기(120) 및 후크(130)를 더 포함한다.Therefore, the
끼움돌기(120)는 플레이트부재(110)에 돌출되어 벤츄리관(40)의 장착홀(42) 각각에 삽입된다. 즉, 끼움돌기(120)는 벤츄리관(40)의 내측에서 외측 방향으로 삽입된다. 여기서, 장착홀(42)은 벤츄리관(40)의 둘레면에 복수 개 형성된다.The
그리고, 후크(130)는 벤츄리관(40)에 외측에서 장착홀(42)에 삽입된다. 이때, 후크(130)는 끼움돌기(120)를 억지 수용하기 위해 끼움홈부(132)를 형성한다.The
물론, 후크(130)는 다양한 형상으로 형성될 수 있고, 끼움돌기(120)와 끼움홈부(132)의 개수는 한정하지 않는다. 또한, 후크(130)는 벤츄리관(40) 내부 압력에 의해 이탈되지 않도록 장착홀(42)에 억지 삽입되거나 볼팅 결합된다.Of course, the
아울러, 후크(130)는 벤츄리관(40)으로부터 제거시 잡을 수 있도록 손잡이(140)를 구비할 수 있다. 손잡이(140)는 다양한 형상으로 변형 될 수 있다.In addition, the
한편, 이물질을 분리한 기체와 이물질을 응집한 유체는 설정된 위치로 이송되는데, 미도시한다.
On the other hand, the fluid from which the foreign substance is separated and the fluid aggregated with the foreign matter is conveyed to the set position, not shown.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 사시도이고, 도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 습식 가스 세정장치의 종단면도이다.FIG. 6 is a perspective view of a wet scrubbing apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a longitudinal sectional view of a wet scrubbing apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 습식 가스 세정장치는 이젝팅유닛(10), 커플러(30), 벤츄리관(40) 및 와류생성부(100)를 포함한다.6 and 7, the wet gas cleaning apparatus according to another embodiment of the present invention includes an ejecting
이젝팅유닛(10), 커플러(30) 및 와류생성부(100)는 상술한 것으로 대체한다.The ejecting
그리고, 벤츄리관(40)은 내부에 공급된 기체와 열교환하도록 냉각수를 공급하는 포켓(200)을 둘레면에 형성할 수 있다. 포켓(200)은 벤츄리관(40)의 둘레면을 따라 나선상으로 감기게 형성되고, 냉각수를 이송 안내한다. 그래서, 벤츄리관(40) 내부의 기체는 냉각수와 열교환되며 열을 빼앗김에 따라 감온된다. 이로 인해, 기체에 함유된 이물질은 미립화된 유체에 충분히 응집될 수 있다. 포켓(200)은 다양한 형상으로 형성될 수 있고, 열전도율이 우수한 다양한 재질로 제작된다.The venturi pipe (40) may have a pocket (200) on its circumferential surface to supply cooling water for heat exchange with the gas supplied therein. The pockets (200) are formed by spirally winding along the circumferential surface of the venturi pipe (40), and the cooling water is conveyed and guided. Therefore, the gas inside the
특히, 벤츄리관(40)은 열전도도가 우수한 재질로 이루어진다.Particularly, the
미설명된 도면부호는 상술한 것으로 대체한다.
The reference numerals not described are replaced with those described above.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. I will understand. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the following claims.
10: 이젝팅유닛 12: 기체유입구
14: 유체유입구 20: 노즐
22: 바디 23: 공급홀
24: 인서트부재 25: 미세홀
26: 보조미립부재 28: 완충공간
30: 커플러 40: 벤츄리관
42: 장착홀 100: 와류생성부
110: 플레이트부재 120: 끼움돌기
130: 후크 132: 끼움홈부
140: 손잡이 200: 포켓10: ejecting unit 12: gas inlet
14: fluid inlet 20: nozzle
22: body 23: supply hole
24: insert member 25: fine hole
26: auxiliary particulate member 28: buffer space
30: Coupler 40: Venturi tube
42: mounting hole 100: vortex generating part
110: plate member 120: fitting projection
130: hook 132: fitting groove
140: handle 200: pocket
Claims (7)
상기 와류생성부는, 상기 벤츄리관 내측면에 돌출되어 상기 유체의 와류 세기를 증가시키는 플레이트부재를 포함하며,
상기 와류생성부는, 상기 플레이트부재에 돌출되게 형성되어, 상기 벤츄리관의 내측에서 상기 벤츄리관의 장착홀에 삽입되는 끼움돌기; 및
상기 벤츄리관의 외측에서 상기 장착홀을 막고, 상기 끼움돌기를 수용하기 위해 끼움홈부를 갖는 후크를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 가스 세정장치.
An ejecting unit having a gas inlet for introducing a gas containing a foreign substance into one side and a fluid inlet for introducing a fluid to capture the foreign substance; A coupler extending from the ejecting unit and imparting a straightness to the base and the fluid; A venturi tube extending to the coupler and reducing a transfer speed of the fluid and the fluid to be introduced to induce the foreign matter to be adsorbed to the fluid; And a vortex generating unit for generating a vortex flow of the gas flowing along the venturi pipe and the fluid to improve adsorption of the foreign matter,
Wherein the vortex generating portion includes a plate member protruding from a side surface of the venturi tube to increase swirling strength of the fluid,
The vortex generating unit includes: a fitting protrusion protruding from the plate member, the fitting protrusion being inserted into the mounting hole of the venturi pipe at an inner side of the venturi pipe; And
Further comprising a hook having an insertion groove portion for accommodating the fitting projection and for fitting the mounting hole outside the venturi tube.
상기 이젝팅유닛은 상기 유체를 분무 유도하기 위해 노즐을 구비하는 것을 특징으로 하는 습식 가스 세정장치.
The method according to claim 1,
Wherein the ejecting unit comprises a nozzle for spraying the fluid.
상기 이젝팅유닛의 타측에 삽입되고, 상기 유체를 상기 이젝팅유닛으로 공급 안내하기 위해 공급홀을 통공하는 바디;
상기 공급홀에 삽입되고, 상기 유체를 미립화한 채 토출 유도하기 위해 미세홀을 갖는 인서트부재; 및
일측이 상기 미세홀의 내측면에서 연장되고, 타측이 자유단을 형성하여 상기 이젝팅유닛 내부로 토출되는 유체의 미립도를 향상시키는 보조미립부재를 포함하는 것을 특징으로 화는 습식 가스 세정장치.
3. The apparatus according to claim 2,
A body inserted into the other side of the ejecting unit and passing through the supply hole to supply and guide the fluid to the ejecting unit;
An insert member inserted into the supply hole and having a fine hole for discharging the fluid while atomizing the fluid; And
And an auxiliary fine member extending from an inner surface of the fine hole at one side and forming a free end at the other side to improve the degree of fineness of the fluid discharged into the ejecting unit.
상기 노즐은, 상기 인서트부재 둘레면과 상기 바디 내측면 사이에 형성되어 상기 미세홀의 내부 압력 증가에 의한 상기 인서트부재의 팽창을 허용하는 완충공간을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 가스 세정장치.
The method of claim 3,
Wherein the nozzle further comprises a buffer space formed between the circumferential surface of the insert member and the inner surface of the body to allow expansion of the insert member due to an increase in internal pressure of the micro hole.
상기 벤츄리관은 내부로 공급된 기체와 열교환하도록 냉각수를 공급하는 포켓을 둘레면에 형성하는 것을 특징으로 하는 습식 가스 세정장치.
The method according to claim 1,
Wherein the venturi pipe is formed on a circumferential surface of a pocket for supplying cooling water to heat exchange with the gas supplied to the inside.
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- 2014-07-21 KR KR20140092019A patent/KR101484648B1/en not_active IP Right Cessation
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