KR101484533B1 - Substrate supporting apparatus - Google Patents

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KR101484533B1
KR101484533B1 KR1020130101870A KR20130101870A KR101484533B1 KR 101484533 B1 KR101484533 B1 KR 101484533B1 KR 1020130101870 A KR1020130101870 A KR 1020130101870A KR 20130101870 A KR20130101870 A KR 20130101870A KR 101484533 B1 KR101484533 B1 KR 101484533B1
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장희섭
김인수
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주식회사 테라세미콘
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Abstract

The present invention relates to a substrate supporting apparatus capable of supporting the lower side of a substate. A substrate supporting apparatus according to the present invention includes a fixing support part (100) fixed to a corresponding object; a moving support part (200) which is combined with the fixing support part (100) and moves the upper side of the fixing support part (100) to touch and support the lower side of a substrate (1).

Description

기판 지지 장치{SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS}[0001] SUBSTRATE SUPPORTING APPARATUS [0002]

본 발명은 기판 지지 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 기판의 하부면을 유동하면서 지지함으로써 기판의 하부면에 미세한 결함이 생기는 것을 방지할 수 있는 기판 지지 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate support apparatus. And more particularly, to a substrate supporting apparatus capable of preventing minute defects from being generated in a lower surface of a substrate by flowing and supporting a lower surface of the substrate.

최근의 표시 장치가 대면적화 되고 슬림해지는 추세에 따라서 표시 장치에 사용되는 기판도 마찬가지로 두께가 얇으면서 면적이 큰 기판이 많이 사용되고 있다. 이러한 대면적의 기판은 증착 공정 또는 어닐링 공정을 거치는 과정에서 공정 열에 의해 쉽게 휘어질 수 있으므로 공정 진행 중에 기판 하부면을 지지함으로써 휘어짐을 방지하는 수단이 필수적이다.In recent years, a large number of substrates having a small thickness and a large area have been used in a substrate used for a display device in accordance with the tendency of a display device becoming larger and slimmer. Such a large-area substrate can easily be bent by the process heat in the course of a deposition process or an annealing process, and therefore, means for preventing warping by supporting the lower surface of the substrate during the process is essential.

도 1은 종래기술에 따른 기판 지지 장치를 나타내는 사시도, 도 2는 도 1의 a 부분의 확대 측단면도이다.FIG. 1 is a perspective view showing a substrate supporting apparatus according to the prior art, and FIG. 2 is an enlarged side sectional view of a portion of FIG.

종래의 증착 장치 또는 어닐링 장치에는 챔버에 로딩된 기판을 지지하는 보트(10)가 필수적으로 사용되는데, 종래의 보트(10)는 기판의 테두리부측을 받쳐서 지지하므로, 기판(1)이 보트에 지지되어 고온 공정이 진행될 때, 기판(1)의 자중에 의하여 기판(1)이 휘어서 변형될 우려가 있었다.In the conventional evaporation apparatus or annealing apparatus, a boat 10 supporting the substrate loaded in the chamber is essentially used. Since the conventional boat 10 supports and supports the edge of the substrate, the substrate 1 is supported on the boat There is a possibility that the substrate 1 is bent and deformed by the own weight of the substrate 1 when the high temperature process is proceeded.

따라서, 도 1에 도시된 바와 같이, 대면적 기판(1)의 전 면적을 골고루 지지하여 휘어짐을 방지하기 위해, 보트(10)에 지지핀(11)을 설치하였다. 지지핀(11)은 보트(10)의 내부에 골고루 배치되어 기판(1)의 하부면을 접점 지지함으로써 기판(1)의 전 면적을 골고루 지지하는 이점과, 기판(1)의 하부면에 큰 스크래치를 발생시키지 않는 이점이 있었다. 하지만, 단부가 뾰족한 지지핀(11)과 기판(1)이 맞닿는 접점(D) 부분에 응력이 집중되어 기판(1)이 소성 변형되는 문제점, 다시 말해, 지지핀(11)과 기판(1)이 맞닿는 접점(D)의 상부가 미세하게 돌출되는 문제점이 있었다. 결국, 기판(1) 상에 돌출 변형된 접점(D) 부분은, 기판(1) 상에 나노 스케일 이하로 증착되는 박막의 특성에 악영향을 미치게 되어 제품의 신뢰성을 저하시키는 문제점이 있었다.Therefore, as shown in Fig. 1, the support pins 11 are provided on the boat 10 in order to uniformly support the entire area of the large-area substrate 1 to prevent warpage. The support pins 11 are disposed evenly inside the boat 10 to advantageously support the entire area of the substrate 1 by supporting the lower surface of the substrate 1 in contact with each other, There is an advantage that scratches do not occur. However, there is a problem that the stress is concentrated on the portion of the contact D where the support pin 11 having the sharp end abuts against the substrate 1 and the substrate 1 is plastically deformed, that is, There is a problem that the upper portion of the contact point D to be contacted is finely protruded. As a result, the portion of the contact D protruding and deformed on the substrate 1 adversely affects the characteristics of the thin film deposited on the substrate 1 at a nanoscale or less, thereby lowering the reliability of the product.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 유동하면서 기판의 하부면을 접촉 지지할 수 있는 기판 지지 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a substrate supporting apparatus capable of supporting and supporting a lower surface of a substrate while flowing.

또한, 본 발명은 기판의 하부면을 유동하면서 지지함으로써, 기판 하부면의 특정 부분에 응력이 집중되지 않게 하여 기판의 변형을 방지할 수 있는 기판 지지 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a substrate supporting apparatus capable of preventing stress from concentrating on a specific portion of a lower surface of a substrate by supporting and supporting the lower surface of the substrate while preventing the deformation of the substrate.

또한, 본 발명은 기판의 하부면에 스크래치를 발생시키지 않는 기판 지지 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a substrate holding apparatus which does not generate scratches on the lower surface of a substrate.

본 발명의 상기의 목적은 임의의 상대물에 고정되게 설치되는 고정 지지부; 및 상기 고정 지지부와 결합되며, 상기 고정 지지부의 상측에서 유동하면서 상기 기판의 하부면을 접촉 지지하는 유동 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치에 의해 달성된다.The above object of the present invention can be achieved by a fixing device comprising: And a flow supporting portion coupled to the stationary support portion and contacting and supporting the lower surface of the substrate while flowing above the stationary support portion.

상기 고정 지지부는 핀 형상의 구조물일 수 있다.The fixed support may be a fin-shaped structure.

상기 유동 지지부는, 볼(ball); 및 상기 볼이 유동되는 볼 유동부를 포함하는 볼 캡(ball cap)을 포함할 수 있다.The flow support includes a ball; And a ball cap including a ball flow portion through which the ball flows.

상기 볼 캡은 상기 볼이 상기 볼 유동부를 이탈하는 것을 방지하는 이탈 방지부가 형성될 수 있다.The ball cap may have a release preventing portion for preventing the ball from deviating from the ball flow portion.

상기 볼 유동부의 하부면을 구성하며, 상기 볼이 유동하는 유동면의 곡률은 상기 볼의 곡률보다 작을 수 있다.And the curvature of the flow surface through which the ball flows may be smaller than the curvature of the ball.

상기 볼 유동부 상에 상기 볼보다 직경이 작고 상기 볼을 지지하는 복수의 지지볼이 배치되며, 상기 복수의 지지볼 상에서 상기 볼이 유동될 수 있다.A plurality of support balls having a smaller diameter than the ball and supporting the ball are disposed on the ball flow portion, and the ball can be moved on the plurality of support balls.

상기 복수의 지지볼은 상기 볼 유동부 상에 배치되는 지지볼 수용부 내에 수용될 수 있다.The plurality of support balls may be received in a support ball receiving portion disposed on the ball moving portion.

상기 볼 캡의 하부에 고정 지지부 삽입구가 형성되고, 상기 고정 지지부가 상기 고정 지지부 삽입구에 삽입되게 설치될 수 있다.The ball cap may have a fixed support insertion port formed at a lower portion of the ball cap, and the fixed support portion may be inserted into the fixed support insertion opening.

상기 고정 지지부의 상부에 유동 지지부 삽입구가 형성되고, 상기 유동 지지부가 상기 유동 지지부 삽입구에 삽입되게 설치될 수 있다.The flow support portion may be installed on the upper portion of the fixed support portion, and the flow support portion may be installed to be inserted into the flow support portion insertion hole.

상기 유동 지지부의 하부에 유동 홈이 형성되고, 상기 유동 지지부는 상기 유동 홈에 상기 고정 지지부가 접촉 지지된 상태에서 유동할 수 있다.A flow groove may be formed in a lower portion of the flow supporting portion, and the flow supporting portion may flow while the fixing support portion is in contact with the flow groove.

상기 유동 지지부의 상부는 곡면 형상일 수 있다.The top of the flow support may be curved.

상기 유동 지지부의 재질은 실리콘 카바이드(silicon carbide), 세라믹 등을 포함할 수 있다.The material of the floating support may include silicon carbide, ceramic, and the like.

상기 고정 지지부의 하부는 지지판 또는 프레임 형상의 보트에 결합될 수 있다.The lower portion of the fixed support may be coupled to a support plate or a frame-shaped boat.

상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 유동하면서 기판의 하부면을 접촉 지지함으로써, 기판 하부면의 특정 부분에 응력이 집중되지 않게 하여 기판의 변형을 방지할 수 있다.According to the present invention configured as described above, it is possible to prevent deformation of the substrate by preventing stress from concentrating on a specific portion of the lower surface of the substrate by contacting and supporting the lower surface of the substrate while flowing.

또한, 기판의 하부면에 스크래치가 발생하는 것을 방지할 수 있다.In addition, scratches can be prevented from being generated on the lower surface of the substrate.

도 1은 종래의 기판 지지 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1의 a 부분의 확대 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치의 구성을 나타내는 측단면도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 지지 장치의 구성을 나타내는 측단면도이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 지지 장치의 구성을 나타내는 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 지지 장치의 구성을 나타내는 측단면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지 장치가 임의의 상대물에 설치되는 구성을 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view showing a configuration of a conventional substrate supporting apparatus.
Fig. 2 is an enlarged cross-sectional view of a portion of Fig. 1;
3 is a side sectional view showing a configuration of a substrate holding apparatus according to a first embodiment of the present invention.
4 is a side sectional view showing a configuration of a substrate holding apparatus according to a second embodiment of the present invention.
5 is a side sectional view showing a configuration of a substrate holding apparatus according to a third embodiment of the present invention.
6 is a side sectional view showing a configuration of a substrate holding apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
7 is a perspective view showing a configuration in which a substrate supporting apparatus according to an embodiment of the present invention is installed in a certain mating member.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings, which illustrate, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different, but need not be mutually exclusive. For example, certain features, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description is, therefore, not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is to be limited only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled, if properly explained. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several views, and length and area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, so that those skilled in the art can easily carry out the present invention.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치의 구성을 나타내는 측단면도이다.3 is a side sectional view showing a configuration of a substrate holding apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 기판 지지 장치는 고정 지지부(100) 및 유동 지지부(200)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3, the substrate supporting apparatus of the present invention may include a stationary support 100 and a flow support 200.

고정 지지부(100)는 기판 지지 장치의 하부를 구성할 수 있다. 고정 지지부(100)의 하단은 임의의 상대물(도 7 참조: 51, 55)에 고정되게 설치될 수 있으며, 고정 지지부(100)의 상단은 유동 지지부(200)의 하단에 고정 결합되거나, 삽입 결합될 수 있다. 임의의 상대물(51, 55)은 도 7에 도시된 구성 외에 종래의 보트(boat), 척(chuck), 기판 지지판 등의 기판(1)을 지지하는 수단으로 이해될 수 있다. 고정 지지부(100)는 핀(pin) 형상을 가지면서 임의의 상대물(미도시)에 고정되게 설치될 수 있다. 고정 지지부(100)의 재질은 임의의 상대물과 같은 재질을 사용하거나, 후술할 유동 지지부(200)의 재질과 동일한 재질을 사용할 수 있다.The stationary support 100 may constitute a lower portion of the substrate support apparatus. 7), and the upper end of the stationary support 100 may be fixedly coupled to the lower end of the stationary support 200, Can be combined. Any of the mating objects 51 and 55 can be understood as means for supporting the substrate 1 such as a boat, a chuck, and a substrate supporting plate in addition to the configuration shown in Fig. The stationary support 100 may have a pin shape and be fixed to an arbitrary object (not shown). The material of the stationary support 100 may be the same as any material of the counterpart or may be the same material as the material of the flow support 200 described later.

유동 지지부(200)는 기판 지지 장치의 상부를 구성할 수 있다. 유동 지지부(200)의 하단은 고정 지지부(100)와 결합될 수 있으며, 유동 지지부(200)는 유동 수단[일 예로, 후술할 볼(210), 유동 홈(225) 등]을 통해 고정 지지부(100)의 상측에서 유동하면서 기판(1)의 하부면을 접촉 지지할 수 있다.The flow support 200 may constitute an upper portion of the substrate support apparatus. The lower end of the flow support 200 may be coupled to the stationary support 100 and the flow support 200 may be coupled to the stationary support 200 through flow means 100, the lower surface of the substrate 1 can be contacted and supported.

도 3을 다시 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치의 유동 지지부(200)는 볼(ball; 210) 및 볼이 유동되는 볼 유동부(221, 222)를 포함하는 볼 캡(ball cap; 220)을 포함할 수 있다. 볼(210)은 완전한 구 형상인 것이 바람직하나 볼 유동부(221, 222)에서 유동하며 기판(1)의 하부면을 접촉 지지하는 목적의 범위 내라면 다른 형상을 가져도 무방하다. 볼 캡(220)은 전체적으로 원통 형상을 가질 수 있다. 볼(210) 및 볼 캡(220)을 포함한 유동 지지부(200)의 재질은 실리콘 카바이드(silicon carbide), 산화 알루미늄(aluminium oxide), 질화붕소(boron nitride), 석영(quartz), 몰리브덴(molybdenum), 니켈(nickel), 글라스 세라믹(glass-ceramic) 등일 수 있다.3, the flow supporting portion 200 of the substrate supporting apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a ball 210 including a ball 210 and ball flow portions 221 and 222 through which the ball flows, (ball cap) 220. The balls 210 are preferably spherical in shape but may have different shapes as long as they flow within the ball flow portions 221 and 222 and are in contact with the lower surface of the substrate 1. [ The ball cap 220 may have a generally cylindrical shape. The material of the flow support 200 including the ball 210 and the ball cap 220 may be selected from the group consisting of silicon carbide, aluminum oxide, boron nitride, quartz, molybdenum, Nickel, glass-ceramic, and the like.

볼 유동부(221, 222)는 볼 캡(220) 상부에 형성된 홀(hole)의 형태를 의미할 수 있다. 볼 유동부(221, 222)는, 볼 유동부(221, 222)의 바깥으로 볼(210)이 이탈하는 것을 방지하는 이탈 방지부(221) 및 볼(210)이 유동하면서 볼 유동부(221, 222)의 중심으로 돌아올 수 있도록 가운데 부분이 오목하게 형성된 유동면(222)을 포함할 수 있다. 이탈 방지부(221)는 볼 유동부(221, 222)의 측면을, 유동면(222)은 볼 유동부(221, 222)의 하부면을 구성하여, 볼(210)이 볼 유동부(221, 222)가 형성된 범위 내에서 유동하도록 할 수 있다.The ball flow portions 221 and 222 may be in the form of holes formed on the ball cap 220. [ The ball flow portions 221 and 222 are provided with a separation preventing portion 221 for preventing the ball 210 from being separated from the ball flow portions 221 and 222 and a ball flow portion 221 222, 222, 226, 226, 226, 226, 226, 226, 226, 226). The departure prevention portion 221 constitutes the side surface of the ball flow portions 221 and 222 and the flow surface 222 constitutes the lower surface of the ball flow portions 221 and 222 so that the ball 210 flows into the ball flow portion 221 , 222) are formed.

이탈 방지부(221)는 볼(210)이 쉽게 이탈되지 않도록 볼(210)의 반경보다는 크고, 볼(210)의 직경보다는 작은 높이로 형성되는 것이 바람직하다. 유동면(222)의 곡률은, 볼(210)이 기판(1)을 지지할 때 볼 유동부(221, 222) 내를 유동할 수 있으며, 기판(1)을 지지하지 않을 때는 원 위치[즉, 유동면(222)의 중심]으로 복귀될 수 있도록, 볼(210)의 곡률보다 작은 것이 바람직하다.It is preferable that the separation preventing portion 221 is formed to be larger than the radius of the ball 210 and smaller than the diameter of the ball 210 so that the ball 210 is not easily separated. The curvature of the flow surface 222 may flow in the ball flow portions 221 and 222 when the ball 210 supports the substrate 1 and may be in a circular position , The center of the flow surface 222], as shown in FIG.

도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 볼 캡(220)의 하부에는 고정 지지부 삽입구(223)가 형성될 수 있다. 고정 지지부 삽입구(223)는 고정 지지부(100)의 핀 형상이 끼워질 수 있도록 실질적으로 형태가 동일한 것이 바람직하며, 고정 지지부(100)의 상부가 고정 지지부 삽입구(223)에 삽입되게 설치됨으로써 고정 지지부(100)와 유동 지지부(200)가 결합될 수 있다.As shown in FIG. 3 (a), a fixed support insertion hole 223 may be formed in a lower portion of the ball cap 220. The upper portion of the fixed support portion 100 is installed to be inserted into the fixed support portion insertion hole 223, so that the fixed support portion insertion port 223 can be inserted into the fixed support portion insertion port 223, The flow support 100 and the flow support 200 may be combined.

반대로, 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이, 고정 지지부(100)의 상부에 유동 지지부 삽입구(101)가 형성되고, 유동 지지부(200)의 볼 캡(220)의 하부에 돌출되게 형성된 유동 지지부 돌출부(224)가 형성될 수 있다. 유동 지지부 돌출부(224)는 유동 지지부 삽입구(101)에 끼워질 수 있도록 실질적으로 형태가 동일한 것이 바람직하며, 유동 지지부 돌출부(224)가 유동 지지부 삽입구(101)에 삽입되게 설치됨으로써 고정 지지부(100)와 유동 지지부(200)가 결합될 수 있다.In contrast, as shown in FIG. 3 (b), the flow supporting portion insertion opening 101 is formed on the upper portion of the fixed supporting portion 100, and the flow formed to protrude from the lower portion of the ball cap 220 of the flow supporting portion 200 A support protrusion 224 may be formed. The fluid support protrusions 224 are preferably substantially identical in shape so that they can fit into the fluid support inserts 101 and the fluid support protrusions 224 are inserted into the fluid support inserts 101, And the flow support 200 may be combined.

위와 같이, 본 발명의 기판 지지 장치는, 볼(210)이 지지핀(11)에 비하여 기판(1)과 접하는 부분의 면적이 크므로 기판(1)의 하부면에 응력이 덜 가해짐과 동시에, 기판(1)의 하부를 지지하는 복수개의 유동 지지부(200)[또는, 볼(210)]가 기판(1)의 하중을 지지하면서 미세하게 유동하고 있으므로, 기판(1)의 특정 접점(D)에 응력이 집중되지 않아 기판(1)의 변형을 방지할 수 있는 이점이 있다. 또한, 끝이 뾰족한 지지핀(11) 대신 둥근 볼(210)을 사용하므로, 기판(1)의 하부면에 스크래치가 발생할 가능성도 낮아질 수 있는 이점이 있다.As described above, in the substrate supporting apparatus of the present invention, since the area of the portion where the ball 210 is in contact with the substrate 1 is larger than the supporting pin 11, stress is less applied to the lower surface of the substrate 1 (Or the ball 210) supporting the lower portion of the substrate 1 flows finely while supporting the load of the substrate 1, so that the specific contact point D of the substrate 1 So that deformation of the substrate 1 can be prevented. In addition, since the round ball 210 is used in place of the sharp-pointed support pin 11, there is an advantage that scratches on the lower surface of the substrate 1 can be lowered.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 지지 장치의 구성을 나타내는 측단면도이다.4 is a side sectional view showing a configuration of a substrate holding apparatus according to a second embodiment of the present invention.

이하에서는, 도 3에 도시된 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 지지 장치와 다른 구성에 있어서의 차이점만을 설명하고, 나머지 동일한 구성에 대해서는 설명 생략한다.Hereinafter, only differences between the substrate supporting apparatus and the substrate supporting apparatus according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 3 will be described, and the same description will be omitted.

도 4를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 지지 장치는 유동 지지부(200')가 볼(210) 및 볼 캡(220)을 포함하며, 볼 유동부(221, 222) 상에 복수의 지지볼(230)을 더 배치하는 것을 특징으로 한다.4, the substrate supporting apparatus according to the second embodiment of the present invention is characterized in that the flow supporting portion 200 'includes a ball 210 and a ball cap 220, and the ball supporting portion 200' And a plurality of support balls 230 are further disposed.

복수의 지지볼(230)은 볼(210)보다 직경이 작고, 볼 유동부(221, 222) 상에 마련된 지지볼 수용부(미도시)에 수용된 상태에서 볼(210)과 접할 수 있다. 상기 지지볼 수용부는 복수의 지지볼(230)이 지지볼 수용부 내에서만 유동할 수 있도록 공간을 구획하며, 각각의 지지볼(230)의 일부분만 볼(210)과 접하면서 상기 지지볼 수용부 내에서 유동할 수 있다. 복수의 지지볼(230)이 유동하면서 볼(210)을 지지할 수 있으므로, 볼(210)이 볼 유동부(221, 222) 내에서 더욱 부드럽게 유동할 수 있는 이점이 있다.The plurality of support balls 230 are smaller in diameter than the balls 210 and can contact the balls 210 while being accommodated in support ball receiving portions (not shown) provided on the ball flow portions 221 and 222. The support ball receiving part divides the space so that the plurality of support balls 230 can flow only in the support ball receiving part. Only a part of each support ball 230 contacts the ball 210, Lt; / RTI > The balls 210 can be supported by the plurality of support balls 230 while being flowed so that the balls 210 can flow more smoothly in the ball flow portions 221 and 222. [

도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 지지 장치의 구성을 나타내는 측단면도이다. 도 5의 (a)는 유동 지지부(200")가 고정 지지부(100) 상에 접촉 지지된 최초의 상태를 나타내고, 도 5의 (b)는 유동 지지부(200")가 최대한의 범위까지 유동한 상태에서 고정 지지부(100) 상에 접촉 지지된 상태를 나타낸다.5 is a side sectional view showing a configuration of a substrate holding apparatus according to a third embodiment of the present invention. 5 (a) shows the initial state in which the floating support 200 "is contactably supported on the fixed support 100, and FIG. 5 (b) shows the initial state in which the floating support 200" In the state of being supported on the stationary support member 100 in the state of FIG.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 지지 장치는, 고정 지지부(100)의 구성에 있어서는 제1 및 제2 실시예의 기판 지지 장치와 동일하나, 유동 지지부(200")는 볼(210) 및 볼 캡(220)을 포함하지 않는 것을 특징으로 한다.5, the substrate supporting apparatus according to the third embodiment of the present invention is the same as the substrate supporting apparatus of the first and second embodiments in the configuration of the stationary supporter 100, but the flow supporter 200 " And does not include the ball 210 and the ball cap 220.

유동 지지부(200")는 상부(210")가 곡면 형태를 가지고, 하부는 유동 홈(225)이 형성될 수 있다. 유동 홈(225)에는 고정 지지부(100)가 삽입될 수 있다. 고정 지지부(100)가 유동 홈(225)에 삽입되나, 유동 지지부(200")가 고정되지 않고 유동될 수 있도록, 유동 홈(225) 내에 여유 공간을 두고 고정 지지부(100)가 유동 홈(225)에 삽입되어 유동 지지부(200")를 접촉 지지할 수 있다. 따라서, 유동 홈(225)이 형성되는 직경(R3)은 유동 지지부(200")의 직경(R2)보다는 작고, 고정 지지부(100)의 직경(R1)보다는 큰 것이 바람직하다. 다만, 유동 홈(225)이 형성되는 직경(R3)이 고정 지지부(100)의 직경(R1)보다 너무 크다면 고정 지지부(100) 상에서 유동 지지부(200")가 지지되지 않고 이탈할 위험이 있으므로, 유동 지지부(200")가 지지될 수 있는 범위 내에서 유동 홈(225)의 직경(R3)을 설정하는 것이 바람직하다.The flow support 200 "may have a curved upper surface 210" and a lower flow groove 225 may be formed. The fixed support 100 may be inserted into the flow groove 225. The stationary support 100 is inserted into the flow groove 225 so that the stationary support 100 can be flowed without being fixed, To support the floating support 200 "in contact. Therefore, it is preferable that the diameter R3 of the flow groove 225 is smaller than the diameter R2 of the flow support 200 "and larger than the diameter R1 of the fixed support 100. However, There is a risk that the flow supporting portion 200 "is not supported on the fixed supporting portion 100 and is disengaged when the diameter R3 of the fixed supporting portion 100 is larger than the diameter R1 of the fixed supporting portion 100, ") Of the flow groove 225 can be supported.

제3 실시예에 따른 기판 지지 장치는, 유동 지지부(200")의 상부(210")가 곡면 형태를 가지도록 구성함으로써, 지지핀(11)에 비해 기판(1)과 접하는 면적을 늘리거나, 기판(1)의 하중을 지지하면서 유동할 수 있는, 제1 및 제2 실시예의 볼(210)과 같은 기능을 담당할 수 있다. 그리고, 유동 지지부(200")의 하부에 유동 홈(225)을 형성함으로써, 유동 지지부(200")가 유동하는 기능 및 유동 지지부(200")가 기판 지지 장치에서 이탈하지 않는 것을 방지하는 기능을 담당할 수 있다.The substrate supporting apparatus according to the third embodiment is configured such that the upper portion 210 "of the flow supporting portion 200" has a curved surface shape, thereby increasing the area in contact with the substrate 1, It can take on the same function as the ball 210 of the first and second embodiments, which can flow while supporting the load of the substrate 1. By forming the flow grooves 225 in the lower portion of the flow supporting portion 200 ", the function of the flow supporting portion 200 "flowing and the function of preventing the flow supporting portion 200" I can take charge.

도 6은 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 지지 장치의 구성을 나타내는 측단면도이다. 도 6의 (a)는 유동 지지부(200''')가 고정 지지부(100) 상에 접촉 지지된 최초의 상태를 나타내고, 도 6의 (b)는 유동 지지부(200''')가 최대한의 범위까지 유동한 상태에서 고정 지지부(100) 상에 접촉 지지된 상태를 나타낸다.6 is a side sectional view showing a configuration of a substrate holding apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. 6 (a) shows the initial state in which the flow support 200 '' 'is supported on the stationary support 100 and FIG. 6 (b) shows the initial state in which the flow support 200' And is in contact and supported on the stationary support 100 in a state of being flowed up to the range.

도 6을 참조하면, 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 지지 장치는, 제1 실시예와 제3 실시예의 특징을 조합한 구성으로, 제1 실시예의 유동 지지부(200)의 하부에 유동 홈(225)을 형성한 것을 특징으로 한다. 따라서, 볼(210)이 볼 캡(220)의 볼 유동부(221, 222) 내에서 유동함과 더불어, 유동 홈(225)의 여유 공간을 통해 유동 지지부(200''')가 유동할 수 있어, 더 넓은 범위를 유동하면서 기판(1)의 하부를 지지할 수 있는 이점이 있다.Referring to FIG. 6, the substrate supporting apparatus according to the fourth embodiment of the present invention is a combination of the features of the first embodiment and the third embodiment. In the substrate supporting apparatus of the fourth embodiment, (225) is formed. Accordingly, as the ball 210 flows in the ball flow portions 221 and 222 of the ball cap 220, the flow support 200 '' 'can flow through the clearance of the flow groove 225 There is an advantage that the lower portion of the substrate 1 can be supported while flowing in a wider range.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지 장치가 임의의 상대물(51, 55)에 설치되는 구성을 나타내는 사시도이다.7 is a perspective view showing a configuration in which a substrate supporting apparatus according to an embodiment of the present invention is installed in an arbitrary object (51, 55).

도 7의 (a)를 참조하면, 기판 지지 장치의 고정 지지부(100)의 하부는 지지판 형상의 보트(51) 상에 고정되게 설치될 수 있다. 또한, 도 7의 (b)를 참조하면, 기판 지지 장치의 고정 지지부(100)의 하부는 프레임 형상의 보트(55) 상에, 구체적으로는 프레임 상부 또는 프레임이 교차하는 접점 상부에, 고정되게 설치될 수 있다. 지지판 형상의 보트(51) 또는 프레임 형상의 보트(55) 상에 복수의 기판 지지 장치가 설치됨으로써 기판(1)이 자중에 의해 처지는 현상을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 각각의 기판 지지 장치에 의해 기판(1)의 변형 및 하부의 스크래치 발생을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 7 (a), the lower portion of the fixed support portion 100 of the substrate supporting apparatus may be fixedly mounted on a support plate-shaped boat 51. 7 (b), the lower portion of the fixed support portion 100 of the substrate supporting apparatus is fixed on the frame-shaped boat 55, specifically, on the upper portion of the frame or the upper portion of the contact point where the frame crosses Can be installed. It is possible to prevent a phenomenon in which the substrate 1 is sagged by its own weight by providing a plurality of substrate supporting devices on the boat 51 in the form of a support plate or the boat 55 in the form of a frame, It is possible to prevent deformation of the substrate 1 and generation of scratches in the lower portion.

이처럼, 본 발명의 기판 지지 장치는 유동하면서 기판의 하부면을 접촉 지지할 수 있어, 기판의 하부면의 특정 부분에 응력이 집중되는 것을 막아 기판의 변형을 방지하며, 기판의 하부면에 스크래치가 발생되지 않게 함으로써, 기판 상에 증착되는 박막의 균일성을 증대시킴으로써 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.As described above, the substrate supporting apparatus of the present invention is capable of supporting the lower surface of the substrate while flowing, preventing stress from concentrating on a specific portion of the lower surface of the substrate, preventing deformation of the substrate, The reliability of the product can be improved by increasing the uniformity of the thin film deposited on the substrate.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken in conjunction with the present invention. Variations and changes are possible. Such variations and modifications are to be considered as falling within the scope of the invention and the appended claims.

1: 기판
10: 보트
11: 지지핀
100: 고정 지지부
200, 200', 200", 200''': 유동 지지부
210: 볼
220: 볼 캡
221: 이탈방지부
222: 유동면
223: 고정 지지부 삽입구
224: 유동 지지부 삽입구
225: 유동 홈
230: 지지볼
D: 접점1: substrate
10: Boat
11: Support pin
100:
200, 200 ', 200 ", 200 "':
210: view
220: Ball cap
221:
222:
223: Fixing Support Port
224: Flow Support Port
225:
230: support ball
D: Contact

Claims (13)

임의의 상대물에 고정되게 설치되는 고정 지지부; 및
상기 고정 지지부와 결합되며, 상기 고정 지지부의 상측에서 유동하면서 기판의 하부면을 접촉 지지하는 유동 지지부
를 포함하며,
상기 유동 지지부는,
볼(ball); 및
상기 볼이 유동되는 볼 유동부를 포함하는 볼 캡(ball cap)
을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.A fixed support fixedly attached to an arbitrary object; And
And a flow support member coupled to the fixed support portion and contacting and supporting the lower surface of the substrate while flowing above the fixed support portion,
/ RTI >
The flow-
Ball; And
A ball cap including a ball flow portion through which the ball flows,
Wherein the substrate support apparatus comprises: 제1항에 있어서,
상기 고정 지지부는 핀 형상의 구조물인 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.The method according to claim 1,
Wherein the fixed support portion is a fin-shaped structure. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 볼 캡은 상기 볼이 상기 볼 유동부를 이탈하는 것을 방지하는 이탈 방지부가 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.The method according to claim 1,
Wherein the ball cap is formed with a release preventing portion for preventing the ball from deviating from the ball flow portion. 제1항에 있어서,
상기 볼 유동부의 하부면을 구성하며, 상기 볼이 유동하는 유동면의 곡률은 상기 볼의 곡률보다 작은 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.The method according to claim 1,
Wherein the curvature of the flow surface through which the ball flows is less than the curvature of the ball. 제1항에 있어서,
상기 볼 유동부 상에 상기 볼보다 직경이 작고 상기 볼을 지지하는 복수의 지지볼이 배치되며, 상기 복수의 지지볼 상에서 상기 볼이 유동되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.The method according to claim 1,
Wherein a plurality of support balls having a smaller diameter than the ball and supporting the ball are disposed on the ball flow portion, and the ball is caused to flow on the plurality of support balls. 제6항에 있어서,
상기 복수의 지지볼은 상기 볼 유동부 상에 배치되는 지지볼 수용부 내에 수용되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.The method according to claim 6,
Wherein the plurality of support balls are received in a support ball receiving portion disposed on the ball moving portion. 제1항 또는 제6항에 있어서,
상기 볼 캡의 하부에 고정 지지부 삽입구가 형성되고, 상기 고정 지지부가 상기 고정 지지부 삽입구에 삽입되게 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.7. The method according to claim 1 or 6,
Wherein the ball cap is formed with a fixed support insertion port at a lower portion thereof and the fixed support portion is inserted into the fixed support insertion port. 제1항 또는 제6항에 있어서,
상기 고정 지지부의 상부에 유동 지지부 삽입구가 형성되고, 상기 유동 지지부가 상기 유동 지지부 삽입구에 삽입되게 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.7. The method according to claim 1 or 6,
And a flow support portion is formed on an upper portion of the fixed support portion, and the flow support portion is inserted into the flow support portion insertion hole. 제1항에 있어서,
상기 유동 지지부의 하부에 유동 홈이 형성되고,
상기 유동 지지부는 상기 유동 홈에 상기 고정 지지부가 접촉 지지된 상태에서 유동하는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.The method according to claim 1,
A flow groove is formed in a lower portion of the flow supporting portion,
Wherein the flow supporting portion flows in a state in which the fixed support portion is held in contact with the flow groove. 제10항에 있어서,
상기 유동 지지부의 상부는 곡면 형상인 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.11. The method of claim 10,
Wherein the upper portion of the flow support is curved. 제1항에 있어서,
상기 유동 지지부의 재질은 실리콘 카바이드(silicon carbide), 산화 알루미늄(aluminium oxide), 질화붕소(boron nitride), 석영(Quartz), 몰리브덴(molybdenum), 니켈(nickel), 글라스 세라믹(glass-ceramic) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.The method according to claim 1,
The material of the floating support may be selected from the group consisting of silicon carbide, aluminum oxide, boron nitride, quartz, molybdenum, nickel, and glass-ceramic. Wherein the substrate holding device is a substrate holding device. 제1항에 있어서,
상기 고정 지지부의 하부는 지지판 또는 프레임 형상의 보트에 결합되는 것을 특징으로 하는 기판 지지 장치.The method according to claim 1,
Wherein the lower portion of the fixed support is coupled to a support plate or a frame-shaped boat.
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