KR101481214B1 - The flexible display substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명의 플렉서블 디스플레이 기판은 유리섬유층과 상기 유리섬층의 양면에 형성된 수지층을 포함하고, 상기 수지층은 카도계 바인더 수지, 다관능성 모노머 및 광개시제를 포함하는 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함한다.The flexible display substrate of the present invention comprises a glass fiber layer and a resin layer formed on both sides of the glass bead layer, wherein the resin layer comprises a cured product of a photosensitive resin composition comprising a cadmium binder resin, a polyfunctional monomer and a photoinitiator.

Description

플렉서블 디스플레이 기판{The flexible display substrate}[0001] The flexible display substrate [0002]

본 발명은 플렉서블 디스플레이 기판에 관한 것이다. The present invention relates to a flexible display substrate.

최근에는 디스플레이 방식이 종래의 CRT(Cathode Ray Tube) 방식에서 평판 디스플레이인 플라즈마 디스플레이(Plasma display panel ; PDP), 액정표시장치(Liquid crystal display ; LCD), 유기EL(Organic Light Emitting Diodes ; OLED) 등으로 전환되었고, 특히, 향후에는 이러한 평판 디스플레이를 플렉서블 디스플레이로 실현할 수 있도록 전세계적으로 연구가 활발하게 진행되고 있는 중이다. In recent years, a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD), an organic EL (Organic Light Emitting Diode), or the like, which is a flat panel display in a conventional CRT (Cathode Ray Tube) In particular, in the future, researches are being actively carried out in the world to realize such a flat panel display as a flexible display.

위와 같은 평판 디스플레이에서는 기본적으로 기판을 유리소재로 사용하는데, 일반적인 평판 디스플레이에서는 TFT(박막 트랜지스터)를 형성시키기 위한 조건으로 고온 열처리가 필요하므로 이에 가장 적합한 소재로 유리기판이 이용되었다.In such a flat panel display, a substrate is basically used as a glass substrate. In a typical flat panel display, a glass substrate is used as a most suitable material for a TFT (thin film transistor) because a high temperature heat treatment is required to form the TFT.

그러나, 유리기판은 기본적으로 너무 딱딱한 특성을 가지므로, 가요성이 떨어져 플렉서블 디스플레이의 기판으로는 적합하지 않다는 문제점이 있는 것이다. However, since the glass substrate has basically too rigid properties, it has poor flexibility and is not suitable as a substrate for a flexible display.

이에 플렉서블 디스플레이 기판으로 유리기판에 대비하여 무게, 성형성, 비파괴성, 디자인 등이 우수하고, 특히, 롤-투-롤(Roll-To-Roll) 생산 방식으로 생산할 수 있어 제조단가를 절감할 수 있는 플라스틱 소재를 이용하는 기술에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있으나, 아직 상용화에 이를 정도로 적합한 플라스틱 소재의 플렉서블 디스플레이 기판이 개발되지 않은 실정이다. In comparison with glass substrates, flexible display substrates are excellent in weight, formability, non-destructiveness, and design. In particular, they can be manufactured by a roll-to-roll production method, However, there has not been developed a flexible display substrate of a plastic material suitable for commercialization yet.

이와 같은 플라스틱 기판이 플렉서블 디스플레이의 기판이 되기 위해서는 기본적으로 우수한 광투과도가 요구됨과 동시에 열적 안정성, 내화학성, 표면 평탄성 등의 특성들이 복합적으로 요구되고, 특히, 우수한 광학 특성을 유지함과 동시에 열팽창계수(Coefficient of Thermal Expansion ; CTE)로 대표되는 우수한 열적 안정성이 요구된다. In order for such a plastic substrate to be a substrate of a flexible display, basically excellent light transmittance is required, and a combination of properties such as thermal stability, chemical resistance and surface flatness are required in a complex manner. In particular, Coefficient of Thermal Expansion (CTE).

플렉서블 디스플레이 기판과 관련한 종래 기술의 일예들로 국제특허2011-0124522호(2011.10.13 공개), 미국공개특허2011-0244182(2011.10.06 공개), 유럽특허1,524,301(2005.04.20 공개) 등에는 유리섬유층과 상기 유리섬유층의 양면에 형성된 수지층을 포함하고, 상기 수지층은 아크릴계 단량체로부터의 단위구조와 플루오렌계 단량체로부터의 단위구조 화합물로 이루어진 수지 조성물로 이를 플렉시블 기판용 필름으로 이용하는 것에 대해 기재하고 있다. Examples of the prior art related to the flexible display substrate include a glass fiber layer (hereinafter referred to as " glass fiber layer ") such as International Patent Publication No. 2011-0124522 (published on October 13, 2011), US Published Patent 2011-0244182 (published October 10, 2011), European Patent No. 1,524,301 And a resin layer formed on both surfaces of the glass fiber layer, wherein the resin layer is a resin composition comprising a unit structure from an acrylic monomer and a unit structure compound from a fluorene monomer, and the resin layer is used as a film for a flexible substrate have.

본 발명은 우수한 광학특성을 유지함과 동시에 우수한 열적 안정성을 가지는 플렉서블 디스플레이 기판을 제공하려는 것이다.
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is to provide a flexible display substrate having excellent optical properties and excellent thermal stability.

본 발명의 플렉서블 디스플레이 기판은 유리섬유층과 상기 유리섬유층의 양면에 형성된 수지층을 포함하고, 상기 수지층은 다음 화학식 1로 표시되는 카도계 공중합체 수지, 다관능성 모노머 및 광개시제를 포함하는 감광성 조성물의 경화물을 포함하는 것이다.The flexible display substrate of the present invention comprises a glass fiber layer and a resin layer formed on both sides of the glass fiber layer, wherein the resin layer comprises a cationic copolymer resin, a polyfunctional monomer and a photoinitiator represented by the following formula And a cured product.

<화학식 1>&Lt; Formula 1 >

Figure 112011099312639-pat00001
Figure 112011099312639-pat00001

(상기 식에서, R1 및 R3는 수소원자 또는 메틸기이고, Y는 제1 산무수물의 잔기이고, Z는 제2 산무수물의 잔기이며, m:n의 몰비는 100:0 내지 0:100이다.)Wherein R 1 and R 3 are each a hydrogen atom or a methyl group, Y is a residue of a first acid anhydride, Z is a residue of a second acid anhydride, and the molar ratio of m: n is 100: 0 to 0: 100.

본 발명의 바람직한 일 구현예에 의하면 상기 감광성 수지 조성물은 상기 카도계 공중합체 수지 100중량부에 대하여 다관능성 모노머 0.1 내지 99중량부, 광개시제 0.01 내지 20중량부를 포함하는 감광성 수지 조성물인 것이다.According to a preferred embodiment of the present invention, the photosensitive resin composition is a photosensitive resin composition comprising 0.1 to 99 parts by weight of a polyfunctional monomer and 0.01 to 20 parts by weight of a photoinitiator based on 100 parts by weight of the cadmium-based copolymer resin.

본 발명의 다른 일 구현예는 유리섬유층의 두께는 20 내지 300㎛인 것이다.In another embodiment of the present invention, the thickness of the glass fiber layer is 20 to 300 mu m.

본 발명의 다른 일 구현예는 상기 유리 섬유층은 직경 4~20um의 유리섬유가 일방향으로 배향 정렬되고, 가로와 세로 방향의 날실과 씨실이 한올씩 교차로 Cross된 직조 형태로 유리 섬유층을 형성하는 것이 바람직하다. In another embodiment of the present invention, it is preferable that the glass fiber layer has a glass fiber layer in a woven form in which glass fibers having a diameter of 4 to 20 μm are aligned in one direction and crosswise crosswise the warp yarns and weft yarns in the transverse and longitudinal directions Do.

본 발명의 다른 일 구현예는 플렉시블 디스플레이용 플라스틱 기판을 하부 기판으로 포함하는 디스플레이 장치인 것이다.
Another embodiment of the present invention is a display device including a plastic substrate for a flexible display as a lower substrate.

본 발명은 우수한 광학특성을 유지함과 동시에 우수한 열적 안정성을 가지는 플렉서블 디스플레이 기판을 제공하였다.
The present invention provides a flexible display substrate having excellent optical properties while having excellent thermal stability.

본 발명의 플렉서블 디스플레이 기판은 플라스틱 기판으로서 우수한 광학특성을 유지함과 동시에 우수한 열적 안정성을 가지기 위하여, 유리섬유로 이루어진 유리섬유층을 감광성 수지 조성물에 함침하여 유리섬유층의 양면에 감광성 수지 조성물층을 형성시키고, 이의 두께를 적절히 조절한 뒤에 UV 경화시켜 수지층을 형성시킴으로써 얻을 수 있다. The flexible display substrate of the present invention is a plastic substrate in which a glass fiber layer made of glass fiber is impregnated with a photosensitive resin composition to form a photosensitive resin composition layer on both sides of a glass fiber layer in order to maintain excellent optical properties as well as excellent thermal stability, And then adjusting the thickness thereof appropriately, followed by UV curing to form a resin layer.

이 때, 유리섬유층은 지름 4~20um의 유리섬유가 일방향으로 배향 정렬되고, 20~300um의 두께로 형성될 수 있고, 이와 같은 유리섬유층은 열적특성이 우수하며, 흡수성이 없고, 흡습성이 적다. 화학적 내구성이 있기 때문에 부식하지 않으며, 인장강도가 강하고, 신장률이 적고 전기 절연성이 큰 장점이 있다. In this case, the glass fiber layer may be aligned in one direction with a glass fiber having a diameter of 4 to 20 um and may be formed to a thickness of 20 to 300 탆. Such a glass fiber layer has excellent thermal properties, is not water absorbent and has low hygroscopicity. Because of its chemical durability, it does not corrode, has a strong tensile strength, has a small elongation, and has great electrical insulation.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 수지층은 (A) 바인더 수지; (B) 다관능성 모노머; 및 (C) 광개시제를 포함하는 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함한다. According to one embodiment of the present invention, the resin layer comprises (A) a binder resin; (B) a polyfunctional monomer; And (C) a photoinitiator.

본 발명을 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.
The present invention will be described in more detail as follows.

(A) 바인더 수지(A) Binder resin

바인더 수지는 최근 감광성 수지 조성물용으로 많이 사용되며, 지지체 역할 및 노광시 광과 반응하여 포토레지스트상을 형성하는 고분자화합물과, 노광시 광과 반응하여 포토레지스트상을 형성하는 광중합성 모노머의 성분으로 구성된다. 바인더 수지의 대표적인 예로서 카도계 바인더 수지, 아크릴계 바인더 수지, 노볼락계 바인더 수지 등이 있으며, 상기 각 수지의 특성은 다음과 같다.BACKGROUND ART [0002] Binder resins are widely used for photosensitive resin compositions in recent years and include a polymer compound that forms a photoresist phase by reaction with light upon exposure to light and a photopolymerizable monomer component that reacts with light upon exposure to form a photoresist image . Typical examples of the binder resin include a carcass binder resin, an acrylic binder resin, a novolac binder resin, and the like.

카도계 바인더 수지는 굴절율이 높아 유리섬유층과의 굴절율 매칭이 용이하며, 내열성과 전기적 특성이 우수하나, 분자량 조절이 제한적인 단점이 있다. Cadmium binder resins have a high refractive index and are easy to match refractive index with a glass fiber layer. Although they have excellent heat resistance and electrical properties, they have a disadvantage in that their molecular weight control is limited.

아크릴계 바인더는 중합법에 따라 분자량 및 산가 조절이 가능하여 패턴 흐름성 조절이 용이하고, 다양한 모노머 도입을 통해 용도에 맞는 바인더 합성이 가능하다. Acrylic binders can control the molecular weight and acid value according to the polymerization method, so that it is easy to control the pattern flowability, and it is possible to synthesize a binder suitable for the application by introducing various monomers.

노볼락계 바인더는 페놀수지의 제조공정 중 산성 촉매로 생성되는 1차 수지로서, 경도가 높은 평면 상태의 고수지이며, 알칼리성 물질을 가하면 성능이 우수한 전기절연체가 되는 특성이 있다.The novolak type binder is a primary resin produced by an acidic catalyst during the production process of a phenol resin, and is a high-planar high-hardness resin having a high hardness. When an alkaline substance is added, the novolak-based binder has an excellent electrical insulating property.

본 발명의 플렉시블 디스플레이 기판의 수지층은 바인더 수지를 포함하는데, 바인더 수지를 포함하는 경우 기판의 열적안정성이 향상된다. 일예로 카도계 바인더 수지와 알칼리 가용성 아크릴계 바인더 수지 중 적어도 1종, 특히 flexibility를 향상시킬 수 있는 측면에서 좋기로는 카도계 바인더 수지를 포함하는 것이다. The resin layer of the flexible display substrate of the present invention includes a binder resin, and when the binder resin is included, the thermal stability of the substrate is improved. For example, at least one of a cadmium-based binder resin and an alkali-soluble acrylic-based binder resin, particularly a cadmium binder resin in view of improving flexibility.

본 발명에 있어서, 감광성 수지 조성물을 조성하는 바인더는 모노머와의 공중합에 의하여 형성된 공중합체를 사용할 수 있다. 또한 상기 공중합체에 더하여, 상기 공중합체 구조에 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물이 결합되어 형성된 고분자 화합물을 함께 사용할 수도 있다.In the present invention, as the binder constituting the photosensitive resin composition, a copolymer formed by copolymerization with a monomer may be used. In addition to the copolymer, a polymer compound formed by bonding an ethylenically unsaturated compound containing an epoxy group to the copolymer structure may be used together.

본 발명에 따른 바인더 수지의 일례로 하기 화학식 1로 표시되는, 일명 카도계 바인더 수지로 일컬어 지는, 주쇄에 아크릴레이트기를 갖는 다관능기 구조를 가지는 수지 화합물을 들 수 있다. Examples of the binder resin according to the present invention include a resin compound having a polyfunctional group structure having an acrylate group in the main chain, which is referred to as a cadmium-based binder resin represented by the following formula (1).

<화학식 1>&Lt; Formula 1 >

Figure 112011099312639-pat00002
Figure 112011099312639-pat00002

(상기 식에서, R1 및 R3는 수소원자 또는 메틸기이고, Y는 제1 산무수물의 잔기이고, Z는 제2 산무수물의 잔기이고, m:n의 몰비는 100:0 내지 0:100이다.)
(Wherein R1 and R3 are hydrogen atoms or methyl groups, Y is a residue of a first acid anhydride, Z is a residue of a second acid anhydride, and m: n is 100: 0 to 0: 100.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물에서 Y는 말레인산 무수물(Maleic anhydride), 숙신산 무수물(Succinic anhydride), 시스-1,2,3,6-테트라하이드로프탈산 무수물(cis-1,2,3,6-Tetrahydrophthalic Anhydride), 3,4,5,6-테트라하이드로프탈산 무수물(3,4,5,6-Tetrahydrophthalic Anhydride), 프탈산 무수물(Phthalic Anhydride), 이타콘산 무수물(Itaconic anhydride), 1,2,4-벤젠트리카복실산 무수물(1,2,4-Benzenetricarboxylic Anhydride), 메틸-테트라하이드로프탈산 무수물(Methyl-Tetrahydrophthalic Anhydride), 시트라콘산 무수물(Citraconic Anhydride), 2,3-디메틸말레인산 무수물(2,3-Dimethylmaleic Anhydride), 1-사이클로펜텐-1,2,-디카복실산 무수물(1-Cyclopentene-1,2-Dicarboxylic anhydride), 시스(5-노보넨-엔도-2,3-디카복실산 무수물(cis-5-Norbonene-endo-2,3-Dicarboxylic Anhydride) 및 1,8-나프탄산 무수물(1,8-Naphthalic Anhydride) 중에서 선택된 제1 산무수물의 잔기인 것이다. In the compound represented by Formula 1, Y is at least one selected from maleic anhydride, succinic anhydride, cis-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, Anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, 1,2,4-benzene, 1,2,4-benzeneetricarboxylic anhydride, methyl-tetrahydrophthalic anhydride, citraconic anhydride, 2,3-dimethylmaleic anhydride, 1-cyclopentene-1,2-dicarboxylic anhydride, cis (5-norbornene-endo-2,3-dicarboxylic anhydride, cis- -endo-2,3-dicarboxylic anhydride and 1,8-naphthalic anhydride, Will.

또한 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에서 Z는 1,2,4,5-벤젠테트라카복실산 이무수물(1,2,4,5-Bezenetetracarboxylic Dianhydride), 4,4'-바이프탈산 이무수물(4,4'-Biphthalic Dianhydride), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 이무수물(3,3',4,4'-Benzophenonetetracarboxylic Dianhydride), 피로멜리트산 이무수물(Pyromelitic Dianhydride), 1,4,5,8-나프탈렌테트라카복실산 이무수물(1,4,5,8-Naphthalenetetracarboxylic Dianhydride), 1,2,4,5-테트라카복실산 무수물(1,2,4,5-Tetracarboxylic Anhydide), 메틸노보넨-2,3-디카복실산 무수물(Methylnorbonene-2,3-Dicarboxylic Anhydride), 4,4'-[2,2,2-트리플로로-1-(트리플로로메틸)에틸리덴]디프탈산 무수물(4,4'-[2,2,2-Trifluoro-1-(Trifluoromethyl)Ethylidene]Diphthalic Anhydride), 4,4'-옥시디프탈산 무수물(4,4`-Oxydiphthalic Anhydride) 및 에틸렌글리콜 비스(안하이드로 트리멜리테이트)(Ethylene Glycol Bis (Anhydro Trimelitate)) 중에서 선택된 제2 산무수물의 잔기인 것이다. Further, in the compound represented by the above formula (1), Z represents 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-biphthalic dianhydride (4,4 '-Biphthalic Dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, pyromelitic dianhydride, 1,4 , 5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-tetracarboxylic anhydride, methyl norbornene Methylnorbonene-2,3-dicarboxylic anhydride, 4,4 '- [2,2,2-trifluoro-1- (trifluoromethyl) ethylidene] diphthalic anhydride 4,4'- [2,2,2-Trifluoroethyl] Ethylidene] Diphthalic Anhydride, 4,4'-Oxydiphthalic Anhydride and Ethylene Glycol Bis (Anhydro Trimellitate) (Ethylene Glycol Bis (Anhydro Trimelitate)) &Lt; / RTI &gt;

또한, 화학식 1로 표시되는 화합물은 제1 산무수물과 제2 산무수물의 몰비인 m:n의 비율이 100:0 내지 0:100, 바람직하게는 100:0 내지 50:50, 더 바람직하게는 100:0 내지 70:30, 보다 더 바람직하게는 0:100 내지 50:50의 범위에 있는 것이 다관능성 모노머, 개시제와 용해성이 우수하며, 유리섬유층과 함침시 함침이 용이하고, 필름 제막 시 광학 특성 개선에 있어 바람직하다. 수지층의 굴절율을 크게 향상시켜 유리섬유층과의 굴절율을 최소화시키고, 이에 따라 유리섬유층과 수지층 사이의 계면에서 반사율을 저하시켜 기판의 전체 광투과율을 향상시킬 수 있는 것이다. 또, 안정한 아로마틱 분자 구조를 가지고 있어서, 높은 유리전이 온도를 가지며, 열적 안정성이 크게 향상된다. 이외에도 내마모성이 우수하여 스크래치 발생 빈도를 줄이고, 내약품성이 우수하여 후공정 및 소자 제작 시에도 물성 변화를 발생시키지 않는데 큰 도움을 준다. The compound represented by the general formula (1) has a ratio of m: n, which is the molar ratio of the first acid anhydride and the second acid anhydride, of 100: 0 to 0: 100, preferably 100: 0 to 50:50, 100: 0 to 70:30, and even more preferably 0: 100 to 50: 50, is excellent in solubility with a polyfunctional monomer and an initiator, is easy to impregnate with a glass fiber layer, It is preferable in improving the characteristics. The refractive index of the resin layer is greatly improved to minimize the refractive index with respect to the glass fiber layer and thereby the reflectance at the interface between the glass fiber layer and the resin layer is reduced to improve the overall light transmittance of the substrate. In addition, it has a stable aromatic molecular structure, has a high glass transition temperature, and greatly improves thermal stability. In addition, it has excellent abrasion resistance, which reduces the frequency of scratches and has excellent chemical resistance, which is a great help in not causing physical property changes in the subsequent processes and device fabrication.

또한, 상기 바인더 수지는 전체 수지 조성물 중 5 내지 80중량%로 포함되는 것이 필름 제막 후 내열성 개선에 있어서 바람직하다.
It is preferable that the binder resin is contained in an amount of 5 to 80% by weight of the total resin composition in order to improve heat resistance after film-forming.

본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 바인더 수지의 일례로 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있는데, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 일예로 다음과 같은 방법에 의해 얻어질 수 있다: 하기 화학식 2의 비스페놀 플로오렌형 에폭시 화합물과 화학식 3의 (메타)아크릴산을 반응시켜 화학식 4로 표시되는 화합물을 합성하고, 양 말단에 제1 산무수물 또는 제2 산무수물로 처리한 후 다관능기를 부여하기 위해 화학식 5로 표시되는 에폭시 아크릴레이트를 반응시켜 화학식 1 화합물을 합성한다.
The photosensitive resin composition according to the present invention may include a compound represented by the formula (1) as an example of the binder resin. The compound represented by the formula (1) can be obtained, for example, by the following process: (Meth) acrylic acid of formula (3) to synthesize a compound represented by the formula (4), and treating the resulting mixture with a first acid anhydride or a second acid anhydride at both terminals to give a multifunctional The epoxy acrylate represented by the general formula (5) is reacted to synthesize the compound of the general formula (1).

<화학식 2>(2)

Figure 112011099312639-pat00003

Figure 112011099312639-pat00003

<화학식 3>(3)

Figure 112011099312639-pat00004
Figure 112011099312639-pat00004

(상기 식에서, R은 수소원자 또는 메틸기)
(Wherein R is a hydrogen atom or a methyl group)

<화학식4>&Lt; Formula 4 >

Figure 112011099312639-pat00005
Figure 112011099312639-pat00005

(상기 식에서, R1은 수소원자 또는 메틸기)
(Wherein R1 is a hydrogen atom or a methyl group)

<화학식 5>&Lt; Formula 5 >

Figure 112011099312639-pat00006
Figure 112011099312639-pat00006

(상기 식에서, R은 수소원자 또는 메틸기)
(Wherein R is a hydrogen atom or a methyl group)

(B) 다관능성 모노머(B) a polyfunctional monomer

광에 의해 네트워크를 형성하는 역할을 하는 다관능성 모노머는 일예로, 프로필렌글리콜 메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 아크릴레이트 테트라에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 비스페녹시 에틸알콜 디아크릴레이트, 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리메타크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라메타크릴레이트 및 디펜타에리쓰리톨 헥사메타크릴레이트로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물일 수 있다. Examples of the polyfunctional monomer serving to form a network by light include propylene glycol methacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol acrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6 Hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol acrylate, tetraethylene glycol methacrylate, bisphenoxy ethyl alcohol diacrylate, trishydroxyethylisocyanurate trimethacrylate, trimethylpropane trimethacrylate Or a mixture of two or more selected from the group consisting of pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, and dipentaerythritol hexamethacrylate.

또한, 2관능 이상의 아크릴 또는 메타크릴 화합물로서, 일예로 비스페놀-A 디아크릴레이트 (bisphenol-A-diacrylate), 비스페놀-S 디아크릴레이트 (bisphenol-S diacrylate), 디시클로펜타디에닐 디아크릴레이트(dicyclopentadienyl diacrylate), 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 (pentaerythritol triacrylate), 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리아크릴레이트 (tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate triacrylate), 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트 (pentaerythritol tetraacrylate), 비스페놀-A 디메타크릴레이트 (bisphenol-A dimethacrylate), 비스페놀-S-디메타크릴레이트 (bisphenol-S dimethacrylate), 디시클로펜타디에닐 디메타크릴레이트 (dicyclopentadienyl dimethacrylate), 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트 (pentaerythritol trimethacrylate), 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리메타크릴레이트 (tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate trimethacrylate), 및 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트 (pentaerythritol tetramethacrylate)로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 것을 사용할 수도 있다.Examples of the acrylic or methacrylic compound having two or more functional groups include bisphenol-A-diacrylate, bisphenol-S diacrylate, dicyclopentadienyl diacrylate ( dicyclopentadienyl diacrylate, pentaerythritol triacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate (pentaerythritol tetraacrylate) ), Bisphenol-A dimethacrylate, bisphenol-S dimethacrylate, dicyclopentadienyl dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, Pentaerythritol trimethacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate trimethacrylate (tris (2-hydroxyethyl ) isocyanurate trimethacrylate, and pentaerythritol tetramethacrylate may be used.

그 외에도, 2가의 작용기를 갖는 플루오렌 아크릴레이트 등과 같이 플루오렌 골격구조를 갖는 아크릴레이트계 화합물을 사용할 수도 있음은 물론이다. 구체적인 일예로 다음 화학식 6으로 표시되는 플루오렌 골격 구조를 갖는 화합물을 들 수 있다.It goes without saying that an acrylate compound having a fluorene skeleton structure such as fluorene acrylate having a divalent functional group may also be used. Specific examples thereof include compounds having a fluorene skeleton structure represented by the following formula (6).

<화학식 6>(6)

Figure 112011099312639-pat00007
Figure 112011099312639-pat00007

(여기에서, R1 내지 R6는 각각 같거나 다르게 수소 또는 산소, 질소, 황 또는 규소를 포함하는 연결기로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 10의 탄화수소기이거나, 극성기, 단일결합 또는 2가의 연결기를 가지는 방향족기, 실란기, 할로겐 원자 중에서 선택되고, n은 1 내지 20의 정수이다.)(Wherein R 1 to R 6 are the same or different and each is a hydrogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms which is substituted or unsubstituted with a linking group containing oxygen, nitrogen, sulfur or silicon, or a polar group, a single bond or a divalent linking group A silane group and a halogen atom, and n is an integer of 1 to 20.)

또, 상기 탄소수 1 내지 10의 탄화수소기는 메틸기, 에틸기, 프로필기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 알킬기; 시클로펜틸기, 시클로헥실기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 시클로알킬기; 비닐기, 아릴기, 프로페닐기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 알케닐기; 중에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하다.  The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms may be any one selected from the group consisting of a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a combination thereof; A cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a combination thereof; An alkenyl group selected from the group consisting of a vinyl group, an aryl group, a propenyl group, and combinations thereof; , And the like.

상기 치환 또는 비치환된 탄화수소기는 화학식 1과 같이 직접 환 구조에 결합될 수도 있지만, 연결기를 통하여 환 구조에 결합될 수도 있다. The substituted or unsubstituted hydrocarbon group may be bonded to the ring structure directly or via a linking group as shown in Formula (1).

상기 연결기로는 탄소 원자수 1 내지 10의 2가의 탄화수소기, 산소, 질소, 황 또는 규소를 포함하는 연결기, 예를 들면 카르보닐기, 옥시카르보닐기, 슬폰기, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 이미노기, 아미드 결합, 실록산 결합 등을 들 수 있고, 이들의 복수를 포함하는 연결기일 수도 있다. The linking group may be a bivalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a linking group containing oxygen, nitrogen, sulfur or silicon such as a carbonyl group, an oxycarbonyl group, a sphone group, an ether bond, a thioether bond, A siloxane bond, and the like, or a linking group including a plurality of these groups.

상기 극성기는 수산기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 카르보닐옥시기, 알콜시카르보닐기, 시아노기, 아미드기, 이미드기, 아미노기, 아실기, 술포닐기 및 카르복실기 등을 들 수 있다. 더욱 구체적으로는 상기 알콕시기로는 메톡시기, 에톡시기 등을 들 수 있고, 카르보닐옥시기로는 아세톡시기, 프로피오닐옥시기 등의 알킬카르보닐옥시기, 에톡시카르보닐기 등을 들 수 있고 아미노기로는 제1급 아미노기를 들 수 있다.The polar group includes a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a carbonyloxy group, an alcoholic carbonyl group, a cyano group, an amide group, an imide group, an amino group, an acyl group, a sulfonyl group and a carboxyl group. More specifically, examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group. Examples of the carbonyloxy group include an alkylcarbonyloxy group such as an acetoxy group and a propionyloxy group, an ethoxycarbonyl group and the like. Is a primary amino group.

상기 단일결합 또는 2가의 연결기를 가지는 방향족기에서 2가의 연결기로는 알킬렌기 특히 탄소수 1 내지 10, 바람직하게는 1 내지 5이며, 예를 들어 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 아릴렌기, 옥시알킬렌기, 옥시아릴렌기, 옥시 카르보닐기, 이미노카르보닐기, 카르보닐기, 아세틸렌기, 우레일렌기, 황이나 산소 등 헤테로 원자, 아미노기 등을 들 수 있다. 또한 이들의 연결기를 2개 이상 조합하여도 된다. The divalent linking group in the aromatic group having a single bond or a divalent linking group is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, such as a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, an arylene group, An alkylene group, an oxyarylene group, an oxycarbonyl group, an iminocarbonyl group, a carbonyl group, an acetylene group, a ureylene group, a hetero atom such as sulfur or oxygen, and an amino group. It is also possible to combine two or more of these connecting units.

이러한 연결기를 통하여 방향족기를 포함하여야 하는데 상기 방향족기는 방향족 화합물의 1 수소 이탈체를 포함한다. The aromatic group should include an aromatic group through such a linkage, which includes a monohydroxy leaving group of an aromatic compound.

상기 1 수소 이탈체로 구체적인 예로는 벤젠, 펜타렌, 나프탈렌, 아줄렌, 헵타렌, 비페닐렌, 인다센, 아세나프탈렌, 페난트렌, 안트라센, 플루오란센, 아세페난트릴렌, 프리페닐렌, 피렌, 크리센, 나프타센, 플라이아덴, 피센, 페릴렌, 펜파펜, 펜타센, 테트라페닐렌, 헥사펜, 펜사센, 루비센, 코로넨, 트리나프틸렌, 헵타펜, 헵타센, 피라센, 오바렌 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 단고리 화합물, 티오펜, 티안트렌, 푸란, 피란, 이소벤조푸란, 크로멘, 크산텐, 페노크사티인, 피롤, 이미다졸, 피라졸, 이소티아졸, 이소옥사졸, 피리딘, 피라딘, 피리미딘, 피리디진, 인돌리딘, 이소인돌, 인돌, 인다졸, 푸린, 퀴놀리딘, 이소퀴논, 퀴놀린, 프탈라진, 나프틸리딘, 키노키살린, 시노린, 프테리딘, 카르바졸, 베타카르보린, 페난틸리딘, 아크리딘, 페리미딘, 페난트롤린, 페나딘, 페나르사진, 페노티아딘, 프라잔, 페노키사진 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 헤테로고리 화합물 및 이들의 치환기를 가지는 것이 바람직하다. Specific examples of the monovalent hydrogen deficiency include benzene, pentane, naphthalene, azulene, heptarene, biphenylene, indacene, acenaphthalene, phenanthrene, anthracene, fluoransenes, , Naphthacene, prazene, picene, perylene, phenaphene, pentacene, tetraphenylene, hexaphene, penascene, rubicene, coronene, trinaphthylene, heptapene, And one or more of the group consisting of thiophene, thianthrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxathiine, pyrrole, imidazole, pyrazole, The present invention relates to a method for producing a compound represented by the general formula (1) or a salt thereof, wherein the compound is selected from the group consisting of isothiazole, isooxazole, pyridine, pyridine, pyrimidine, pyridine, indolidine, isoindole, indole, indazole, purine, quinolidine, isoquinone, quinoline, Xylylene, cyinoline, pteridine, carbazole, betacarbonyl, phenanthyridine, acry It is preferable to have any one of heterocyclic compounds and substituents thereof selected from the group consisting of pyridine, pyrimidine, phenanthroline, phenadine, phenarazine, phenothiazine, prazine, phenoxy and combinations thereof .

상기 실란기는 트리메톡시실릴기, 트릴에톡시실릴기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 알콕시실릴기 또는 트리메틸실릭시기, 트리에틸실리고시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 트리오르가노실록시기인 것이 바람직하다. The silane group may be any one selected from the group consisting of a trimethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, and a combination thereof, or any one selected from the group consisting of a trimethylsilic group, a triethylsilyl group, It is preferably a triorganosiloxy group.

상기 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬 등을 들 수 있다. Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and the like.

구체적인 일예로, 상기 화학식 2의 단량체로부터의 단위구조를 형성하는 플루오렌계 단량체는 플루오렌 골격 함유 아크릴레이트가 특히 제한되지 않고 2이상의 작용기를 갖는 임의 플루오렌 골격 함유 아크릴레이트 일 수 있다. 플루오렌 골격 구조로는 9,9-비스(4-히드록시페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-브로모페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-플루오로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3-메톡시페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3,5-디메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-히드록시-3,5-디클로로페닐)플루오렌 및 9,9-비스(4-히드록시-3,5-디브로모페닐)플루오렌으로 구성되는 군에서 선택된 1 이상일 수 있다. As a specific example, the fluorene-based monomer forming the unit structure from the monomer of Formula 2 is not particularly limited and may be any fluorene skeleton-containing acrylate having two or more functional groups. Examples of the fluorene skeleton structure include 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9- 3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-bromophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis 3,5-dichlorophenyl) fluorene, and 9,9-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) fluorene.

그 함량은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 100중량부에 대해 0.1 내지 99중량부인 것이 UV에 의한 광개시제의 라디칼 반응으로 인한 가교결합으로 결합력이 높아져서 투명성, 플렉시블리티를 갖는 필름을 제막하는데 있어서 바람직하다.
The content thereof is preferably 0.1 to 99 parts by weight based on 100 parts by weight of the compound represented by the formula (1), because the bonding force is enhanced by cross-linking due to UV-induced radical reaction of the photoinitiator, so that the film is preferable for film having transparency and flexibility.

(C) 광개시제(C) Photo initiator

광개시제는 Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure OX01, Irgacure 242, 티옥산톤, 2,4-디에틸 티옥산톤, 티옥산톤-4-술폰산, 벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, α,α'-디메톡시아세톡시 벤조페논, 2,2'-디메톡시-2-페틸아세토페논, p-메톡시아세토페논, 2-메틸[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로파논, 2-벤질-2-디에틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실 페닐케톤 등의 케톤류; 안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논 등의 퀴논류; 1,3,5-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로페닐)-s-트리아진, 페나실클로라이드, 트리브로모메틸페닐술폰, 트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등의 할로겐 화합물; 디-t-부틸 퍼옥사이드 등의 과산화물; 2,4,6-트리메틸 벤조일 디페닐 포스핀 옥사이드 등의 아실 포스핀 옥사이드류;가 사용될 수 있다. 본 발명에서 상기 광개시제는 단독 또는 조합하여 사용될 수 있다. The photoinitiator may be Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure OXOl, Irgacure 242, thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, thioxanthone-4-sulfonic acid, benzophenone, 4,4'- Benzophenone, acetophenone, p-dimethylaminoacetophenone,?,? '- dimethoxyacetoxybenzophenone, 2,2'-dimethoxy-2-phenylacetophenone, p- 2-diethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-hydroxy- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and other ketones ; Quinones such as anthraquinone and 1,4-naphthoquinone; Tri (trichloromethyl) -s-triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2- chlorophenyl) Halogen compounds such as phenylphenyl) -s-triazine, phenacyl chloride, tribromomethylphenylsulfone, and tris (trichloromethyl) -s-triazine; Peroxide such as di-t-butyl peroxide; Acylphosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like can be used. In the present invention, the photoinitiators may be used alone or in combination.

이와 같은 광개시제는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 100중량부에 대해 0.01 내지 20중량부로 포함되는 것이 바람직하다. The photoinitiator is preferably included in an amount of 0.01 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the compound represented by the formula (1).

상기 광개시제의 함량이 0.01중량부 미만이면 감도가 충분하지 않아 아크릴계 중합 전환율이 80%이하로, 끈적끈적한 단량체의 택성이 남을 수 있고, 형성하고자 하는 필름의 기본 광학 물성을 가지기 어렵다. 또한, 상기 광개시제의 함량이 20중량부를 초과하면 형성된 필름의 광투과성, 헤이즈, 옐로우 인덱스 등이 저하되기 쉽다.
If the content of the photoinitiator is less than 0.01 part by weight, the sensitivity is insufficient and the conversion of the acrylic polymerization is 80% or less, tackiness of the sticky monomer may remain, and it is difficult to have the basic optical properties of the film to be formed. If the content of the photoinitiator is more than 20 parts by weight, the light transmittance, haze, yellow index, and the like of the formed film tend to decrease.

그리고, 감광성 수지 조성물의 점도를 조절하기 위하여 희석제를 사용할 수 있다. 희석제의 함량은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물 100중량부에 대해 10 내지 300중량부인 것이 바람직하다. In order to control the viscosity of the photosensitive resin composition, a diluent may be used. The content of the diluent is preferably 10 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the compound represented by the formula (1).

상기 희석제로는 상기 조성물의 제조 또는 점도 유지를 위한 것으로써 다음과 같은 물질을 사용할 수 있다. 예컨대, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류 테트라하이드로퓨란, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 에테르류 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 프로펠렌 글리콜 프로필 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬 에테르 아세테이트류 등을 들 수 있다. 이러한 희석제 가운데에서 용해성, 각 성분과의 반응성 및 도막 형성의 편리성의 관점에서 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 프로펠렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트류 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타난 등의 케톤류 아세트산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 부틸에스테르 2-히드록시프로피온산의 에틸에스테르, 메틸에스테르 2-히드록시-2-메틸프로피온산의에틸에스테르 히드록시아세트산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 부틸 에스테르 젖산에틸, 젖산프로필, 젖산부틸 메톡시아세트산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 부틸에스테르 프로폭시아세트산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 부틸에스테르 부톡시아세트산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 부틸에스테르 2-메톡시프로피온산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 부틸에스테르 2-에톡시프로피온산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 부틸에스테르 2-부톡시프로피온산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 부틸에스테르 3-메톡시프로판의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 부틸에스테르 3-에톡시프로피온산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 부틸에스테르 3-부톡시프로피온산의 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 부틸에스테르 등의 에스테르류의 사용이 바람직하다. As the diluent, the following materials may be used for preparing the composition or maintaining the viscosity. For example, alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, propylene glycol And propyleneglycol alkyl ether acetates such as butyl ether acetate. Among these diluents, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxycyclohexanone and the like are preferable from the viewpoints of solubility, reactivity with each component, Hydroxy-2-methylpropionic acid, ethyl ester of 2-hydroxy-2-methylpropionic acid, ethyl ester of 2-hydroxypropionic acid, Methyl ester, ethyl ester, butyl ester of lactic acid, ethyl lactate, propyl lactate, methyl ester of butyl methoxyacetic acid, ethyl ester, propyl ester, butyl ester methyl ester, ethyl ester, propyl ester, butyl ester moiety of propoxyacetic acid Methyl esters, ethyl esters, Butyl ester 2-methoxypropionic acid methyl ester, ethyl ester, propyl ester, butyl ester methyl ester, 2-ethoxypropionic acid methyl ester, ethyl ester, propyl ester, butyl ester methyl ester of 2-butoxypropionic acid, ethyl ester , Propyl esters, butyl esters Methyl esters, ethyl esters, propyl esters, butyl esters of 3-methoxypropane Methyl esters, ethyl esters, propyl esters, butyl esters of 3-ethoxypropionic acid Methyl esters of 3-butoxypropionic acid, ethyl The use of esters such as esters, propyl esters and butyl esters is preferred.

또한 상기 희석제는 고비등점 희석제와 함께 사용될 수 있다. 사용 가능한 고비등점 희석제로서, 예컨대 N-메틸 포름아미드, N,N-디메틸 포름아미드, N-메틸 아세트아미드, N,N-디메틸 아세트아미드, N-메틸 피롤리돈, 디메틸 설폭시드, 벤질 에틸 에테르를 들 수 있다. The diluent may also be used in combination with a high boiling point diluent. As the high boiling point diluent that can be used, there can be mentioned, for example, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, .

상기 희석제는 화학식 1로 표시되는 화합물 100중량부에 대해 10 내지 300중량부로 포함하는데, 상기 희석제의 함량이 상기 범위 내에 있는 경우 원활한 필름을 제막할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
The diluent is contained in an amount of 10 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the compound represented by the general formula (1). When the content of the diluent is within the above range, a smooth film can be formed.

이 외에도 특별한 기능의 발현을 위하여 계면활성제, 경화촉진제, 산화방지제 등 첨가제를 더 포함할 수도 있다.In addition, surfactants, curing accelerators, antioxidants and the like may be further added for the purpose of expressing special functions.

상기 첨가제 중 특히 표면 도포성을 향상하기 위한 계면활성제를 포함할 수 있는데, 계면활성제로는 불소 및 실리콘계 계면활성제, 예를 들면 3M사의 FC-129, FC-170C, FC-430, DIC사의 F-172, F-173, F-183, F-470, F-475, 신에츠실리콘사의 KP322, KP323, KP340, KP341 등이 있다. 이러한 계면활성제는 조성물 100 중량부를 기준으로 하여 5 중량부 이하, 바람직하게는 2 중량부 이하로 포함될 수 있다. 계면활성제의 함량이 5 중량부를 초과하는 경우 도포시 거품이 발생하는 문제가 있고, 이러한 문제는 유리섬유 함침 및 필름 제막 시에 영향을 주어 바람직하지 않다. Examples of the surfactant include fluorine and silicon surfactants such as FC-129, FC-170C and FC-430 of 3M, F- 172, F-173, F-183, F-470, F-475 and KP322, KP323, KP340 and KP341 of Shin-Etsu Silicones. Such a surfactant may be contained in an amount of 5 parts by weight or less, preferably 2 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the composition. When the content of the surfactant is more than 5 parts by weight, foaming occurs at the time of application, and such a problem is undesirable because it affects glass fiber impregnation and film-forming.

그리고, 본 발명의 수지 조성물 중에는 필요에 따라 투명성, 내용제성, 내열성 등의 특성을 손상시키지 않은 범위에서 소량의 산화 방지제, 자외선 흡수제 , 염색 안료 등을 포함해도 좋다.
The resin composition of the present invention may contain a small amount of an antioxidant, an ultraviolet absorber, a dyeing pigment, and the like insofar as the properties such as transparency, solvent resistance and heat resistance are not impaired, if necessary.

이하, 본 발명의 제조예를 설명한다.
Hereinafter, the production example of the present invention will be described.

<제조예 1> 화학식 1로 표시되는 카도계 바인더 수지의 제조 Production Example 1 Production of a cationic binder resin represented by the formula (1)

1L 사구 플라스크에, 용매인 프로필렌글리콜 메틸에테르아세테이트(PGMEA)에 비스페놀 플루오렌형 에폭시화합물 232g과 아크릴산 72g을 혼합하고, 트리에틸아민 4.56g과 하이드로퀴논 100mg을 넣은 후 100℃로 가열 용해하였다. 용액이 백탁한 상태에서 서서히 승온하다가 100℃에서 완전 용해시켰다. 완전히 용해 되면 90℃로 유지하며, 여기에 25ml/분의 속도로 질소를 주입하면서 산가가 목표에 이를 때까지 12시간을 요하였다. 산가를 측정하여 3.0mgKOH/g 미만이 될 때까지 가열 교반을 계속하였다. 그리고 실온까지 냉각하여 무색 투명의 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트를 얻었다.In a 1 L four-necked flask, 232 g of bisphenol fluorene-type epoxy compound and 72 g of acrylic acid were mixed with propylene glycol methyl ether acetate (PGMEA) as a solvent, 4.56 g of triethylamine and 100 mg of hydroquinone were added and dissolved by heating at 100 占 폚. The solution was slowly heated in a cloudy state and completely dissolved at 100 ° C. When completely dissolved, the temperature was maintained at 90 ° C, and nitrogen injection was performed at a rate of 25 ml / min, which required 12 hours until the acid value reached the target. The acid value was measured, and heating and stirring were continued until it was less than 3.0 mg KOH / g. The mixture was cooled to room temperature to obtain a colorless transparent bisphenol fluorene-type epoxy acrylate.

이렇게 하여 얻어진 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트 300g에 1,2,3,6-테트라하이드로 무수 프탈산 32.57g, 혼합하고 서서히 승온하여 120℃로 20시간 반응시켜 화학식 1로 표시되는 카도계 화합물을 얻었다.
32.57 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was added to 300 g of bisphenol fluorene-type epoxy acrylate thus obtained, and the mixture was gradually heated to react at 120 DEG C for 20 hours to obtain a cadmium compound represented by the formula (1).

<제조예 2> : 아크릴계 바인더 수지 합성의 예 &Lt; Preparation Example 2 > : Example of synthesis of acrylic binder resin

1000ml 4구 플라스크 속에 다음 표 1에 나타낸 것과 같은 조성 성분을 넣고 여기에 질소를 불어넣으면서 30분 동안 교반하였다. 다음으로, 온도를 서서히 올려 65℃에서 4시간 반응시킨 후 80℃로 승온시켜 2시간 더 반응시켜 아크릴계 바인더 수지를 합성하였다. 하기 표 1에 있어 단위는 g이다.The components shown in the following Table 1 were placed in a 1000 ml four-necked flask, and stirred for 30 minutes while blowing nitrogen therein. Next, the temperature was gradually raised, reacted at 65 ° C for 4 hours, heated to 80 ° C and reacted for 2 hours to synthesize an acrylic binder resin. In Table 1, the unit is g.

원료 조성Raw material composition 사용량(g)Usage (g) MAAMAA 21.8121.81 MMAMMA 109.09109.09 KBM503KBM503 87.2787.27 개시제Initiator 21.8121.81 PGMEAPGMEA 560560

(주)MAA: 메타아크릴산, MMA: 메틸 메타아크릴레이트(Note) MAA: methacrylic acid, MMA: methyl methacrylate

KBM503: 3-(메타아크릴옥시프로필)트리메톡시실란, Shin-Etsu Chemical제품KBM503: 3- (methacryloxypropyl) trimethoxysilane, Shin-Etsu Chemical product

개시제: 아조비스이소부티로나이트릴Initiator: Azobisisobutyronitrile

PGMEA: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트
PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

<실시예 1 내지 4 및 비교예 1>&Lt; Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 >

하기 표 2과 같은 성분 및 함량(중량%)을 혼합하고, 이를 3시간 동안 교반하여 감광성 수지 조성물을 제조한 후, 여기에 4~20um의 유리섬유가 일방향으로 배향 정렬된 두께 40~150㎛를 가지는 유리섬유층을 함침하여 약 5~30분간 초음파 처리(SONICATION)하고, 이를 유리기판과 이형필름 사이에 놓고 닥터블레이드를 이용하여 유리섬유층 일면의 수지층의 두께가 40~130um가 되도록 두께를 조절한 후에 UV경화를 진행시켜 기판을 얻었다.The components and the contents (weight%) as shown in Table 2 below were mixed and stirred for 3 hours to prepare a photosensitive resin composition. Then, 4 to 20 um of glass fibers were aligned in one direction to a thickness of 40 to 150 탆 And the thickness of the resin layer on one surface of the glass fiber layer was adjusted to be 40 to 130 탆 by using a doctor blade by placing the glass fiber layer between the glass substrate and the release film Thereafter, UV curing was carried out to obtain a substrate.

화학식 1
화합물
(제조예 1)
Formula 1
compound
(Production Example 1)
아크릴계 화합물
(제조예 2)
Acrylic compound
(Production Example 2)
2가의 작용기를 갖는 플루오렌 아크릴레이트Fluorene acrylate having a divalent functional group 다관능
모노머
Multifunctional
Monomer
희석제diluent 광개시제Photoinitiator
비교예 1Comparative Example 1 -- -- 5353 2525 2020 22 실시예 1Example 1 5353 -- -- 2525 2020 22 실시예 2Example 2 3535 -- 1818 2525 2020 22 참조예 3Reference Example 3 -- 5353 -- 2525 2020 22 참조예 4Reference Example 4 3535 -- 1818 2525 2020 22

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

상기 제조예 1로부터 얻어진 화학식 1 화합물 53중량부, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트 25중량부, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤 (Irgacure184, Basf사 제품) 2중량부와, 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트 20중량부를 더 혼합하여 경화전 수지층 조성물을 제조하였다. 이 경화전 수지층 조성물에 100㎛ 두께의 유리섬유를 함침시키고, 30분간 초음파 처리(SONICATION)하였다. 이를 유리기판 2장 안에 이형필름 2장을 위치시키고, 그 가운데에 유리섬유층을 펼쳐 넣고 닥터블레이드를 이용하여 수지층의 두께가 100㎛가 되도록 조절하여, 양쪽으로 약 10J/cm2의 UV광으로 조사시키고, 유리기판과 이형필름은 제거하여 기판을 얻었다. 53 parts by weight of the compound of Formula 1 obtained in Preparation Example 1, 25 parts by weight of neopentyl glycol diacrylate, 2 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Basf), 20 parts by weight of propylene glycol ethyl ether acetate Were mixed to prepare a resin layer composition before curing. The resin layer composition before curing was impregnated with glass fibers having a thickness of 100 mu m and sonicated for 30 minutes. Two release films were placed in two glass substrates, a glass fiber layer was spread out therefrom, the thickness of the resin layer was adjusted to 100 탆 by using a doctor blade, and the both sides were irradiated with UV light of about 10 J / cm 2 And the glass substrate and the release film were removed to obtain a substrate.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

상기 제조예 1로부터 얻어진 화학식 1 화합물 35중량부, 2가의 작용기를 갖는 플루오렌 아크릴레이트 (HR-6060, 미원스페셜티케미칼 제품) 18중량부, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트 25중량부, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤 (Irgacure184, Basf사 제품) 2중량부와, 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트 20중량부를 더 혼합하여 경화전 수지층 조성물을 제조하였다. 이 경화전 수지층 조성물에 100㎛ 두께의 유리섬유를 함침시키고, 30분간 초음파 처리(SONICATION)하였다. 이를 유리기판 2장 안에 이형필름 2장을 위치시키고, 그 가운데에 유리섬유층을 펼쳐 넣고 닥터블레이드를 이용하여 수지층의 두께가 100㎛가 되도록 조절하여, 양쪽으로 약 10J/cm2의 UV광으로 조사시키고, 유리기판과 이형필름은 제거하여 기판을 얻었다. , 35 parts by weight of the compound of Formula 1 obtained in Preparation Example 1, 18 parts by weight of fluorene acrylate having a bivalent functional group (HR-6060, product of MIWON SPECIALTY CHEMICAL), 25 parts by weight of neopentyl glycol diacrylate, 2 parts by weight of cyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Basf) and 20 parts by weight of propylene glycol ethyl ether acetate were further mixed to prepare a resin layer composition before curing. The resin layer composition before curing was impregnated with glass fibers having a thickness of 100 mu m and sonicated for 30 minutes. Two release films were placed in two glass substrates, a glass fiber layer was spread out therefrom, the thickness of the resin layer was adjusted to 100 탆 by using a doctor blade, and the both sides were irradiated with UV light of about 10 J / cm 2 And the glass substrate and the release film were removed to obtain a substrate.

<참조예 1>&Lt; Reference Example 1 &

상기 제조예 2로부터 얻어진 아크릴계 화합물 53중량부, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트 25중량부, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤 (Irgacure184, Basf사 제품) 2중량부와, 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트 20중량부를 더 혼합하여 경화전 수지층 조성물을 제조하였다. 이 경화전 수지층 조성물에 100㎛ 두께의 유리섬유를 함침시키고, 30분간 초음파 처리(SONICATION)하였다. 이를 유리기판 2장 안에 이형필름 2장을 위치시키고, 그 가운데에 유리섬유층을 펼쳐 넣고 닥터블레이드를 이용하여 수지층의 두께가 100㎛가 되도록 조절하여, 양쪽으로 약 10J/cm2의 UV광으로 조사시키고, 유리기판과 이형필름은 제거하여 기판을 얻었다. 53 parts by weight of the acrylic compound obtained in Preparation Example 2, 25 parts by weight of neopentyl glycol diacrylate, 2 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Basf) and 20 parts by weight of propylene glycol ethyl ether acetate Followed by further mixing to prepare a resin layer composition before curing. The resin layer composition before curing was impregnated with glass fibers having a thickness of 100 mu m and sonicated for 30 minutes. Two release films were placed in two glass substrates, a glass fiber layer was spread out therefrom, the thickness of the resin layer was adjusted to 100 탆 by using a doctor blade, and the both sides were irradiated with UV light of about 10 J / cm 2 And the glass substrate and the release film were removed to obtain a substrate.

<참조예 2>&Lt; Reference Example 2 &

상기 제조예 2로부터 얻어진 아크릴계 화합물 35중량부, 2가의 작용기를 갖는 플루오렌 아크릴레이트 (HR-6060, 미원스페셜티케미칼 제품) 18중량부, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트 25중량부, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤 (Irgacure184, Basf사 제품) 2중량부와, 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트 20중량부를 더 혼합하여 경화전 수지층 조성물을 제조하였다. 이 경화전 수지층 조성물에 100㎛ 두께의 유리섬유를 함침시키고, 30분간 초음파 처리(SONICATION)하였다. 이를 유리기판 2장 안에 이형필름 2장을 위치시키고, 그 가운데에 유리섬유층을 펼쳐 넣고 닥터블레이드를 이용하여 수지층의 두께가 100㎛가 되도록 조절하여, 양쪽으로 약 10J/cm2의 UV광으로 조사시키고, 유리기판과 이형필름은 제거하여 기판을 얻었다. , 35 parts by weight of the acrylic compound obtained from Preparation Example 2, 18 parts by weight of fluorene acrylate having a bivalent functional group (HR-6060, product of MIWON SPECIALTY CHEMICAL Co.), 25 parts by weight of neopentyl glycol diacrylate, 2 parts by weight of hexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Basf) and 20 parts by weight of propylene glycol ethyl ether acetate were further mixed to prepare a resin layer composition before curing. The resin layer composition before curing was impregnated with glass fibers having a thickness of 100 mu m and sonicated for 30 minutes. Two release films were placed in two glass substrates, a glass fiber layer was spread out therefrom, the thickness of the resin layer was adjusted to 100 탆 by using a doctor blade, and the both sides were irradiated with UV light of about 10 J / cm 2 And the glass substrate and the release film were removed to obtain a substrate.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

실시예 1에서 화학식 1의 화합물 대신 2가의 작용기를 갖는 플루오렌 아크릴레이트 (HR-6060, 미원스페셜티케미칼 제품) 53중량부를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여 기판을 제조하였다.
A substrate was prepared in the same manner as in Example 1, except that 53 parts by weight of fluorene acrylate having a bivalent functional group (HR-6060, manufactured by MI WON SPECIALTY CHEMICAL Co.) instead of the compound represented by the formula (1) was used.

이와 같이 얻은 실시예 1 내지 2, 참조예 1 내지 2 및 비교예 1의 성능을 평가한 결과는 다음 표 3과 같으며, 각 평가항목의 측정방법은 다음과 같다.
The results of evaluating the performance of Examples 1 to 2, Reference Examples 1 to 2 and Comparative Example 1 thus obtained are shown in Table 3 below, and the measurement method of each evaluation item is as follows.

<Haze측정방법><Haze measurement method>

헤이즈 측정기 (Nippon Denshoku사 제품, NDH2000모델)를 이용하여 Method3으로 D65 광원으로 필름의 헤이즈를 측정한다. Using a haze meter (model NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku), the haze of the film is measured with a D65 light source in Method3.

<Y.I 측정방법><Measurement method of Y.I>

UV-Vis spectrometer(Varian사 제품, CARY-100모델)를 이용하여 ASTM E313측정법을 이용하여, 필름의 Yellow Index를 측정하였다.The yellow index of the film was measured using a UV-Vis spectrometer (CARY-100 model manufactured by Varian) using ASTM E313 measurement method.

<열중량분석기 분석방법><Analysis method of thermogravimetric analyzer>

N2 조건 하에서 상온부터 300℃까지 10℃/min 승온시키고, 280℃에서 1시간 동안 발생하는 weight loss(%)를 관찰하였다.Under N2 condition, the temperature was raised from room temperature to 300 ° C at a rate of 10 ° C / min, and a weight loss (%) occurring at 280 ° C for 1 hour was observed.

<Flexibility 확인방법><How to check Flexibility>

필름을 둥글게 구부려 보아 필름이 깨지거나 부러지면, Flexibility가 없는 것으로 이는 x로 표기하고, 둥글게 구부리는 작업을 10회 반복해도 필름의 상태가 그대로 유지 된다면 Flexibility가 있는 것으로 이는 o로 표기한다. If the film is broken or broken by bending the film, Flexibility is not indicated and it is expressed as x. If the state of the film is maintained even after ten rounds of bending work, Flexibility is indicated by o.

Haze(%)Haze (%) YIYI 열중량분석(%)Thermogravimetric analysis (%) FlexibilityFlexibility 비교예1Comparative Example 1 1111 6.56.5 1111 oo 실시예1Example 1 88 6.36.3 22 oo 실시예2Example 2 1010 6.36.3 55 oo 참조예1Reference Example 1 2222 6.46.4 44 xx 참조예2Reference Example 2 1818 6.36.3 88 xx

비교예1과 같이 다관능 모노머들의 경화물로 되는 경우는 열중량 분석결과 중량 손실이 10% 이상이지만, 실시예 1 내지 2 및 참조예 1 내지 2 모두 10% 이하로 감소하는 것을 알 수 있다. 이와 같은 결과로 보아 다관능 모노머 보다는 공중합체 화합물이 열중량 분석 평가 진행시, wt% loss 가 적다는 것을 알 수 있다. In the case of the cured product of the multifunctional monomers as in Comparative Example 1, the weight loss was 10% or more as a result of thermogravimetric analysis, but it was found that the contents of Examples 1 and 2 and Reference Examples 1 and 2 were reduced to 10% or less. From these results, it can be seen that when the thermogravimetric analysis is performed on the copolymer compound rather than the multifunctional monomer, the wt% loss is small.

한편, 실시예 1 내지 2와 참조예 1 내지 2를 비교해 보면 화학식 1의 카도계 바인더 수지 화합물이 아크릴계 바인더 수지 화합물 보다 Flexibility 물성을 향상시킨다는 것을 알 수 있다. On the other hand, when Examples 1 and 2 and Reference Examples 1 and 2 are compared, it can be seen that the cationic binder resin compound of Chemical Formula 1 improves the flexibility properties of the acrylic binder resin compound.

Claims (6)

유리섬유층과 상기 유리섬유층의 양면에 형성된 수지층을 포함하고,
상기 수지층은 다음 화학식 1로 표시되는 카도계 공중합체 수지, 다관능성 모노머 및 광개시제를 포함하는 감광성 조성물의 경화물을 포함하는 것인 플렉서블 디스플레이 기판.
<화학식 1>
Figure 112014114009385-pat00008

(상기 식에서, R1 및 R3는 수소원자 또는 메틸기이고, Y는 제1 산무수물의 잔기이고, Z는 제2 산무수물의 잔기이며, m:n의 몰비는 100:0 내지 0:100이다.)
A glass fiber layer and a resin layer formed on both sides of the glass fiber layer,
Wherein the resin layer comprises a cured product of a photosensitive composition comprising a cadmium-based copolymer resin represented by the following formula (1), a polyfunctional monomer and a photoinitiator.
&Lt; Formula 1 >
Figure 112014114009385-pat00008

Wherein R 1 and R 3 are each a hydrogen atom or a methyl group, Y is a residue of a first acid anhydride, Z is a residue of a second acid anhydride, and the molar ratio of m: n is 100: 0 to 0: 100.
제1항에 있어서, 상기 유리섬유층은 지름 4~20um의 유리섬유가 일방향으로 배향 정렬되고, 20~300um의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이 기판.The flexible display substrate according to claim 1, wherein the glass fiber layer has a glass fiber having a diameter of 4 to 20 um aligned in one direction and a thickness of 20 to 300 탆. 제1항에 있어서, 상기 수지층에서 감광성 조성물은 카도계 공중합체 수지 100중량부에 대하여 다관능성 모노머 0.1 내지 99중량부 및 광개시제 0.01 내지 20중량부를 포함하는 것인 플렉서블 디스플레이 기판.The flexible display substrate of claim 1, wherein the photosensitive composition in the resin layer comprises from 0.1 to 99 parts by weight of a multifunctional monomer and from 0.01 to 20 parts by weight of a photoinitiator relative to 100 parts by weight of a cadmium-based copolymer resin. 제3항에 있어서, 상기 수지층에서 다관능성 모노머는 프로필렌글리콜 메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 아크릴레이트 테트라에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 비스페녹시 에틸알콜 디아크릴레이트, 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리메타크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사메타크릴레이트, 비스페놀-A 디아크릴레이트 (bisphenol-A-diacrylate), 비스페놀-S 디아크릴레이트 (bisphenol-S diacrylate), 디시클로펜타디에닐 디아크릴레이트(dicyclopentadienyl diacrylate), 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 (pentaerythritol triacrylate), 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리아크릴레이트 (tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate triacrylate), 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트 (pentaerythritol tetraacrylate), 비스페놀-A 디메타크릴레이트 (bisphenol-A dimethacrylate), 비스페놀-S-디메타크릴레이트 (bisphenol-S dimethacrylate), 디시클로펜타디에닐 디메타크릴레이트 (dicyclopentadienyl dimethacrylate), 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트(pentaerythritol trimethacrylate), 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리메타크릴레이트 (tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate trimethacrylate), 및 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트 (pentaerythritol tetramethacrylate)로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이 기판.4. The thermoplastic resin composition according to claim 3, wherein the polyfunctional monomer in the resin layer is selected from the group consisting of propylene glycol methacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol acrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6- Diacrylate, 1,6-hexanediol acrylate, tetraethylene glycol methacrylate, bisphenoxy ethyl alcohol diacrylate, trishydroxyethylisocyanurate trimethacrylate, trimethylpropane trimethacrylate, penta Bisphenol-A-diacrylate, bisphenol-S diacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, S diacrylate, dicyclopentadienyl diacrylate, pentaerythritol triacrylate, but are not limited to, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, bisphenol-A dimethacrylate, A dimethacrylate, bisphenol-S dimethacrylate, dicyclopentadienyl dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, tris (2-heptene) dimethacrylate, Wherein the flexible display substrate is at least one selected from the group consisting of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, and the like. 제3항에 있어서, 상기 수지층에서 다관능성 모노머는 다음 화학식 6으로 표시되는 화합물 중 선택된 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이 기판.
<화학식 6>
Figure 112011099312639-pat00009

여기에서, R1 내지 R6는 각각 같거나 다르게 수소 또는 산소, 질소, 황 또는 규소를 포함하는 연결기로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1 내지 10의 탄화수소기이거나, 극성기, 단일결합 또는 2가의 연결기를 가지는 방향족기, 실란기, 할로겐 원자 중에서 선택되고; n은 1 내지 20의 정수이다.
The flexible display substrate according to claim 3, wherein the multifunctional monomer in the resin layer is selected from compounds represented by the following formula (6).
(6)
Figure 112011099312639-pat00009

Herein, R 1 to R 6 are the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with a linking group containing oxygen, nitrogen, sulfur or silicon, or a polar group, a single bond or a divalent linking group The branch is selected from an aromatic group, a silane group, and a halogen atom; n is an integer of 1 to 20;
제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에서 Y는 말레인산 무수물(Maleic anhydride), 숙신산 무수물(Succinic anhydride), 시스-1,2,3,6-테트라하이드로프탈산 무수물(cis-1,2,3,6-Tetrahydrophthalic Anhydride), 3,4,5,6-테트라하이드로프탈산 무수물(3,4,5,6-Tetrahydrophthalic Anhydride), 프탈산 무수물(Phthalic Anhydride), 이타콘산 무수물(Itaconic anhydride), 1,2,4-벤젠트리카복실산 무수물(1,2,4-Benzenetricarboxylic Anhydride), 메틸-테트라하이드로프탈산 무수물(Methyl-Tetrahydrophthalic Anhydride), 시트라콘산 무수물(Citraconic Anhydride), 2,3-디메틸말레인산 무수물(2,3-Dimethylmaleic Anhydride), 1-사이클로펜텐-1,2,-디카복실산 무수물(1-Cyclopentene-1,2-Dicarboxylic anhydride), 시스(5-노보넨-엔도-2,3-디카복실산 무수물(cis-5-Norbonene-endo-2,3-Dicarboxylic Anhydride) 및 1,8-나프탄산 무수물(1,8-NaphthalicAnhydride) 중에서 선택된 제1 산무수물의 잔기이고;
Z는 1,2,4,5-벤젠테트라카복실산 이무수물(1,2,4,5-Bezenetetracarboxylic Dianhydride), 4,4'-바이프탈산 이무수물(4,4'-Biphthalic Dianhydride), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 이무수물(3,3',4,4'-Benzophenonetetracarboxylic Dianhydride), 피로멜리트산 이무수물(Pyromelitic Dianhydride), 1,4,5,8-나프탈렌테트라카복실산 이무수물(1,4,5,8-Naphthalenetetracarboxylic Dianhydride), 1,2,4,5-테트라카복실산 무수물(1,2,4,5-Tetracarboxylic Anhydide), 메틸노보넨-2,3-디카복실산 무수물(Methylnorbonene-2,3-Dicarboxylic Anhydride), 4,4'-[2,2,2-트리플로로-1-(트리플로로메틸)에틸리덴]디프탈산 무수물(4,4'-[2,2,2-Trifluoro-1-(Trifluoromethyl)Ethylidene]Diphthalic Anhydride), 4,4'-옥시디프탈산 무수물(4,4`-Oxydiphthalic Anhydride) 및 에틸렌글리콜 비스(안하이드로 트리멜리테이트)(Ethylene Glycol Bis (AnhydroTrimelitate)) 중에서 선택된 어느 하나인 제2 산무수물의 잔기인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이 기판.
The compound of claim 1, wherein Y is selected from the group consisting of maleic anhydride, succinic anhydride, cis-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride (cis-1,2 3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, 1, 1,2,4-benzenetricarboxylic anhydride, methyl-tetrahydrophthalic anhydride, citraconic anhydride, 2,3-dimethyl maleic anhydride, 2,3-dimethylmaleic anhydride, 1-cyclopentene-1,2-dicarboxylic anhydride, cis (5-norbornene-endo-2,3-dicarboxylic anhydride a first acid selected from cis-5-Norbonene-2,3-dicarboxylic anhydride and 1,8-naphthalic anhydride. A residue of an anhydride;
Z is selected from the group consisting of 1,2,4,5-benzene tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-biphthalic dianhydride, ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, pyromelitic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, Water (1,4,5,8-Naphthalenetetracarboxylic Dianhydride), 1,2,4,5-tetracarboxylic anhydride (1,2,4,5-Tetracarboxylic Anhydride), methylnorbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride Methylnorbonene-2,3-dicarboxylic anhydride, 4,4 '- [2,2,2-trifluoro-1- (trifluoromethyl) ethylidene] diphthalic anhydride (4,4' - [2,2 , 2-Trifluoro-1- (Trifluoromethyl) Ethylidene] Diphthalic Anhydride, 4,4'-Oxydiphthalic Anhydride and Ethylene Glycol Bis (Anhydro Trimellitate) AnhydroTrimelitate)) &lt; / RTI &gt; Flexible display substrate, characterized in that.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008231327A (en) 2007-03-22 2008-10-02 Ihara Chem Ind Co Ltd Polyimide having high transparency and its manufacturing method
JP2008287233A (en) 2007-05-18 2008-11-27 Samsung Electronics Co Ltd Flexible substrate for display device and display device using the same
KR20100118220A (en) * 2009-04-28 2010-11-05 삼성코닝정밀소재 주식회사 Flexible substrate for display panel and manufacturing method of the same
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