KR101469402B1 - 회전 드릴용 비트의 제조 방법 - Google Patents

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KR101469402B1
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마웨자 카손데
존 제임스 배리
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엘리먼트 씩스 리미티드
엘리먼트 씩스 어브레시브스 에스.아.
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    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23B—TURNING; BORING
    • B23B51/00—Tools for drilling machines
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21H—MAKING PARTICULAR METAL OBJECTS BY ROLLING, e.g. SCREWS, WHEELS, RINGS, BARRELS, BALLS
    • B21H3/00—Making helical bodies or bodies having parts of helical shape
    • B21H3/10—Making helical bodies or bodies having parts of helical shape twist-drills; screw-taps
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • B23P15/00—Making specific metal objects by operations not covered by a single other subclass or a group in this subclass
    • B23P15/28—Making specific metal objects by operations not covered by a single other subclass or a group in this subclass cutting tools
    • B23P15/32—Making specific metal objects by operations not covered by a single other subclass or a group in this subclass cutting tools twist-drills

Abstract

본 발명은 드릴 팁(30)을 포함하는 회전 드릴용 비트의 제조 방법에 관한 것으로서, 상기 방법은 기재 본체(14) 및 그 기재 본체의 상면에 접합된 초경질 구조물(12)을 포함하는 전구체 구조물(10)을 제공하는 단계; 초경질 구조물의 일부를 각각 포함하는 복수의 등각 인서트(20)를 전구체 구조물(10)로부터 절삭하는 단계; 인서트(20)를 수용하도록 구성된 드릴 팁(30)을 제공하는 단계; 및 인서트를 드릴 팁(30)에 접합하는 단계를 포함한다.

Description

회전 드릴용 비트의 제조 방법{METHOD OF MAKING A BIT FOR A ROTARY DRILL}
본 개시물은 개략적으로 회전 드릴용 비트의 제조 방법에 관한 것으로서, 특히, 전용은 아니지만, 초경질 드릴 팁(super-hard drill tip)을 포함하는 트위스트 드릴용 비트의 제조 방법에 관한 것이다.
트위스트 드릴은 일반적으로 하나 이상의 절삭면 또는 절삭 립과, 또한 드릴링된 홀로부터 칩을 반송하기 위한 하나 이상의 나선형 또는 직선형 플루트(flute)를 갖는 회전식 단부 절삭 공구로서 기술될 수 있다. 트위스트 드릴은 금속, 플라스틱, 목재 및 석재에 홀을 드릴링하는데 사용될 수 있으며, 저탄소강, 고탄소강, 고속도강 및 코발트강과 같은 다양한 재료로 제조된다. 우수한 내마모성이 필요한 경우에는, 날붙이 공구(tipped tools)가 사용될 수 있으며, 이 경우에 상기 드릴은 드릴 본체에 고정되는 텅스텐 카바이드 또는 초경질 포인트(tungsten carbide or super-hard point)들을 포함할 수 있다.
영국 특허출원 공보 GB 2462025호에는 트위스트 드릴, 드릴, 및 엔드 밀과 같은 종래의 공구 기재에 부착될 수 있는 나선형의 고체 PCD 및 PCBN을 제조하는 방법이 개시되어 있다. 상기 방법은 전기 전도성 다결정 초경질 블랭크를 제공함으로써 윤곽을 갖춘 고체 다결정 초연삭 재료를 제조하는 단계를 포함할 수 있다. 다결정 초연삭 블랭크는 소정의 형상을 갖는 윤곽을 갖춘 고체 다결정 초연삭 재료를 형성하도록 와이어 방전 가공(wire electro-discharge machined)될 수 있다. PCD 블랭크의 만곡 슬라이싱(curved slicing)에 의해 고체 블랭크로부터 드릴 팁 세그먼트들이 절삭될 수 있다.
회전식 기계 공구용 초경질 팁을 효과적으로 제조하는 방법에 대한 필요성이 있다.
일 양태로서, 드릴 팁을 포함하는 회전 드릴용 비트의 제조 방법이 제공되며, 상기 방법은 기재 본체(substrate body) 및 상기 기재 본체의 상면에 접합된 초경질 구조물(super-hard structure)을 포함하는 전구체 구조물(precursor structure)을 제공하는 단계; 상기 초경질 구조물의 일부를 각각 포함하는 복수의 실질적으로 등각의 인서트(conformal inserts)를 상기 전구체 구조물로부터 절삭하는 단계; 상기 인서트를 수용하도록 구성된 드릴 팁을 제공하는 단계; 및 상기 인서트를 상기 드릴 팁에 접합하는 단계를 포함한다. 상기 전구체 구조물은 하나 이상의 실질적으로 등각의 드릴 팁용 인서트로 절삭될 수 있도록 구성되게 된다. 본원에 사용된 실질적으로 등각의 인서트들은 실질적으로 형상이 동일하되 반드시 동일한 사이즈일 필요는 없는 각각의 초경질 구조물을 포함한다(다른 태양의 방법에서는, 상기 인서트들이 실질적으로 동일한 사이즈를 가질 수 있음).
비제한적이며 비포괄적인 예들을 후술하고 있는 본 개시물에 의해 다양한 배치구조 및 조합이 예상된다.
초경질 구조물은 층의 형태로 될 수 있다.
복수의 인서트는 기재 본체의 상면과 대체로 상면에 대향하는 기재 본체의 저면 사이에서 연장되는 실질적으로 등각의(예컨대, 평행한) 측면들을 갖도록 구성될 수 있다. 기재 본체의 측면들은 만곡될 수 있으며, 예컨대 나선형으로 또는 부분적으로 나선형으로 만곡될 수 있다. 측면들은 각각의 저면에 대하여 실질적으로 수직할 수 있다. 상면(초경질 구조물이 부착되는 면)은, 예컨대 드릴의 원하는 포인트 형상에 적합하게 각지도록 구성된 적어도 2개의 비평행 구역을 포함할 수 있다. 상면은 복수의 실질적으로 평면 구역 및/또는 하나 이상의 만곡면 구역을 포함할 수 있다.
상기 방법은 상기 인서트들을 연삭 등에 의해 가공하는 단계를 포함할 수 있으며, 상기 가공 단계는 상기 인서트들의 형상 또는 사이즈를 실질적으로 바꾸지는 않는다. 상기 방법의 다른 태양에 있어서, 상기 가공 단계는 상기 인서트들의 크기 및/또는 표면 마감처리를 약 500미크론 이하, 약 100미크론 이하, 또는 약 20미크론 이하로 조정할 수 있다. 다른 배치구조에 있어서, 각각의 인서트는 인서트 본체에 접합된 각각의 초경질 구조물을 포함할 수 있으며, 다른 예에 있어서는 인서트 본체들이 실질적으로 동일한 사이즈 및 형상을 가질 수도 있다. 상기 방법의 다른 태양은 인서트가 드릴 팁에 접합되기 전에 인서트를 가공 또는 처리하는 단계를 포함할 수 있으며, 다른 태양은 인서트를 드릴 팁에 접합하고 나서 인서트의 노출된 부위를 가공하는 단계를 포함할 수 있다. 인서트를 드릴 팁에 접합한 후에 가공하는 단계는 최종 크기의 보다 양호한 정확도가 달성될 수 있는 양태를 갖기 쉬우며, 다른 예에 있어서는, 상기 인서트가 약 5미크론의 공차 내에서 가공될 수 있다.
다른 예시적인 배치구조에 있어서, 상기 인서트들은 서로 협력하여 포개져 수납되거나(nested) 또는 포개져 수납될 수 있다(nestable).
다른 예시적인 배치구조에 있어서, 상기 인서트들은 실질적으로 동일한 사이즈로 될 수 있으며, 초경질 구조물의 형상 또는 크기의 임의의 차이는 최종 인서트를 형성하도록 가공 또는 처리될 수 있을 만큼 충분히 작고, 상기 가공 또는 처리는 초경질 구조물의 형상 및/또는 크기를 약 500미크론 이하, 약 100미크론 이하 또는 약 20미크론 이하로 조정한다.
상기 방법의 다른 태양에 있어서, 상기 전구체 구조물은 일반적으로 각뿔대로 될 수 있으며, 실질적으로 직사각형 측부들에 의해 연결된 실질적으로 평행한 한 쌍의 대향 단부를 가질 수 있다. 상기 전구체 구조물은 전구체 본체의 대향 단부들 사이에서 연장되는 중앙 정상부(central apex)를 규정하는 상면을 가질 수 있다. 상기 드릴 팁에는 포인트각(point angle)이 제공될 수 있으며, 전구체 본체의 정상부는 상기 포인트각과 실질적으로 동일한 끼인각(included angle)을 형성할 수 있다.
상기 방법의 다른 태양에 있어서, 상기 끼인각은 적어도 약 110도 이상 125도 이하일 수 있으며, 다른 태양에서는, 상기 끼인각이 약 118도일 수 있다.
상기 방법의 다른 태양에 있어서, 측면에서 본 인서트는 단부에서 보았을 때의 전구체 구조물과 실질적으로 동일한 형상을 가질 수 있다.
상기 방법의 다른 태양에 있어서, 상기 전구체 구조물의 기재 본체는 코발트-시멘티드(침탄된) 텅스텐 카바이드(WC)를 포함할 수 있다.
상기 방법의 다른 태양에 있어서, 초경질 층은 다결정 다이아몬드(PCD) 재료 또는 다결정 입방정 질화 붕소(PCBN) 재료일 수 있다.
상기 방법은 상기 초경질 층과 상기 기재 본체 사이에 배치된 적어도 3개의 중간층을 통해 시멘티드 카바이드 기재를 접합하는 단계를 포함할 수 있으며, 상기 중간층들은 초경질 입자, 금속 탄화물 입자 및 금속 바인더의 상이한 조성물을 포함한다.
상기 방법의 다른 태양에 있어서, 각각의 중간층은 두께가 적어도 약 0.1㎜ 또는 적어도 약 0.2㎜일 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 각각의 중간층은 두께가 약 0.2㎜ 이하 또는 약 0.3㎜ 이하일 수 있다.
상기 방법의 다른 태양에 있어서, 상기 전구체 구조물은 코발트(Co)를 포함하는 바인더 내에 분산된 WC 입자 및 다이아몬드 입자를 포함하는 적어도 하나의 중간층을 통해 코발트-시멘티드 텅스텐 카바이드 기재에 일체로 접합된 PCD 층을 포함할 수 있다.
상기 방법의 다른 태양에 있어서, 초경질 구조물의 두께는 실질적으로 균일할 수 있으며, 다른 태양에 있어서는, 상기 초경질 구조물의 두께가 불균일할 수도 있다.
상기 방법의 다른 태양에 있어서, 상기 초경질 구조물의 적어도 일부는 두께가 적어도 약 0.4㎜ 또는 적어도 약 0.6㎜일 수 있다. 다른 태양에 있어서, 상기 초경질 구조물의 적어도 일부는 두께가 약 3㎜ 이하 또는 약 6㎜ 이하이다.
상기 전구체 구조물로부터 인서트를 절삭하는 단계는 비평면 또는 만곡된 측부를 갖는 인서트를 절삭하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 방법에 있어서, 상기 인서트를 수용하도록 구성된 드릴 팁을 제공하는 단계는 상기 인서트의 외형과 상보적인 슬롯을 상기 드릴 팁에 형성하는 단계를 포함할 수도 있다.
상기 드릴은 세라믹 재료, 폴리머, 섬유강화 폴리머, 목재 함유 재료, 복합 재료, 금속 또는 금속 합금을 포함하는 재료, 또는 초합금과 같은 재료에 드릴링하기 위한 산업용 기계 공구일 수 있다. 상기 드릴은 트위스트 드릴일 수 있다.
이제, 첨부도면을 참조로 비제한적인 실시예들을 기술한다.
도 1은 예시적인 전구체의 개략적인 사시도를 도시한다.
도 2는 도 1에 도시된 전구체 구조물로부터 절삭된 예시적인 초경질 인서트의 개략적인 측면도를 도시한다.
도 3은 도 2의 인서트의 단부면도를 도시한다.
도 4는 도 2의 인서트의 사시도를 도시한다.
도 5는 도 2의 인서트의 평면도를 도시한다.
도 6은 인서트를 수용하도록 준비되어 있는 드릴 비트를 제조하는데 사용하기 위한 예시적인 드릴 팁의 개략적인 측면도를 도시한다.
도 7은 드릴 팁에 마련된 슬롯 내에 예시적인 인서트가 위치되어 있는, 도 6의 드릴 팁의 측면도를 도시한다.
도 1을 참조하면, 전구체 구조물(10)의 일례는 시멘티드 카바이드(초경합금) 기재(14)에 일체로 결합된 다결정 초경질 재료(PCB 또는 PCBN)로 이루어진 층(12)을 포함하는 한편, 실질적으로 직사각형 측부(14.2)들에 의해 연결된 실질적으로 평행한 한쌍의 대향 단부(14.1)를 갖는 일반적으로 각뿔대 형상을 갖는다. 상기 층(12)은 상기 단부들 사이에서 연장되며 끼인각(α)을 규정하는 세장형의 중앙 둥근 정상부(15)를 갖는 돌출면을 갖는다.
일례로서, PCD 전구체 구조물(10)은:
i. Co와 같은 다이아몬드용 촉매 재료인 바인더 재료를 포함하며 일반적으로 각뿔대 형상을 갖는 시멘티드 카바이드 기재 및 일반적으로 돌출 형상을 갖는 표면을 제공하는 단계;
ii. 상기 기재의 돌출면상에의 층 형성시에 다이아몬드 입자들로 이루어진 응집체를 배치하여 예비소결 조립체를 형성하는 단계;
iii. 상기 예비소결 조립체를 내화 금속 또는 세라믹 재료로 이루어진 재킷 내에 캡슐화하고, 캡슐화된 예비소결 조립체를 결집해서 초고압로(초고압 프레스라고도 함)용 캡슐로 만들어, 적어도 약 5.5㎬의 압력 및 적어도 약 1,300℃의 온도를 겪게 해서, 상기 기재에 일체로 결합된 PCD 층을 생성하는 단계
를 포함하는 방법을 이용하여 제조될 수 있다.
층을 이룬 PCD 구조를 만드는 방법의 일례는, 수성 유기 바인더와 같은 바인더에 의해 함께 결합된 복수의 다이아몬드 입자를 각각 포함하는 테이프 캐스트 시트들을 제공하는 단계, 및 상기 시트들을 서로의 상부에 및 지지체의 상부에 적층하는 단계를 포함한다. 상이한 입도 분포를 갖는 다이아몬드 입자들, 다이아몬드 함량 및 첨가제를 포함하는 상이한 시트들이 원하는 구조물을 달성하도록 선택적으로 적층될 수 있다. 상기 시트들은 압출 또는 테이프 캐스팅법과 같은 본 기술분야에 공지된 방법에 의해 제조될 수 있으며, 여기서 다이아몬드 입자들 및 바인더 재료를 포함하는 슬러리가 표면상에 놓여서 건조된다. 다이아몬드-보유 시트들을 제조하는 다른 방법들이 사용될 수도 있으며, 미국 특허 제 5,766,394 호 및 제 6,446,740 호에 개시된 바와 같은 방법이 사용될 수 있다. 다이아몬드-보유 층들을 퇴적하는 선택적인 방법들은 용사(thermal spraying)와 같은 분사 방법을 포함한다.
몇몇 예에 있어서, 기재 본체는 약 10중량%의 Co를 포함하는 코발트 시멘티드 시멘티드 텅스텐 카바이드, 및 약 4미크론 내지 약 6미크론 범위의 평균 입도를 갖는 WC 입자로 형성될 수 있다.
예컨대, 상술한 바와 같이 전구체 구조물이 형성되면, 전구체 본체로부터 적절한 인서트가 절삭될 수 있다. 일례로서, 이는 전구체 본체로부터 원하는 프로파일을 갖는 인서트의 자유로운 절삭을 가능하게 하는 와이어 EDM(electro-discharge machining) 장치를 이용하여 수행될 수 있다.
전적으로 PCD로 구성된 2개 이상의 상면, PCD 부위 및 카바이드 부위로 구성된 2개의 측면, 및 전적으로 카바이드로 구성된 기저면을 가진 소결된 전구체 구조물 또는 블랭크(blank)로부터 세그먼트를 얻을 수 있다. 상기 블랭크는 다수의 세그먼트를 얻는 것을 가능하게 하는 바와 같은 크기로 소결될 수 있기 때문에, 드릴 제조 프로세스의 경제성이 향상된다.
인서트(20)는 다수의 상이한 형태를 취할 수 있으며, 실질적으로 편평한 본체로 될 수 있지만, 비평면 인서트를 형성하는 만곡된 측부를 가질 수도 있다. 이는 인서트가 접합되고 나서 드릴 팁(30)이 기계가공될 때 상기 인서트의 기계가공 가능성을 감소시킬 수 있다.
상기와 같은 만곡된 인서트(20)의 일례는 도 2 내지 도 5에 도시되며, 그 인서트를 수용하는 상보형 슬롯(32)을 갖는 드립 팁(30)은 도 6에 도시된다. 슬롯과 인서트의 상보성으로 인해, 상기 슬롯과 인서트의 형상학적 기재는 동일하며, 슬롯에 적용되는 것(후술됨)이 인서트에도 유사하게 적용된다.
드릴 팁은 일단에 슬롯(32)을 형성하도록 기계가공될 수 있으며, 상기 슬롯(32)은 샤프트의 축선에 수직한 방향에서 보았을 때, 단면이 직사각형인 저면을 갖는다. 상기 슬롯은, 샤프트 길이의 약 25%와 같은 거리를 따라 뻗었다고 가정해도 교차하지는 않는, 2개의 대향하는, 평행한 또는 평행에 가까운 나선형 표면을 포함할 수 있다. 상기 슬롯은, 나선형 표면들에 수직한 벡터를 따라 측정한 나선형 표면들 사이의 거리가 상기 슬롯의 2개의 나선형 표면에 걸쳐 일정하거나, 또는 상기 슬롯의 상부로부터 슬롯의 하부까지 나선형 표면들 사이의 최대 거리의 50% 이하의 양만큼 감소하는 바와 같은 형상으로 될 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 세그먼트의 외부 표면들은 샤프트에 형성된 슬롯의 표면들과 동일한 형상을 갖는다. 따라서, 상기 세그먼트는 도 7에 도시된 조립체를 형성하도록 평행 이동 및 회전의 조합에 의해 슬롯 내에 위치될 수 있다. 양 구성요소의 최종 조립 도중에, 합치하는 표면들의 일부 또는 전부의 사이에는 브레이즈 페이스트 또는 포일(braze paste or foil)이 삽입되게 된다.
슬롯 및 인서트의 특정 형상으로 인해, 드릴의 적용시에 PCD 상면들이 힘을 받을 때 슬롯 내에 세그먼트를 고정하는 신뢰성이 향상될 수 있다. 또한, 세그먼트와 슬롯의 표면들을 규정하는 나선부는 트위스트 드릴의 최종 나선각과 유사할 수 있으며, 이는 플루트들의 최종 기계가공 중에 제거될 PCD 재료의 양을 감소시킬 수 있어, 잠재적으로 PCD 드릴 제조 비용이 감소된다.
본원에 사용된 임의의 용어 및 개념을 아래에서 간략히 설명한다.
다결정 다이아몬드(PCD) 및 다결정 입방정 질화 붕소(PCBN)는 다결정 초경질 재료의 예이다. PCD 및 PCBN 재료는 수 ㎬에 이르는 초고압에서 각각 다이아몬드 및 입방정 질화 붕소(cBN)의 입자들을 소결함으로써 제조될 수 있다. 본원에 사용된, "초경질 재료(super-hard material)"는 적어도 약 28㎬의 비커스(Vickers) 경도를 갖는 재료이다. 다이아몬드, 입방정 질화 붕소(cBN), 다결정 다이아몬드(PCD) 및 다결정 입방정 질화 붕소(PCBN) 재료는 초경질 재료의 예이다. 본원에 사용된 "초경질 구조물(super-hard structure)"은 초경질 재료를 포함하는 구조물을 의미한다.
본원에 사용된 "다결정 다이아몬드(polycrystalline diamond)"(PCD)는 복수의 다이아몬드 입자를 포함하는 재료이며, 그 상당 부분은 서로 직접 상호 결합되고, 다이아몬드의 함량은 재료의 적어도 약 80체적%이다. PCD 재료의 일 실시예에 있어서, 다이아몬드 입자들 사이의 간극은 다이아몬드용 촉매를 포함하는 바인더 재료로 적어도 부분적으로 채워질 수 있다. 본원에 사용된 "간극(interstices)" 또는 "사이 구역(interstitial regions)"은 PCD 재료의 다이아몬드 입자들간의 구역이다. PCD 재료의 실시예들에 있어서, 간극 또는 사이 구역은 대체로 또는 부분적으로 다이아몬드 이외의 재료로 채워질 수 있거나, 또는 실질적으로 비워질 수 있다. PCD 재료의 실시예들은 적어도 촉매 재료가 상기 간극으로부터 제거되어 다이아몬드 입자들간에 사이 공극이 남게 되는 구역을 포함할 수 있다.
본원에 사용된 "다결정 입방정 질화 붕소(polycrystalline cubic boron nitride)"(PCBN) 재료는 바인더 재료 내부에 분산된 cBN 입자들로 이루어진 덩어리를 포함하고, 여기서 cBN의 함량은 PCBN 재료의 적어도 약 50체적%이다.
본원에 사용된 "플루트(flute)"는, 사용시에 공구의 회전에 따라 절삭 에지로부터 칩을 반송할 수 있는, 트위스트 드릴과 같은 회전식 기계 공구의 오목부이다. 트위스트 드릴은, 각 절삭 에지당 1개씩, 2개 이상의 플루트를 포함할 수 있다. 때때로 슬롯 드릴로서 인용되기도 하는, 탭(taps), 볼-노즈 엔드 밀(ball-nose end mills) 및 스트레이트 엔드 밀(straight end mills)과 같은 다른 회전식 기계 공구는 6개 이상의 절삭 에지 및 플루트를 가질 수 있다. 본 기술분야에서는 "스파이럴 플루트(spiral flute)"로도 공지되어 있는, 본원에 사용된 "나선형 플루트(helical flute)"는 일반적으로 및 적어도 부분적으로 회전식 기계 공구의 회전 축선에 대하여 나선형으로 배치된 플루트를 포함한다. 본원에 사용된 양방향 나선형 플루트 구성은 상이한 또는 대향하는 나선 방향을 갖는 플루트를 포함한다.
본원에 사용된 "트위스트 드릴(twist drill)"은, 하나 이상의 절삭 립을 갖는 한편, 칩의 통과 및 절삭 유체의 도입을 위한 하나 이상의 나선형 또는 직선형 플루트를 갖는 날붙이 드릴(tipped drill)이다. 본원에 사용된 트위스트 드릴의 "포인트각(point angle)"은 드릴 축선에 평행하며 2개의 절삭 립에 평행한 평면상에 돌출된 절삭 립들 사이에 끼인 각도이다.

Claims (24)

  1. 일단에 포인트각(point angle)을 갖는 드릴 팁을 포함하는, 회전 드릴용 비트의 제조 방법에 있어서,
    기재 본체(substrate body) 및 기재 본체의 상면에 접합된 초경질 구조물(super-hard structure)을 포함하는 전구체 구조물(precursor structure)을 제공하는 단계로서, 상기 전구체 구조물은, 전구체 구조물의 직사각형 측부들에 의해 연결된 평행한 한 쌍의 대향 단부 사이에서 연장되는 중앙 정상부(central apex)를 형성하는 상면을 가지며, 상기 정상부는 상기 포인트각과 실질적으로 동일한 끼인각(included angles)을 형성하는, 전구체 구조물 제공 단계;
    상기 초경질 구조물의 일부를 각각 포함하는 복수의 등각 인서트(conformal inserts)를 상기 전구체 구조물로부터 절삭하는 단계;
    상기 인서트를 수용하도록 구성된 드릴 팁을 제공하는 단계; 및
    상기 인서트를 상기 드릴 팁에 접합하는 단계를 포함하고,
    상기 초경질 구조물은 다결정 입방정 질화 붕소(PCBN) 재료를 포함하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 인서트는 상기 기재 본체의 상면과 상기 기재 본체의 상면에 대향하는 기재 본체의 저면 사이에서 연장되는 등각 측면들을 갖도록 구성되는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재 본체의 상면은 상기 드릴의 원하는 포인트 형상(point geometry)에 알맞게 구성된 적어도 2개의 비평행 구역을 포함하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 인서트를 상기 드릴 팁에 접합하는 단계의 전 또는 후에 상기 인서트들을 가공하는 단계를 더 포함하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 가공하는 단계는 상기 인서트들의 임의의 방향에서의 크기를 500미크론 이하로 조정하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 인서트를 상기 드릴 팁에 접합하는 단계 이후에 상기 인서트를 가공 또는 처리하는 단계를 포함하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 인서트는 5미크론의 공차 내에서 가공되는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 인서트들은 서로 협력하여 포개져 수납되거나(nested) 또는 포개져 수납될 수 있는(nestable)
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 인서트들은 동일한 사이즈인
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 전구체 구조물은 각기둥이며, 상기 전구체 구조물의 상면이 상기 전구체 본체의 상기 평행한 한 쌍의 대향 단부 사이에서 연장되는 상기 중앙 정상부를 규정하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 전구체 본체의 상면은 상기 포인트각과 동일한 끼인각(included angle)을 갖는 정점을 포함하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 끼인각은 110도 이상 125도 이하인
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 끼인각은 118도인
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  14. 제 1 항에 있어서,
    측면에서 본 상기 인서트는 상기 평행한 한 쌍의 대향 단부 중 어느 하나에서 본 상기 전구체 구조물과 동일한 형상을 갖는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 전구체 구조물의 기재 본체는 코발트-시멘티드 텅스텐 카바이드(cobalt-cemented tungsten carbide)를 포함하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  16. 삭제
  17. 제 1 항에 있어서,
    상기 초경질 층과 상기 기재 본체 사이에 배치된 적어도 3개의 중간층을 거쳐서 상기 초경질 구조물을 상기 전구체 본체에 접합하는 단계를 포함하며,
    상기 중간층은 초경질 입자, 금속 탄화물 입자 및 금속 바인더(binder)의 상이한 조성물을 포함하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    각각의 중간층은 두께가 적어도 0.1mm인
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  19. 제 1 항에 있어서,
    상기 전구체 구조물은, 코발트(Co)를 포함하는 바인더 내에 분산된 코발트-시멘티드 텅스텐 카바이드(WC) 입자 및 다이아몬드 입자를 포함하는 적어도 하나의 중간층을 통해 코발트-시멘티드 텅스텐 카바이드 기재에 접합된 다결정 다이아몬드(PCD) 층을 포함하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  20. 제 1 항에 있어서,
    상기 초경질 구조물의 두께는 균일한
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  21. 제 1 항에 있어서,
    상기 초경질 구조물은 층의 형태이며, 상기 층의 두께가 적어도 0.4㎜인
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  22. 제 1 항에 있어서,
    상기 인서트는 비평면 측부를 갖는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  23. 제 1 항에 있어서,
    상기 인서트는 나선형인 만곡된 측부를 갖는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
  24. 제 1 항 내지 제 15 항 및 제 17 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인서트를 수용하도록 구성된 드릴 팁을 제공하는 단계는 상기 인서트의 외형과 상보적인 슬롯을 상기 드릴 팁에 형성하는 단계를 포함하는
    회전 드릴용 비트 제조 방법.
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