KR101468080B1 - Electromagnetic system for cyclotron - Google Patents

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KR101468080B1
KR101468080B1 KR20130099267A KR20130099267A KR101468080B1 KR 101468080 B1 KR101468080 B1 KR 101468080B1 KR 20130099267 A KR20130099267 A KR 20130099267A KR 20130099267 A KR20130099267 A KR 20130099267A KR 101468080 B1 KR101468080 B1 KR 101468080B1
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KR
South Korea
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sector
chamber
magnetic field
present
cyclotron
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Application number
KR20130099267A
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Korean (ko)
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채종서
오세영
연영흠
신승욱
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성균관대학교산학협력단
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H13/00—Magnetic resonance accelerators; Cyclotrons
    • H05H13/005—Cyclotrons
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Abstract

An electromagnetic system for a cyclotron includes: an upper plate having a first sector which forms electromagnetic plate magnetic field distribution which a beam moves, and a first coil which forms a magnetic field after receiving power from outside; a lower plate having a second sector which forms electromagnetic plate magnetic field distribution which a beam moves, and a second coil which forms a magnetic field after receiving power from outside; and a chamber which is arranged between the second sector and the second, coil and is installed to be separated and to be attached to and detached from the second sector at a specific distance.

Description

사이클로트론용 전자석 시스템{Electromagnetic system for cyclotron}[0001] Electromagnetic system for cyclotron [0002]

본 발명은 사이클로트론에서 이용되는 전자석 시스템에 관한 것이다.
The present invention relates to an electromagnet system used in a cyclotron.

사이클로트론은 입자 가속기 중 하나이며, 고주파 전기장과 고정 자기장을 이용해 원형으로 입자를 가속시키는 원리로 1929 년에 로렌스가 발명하였다. Cyclotron is one of the particle accelerators and was invented by Lawrence in 1929 as a principle of accelerating particles in a circle by using a high frequency electric field and a fixed magnetic field.

사이클로트론은 전자석 시스템, RF 시스템, 진공 시스템, 냉각 시스템, 빔 입사-인출 시스템 등 다양한 기술이 복합적으로 구성된 기계이다. 이 중에 전자석 시스템은 빔이 안정하게 가속할 수 있도록 도와주는 역할을 한다. Cyclotron is a machine composed of various technologies such as electromagnetism system, RF system, vacuum system, cooling system, beam incident-extraction system. Among them, the electromagnet system helps to stabilize the beam.

이 중 전자석 시스템은 사이클로트론의 전체 모양을 결정지을 만큼 가장 큰 부피와 중량을 차지한다. 전자석 시스템은 빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 섹터, 외부로부터 전원을 공급받아 자기장을 형성하는 코일, 섹터와 코일 사이에 배치되어, 내부를 진공으로 형성하는 챔버로 구성된다. Of these, the electromagnet system occupies the largest volume and weight to determine the overall shape of the cyclotron. The electromagnet system is composed of a sector forming a central magnetic field distribution of an electromagnet in which the beam moves, a coil forming a magnetic field by receiving power from the outside, and a chamber disposed between the sector and the coil to form the inside of the chamber in vacuum.

종래의 챔버는 섹터의 반경과 거의 동일하게 제작되어 일단 전자석 시스템에 설치된 이후에는 탈착하는 것이 불가능하여, 전자석 시스템 내부의 수리나 관리가 불편한 단점이 있었다.
Conventional chambers are manufactured to be almost equal to the radius of the sector, and once installed in the electromagnet system, it is impossible to attach and detach the electromagnet system.

한국공개공보 10-2011-0098264 (2011년09월01일 공개)Korean Patent Publication No. 10-2011-0098264 (published on September 01, 2011)

본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위하여 사이클로트론용 전자석 시스템에 설치된 챔버를 탈착가능하게 형성하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a chamber detachably installed in an electromagnet system for a cyclotron in order to solve the above problems.

본 발명의 또 다른 목적은 탈착가능하게 형성된 챔버가 정위치에 제대로 설치될 수 있도록 하는 것이다.
It is a further object of the present invention to allow the removably formed chamber to be properly installed in place.

상기한 문제를 해결하기 위하여 본 발명의 사이클로트론용 전자석 시스템은 빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제1섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 자기장을 형성하는 제1코일을 포함하는 상판;빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제2섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 전기장 및 자기장을 형성하는 제2코일을 포함하는 하판; 및상기 제2섹터와 상기 제2코일 사이에 배치되며, 상기 제2섹터와 소정 거리로 이격되어 탈착가능하도록 설치된 챔버;를 포함한다.In order to solve the above-mentioned problems, the electromagnet system for cyclotron of the present invention includes an upper plate including a first sector forming an electromagnet center plane magnetic field distribution in which a beam moves, and a first coil receiving a power from the outside to form a magnetic field, A second sector that forms a center planar magnetic field distribution of the electromagnet and a second coil that receives power from the outside to form an electric field and a magnetic field; And a chamber disposed between the second sector and the second coil and spaced apart from the second sector by a predetermined distance.

또한, 상기 상판 또는 상기 하판은 원통형 요크를 더 포함하고, 상기 원통형 요크는 상기 원통형 요크의 원주부에 일정구간이 절결된 적어도 한 개 이상의 절결구간을 포함한다.Further, the upper plate or the lower plate may further include a cylindrical yoke, and the cylindrical yoke includes at least one cutout section in which a certain section is cut out in a circumferential portion of the cylindrical yoke.

또한, 상기 제1섹터와 제2섹터는 상호 이격된 부채꼴 형상의 복수의 힐과 상기 복수의 힐이 부착되지 않는 적어도 한 개 이상의 밸리로 구성되며, 상기 제1섹터와 제2섹터는 상하 대칭이다. In addition, the first sector and the second sector are composed of a plurality of radially spaced heels and at least one or more valleys to which the plurality of heels are not attached, wherein the first sector and the second sector are vertically symmetric .

또한, 상기 사이클로트론용 전자석 시스템은상기 챔버 설치시, 상기 챔버와 상기 제2섹터가 상기 소정 거리를 유지하여, 상기 챔버의 쏠림을 방지하도록 하는 간격유지부를 더 포함한다.In addition, the electromagnet system for cyclotron further includes a gap maintaining unit for preventing the chamber from leaning while maintaining the predetermined distance between the chamber and the second sector when the chamber is installed.

또한, 상기 사이클로트론용 전자석 시스템은상기 챔버 설치시 상기 챔버와 상기 제2섹터가 상기 소정 거리를 유지하여, 상기 챔버의 쏠림을 방지하도록 하는 간격유지부를 더 포함하되, 상기 간격유지부는 상기 제2섹터의 복수의 힐 중 적어도 하나의 힐에 설치된다. In addition, the electromagnet system for cyclotron further includes a gap holding unit for keeping the chamber and the second sector at the predetermined distance to prevent the chamber from being tilted when the chamber is installed, Of the plurality of heels.

또한, 상기 사이클로트론용 전자석 시스템은상기 챔버 설치시, 상기 챔버의 회전을 방지하는 회전방지부를 더 포함한다.In addition, the electromagnet system for cyclotron further includes a rotation preventing portion for preventing the rotation of the chamber when the chamber is installed.

또한, 상기 사이클로트론용 전자석 시스템은상기 복수의 밸리 중 적어도 하나의 밸리에 끼워지는 끼움부재와 적어도 하나의 상기 끼움부재와 결합되고 상기 챔버를 관통하여, 상기 절결구간의 내부 또는 상기 하판 요크 외부까지 연장된 연결대를 포함하여 상기 챔버의 회전을 방지하는 회전방지부를 더 포함한다.The electromagnet system for cyclotron may further include a fitting member which is fitted in at least one of the plurality of valleys and at least one of the fitting members is engaged with the fitting member and extends through the chamber to the inside of the cut- And a rotation preventing portion for preventing the rotation of the chamber including the connected connecting rod.

또한, 상기 끼움부재는 서로 마주보는 제1끼움부재 및 제2끼움부재를 포함하고,Further, the shim member includes a first shim member and a second shim member facing each other,

상기 연결대는 상기 제1끼움부재와 상기 제2끼움부재에 각각 결합되는 제1연결대와 제2연결대를 포함하여, 상기 챔버의 회전을 방지한다. The connecting rod includes a first connecting rod and a second connecting rod respectively coupled to the first and second fittings to prevent rotation of the chamber.

또한, 상기 끼움부재는 상기 제1끼움부재와 상기 제2끼움부재 사이에 제3끼움부재를 더 포함하고, 상기 연결대는 상기 제3끼움부재에 결합되는 제3연결대를 더 포함하여, 상기 챔버의 회전을 방지함과 동시에 쏠림을 방지한다.Further, the shim member further includes a third fitting member between the first fitting member and the second fitting member, and the connecting rod further includes a third connecting rod coupled to the third fitting member, Prevents rotation while preventing leaning.

또한, 상기 챔버와 상기 제2섹터 사이의 거리는 0.5 내지 3mm인 것을 특징으로 한다.Further, the distance between the chamber and the second sector is 0.5 to 3 mm.

또한, 상기 챔버는 상면 및 하면에 오링이 설치된다.In addition, the chamber is provided with O-rings on its upper and lower surfaces.

또한, 상기 오링의 재질은 바이톤 또는 퍼플러 엘라스토머인 것을 특징으로 한다. Also, the material of the O-ring is a vital or a purple elastomer.

또한, 상기 간격유지부는 상기 챔버가 설치된 이후에 제거된다. Further, the interval maintaining portion is removed after the chamber is installed.

또한, 상기 회전방지부는 상기 챔버가 설치된 이후에 제거된다. .In addition, the rotation preventing portion is removed after the chamber is installed. .

본 발명의 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법은 빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제1섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 자기장을 형성하는 제1코일을 포함하는 상판을 제공하는 단계; 빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제2섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 전기장 및 자기장을 형성하는 제2코일을 포함하는 하판을 제공하는 단계; 및상기 제2섹터와 상기 제2코일 사이에 배치되며, 상기 제2섹터와 소정 거리로 이격되어 탈착가능하도록 설치된 챔버를 배치하는 단계를 포함하되,상기 상판 또는 상기 하판은 원통형 요크를 더 포함하고,상기 원통형 요크는 상기 원통형 요크의 원주부에 일정구간이 절결된 적어도 한 개 이상의 절결구간을 포함한다. A method of providing an electromagnet system for a cyclotron according to the present invention includes the steps of: providing a top plate including a first sector forming a center-plane magnetic field distribution of an electromagnet in which a beam moves, and a first coil receiving a power from the outside to form a magnetic field; Providing a bottom plate comprising a second sector forming an electromagnet center planar magnetic field distribution in which the beam moves and a second coil powered from the outside to form an electric field and a magnetic field; And disposing a chamber disposed between the second sector and the second coil so as to be detachable from the second sector and spaced apart from the second sector by a predetermined distance, wherein the upper plate or the lower plate further includes a cylindrical yoke , And the cylindrical yoke includes at least one cutout section in which a certain section is cut out in a circumferential portion of the cylindrical yoke.

또한, 상기 제1섹터와 제2섹터는 상호 이격된 부채꼴 형상의 복수의 힐과 상기 복수의 힐이 부착되지 않는 적어도 한 개이상의 밸리로 구성되며, 상기 제1섹터와 제2섹터는 상하 대칭이다. In addition, the first sector and the second sector are composed of a plurality of radially spaced heels and at least one or more valleys to which the plurality of heels are not attached, wherein the first sector and the second sector are vertically symmetric .

또한, 상기 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법은상기 챔버 설치시, 상기 챔버와 상기 제2섹터가 상기 소정거리를 유지하여 상기 챔버의 쏠림을 방지하도록 하는 간격유지부를 설치하는 단계를 더 포함하되,상기 간격유지부는 상기 제2섹터의 복수의 힐 중 적어도 하나의 힐에 설치된다. In addition, the method for providing an electromagnet system for cyclotron further includes the step of providing a gap holding unit for preventing the chamber from leaning while maintaining the predetermined distance between the chamber and the second sector when the chamber is installed, A retaining portion is provided on at least one heel of the plurality of heels of the second sector.

상기 사이클로트론 전자석 시스템 제공방법은상기 간격유지부를 배치하는 단계 이후에 상기 챔버의 회전을 방지하는 회전방지부를 배치하는 단계를 더 포함하되,The method for providing a cyclotron electromagnet system further includes disposing a rotation preventing unit for preventing rotation of the chamber after the step of disposing the gap holding unit,

상기 회전방지부는 상기 복수의 밸리 중 적어도 하나의 밸리에 끼워지는 끼움부재와 적어도 하나의 상기 끼움부재와 결합되고 상기 챔버를 관통하여, 상기 절결구간의 내부 또는 상기 하판 요크 외부까지 연장된 연결대를 포함한다. The rotation preventing portion includes a fitting member that is fitted in at least one of the plurality of valleys and a connecting rod that is coupled with at least one of the fitting members and penetrates the chamber and extends to the inside of the cutout or outside the bottom plate yoke do.

또한, 상기 끼움부재는 서로 마주보는 제1끼움부재 및 제2끼움부재를 포함하고, 상기 연결대는 상기 제1끼움부재와 상기 제2끼움부재에 각각 결합되는 제1연결대와 제2연결대를 포함하여, 상기 챔버의 회전을 방지하고, 상기 끼움부재는 상기 제1끼움부재와 상기 제2끼움부재 사이에 제3끼움부재를 더 포함하고, 상기 연결대는 상기 제3끼움부재에 결합되는 제3연결대를 포함하여, 상기 챔버의 쏠림을 방지한다. The shim member may include a first shim and a second shim facing each other, and the shim includes a first shim and a second shim connected to the first shim and the second shim, respectively, , The chamber is prevented from rotating, and the fitting member further includes a third fitting member between the first fitting member and the second fitting member, and the connecting rod includes a third connecting rod coupled to the third fitting member Thereby preventing the chamber from leaning.

또한, 상기 챔버는 상면 및 하면에 오링이 설치된다. In addition, the chamber is provided with O-rings on its upper and lower surfaces.

또한, 상기 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법은 회전방지부를 배치하는 단계 이후에 간격유지부가 제거되는 단계 및 회전방지부가 제거되는 단계를 더 포함한다.
In addition, the method for providing the electromagnet system for cyclotron further includes a step of removing the interval maintaining portion and a step of removing the rotation preventing portion after the step of disposing the rotation preventing portion.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 하판에 설치된 제2섹터와 챔버를 소정 거리로 이격시켜 챔버를 탈착가능하도록 형성하여, 사이클로트론용 전자석 시스템 내부의 관리 및 수리가 용이하도록 할 수 있는 장점이 있다. According to an embodiment of the present invention, there is an advantage that the chamber can be detachably separated by a predetermined distance from the second sector installed in the lower plate, thereby facilitating management and repair of the inside of the electromagnet system for cyclotron.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 간격유지부를 통해 챔버가 특정 방향으로 쏠리는 것을 방지하여 챔버가 정위치에 제대로 설치될 수 있도록 하는 장점이 있다. According to an embodiment of the present invention, there is an advantage that the chamber can be prevented from being pushed in a specific direction through the interval maintaining portion, and the chamber can be properly installed at a predetermined position.

또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 회전방지부를 통해 챔버가 회전되는 것을 방지하여 챔버가 정위치에 제대로 설치될 수 있도록 하는 장점이 있다. Also, according to an embodiment of the present invention, there is an advantage that the chamber can be prevented from rotating through the anti-rotation unit, and the chamber can be properly installed in a predetermined position.

또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 챔버의 상면 및/또는 하면에 오링을 부착하여 챔버 내부의 진공형성이 용이하도록 하는 장점이 있다.
According to an embodiment of the present invention, an O-ring is attached to the upper surface and / or the lower surface of the chamber to facilitate formation of a vacuum inside the chamber.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 전자석시스템을 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 하판을 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 하판에 챔버와 간격유지부가 설치된 것을 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 회전방지부가 설치된 것을 도시한 것이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 회전방지부가 설치된 것을 도시한 것이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 사이클로트론용 전자석 시스템의 제공방법을 도시한 순서도이다.Figure 1 illustrates an electromagnet system in accordance with an embodiment of the present invention.
2 shows a bottom plate according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 illustrates a chamber and a gap maintaining unit provided on a lower plate according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 illustrates the installation of the anti-rotation unit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 illustrates the installation of the anti-rotation unit according to an embodiment of the present invention.
6 is a flowchart illustrating a method of providing an electromagnet system for a cyclotron according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세하게 설명하고자 한다.While the invention is susceptible to various modifications and alternative forms, specific embodiments thereof are shown by way of example in the drawings and will herein be described in detail.

그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제 1 구성요소는 제 2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제 2 구성요소도 제 1 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component. And / or < / RTI > includes any combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가진 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the relevant art and are to be interpreted in an ideal or overly formal sense unless explicitly defined in the present application Do not.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명을 설명함에 있어 전체적인 이해를 용이하게 하기 위하여 도면상의 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 사용하고 동일한 구성요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In order to facilitate the understanding of the present invention, the same reference numerals are used for the same constituent elements in the drawings and redundant explanations for the same constituent elements are omitted.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 사이클로트론용 전자석 시스템(1000)은 상판(100), 하판(200), 챔버(240)를 포함할 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따른 상판(100)은 빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제1섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 자기장을 형성하는 제1코일을 포함할 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따른 하판(200)은 빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제2섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 자기장을 형성하는 제2코일(220)을 포함할 수 있다. 본 발명의 일실시예에 의한 상판(100)과 하판(200)은 동일한 형상으로 제작되어 평행하게 배치될 수 있다. Referring to FIG. 1, an electromagnet system 1000 for a cyclotron according to an embodiment of the present invention may include a top plate 100, a bottom plate 200, and a chamber 240. The upper plate 100 according to an embodiment of the present invention may include a first sector forming a center-plane magnetic field distribution of an electromagnet in which a beam moves, and a first coil receiving a power from the outside to form a magnetic field. The lower plate 200 according to an embodiment of the present invention may include a second sector forming a center-plane magnetic field distribution of an electromagnet in which a beam moves, and a second coil 220 receiving a power from the outside to form a magnetic field . The upper plate 100 and the lower plate 200 according to an embodiment of the present invention may be manufactured in the same shape and arranged in parallel.

상판에 형성된 제1섹터와 하판에 형성된 제2섹터는 부채꼴 섹터 또는 나선형 섹터로, 제1섹터와 제2 섹터는 상하 대칭인 동일한 형상으로 형성될 수 있다. 도 2를 참조하면, 제1섹터와 제2섹터는 상호 이격된 부채꼴 형상의 복수의 힐(hill)(211)과 힐(211)이 부착되지 않는 공간인 밸리(212)(valley)로 구성된다. 즉 도 2와 같이 힐(211)-밸리(212) -힐(211)-밸리(212) -힐(211)-밸리(212) -힐(211)- 밸리(212) 구조로 형성될 수 있으며, 밸리(212)에 해당되는 공간만큼 힐(211)과 힐(211)이 이격될 수 있다. The first sector formed on the upper plate and the second sector formed on the lower plate may be formed as a sector of a sector or a spiral sector, and the first sector and the second sector may be formed in the same shape that is vertically symmetrical. 2, the first sector and the second sector are constituted by a plurality of radially spaced hills 211 and a valley 212 in which the heel 211 is not attached . That is, as shown in FIG. 2, a heel 211, a valley 212, a heel 211, a valley 212, a heel 211, a valley 212, a heel 211, , The heel 211 and the heel 211 may be separated from each other by a space corresponding to the valley 212.

본 발명의 일실시예에 따른 상판(100) 및/또는 하판(200)은 자속을 담고, 자기 차폐 역할을 할 수 있는 요크(230)(yoke)를 더 포함하여, 사이클로트론이 요크(230)에 의해 둘러싸이도록 할 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따른 요크(230)는 원통형으로, 원주부에 일정 구간이 절결된 절결구간(231)이 한 개 이상 형성될 수 있다. 상판(100)과 하판(200)이 결합되면, 상기 절결구간(231)은 절결홈을 형성하게 되며, 이 절결홈은 RF 시스템, 이온 소스, 빔 인출부 및 윈도우 등이 설치될 수 있으며, 기타 사이클로트론용 전자석 시스템(1000)의 유지 관리를 위한 공간으로 이용될 수 있다.The upper plate 100 and / or the lower plate 200 according to an embodiment of the present invention further includes a yoke 230 yoke (magnetic yoke) As shown in FIG. The yoke 230 according to an embodiment of the present invention is cylindrical, and one or more notched sections 231 having a certain section cut out in the circumferential portion may be formed. When the upper plate 100 and the lower plate 200 are coupled to each other, the cut-out section 231 forms a cut-out groove, and the cut-out groove may include an RF system, an ion source, And can be used as a space for maintenance of the electromagnet system 1000 for cyclotron.

한편, 본 발명의 일실시예에 따른 상판(100)은 개폐식으로 형성되어, 사이클로트론용 전자석 시스템(1000) 내부의 문제가 발생되는 경우, 상판(100)을 열고, 전자석 시스템 내부의 문제를 해결할 수 있다. 이때, 상기 상판(100)은 유압 실린더에 의해 상승되어, 전자석 시스템이 개방될 수 있다. The upper plate 100 according to an embodiment of the present invention may be configured to be opened and closed to open the upper plate 100 to solve problems in the electromagnet system 1000 when a problem occurs in the electromagnet system 1000 for cyclotron have. At this time, the upper plate 100 is raised by the hydraulic cylinder so that the electromagnet system can be opened.

본 발명의 일실시예에 따른 제1섹터, 제2섹터 및 요크(230)는 자성체로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 철, 코발트, 니켈과 같은 강자성체로 구성될 수 있다. The first sector, the second sector, and the yoke 230 according to an embodiment of the present invention may be formed of a magnetic material, preferably a ferromagnetic material such as iron, cobalt, or nickel.

본 발명의 일 실시예에 따른 챔버(240)는 챔버(240) 외부의 펌프(미도시)에 의하여 챔버(240) 내부의 기체를 외부로 배출시켜, 섹터 부분에서 입자 가속화되는 빔이 기체 입자들과 충돌하여 전자의 손실이 발생되지 않도록 진공 상태와 가깝도록 유지시킬 수 있다. 입자 가속된 H- 빔의 두 번째 전자는 원자핵과의 결합력이 매우 약하고 이로 인해 홀더조립체(미도시)의 박막을 통과하기 전에 주변의 기체 입자들과 충돌하여 전자가 손실되는 경우가 발생된다. 따라서, H- 빔의 전자 손실을 방지하기 위하여 챔버(240) 내부는 진공도가 6*10-6 내지 4*10-6 torr 로 유지될 수 있으며, 바람직하게는 5*10-6 torr 이하로 유지될 수 있다. The chamber 240 according to an embodiment of the present invention discharges the gas inside the chamber 240 to the outside by a pump (not shown) outside the chamber 240 so that a beam accelerated in a sector portion So that it can be kept close to the vacuum state so that no electron loss occurs. The second electron of the particle-accelerated H-beam is very weak in binding to the nucleus and may collide with the surrounding gas particles before passing through the thin film of the holder assembly (not shown), resulting in the loss of electrons. Therefore, in order to prevent the electron loss of the H-beam, the degree of vacuum in the chamber 240 can be maintained at 6 * 10 -6 to 4 * 10 -6 torr, preferably at 5 * 10 -6 torr or less .

도 2를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 챔버(240)는 제2섹터와 제2코일(220) 사이에 배치되될 수 있다. 여기서, 챔버(240)는 제2섹터의 반경보다 큰 반경을 갖도록 제작되어, 제2섹터와 소정거리로 이격되어 탈착가능하도록 설치될 수 있다. 기존의 챔버(240)는 제2섹터의 반경과 거의 동일한 반경을 갖도록 하여 챔버(240)가 전자석 시스템에 설치된 이후에는 챔버(240)의 탈착이 불가능하였다. 따라서, 챔버(240) 내부에 배치된 섹터의 관리가 어려운 단점이 있었다. 그에 반해, 본 발명의 일실시예에 따른 챔버(240)는 제2섹터와 소정거리로 이격되므로, 챔버(240) 내부의 제1 섹터 및/또는 제2섹터의 문제가 발생되는 경우, 챔버(240)를 탈착시키고 챔버(240) 내부에 배치된 섹터의 문제점을 해결할 수 있는 장점이 있다. 바람직하게 챔버(240)와 제2섹터 사이의 거리는 0.5 내지 3mm일 수 있다. 챔버(240)와 제2섹터와의 거리가 0.5mm 보다 작은 경우에는 챔버(240)의 탈착이 어려우며, 챔버(240)와 제2섹터 사이의 거리가 3mm 보다 큰 경우에는 전자석 시스템의 소형화가 어려운 단점이 있다. Referring to FIG. 2, the chamber 240 according to an embodiment of the present invention may be disposed between the second sector and the second coil 220. Here, the chamber 240 may be manufactured to have a radius larger than the radius of the second sector, and may be installed to be detachable from the second sector by a predetermined distance. The conventional chamber 240 has a radius substantially equal to the radius of the second sector so that the chamber 240 can not be detached after the chamber 240 is installed in the electromagnet system. Therefore, there is a disadvantage that it is difficult to manage the sector disposed in the chamber 240. In contrast, since the chamber 240 according to an embodiment of the present invention is spaced apart from the second sector by a predetermined distance, when a problem occurs in the first sector and / or the second sector in the chamber 240, 240 can be detached and the problem of the sector disposed in the chamber 240 can be solved. Preferably, the distance between the chamber 240 and the second sector may be between 0.5 and 3 mm. When the distance between the chamber 240 and the second sector is less than 0.5 mm, it is difficult to attach and detach the chamber 240. When the distance between the chamber 240 and the second sector is larger than 3 mm, There are disadvantages.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 사이클로트론용 전자석 시스템(1000)의 하판(200)은 간격유지부(260)를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따른 간격유지부(260)는 챔버(240) 설치시, 챔버(240)와 상기 제2섹터가 소정 거리를 유지하여, 상기 챔버(240)의 쏠림을 방지하고, 챔버(240)의 중앙이 정위치에 배치될 수 있도록 할 수 있다. 본 발명의 간격유지부(260)는 제2섹터의 복수의 힐(211) 중 적어도 하나의 힐(211)에 설치될 수 있다. 여기서, 간격유지부(260)는 'ㄱ'자 형상으로 형성될 수 있으며, 가로 방향은 제2섹터의 힐(211)로부터 챔버(240) 내면으로부터 힐(211)까지 소정 거리를 유지하도록 챔버(240) 내면까지 연장될 수 있다. 세로방향은 챔버(240) 내면의 위로부터 아래로 연장될 수 있다. 바람직하게 상기 간격유지부(260)는 동일한 형상으로 형성되고, 제2섹터의 힐(211)마다 설치되어 챔버(240)가 특정 방향으로 쏠리는 것을 방지할 수 있다. Referring to FIG. 3, the lower plate 200 of the electromagnet system 1000 for cyclotron according to an embodiment of the present invention may further include a spacing portion 260. The gap holding unit 260 according to an embodiment of the present invention maintains a predetermined distance between the chamber 240 and the second sector when the chamber 240 is installed to prevent the chamber 240 from leaning, So that the center of the light guide plate 240 can be arranged at a predetermined position. The gap maintaining portion 260 of the present invention may be installed on at least one of the heels 211 of the plurality of heels 211 of the second sector. Here, the gap holding part 260 may be formed in a shape of a letter 'A', and the horizontal direction may be a distance from the heel 211 of the second sector to the chamber (not shown) so as to maintain a predetermined distance from the inner surface of the chamber 240 to the heel 211 240). The longitudinal direction may extend downward from the top surface of the chamber 240. Preferably, the gap holding part 260 is formed in the same shape and is provided for each heel 211 of the second sector, thereby preventing the chamber 240 from being tilted in a specific direction.

도 4와 도 5를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 사이클로트론용 전자석 시스템(1000)은 회전방지부를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따른 회전방지부는 챔버(240) 설치시, 챔버(240)의 회전을 방지하여 챔버(240)가 정위치에 설치될 수 있도록 할 수 있다. 회전방지부는 복수의 밸리(212) 중 적어도 하나의 밸리(212)에 끼워지는 끼움부재(251a, 251b, 251c)와 적어도 하나의 끼움부재(251a, 251b, 251c)와 결합되는 연결대(252a, 252b, 252c)를 포함할 수 있다. 전술한 바와 같이 밸리(212)는 힐(211)이 부착되지 않는 공간인바, 이 밸리(212)에 끼움부재(251a, 251b, 251c)가 삽입될 수 있다. 여기서 끼움부재(251a, 251b, 251c)는 외면에 연결대(252a, 252b, 252c)가 삽입될 수 있는 삽입돌기(251a)이 형성될 수 있다. 연결대(252a, 252b, 252c)는 상기 삽입돌기(253)에 삽입되어 끼움부재(251a, 251b, 251c)와 결합될 수 있으며, 챔버(240)를 관통하여 하판(200) 요크(230)의 절결구간(231)의 내부로까지 연장되거나, 절결구간(231)을 관통하여 상기 하판(200) 요크(230) 외부까지 연장되어, 챔버(240)의 회전을 방지하는 장점이 있다. Referring to FIGS. 4 and 5, the electromagnet system 1000 for a cyclotron according to an embodiment of the present invention may further include a rotation preventing portion. The anti-rotation unit according to an embodiment of the present invention can prevent the rotation of the chamber 240 when the chamber 240 is installed, so that the chamber 240 can be installed in a proper position. The rotation preventing portion includes a fitting member 251a, 251b and 251c fitted into at least one valley 212 of the plurality of valleys 212 and a connecting portion 252a and 252b coupled with at least one fitting member 251a, 251b and 251c , 252c. As described above, the valley 212 is a space to which the heel 211 is not attached, and the fitting members 251a, 251b, and 251c can be inserted into the valley 212. Here, the insertion members 251a, 251b, and 251c may be formed with insertion protrusions 251a through which the connection units 252a, 252b, and 252c can be inserted. The connecting pieces 252a, 252b and 252c are inserted into the insertion protrusions 253 and can be engaged with the fitting pieces 251a, 251b and 251c. The connecting pieces 252a, 252b and 252c penetrate through the chamber 240, And extends to the inside of the section 231 or extends to the outside of the yoke 230 of the lower plate 200 through the notch section 231 to prevent the rotation of the chamber 240.

도 5를 참조하면, 끼움부재는 제1끼움부재(251a)와 제2끼움부재(251b) 사이에 제3끼움부재(251c)를 더 포함하고, 연결대는 제3끼움부재(251c)에 결합되는 제3연결대(252c)를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 제3연결대(252c)에 의하여 챔버(240)의 쏠림이 방지되는 장점이 있다. 즉, 별도의 간격유지부(260)를 설치하지 않더라도, 상기 제3끼움부재(251c)와 상기 제3끼움부재(251c)와 결합되는 제3연결대(252c)에 의해, 챔버(240)가 회전되지 않음과 동시에 특정 방향으로 쏠리지 않게 되는 장점이 있다. 5, the shim member further includes a third shim member 251c between the first shim member 251a and the second shim member 251b, and the shim member is coupled to the third shim member 251c And may further include a third link 252c. In this case, there is an advantage that the chamber 240 is prevented from being tilted by the third connecting block 252c. That is, even if a separate space retaining portion 260 is not provided, the chamber 240 can be rotated by the third connecting member 251c and the third connecting portion 252c engaged with the third engaging member 251c, There is an advantage that it can not be pointed in a specific direction at the same time.

본 발명의 일 실시예에 따른 챔버(240)는 진공을 형성하고 유지하기 용이하도록 챔버(240)의 상면 및 하면에 오링이 설치될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 오링 의 재질은 바이톤(viton) 또는 퍼플러 엘라스토머(PERFLUORO ELASTOMER RUBBER, FFKM)일 수 있다. The chamber 240 according to an embodiment of the present invention may be provided with O-rings on the upper and lower surfaces of the chamber 240 to facilitate formation and maintenance of vacuum. The material of the O-ring according to an embodiment of the present invention may be Viton or PERFLUORO ELASTOMER RUBBER (FFKM).

본 발명의 일실시예에 따른 오링의 재질로 이용되는 바이톤(viton)은 사용가능한 범위가 섭씨 영하 15도 내지 영상 204까지이며, 결합에너지가 큰 불활성결합구조인 C-F 결합 때문에 내열성,내화학성, 내가스 투과성이 우수하다.The viton used as the material of the O-ring according to an embodiment of the present invention has a usable range of from -15 ° C to -204 ° C, and the CF bond, which is an inert bonding structure having a large binding energy, Excellent gas permeability.

본 발명의 일실시예에 따른 오링의 재질로 이용되는 퍼플러 엘라스토머(PERFLUORO ELASTOMER RUBBER, FFKM)는 화학명으로 Perfluoroelstomer, 재질기호로 FFKM 이며, 퍼플러 엘라스토머는 주사슬부 TFE(Tetrafluoroethylen), 줄기부 : PMVE(Perfluoro methylvinylether)와 가교부로 이루어져 있으며 완전 불소화 되어 있는데, 테플론과 극히 유사한 구조를 가지며, 바이톤과 함께 내열성 및 내약품성이 우수하다.PERFLUORO ELASTOMER RUBBER (FFKM) used as an O-ring material according to an embodiment of the present invention is a perfluoroelastomer with a chemical name FFKM and a perfluoroelastomer has a main chain portion TFE (Tetrafluoroethylen), a stem portion PMVE Perfluoro methylvinylether) and crosslinked part. It is completely fluorinated. It has very similar structure with Teflon, and it is excellent in heat resistance and chemical resistance together with Viton.

본 발명의 일실시예에 따르면 챔버(240)가 정위치에 설치된 이후에 간격유지부(260)와 회전방지부는 제거된다. According to one embodiment of the present invention, the gap holding portion 260 and the anti-rotation portion are removed after the chamber 240 is installed in the correct position.

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법을 도시한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따른 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법은 6 illustrates a method of providing an electromagnet system for a cyclotron according to an embodiment of the present invention. A method for providing an electromagnet system for cyclotron according to an embodiment of the present invention includes:

빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제1섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 자기장을 형성하는 제1코일을 포함하는 상판(100)을 제공하는 단계(S100); 빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제2섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 전기장 및 자기장을 형성하는 제2코일(220)을 포함하는 하판(200)을 제공하는 단계(S100); 및 상기 제2섹터와 상기 제2코일(220) 사이에 배치되며, 상기 제2섹터와 소정 거리로 이격되어 탈착가능하도록 설치된 챔버(240)를 배치하는 단계(S200)를 포함할 수 있다.(S100) of providing a top plate (100) comprising a first sector forming an electromagnet center plane magnetic field distribution in which a beam moves and a first coil receiving a power from the outside to form a magnetic field; A step (S100) of providing a lower plate (200) including a second sector forming an electromagnet center planar magnetic field distribution in which the beam moves and a second coil (220) receiving power from the outside to form an electric field and a magnetic field; And disposing a chamber 240 disposed between the second sector and the second coil 220 and spaced apart from the second sector by a predetermined distance so as to be detachable.

본 발명의 일실시예에 따른 상판(100) 및/또는 하판(200)은 원통형 요크(230)를 더 포함할 수 있다. 여기서, 원통형 요크(230)는 상기 원통형 요크(230)의 원주부에 일정구간이 절결된 적어도 한 개 이상의 절결구간(231)을 포함할 수 있다. 또는 상판(100) 및/또는 하판(200) 사이에 원통형 요크(230)가 설치될 수 있다. The upper plate 100 and / or the lower plate 200 according to an embodiment of the present invention may further include a cylindrical yoke 230. Here, the cylindrical yoke 230 may include at least one cutout section 231 in which a certain section is cut out in a circumferential portion of the cylindrical yoke 230. Or a cylindrical yoke 230 may be installed between the upper plate 100 and / or the lower plate 200.

본 발명의 일실시예에 따른 상기 제1섹터와 제2섹터는 상하 대칭으로 동일한 형상으로 제작되어 평행하게 배치될 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따른 제1섹터와 제2섹터는 상호 이격된 부채꼴 형상의 복수의 힐(211)과 상기 복수의 힐(211)이 부착되지 않는 적어도 한 개이상의 밸리(212) 로 구성되며, 제1섹터와 제2섹터의 힐(211)과 밸리(212) 는 동일한 형상으로 형성되고, 동일한 위치에 배치될 수 있다. The first sector and the second sector according to an embodiment of the present invention may be formed in the same shape in a vertically symmetrical manner and arranged in parallel. The first sector and the second sector according to an embodiment of the present invention may include a plurality of radially spaced heels 211 and at least one or more valleys 212 to which the plurality of heels 211 are not attached And the heel 211 and the valley 212 of the first sector and the second sector may be formed in the same shape and disposed at the same position.

도 6을 계속 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법은 상기 챔버(240) 설치시, 상기 챔버(240)와 상기 제2섹터가 상기 소정거리를 유지하여 상기 챔버(240)의 쏠림을 방지하도록 하는 간격유지부(260)를 설치하는 단계(S300)를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따른 간격유지부(260)는 상기 제2섹터의 복수의 힐(211) 중 적어도 하나의 힐(211)에 설치될 수 있다. 간격유지부(260)에 대한 구체적인 설명은 전술한 것과 동일하므로 생략하기로 한다. Referring to FIG. 6, a method of providing an electromagnet system for a cyclotron according to an embodiment of the present invention includes the steps of: (S300) of installing a gap retaining portion (260) for preventing leaning of the base plate (240). The gap holding part 260 according to an embodiment of the present invention may be installed on at least one of the heels 211 of the plurality of heels 211 of the second sector. The detailed description of the interval maintaining unit 260 is the same as that described above, and thus will not be described.

본 발명의 일실시예에 따른 사이클로트론 전자석 시스템 제공방법은 상기 간격유지부를 설치하는 단계(S300) 이후에 상기 챔버(240)의 회전을 방지하는 회전방지부를 배치하는 단계(S400)를 더 포함할 수 있다. 상기 회전방지부는 상기 복수의 밸리(212) 중 적어도 하나의 밸리(212) 에 끼워지는 끼움부재(251a, 251b, 251c)와 적어도 하나의 상기 끼움부재(251a, 251b, 251c)와 결합되고 상기 챔버(240)를 관통하여, 상기 절결구간(231)의 내부 또는 상기 하판(200) 요크(230) 외부까지 연장된 연결대를 포함할 수 있다. 또는, 상기 끼움부재(251a, 251b, 251c)는 서로 마주보는 제1끼움부재(251a) 및 제2끼움부재(251b)를 포함하고, 상기 연결대는 상기 제1끼움부재(251a)와 상기 제2끼움부재(251b)에 각각 결합되는 제1연결대(252a)와 제2연결대(252b)를 포함하여, 상기 챔버(240)의 회전을 방지하고, 상기 끼움부재(251a, 251b, 251c)는 상기 제1끼움부재(251a)와 상기 제2끼움부재(251b) 사이에 제3끼움부재(251c)를 더 포함하고, 상기 연결대는 상기 제3끼움부재(251c)에 결합되는 제3연결대(252c)를 포함하여, 상기 챔버(240)의 쏠림을 방지할 수 있다. 회전부재에 관한 설명도 전술한 회전부재와 동일하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다. The method of providing a cyclotron electromagnet system according to an exemplary embodiment of the present invention may further include disposing a rotation preventing unit (S400) for preventing the rotation of the chamber 240 after the step S300 of installing the interval maintaining unit have. The rotation preventing portion is engaged with at least one sandwiching member 251a, 251b, 251c and sandwiching members 251a, 251b, 251c sandwiching at least one valley 212 of the plurality of valleys 212, And may include a connecting rod extending through the cutout section 231 or outside the yoke 230 of the lower plate 200. Alternatively, the shim members 251a, 251b, and 251c may include a first shim 251a and a second shim 251b facing each other, and the shim may include a first shim 251a, 251b and 251c are provided to prevent the rotation of the chamber 240 and prevent the rotation of the chamber 240. The first and second connection blocks 252a and 252b are coupled to the bottom member 251b, And a third fitting member 251c between the first and second fitting members 251a and 251b and the third connecting member 252c coupled to the third fitting member 251c So that the chamber 240 can be prevented from leaning. The description of the rotating member is also the same as that of the rotating member described above, and therefore, a detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 일실시예에 따른 상기 챔버(240)의 상면 및 하면에 오링이 설치될 수 있으며, 상기 오링의 재질은 바이톤(viton) 또는 퍼플러 엘라스토머(PERFLUORO ELASTOMER RUBBER, FFKM)일 수 있다. O-rings may be provided on the upper and lower surfaces of the chamber 240 according to an embodiment of the present invention, and the material of the O-rings may be viton or PERFLUORO ELASTOMER RUBBER (FFKM).

도 6을 계속 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 사이클로트론용 전자석 시스템 제공방법은 회전방지부를 배치하는 단계(S400)를 거쳐 챔버(240)가 정위치에 설치된 단계(S500)이후에 간격유지부가 제거되는 단계(S600) 및 회전방지부가 제거되는 단계(S700)를 더 포함할 수 있다. Referring to FIG. 6, a method of providing an electromagnet system for a cyclotron according to an embodiment of the present invention includes the steps of disposing the anti-rotation unit (S400) (S600) where the addition is removed and a step (S700) where the anti-rotation part is removed.

앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 일 실시예는, 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.
One embodiment of the invention described above and shown in the drawings should not be construed as limiting the technical idea of the present invention. The scope of protection of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art will be able to modify the technical idea of the present invention in various forms. Accordingly, such improvements and modifications will fall within the scope of the present invention as long as they are obvious to those skilled in the art.

1000: 사이클로트론용 전자석 시스템
100: 상판
200: 하판
211: 힐
212: 밸리
220: 제2코일
230: 요크
231: 절결구간
240: 챔버
251a, 251b, 251c: 끼움부재 251a: 삽입돌기
252a: 제1연결대
252b: 제2연결대
252c: 제3연결대
253: 삽입돌기
260: 간격유지부1000: Electromagnet system for cyclotron
100: top plate
200: lower plate
211: Hill
212: Valley
220: second coil
230: York
231: Cutting section
240: chamber
251a, 251b, 251c: a fitting member 251a:
252a: first connecting rod
252b: second connecting rod
252c: the third connecting rod
253: insertion projection
260:

Claims (21)

빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제1섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 자기장을 형성하는 제1코일을 포함하는 상판;
빔이 운동하는 전자석 중심 평면 자기장 분포를 형성하는 제2섹터와 외부로부터 전원을 공급받아 전기장 및 자기장을 형성하는 제2코일을 포함하는 하판;
상기 제2섹터와 상기 제2코일 사이에 배치되며, 상기 제2섹터와 소정 거리로 이격되어 탈착가능하도록 설치된 챔버; 및
상기 챔버 설치시, 상기 챔버와 상기 제2섹터가 상기 소정 거리를 유지하여, 상기 챔버의 쏠림을 방지하도록 하는 간격유지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템.
An upper plate including a first sector forming an electromagnet center planar magnetic field distribution in which the beam moves, and a first coil receiving a power from the outside to form a magnetic field;
A bottom plate including a second sector forming an electromagnet center planar magnetic field distribution in which the beam moves, and a second coil receiving power from the outside to form an electric field and a magnetic field;
A chamber disposed between the second sector and the second coil, the chamber being spaced apart from the second sector by a predetermined distance; And
And a gap holding unit for preventing the chamber from leaning by maintaining the chamber and the second sector at the predetermined distance when the chamber is installed.
제1항에 있어서, 상기 상판 또는 상기 하판은
원통형 요크를 더 포함하고,
상기 원통형 요크는 상기 원통형 요크의 원주부에 일정구간이 절결된 적어도 한 개 이상의 절결구간을 포함하는 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템.
2. The apparatus of claim 1, wherein the top plate or the bottom plate
Further comprising a cylindrical yoke,
Wherein the cylindrical yoke includes at least one cutout section in which a certain section is cut out in a circumferential portion of the cylindrical yoke.
제1항에 있어서,
상기 제1섹터와 상기 제2섹터는 상호 이격된 부채꼴 형상의 복수의 힐과 상기 복수의 힐이 부착되지 않는 적어도 한 개 이상의 밸리로 구성되며,
상기 제1섹터와 제2섹터는 상하 대칭인 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the first sector and the second sector are constituted by a plurality of heels having a sector shape spaced apart from each other and at least one or more valleys to which the plurality of heels are not attached,
Wherein the first sector and the second sector are symmetrical in the vertical direction.
삭제delete 제3항에 있어서,
상기 간격유지부는 상기 제2섹터의 복수의 힐 중 적어도 하나의 힐에 설치되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템.
The method of claim 3,
Wherein the gap holding portion is provided on at least one heel of the plurality of heels of the second sector.
제1항에 있어서, 상기 사이클로트론용 전자석 시스템은
상기 챔버 설치시, 상기 챔버의 회전을 방지하는 회전방지부를 더 포함하는 사이클로트론용 전자석 시스템.
The electromagnet system for cyclotron according to claim 1,
Further comprising a rotation preventing portion for preventing rotation of the chamber when the chamber is installed.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 챔버와 상기 제2섹터 사이의 거리는 0.5 내지 3mm인 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템.
The method according to claim 1,
And the distance between the chamber and the second sector is 0.5 to 3 mm.
제1항에 있어서,
상기 챔버는 상면 및 하면에 오링이 설치되는 사이클로트론용 전자석 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the chamber is provided with an O-ring on the top and bottom surfaces thereof.
제11항에 있어서, 상기 오링의 재질은
바이톤 또는 퍼플러 엘라스토머인 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 전자석 시스템.
12. The method of claim 11, wherein the material of the O-
Wherein the electromagnet system is a Viton or a Purpler elastomer.
제1항에 있어서, 상기 간격유지부는
상기 챔버가 설치된 이후에 제거되는 사이클로트론용 전자석 시스템
The apparatus according to claim 1,
The electromagnet system for cyclotron to be removed after the chamber is installed
제6항에 있어서,
상기 회전방지부는 상기 챔버가 설치된 이후에 제거되는 사이클로트론용 전자석 시스템.The method according to claim 6,
Wherein the rotation preventing portion is removed after the chamber is installed. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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