KR101457234B1 - Coating solution for formation of low refractive coating film, process for production thereof, and anti-reflection material - Google Patents
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Abstract
물 접촉각이 높은 기재 상에서도 낮은 온도에서 경화되고, 고광투과성, 고경도의 내찰상성이 우수한 저굴절률을 갖는 피막을 형성할 수 있는 피막 형성용 도포액, 그 제조 방법 및 그 피막을 사용하는 반사 방지재를 제공한다. 함불소 유기기가 결합된 규소 원자를 갖는 폴리실록산 (A) 과, 탄소수가 9∼20 인 긴사슬 아민 화합물 (B) 을 함유하고, 그것들이 유기 용매 (C) 에 용해되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 저굴절률 피막 형성용 도포액. A coating liquid for forming a film which can be cured at a low temperature even on a substrate having a high water contact angle and has a high refractive index and a high refractive index and a low refractive index and a method for producing the coating liquid, Lt; / RTI > (B) having 9 to 20 carbon atoms, which are dissolved in an organic solvent (C), characterized by comprising a polysiloxane (A) having a silicon atom bonded with a fluorinated organic group and a long chain amine compound Coating liquid for forming a film.
Description
본 발명은 폴리실록산을 함유하는 저굴절률 피막 형성용 도포액, 그 제조 방법, 그 도포액으로 형성되는 저굴절률 피막 및 그 피막을 갖는 반사 방지재에 관한 것이다. The present invention relates to a coating liquid for forming a low refractive index film containing a polysiloxane, a process for producing the same, a low refractive index coating film formed from the coating liquid and an antireflection film having the coating film.
종래, 기재의 표면에 그 기재의 굴절률보다 작은 저굴절률을 갖는 피막을 형성시키면, 그 피막의 표면으로부터 반사되는 광반사율이 저하된다는 것이 알려져 있다. 그리고 이와 같은 저하된 광반사율을 나타내는 저굴절률 피막은 광반사 방지막으로서 이용되고, 여러 가지의 기재 표면에 적용되었다. It is known that, when a coating film having a refractive index lower than that of the base material is formed on the surface of the base material, the light reflectance reflected from the surface of the base material is lowered. The low refractive index film showing such a reduced light reflectance is used as a light reflection preventing film and applied to various substrate surfaces.
예를 들어, 특허 문헌 1 에는 Mg 원으로서의 마그네슘염이나 알콕시마그네슘 화합물 등과, F 원으로서의 불화물염을 반응시켜 생성시킨 MgF2 미립자의 알코올 분산액 또는 이것에 막 강도 향상을 위해 테트라알콕시실란 등을 첨가한 액을 도포액으로 하여, 이것을 유리 기재 상에 도포하고, 온도 100∼500℃ 에서 열처리하여, 기재 상에 저굴절률을 나타내는 반사 방지막을 형성시키는 방법이 개시되어 있다. For example, Patent Document 1 discloses an alcohol dispersion of MgF 2 microparticles produced by reacting a magnesium salt or an alkoxymagnesium compound as an Mg source with a fluoride salt as a F source, or an alcohol dispersion of MgF 2 microparticles produced by reacting tetraalkoxysilane An antireflection film exhibiting a low refractive index is formed on a substrate by applying it as a coating liquid on a glass substrate and then heat-treating the substrate at a temperature of 100 to 500 캜.
또한, 특허 문헌 2 에는 테트라알콕시실란 등의 가수 분해 중축합물로서, 평균 분자량이 상이한 2 종 이상과 알코올 등의 용제를 혼합하여 코팅액을 이루고, 그 코팅액으로 피막을 형성할 때 상기 혼합시의 혼합 비율, 상대 습도의 컨트롤 등의 수단을 추가하여 피막을 제조하는 것이 개시되어 있다. 피막은 250℃ 이상의 온도에서 가열함으로써 얻어지고, 1.21∼1.40 의 굴절률을 나타내며, 50∼200nm 의 직경을 갖는 마이크로피트 또는 요철을 갖고, 두께 60∼160nm 를 갖는다. 피막은 유리 기판 위에 형성되어 저반사 유리가 제조되었다. Patent Document 2 discloses a hydrolyzed polycondensate such as tetraalkoxysilane which is prepared by mixing two or more kinds of solvents having different average molecular weights with a solvent such as alcohol to form a coating liquid, and when a coating film is formed with the coating liquid, , A method of controlling the relative humidity, and the like are added. The coating is obtained by heating at a temperature of 250 DEG C or higher, exhibiting a refractive index of 1.21 to 1.40, having micro pits or irregularities having a diameter of 50 to 200 nm, and having a thickness of 60 to 160 nm. The coating film was formed on a glass substrate to produce a low reflection glass.
또한, 특허 문헌 3 에는 유리와, 그 표면에 형성시킨 고굴절률을 갖는 하층막과, 그리고 그 표면에 형성시킨 저굴절률을 갖는 상층막으로 이루어지는 저반사율 유리가 개시되어 있다. 상층막의 형성은 CF3(CF2)2C2H4Si(OCH3)3 등 폴리플루오로카본사슬을 갖는 함불소 실리콘 화합물과, 이것에 대해 5∼90 질량% 의 Si(OCH3)4 등의 실란커플링제를 알코올 용매 중, 아세트산 등 촉매의 존재 하에 실온에서 가수 분해시킨 후, 여과함으로써 조제된 공축합체의 액을 상기 하층막 상에 도포하고, 온도 120∼250℃ 에서 가열하는 방법으로 실시되었다. Patent Document 3 discloses a low-reflectivity glass comprising a glass, a lower layer film having a high refractive index formed on the surface thereof, and an upper layer film having a low refractive index formed on the surface. The upper layer film is formed by mixing a fluorine-containing silicone compound having a polyfluorocarbon chain such as CF 3 (CF 2 ) 2 C 2 H 4 Si (OCH 3 ) 3 with 5 to 90 mass% of Si (OCH 3 ) 4 Is hydrolyzed in an alcohol solvent in the presence of a catalyst such as acetic acid at room temperature and then filtered to form a solution of the co-condensate prepared on the undercoat layer and heated at a temperature of 120 to 250 캜 .
또한, 특허 문헌 4 에는 Si(OR)4 로 나타내는 규소 화합물과, CF3(CF2)n CH2CH2Si(OR1)3 으로 나타내는 규소 화합물과, R2CH2OH 로 나타내는 알코올과, 옥살산을 특정 비율로 함유하는 반응 혼합물을 물의 부존재 하에 온도 40∼180℃ 에서 가열함으로써 폴리실록산의 용액을 생성시킨 도포액이 개시되어 있다. 이 도포액 을 기재 표면에 도포하고, 온도 80∼450℃ 에서 열경화시킴으로써, 1.28∼1.38 의 굴절률과 90∼115 도의 물 접촉각을 갖는 피막이 형성되었다. In Patent Document 4, a silicon compound represented by Si (OR) 4 , a silicon compound represented by CF 3 (CF 2 ) n CH 2 CH 2 Si (OR 1 ) 3 , an alcohol represented by R 2 CH 2 OH, Discloses a coating liquid in which a solution of polysiloxane is produced by heating a reaction mixture containing oxalic acid at a specific ratio in the absence of water at a temperature of 40 to 180 캜. The coating liquid was coated on the surface of the substrate and thermally cured at a temperature of 80 to 450 DEG C to form a film having a refractive index of 1.28 to 1.38 and a water contact angle of 90 to 115 DEG.
특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 평05-105424호 Patent Document 1: JP-A-05-105424
특허 문헌 2 : 일본 공개특허공보 평06-157076호 Patent Document 2: JP-A-06-157076
특허 문헌 3 : 일본 공개특허공보 소61-010043호 Patent Document 3: JP-A-61-010043
특허 문헌 4 : 일본 공개특허공보 평09-208898호 Patent Document 4: JP-A-09-208898
발명의 개시DISCLOSURE OF INVENTION
발명이 해결하고자 하는 과제Problems to be solved by the invention
상기와 같은 각종 표시 장치 등에 사용되는 반사 방지막은 최근, 액정이나 플라즈마 등의 표시 장치의 대형화, 경량화나 박형화가 진행되는 중, 이것에 사용 되는 반사 방지 기재, 특히 반사 방지 필름은 경량화나 고투명화 등의 목적에서 필름 두께를 얇게 하는 경향이 있어, 열에 의해 받는 데미지가 커지는 것이 문제가 되고 있다. 그 때문에, 필름이 데미지를 받지 않을 정도의 저온 처리로 반사 방지 기재를 얻을 수 있는 비교적 저온에서 경화되는 열경화형 피막 형성용 도포액에 대한 요망이 이전보다 더 요망되었다. 그러나, 상기와 같은 종래의 저굴절률 피막의 경화 온도는 반드시 충분히 낮은 것은 아니어서, 경화 온도를 더욱 저하시키는 것이 요망되었다.The antireflection film used in various display devices such as the above has recently become more compact, lighter, and thinner as the display device such as a liquid crystal or a plasma is progressing. The antireflection base material, particularly the antireflection film used therefor, The film thickness tends to be thinned for the purpose of heat resistance, and the damage caused by heat becomes large. Therefore, a demand for a thermosetting film-forming coating liquid which is hardened at a relatively low temperature, at which an antireflection base can be obtained by a low-temperature treatment to such an extent that the film is not damaged, is demanded more than ever before. However, the conventional curing temperature of the low refractive index coating is not necessarily sufficiently low, and it has been desired to further lower the curing temperature.
또한, 상기의 각종 표시 장치 등에 사용되는 반사 방지 필름은, 하드코트가 부착된 트리아세틸셀룰로오스 필름이나 하드코트가 부착된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등의 필름 기재의 표면에, 그 기재보다 굴절률이 낮은 피막의 형성에 의해 얻어지고 있다. 그 경우, 하드코트의 재질이나, 친수화 처리 등의 표면 처리의 유무에 따라, 저굴절률 피막을 형성하는 기재 필름 표면의 물 접촉각은 여러 가지의 크기를 갖게 되는데, 종래, 물 접촉각이 높은 기재 필름 위에 내찰상성이 큰 고경도의 저굴절률 피막을 형성하기는 곤란하다. The antireflection film used in the above-mentioned various display devices can be applied to the surface of a film base such as a triacetylcellulose film with a hard coat or a polyethylene terephthalate film with a hard coat, ≪ / RTI > In this case, depending on the material of the hard coat and the presence or absence of the surface treatment such as the hydrophilization treatment, the water contact angle of the surface of the base film forming the low refractive index coating has various sizes. Conventionally, It is difficult to form a low refractive index coating film having high scratch resistance and high hardness.
이렇게 하여, 본 발명의 목적은 물 접촉각이 높은 기재 상에서도 비교적 낮은 온도에 있어서 충분히 경화되고, 고광투과성 (고투명성), 고경도의 내찰상성이 우수한 저굴절률을 갖는 피막을 형성할 수 있는 저굴절률 피막 형성용 도포액, 그 제조 방법, 그리고, 그 저굴절률 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는 피막 및 그 피막을 사용하는 반사 방지재를 제공하는 것에 있다. Thus, an object of the present invention is to provide a low refractive index film capable of forming a film which is sufficiently cured at a relatively low temperature on a substrate having a high water contact angle, has a high light transmittance (high transparency) A method for producing the same, and a coating film obtained from the coating liquid for forming the low refractive index film, and an antireflection member using the coating film.
과제를 해결하기 위한 수단Means for solving the problem
본 발명자들은 상기 목적을 달성하기 위해서 예의 연구한 결과, 함불소 유기기가 결합된 규소 원자를 갖는 폴리실록산 (A) 과, 탄소수가 9∼20 인 긴사슬 아민 화합물 (B) 과, 유기 용매 (C) 를 함유하는 도포액으로부터 얻어지는 피막이 90 도를 초과하는 물 접촉각이 높은 기재 상에서도 낮은 온도에서 경화되고, 고광투과성, 고경도의 내찰상성이 우수한 저굴절률을 갖는 것을 알아냈다. The inventors of the present invention have conducted intensive studies in order to achieve the above object. As a result of intensive research, the present inventors have found that a polysiloxane (A) having a silicon atom bonded with a fluorinated organic group, a long chain amine compound (B) Of the present invention has a low refractive index even when cured at a low temperature on a substrate having a high water contact angle exceeding 90 degrees and excellent in high light transmittance and scratch resistance at high hardness.
본 발명에 있어서, 상기 도포액으로 형성되는 피막이 왜 상기의 우수한 특성을 갖는지에 대한 메커니즘에 대해서는 반드시 명확하지 않지만, 본 발명의 도포액에 함유되는 폴리실록산 (A) 이 함불소 유기기를 갖지 않는 경우에는, 낮은 굴절률을 갖는 피막이 얻어지지 않는다. 또한, 탄소수가 9∼20 인 긴사슬 아민 화합물 (B) 은 비교적 낮은 온도에서 경화되고, 고경도의 내찰상성이 우수한 피막을 제공한다. 그러나, 아민 화합물 (B) 의 탄소수가 9 보다 작은 경우에는, 90 도를 초과하는 물 접촉각이 높은 표면의 필름 기재 상에서 충분한 내찰상성이 얻어지지 않는 경우가 있고, 또한, 탄소수가 20 을 초과하는 경우에는, 90 도를 초과하는 물 접촉각이 높은 표면의 필름 기재 상에서 충분한 막형성성이 얻어지지 않는 경우가 있어, 모두 본 발명의 목적을 달성할 수 없는 경우가 발생한다.In the present invention, the mechanism of why the coating formed from the coating liquid has the above excellent properties is not clear, but when the polysiloxane (A) contained in the coating liquid of the present invention does not have fluorinated organic groups , A film having a low refractive index can not be obtained. In addition, the long chain amine compound (B) having 9 to 20 carbon atoms is cured at a relatively low temperature, and provides a coating having excellent hardness and scratch resistance. However, when the amine compound (B) has a carbon number of less than 9, sufficient scratch resistance may not be obtained on a film substrate having a high water contact angle exceeding 90 degrees, and when the number of carbon atoms exceeds 20 , Sufficient film formability can not be obtained on a film substrate having a surface having a high water contact angle exceeding 90 degrees, and the object of the present invention can not always be achieved.
이렇게 하여, 본 발명은 이하를 특징으로 하는 요지를 갖는 것이다.Thus, the present invention has the following features.
(1) 함불소 유기기가 결합된 규소 원자를 갖는 폴리실록산 (A) 과, 탄소수가 9∼20 인 긴사슬 아민 화합물 (B) 을 함유하고, 그것들이 유기 용매 (C) 에 용해되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 저굴절률 피막 형성용 도포액. (1) a polysiloxane (A) having a silicon atom bonded with a fluorine-containing organic group and a long chain amine compound (B) having 9 to 20 carbon atoms, which are dissolved in an organic solvent A coating liquid for forming a low refractive index film.
(2) 폴리실록산 (A) 이 그 전체 규소 원자에 대해, 함불소 유기기가 결합된 규소 원자를 5∼40 몰% 를 갖는 상기 (1) 에 기재된 도포액.(2) The coating liquid according to the above (1), wherein the polysiloxane (A) has 5 to 40 mol% of silicon atoms to which a fluorinated organic group is bonded to the total silicon atoms.
(3) 긴사슬 아민 화합물 (B) 이 직사슬형의 지방족 1 급 아민 혹은 2 급 아민 또는 지환 구조를 갖는 지방족 아민인 상기 (1) 또는 (2) 에 기재된 도포액. (3) The coating liquid according to the above (1) or (2), wherein the long chain amine compound (B) is a linear aliphatic primary amine or a secondary amine or an aliphatic amine having an alicyclic structure.
(4) 유기 용매 (C) 가, 탄소수가 1∼6 인 알코올 및 탄소수가 3∼10 인 글리콜에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 이루어지는 상기 (1)∼(3) 중 어느 하나에 기재된 도포액. (4) The process according to any one of (1) to (3) above, wherein the organic solvent (C) is at least one selected from the group consisting of an alcohol having 1 to 6 carbon atoms and a glycol ether having 3 to 10 carbon atoms Coating liquid.
(5) 폴리실록산 (A) 이 그것이 갖는 규소 원자의 합계량을 이산화 규소로 환산하여 0.1∼15 질량% 함유되고, 긴사슬 아민 화합물 (B) 이 폴리실록산 (A) 의 규소 원자 합계량의 1 몰에 대해 0.01∼0.2 몰 함유되는 상기 (1)∼(4) 중 어느 하나에 기재된 도포액. (5) the polysiloxane (A) is contained in an amount of 0.1 to 15 mass% in terms of silicon dioxide in terms of the total amount of silicon atoms contained therein and the long chain amine compound (B) is contained in an amount of 0.01 to 1 mole of the total amount of silicon atoms of the polysiloxane (1) to (4) above, wherein the coating liquid is contained in an amount of 0.1 mol to 0.2 mol.
(6) 추가로, 식 (1) 로 나타내는 규소 화합물 (D) 이 함유되는 상기 (1)∼(5) 중 어느 하나에 기재된 도포액. (6) The coating liquid according to any one of (1) to (5), further containing a silicon compound (D) represented by the formula (1).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
(식 중, R1, R2, R3 및 R4 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼5 의 포화 탄화 수소기를 나타내고, n 은 2 이상의 정수를 나타낸다.) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a saturated hydrocarbon group of 1 to 5 carbon atoms, and n represents an integer of 2 or more).
(7) 상기 (1)∼(6) 중 어느 하나에 기재된 도포액을 경화시켜 얻어지는 저굴절률 피막. (7) A low refractive index film obtained by curing the coating liquid according to any one of (1) to (6) above.
(8) 상기 (7) 에 기재된 저굴절률 피막이 보다 높은 굴절률을 갖는 기재의 표면 상에 형성된 반사 방지재. (8) The antireflection material as described in (7), wherein the low refractive index coating is formed on the surface of a substrate having a higher refractive index.
(9) 함불소 유기기가 결합된 규소 원자를 갖는 알콕시실란을 5∼40 몰% 함유하는 알콕시실란의 농도가, 그 알콕시실란의 전체 규소 원자를 이산화 규소로 환산하여 유기 용매 중 4∼15 질량% 인 용액을, 상기 알콕시실란의 전체 알콕사이드기의 1 몰에 대해 0.2∼2 몰의 옥살산의 존재 하에 축중합하여 폴리실록산 (A) 의 용액을 얻는 공정과, 얻어진 폴리실록산 (A) 의 용액에 대해, 탄소수가 9∼20 인 긴사슬 아민 화합물 (B) 과 유기 용매 (C) 의 혼합 용액을 혼합하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 저굴절률 피막 형성용 도포액의 제조 방법. (9) A process for producing a silicon-containing alkoxysilane, wherein the concentration of the alkoxysilane containing 5 to 40 mol% of alkoxysilane having silicon atoms bonded with a fluorine-containing organic group is 4 to 15% by mass of the total silicon atoms of the alkoxysilane, (A) solution in the presence of 0.2 to 2 moles of oxalic acid per 1 mole of the total alkoxide group of the alkoxysilane to obtain a solution of the polysiloxane (A); and a step of reacting the solution of the polysiloxane (B) and the organic solvent (C), wherein the long-chain amine compound (B) is 9-20.
발명의 효과Effects of the Invention
본 발명에 의하면, 물 접촉각이 높은 기재 상에서도 비교적 낮은 온도에 있어서 충분히 경화되고, 고광투과성 (고투명성), 고경도의 내찰상성이 우수한 저굴절률을 갖는 피막의 피막 형성용 도포액, 그 효율적인 제조 방법이 제공된다. 또한, 본 발명에 의하면, 그 도포액으로부터 얻어지는 고경도의 내찰상성이 우수한 저굴절률 피막 및 그 피막을 사용하는 반사 방지재가 제공된다. According to the present invention, it is possible to provide a coating liquid for forming a coating film of a coating film which is sufficiently cured even at a relatively low temperature on a substrate having a high water contact angle and has a high refractive index (high transparency) / RTI > Further, according to the present invention, there is provided an antireflection film using the coating film and a low refractive index film excellent in scratch resistance with high hardness obtained from the coating liquid.
발명을 실시하기Carrying out the invention 위한 최선의 형태 Best form for
이하에 본 발명에 대해 더욱 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
<폴리실록산 (A)> ≪ Polysiloxane (A) >
본 발명의 저굴절률 피막 형성용 도포액 (이하, 간단하게, 피막 형성용 도포액 또는 도포액이라고 한다) 에 함유되는 함불소 유기기가 결합된 규소 원자를 주골격 중에 갖는 폴리실록산 (A) (이하, 간단하게, 폴리실록산 (A) 이라고도 한다.) 은 주골격 중의 규소 원자에 결합되고, 불소 원자로 치환된 유기기 (본 발명에서는 함불소 유기기라고 한다) 을 갖는 폴리실록산, 환언하면, 불소 원자로 치환된 유기 측사슬이 규소 원자에 결합된 부위를 갖는 폴리실록산이다. A polysiloxane (A) having a silicon atom bonded to fluorinated organic groups contained in the coating liquid for forming a low refractive index film (hereinafter, simply referred to as a film forming coating liquid or coating liquid) (Also referred to simply as polysiloxane (A)) is a polysiloxane having an organic group (hereinafter referred to as a fluorinated organic group in the present invention) bonded to a silicon atom in the main skeleton and substituted with a fluorine atom, in other words, Is a polysiloxane having a site in which a side chain is bonded to a silicon atom.
상기의 함불소 유기기로는 일부 또는 전부가 불소로 치환된 유기기, 통상적으로는 일부의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 알킬기나 일부의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 에테르 결합을 포함하는 알킬기 등인 것이 많다. 함불소 유기기가 갖는 불소 원자의 수는 특별히 한정되지 않는다. As the fluorinated organic group, there are many organic groups in which some or all of them are substituted with fluorine, usually, alkyl groups in which some hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms, and alkyl groups in which some hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms. The number of fluorine atoms contained in the fluorinated organic group is not particularly limited.
함불소 유기기의 탄소수가 12 를 초과하는 경우에는, 후기하는 유기 용매 (C) 에 대한 용해성이 불충분해지는 경우가 있다. 그 때문에, 탄소수가 3∼12 인 유기기가 바람직하다. 보다 바람직하게는 탄소수가 3 내지 10 이다. 함불소 유기기로는 예를 들어, 트리플루오로프로필기, 트리데카플루오로옥틸기, 헵타데카플루오로데실기, 펜타플루오로페닐프로필기 등을 들 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.When the number of carbon atoms of the fluorinated organic group exceeds 12, the solubility in the later organic solvent (C) may become insufficient. Therefore, an organic group having 3 to 12 carbon atoms is preferable. And more preferably 3 to 10 carbon atoms. The fluorinated organic group includes, for example, trifluoropropyl group, tridecafluorooctyl group, heptadecafluorodecyl group, pentafluorophenylpropyl group, and the like, but is not limited thereto.
함불소 유기기 중에서도, 퍼플루오로알킬기를 말단에 갖고, 또한 그 기에 탄화 수소 알킬렌기가 결합된 바람직하게는 탄소수가 3∼15 인 기는, 투명성이 높은 피막을 용이하게 얻을 수 있기 때문에 바람직하다. 그 바람직한 구체예로서 트리플루오로프로필기, 트리데카플루오로옥틸기, 헵타데카플루오로데실기 등을 들 수 있다. 폴리실록산 (A) 은 상기와 같은 함불소 유기기를 1 종 가지고 있어도 되고, 복수종 가지고 있어도 된다.Among the fluorinated organic groups, a group having a perfluoroalkyl group at the terminal thereof and a hydrocarbon alkylene group bonded thereto and preferably having 3 to 15 carbon atoms is preferable because a film with high transparency can be easily obtained. Preferable specific examples thereof include a trifluoropropyl group, a tridecafluorooctyl group, and a heptadecafluorodecyl group. The polysiloxane (A) may have one fluorinated organic group as described above, or may have plural kinds.
폴리실록산 (A) 은 도포액 중에서 균질한 용액을 형성하는 상태이면 특별히 한정되지 않는다. 특히, 상기 서술한 함불소 유기기가 결합된 규소 원자가 폴리실록산 (A) 의 전체 규소 원자 중의 5∼40 몰% 인 경우, 물의 접촉각이 90 도 이상인 피막을 용이하게 얻을 수 있고, 균질한 폴리실록산 (A) 의 용액을 용이하게 얻을 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 함불소 유기기를 결합한 규소 원자가, 폴리실록산 (A) 의 전체 규소 원자 중의 10∼40 몰% 인 경우, 반사율을 더 저하시킬 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 함불소 유기기를 결합한 규소 원자가 폴리실록산 (A) 의 전체 규소 원자 중의 5∼25 몰% 인 경우에는 내찰상성을 더 높일 수 있기 때문에 바람직하다. The polysiloxane (A) is not particularly limited as long as a homogeneous solution is formed in the coating liquid. Particularly, when the silicon atom bonded to the fluorinated organic group described above is 5 to 40 mol% of the total silicon atoms of the polysiloxane (A), a film having a contact angle of water of 90 degrees or more can be easily obtained, and homogeneous polysiloxane (A) Is easily obtained. When the silicon atom bonded with the fluorinated organic group is 10 to 40 mol% of the total silicon atoms of the polysiloxane (A), it is preferable because the reflectance can be further lowered. The silicon atom bonded to the fluorinated organic group is preferably 5 to 25 mol% of the total silicon atoms of the polysiloxane (A) because it is possible to further increase scratch resistance.
상기의 이유를 종합하면, 함불소 유기기를 결합한 규소 원자는 폴리실록산 (A) 의 전체 규소 원자 중의 10∼25 몰% 인 것이 특히 바람직하다. In light of the above reasons, it is particularly preferable that the silicon atom bonded with the fluorinated organic group is 10 to 25 mol% of the total silicon atoms of the polysiloxane (A).
함불소 유기기를 갖는 폴리실록산 (A) 을 얻는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 일반적으로는 상기 서술한 함불소 유기기를 갖는 알콕시실란 또는 그 알콕시실란과 그 이외의 알콕시실란을 축중합하여 얻는다. 그 중에서도, 함불소 유기기를 갖는 알콕시실란과 테트라알콕시실란, 또한 필요에 따라 상기 이외의 알콕시실란 (이하, 그 밖의 알콕시실란이라고도 한다) 을 축중합하는 경우, 안정적이고 균질한 폴리실록산 (A) 의 용액을 용이하게 얻을 수 있기 때문에 바람직하다.The method for obtaining the polysiloxane (A) having a fluorinated organic group is not particularly limited. Generally, alkoxysilane having the above-mentioned fluorinated organic group or its alkoxysilane and other alkoxysilane are obtained by condensation polymerization. Among them, in the case of polycondensation of an alkoxysilane having a fluorinated organic group and a tetraalkoxysilane and, if necessary, alkoxysilanes other than the above (hereinafter also referred to as other alkoxysilanes), a solution of a stable and homogeneous polysiloxane (A) Can be easily obtained.
상기 함불소 유기기를 갖는 알콕시실란으로는 하기 식 (2) 로 나타내는 알콕시실란을 들 수 있다. 식 중, R1 은 함불소 유기기이고, R2 는 탄소수 1∼5 의 탄화 수소기이다.The alkoxysilane having a fluorinated organic group includes an alkoxysilane represented by the following formula (2). Wherein R < 1 > Is a fluorinated organic group, and R 2 is a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
[화학식 2](2)
이러한 알콕시실란의 바람직한 구체예로는 트리플루오로프로필트리메톡시실란, 트리플루오로프로필트리에톡시실란, 트리데카플루오로옥틸트리메톡시실란, 트리데카플루오로옥틸트리에톡시실란, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란, 헵타데카플루오로데실트리에톡시실란 등을 들 수 있다.Specific preferred examples of such alkoxysilane include trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluoro Decyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, and the like.
또한, 함불소 유기기를 갖는 알콕시실란과 축중합되는 테트라알콕시실란의 구체예로는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라이소프로폭시실란, 테트라부톡시실란 등을 들 수 있다. 테트라알콕시실란은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 복수종을 병용할 수도 있다. Specific examples of the tetraalkoxysilane that is condensed with the alkoxysilane having a fluorinated organic group include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, and tetrabutoxysilane. have. The tetraalkoxysilane may be used singly or in combination of plural species.
또한, 그 밖의 알콕시실란은 함불소 유기기 이외의 유기기 및/또는 수소 원자가 규소 원자에 결합된 알콕시실란이다. 이와 같은, 그 밖의 알콕시실란의 구체예는 이하에 들 수 있다. 트리메톡시실란, 트리에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 프로필트리메톡시실란, 프로필트리에톡시실란, 부틸트리메톡시실란, 부틸트리에톡시실란, 펜틸트리메톡시실란, 펜틸트리에톡시실란, 헵틸트리메톡시실란, 헵틸트리에톡시실란, 옥틸트리메톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 도데실트리메톡시실란, 도데실트리에톡시실란, 헥사데실트리메톡시실란, 헥사데실트리에톡시실란, 옥타데실트리메톡시실란, 옥타데실트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 등의 트리알콕시실란 및 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란 등의 디알콕시실란 및 트리메틸메톡시실란, 트리메틸에톡시실란 등의 트리알킬알콕시실란 등. Further, the other alkoxysilane is an organic group other than the fluorinated organic group and / or an alkoxysilane in which a hydrogen atom is bonded to a silicon atom. Specific examples of such other alkoxysilanes are as follows. Trimethoxysilane, triethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyltrimethoxy Silane, butyltriethoxysilane, pentyltrimethoxysilane, pentyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane Hexadecyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, Methoxy silane, vinyl triethoxy silane,? -Aminopropyl trimethoxy silane,? -Aminopropyl triethoxy silane,? -Glycidoxypropyl trimethoxy silane,? -Glycidoxypropyl triethoxy silane, γ-methacryloxypropyl Trialkoxysilane such as methoxysilane and? -Methacryloxypropyltriethoxysilane, dialkoxysilane such as dimethyldimethoxysilane and dimethyldiethoxysilane, and trialkylalkoxysilane such as trimethylmethoxysilane and trimethylethoxysilane, Etc.
그 밖의 알콕시실란은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 복수종을 병용할 수도 있다. The other alkoxysilanes may be used singly or in combination.
폴리실록산 (A) 을 얻기 위해 사용하는, 함불소 유기기를 갖는 알콕시실란의 사용량은 폴리실록산 (A) 이 유기 용매 (C) 중에서 균질한 용액 상태이며, 본 발명의 효과를 저해시키지 않는 한 한정되지 않는다. 그 중에서도, 함불소 유기기를 갖는 알콕시실란이 전체 알콕시실란의 5∼40 몰% 인 경우, 물의 접촉각이 90 도 이상의 피막을 용이하게 얻을 수 있고, 균질한 폴리실록산 (A) 의 용액을 용이하게 얻을 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 함불소 유기기를 갖는 알콕시실란이 전체 알콕시실란의 10∼40 몰% 인 경우, 반사율을 더 저하시킬 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 함불소 유기기를 갖는 알콕시실란이 전체 알콕시실란의 5∼25 몰% 인 경우에는 내찰상성을 더 높일 수 있기 때문에 바람직하다. The amount of the alkoxysilane having a fluorinated organic group used for obtaining the polysiloxane (A) is not limited as long as the polysiloxane (A) is in a homogeneous solution state in the organic solvent (C) and does not impair the effect of the present invention. In particular, when the alkoxysilane having a fluorinated organic group is from 5 to 40 mol% of the total alkoxysilane, a film having a water contact angle of 90 degrees or more can be easily obtained, and a homogeneous solution of the polysiloxane (A) can be easily obtained Therefore, it is desirable. Further, when the alkoxysilane having a fluorinated organic group is 10 to 40 mol% of the total alkoxysilane, the reflectance can be further lowered, which is preferable. In addition, when the alkoxysilane having a fluorinated organic group is 5 to 25 mol% of the total alkoxysilane, it is preferable because the scratch resistance can be further increased.
상기의 이유를 종합하면, 함불소 유기기를 갖는 알콕시실란은 전체 알콕시실란의 10∼25 몰% 인 것이 특히 바람직하다.In view of the above reasons, it is particularly preferable that the alkoxysilane having a fluorinated organic group is 10 to 25 mol% of the total alkoxysilane.
함불소 유기기를 갖는 폴리실록산 (A) 을 얻는 방법으로는 예를 들어, 함불소 유기기를 갖는 알콕시실란과, 필요에 따라 테트라알콕시실란 및 그 밖의 알콕시실란의 유기 용액을 옥살산의 존재 하에 가열하여 중축합하는 방법을 들 수 있다. 구체적으로는, 미리 알코올에 옥살산을 첨가하여 옥살산의 알코올 용액으로 한 후, 그 용액을 가열한 상태에서, 상기의 각종 알콕시실란을 혼합하는 방법이다.As a method for obtaining the polysiloxane (A) having a fluorinated organic group, for example, an organic solution of an alkoxysilane having a fluorinated organic group and, if necessary, a tetraalkoxysilane and other alkoxysilane is heated and polycondensed by heating in the presence of oxalic acid Method. Specifically, oxalic acid is added to the alcohol in advance to prepare an alcohol solution of oxalic acid, and the solution is heated to mix the various alkoxysilanes.
옥살산의 존재량은 사용하는 알콕시실란이 갖는 전체 알콕시기의 1 몰에 대해, 바람직하게는 0.2∼2 몰이 된다. 상기 가열은 액온이 바람직하게는 0∼180℃ 에서 실시할 수 있고, 또한, 액의 증발, 휘산 등이 일어나지 않게 바람직하게는, 환류관을 설치한 용기 중의 환류 하에서 수십 분 내지 수십 시간 실시된다.The amount of oxalic acid present is preferably 0.2 to 2 mol, based on 1 mol of the total alkoxy group of the alkoxysilane used. The heating can be carried out at a liquid temperature of preferably from 0 to 180 DEG C and preferably from several tens of minutes to several tens of hours under reflux in a vessel equipped with a reflux tube so as not to evaporate or volatilize the liquid.
상기 함불소 유기기를 갖는 폴리실록산 (A) 을 얻는 경우, 알콕시실란을 복수종 사용하는 경우에는, 알콕시실란을 미리 혼합한 혼합물로서 사용해도 되고, 복수종의 알콕시실란을 순차적으로 반응계에 첨가해도 된다. In the case of obtaining polysiloxane (A) having fluorinated organic groups, when a plurality of alkoxysilanes are used, they may be used as a mixture of alkoxysilanes in advance, or a plurality of alkoxysilanes may be added to the reaction system sequentially.
알콕시실란을 축중합할 때에는 유기 용매 중에 있어서의 알콕시실란의 전체 규소 원자를 산화물로 환산한 농도 (이하, SiO2 환산 농도라고 한다) 가 바람직하게는 20 질량% 이하, 특히 바람직하게는 4∼15 질량% 의 범위에서 가열되는 것이 바람직하다. 이와 같은 농도 범위를 선택함으로써, 겔 생성을 억제하여, 균질한 폴리실록산 (A) 의 용액을 얻을 수 있다. When the alkoxysilane is condensation-polymerized, the concentration (hereinafter referred to as SiO 2 -converted concentration) of the total silicon atoms of the alkoxysilane in the organic solvent in terms of oxides is preferably 20% by mass or less, particularly preferably 4 to 15% % By mass of the composition. By selecting such a concentration range, it is possible to obtain a homogeneous solution of the polysiloxane (A) by suppressing gel formation.
상기 알콕시실란을 중축합할 때에 사용되는 유기 용매 (이하, 중합 용매라고도 한다) 는 알콕시실란을 용해시키는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 일반적으로는 알콕시실란의 중축합 반응에 의해 알코올이 생성되기 때문에, 알코올류나 알코올류와 상용성이 양호한 유기 용매가 사용된다. 특히, 알코올류, 글리콜류 또는 글리콜에테르류가 바람직하다. 이와 같은 중합 용매의 구체예로는 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올 등의 알코올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르 등을 들 수 있다. 상기의 유기 용매는 복수종 혼합하여 사용해도 된다. The organic solvent used for polycondensing the alkoxysilane (hereinafter also referred to as a polymerization solvent) is not particularly limited as long as it dissolves the alkoxysilane. In general, an alcohol is produced by a polycondensation reaction of an alkoxysilane, and therefore an organic solvent having good compatibility with an alcohol or an alcohol is used. In particular, alcohols, glycols or glycol ethers are preferred. Specific examples of such a polymerization solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and n-butanol, glycols such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monoethyl ether Ether, and the like. These organic solvents may be used in combination of a plurality of species.
또한, 본 발명에 있어서, 함불소 유기기를 갖는 폴리실록산 (A) 은 상기 서술한 방법으로 얻어진 용액을 그대로 폴리실록산 (A) 의 용액으로 해도 되고, 필요에 따라, 상기 서술한 방법으로 얻어진 용액을 농축시키거나 용매를 첨가하여 희석하거나 또는 다른 용매로 치환하여, 폴리실록산 (A) 의 용액으로 해도 된다. In addition, in the present invention, the polysiloxane (A) having a fluorinated organic group may be a solution of the polysiloxane (A) as it is, and if necessary, the solution obtained by the above-described method may be directly concentrated Or a solution of the polysiloxane (A) may be prepared by diluting the solvent with a solvent or by substituting with another solvent.
다른 용매로 치환하는 경우, 그 용매 (이하, 치환 용매라고도 한다.) 는 중축합에 사용한 것과 동일한 용매이어도 되고, 다른 용매이어도 된다. 이 용매는 폴리실록산 (A) 이 균일하게 용해되는 한 특별히 한정되지 않고, 1 종이어도 복수종이어도 임의로 선택하여 사용할 수 있다.In the case of substitution with another solvent, the solvent (hereinafter also referred to as substitution solvent) may be the same solvent as that used for the polycondensation, or may be another solvent. This solvent is not particularly limited as long as the polysiloxane (A) dissolves uniformly, and one or more kinds of solvents can be arbitrarily selected and used.
상기 치환 용매의 구체예로는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 디아세톤알코올 등의 알코올류 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 ; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 헥실렌글리콜 등의 글리콜류 ; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 등의 글리콜에테르 ; 아세트산 메틸에스테르, 아세트산 에틸에스테르, 락트산 에틸에스테르 등의 에스테르류 등을 들 수 있다. Specific examples of the substitution solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, and diacetone alcohol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol; Glycol ethers such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monobutyl ether; And esters such as acetic acid methyl ester, acetic acid ethyl ester and lactic acid ethyl ester.
<긴사슬 아민 화합물 (B)> ≪ Long chain amine compound (B) >
본 발명의 도포액에 함유되는 탄소수가 9∼20 인 긴사슬 아민 화합물 (B) (이하, 긴사슬 아민 화합물 (B) 이라고도 한다) 은 탄소수가 9∼20 인 모노아민 화합물이다. 긴사슬 아민 화합물 (B) 은 지방족 아민이 바람직하고, 지환 구조를 가지고 있어도 된다. 긴사슬 아민 화합물 (B) 의 탄소수가 9 이상인 경우, 90 도를 초과하는 물의 접촉각이 높은 표면의 필름 기재 상에서도 충분한 막형성성을 용이하게 얻을 수 있다. 탄소수는 10 이상이 바람직하다. 한편, 탄소수가 20 을 초과하는 경우에는, 물의 접촉각이 높은 표면의 필름 기재 상에서 충분한 도포성을 얻기 어려운 경우가 발생한다. 그 중에서도, 탄소수는 18 이하가 바람직하다. The long chain amine compound (B) (hereinafter also referred to as long chain amine compound (B)) having 9 to 20 carbon atoms contained in the coating liquid of the present invention is a monoamine compound having 9 to 20 carbon atoms. The long-chain amine compound (B) is preferably an aliphatic amine and may have an alicyclic structure. When the number of carbon atoms of the long chain amine compound (B) is 9 or more, sufficient film formability can be easily obtained even on a film substrate having a high contact angle of water exceeding 90 degrees. The number of carbon atoms is preferably 10 or more. On the other hand, when the number of carbon atoms is more than 20, it may be difficult to obtain sufficient coating properties on a film substrate having a high water contact angle. Among them, the number of carbon atoms is preferably 18 or less.
긴사슬 아민 화합물 (B) 은 1 급 아민, 2 급 아민 또는 3 급 아민의 어느 것이어도 된다. 각각의 구체예를 이하에 열거하지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.The long chain amine compound (B) may be either a primary amine, a secondary amine or a tertiary amine. Each specific example is listed below, but is not limited thereto.
1 급 아민으로는As primary amines
등의 분기 아민을 들 수 있다. And the like.
2 급 아민으로는As the secondary amine,
등을 들 수 있다. And the like.
3 급 아민으로는As tertiary amines
등을 들 수 있다. And the like.
또한, 지환 구조를 갖는 아민의 구체예로는 하기 식 (A-1) 내지 (A-7) 등의 화합물을 들 수 있다.Specific examples of the amine having an alicyclic structure include compounds represented by the following formulas (A-1) to (A-7).
[화학식 3](3)
긴사슬 아민 화합물 (B) 로는 물의 접촉각이 높은, 예를 들어, 비누화 처리 등의 친수화 처리를 하지 않은 표면의 필름 기재 상에서 경화된 피막의 내찰상성을 높이기 위해서는 1 급 아민 또는 2 급 아민이 바람직하다. 보다 바람직하게는 1 급 아민이다. 이들의 긴사슬 아민 화합물 (B) 은 염의 형태로 사용해도 되지만, 이 경우에는 도포액의 안정성이 향상되는 경우가 있다. As the long chain amine compound (B), a primary amine or a secondary amine is preferable in order to improve the scratch resistance of the film cured on the surface of a film having a high water contact angle, for example, saponification treatment, Do. More preferably a primary amine. These long-chain amine compounds (B) may be used in the form of a salt, but in this case, the stability of the coating solution may be improved.
또한, 직사슬형의 지방족 아민은 급격한 겔화를 일으키지 않고, 피막의 경화를 촉진시키는 효과가 높기 때문에 바람직하다. 또한, 직사슬형의 알킬아민은 물의 접촉각이 높은 기재 상에서 충분한 막형성성을 용이하게 얻을 수 있다. The linear aliphatic amine is preferred because it does not cause rapid gelation and has a high effect of accelerating the curing of the film. In addition, the linear alkylamine can easily obtain sufficient film formability on a substrate having a high water contact angle.
또한, 불포화 알킬기 또는 방향족을 함유하는 알킬기를 갖는 아민 화합물이어도, 급격한 겔화를 일으키지 않고, 피막의 경화를 촉진시키는 결과가 얻어지지만, 그 경우 피막의 굴절률이 높아지기 때문에, 반사 방지 기능이 저하되는 경향이 있다. In addition, even in the case of an amine compound having an unsaturated alkyl group or an aromatic-containing alkyl group, a result of accelerating the curing of the coating film without causing rapid gelation is obtained. However, in this case, since the refractive index of the coating film becomes high, have.
본 발명의 도포액에 있어서의 긴사슬 아민 화합물 (B) 의 함유량은, 폴리실록산 (A) 의 전체 규소 원자 합계량의 1 몰에 대해, 긴사슬 아민 화합물 (B) 이 바람직하게는 0.01∼0.2 몰, 보다 바람직하게는 0.03∼0.1 몰이 되도록 하는 것이 바람직하다. 긴사슬 아민 화합물 (B) 이 0.01 몰 이상인 경우, 저온에서 경화되기 쉽기 때문에 바람직하고, 반대로, 0.2 몰 이하인 경우, 피막이 투명하고, 불균일이 없으며, 높은 피막의 경도를 용이하게 얻을 수 있기 때문에 바람직하다. The content of the long chain amine compound (B) in the coating liquid of the present invention is preferably 0.01 to 0.2 mol, and more preferably 0.01 to 0.5 mol, per 1 mol of the total amount of silicon atoms of the polysiloxane (A) And more preferably 0.03 to 0.1 mole. When the amount of the long-chain amine compound (B) is 0.01 mole or more, it is preferable because it tends to be cured at a low temperature. Conversely, when it is 0.2 mole or less, the coating is preferable because it is transparent, has no unevenness, .
<유기 용매 (C)> ≪ Organic solvent (C) >
본 발명의 도포액의 주용매인 유기 용매 (C) 는 함불소 유기기가 규소 원자에 결합된 폴리실록산 (A), 탄소수가 9∼20 인 긴사슬 아민 화합물 (B) 및 필요에 따라 함유되는 하기 서술하는 규소 화합물 (D) 및 그 밖의 성분을 용해시키는 한 모두 사용할 수 있다. The organic solvent (C), which is the main solvent of the coating liquid of the present invention, is composed of a polysiloxane (A) having a fluorine-containing organic group bonded to a silicon atom, a long chain amine compound (B) having a carbon number of 9 to 20, (D) and the other components are dissolved.
유기 용매 (C) 의 구체예로는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 디아세톤알코올 등의 지방족 알코올류 ; 시클로펜틸알코올, 시클로헥사놀 등의 지환식 알코올 ; 벤질알코올, 신나밀알코올 등의 방향족 알코올 ; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 ; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 헥실렌글리콜 등의 글리콜류 ; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 등의 글리콜에테르 ; 아세트산 메틸에스테르, 아세트산 에틸에스테르, 락트산 에틸에스테르 등의 에스테르류 등을 들 수 있다. 이들의 단독 또는 복수의 유기 용매가 병용된다. Specific examples of the organic solvent (C) include aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, and diacetone alcohol; Alicyclic alcohols such as cyclopentyl alcohol and cyclohexanol; Aromatic alcohols such as benzyl alcohol and cinnamyl alcohol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol; Glycol ethers such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monobutyl ether; And esters such as acetic acid methyl ester, acetic acid ethyl ester and lactic acid ethyl ester. These solvents alone or a plurality of organic solvents are used in combination.
그 중에서도, 탄소수가 바람직하게는 1∼6, 보다 바람직하게는 1∼4 인 알코올 및 탄소수가 바람직하게는 3∼10, 보다 바람직하게는 3∼7 인 글리콜에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 이루어지는 것의 사용이 바람직하다.Among them, at least one selected from the group consisting of alcohols having 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and glycol ethers having preferably 3 to 10 carbon atoms, and more preferably 3 to 7 carbon atoms Is preferably used.
<규소 화합물 (D)> ≪ Silicon compound (D) >
본 발명의 저굴절률 피막 형성용 도포액에는, 추가로 하기 식 (1) 로 나타내는 규소 화합물 (D) 이 함유되는 것이 바람직하다. 이로써, 피막의 내찰상성을 더 높일 수 있다. It is preferable that the coating liquid for forming a low refractive index film of the present invention further contains a silicon compound (D) represented by the following formula (1). Thus, the scratch resistance of the coating film can be further increased.
[화학식 4][Chemical Formula 4]
식 (1) 에 있어서의, R1, R2, R3 및 R4 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼5 의 포화 탄화 수소기를 나타내고, n 은 2 이상, 바람직하게는 2∼50 의 정수를 나타낸다. 탄소수 1∼5 의 포화 탄화 수소기의 구체예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기 등을 들 수 있다. In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and n is an integer of 2 or more, preferably 2 to 50 . Specific examples of the saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group.
규소 화합물 (D) 은 식 (1) 로 나타내는 화합물의 복수종이 혼합된 것이어도 된다. 그 경우, n 이 2 이상의 정수인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 4 이상의 정수이다.The silicon compound (D) may be a mixture of plural kinds of compounds represented by the formula (1). In this case, n is preferably an integer of 2 or more, more preferably 4 or more.
상기 규소 화합물 (D) 을 얻는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 테트라알콕시실란을 알코올 등의 유기 용매 중에서 가수 분해 축합하는 방법으로 얻을 수 있다. 그 때, 가수 분해는 부분 가수 분해이어도, 완전 가수 분해이어도 어느 것이어도 된다. 완전 가수 분해의 경우에는, 이론 상, 테트라알콕시실란 중의 전체 알콕사이드기의 0.5 배 몰의 물을 첨가하면 되는데, 통상적으로는 0.5 배 몰보다 과잉량의 물을 첨가하는 것이 바람직하다. 한편, 부분 가수 분해의 경우에는 0.5 배 몰 이하의 물의 양이면 되는데, 0.2∼0.5 배 몰이 바람직하다. The method for obtaining the silicon compound (D) is not particularly limited, and for example, tetraalkoxysilane can be obtained by hydrolysis and condensation in an organic solvent such as an alcohol. At this time, the hydrolysis may be partial hydrolysis or completely hydrolysis. In the case of complete hydrolysis, it is theoretically possible to add 0.5 times the molar amount of water of the total alkoxide groups in the tetraalkoxysilane, but it is usually preferred to add an excess amount of water in excess of 0.5 times the molar amount. On the other hand, in the case of partial hydrolysis, the amount of water is 0.5-fold molar or less, preferably 0.2-0.5-fold molar.
상기 원료의 테트라알콕시실란의 구체예로는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라부톡시실란 등을 들 수 있고, 시판품으로서 용이하게 입수할 수 있다. Specific examples of the tetraalkoxysilane of the raw material include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane and tetrabutoxysilane, and they are easily available as commercial products.
상기 규소 화합물 (D) 을 얻는 반응에 사용하는 물의 양은, 원하는 바에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 테트라알콕시실란 중의 전체 알콕사이드기의 0.5∼2.5 배 몰이 바람직하다. 또한, 반응에서는 통상적으로, 가수 분해ㆍ축합 반응을 촉진시키는 목적에서, 염산, 황산, 질산, 아세트산, 포름산, 옥살산, 인산, 플루오르산, 말레산 등의 산, 암모니아 등의 알칼리 및 염산, 황산, 질산 등의 금속염 등의 촉매가 사용된다.The amount of water used in the reaction for obtaining the silicon compound (D) can be appropriately selected according to the desired amount, and is preferably 0.5 to 2.5 times the total alkoxide group in the tetraalkoxysilane. The reaction is usually carried out in the presence of an acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, formic acid, oxalic acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid or maleic acid, an alkali such as ammonia, A catalyst such as a metal salt of nitric acid or the like is used.
또한, 알콕시실란이 용해된 용액을 가열함으로써, 더욱, 중축합을 촉진시키는 것도 일반적이다. 그 때, 가열 온도 및 가열 시간은 원하는 바에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 실온∼100℃ 에서 0.5∼48 시간 가열ㆍ교반하거나 환류하에서 0.5∼48 시간 가열ㆍ교반하거나 하는 방법을 들 수 있다. Further, it is also common to accelerate the polycondensation by heating the solution in which the alkoxysilane is dissolved. The heating temperature and the heating time may be appropriately selected according to the desired method. For example, heating and stirring at room temperature to 100 ° C for 0.5 to 48 hours or heating and stirring at reflux for 0.5 to 48 hours may be mentioned.
상기 반응에 있어서, 테트라알콕시실란을 중축합할 때에 사용되는 유기 용매는 테트라알콕시실란을 용해시키는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 일반적으로는 테트라알콕시실란의 중축합 반응에 의해 알코올이 생성되기 때문에, 알코올류나 알코올류와 상용성이 양호한 유기 용매가 사용된다. In the above reaction, the organic solvent used when polycondensing tetraalkoxysilane is not particularly limited as long as it dissolves tetraalkoxysilane. In general, an alcohol is produced by a polycondensation reaction of tetraalkoxysilane, and thus an organic solvent having good compatibility with an alcohol or an alcohol is used.
이와 같은 유기 용매의 구체예로는 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올 등의 알코올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르 등을 들 수 있다. 상기의 유기 용매는 복수종 혼합하여 사용해도 된다. Specific examples of such organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and n-butanol, glycols such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, and diethylene glycol monoethyl ether Ether, and the like. These organic solvents may be used in combination of a plurality of species.
이와 같이 하여 얻어지는 규소 화합물 (D) 의 유기 용매의 용액은 SiO2 환산 농도가 바람직하게는 30 질량% 이하가 된다. 이 농도 범위에 있어서 임의의 농도를 선택함으로써, 겔 생성을 억제하여, 균질한 용액을 얻을 수 있다.The concentration of the solution of the organic solvent of the silicon compound (D) thus obtained in terms of SiO 2 is preferably 30 mass% or less. By selecting an arbitrary concentration in this concentration range, gel formation can be suppressed and a homogeneous solution can be obtained.
또한, 규소 화합물 (D) 로는 시판품을 사용할 수도 있다. 예를 들어, 모두 코르코트사 제조인, 메틸실리케이트 51, 메틸실리케이트 53A, 에틸실리케이트 40, 에틸실리케이트 48, SS-C1 등을 들 수 있다. As the silicon compound (D), a commercially available product may also be used. For example, methyl silicate 51, methyl silicate 53A, ethyl silicate 40, ethyl silicate 48, and SS-C1, all of which are manufactured by Corcot.
<그 밖의 성분> ≪ Other components >
본 발명의 저굴절률 피막 형성용 도포액에는, 본 발명의 효과를 저해시키지 않는 한 폴리실록산 (A), 아민 화합물 (B), 유기 용매 (C) 및 규소 화합물 (D) 이외의 그 밖의 성분, 예를 들어, 무기 미립자, 레벨링제, 계면활성제, 추가로 물 등의 매체가 함유되어 있어도 된다.(A), the amine compound (B), the organic solvent (C) and the silicon compound (D), as long as the effect of the present invention is not impaired, A medium such as inorganic fine particles, a leveling agent, a surfactant, and water may be contained.
무기 미립자로는 실리카 미립자, 알루미나 미립자, 티타니아 미립자, 플루오르화 마그네슘 미립자 등의 미립자가 바람직하고, 콜로이드 용액의 것이 특히 바람직하다. 이 콜로이드 용액은 무기 미립자분을 분산매에 분산시킨 것이어도 되고, 시판품의 콜로이드 용액이어도 된다. As the inorganic fine particles, fine particles such as silica fine particles, alumina fine particles, titania fine particles, and magnesium fluoride fine particles are preferable, and a colloid solution is particularly preferable. The colloidal solution may be a dispersion of inorganic fine particles in a dispersion medium, or a colloidal solution of a commercial product.
본 발명의 도포액에 있어서는, 무기 미립자를 함유시킴으로써, 형성되는 경화 피막의 표면 형상이나 그 밖의 기능을 부여할 수 있게 된다. 무기 미립자로는 그 평균 입자 직경은 0.001∼0.2㎛ 가 바람직하고, 나아가서는 0.001∼0.1㎛ 가 바람직하다. 무기 미립자의 평균 입자 직경이 0.2㎛ 를 초과하는 경우에는, 도포액에 의해 형성되는 경화 피막의 투명성이 저하되는 경우가 있다. In the coating liquid of the present invention, by containing the inorganic fine particles, the surface shape and other functions of the formed cured coating can be imparted. The average particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 0.001 to 0.2 mu m, and more preferably 0.001 to 0.1 mu m. When the average particle diameter of the inorganic fine particles exceeds 0.2 탆, the transparency of the cured coating formed by the coating liquid may be lowered.
무기 미립자의 분산매로는 물 또는 유기 용제를 들 수 있다. 콜로이드 용액으로는 도포액의 안정성 관점에서, pH 또는 pKa 가 바람직하게는 2∼10, 특히는 3∼7 인 것이 바람직하다.The dispersion medium of the inorganic fine particles may be water or an organic solvent. The colloidal solution preferably has a pH or pKa of preferably 2 to 10, especially 3 to 7, from the viewpoint of stability of the coating liquid.
상기 콜로이드 용액의 분산매에 사용하는 유기 용매로는 메탄올, 이소프로필 알코올, 에틸렌글리콜, 부탄올, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 등의 알코올류 ; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 ; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화 수소류 ; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류 ; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, γ-부티로락톤 등의 에스테르류 ; 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류를 들 수 있다. Examples of the organic solvent used in the dispersion medium of the colloid solution include alcohols such as methanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, butanol, and ethylene glycol monopropyl ether; Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate and? -Butyrolactone; And ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane.
그 중에서도, 알코올류 또는 케톤류가 바람직하다. 이들 유기 용제는 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 분산매로서 사용할 수 있다. Among them, alcohols or ketones are preferable. These organic solvents may be used alone or as a dispersion medium by mixing two or more kinds thereof.
또한, 상기 레벨링제 및 계면활성제 등은 공지된 것을 사용할 수 있고, 특히 시판품은 입수가 용이해서 바람직하다. The leveling agent, surfactant and the like may be any known ones, and commercial products are particularly preferred because they are readily available.
<피막 형성용 도포액> ≪ Coating liquid for forming a film &
본 발명의 피막 형성용 도포액은 폴리실록산 (A), 긴사슬 아민 화합물 (B) 및 필요에 따라 규소 화합물 (D) 이나 그 외 성분을 함유하고, 그것들이 유기 용매 (C) 에 용해된 용액이다. 본 발명에 있어서는, 상기의 도포액이 얻어지는 한 그 조제 방법은 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기의 각 성분을 사용하는 유기 용매 (C) 중에 순차적으로, 첨가하여 혼합해도 된다. 이 경우, 각 성분의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않는다. 또한, 각 성분을 각각 사용하는 유기 용매 (C) 중에 용해시킨 용액을 혼합해도 된다. 특히, 긴사슬 아민 화합물 (B) 과 유기 용매 (C) 의 혼합 용액에 대해, 폴리실록산 (A) 의 용액을 혼합하는 경우에는, 석출물의 발생을 억제할 수 있으므로 바람직하다. The coating liquid for forming a film of the present invention is a solution containing a polysiloxane (A), a long-chain amine compound (B) and optionally a silicon compound (D) or other components and they are dissolved in an organic solvent (C) . In the present invention, the preparation method thereof is not limited as long as the above-mentioned coating liquid can be obtained. For example, they may be added and mixed sequentially in an organic solvent (C) using each of the above components. In this case, the order of addition of the respective components is not particularly limited. In addition, a solution dissolved in an organic solvent (C) using each component may be mixed. Particularly, when a solution of the polysiloxane (A) is mixed with a mixed solution of the long-chain amine compound (B) and the organic solvent (C), generation of precipitates can be suppressed.
그 중에서도, 폴리실록산 (A) 이 유기 용매 (C) 의 용액으로서 얻어지는 경우에는, 폴리실록산 (A) 의 용액을 그대로 사용할 수 있으므로 바람직하다. 폴리실록산 (A) 을 유기 용매 (C) 의 용액으로서 얻는 경우, 상기 서술한 바와 같이, 함불소 유기기가 결합된 규소 원자를 갖는 알콕시실란의 유기 용매 (C) 의 용액을, 그 알콕시실란의 알콕사이드기의 1 몰에 대해 바람직하게는 0.2∼2 몰의 옥살산의 존재 하에 축중합하여 얻는 것이 바람직하다. Among them, when the polysiloxane (A) is obtained as a solution of the organic solvent (C), the solution of the polysiloxane (A) can be used as it is. When the polysiloxane (A) is obtained as a solution of the organic solvent (C), as described above, the solution of the alkoxysilane organic solvent (C) having the silicon atom bonded with the fluorinated organic group is reacted with the alkoxide silane of the alkoxysilane In the presence of oxalic acid in an amount of preferably 0.2 to 2 mol based on 1 mol of the oxalic acid.
또한, 본 발명의 도포액에는 그 pH 의 조정을 목적으로 하여, 폴리실록산 (A) 의 용액에 미리 산을 혼합할 수 있다. 산의 양은 폴리실록산 (A) 의 규소 원자의 1 몰에 대해 0.01∼2.5 몰이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1∼2 몰인 것이 바람직하다.Further, in the coating liquid of the present invention, an acid can be mixed in advance with the solution of the polysiloxane (A) for the purpose of adjusting the pH thereof. The amount of the acid is preferably 0.01 to 2.5 moles, more preferably 0.1 to 2 moles, per 1 mole of the silicon atoms of the polysiloxane (A).
상기에서 사용하는 산으로는 염산, 질산, 황산, 인산 등의 무기산 ; 포름산, 아세트산, 말산 등의 모노카르복실산류 ; 옥살산, 시트르산, 프로피온산, 숙신산 등의 다가 카르복실산 등의 유기산을 들 수 있다. 이들 중, 용액 상태의 산은 그대로 사용할 수 있으나, 중합 용매로 희석하여 사용하는 것이 바람직하다. 그 이외의 산은, 중합 용매에 적당한 농도로 용해시켜 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the acid used include inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid and phosphoric acid; Monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, and malic acid; And organic acids such as polycarboxylic acids such as oxalic acid, citric acid, propionic acid and succinic acid. Of these, the acid in a solution state can be used as it is, but it is preferable to use it by diluting it with a polymerization solvent. The other acid is preferably used by dissolving it in a suitable concentration in a polymerization solvent.
본 발명의 도포액 중에는, 폴리실록산 (A) 이 그 폴리실록산 (A) 이 갖는 규소 원자를 이산화 규소로 환산하여 바람직하게는 0.1∼15 질량%, 보다 바람직하게는 0.5∼10 질량% 함유되고, 또한 긴사슬 아민 화합물 (B) 이 폴리실록산 (A) 의 규소 원자의 1 몰에 대해 0.01∼0.2 몰, 바람직하게는 0.03∼0.1 몰 함유된다. The coating liquid of the present invention contains the polysiloxane (A) in an amount of preferably 0.1 to 15% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, in terms of silicon dioxide, the silicon atoms of the polysiloxane (A) The chain amine compound (B) is contained in an amount of 0.01 to 0.2 mol, preferably 0.03 to 0.1 mol, per 1 mol of the silicon atom of the polysiloxane (A).
또한, 규소 화합물 (D) 이 함유되는 경우, 규소 화합물 (D) 은 폴리실록산 (A) 이 갖는 규소 원자 1 몰에 대해, 바람직하게는 0.03∼0.55 몰, 보다 바람직하게는 0.05∼0.45 몰 함유되는 것이 바람직하다. When the silicon compound (D) is contained, the silicon compound (D) is preferably contained in an amount of 0.03 to 0.55 mol, more preferably 0.05 to 0.45 mol, per 1 mol of silicon atoms contained in the polysiloxane (A) desirable.
본 발명에서는 피막 형성용 도포액 중의 SiO2 고형분 환산 농도가, 바람직하게는 O.1∼15 질량%, 보다 바람직하게는 0.5∼10 질량% 인 것이 바람직하다. SiO2 농도가 0.1 질량% 보다 낮으면 1 회의 도포로 원하는 막두께를 얻기 어렵고, 반대로 15 질량% 이하에서, 용액의 포트 라이프가 더 안정되기 쉽다. 여기서 말하는 바의 SiO2 고형분 환산 농도란, 도포액 중의 규소 원자를 이산화 규소로 환산한 농도를 의미한다. 예를 들어, 도포액 중에 폴리실록산 (A) 만이 함유되는 경우에는, 폴리실록산 (A) 의 규소 원자를 이산화 규소로 환산한 농도를 의미하고, 또한, 도포액 중에 폴리실록산 (A) 및 규소 화합물 (D) 이 함유되는 경우에는, 폴리실록산 (A) 과, 규소 화합물 (D) 의 규소 원자의 합계량을 이산화 규소로 환산한 농도를 의미한다. In the present invention, it is preferable that the SiO 2 solids content concentration in the coating liquid for forming a film is 0.1 to 15% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass. When the SiO 2 concentration is lower than 0.1 mass%, it is difficult to obtain a desired film thickness by one application, and conversely, when the SiO 2 concentration is lower than 15 mass%, the port life of the solution tends to be more stable. Here, the SiO 2 solids-converted concentration means a concentration of silicon atoms in the coating liquid in terms of silicon dioxide. For example, when only the polysiloxane (A) is contained in the coating liquid, it means the concentration of the polysiloxane (A) in terms of silicon atoms converted to silicon dioxide, and the polysiloxane (A) and the silicon compound (D) Means the concentration in which the total amount of the silicon atoms of the polysiloxane (A) and the silicon compound (D) is converted into silicon dioxide.
상기 도포액은 필요에 따라, 유기 용매를 첨가하여 SiO2 고형분 환산 농도가 상기 범위가 되도록 조제되지만, 이것에 사용되는 유기 용매는 폴리실록산 (A) 을 제조할 때의 알콕시실란의 중축합에 사용하는 유기 용매나, 폴리실록산 (A) 의 용액의 농축이나, 희석 또는 다른 유기 용매로 치환할 때에 사용하는 유기 용매를 사용할 수 있다. 유기 용매는 1 종이어도 복수종이어도 임의로 선택하여 사용할 수 있다. The above-mentioned coating liquid is prepared so that the SiO 2 solids concentration concentration falls within the above range by adding an organic solvent, if necessary, but the organic solvent used therein is used for the polycondensation of the alkoxysilane in producing the polysiloxane (A) An organic solvent or an organic solvent used when the solution of the polysiloxane (A) is concentrated, diluted or replaced with another organic solvent can be used. One or more kinds of organic solvents may be arbitrarily selected and used.
본 발명에 있어서의 저굴절률 피막 형성용 도포액의 구체예를 이하에 열거한다. Specific examples of the coating liquid for forming a low refractive index film in the present invention are listed below.
[1] 폴리실록산 (A) 과 긴사슬 아민 화합물 (B) 을 함유하고, 그것들이 유기 용매 (C) 에 용해된 도포액. [1] A coating liquid containing a polysiloxane (A) and a long-chain amine compound (B), which are dissolved in the organic solvent (C).
[2] 폴리실록산 (A) 과 긴사슬 아민 화합물 (B) 과 규소 화합물 (D) 을 함유하고, 그것들이 유기 용매 (C) 에 용해된 도포액. [2] A coating liquid containing a polysiloxane (A), a long-chain amine compound (B), and a silicon compound (D), which are dissolved in the organic solvent (C).
[3] 상기 [1] 또는 [2] 에 무기 미립자를 함유시킨 도포액. [3] A coating liquid comprising the inorganic fine particles as described in [1] or [2] above.
[4] 상기 [1] 또는 [2] 또는 [3] 에 레벨링제나 계면활성제를 함유시킨 도포액. [4] A coating liquid containing a leveling agent or a surfactant in the above item [1] or [2] or [3].
<피막의 형성> <Formation of Coating>
본 발명의 저굴절률 피막 형성용 도포액은 기재에 도포하고, 열경화시킴으로써 원하는 피막을 얻을 수 있다. 도포 방법은 공지 또는 주지된 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 디핑법, 플로우코트법, 스프레이법, 바코트법, 그라비아코트법, 롤코트법, 블레이드코트법, 에어나이프코트법 등의 방법을 채용할 수 있다. The coating liquid for forming a low refractive index film of the present invention is applied to a substrate and thermally cured to obtain a desired coating film. The application method may be a publicly known method or a known method. For example, a dipping method, a flow coating method, a spraying method, a bar coating method, a gravure coating method, a roll coating method, a blade coating method and an air knife coating method can be employed.
기재로는 플라스틱, 유리, 세라믹스 등으로 이루어지는 기재를 들 수 있다. 플라스틱으로는 폴리카보네이트, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리우레탄, 폴리술폰, 폴리에테르, 폴리에테르케톤, 폴리트리메틸펜텐, 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리(메트)아크릴로니트릴, 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 아세테이트부틸레이트셀룰로오스 등의 시트나 필름 등을 들 수 있다. Examples of the substrate include a substrate made of plastic, glass, ceramics, and the like. As the plastic, there may be used a polycarbonate, a poly (meth) acrylate, a polyether sulfone, a polyarylate, a polyurethane, a polysulfone, a polyether, a polyether ketone, a polytrimethylpentene, a polyolefin, a polyethylene terephthalate, Nitrile, triacetylcellulose, diacetylcellulose, and cellulose acetate butyrate, and the like.
본 발명에 있어서는, 물 접촉각이 높은 기재, 예를 들어, 비누화 처리 등의 친수성을 높이는 처리가 이루어지지 않은 기재, 즉, 물 접촉각이 예를 들어 90 도 이상의 높은 표면을 갖는 기재를 사용하는 경우에도, 고광투과성, 내찰상성이 우수한, 굴절률이 바람직하게는 1.4 이하라는 저굴절률 피막을 기재의 표면 상에 형성할 수 있다. In the present invention, even when a substrate having a high water contact angle, for example, a substrate having no hydrophilic property such as saponification treatment, that is, a substrate having a water contact angle of, for example, 90 degrees or more is used , A high refractive index film having a high refractive index, a high refractive index, a high light transmittance and an excellent scratch resistance, and preferably a refractive index of 1.4 or less.
기재의 표면 상에 형성하는 피막의 두께는, 도막의 두께에 따라서도 조절할 수 있으나, 도포액의 SiO2 환산 농도를 조절함으로써도 용이하게 조절할 수 있다.The thickness of the coating formed on the surface of the substrate can be controlled by adjusting the SiO 2 -converted concentration of the coating liquid, although it can be adjusted depending on the thickness of the coating film.
기재에 형성된 도막은, 온도 20∼150℃ 에서 그대로 열경화시켜도 되지만, 이에 앞서, 온도 20∼100℃ 에서 건조시킨 후, 열경화시켜도 된다. 그 때, 건조에 필요로 하는 시간은 10 초간∼6 분간이 바람직하다. The coating film formed on the substrate may be thermally cured at a temperature of 20 to 150 占 폚, but may be thermally cured after drying at a temperature of 20 to 100 占 폚. At this time, the time required for drying is preferably 10 seconds to 6 minutes.
열경화에 필요로 하는 시간은 원하는 피막 특성에 따라 적절히 선택할 수 있으나, 통상적으로 1 시간∼7 일간이다. 낮은 경화 온도를 선택하는 경우에는, 경화 시간을 길게 함으로써 충분한 내찰상성을 갖는 피막을 용이하게 얻을 수 있다. The time required for thermosetting can be appropriately selected according to the desired film properties, but is usually from 1 hour to 7 days. In the case of selecting a low curing temperature, a coating having sufficient scratch resistance can be easily obtained by lengthening the curing time.
또한, 본 발명의 발수성 피막 형성용 도포액은 150℃ 를 초과하는 경화 온도이어도 내찰상성이 우수한 피막을 얻을 수 있다. 그 때, 기재의 내열 온도에 맞추어, 경화 온도와 경화 시간을 조정하는 것이 바람직하다.Further, the coating liquid for forming a water-repellent film of the present invention can obtain a film having excellent scratch resistance even at a curing temperature exceeding 150 캜. At that time, it is preferable to adjust the curing temperature and the curing time in accordance with the heat resistance temperature of the substrate.
<반사 방지재 등의 용도> ≪ Use of antireflective material &
본 발명의 도포액으로 형성되는 피막은 상기와 같이 굴절률이 예를 들어 1.4 이하라는 저굴절률을 가지고 있기 때문에, 특히, 반사 방지재로서의 용도에 바람직하게 사용할 수 있다. Since the coating formed from the coating liquid of the present invention has a low refractive index, for example, 1.4 or less in refractive index as described above, it can be suitably used particularly as an antireflective material.
본 발명의 피막을 반사 방지재에 사용하는 경우, 본 발명의 피막보다 높은 굴절률을 갖는 기재 상에 본 발명의 피막을 형성함으로써 용이하게 광반사 방지능을 부여할 수 있다. 즉, 본 발명의 피막보다 높은 굴절률을 갖는 플라스틱 필름이나 유리와 같은 기재의 표면에 본 발명의 피막을 형성함으로써 반사 방지 필름이나 반사 방지 유리 등의 반사 방지 기재로 할 수 있다. When the coating of the present invention is used for an antireflective material, it is possible to easily impart the antireflective ability by forming the coating film of the present invention on a substrate having a refractive index higher than that of the coating film of the present invention. That is, by forming the film of the present invention on the surface of a substrate such as a plastic film or glass having a refractive index higher than that of the film of the present invention, an antireflection film such as an antireflection film or an antireflection glass can be obtained.
본 발명의 피막은 기재 표면에 단일 피막으로서 형성해도 유효하지만, 고굴절률을 갖는 단수 또는 복수의 하층을 형성하는 피막 위에 본 발명의 피막을 형성한 적층 구조를 갖는 반사 방지체로서도 유효하다. The coating of the present invention is effective even if it is formed as a single coating on the surface of the substrate, but it is also effective as an antireflection coating having a laminated structure in which the coating of the present invention is formed on a coating forming a single or plural lower layers having a high refractive index.
본 발명의 피막은 텔레비젼, 유리제의 브라운관, 컴퓨터의 디스플레이, 유리 표면을 갖는 거울, 유리제 쇼케이스 등의 광반사 방지가 요망되는 분야에 바람직하게 사용할 수 있다. The coating film of the present invention can be suitably used in fields where it is desired to prevent reflection of light, such as a television, a cathode ray tube made of glass, a display of a computer, a mirror having a glass surface, or a glass showcase.
또한, 본 발명의 피막은 그 자체의 물의 접촉각이 90 도 이상이므로, 발수성을 갖고, 또한, 지문이나 유성 잉크를 닦아내기 쉽다는 방오성 면에서 충분한 실용성을 가지고 있고, 온도 20∼150℃ 라는 비교적 저온에서의 경화 처리에 있어서도 충분히 경화시킬 수 있기 때문에, 반사 방지 기재의 제조 공정에 있어서도 매우 유리하다. Further, since the coating film of the present invention has a water contact angle of 90 degrees or more in its own water, it has water repellency and has sufficient practicality in terms of antifouling property that it is easy to wipe out fingerprints or oil-based inks. It is very advantageous also in the production step of the antireflection base material.
본 발명의 피막은 상기의 이점도 갖기 때문에, 특히, 액정, 플라즈마 등의 표시 장치나 디스플레이 모니터 등의 반사 방지 필름에 유용하다. The coating of the present invention is also useful for an antireflection film such as a display device such as a liquid crystal or a plasma display or a display monitor because it has the above advantages.
이하, 합성예 및 실시예와 비교예를 나타내고, 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기의 합성예 및 실시예에 제한되어 해석되는 것은 아니다. Hereinafter, Synthesis Examples, Examples and Comparative Examples are given and the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the following Synthesis Examples and Examples.
본 실시예에 있어서의 약어는 각각 이하와 같다. The abbreviations in this embodiment are as follows.
TEOS : 테트라에톡시실란 TEOS: tetraethoxysilane
FS-13 : 트리데카플루오로옥틸트리메톡시실란 FS-13: tridecafluoroctyltrimethoxysilane
CS-8 : 옥틸트리에톡시실란 CS-8: octyltriethoxysilane
MEA : 모노에탄올아민 MEA: Monoethanolamine
HA : 헥실아민 HA: Hexylamine
LA : 라우릴아민 LA: laurylamine
SA : 스테아릴아민 SA: Stearylamine
IPA : 이소프로판올 IPA: isopropanol
cHexOH : 시클로헥사놀 cHexOH: cyclohexanol
PGME: 프로필렌글리콜모노메틸에테르PGME: Propylene glycol monomethyl ether
하기 합성예에 있어서의 측정법을 이하에 나타낸다. The measurement method in the following Synthesis Example is shown below.
[잔존 알콕시실란모노머 측정법] [Method for measuring residual alkoxysilane monomer]
폴리실록산 (A) 의 용액 중의 잔존 알콕시실란모노머를 가스 크로마토그래피 (이하, GC 라고 한다.) 로 측정하였다. The remaining alkoxysilane monomer in the solution of the polysiloxane (A) was measured by gas chromatography (hereinafter referred to as GC).
GC 측정은 시마즈 제작소사 제조 Shimadzu GC-14B 를 사용하여 하기의 조건으로 측정하였다. GC measurement was carried out using Shimadzu GC-14B manufactured by Shimadzu Corporation under the following conditions.
칼럼 : 캐필러리 칼럼 CBP1-W25-100 (길이 25mm, 직경 O.53mm, 두께 1㎛) Column: Capillary column CBP1-W25-100 (length 25 mm, diameter 0.53 mm, thickness 1 μm)
칼럼 온도 : 개시 온도 50℃ 에서 15℃/분으로 승온시켜 도달 온도 290℃ (3분) 로 하였다.Column temperature: The temperature was raised from the starting temperature of 50 占 폚 to 15 占 폚 / min, and the temperature reached 290 占 폚 (3 minutes).
샘플 주입량 : 1㎕, 인젝션 온도 : 240℃, 검출기 온도 : 290℃, 캐리어 가 스 : 질소 (유량 30㎖/분), 검출 방법 : FID 법.Sample injection amount: 1 占 퐇, injection temperature: 240 占 폚, detector temperature: 290 占 폚, carrier gas: nitrogen (flow rate: 30 ml / min)
[합성예 1] [Synthesis Example 1]
환류관을 설치한 4 구 반응 플라스크에 메탄올 57.26g 을 투입하고, 교반하에 옥살산 18.01g 을 소량씩 첨가하여, 옥살산의 메탄올 용액을 조제하였다. 이어서 이 용액을 가열하여, 환류하에 TEOS (17.71g) 와 FS-13 (7.02g) 의 혼합물을 적하하였다. 적하 후, 5 시간 환류하고, 실온까지 방랭하여 폴리실록산 (A) 의 용액 (PF) 을 조제하였다. 이 폴리실록산 (A) 의 용액 (PF) 을 GC 로 측정한 결과, 알콕시실란모노머는 검출되지 않았다. In a four-neck reaction flask equipped with a reflux tube, 57.26 g of methanol was added, and 18.01 g of oxalic acid was added in small portions with stirring to prepare a methanol solution of oxalic acid. The solution was then heated and a mixture of TEOS (17.71 g) and FS-13 (7.02 g) was added dropwise under reflux. After dropwise addition, the mixture was refluxed for 5 hours and then cooled to room temperature to prepare a solution (PF) of the polysiloxane (A). As a result of measuring the solution (PF) of the polysiloxane (A) by GC, no alkoxysilane monomer was detected.
[합성예 2][Synthesis Example 2]
환류관을 설치한 4 구 반응 플라스크에 에탄올 47.36g 과 옥살산 0.18g 과 순수 10.80g 을 투입하고, 교반하에 TEOS 41.66g 을 첨가하여, 혼합 용액을 조제하였다. 이어서 이 용액을 가열하여 3 시간 환류하고, 그 후 실온까지 방랭하여 폴리실록산의 용액 (PS) 을 조제하였다. 이 폴리실록산의 용액 (PS) 을 GC 로 측정한 결과, 알콕시실란모노머는 검출되지 않았다. In a four-neck reaction flask equipped with a reflux tube, 47.36 g of ethanol, 0.18 g of oxalic acid and 10.80 g of pure water were charged, and 41.66 g of TEOS was added with stirring to prepare a mixed solution. Subsequently, this solution was heated and refluxed for 3 hours, and then cooled to room temperature to prepare a polysiloxane solution (PS). The solution (PS) of the polysiloxane was measured by GC. As a result, no alkoxysilane monomer was detected.
[합성예 3][Synthesis Example 3]
환류관을 설치한 4 구 반응 플라스크에 메탄올 60.13g 을 투입하고, 교반하에 옥살산 18.01g 을 소량씩 첨가하여, 옥살산의 메탄올 용액을 조제하였다. 이어서 이 용액을 가열하여, 환류하에 TEOS (17.71g) 와 CS-8 (4.15g) 의 혼합물을 적하하였다. 적하 후, 5 시간 환류하여, 실온까지 방랭하여 폴리실록산 (A) 의 용액 (PC) 을 조제하였다. 이 폴리실록산 (A) 의 용액 (PC) 을 GC 로 측정한 결과, 알콕시실란모노머는 검출되지 않았다.60.13 g of methanol was added to a four-neck reaction flask equipped with a reflux tube, and 18.01 g of oxalic acid was added in small portions with stirring to prepare a methanol solution of oxalic acid. The solution was then heated and a mixture of TEOS (17.71 g) and CS-8 (4.15 g) was added dropwise under reflux. After dropwise addition, the mixture was refluxed for 5 hours and then cooled to room temperature to prepare a solution (PC) of polysiloxane (A). As a result of measuring the solution (PC) of the polysiloxane (A) by GC, no alkoxysilane monomer was detected.
[실시예 1∼4, 비교예 1∼6][Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 to 6]
표 2 에 나타내는 조성으로, 상기 합성예에서 얻어진 폴리실록산의 용액, 아민 화합물 및 유기 용매를 혼합하여 피막 형성용 도포액 (Q1∼Q4) 을 조제하였다.The coating solution (Q1 to Q4) was prepared by mixing the solution of the polysiloxane obtained in the above Synthesis Example, the amine compound and the organic solvent in the composition shown in Table 2.
또한, 비교예에 있어서는, 표 2 에 나타내는 조성으로, 도포액 (T1∼T6) 을 조제하였다. Further, in Comparative Examples, coating liquids (T1 to T6) were prepared with the compositions shown in Table 2.
이들 Q1∼Q4 및 T1∼T6 혹은 그것들을 사용한 도막에 대해, 하기에 나타내는 평가를 실시하였다.The coating films using these Q1 to Q4 and T1 to T6 or their coatings were evaluated in the following manner.
<보존 안정성> <Storage stability>
피막 형성용 도포액을 온도 25℃ 에서 1 개월간 정치 (靜置) 시킨 후에, 구멍 직경 0.45㎛, 내경 18mm, 길이 22mm 의 폴리테트라플루오로에틸렌필터 (쿠라시키 방적사 제조 크로마토 디스크 13N) 로 100cc 여과시키고, 여과시킬 수 있던 것을 ○, 막힌 것을 × 로 하였다. 이 결과를 표 3 에 나타낸다. The coating liquid for film formation was allowed to stand at 25 占 폚 for one month, and then 100 cc of the solution was filtered with a polytetrafluoroethylene filter (Chromat disk 13N manufactured by Kurashiki Spinning Co., Ltd.) having a pore diameter of 0.45 占 퐉, an inner diameter of 18 mm and a length of 22 mm , Those that could be filtered and those that were blocked were rated as x. The results are shown in Table 3.
<경화막 평가> ≪ Evaluation of cured film &
피막 형성용 도포액 (Q1∼Q4 및 T1∼T6) 을, 하드코트가 부착된 트리아세틸셀룰로오스 (이하, HC-TAC 라고 한다.) 필름 (필름 두께 80㎛, 하드코트 표면의 물 접촉각이 83 도, 파장 550nm 에 있어서의 반사율이 4.5%) 에 바코터 (No.6) 를 사용하여 도포하고, 도막을 형성하였다. 온도 23℃ 에서 30 초간 방치한 후, 클린 오븐 중, 100℃ 에서 5 분간 건조시키고, 이어서 온도 90℃ 에서 15 시간 경화시켰다. 얻어진 경화 피막에 대해, 물 접촉각, 유성펜 닦아냄성, 지문 닦아냄성, 밀착성, 반사율 및 내찰상성을 평가하였다. The film forming liquids (Q1 to Q4 and T1 to T6) were coated with hard coat-coated triacetyl cellulose (hereinafter referred to as HC-TAC) film (film thickness 80 탆, , And the reflectance at a wavelength of 550 nm was 4.5%) using a bar coater (No. 6) to form a coating film. After standing at a temperature of 23 캜 for 30 seconds, it was dried in a clean oven at 100 캜 for 5 minutes and then cured at 90 캜 for 15 hours. Water contact angle, oil repellency, fingerprint wiping, adhesion, reflectance and scratch resistance were evaluated for the cured coatings obtained.
또한, 굴절률은 다음과 같이 하여 형성된 경화막을 사용하여 측정하였다. 조제된 도포액 (Q1∼Q4 및 T1∼T6) 을 실리콘 웨이퍼 위에 스핀코트하여 도막을 형성한 후, 온도 23℃ 에서 30 초간 방치한 후, 클린 오븐 중, 100℃ 에서 5 분간 건조시키고, 이어서 온도 90℃ 에서 15 시간 경화시켜, 막두께가 100nm 인 경화 피막을 얻었다. The refractive index was measured using a cured film formed as follows. The prepared coating liquids (Q1 to Q4 and T1 to T6) were spin-coated on a silicon wafer to form a coating film. The coating liquid was allowed to stand at a temperature of 23 DEG C for 30 seconds and then dried in a clean oven at 100 DEG C for 5 minutes. And cured at 90 DEG C for 15 hours to obtain a cured film having a film thickness of 100 nm.
이들의 평가 방법은 하기와 같고, 평가 결과는 표 3 및 표 4 에 나타낸다. These evaluation methods are as follows, and the evaluation results are shown in Tables 3 and 4.
[물 접촉각] [Water contact angle]
쿄와 계면 과학사 제조의 자동 접촉각계 CA-Z 형을 사용하여 순수 3 마이크로리터를 적하했을 때의 접촉각을 측정하였다. The contact angle when three microliters of pure water was dropped using an automatic contact angle type CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. was measured.
또한, 실시예에서 사용한 HC-TAC 필름의 하드코트 표면의 물 접촉각도 이 방법으로 측정하였다. The water contact angle of the hard coat surface of the HC-TAC film used in the examples was also measured by this method.
[유성펜 닦아냄성] [Wipe off the oil repellent]
경화 피막 표면에, 펜텔사 제조 유성펜을 사용하여 실시된 잉크를, 아사히카세이사 제조 벤코트 M-3 을 사용하여 닦아내고, 그 제거 용이성을 육안으로 판정하였다. 잉크를 완전히 닦아낼 수 있던 것을 ○, 그 이외의 것을 × 로 하였다.On the surface of the cured coating, the ink which was made using a stationary pen made by PENTEL CO., LTD. Was wiped off using Bencoat M-3 manufactured by Asahi Kasei Corporation, and the ease of removal was visually judged. The ink was able to be completely wiped off, and the others were rated as x.
[지문 닦아냄성] [Fingerprints]
경화 피막 표면에 지문을 부착시켜, 아사히카세이사 제조 벤코트 M-3 을 사용하여 닦아내고, 그 제거 용이성을 육안으로 판정하였다. 지문을 완전히 닦아낼 수 있던 것을 ○, 그 이외의 것을 × 로 하였다. A fingerprint was attached to the surface of the cured film and wiped off using Bencoat M-3 manufactured by Asahi Kasei Corporation, and the ease of removal was visually determined. The fingerprint was able to be completely wiped out, and the others were rated as x.
[밀착성] [Adhesion]
기재 상의 경화 피막에 1mm 간격으로 크로스컷 눈금상으로 1OO 점 커트하고, 셀로테이프 (니치반사 등록 상표 24mm 폭) 를 경화 피막과 강하게 부착시킨 후, 셀로테이프를 급격하게 박리하여 경화 피막의 박리의 유무를 육안으로 확인하였다. 박리가 없는 것을 ○, 박리가 있는 것을 × 로 하였다. The cured film on the substrate was cut at a distance of 1 mm by a cross-cut eye mark at 100 points, and a cellotape (Nichia Reflective Trademark of 24 mm width) was adhered firmly to the cured film, and then the cellotape was abruptly peeled off to remove the cured film Were visually confirmed. And those with no peeling were rated as "? &Quot;
[반사율] [reflectivity]
시마즈 제작소사 제조의 분광광도계 UV 3100PC 를 사용하여 파장 550nm 의 광을 입사각 5 도로 경화 피막에 입사시켜, 반사율을 측정하였다. Light having a wavelength of 550 nm was incident on the cured film at an incident angle of 5 degrees using a spectrophotometer UV 3100PC manufactured by Shimadzu Corporation, and the reflectance was measured.
[내찰상성] [Scratch resistance]
경화 피막을, 닛폰 스틸울사 제조 스틸울 #0000 을 사용하여 400g/㎠ 로 10 왕복 문지르고, 경화 피막 표면의 스크래치를 육안으로 판정하였다. The cured coating was rubbed 10 times at 400 g / cm < 2 > using a steel wool # 0000 manufactured by Nippon Steel Wool Co., and scratches on the surface of the cured coating were visually observed.
판정 기준은 이하와 같다. The criteria are as follows.
A : 스크래치 없음∼5 개, B : 스크래치 6∼10 개, C : 스크래치 11∼20 개, D : 스크래치 21∼30 개, E: 스크래치 31 개 이상 A: No scratches 5, B: Scratch 6-10, C: Scratch 11-20, D: Scratch 21-30, E: Scratch 31 or more
[굴절률] [Refractive index]
미조지리 광학사 제조의 엘립소미터 DVA-36L 을 사용하여 파장 633nm 의 광에 있어서의 굴절률을 측정하였다. The refractive index in the light having a wavelength of 633 nm was measured using an ellipsometer DVA-36L manufactured by Mizogi Optics.
표 3 및 표 4 에 나타낸 바와 같이, 실시예 1∼4 에서는 90℃ 의 경화 온도에서, 내찰상성이 C 이상인 우수한 특성과, 물 접촉각이 100 도 이상인 우수한 특성이 나타났다. As shown in Tables 3 and 4, in Examples 1 to 4, excellent properties such as scratch resistance of C or higher and excellent properties of water contact angle of 100 deg. Or more were obtained at a curing temperature of 90 캜.
그리고, 도포액 (Q1∼Q4) 의 보존 안정성도 양호하고, 온도 23℃ 에서 6 개월간 보존 후에도 안정적이었다. The coating liquids (Q1 to Q4) had good storage stability and were stable even after storage for 6 months at a temperature of 23 占 폚.
또한, 실시예 1∼4 에서는 1.400 이하의 낮은 굴절률과, 낮은 반사율이라는 특성이 나타났다. In Examples 1 to 4, a low refractive index of 1.400 or less and a low reflectance were exhibited.
한편, 긴사슬 아민 화합물 (B) 을 갖지 않는 경우, 혹은 탄소수가 8 이하 아민 화합물인 경우의 도포액 (T1∼5) 을 사용한 비교예 1∼5 는 90℃ 의 경화 온도에서는 내찰상성이 D 이하라는 불충분한 것이었다. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 5 using the coating liquids T1 to 5 in the case of not having the long chain amine compound (B) or in the case of the amine compound having not more than 8 carbon atoms, the scratch resistance was D Was insufficient.
또한, 표 3 및 표 4 에 나타낸 바와 같이, 실시예 1∼4 는 지문 닦아냄성 및 유성펜 닦아냄성이라는 방오 특성이 우수하고, 또한 기재와의 밀착성이 높은 것이었다.As shown in Tables 3 and 4, Examples 1 to 4 had excellent antifouling properties such as fingerprint polishability and oil-repellent wiping property, and also had high adhesion to a substrate.
또한, 불소 원자로 치환되어 있지 않은 유기기를 갖는 폴리실록산을 사용한 도포액 (T6) 에서는 물 접촉각이 90 도 이하가 되고, 방오 특성도 낮으며, 높은 반사율이라는 불충분한 것이었다. Further, in the coating liquid (T6) using polysiloxane having an organic group which is not substituted with a fluorine atom, the water contact angle was 90 degrees or less, the antifouling property was low, and the high reflectance was insufficient.
본 발명의 발수성 피막 형성용 도포액은 보존 안정성이 우수하고, 온도 20℃∼150℃ 라는 저온의 열처리로 충분히 경화시키고, 또한 저굴절률이며 내찰상성이 우수한 피막을 제공할 수 있다. 그 때문에, 특히, 반사 방지 기재에 바람직하게 사용할 수 있고, 특히, 표시 소자용 반사 방지 필름에 바람직하게 사용할 수 있다. The coating liquid for forming a water-repellent film of the present invention is excellent in storage stability and can be sufficiently cured by a low-temperature heat treatment at a temperature of 20 to 150 캜, and can provide a film having a low refractive index and excellent scratch resistance. Therefore, it can be suitably used for an antireflection substrate in particular, and can be preferably used particularly for an antireflection film for a display element.
또한, 2006년 10월 12일에 출원된 일본 특허 출원 2006-279219호의 명세서, 특허 청구 범위 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하고, 본 발명의 명세서의 개시로서 받아들이는 것이다.Also, the entire contents of the specification, claims and abstract of Japanese Patent Application No. 2006-279219 filed on October 12, 2006 are incorporated herein by reference and are hereby incorporated by reference.
Claims (9)
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