KR101453492B1 - Method for forming circuit pattern - Google Patents

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Abstract

본 발명은 회로패턴 구현방법에 관한 것이다. 상기 방법은 소정 형상의 사출물을 형성하는 단계, 사출물의 표면을 도금마스킹액으로 전처리하는 단계, 도금마스킹액에 의해 전처리되어 사출물의 표면에 형성된 마스크를 기 설정된 회로패턴에 따라 레이저로 식각처리하는 단계, 회로패턴에 대응하는 표면이 노출된 사출물을 도금액에 의해 도금처리하는 단계 및 마스크를 제거하는 단계를 포함한다. 상기 방법에 의하면 회로패턴의 정밀도를 높일 수 있을 뿐만 아니라 제조 회로패턴 구현 시의 제조비용을 절감할 수 있다.The present invention relates to a circuit pattern implementation method. The method includes the steps of forming an injection molded body having a predetermined shape, pretreating the surface of the injection molded body with a plating masking liquid, etching the mask formed on the surface of the injection molded body with a laser, , Plating the exposed object with the surface corresponding to the circuit pattern by the plating liquid, and removing the mask. According to the above method, not only the precision of the circuit pattern can be enhanced, but also the manufacturing cost in implementing the manufacturing circuit pattern can be reduced.

Description

회로패턴 구현방법{METHOD FOR FORMING CIRCUIT PATTERN}METHOD FOR FORMING CIRCUIT PATTERN [0002]

본 발명은 회로패턴 구현방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 사출물의 표면을 도금마스킹액으로 전처리하여 사출물의 표면에 마스크를 형성한 후에 상기 마스크를 레이저를 이용하여 기 설정된 회로패턴으로 식각함으로써 노출된 사출물의 표면에 도금처리를 수행하여 사출물의 표면에 회로패턴을 구현하는 회로패턴 구현방법에 관한 것이다.The present invention relates to a circuit pattern implementation method. More particularly, the surface of an object is pre-treated with a plating masking liquid to form a mask on the surface of the object, and then the mask is etched with a predetermined circuit pattern using a laser to perform a plating process on the exposed object. To a circuit pattern implementation method for implementing a circuit pattern on a surface.

현재 수많은 각종 전자기기가 개발되어 출시되고 있으며, 이러한 전자기기를 개발하기 위해서 전자기기의 기능에 따른 회로를 설계하고 이를 구현하는 것이 요구된다.A large number of various electronic devices have been developed and released. In order to develop such electronic devices, it is required to design and implement circuits according to functions of electronic devices.

회로를 설계하고 설계한 회로패턴을 회로 기판 등에 구현하는 것이 필요한데, 회로패턴을 구현하기 위한 공정으로 LDS(Laser Direct System) 공정 또는 PDS(Print Direct System) 공정이 있는데 LDS 공정 또는 PDS 공정은 다음과 같은 방식으로 회로패턴을 구현한다. It is necessary to design a circuit and design a circuit pattern on a circuit board. There are LDS (Laser Direct System) process or PDS (Print Direct System) process to implement a circuit pattern. Implement circuit patterns in the same way.

LDS 공정은 LDS용 특수 레진으로 이루어진 사출물의 표면을 레이저로 소정 회로패턴에 따라 마킹하고, 마킹된 부분에 도금처리를 수행하여 회로패턴을 형성하는 방법이다. 한편, PDS 공정은 일반 레진으로 이루어진 사출물 위에 소정의 회로패턴을 인쇄한 후 인쇄부위에만 도금처리를 수행하여 안테나패턴을 형성하는 방법이다.In the LDS process, the surface of an injection molded article made of a special resin for LDS is marked with a laser according to a predetermined circuit pattern, and a plating process is performed on the marked portion to form a circuit pattern. Meanwhile, the PDS process is a method of forming an antenna pattern by printing a predetermined circuit pattern on an injection-molded article made of general resin, and then performing a plating process only on a printing area.

LDS 공정은 사출물의 조성물로 제조원가가 높은 LDS 용 특수 레진만을 사용하여야 하기 때문에 회로패턴 구현 시의 제조원가가 높다는 단점이 존재한다. 또한, PDS 공정은 정밀도가 낮은 인쇄 방식을 이용하여 회로패턴을 형성하기 때문에 회로패턴의 불량률이 높을 뿐만 아니라 금형 제조 비용이 높아 제조원가가 높은 단점이 존재한다.There is a disadvantage that the cost of manufacturing the circuit pattern is high because only LDS special resin having a high production cost is used as the composition of the injection molding. In addition, since the PDS process forms a circuit pattern by using a printing method with a low precision, there is a disadvantage that not only a defective rate of a circuit pattern is high but also a manufacturing cost is high due to a high manufacturing cost of a mold.

본 발명은 회로패턴의 불량률은 감소시키고 제조원가를 낮출 수 있는 회로패턴 구현방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a circuit pattern implementation method capable of reducing a defect rate of a circuit pattern and lowering a manufacturing cost.

본 발명의 목적은 이상에서 언급한 것으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other objects not mentioned may be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 회로패턴 구현방법은 소정 형상의 사출물을 형성하는 단계, 상기 사출물의 표면을 도금마스킹액으로 전처리하는 단계, 상기 도금마스킹액에 의해 전처리되어 상기 사출물의 표면에 형성된 마스크를 기 설정된 회로패턴에 따라 레이저로 식각처리하는 단계, 상기 회로패턴에 대응하는 표면이 노출된 상기 사출물을 도금액에 의해 도금처리하는 단계 및 상기 마스크를 제거하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of fabricating a circuit pattern, the method comprising: forming an injection molded body having a predetermined shape; pretreating the surface of the molded body with a plating masking liquid; Etching the mask formed on the surface of the semiconductor substrate with a laser according to a predetermined circuit pattern, plating the exposed object exposed with the surface corresponding to the circuit pattern with a plating liquid, and removing the mask.

또한, 상기 사출물은 에이비에스(ABS, Acrylonitrile Butadiene Styrene) 또는 폴리카보네이트 에이비에스(PC-ABS, PolyCarbonate-Acrylonitrile Butadiene Styrene) 중 적어도 하나의 혼합물로 형성될 수 있다.The injection molded article may be formed of a mixture of at least one of acrylonitrile butadiene styrene (ABS) and polycarbonate-acrylonitrile butadiene styrene (PC-ABS).

또한, 상기 회로패턴 구현 방법은 상기 사출물의 표면을 도금마스킹액으로 전처리하는 단계 이후에, 상기 사출물을 건조하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, the circuit pattern embodying method may further include a step of pre-treating the surface of the injection product with a plating masking liquid, followed by drying the injection product.

또한, 상기 사출물을 도금액에 의해 도금처리하는 단계는 구리 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 1 도금처리 단계, 상기 구리 피막 위에 니켈 피막을 형성하기 위하여, 니켈 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 2 도금처리 단계 및 상기 니켈 피막 위에 금 피막을 형성하기 위하여, 금 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 3 도금처리 단계;를 포함할 수 있다.The step of plating the injection product with a plating solution may include a first plating step of plating the injection product with a plating solution to form a copper film, a step of forming a nickel film on the copper film, A second plating step of plating the injection product with a plating solution, and a third plating step of plating the injection product with a plating solution for forming a gold coating to form a gold coating on the nickel coating .

또한, 상기 제 1 도금처리 단계, 상기 제 2 도금처리 단계 및 상기 제 3 도금처리 단계는 무전해 도금 방법으로 수행될 수 있다.Further, the first plating treatment step, the second plating treatment step and the third plating treatment step may be performed by an electroless plating method.

또한, 상기 제 1 도금처리 단계, 상기 제 2 도금처리 단계 및 상기 제 3 도금처리 단계는 상기 사출물의 표면에 묻어있는 이물질을 제거하는 단계, 에칭액을 이용하여 상기 사출물의 표면에 미세한 요철을 형성하는 단계, 촉매액을 이용하여 상기 사출물의 표면에 촉매금속을 흡착시키는 단계, 반응촉진제를 이용하여 상기 사출물의 표면에 팔라둠(Palladium)을 생성시키는 단계 및 상기 사출물에 상기 구리 피막, 니켈 피막 또는 금 피막을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The first plating process, the second plating process, and the third plating process may include a step of removing impurities on the surface of the injection molded article, a step of forming fine irregularities on the surface of the molded article using an etching solution A step of adsorbing a catalytic metal on the surface of the injection molding using a catalyst liquid, a step of producing palladium on the surface of the injection molding using a reaction promoter, and a step of forming a copper film, And forming a film.

또한, 상기 사출물을 도금액에 의해 도금처리하는 단계는 구리 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 1 도금처리 단계일 수 있다.In addition, the step of plating the injection product with the plating solution may be a first plating treatment step of plating the injection product with a plating solution for forming a copper film.

또한, 상기 제 1 도금처리 단계는 무전해 도금 방법으로 수행될 수 있다.Also, the first plating step may be performed by an electroless plating method.

또한, 상기 제 1 도금처리 단계는 상기 사출물의 표면에 묻어있는 이물질을 제거하는 단계, 에칭액을 이용하여 상기 사출물의 표면에 미세한 요철을 형성하는 단계, 촉매액을 이용하여 상기 사출물의 표면에 촉매금속을 흡착시키는 단계, 반응촉진제를 이용하여 상기 사출물의 표면에 팔라둠(Palladium)을 생성시키는 단계 및 상기 사출물에 상기 구리 피막을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The first plating step may include a step of removing impurities on the surface of the injection molded article, a step of forming fine irregularities on the surface of the molded article using an etching liquid, a step of forming catalyst metal , Forming palladium on the surface of the injection molding using a reaction promoter, and forming the copper coating on the injection molding.

또한, 상기 회로패턴 구현방법은 상기 마스크를 제거하는 단계 이후에 상기 구리 피막 위에 니켈 피막을 형성하기 위하여, 니켈 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 2 도금처리 단계 및 상기 니켈 피막 위에 금 피막을 형성하기 위하여, 금 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 3 도금처리 단계를 더 포함할 수 있다.The method for fabricating a circuit pattern may further include a second plating step of plating the injection material with a plating liquid for forming a nickel coating to form a nickel coating on the copper coating after the mask is removed, And a third plating step of plating the injection product with a plating solution for forming a gold film to form a gold film on the first plating film.

또한, 상기 제 2 도금처리 단계 및 상기 제 3 도금처리 단계는 전해 도금 방법으로 수행될 수 있다.Further, the second plating step and the third plating step may be performed by an electrolytic plating method.

본 발명에 따른 회로패턴 구현방법에 의하면 회로패턴을 형성하기 위하여 도금마스킹액으로 전처리하여 사출물 표면에 형성된 마스크를 레이저를 이용하여 회로패턴에 따라 식각하기 때문에 회로패턴의 정밀도를 향상시킬 수 있다. According to the method of implementing a circuit pattern according to the present invention, the mask formed on the surface of the injection mold is pretreated with a plating masking liquid to form a circuit pattern, and the precision of the circuit pattern is improved because the mask is etched according to a circuit pattern using a laser.

또한, 본 발명에 따른 회로패턴 구현방법에 의하면, 회로패턴에 따라 사출물의 표면을 레이저로 직접 마킹하여 회로패턴을 형성하기 위한 도금처리를 수행하지 않고, 회로패턴에 따라 식각된 마스크를 이용하여 회로패턴을 형성하기 위한 도금처리를 수행하기 때문에 본 발명에 따른 회로패턴 구현방법은 특수한 레진으로 이루어진 사출물에만 적용되는 것이 아니라 다양한 종류의 레진으로 이루어진 사출물에 대해서도 적용 가능하여, 회로패턴 구현 시의 제조비용을 절감할 수 있다. According to the circuit pattern embodying method of the present invention, the surface of an object is directly marked with a laser according to a circuit pattern to perform a plating process for forming a circuit pattern, Since the plating process for forming the pattern is performed, the method of implementing the circuit pattern according to the present invention can be applied not only to the injection-molded object made of special resin but also to the injection-molded object made of various kinds of resin, Can be saved.

본 발명의 효과는 이상에서 언급한 것으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 회로패턴 구현방법의 순서도이다.
도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 회로패턴 구현방법의 순서도이다.
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 회로패턴 구현방법을 적용하여 회로패턴을 구현하는 예를 도시한 도면이다.
도 4는 도 2의 제 1 도금처리 단계 내지 제 3 도금처리 단계에 적용 가능한 무전해 도금방법의 순서도이다.
도 5는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 회로패턴 구현방법의 순서도이다.
도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 회로패턴 구현방법을 적용하여 회로패턴을 구현하는 예를 도시한 도면이다.
1 is a flowchart of a method of implementing a circuit pattern according to a first embodiment of the present invention.
2 is a flowchart of a method of implementing a circuit pattern according to a second embodiment of the present invention.
3 is a view showing an example of implementing a circuit pattern by applying the method of implementing a circuit pattern according to the second embodiment of the present invention.
Fig. 4 is a flowchart of an electroless plating method applicable to the first to third plating steps of Fig. 2. Fig.
5 is a flowchart of a method of implementing a circuit pattern according to a third embodiment of the present invention.
6 is a view showing an example of implementing a circuit pattern by applying the method of implementing a circuit pattern according to the third embodiment of the present invention.

본 발명의 목적 및 효과, 그리고 그것들을 달성하기 위한 기술적 구성들은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 뒤에 설명이 되는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 본 발명을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐를 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 뒤에 설명되는 용어들은 본 발명에서의 구조, 역할 및 기능 등을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects, features and advantages of the present invention will be more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unnecessary. The terms described below are defined in consideration of the structure, role and function of the present invention, and may be changed according to the intention of the user, the intention of the operator, or the custom.

그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 오로지 특허청구범위에 기재된 청구항의 범주에 의하여 정의될 뿐이다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. These embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art to which the present invention pertains, It is only defined by the scope of the claims. Therefore, the definition should be based on the contents throughout this specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements as well, without excluding other elements unless specifically stated otherwise.

이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 회로패턴 구현방법에 대하여 첨부한 도면을 참고하여 구체적으로 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of implementing a circuit pattern according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 회로패턴 구현방법의 순서도이다. 1 is a flowchart of a method of implementing a circuit pattern according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참고하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 회로패턴 구현방법은 소정 형상의 사출물을 형성하는 단계(S110), 상기 사출물의 표면을 도금마스킹액으로 전처리하는 단계(S120), 레이저로 기 설정된 회로패턴에 따라 사출물의 표면에 형성된 마스크를 식각처리하는 단계(S130), 상기 사출물을 도금액에 의해 도금처리를 수행하는 단계(S140) 및 상기 사출물의 표면에 형성된 상기 마스크를 제거하는 단계(S150)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the method for fabricating a circuit pattern according to the first embodiment of the present invention includes forming an injection object having a predetermined shape (S110), pre-treating the surface of the injection object with a plating masking liquid (S120) (S140) etching the mask formed on the surface of the injection object according to a predetermined circuit pattern, performing a plating process on the injection material with a plating liquid (S140), and removing the mask formed on the surface of the injection object S150).

본 발명의 제 1 실시예에 따른 회로패턴 구현방법은 상기에 설명한 단계들을 수행하여 소정형상의 상기 사출물의 표면에 회로패턴을 구현할 수 있다. 상기 사출물을 도금액에 의해 도금처리하는 단계(S140)는 다른 재질로 이루어진 복수의 금속 피막을 적층하기 위하여 서로 다른 성분으로 이루어진 도금액을 이용하여 여러 번 수행될 수 있다. 이때, 상기 사출물을 도금액에 의해 도금처리를 수행하는 단계(S140)는 마스크 제거 단계(S150) 이전에 모든 도금처리가 수행되는 경우(제 1 경우)와 마스크 제거 단계(S150) 이후에 추가적으로 도금처리가 수행되는 경우(제 2 경우)로 구분할 수 있다. The method of implementing a circuit pattern according to the first embodiment of the present invention can implement a circuit pattern on the surface of the molded object having a predetermined shape by performing the steps described above. The step of performing the plating process (S140) with the plating liquid by the plating liquid may be performed several times using a plating liquid composed of different components to laminate a plurality of metal coatings made of different materials. In this case, the step S140 of performing the plating process with the plating liquid may be performed after the plating process is performed (first process) before the mask removing process (S150) and after the mask removing process (S150) (A second case) in which the first and second embodiments are performed.

상기 제 1 경우와 제 2 경우에 따라, 위에서 설명한 제 1 실시예는 제 2 실시예와 제 3 실시예로 구체화되어 구현될 수 있다.According to the first case and the second case, the first embodiment described above can be embodied and embodied in the second embodiment and the third embodiment.

이하에서는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 회로패턴 구현방법에 있어서, 제 1 경우를 제 2 실시예로 하고, 제 2 경우를 제 3 실시예로 명명하여 설명하기로 하며, 제 2 실시예 및 제 3 실시예를 구체적으로 설명하기로 한다.Hereinafter, in the method of implementing a circuit pattern according to the first embodiment of the present invention, the first case will be referred to as a second embodiment, the second case will be referred to as a third embodiment, The third embodiment will be described in detail.

도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 회로패턴 구현방법의 순서도이며, 도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 회로패턴 구현방법을 적용하여 회로패턴을 구현하는 예를 도시한 도면이다. FIG. 2 is a flowchart of a method of implementing a circuit pattern according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a view illustrating an example of implementing a circuit pattern by applying the method of implementing a circuit pattern according to the second embodiment of the present invention .

도 2 및 도 3을 참고하면, 우선, 소정 형상의 사출물(110)을 형성한다(S210, 도 3의 (a) 참고). 사출물(110)은 소정의 회로패턴이 형성될 목적물에 해당하며, 사출물(110)을 구성하는 재질은 레진(resin)이 될 수 있다. 이때, 상기 레진은 예를 들어, 에이비에스(ABS, Acrylonitrile Butadiene Styrene) 또는 폴리카보네이트 에이비에스(PC-ABS, PolyCarbonate-PolyCarbonate Acrylonitrile Butadiene Styrene) 중 적어도 하나의 혼합물로 이루어질 수 있다. 2 and 3, first, an injection molded article 110 having a predetermined shape is formed (S210, see FIG. 3A). The injection object 110 corresponds to an object to which a predetermined circuit pattern is to be formed, and the material constituting the injection object 110 may be a resin. At this time, the resin may be a mixture of at least one of ABS, Acrylonitrile Butadiene Styrene (ABS) or Poly-Carbonate-Poly Carbonate Acrylonitrile Butadiene Styrene (PC-ABS).

이때, 상기 사출물(110)은 몰드금형 방식 또는 다이케스팅금형 방식을 이용하여 소정 형상으로 형성할 수 있으며, 상기 예에 국한되는 것은 아니다.At this time, the molded product 110 may be formed into a predetermined shape using a mold or die-casting mold, but is not limited thereto.

사출물(110)이 형성되면, 사출물(110)의 표면을 도금마스킹액으로 전처리한다(S220). 이때, 상기 사출물(110)의 표면을 도금마스킹액으로 전처리하는 단계는 분사공법, 인쇄공법 또는 침수공법 등을 통해 수행될 수 있다. When the molded product 110 is formed, the surface of the molded product 110 is pretreated with a plating masking solution (S220). At this time, the step of pretreating the surface of the injection product 110 with the plating masking liquid may be performed by a spraying method, a printing method, an immersion method, or the like.

분사공법은 상기 도금마스킹액을 별도의 스프레이장치를 통해 사출물(110)의 표면에 분사하는 방식이고, 인쇄공법은 상기 도금마스킹액이 흡수된 패드를 이용하여 도금마스킹액을 사출물(110)의 표면에 도포하거나 실크인쇄를 통해 도금마스킹액을 사출물(110)의 표면에 도포하는 방식이다. 또한, 침수공법은 사출물(110)을 소정 용기에 저장된 도금마스킹액 속으로 침수시켜 사출물(110)의 표면에 도금마스킹액을 도포하는 방식이다. 상기 분사공법, 인쇄공법 또는 침수공법은 도금마스킹액을 사출물(110)의 표면에 도포하기 위한 방법의 예로 든 것에 불과하며, 상기 사출물(110)의 표면에 도금마스킹액을 도포하기 위한 방법이라면 어떤 것이라도 적용이 가능하다.The spraying method is a method in which the plating masking liquid is sprayed onto the surface of the injection object 110 through a separate spray device. In the printing method, the plating masking liquid is sprayed onto the surface of the injection object 110 Or the plating masking liquid is applied to the surface of the injection product 110 through silk printing. In addition, the flooding method is a method in which the injection material 110 is immersed in a plating masking solution stored in a predetermined container to apply the plating masking solution to the surface of the injection product 110. The spraying method, the printing method, or the flooding method is merely an example of a method for applying the plating masking liquid to the surface of the injection object 110. If the method for applying the plating masking liquid to the surface of the injection object 110 It is also applicable.

상기 도금마스캥액이 사출물(110)의 표면에 잘 안착되도록 하기 위하여, 상기 도금마스킹액에는 소정의 점착제가 첨가될 수 있다.A predetermined adhesive may be added to the plating masking solution so that the plating masking liquid adheres well to the surface of the molding 110.

사출물(110)이 도금마스킹액으로 전처리되면, 그 다음 단계로 사출물(110)은 건조처리된다(S230). 건조과정을 거치면서 사출물(110)의 표면에 도포된 도금마스킹액은 경화되고, 사출물(110)의 표면에는 마스크(120)가 형성된다(도 3 (b) 참고)After the injection product 110 is pre-treated with the plating masking liquid, the injection product 110 is dried in the next step (S230). The plating masking liquid applied to the surface of the injection product 110 is cured and the mask 120 is formed on the surface of the injection product 110 (refer to FIG. 3B)

그리고 나서, 사출물(110)의 표면에 형성된 마스크(120)를 기 설정된 회로패턴에 따라 레이저로 식각처리한다(S240, 도 3 (c) 참고). 레이저를 통한 식각처리에 의해 상기 회로패턴에 대응되는 부분의 마스크(120)는 제거되고, 해당 회로패턴에 대응하는 사출물(110)의 표면이 노출될 수 있다. Then, the mask 120 formed on the surface of the molded product 110 is etched by a laser according to a predetermined circuit pattern (S240, see Fig. 3 (c)). The portion of the mask 120 corresponding to the circuit pattern is removed by the etching treatment with the laser, and the surface of the molded product 110 corresponding to the circuit pattern can be exposed.

그리고 나서, 사출물(110)을 도금액에 의해 도금처리를 수행하는데(S250, 도 3의 (d), (e) 및 (f) 참고), 상기 도금처리를 수행하는 단계(S250)는 다음과 같은 세부 공정을 포함할 수 있다. 3 (d), (e), and (f)), the step S250 of performing the plating process is performed as follows. And may include a detailed process.

상기 세부 공정은 구리 피막(130)을 형성하기 위한 도금액에 의해 사출물(110)을 제 1 도금처리(S250a, 도 3의 (d) 참고)하는 단계, 니켈 피막(140)을 형성하기 위한 도금액에 의해 사출물(110)을 제 2 도금처리(S250b, 도 3의 (e) 참고)하는 단계 및 금 피막(150)을 형성하기 위한 도금액에 의해 사출물(110)을 제 3 도금처리(S250c, 도 3의 (f) 참고)하는 단계를 포함할 수 있다. The detailed process includes a step of performing a first plating process (S250a, refer to FIG. 3 (d)) of the injection product 110 by a plating liquid for forming the copper coating 130, a step of forming a plating liquid for forming the nickel coating 140 (S250c, Fig. 3 (e)) of the injection molded body 110 by the plating process for forming the gold film 150 (F) of FIG.

제 1 도금처리(S250a) 단계는 구리 피막(130)을 형성하기 위한 도금액에 의해 회로패턴에 대응하는 표면이 노출된 사출물(110)을 도금하는 공정으로(도 3 (d) 참고), 제 1 도금처리(S250a) 단계는 무전해 도금 방법에 의해 수행될 수 있다.The first plating process S250a is a process of plating an injection material 110 having a surface corresponding to a circuit pattern exposed by a plating liquid for forming a copper coating 130 (see FIG. 3 (d)), The plating process (S250a) may be performed by an electroless plating process.

다음으로, 제 2 도금처리(S250b) 단계는 니켈 피막(140)을 형성하기 위한 도금액에 의해 제 1 도금처리(S250a) 단계를 거친 사출물(110)을 도금하는 단계로(도 3 (d) 참고), 제 2 도금처리(S250b) 단계는 무전해 도금 방법에 의해 수행될 수 있다.Next, the second plating process (S250b) is a process of plating the injection material 110 that has undergone the first plating process (S250a) with the plating liquid for forming the nickel coating 140 ) And the second plating process (S250b) may be performed by an electroless plating method.

마지막으로, 제 3 도금처리(S250c) 단계는 금 피막(150)을 형성하기 위한 도금액에 의해 제 2 도금처리(S250b) 단계를 거친 사출물(110)을 도금하는 단계로(도 3 (f) 참고), 제 3 도금처리(S250c) 단계는 무전해 도금 방법에 의해 수행될 수 있다. Finally, the third plating process (S250c) is a process of plating the injection material 110 having undergone the second plating process (S250b) by the plating liquid for forming the gold coating 150 ), And the third plating process (S250c) may be performed by an electroless plating method.

상기에서 설명한 제 1 도금처리(S250a) 단계, 제 2 도금처리(S250b) 단계 및 제 3 도금처리(S250c) 단계는 무전해 도금 방법에 의해 수행될 수 있으며, 무전해 도금 방법은 다음과 같이 수행될 수 있다. The first plating process (S250a), the second plating process (S250b), and the third plating process (S250c) described above may be performed by an electroless plating method, and the electroless plating process is performed as follows .

도 4는 도 2의 제 1 도금처리 단계 내지 제 3 도금처리 단계에 적용 가능한 무전해 도금방법의 순서도이다.Fig. 4 is a flowchart of an electroless plating method applicable to the first to third plating steps of Fig. 2. Fig.

도 4에 도시된 바와 같이, 무전해 도금방법은 사출물(110)의 표면에 묻어 있는 기름이나 지문 등과 같은 이물질을 제거하는 탈지 단계(S310), 사출물(110)의 표면에 에칭액을 이용하여 미세한 요철을 형성하는 에칭 단계(S320), 사출물(110)의 표면에 촉매액을 이용하여 촉매금속을 흡착시키는 촉매 단계(S330), 반응촉진제를 이용하여 사출물(110)의 표면에 팔라듐(Palladium)을 생성시키는 활성 단계(S340) 및 상기 사출물(110)에 구리, 니켈 또는 금 피막(130, 140, 150)을 형성하기 위한 도금액에 의해 도금하는 도금 단계(S350)를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 4, the electroless plating method includes a degreasing step (S310) for removing foreign substances such as oil and fingerprints on the surface of the injection molded body 110, a fine unevenness A catalytic step S330 for adsorbing a catalytic metal on the surface of the injection product 110 using a catalyst liquid, a step for forming palladium on the surface of the injection product 110 using a reaction promoter, And a plating step (S350) of performing plating by a plating liquid for forming copper, nickel or gold coatings (130, 140, 150) on the injection product 110. [

이때, 상기 도금마스킹액은 상기 에칭액, 상기 촉매액, 상기 반응촉진제 및 상기 도금액과 화학적 반응을 일으키지 않은 혼합용액으로 형성될 수 있다. 상기 혼합용액은 폴리염화비닐(polyvinyl chloride) 또는 아세트산비닐수지(vinyl acetate resin) 등과 같은 비닐합성 수지를 용융시켜 생성될 수 있다. At this time, the plating masking solution may be formed of a mixed solution which does not cause a chemical reaction with the etchant, the catalyst solution, the reaction promoter and the plating solution. The mixed solution may be produced by melting a vinyl synthetic resin such as polyvinyl chloride or vinyl acetate resin.

사출물(110)의 표면에 도금처리(S250a, S250b, S250c) 공정이 완료되면, 사출물(110)의 표면에 형성된 마스크(120)를 제거한다(S260, 도 3 (g) 참고). 마스크(120)가 제거됨으로써 사출물(110)의 표면에는 도금에 의한 회로패턴만 남게 된다.After the plating process S250a, S250b, S250c is completed on the surface of the molded product 110, the mask 120 formed on the surface of the molded product 110 is removed (S260, FIG. 3 (g)). By removing the mask 120, only the circuit pattern by plating is left on the surface of the molded product 110.

지금까지 상기 제 3 도금처리(S250c) 단계는 마스크(120)를 제거하는 단계(S260) 이전에 수행되는 것으로 설명하였지만, 이에 국한되는 것은 아니며, 제 3 도금처리(S250c) 단계는 마스크(120)를 사출물(110)로부터 제거하는 공정(S260) 이후에 수행될 수 있다. 이때, 제 3 도금처리(S250c)는 전해도금 방법에 의해 수행될 수 있다.The third plating process S250c is performed before the step S260 of removing the mask 120 and the third plating process S250c is performed before the mask 120 is removed. May be performed after the step S260. At this time, the third plating process (S250c) may be performed by an electrolytic plating method.

도 5는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 회로패턴 구현방법의 순서도이고, 도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 회로패턴 구현방법을 적용하여 회로패턴을 구현하는 예를 도시한 도면이다.FIG. 5 is a flowchart of a method of implementing a circuit pattern according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a view illustrating an example of implementing a circuit pattern by applying the method of implementing a circuit pattern according to the third embodiment of the present invention .

이하에서는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 회로패턴 구현방법과 동일한 부분의 설명은 생략하고, 상이한 부분을 중심으로 본 발명의 제3 실시예에 따른 회로패턴 구형방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a description of the same parts as those of the circuit pattern implementation method according to the second embodiment of the present invention will be omitted, and a circuit pattern rounding method according to the third embodiment of the present invention will be described, focusing on the different parts.

도 5 및 도 6을 참고하면, 우선, 소정 형상의 사출물(210)을 형성한다(S410, 도 6 (a) 참고).Referring to Figs. 5 and 6, first, an injection molded article 210 having a predetermined shape is formed (S410, see Fig. 6 (a)).

그리고 나서, 사출물(210)의 표면을 도금마스킹액으로 전처리한다(S420).Then, the surface of the injection molded article 210 is pretreated with a plating masking liquid (S420).

상기 도금마스킹액으로 전처리된 사출물(210)을 건조하여(S430), 사출물(210)의 표면에 마스크(220)를 형성한다(도 6 (b) 참고).The injection material 210 pretreated with the plating masking liquid is dried at step S430 and a mask 220 is formed on the surface of the injection material 210 (see FIG. 6 (b)).

그리고 나서, 레이저로 사출물(210)의 표면에 형성된 마스크(220)를 기 설정된 회로패턴에 따라 식각처리한다(S440, 도 6 (c) 참고).Then, the mask 220 formed on the surface of the injection molded article 210 is etched according to a predetermined circuit pattern (S440, see Fig. 6 (c)).

또한, 식각처리에 의해 상기 회로패턴에 대응하는 표면이 노출된 사출물(210)을 구리 피막(230)을 형성하기 위한 도금액에 의해 제 1 도금처리를 수행한다(S450, 도 6 (d) 참고). 이때, 제 1 도금처리(S450) 단계는 무전해 도금 방법에 의해 수행될 수 있다.In addition, the first plating process is performed by the plating liquid for forming the copper coating 230 on the projected material 210 whose surface corresponding to the circuit pattern is exposed by etching (S450, see Fig. 6 (d)) . In this case, the first plating process (S450) may be performed by an electroless plating process.

사출물(210)의 표면에 회로패턴을 따라 구리 피막(230)이 형성되면, 사출물(210)의 표면에 형성된 마스크(220)를 제거한다(S460, 도 6 (e) 참고).When the copper film 230 is formed along the circuit pattern on the surface of the molded product 210, the mask 220 formed on the surface of the molded product 210 is removed (S460, FIG. 6 (e)).

그리고 나서, 상기 구리 피막(230) 위에 니켈 피막(240)을 형성하기 위한 도금액에 의해 사출물(210)을 제 2 도금처리(S470)하는 단계를 수행한다(도 6 (f) 참고). 이때, 제 2 도금처리(S470) 단계는 전해도금 방법에 의해 수행될 수 있다.Then, a second plating process (S470) is performed on the injection molded product 210 by a plating solution for forming the nickel coating 240 on the copper coating 230 (see FIG. 6 (f)). At this time, the second plating process (S470) may be performed by an electrolytic plating method.

마지막으로, 니켈 피막(240) 위에 금 피막(250)을 형성하기 위한 도금액에 의해 사출물(210)을 제 3 도금처리(S480)하는 단계를 수행한다(도 6 (g) 참고). 이때, 제 3 도금처리(S480) 단계는 전해도금 방법에 의해 수행될 수 있다. Finally, a step of performing a third plating process S480 on the nickel film 240 with the plating solution for forming the gold film 250 is performed (see FIG. 6 (g)). At this time, the third plating process (S480) may be performed by an electrolytic plating method.

이로써, 회로패턴에 대응하는 사출물(210)의 표면에 구리 피막(230), 니켈 피막(240) 및 금 피막(250)이 순차적으로 적층되어 회로패턴이 완성된다. Thus, the copper film 230, the nickel film 240, and the gold film 250 are sequentially laminated on the surface of the injection molded article 210 corresponding to the circuit pattern to complete the circuit pattern.

상기에서 설명한 실시예에 의하면, 회로패턴을 형성하기 위하여 도금마스킹액으로 전처리하여 사출물 표면에 형성된 마스크를 레이저를 이용하여 회로패턴에 따라 식각하기 때문에 회로패턴의 정밀도를 향상시킬 수 있다. According to the embodiment described above, the mask formed on the surface of the injection molded article is pre-treated with a plating masking liquid to form a circuit pattern, and the mask is etched according to a circuit pattern using a laser, so that the precision of the circuit pattern can be improved.

또한, 상기에서 설명한 실시예에 의하면 회로패턴에 따라 사출물의 표면을 레이저로 직접 마킹하여 도금처리를 수행하지 않고, 회로패턴에 따라 식각된 마스크를 이용하여 회로패턴을 형성하기 위한 도금처리를 수행하기 때문에 상기에서 설명한 실시예는 특수한 레진으로 이루어진 사출물에만 적용되는 것이 아니라 다양한 종류의 레진으로 이루어진 사출물에 대해서도 적용 가능하여 회로패턴 구현 시의 제조비용을 절감할 수 있다. In addition, according to the embodiment described above, the plating process for forming the circuit pattern using the mask etched according to the circuit pattern is performed without directly marking the surface of the object with the laser according to the circuit pattern and performing the plating process Therefore, the embodiments described above can be applied not only to injection molded articles made of special resins, but also to injection molded articles made of various kinds of resins, thereby reducing manufacturing costs in implementing circuit patterns.

이상, 본 발명의 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

110, 210: 사출물
120, 220: 마스크
130, 230: 구리 피막
140, 240: 니켈 피막
150, 250: 금 피막
110, 210: Injection
120, 220: mask
130, 230: Copper film
140, 240: Nickel coating
150, 250: gold coating

Claims (12)

소정 형상의 사출물을 형성하는 단계;
상기 사출물의 표면을 도금마스킹액으로 전처리하는 단계;
상기 도금마스킹액에 의해 전처리되어 상기 사출물의 표면에 형성된 마스크를 기 설정된 회로패턴에 따라 레이저로 식각처리하는 단계;
상기 회로패턴에 대응하는 표면이 노출된 상기 사출물을 도금액에 의해 도금처리하는 단계; 및
상기 마스크를 제거하는 단계;를 포함하고,
상기 도금마스킹액은 비닐합성 수지가 용융되어 생성된 혼합용액으로 형성되는,
회로패턴 구현방법.
Forming an injection molding of a predetermined shape;
Pretreating the surface of the injection product with a plating masking liquid;
Etching the mask formed on the surface of the molding by a laser according to a predetermined circuit pattern, the mask being pre-treated by the plating masking liquid;
Plating the exposed object exposed on the surface corresponding to the circuit pattern with a plating liquid; And
And removing the mask,
Wherein the plating masking liquid is formed of a mixed solution produced by melting a vinyl synthetic resin,
Circuit pattern implementation method.
제 1 항에 있어서,
상기 사출물은 에이비에스(ABS, Acrylonitrile Butadiene Styrene) 또는 폴리카보네이트 에이비에스(PC-ABS, PolyCarbonate-Acrylonitrile Butadiene Styrene) 중 적어도 하나의 혼합물로 형성되는,
회로패턴 구현방법.
The method according to claim 1,
The injection molded article may be formed of a mixture of at least one of acrylonitrile butadiene styrene (ABS) or polycarbonate-acrylonitrile butadiene styrene (PC-ABS)
Circuit pattern implementation method.
제 1 항에 있어서,
상기 방법은
상기 사출물의 표면을 도금마스킹액으로 전처리하는 단계 이후에, 상기 사출물을 건조하는 단계를 더 포함하는,
회로패턴 구현방법.
The method according to claim 1,
The method
Further comprising the step of pre-treating the surface of the injection product with a plating masking liquid, followed by drying the injection product.
Circuit pattern implementation method.
제 1 항에 있어서,
상기 사출물을 도금액에 의해 도금처리하는 단계는,
구리 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 1 도금처리 단계;
상기 구리 피막 위에 니켈 피막을 형성하기 위하여, 니켈 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 2 도금처리 단계; 및
상기 니켈 피막 위에 금 피막을 형성하기 위하여, 금 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 3 도금처리 단계;를 포함하는,
회로패턴 구현방법.
The method according to claim 1,
The step of plating the injection molded body with the plating liquid may include:
A first plating treatment step of plating the injection product by a plating solution for forming a copper film;
A second plating treatment step of plating the injection material with a plating solution for forming a nickel coating to form a nickel coating on the copper coating; And
And a third plating step of plating the injection object by a plating liquid for forming a gold coating to form a gold coating on the nickel coating,
Circuit pattern implementation method.
제 4 항에 있어서,
상기 제 1 도금처리 단계, 상기 제 2 도금처리 단계 및 상기 제 3 도금처리 단계는 무전해 도금 방법으로 수행되는,
회로패턴 구현방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the first plating treatment step, the second plating treatment step and the third plating treatment step are performed by an electroless plating method,
Circuit pattern implementation method.
제 5 항에 있어서,
상기 제 1 도금처리 단계, 상기 제 2 도금처리 단계 및 상기 제 3 도금처리 단계는,
상기 사출물의 표면에 묻어있는 이물질을 제거하는 단계;
에칭액을 이용하여 상기 사출물의 표면에 미세한 요철을 형성하는 단계;
촉매액을 이용하여 상기 사출물의 표면에 촉매금속을 흡착시키는 단계;
반응촉진제를 이용하여 상기 사출물의 표면에 팔라둠(Palladium)을 생성시키는 단계; 및
상기 사출물에 상기 구리 피막, 니켈 피막 또는 금 피막을 형성하는 단계를 포함하는,
회로패턴 구현방법.
6. The method of claim 5,
Wherein the first plating treatment step, the second plating treatment step and the third plating treatment step comprise:
Removing foreign substances on the surface of the injection molded article;
Forming fine irregularities on the surface of the molded article using an etching liquid;
Adsorbing a catalytic metal on a surface of the injection product using a catalyst liquid;
Generating palladium on the surface of the injection product using a reaction promoter; And
And forming a copper film, a nickel film or a gold film on the injection product.
Circuit pattern implementation method.
제 1 항에 있어서,
상기 사출물을 도금액에 의해 도금처리하는 단계는,
구리 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 1 도금처리 단계인,
회로패턴 구현방법.
The method according to claim 1,
The step of plating the injection molded body with the plating liquid may include:
A first plating step of plating the injection material with a plating liquid for forming a copper film,
Circuit pattern implementation method.
제 7 항에 있어서,
상기 제 1 도금처리 단계는 무전해 도금 방법으로 수행되는,
회로패턴 구현방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the first plating step is performed by an electroless plating method,
Circuit pattern implementation method.
제 8 항에 있어서,
상기 제 1 도금처리 단계는,
상기 사출물의 표면에 묻어있는 이물질을 제거하는 단계;
에칭액을 이용하여 상기 사출물의 표면에 미세한 요철을 형성하는 단계;
촉매액을 이용하여 상기 사출물의 표면에 촉매금속을 흡착시키는 단계;
반응촉진제를 이용하여 상기 사출물의 표면에 팔라둠(Palladium)을 생성시키는 단계; 및
상기 사출물에 상기 구리 피막을 형성하는 단계를 포함하는,
회로패턴 구현방법.
9. The method of claim 8,
Wherein the first plating step comprises:
Removing foreign substances on the surface of the injection molded article;
Forming fine irregularities on the surface of the molded article using an etching liquid;
Adsorbing a catalytic metal on a surface of the injection product using a catalyst liquid;
Generating palladium on the surface of the injection product using a reaction promoter; And
And forming the copper film on the injection product.
Circuit pattern implementation method.
제 7 항에 있어서,
상기 방법은,
상기 마스크를 제거하는 단계 이후에
상기 구리 피막 위에 니켈 피막을 형성하기 위하여, 니켈 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 2 도금처리 단계; 및
상기 니켈 피막 위에 금 피막을 형성하기 위하여, 금 피막을 형성하기 위한 도금액에 의해 상기 사출물을 도금하는 제 3 도금처리 단계;를 더 포함하는,
회로패턴 구현방법.
8. The method of claim 7,
The method comprises:
After the step of removing the mask
A second plating treatment step of plating the injection material with a plating solution for forming a nickel coating to form a nickel coating on the copper coating; And
And a third plating step of plating the injection material with a plating liquid for forming a gold film to form a gold film on the nickel film,
Circuit pattern implementation method.
제 10 항에 있어서,
상기 제 2 도금처리 단계 및 상기 제 3 도금처리 단계는 전해 도금 방법으로 수행되는,
회로패턴 구현방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the second plating treatment step and the third plating treatment step are performed by an electroplating method,
Circuit pattern implementation method.
제 1 항에 있어서,
상기 혼합용액은 폴리염화비닐(polyvinyl chloride) 및 아세트산비닐수지(vinyl acetate resin) 중 적어도 하나의 비닐합성 수지가 용융되어 생성되는,
회로패턴 구현방법.
The method according to claim 1,
Wherein the mixed solution is formed by melting at least one vinyl synthetic resin of polyvinyl chloride and vinyl acetate resin,
Circuit pattern implementation method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2004281941A (en) * 2003-03-18 2004-10-07 Fuji Photo Film Co Ltd Image display device with electromagnetic wave shielding material and its manufacturing method
KR100691336B1 (en) * 2005-04-12 2007-03-12 주식회사 아큐텍반도체기술 Manufacturing Method of a Flexible Semiconductor Board By Build-Up Process
JP2011017069A (en) * 2009-07-10 2011-01-27 Sankyo Kasei Co Ltd Method for manufacturing formed-circuit parts

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