KR101418035B1 - Method for manufacturing multi layer pcb - Google Patents

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KR101418035B1
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곽주호
김건범
조소연
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(주)오알켐
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a multi-layer PCB with plated through-holes, and, more specifically, to a multi-layer PCB (MLB) in which multiple non-conductive layers and conductive layers are alternately laminated and inner wall of a through-hole is electro-plated to electrically connect an inter-layer conductor. The method for manufacturing a multi-layer PCB with plated through-holes includes a process of putting a board in a solution with nano bubbles before a pre-etching process for the multi-layer PCB or before micro-etching process for removing a carbon coating layer applied to a conductor before plating. Therefore, the etching process can be carried out stably and rapidly even etching can be guaranteed even if the use amount of hydrogen peroxide is reduced.

Description

도금 처리된 관통홀을 갖는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법{METHOD FOR MANUFACTURING MULTI LAYER PCB}[0001] METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYER PCB [0002] BACKGROUND OF THE INVENTION [0003]

본 발명은 도금 처리된 관통홀을 갖는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법에 관한 것으로,The present invention relates to a method of manufacturing a multilayer printed circuit board having a plated through-hole,

보다 상세하게는 다수의 부도체층과 도체층이 교차 적층되어 이루어지고 층간 도체를 전기적으로 연결하기 위하여 관통홀 내벽에 전기 도금이 이루어진 다층 인쇄 회로 기판(Multi Layer PCB; MLB)의 제조방법에 있어서, 다층 인쇄 회로 기판의 프리 에칭 공정 이전에, 또는 도금 전 도체에 코팅된 탄소 코팅층을 제거하는 마이크로 에칭 공정 이전에 기판을 나노 버블을 포함하는 용액에 투입하는 공정을 포함하여 이루어짐으로써, 과산화수소의 사용량을 줄이더라도 안정적이면서 빠른 에칭 공정이 이루어지면서, 균일한 에칭량을 보장할 수 있도록 하는 도금 처리된 관통홀을 갖는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법에 관한 것이다.
And more particularly, to a method of manufacturing a multilayer printed circuit board (MLB) in which a plurality of nonconductor layers and conductor layers are cross-laminated and electroplating is performed on inner walls of through holes to electrically connect interlayer conductors, And a step of putting the substrate into a solution containing nano bubbles before the pre-etching process of the multilayer printed circuit board, or before the micro-etching process of removing the carbon coating layer coated on the plating conductor, so that the amount of hydrogen peroxide And more particularly, to a method of manufacturing a multilayer printed circuit board having a plated through hole to ensure a stable and fast etching process and to ensure a uniform etching amount.

다층 인쇄 회로 기판이란 다수의 도체와 부도체가 교차 적층하여 제작된 것으로 통상적으로 도체층이 네 개층 이상 구비되어 있는 인쇄 회로 기판을 의미하며, 고밀도, 고집적 인쇄 회로 기판을 제공할 수 있어 경박단소화 경향에 따라 많은 전자제품이 이용되는 인쇄 회로 기판이다.A multilayer printed circuit board refers to a printed circuit board in which a plurality of conductors and non-conductors are formed by cross-lamination, and typically has four or more conductor layers. The multilayer printed circuit board can provide a high density and highly integrated printed circuit board, In which many electronic products are used.

다층 인쇄 회로 기판은 도 1에 도시된 바와 같이, 층간 도체간에 부도체로 인하여 단절되어 있어 인쇄 회로 기판에 관통홀(속칭 Through-hole, Via-hole 이라 함.)을 형성한 후 상기 관통홀의 내벽을 구리 등의 전도성 물질로 도금하여 층간 도체를 전기적으로 연결되는 공정이 필수적이다.As shown in FIG. 1, the multilayer printed circuit board is cut off due to non-conductive material between the interlayer conductors to form a through hole (called a through hole, via-hole) in the printed circuit board, A process of electrically connecting the interlayer conductor by plating with a conductive material such as copper is essential.

종래 관통홀의 내벽의 층간 전기 도금을 위한 기술로써, Pd(팔라듐) 촉매를 사용하는 무전해 도금 방법과 전도성 물질을 사용하여 관통홀에 노출된 부도체 내벽에 직접 전기 도금 하는 방법이 있다.As a technique for interlayer electroplating on the inner wall of a conventional through hole, there is a method of electroless plating using a Pd (palladium) catalyst and a method of electroplating directly on the inner wall of the nonconductor exposed in the through hole using a conductive material.

팔라듐 촉매를 이용한 무전해 도금 방법에 관한 기술(이하 종래 기술 1이라 함.)은 전처리 공정, 주석 팔라듐 촉매 코팅 공정, 액셀러레이터 공정, 무전해 화학동을 통한 구리 코팅 공정, 전기 도금 전의 수세 공정 등으로 이루어진다. Techniques for electroless plating using a palladium catalyst (hereinafter referred to as prior art 1) include a pretreatment process, a tin palladium catalyst coating process, an accelerator process, a copper coating process through electroless chemical copper, a washing process before electroplating .

하지만 상기 종래 기술 1에 사용되는 무전해 화학동은 긴 처리시간, 복잡한 화합물, 민감한 무전해 화학동 약품의 특성 등으로 인하여 생산성이 낮을 뿐만 아니라, 팔라듐과 구리의 후처리 비용이 매우 고가인 문제점이 있다.However, the electroless chemical copper used in the prior art 1 is not only low in productivity due to long processing time, complicated compounds, and characteristics of sensitive electroless chemical copper medicines, but also has a problem that the post-treatment cost of palladium and copper is very high have.

상기 종래 기술 1의 문제점을 해결하기 위한 전도성 물질을 이용한 기술은 전도성 고분자를 이용하는 방법과, 카본 블랙이나 그라파이트 분산액을 사용하는 방법이 있다.A technique using a conductive material for solving the problems of the prior art 1 includes a method using a conductive polymer and a method using a carbon black or a graphite dispersion.

전도성 고분자를 이용하여 관통홀 내벽에 전도성을 부여하는 방법은 일본공개특허 제1995-321461호(1995.12.08. 이하 종래 기술 2라 함)가 있는데,A method of imparting conductivity to the inner wall of a through hole using a conductive polymer is disclosed in Japanese Laid-Open Patent Application No. 1995-321461 (hereinafter referred to as prior art 2, 1995)

상기 종래 기술 2는 전도성 고분자를 이용하여 관통홀 내벽에 전도성을 부여한 후 전기 도금을 하여 층간 도체간에 전기적으로 연결시키는 기술에 관한 것이다.The above-mentioned prior art 2 relates to a technique of providing conductivity to the inner wall of a through hole by using a conductive polymer, and then electroplating to electrically connect between the interlayer conductors.

그러나 상기 종래 기술 2는 전도성 고분자를 통해 충분한 전기전도성을 확보하기 어렵고, 또한 관통홀 내벽에 균일한 도포가 이루어지지 않아 관통홀 내벽에 보이드가 발생되어 단락을 일으키는 문제점이 있다.
However, in the conventional art 2, it is difficult to secure sufficient electrical conductivity through the conductive polymer, uniform coating is not applied to the inner wall of the through hole, and voids are generated on the inner wall of the through hole, causing a short circuit.

그리고 카본 블랙이나 그라파이트 등의 분산액을 사용하여 관통홀 내벽에 전도성을 부여하는 기술(이하 종래기술 3이라 함.)이 있는데,And a technique of imparting conductivity to the inner wall of the through hole by using a dispersion liquid such as carbon black or graphite (hereinafter referred to as the prior art 3)

상기 종래 기술 3은 도 1에 도시된 바와 같이, 분산된 탄소 입자에 음이온성을 주고, 관통홀로 노출되는 부도체층에 양이온성을 주어 음이온 탄소 입자를 코팅(도 1의 [b] 참고)하여 전도성을 보장함으로써, 전기 도금이 이루어지도록 한 기술에 관한 것이다.As shown in FIG. 1, the prior art 3 has a structure in which an anion is imparted to the dispersed carbon particles, a cationic property is imparted to the non-conductive layer exposed through holes, and anion carbon particles are coated (see [ Thereby enabling electroplating to be performed.

그러나 종래 기술 3은 음이온 탄소 입자 코팅 시 양이온성을 띄는 도체 표면에도 음이온 탄소 입자가 동일하게 코팅되어 전기 도금 시 방해 요소로 작용하여 전기 도금이 완전하게 이루어지지 않는 문제점이 있다.However, in the prior art 3, the anion carbon particles are coated on the surface of a conductor having a cationic property even when the anion carbon particles are coated, thereby causing a problem that the electroplating is not performed completely because the anion carbon particles act as an obstacle in electroplating.

이에 종래 기술 3의 문제점을 해결하기 위하여 도 1의 [c]에 도시된 바와 같이, 관통홀의 전기 도금 공정 전에 도체 표면에 코팅된 전도성 음이온 탄소 입자를 제거하기 위하여 마이크로 에칭 공정이 선행된다.Accordingly, in order to solve the problem of the prior art 3, as shown in [c] of FIG. 1, a micro-etching process is performed in order to remove the conductive anion carbon particles coated on the conductor surface before the electroplating process of the through hole.

통상적으로 마이크로 에칭 용액은 황산과, 과산화수소의 혼합물이 이용되는데, 과산화수소의 불안정성이 큰 단점이 되고 있다. 또한 높은 농도의 과산화수소를 사용할 경우 구리와 같은 도체 표면을 과(過) 산화시켜 균일하지 못한 에칭량을 가지게 되는 문제점이 있다. 따라서 인쇄 회로 기판의 제조의 안정성을 향상시키기 위해 낮은 농도의 과산화수소에서 적절하고 균일한 에칭량을 갖는 제조방법의 필요성이 대두되고 있다.Typically, a mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide is used as the microetching solution. However, instability of hydrogen peroxide is a major disadvantage. Also, when a high concentration of hydrogen peroxide is used, there is a problem that the surface of a conductor such as copper is excessively oxidized to have an uneven etching amount. Accordingly, there is a need for a manufacturing method that has a proper and uniform etching amount in hydrogen peroxide at a low concentration in order to improve the stability of production of a printed circuit board.

특히, 10~20㎛의 도체층을 갖는 연성 인쇄 회로 기판(FPCB; Flexible Printed Circuit Board)은 밀착력 향상과 Direct plating 처리로 인한 도체 즉, 구리 표면의 이물 제거를 위하여 에칭 시 0.5~1.5㎛ 사이의 에칭량(Etch rate; 에칭량)을 갖는데, 통상적인 에칭 공정에서 갖는 20㎛ 이상의 에칭량과 비교하여 매우 낮으면서 균일한 에칭량을 요구하기 때문에 에칭 용액의 농도 통제는 필수적이어서, 과산화수소의 사용량을 줄이는 것이 매우 중요한 과제이다.
Particularly, a flexible printed circuit board (FPCB) having a conductor layer of 10 to 20 mu m has a thickness of 0.5 to 1.5 mu m at the time of etching in order to improve the adhesion and to remove foreign substances on the surface of the conductor, Since the etch rate is very low and requires a uniform etching amount as compared with the etching amount of 20 mu m or more in a conventional etching process, it is necessary to control the concentration of the etching solution so that the amount of hydrogen peroxide Reduction is a very important task.

이에 본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems,

관통홀을 갖는 다층 인쇄 회로 기판의 제조 공정 중 에칭 공정에 사용되는 과산화수소의 사용량을 줄이면서도 균일한 에칭량 확보 및 제조 안정성을 보장할 수 있도록 에칭 공정 전에 도체를 나노 버블을 포함하는 용액에 투입하는 공정을 포함하여 이루어지는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
In order to ensure a uniform amount of etching and ensure manufacturing stability while reducing the amount of hydrogen peroxide used in the etching process during the manufacturing process of the multilayer printed circuit board having the through holes, the conductor is put into the solution containing the nano bubbles before the etching process And a method for manufacturing a multilayer printed circuit board comprising the steps of:

또 본 발명은 구리와 같은 도체 표면을 산화시켜, 에칭에 사용되는 과산화수소의 사용량을 줄일 수 있도록 나노 발생기를 이용하여 오존량을 5 내지 10 ppm의 오존 농도를 갖는 용액에 기판을 투입하는 공정을 포함하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
The present invention also includes a step of oxidizing a surface of a conductor such as copper to reduce the amount of hydrogen peroxide used for etching, and a step of introducing the substrate into a solution having an ozone concentration of 5 to 10 ppm by using a nano generator It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a multilayer printed circuit board.

이어서 본 발명은 에칭 공정에 사용되는 용액으로써, 1 내지 3 중량%의 황산과, 1 내지 3 중량%의 과산화수소와, 1 내지 3 중량%의 안정제와, 0.1 내지 1 중량%의 계면활성제와, 0.005내지 0.05중량%의 착화제 및 잔량의 물이 혼합되어 이루어지는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
The present invention further relates to a solution for use in an etching process comprising 1 to 3% by weight of sulfuric acid, 1 to 3% by weight of hydrogen peroxide, 1 to 3% by weight of stabilizer, 0.1 to 1% by weight of a surfactant, 0.005 To 0.05% by weight of a complexing agent and water in a remaining amount.

나아가 본 발명은 에칭 처리 시 에칭 약품과 구리 표면과의 활성을 높일 수 있도록 0.1 내지 2 중량%의 금속염과, 표면 안정제 역할을 하는 0.1 내지 1 중량%의 유기산이 더 첨가되어 있는 에칭 용액을 통해 에칭 공정이 이루어지는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
Further, the present invention provides a method of etching an etching solution through an etching solution containing 0.1 to 2% by weight of a metal salt and 0.1 to 1% by weight of an organic acid serving as a surface stabilizer so as to increase the activity of the etching agent and the copper surface during the etching treatment. And a method for manufacturing the multilayer printed circuit board.

또 본 발명은 전기 도금을 위한 탄소 코팅 단계에서 전도성 음이온 탄소가 레진층 등의 부도체 표면에 안정적으로 코팅될 수 있도록 기판을 2차 세정하면서 부도체 표면을 양이온성 계면 활성제를 이용하여 양이온화시키는 공정을 포함하여 이루어진 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
The present invention also includes a step of cationically ionizing the non-conductive surface using a cationic surfactant while secondarily cleaning the substrate so that the conductive anion carbon can be stably coated on the surface of the nonconductor such as a resin layer in the carbon coating step for electroplating And a method of manufacturing a multilayer printed circuit board.

나아가 본 발명은 음이온 탄소에 함유된 수분에 의한 전기 도금 불량을 방지할 수 있도록 탄소 코팅 단계에서 수분을 제거하는 드라이 공정을 포함하여 이루어진 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a multilayer printed circuit board including a dry process for removing moisture in a carbon coating step so as to prevent an electroplating failure due to moisture contained in an anion carbon.

또 본 발명은 액상 탄소 분산 방식을 통해 탄소 코팅이 안정적이고 균일하게 이루어지도록 하나 이상의 전도성 탄소와 하나 이상의 계면 활성제 및 액상 분산 중간체의 혼합물로 이루어진 용액을 이용하여 탄소 코팅 공정이 실시되는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
The present invention also relates to a multilayer printed circuit board in which a carbon coating process is carried out using a solution consisting of a mixture of at least one conductive carbon and at least one surfactant and a liquid-dispersing intermediate so that the carbon coating is stable and uniform through the liquid- And a method for producing the same.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법은 In order to achieve the above object, a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention includes:

A) 관통홀이 형성된 다층 인쇄 회로 기판에 대하여 프리 에칭 공정을 실시하는 단계;A) performing a pre-etching process on a multilayer printed circuit board having through-holes formed therein;

B) 상기 관통홀을 전도성 음이온 탄소로 코팅하는 단계; 및B) coating the through hole with conductive anion carbon; And

C) 상기 관통홀의 도체 표면에 코팅된 전도성 음이온 탄소를 제거하기 위하여 마이크로 에칭 공정을 실시하는 단계; 및C) performing a micro-etching process to remove conductive anion carbon coated on the conductor surface of the through-hole; And

D) 상기 관통홀을 전기 도금하여 층간 도체를 전기적으로 연결하는 단계;를 포함하여 이루어지되,D) electrically connecting the interlayer conductor by electroplating the through hole,

상기 A) 단계의 프리 에칭 공정 이전, 또는 상기 C) 단계의 마이크로 에칭 공정 이전에, 나노 버블을 포함하는 용액에 상기 다층 인쇄 회로 기판을 투입하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
Further comprising the step of injecting the multilayer printed circuit board into a solution containing nano bubbles before the pre-etching step of step A) or before the micro-etching step of step C).

또 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법에서 상기 나노 버블을 포함하는 용액은 나노 발생기를 이용하여 용존 오존량을 증가시킨 용액인 것을 특징으로 한다.
In the method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, the solution containing the nano bubbles is a solution in which dissolved ozone amount is increased by using a nano generator.

그리고 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법에서 상기 용존 오존량을 증가시킨 용액은 5 내지 10 ppm의 오존 농도를 갖는 것을 특징으로 한다.
In the method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, the solution in which the amount of dissolved ozone is increased has an ozone concentration of 5 to 10 ppm.

한편 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법에서 상기 A) 단계의 프리 에칭 공정, 또는 상기 C) 단계의 마이크로 에칭 공정에 사용되는 에칭 용액은 1 내지 3 중량%의 황산과, 1 내지 3 중량%의 과산화수소와, 1 내지 3 중량%의 안정제와, 0.1 내지 1 중량%의 계면활성제와, 0.005 내지 0. 05 중량%의 착화제 및 잔량의 물이 혼합되어 이루어지는 것을 특징으로 한다.
Meanwhile, in the method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, the etching solution used in the pre-etching step A) or the micro-etching step C) may include 1 to 3% by weight of sulfuric acid and 1 to 3% % Hydrogen peroxide, 1 to 3% by weight of a stabilizer, 0.1 to 1% by weight of a surfactant, 0.005 to 0.05% by weight of a complexing agent and the balance of water.

또 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법은 상기 안정제는 알킬아민(Alkyl Amine)이 사용되는 것을 특징으로 한다.
In the method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, the stabilizer may be an alkyl amine.

나아가 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법에서 상기 에칭 용액은 0.1 내지 2 중량%의 금속염과, 0.1 내지 1 중량%의 유기산이 더 첨가되어 이루어지는 것을 특징으로 한다.
Further, in the method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, the etching solution is characterized in that 0.1 to 2% by weight of a metal salt and 0.1 to 1% by weight of an organic acid are further added.

다음 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법에서 상기 A) 단계는 나노 버블을 포함하는 용액에 기판을 투입하기 이전에 기판을 2차 세정하면서 상기 관통홀의 부도체 표면을 양이온화 시키는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
In the method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, the step A) includes a step of cationizing the nonconductive surface of the through hole while washing the substrate secondly before putting the substrate into a solution containing nano bubbles .

이어서 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법에서 상기 B) 단계의 부도체를 양이온화 시키는 공정은 양이온성 계면활성제가 사용되는 것을 특징으로 한다.
Next, in the method for producing a multilayer printed circuit board according to the present invention, the step of cationizing the nonconductor in the step B) is characterized in that a cationic surfactant is used.

또 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법에서 상기 B) 단계는 코팅된 음이온 탄소로부터 수분을 제거하기 위한 드라이 공정을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
In the method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, the step B) further comprises a dry process for removing moisture from the coated anion carbon.

그리고 본 발명에 따른 다층 인쇄 회고 기판의 제조방법에서 상기 B) 단계는 액상 탄소 분산 방식으로 이루어지며, 상기 액상 탄소 분산 방식의 탄소 분산 용액에 첨가되는 탄소 입자의 지름은 0.05㎛~3.0㎛의 크기를 갖는 것을 특징으로 한다.
In the method of manufacturing a multilayer printed recycled substrate according to the present invention, the step B) is performed by a liquid carbon dispersion method, and the diameter of the carbon particles added to the carbon dispersion liquid of the liquid carbon dispersion system is 0.05 탆 to 3.0 탆 .

나아가 본 발명에 따른 다층 인쇄 회고 기판의 제조방법에서 상기 B) 단계의 액상 탄소 분산 방식에 사용되는 용액은 물과, 하나 이상의 전도성 탄소와 하나 이상의 계면활성제 및 액상 분산 중간체의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
Furthermore, in the method for producing a multilayer printed recalled substrate according to the present invention, the solution used in the liquid carbon dispersion method in the step B) is composed of water, a mixture of at least one conductive carbon, at least one surfactant and a liquid- do.

본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법은 과산화수소의 사용량을 줄여 에칭 공정의 작업 안정성을 확보함과 동시에, 과산화수소를 적게 사용함에도 불구하고 균일하고 안정적인 에칭량을 보장할 수 있다.
The method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention can reduce the amount of hydrogen peroxide used to secure the operation stability of the etching process and ensure a uniform and stable etching amount despite the use of less hydrogen peroxide.

또 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법은 별도의 약품을 사용하지 않으면서도 도체 표면의 산화 공정이 쉽고 빠르게 실시할 수 있다.
In addition, in the method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, the oxidation process of the conductor surface can be carried out easily and quickly without using any additional chemicals.

나아가 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법은 에칭 용액으로써, 황산 및 과산화수소의 사용량을 절감함에도 불구하고, 종래 에칭 공정에 비하여 에칭량이 증대되어, 다층 인쇄 회로 기판의 제조 시 에칭 관리가 용이하므로, 특히 얇은 두께를 갖는 연성의 다층 인쇄 회로 기판의 관통홀 도금 작업을 쉽고 빠르게 실시할 수 있다.
In addition, the method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention can reduce the amount of sulfuric acid and hydrogen peroxide to be used as an etching solution. However, the amount of etching is increased compared to a conventional etching process, , It is possible to easily and quickly perform the through-hole plating operation of the flexible multi-layer printed circuit board having a thin thickness.

또한 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법은 미세한 크기의 관통홀 도금에 적합하며, 특히 전기 도금을 위한 전도성 음이온 탄소 코팅 공정 효율을 높임과 동시에, 도체 표면에 남는 전도성 음이온 탄소 잔사를 완벽하게 제거할 수 있어, 탄소 잔사에 의한 보이드 불량 등을 방지할 수 있다.
In addition, the method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention is suitable for plating a through hole of a minute size, and in particular, it is possible to improve the efficiency of the conductive anion carbon coating process for electroplating and to completely remove the conductive anion carbon residue remaining on the surface of the conductor It is possible to prevent void defects and the like caused by carbon residues.

도 1은 종래 다층 인쇄 회로 기판의 전기 도금 공정을 개략적으로 설명한 개념도.
도 2는 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법의 전기 도금 공정을 개략적으로 설명한 개념도.
도 3 내지 도 7은 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법을 설명하기 위한 실험 결과도들.
1 is a conceptual diagram schematically illustrating an electroplating process of a conventional multilayer printed circuit board.
2 is a conceptual diagram schematically illustrating an electroplating process of a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention.
3 to 7 are experimental results for explaining a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 구현예(態樣, aspect)(또는 실시예)들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. While the present invention has been described in connection with certain embodiments, it is obvious that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

각 도면에서 동일한 참조부호, 특히 십의 자리 및 일의 자리 수, 또는 십의 자리, 일의 자리 및 알파벳이 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 기능을 갖는 부재를 나타내고, 특별한 언급이 없을 경우 도면의 각 참조부호가 지칭하는 부재는 이러한 기준에 준하는 부재로 파악하면 된다.In the drawings, the same reference numerals are used for the same reference numerals, and in particular, the numerals of the tens and the digits of the digits, the digits of the tens, the digits of the digits and the alphabets are the same, Members referred to by reference numerals can be identified as members corresponding to these standards.

또 각 도면에서 구성요소들은 이해의 편의 등을 고려하여 크기나 두께를 과장되게 크거나(또는 두껍게) 작게(또는 얇게) 표현하거나, 단순화하여 표현하고 있으나 이에 의하여 본 발명의 보호범위가 제한적으로 해석되어서는 안 된다.In the drawings, the components are expressed by exaggeratingly larger (or thicker) or smaller (or thinner) in size or thickness in consideration of the convenience of understanding, etc. However, It should not be.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 구현예(태양, 態樣, aspect)(또는 실시예)를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

본 출원에서, ~포함하다~ 또는 ~이루어진다~ 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. In the present application, the term " comprising " or " consisting of ", or the like, refers to the presence of a feature, a number, a step, an operation, an element, a component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.

본 명세서에서 기재한 ~제1~, ~제2~ 등은 서로 다른 구성 요소들임을 구분하기 위해서 지칭할 것일 뿐, 제조된 순서에 구애받지 않는 것이며, 발명의 상세한 설명과 청구범위에서 그 명칭이 일치하지 않을 수 있다.
It is to be understood that the first to second aspects described in the present specification are merely referred to in order to distinguish between different components and are not limited to the order in which they are manufactured, It may not match.

본 발명에 따른 도금 처리된 관통홀을 갖는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법을 설명함에 있어 편의를 위하여 엄밀하지 않은 대략의 방향 기준을 도 2를 참고하여 특정하면, 중력이 작용하는 방향을 하측으로 하여, 보이는 방향 그대로 상하좌우를 정한다.In describing a method of manufacturing a multilayer printed circuit board having a plated through-hole according to the present invention, when an unambiguous approximate direction reference is specified with reference to FIG. 2 for convenience, , Left and right are set as shown.

특히 도 2에서 최상, 최하측 도체가 노출되는 방향을 외측으로 하여 그 반대 방향을 내측으로 정하고 설명에 따라 내측과 외측, 상측과 하측을 혼용하여 사용하고, 다른 도면과 관련된 발명의 상세한 설명 및 청구범위에서도 다른 특별한 언급이 없는 한 이 기준에 따라 방향을 특정하여 기술한다.
In particular, in FIG. 2, the directions in which the uppermost and lowermost conductors are exposed are set outwards and the opposite direction is set inward, and the inner and outer sides and the upper and lower sides are used in combination according to the description. Unless otherwise specified in the scope, directions are specified in accordance with this standard.

우선 본 발명에 의하여 제조되는 다층 인쇄 회로 기판은 도 2에 도시된 바와 같이, 다수의 부도체(2)와 도체(1)가 교차 적층되어 이루어진 기판(10)으로써, 특히 도체(1)가 네 개층 이상으로 이루어진다.As shown in FIG. 2, a multilayer printed circuit board manufactured according to the present invention is a substrate 10 having a plurality of non-conductors 2 and conductors 1 laminated alternately, .

통상적으로 도체(1)가 네 개층 이상으로 이루어진 다층 인쇄 회로 기판 특히, 얇은 두께를 갖는 다층 연성 인쇄 회로 기판(FPCB)의 제조에 본 발명이 적용되는 것이 효과적이나, 경우에 따라 도체(1)가 두개 층으로만 이루어진 양면 인쇄 회로 기판(10)의 개념도 다층 인쇄 회로 기판(10)에 포함되는 개념이다.In general, it is effective that the present invention is applied to the production of a multilayer printed circuit board having four or more conductors 1, in particular, a multilayer flexible printed circuit board (FPCB) having a small thickness, The concept of the double-sided printed circuit board 10 consisting of only two layers is also a concept included in the multilayer printed circuit board 10.

상기 도체(1)로는 전도성을 갖는 니켈, 금, 팔라듐, 은과 같은 금속 재질이 사용될 수 있고, 대표적으로 구리가 사용되며, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 도체(1)로써 구리로 대표하여 설명하도록 한다.The conductor 1 may be made of a metal such as nickel, gold, palladium, or silver having conductivity. Typically, copper is used. Hereinafter, for convenience of explanation, do.

그리고 상기 부도체(2)로는 유리, 합성수지 등 비전도성의 비금속 물질이 사용될 수 있고, 대표적으로 레진(Resin)이 사용되며, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 부도체(2)로써 레진층으로 대표하여 설명한다.A non-conductive non-conductive material such as glass or synthetic resin may be used as the non-conductive material 2, and a resin is typically used. For convenience of explanation, the non-conductive material 2 will be described as a resin layer .

상기 다층 인쇄 회로 기판(10)은 부도체(2)에 의하여 도체(1)간에 연결이 단절되어 있으므로 고밀도 집적 회로를 형성하기 위하여 본체를 관통하는 관통홀(3)이 구비되어 있다.Since the connection between the conductors 1 is disconnected by the non-conductor 2, the multi-layer printed circuit board 10 is provided with a through hole 3 penetrating the main body to form a high-density integrated circuit.

상기 관통홀(3)은 상, 하부가 모두 천공된 스루홀(through hole; 완전 관통홀(3)) 또는 일부만이 천공된 비아홀(via hole; 반 관통홀(3))을 포함하는 개념이다. 상기 관통홀(3)을 형성하는 방법으로서는 드릴링 가공 방식, 레이저 가공 방식 등이 고려될 수 있다.The through hole 3 is a concept that includes a through hole in which both the upper and lower portions are perforated or a via hole in which only a part of the through hole 3 is perforated. As a method of forming the through hole 3, a drilling method, a laser machining method, or the like can be considered.

우선 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법은 크게First, as shown in FIG. 2, a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention includes

A) 관통홀(3)이 형성된 다층 인쇄 회로 기판(10)의 준비 단계; A) preparing a multilayer printed circuit board (10) having a through hole (3) formed therein;

B) 전도성 음이온 탄소로 코팅하는 단계;B) coating with conductive anionic carbon;

C) 마이크로 에칭 단계; 및C) micro-etching step; And

D) 전기 도금 단계;를 포함하여 이루어진다.D) an electroplating step.

상기 A) 단계는 기판(10)을 전기 도금하기 위하여 전기 도금하기 전에 실시되는 모든 공정을 포함하는 개념으로써, 통상적으로 기판(10)의 1차 세정 공정, 프리 에칭 공정 등을 포함한다.The step A) is a concept including all processes performed before electroplating to electroplating the substrate 10, and typically includes a primary cleaning process of the substrate 10, a pre-etching process, and the like.

상기 1차 세정 공정은 준비된 기판(10)의 이물질을 제거하는 공정으로써, 물 또는 약품 등을 이용하여 세수시키는 작업과, 관통홀(3) 형성 시 부도체(2)층의 일부가 도체(1)층에 부착된 잔재를 제거하는 작업(de-smear; 디스미어 작업) 등을 포함한다.The first cleaning step is a step of removing impurities from the prepared substrate 10 and is a step of washing with water or a chemical agent and a part of the nonconductor 2 layer being formed on the conductor 1 when forming the through- Removing debris adhered to the layer (de-smear), and the like.

상기 프리 에칭 공정은 후술하는 음이온성 탄소 코팅 단계에서 탄소의 밀착력을 향상시키고, 에칭을 통해 미세 이물질을 제거하기 위한 공정이다. 상기 프리 에칭 공정에 관한 상세한 설명은 마이크로 에칭 공정과 함께 후에 상세히 설명한다.
The pre-etching process is a process for improving adhesion of carbon in an anionic carbon coating step described later and removing fine foreign substances through etching. A detailed description of the pre-etching process will be described in detail later with the micro-etching process.

이어서 본 발명은 준비된 다층 인쇄 회로 기판(10)을 전도성 음이온 탄소로 코팅하여 관통홀(3) 내벽에 전도성을 부여하는 B) 단계를 포함한다.Next, the present invention includes step B) of coating the prepared multilayer printed circuit board 10 with conductive anion carbon to impart conductivity to the inner wall of the through-hole 3.

상기 B) 단계의 탄소 코팅 공정은 액상 탄소 분산 방식이 이용되는 것이 바람직하다. 이 액상 탄소 분산 방식의 탄소 코팅액은 용매로써 물이 이용되며, 상기 탄소 코팅액으로써, 본 발명은 카본 블랙(carbon black; CB)과 탄소 나노튜브(carbon nanotube; CNT)의 혼합물을 포함한다.The carbon coating process in the step B) is preferably a liquid carbon dispersion method. The carbon coating solution of the liquid phase carbon dispersion method uses water as a solvent. As the carbon coating solution, the present invention includes a mixture of carbon black (CB) and carbon nanotube (CNT).

상기 탄소 코팅액을 이용한 탄소 코팅 방식은 화학적 분산 방식 또는 스프레이 분산 방식이 고려될 수 있는데, 인쇄 회로 기판(10)의 특성 상 스프레이 분산 방식이 보다 바람직하다.The carbon coating method using the carbon coating solution may be a chemical dispersion method or a spray dispersion method. A spray dispersion method is more preferable because of the characteristics of the printed circuit board 10.

우선 기판(10)의 레진층에 전도성을 부여하기 위한 탄소 입자로 사용되는 카본 블랙은 무정형의 입자로 다공성이며, 표면적이 45~1100g/㎡이고, 0.01~0.05㎛의 크기를 갖는다. 상기 카본 블랙은 케천 블랙(ketjen black)과 하이블랙이 사용되며, 대표적으로 대한민국 OCI, 평화 약품, 에보닉 카본 블랙 코리아에서 제조하여 판매되는 카본 블랙을 사용할 수 있다.First, the carbon black used as the carbon particles for imparting conductivity to the resin layer of the substrate 10 is amorphous particles, porous and has a surface area of 45 to 1100 g / m 2 and a size of 0.01 to 0.05 탆. Ketjen black and high black are used for the carbon black. Typically, carbon black manufactured and sold by OCI Korea, a peace drug, and Ebonic Carbon Black Korea can be used.

상기 탄소 나노튜브는 원통형의 구조를 가지고 있기 때문에 방향성이 있어, 표면에서 전기 전도도가 좋으며, 일방향의 방향성을 가지기 때문에 두 물질 사이의 연결에 적합하다. Since the carbon nanotubes have a cylindrical structure, they are directional, have good electric conductivity on the surface, and have a one-directional orientation, which is suitable for connection between two materials.

본 발명의 탄소 코팅액은 카본 블랙과 탄소 나노튜브의 혼합물로써 탄소 코팅층이 형성되므로 탄소 나노튜브가 카본 블랙과 그물처럼 연결되어질 때 전기 전도도의 향상 효과가 매우 뛰어나다.The carbon coating solution of the present invention is a mixture of carbon black and carbon nanotubes to form a carbon coating layer. Therefore, when the carbon nanotubes are connected to the carbon black as a net, the electric conductivity is greatly improved.

상기 탄소 나노튜브는 길이가 15~25㎛, 지름이 0.2~0.5㎛가 바람직하며, 밀도는 0.01g/㎤이다. 상기 탄소 나노튜브는 다중벽 탄소 나노튜브(multi-walled carbon nanotube; MWCNT)가 사용되는 것이 바람직하며, 경우에 따라 단일벽 탄소 나노튜브(single-walled carbon nanotube; SWCNT)가 사용될 수 있다.The carbon nanotubes preferably have a length of 15 to 25 탆 and a diameter of 0.2 to 0.5 탆, and a density of 0.01 g / cm 3. The carbon nanotubes are preferably multi-walled carbon nanotubes (MWCNTs), and single-walled carbon nanotubes (SWCNTs) may be used.

상기 탄소 나노튜브는 대한민국 한화 나노케미칼, 카본 나노텍 등에서 판매하고 있는 카본 나노 튜브를 사용할 수 있다.The carbon nanotubes may be carbon nanotubes sold by Hanwha Nanochemical Co., Ltd. or Carbon Nanotech Co., Ltd.

상기 B) 단계에서 상기 전도성 음이온 탄소 코팅액의 온도는 약 15~35℃이고, 보다 바람직하게는 20~30℃로 이루어진다. 상기 B) 단계의 코팅 시간은 15초~10분이며, 보다 바람직하게는 30초~5분 동안 진행된다.
In the step B), the temperature of the conductive anionic carbon coating solution is about 15 to 35 ° C, more preferably 20 to 30 ° C. The coating time in the step B) is 15 seconds to 10 minutes, more preferably 30 seconds to 5 minutes.

이어서 상기 B) 단계에 사용되는 본 발명의 탄소 코팅액은 탄소 입자의 수용성 혼합물로써, 상기 카본 블랙과 상기 탄소 나노튜브의 조성비는 카본 블랙 100중량부에 대하여 탄소 나토튜브 1~30중량부가 혼합되어 사용될 수 있으며, 코팅액 제조 시 탄소 응집물의 발생을 방지할 수 있도록 카본 블랙 100중량부에 대하여 탄소 나노튜브 5~20중량부가 혼합되어 사용되는 것이 바람직하다. 이때 용매인 물은 상기 카본 블랙 1중량부에 대하여 45~55중량부가 혼합되는 것이 바람직하다.The carbon coating liquid of the present invention used in the step B) is a water-soluble mixture of carbon particles. The composition ratio of the carbon black and the carbon nanotubes is 1 to 30 parts by weight of carbon natto tube per 100 parts by weight of carbon black And it is preferable that 5 to 20 parts by weight of carbon nanotubes are mixed with 100 parts by weight of carbon black so as to prevent generation of carbon aggregates in the preparation of the coating liquid. At this time, it is preferable that water as a solvent is mixed in 45 to 55 parts by weight with respect to 1 part by weight of the carbon black.

상기 탄소 나노튜브가 5중량부 이하로 사용할 경우 카본 블랙과의 결합이 원활하게 이루어지지 않아 탄소 침전물이 발행하기 쉽고, 20중량부 이상으로 사용할 경우 전기 전도도의 향상 효과가 없으며, 이에 관련해서는 후에 상세히 설명한다.
When the carbon nanotubes are used in an amount of less than 5 parts by weight, the carbon nanotubes are not easily bonded to the carbon black, so that carbon precipitates are easily produced. When the carbon nanotubes are used in an amount of more than 20 parts by weight, the electrical conductivity is not improved. Explain.

또한 본 발명의 탄소 코팅액은 상기 카본 블랙과 탄소 나노튜브의 혼합물에 결합제와, 음이온 부여제 및 완충제가 더 혼합되어 구성되며 관통홀의 직경에 따라 하나 이상의 계면활성제가 더 첨가되어 혼합될 수 있다. In addition, the carbon coating solution of the present invention may further comprise a binder, an anion-imparting agent, and a buffer in addition to the mixture of the carbon black and the carbon nanotube, and one or more surfactants may be further added depending on the diameter of the through-hole.

이때 카본 블랙과 상기 탄소 나노튜브의 혼합물은 카본 블랙 100중량부에 대하여 5~20중량부의 탄소 나노 튜브와, 5~15 중량부의 음이온 부여제와, 5~10 중량부의 결합제와, 5~10 중량부의 완충제와, 10~20 중량부의 계면활성제 및 물이 혼합되어 이루어진다. 이때 용매인 물은 상기 카본 블랙 1 중량부에 대하여 45~55중량부가 혼합되는 것이 바람직하다.
In this case, the mixture of carbon black and the carbon nanotubes may contain 5 to 20 parts by weight of carbon nanotubes, 5 to 15 parts by weight of an anion imparting agent, 5 to 10 parts by weight of a binder, 5 to 10 parts by weight 10 to 20 parts by weight of a surfactant and water. At this time, it is preferable that water as a solvent is mixed in 45 to 55 parts by weight with respect to 1 part by weight of the carbon black.

상기 결합제는 카본 블랙과 탄소 나노튜브의 탄소 입자를 상호 결합시키기 위한 수용성 결합제로써, 전기 도금 시에 전도성을 이루는 비전도성 부도체 표면에 분산된 탄소입자의 부착을 보조한다.The binder is a water-soluble binder for bonding the carbon particles of the carbon black and the carbon nanotube to each other, thereby assisting adhesion of the carbon particles dispersed on the surface of the nonconductive nonconductor which becomes conductive in electroplating.

본 발명의 결합제는 탄소 입자에 부착할 수 있고, 음이온성 분산제를 수용할 수 있는 천연 또는 합성 중합체, 중합성 단량체 또는 기타 점착성의 고체물질 또는 이들에 의한 전구물질(前驅物質)이 사용될 수 있다.The binder of the present invention may be a natural or synthetic polymer, a polymerizable monomer or other sticky solid material capable of adhering to carbon particles and capable of receiving an anionic dispersing agent, or a precursor thereof.

예를 들어 상기 결합제로 단당류 및 다당류와 음이온성 중합체에서 선택한 수용성 또는 수분산성 물질이 사용될 수 있으며, 다당류 탄수화물을 포함하여 이루어질 수 있다. 그리고 상기 결합제는 25~800cps 범위내의 점착도를 갖는 것이 바람직하다.For example, water-soluble or water-dispersible substances selected from mono-saccharides and polysaccharides and anionic polymers can be used as the binding agent, and polysaccharide carbohydrates can be included. The binder preferably has a degree of adhesion within the range of 25 to 800 cps.

본 발명의 탄소 코팅액에 사용되는 결합제로써, 미합중국 펜실베니아주의 필라델피아에 위치한 롬 앤드 하스 컴퍼니에서 제조하여 판매되고 있는 ACRYSOL, 루이스빌리와, 보던 패키징 앤드 인더스트리얼 프로덕츠에서 제조하여 판매되고 있는 DURITE AL-5801a가 사용될 수 있으며 상기 결합제의 주성분으로 폴리에틸렌 글라이코, 폴리염화비닐, 폴리비닐 에스테르, 폴리초산비닐이 사용된다.As a binder used in the carbon coating solution of the present invention, DURITE AL-5801a, manufactured and sold by Boden Packaging and Industrial Products, ACRYSOL, manufactured and sold by Rohm and Haas Company, Philadelphia, Pennsylvania, Polyethylene glycol, polyvinyl chloride, polyvinyl ester and polyvinyl acetate are used as the main components of the binder.

이어서 본 발명의 탄소 코팅액에 첨가되는 음이온 부여제는 탄소 입자와 부도체(2)의 비전도성 표면을 연결시키기 위한 것으로, 음이온 부여제를 통해 약한 음이온성의 탄소 입자를 강한 음이온성을 갖도록 하고, 후술하는 부도체(2)의 표면을 양이온화 시키면, 탄소 코팅층의 생성이 더욱 쉽고 빠르게 진행될 수 있다.Subsequently, the anion-imparting agent added to the carbon coating solution of the present invention is for connecting the carbon particles to the non-conductive surface of the non-conductive material (2). The weak anionic carbon particles are allowed to have strong anionic property through the anion- When the surface of the nonconductor (2) is cationized, the formation of the carbon coating layer can proceed more easily and quickly.

상기 음이온 부여제는 대한민국 케이비켐에서 판매하고 있는 CELQUEST-727S, CELANON-A35G, CELTEX-F530, CECLE-MC75, CECLE-MC65KN-HA65C, KD-DF180, CELQUEST-206 등을 사용할 수 있다.Examples of the anion-imparting agent include CELQUEST-727S, CELANON-A35G, CELTEX-F530, CECLE-MC75, CECLE-MC65KN-HA65C, KD-DF180 and CELQUEST-206.

다음 본 발명의 탄소 코팅액에 더 첨가되는 완충제는 상기 B) 단계에서 일어날 수 있는 pH의 변화를 억제하거나 최소화하는 작용을 하는 것으로써, pH 범위를 일정하게 유지시켜 탄소 코팅액이 판에서 판으로의 재생을 증대시키며, 완충제 성분의 노르말 농도를 측적하고 조절함으로써 상기 B) 단계에서의 탄소 코팅 제어를 일정하게 유질할 수 있다.The buffer added to the carbon coating solution of the present invention acts to suppress or minimize the change in pH that may occur in the step B), thereby maintaining the pH range constant, And the nitrogen concentration of the buffer component can be measured and controlled to uniformly control the carbon coating control in the step B).

상기 완충제는 pH 9~12, 바람직하게는 pH 9.5~11.5, 보다 바람직하게는 pH 10.5~11.0의 범위를 갖는 완충제를 사용할 수 있다.The buffer may be a buffer having a pH of 9 to 12, preferably a pH of 9.5 to 11.5, and more preferably a pH of 10.5 to 11.0.

한편 본 발명의 탄소 코팅액은 선택적으로 계면활성제를 더 선택하여 조성될 수 있다.Meanwhile, the carbon coating solution of the present invention may be prepared by further selecting a surfactant.

상기 계면활성제는 탄소 코팅액이 관통홀로 자유롭게 침투하여 부도체(2)의 표면에 탄소 코팅층 형성을 용이하게 하여 탄소 코팅을 통한 전도성 부여가 쉽게 이루어지도록 표면 장력을 감소시키며, 탄소 입자가 용매에 분산이 이루어지도록(확인요망)하고, 그리고 부도체 표면을 습윤(濕潤)시키는 기능을 한다.The surface active agent is free from penetration of the carbon coating liquid into the through holes to facilitate the formation of the carbon coating layer on the surface of the non-conductive material 2, thereby reducing the surface tension so that the conductivity can be easily imparted through the carbon coating. And to wet the surface of the nonconductor.

다층 인쇄 회로 기판의 관통홀은 통상적으로 0.05~5mm의 직경을 갖는바, 4~5mm의 직경을 갖는 관통홀에서는 계면활성제가 필요 없으나, 4mm 이하의 직경을 갖는 관통홀에 탄소 코팅을 시행하기 위해서는 계면활성제가 첨가되는 것이 바람직하다.A through hole of a multilayer printed circuit board typically has a diameter of 0.05 to 5 mm, and a through hole having a diameter of 4 to 5 mm does not require a surfactant. However, in order to perform carbon coating on a through hole having a diameter of 4 mm or less Surfactants are preferably added.

또한 본 발명의 탄소 코팅액은 2개의 도체층을 갖는 양면 인쇄 회로 기판과, 다수의(예를 들어 24개) 도체층을 갖는 다층 인쇄 회로 기판 모두에 적용될 수 있는 것으로 탄소 코팅액이 모든 관통홀에 원활하게 침투하여 탄소 코팅이 이루어지도록 소정량의 계면활성제가 더 첨가되어 조성되는 것이 더욱 바람직하다.Further, the carbon coating liquid of the present invention can be applied to both of a double-sided printed circuit board having two conductor layers and a multilayer printed circuit board having a plurality of (for example 24) conductor layers, It is more preferable that a predetermined amount of a surfactant is further added so that the carbon coating is performed.

상기 계면활성제는 비이온성 계면활성제가 사용될 수 있으며, 미합중국 펜실베니아주 필라델피아에 위치한 롬 앤드 하스에서 판매하고 있는 TritonX-100, 850, 960 또는 미합중국 미네소타주 세이트에 위치하는 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩쳐링 컴퍼니에서 판매하고 있는 FLUORADFC-120,FC-129,FC-135,FC-430,FC-431 또는 일본 준세이 케미칼사에서 판매하고 있는 SDS 또는 미국 사이텍사에서 판매하고 있는 OT-75 등이 사용될 수 있다.
The surfactant may be a non-ionic surfactant, sold by Triton X-100, 850, 960 sold by Rohm and Haas, Philadelphia, Pennsylvania, or at the Minnesota Mining & Manufacturing Company located in Settle, Minnesota, USA FLUORAD that FC-120, FC-129, FC-135, and the like FC-430, FC-431, or sold in SDS or US Cytec company sold in Japan junseyi Chemical Co., OT-75 can be used.

한편 본 발명의 탄소 코팅액은 상기한 조성 물질들이 용매인 물에 적당한 조성비로 혼합되어야만 탄소 응집물이 발생하지 않아 탄소 코팅이 원활하게 진행되며, 전기 전도도를 향상시킬 수 있다.Meanwhile, the carbon coating solution of the present invention should be mixed with water, which is a solvent, at a suitable composition ratio so that carbon coagulation is not generated, so that the carbon coating smoothly proceeds and electric conductivity can be improved.

이에 본 발명의 탄소 코팅액은 2~3중량%의 카본 블랙과, 0.1~0.3중량%의 탄소 나노 튜브와, 0.2~0.3중량%의 계면활성제와, 0.1~0.2중량%의 음이온 분산제와, 0.1~0.2중량%의 결합제와, 0.1~0.2중량%의 완충제 및 잔량의 물이 혼합되어 이루어진다.Accordingly, the carbon coating solution of the present invention comprises 2 to 3 wt% of carbon black, 0.1 to 0.3 wt% of carbon nanotubes, 0.2 to 0.3 wt% of a surfactant, 0.1 to 0.2 wt% of an anionic dispersant, 0.2% by weight of a binder, 0.1 to 0.2% by weight of a buffer and a residual amount of water.

전기 전도도가 향상된 탄소 코팅액으로써, 조성물들의 함유량에 따른 전기 전도도를 확인하기 위하여 본 발명의 출원인은 하기와 같은 실험을 진행하였다.In order to confirm the electric conductivity according to the content of the compositions as the carbon coating liquid with improved electric conductivity, the applicant of the present invention conducted the following experiment.

도 3은 본 발명에 따른 탄소 코팅액의 효과를 확인하기 위한 실험의 결과도로써, 본 발명의 출원인은 상기 조성비를 갖는 탄소 코팅액을 사용하여 기판(10)을 탄소 코팅하였을 때 전기 전도도가 향상되는 것을 확인할 수 있었다.
FIG. 3 is a graph showing the results of an experiment for confirming the effect of the carbon coating solution according to the present invention. The applicant of the present invention found that when the substrate 10 is carbon-coated using the carbon coating solution having the composition ratio, I could confirm.

실시예 1Example 1

입자 크기 0.04㎛의 카본 블랙에 탄소 나노튜브를 혼합한 수용액에 계면활성제와 물을 혼합하여 1차 교반한 다음, 1차 교반액에 탄산 칼륨과 중탄산 칼륨으로 구성되는 완충제를 첨가하여 교반하여 pH를 10~11 사이로 조절한 다음, 2차 교반액에 결합제와 음이온 부여제를 더 첨가하여 교반하여 탄소 코팅액을 조성한다.A surfactant and water were mixed with an aqueous solution prepared by mixing carbon black having a particle size of 0.04 mu m and carbon nanotubes, and the mixture was stirred for the first time. Then, a buffer composed of potassium carbonate and potassium bicarbonate was added to the primary solution, 10 to 11, and then a binder and an anion imparting agent are further added to the secondary agitation liquid and stirred to form a carbon coating liquid.

상기 실시예 1에 따른 탄소 코팅액은 20g의 카본 블랙이 사용되며, 탄소 나노튜브, 완충제, 계면활성제, 음이온 부여제의 첨가량은 하기 표와 같이 달리하여 탄소 코팅액을 조성한다. 20 g of carbon black is used for the carbon coating solution according to the first embodiment, and the amount of the carbon nanotubes, the buffer, the surfactant and the anion imparting agent are varied as shown in the following table to form a carbon coating solution.

Figure 112013119778731-pat00001
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이렇게 조성된 각각의 탄소 코팅액을 3일 동안 방치하여 용액에 탄소 침전물 유무를 판별하여 분산 정도를 측정하고, 탄소 코팅액을 강제로 증발시킨 다음 남은 탄소 응집물의 저항성을 측정하고, 입도 분석기를 사용하여 각 응집물의 입자 크기를 측정한다.
Each carbon coating solution thus formed was allowed to stand for 3 days to determine the presence of carbon deposits in the solution to measure the degree of dispersion, to forcibly evaporate the carbon coating solution, to measure the resistance of the remaining carbon flocculating agent, The particle size of the agglomerate is measured.

도 3의 ①, ②, ③에 도시된 바와 같이, 탄소 나노튜브가 0.1중량% 미만으로 혼합될 경우 전기 저항성이 증가하여 전기 전도도가 떨어지고, 0.3중량%를 초과하여 혼합될 경우 탄소 침전물이 발생하여 분산이 제대로 일루어지지 않아 탄소 코팅액으로써 사용되기 어려운 것을 확인할 수 있었다.As shown in (1), (2), and (3) of FIG. 3, when the carbon nanotubes are mixed at less than 0.1 wt%, the electrical resistance increases and the electrical conductivity decreases. When the carbon nanotubes are mixed in more than 0.3 wt% And it was confirmed that it was difficult to use it as a carbon coating liquid because dispersion was not properly performed.

또 도 3의 ③, ④, ⑤에 도시된 바와 같이, 상기 결합제가 0.1중량% 미만으로 첨가될 경우 전기 저항성이 증가되어 전기 전도도가 저하되며, 0.2중량%를 초과하여 첨가될 경우 전기 저항성이 감소하지 않아 전기 전도도 향상에 효과가 없는 것을 확인할 수 있었다.As shown in (3), (4) and (5) of FIG. 3, when the binder is added in an amount of less than 0.1% by weight, the electrical resistance is increased to decrease the electrical conductivity. And it was confirmed that it is not effective to improve the electric conductivity.

그리고 도 3의 ③, ⑥, ⑦에 도시된 바와 같이, 상기 음이온 부여제가 0.1중량% 미만으로 첨가될 경우 전기 저항성이 증가되어 전기 전도도가 저하되며, 0.2중량%를 초과하여 첨가될 경우 전기 저항성이 감소하지 않아 전기 전도도 향상에 효과가 없는 것을 확인할 수 있었다.3, 6, and 7 in FIG. 3, when the anion imparting agent is added in an amount of less than 0.1% by weight, the electrical resistance is increased and the electrical conductivity is lowered. When the anion imparting agent is added in an amount exceeding 0.2% by weight, And it was confirmed that it is not effective to improve the electric conductivity.

그밖에 본 발명의 출원인은 전기 전도도가 향상된 탄소 코팅액을 개발하기 위한 실험 중 탄소 코팅액 조성 시 카본 블랙이 2중량% 미만으로 혼합될 경우 전기 저항성이 높아져 전기 전도도가 떨어지며, 3중량%를 초과하여 혼합될 경우 탄소 침전물이 발생하여 탄소 입자의 분산이 제대로 이루어지지 않는 것을 확인하였다.In addition, applicants of the present invention have found that when carbon black is mixed in an amount of less than 2% by weight in the preparation of a carbon coating liquid during the development of a carbon coating liquid having improved electrical conductivity, electrical resistance is increased and electrical conductivity is lowered and more than 3% It was confirmed that the carbon particles were not dispersed properly due to the formation of carbon precipitates.

또한 다층 인쇄 회로 기판용 탄소 코팅액 조성 시 계면활성제가 0.2중량% 미만으로 첨가될 경우 탄소 침전물이 발생하여 탄소 입자의 분산이 제대로 이루어지지 않으며, 0.3중량%를 초과되어 첨가될 경우 탄소 입자의 분산 등에 영향을 미치지 않는 것을 확인하였다.In addition, when the surfactant is added in an amount of less than 0.2% by weight in forming the carbon coating solution for a multilayer printed circuit board, carbon precipitates are generated and the carbon particles are not properly dispersed. When the surfactant is added in an amount exceeding 0.3% by weight, And it was confirmed that it did not affect.

나아가 도 3의 ③에서 확인할 수 있는 바와 같이, 상술한 조성비로 탄소 코팅액이 조성될 경우 전기 저항이 낮을 뿐만 아니라, 전기 전도도가 향상된 탄소 응집물이 탄소 입자의 크기 역시 제일 작게 측정되어 보다 균일하고 얇은 탄소 코팅층 형성이 가능한 것을 확인할 수 있었다.
As can be seen from (3) in FIG. 3, when the carbon coating liquid is formed at the composition ratio described above, not only the electric resistance is low but also the carbon particles having the improved electrical conductivity have the smallest carbon particle size, It was confirmed that a coating layer can be formed.

또한 본 발명의 출원인은 실험을 통해 상기한 조성비를 통해 조성된 탄소 코팅액을 사용할 경우 종래에 사용되는 탄소 코팅액에 비하여 전기 전도도가 향상되는 것을 확인할 수 있었다.In addition, applicants of the present invention have confirmed through experiments that the electric conductivity of the carbon coating solution formed through the above composition ratio is improved compared to the carbon coating solution used in the related art.

도 4는 상기 실험에 따른 측정 결과도로써, 도 4a는 실시예 2에 따른 결과도, 도 4b는 비교예 1에 따른 결과도이다.
FIG. 4 is a diagram illustrating the results of measurement according to the above experiment. FIG. 4A is a result according to Example 2, and FIG. 4B is a result according to Comparative Example 1.

실시예 2Example 2

상기 실시예 1의 ③의 조건으로 조성된 탄소 코팅액을 사용하여 다층 인쇄 회로 기판을 코팅한다.The multilayer printed circuit board is coated using the carbon coating liquid prepared under the conditions (3) of Example 1 above.

비교예 1Comparative Example 1

종래 탄소 나노튜브가 혼합되지 않은 탄소 코팅액을 사용하여 다층 인쇄 회로 기판을 코팅한다. 이때 첨가되는 다른 구성은 상기 실시예 2와 동일한 조건으로 한다.Conventionally, a multilayer printed circuit board is coated using a carbon coating solution in which carbon nanotubes are not mixed. The other constituents added at this time are the same as those in the second embodiment.

상기 실시예 2와 상기 비교예 1의 코팅된 각각의 다층 인쇄 회로 기판의 관통홀에 대하여 전기 저항을 측정하여 전기 전도도를 확인한 다음, 후술하는 에칭 공정과, 전기 도금 공정을 동일 조건하에서 실시하여 관통홀에 전기 도금 상태를 확인한다. 결과의 정확성을 확인하기 위하여 상기 실시예 2와 비교예 1을 통해 준비되는 다층 인쇄 회로 기판으로써 양면 인쇄 회로 기판과 4층 인쇄 회로 기판 각각의 시편을 3개씩 준비하여 실험을 진행한다.The through holes of each of the coated multilayer printed circuit boards of Example 2 and Comparative Example 1 were measured for electrical conductivity to confirm the electrical conductivity and then the etching process and the electroplating process described below were carried out under the same conditions, Check the electroplating condition in the hole. In order to confirm the accuracy of the results, three specimens of a double-sided printed circuit board and a four-layer printed circuit board were prepared as the multilayer printed circuit board prepared in Example 2 and Comparative Example 1, and the experiment was conducted.

이때 상기 실시예 2와 상기 비교예 2는 하기 표와 같이, 종래 탄소 코팅 공정과 같이 코팅을 2회 실시하며, 각 탄소 코팅 공정 전에 상술한 2차 세정 공정을 동일 조건하에서 각각 실시하도록 한다.As shown in the following table, the coating of Example 2 and the coating of Comparative Example 2 are performed twice as in the case of the conventional carbon coating process, and the secondary cleaning process described above is performed under the same conditions before each carbon coating process.

Figure 112013119778731-pat00002
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도 4a에서 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 탄소 코팅액을 사용하여 탄소 코팅을 실시할 경우, 도 4b에서 확인되는 종래 탄소 코팅액을 사용하는 경우보다 더 낮은 전기 저항값이 측정되어 전기 전도도가 향상되었음을 확인할 수 있다.As can be seen from FIG. 4A, when carbon coating is performed using the carbon coating solution according to the present invention, a lower electric resistance value is measured than in the case of using the conventional carbon coating solution as shown in FIG. 4B, .

나아가 본 발명의 출원인은 실험을 통하여 종래 전기 전도로 확보를 위하여 카본 블랙을 다량으로 사용하거나, 탄소 코팅 공정을 2회 이상 실시하는 경우에 비하여, 본 발명에 따른 탄소 코팅액을 사용하여 탄소 코팅을 진행할 경우 탄소 코팅 공정을 단 1회만 실시하여도 종래 탄소 코팅액보다 전기 전도도가 향상된 탄소 코팅층이 형성된 것을 확인하였다.Further, the applicant of the present invention has found that, in comparison with the case where a large amount of carbon black is used for securing the electric conduction path or the carbon coating process is performed twice or more through the experiment, carbon coating is performed using the carbon coating liquid according to the present invention It was confirmed that a carbon coating layer having improved electrical conductivity was formed even when the carbon coating process was performed only once.

도 5는 본 발명에 따른 탄소 코팅액을 사용하여 1회 탄소 코팅 공정을 실시하여 전기 전도도가 향상됨을 확인하기 위한 실험의 결과도이다.FIG. 5 is a result of an experiment for confirming that the electric conductivity is improved by performing the carbon coating process once using the carbon coating solution according to the present invention.

실시예 3Example 3

상기 실시예 1의 ③의 조건으로 조성된 탄소 코팅액을 사용하여 다층 인쇄 회로 기판을 코팅한다. 이때 실시예 3에서는 하기 표와 같이, 탄소 코팅 공정을 1회만 실시하며, 각 탄소 코팅 공정 전에 상술한 2차 세정 공정을 동일 조건하에서 각각 실시하도록 한다.The multilayer printed circuit board is coated using the carbon coating liquid prepared under the conditions (3) of Example 1 above. In Example 3, the carbon coating process is performed only once, and each of the secondary cleaning processes described above is performed under the same conditions before each carbon coating process, as shown in the following table.

상기 실시예 3을 거친 다층 인쇄 회로 기판의 관통홀에 대하여 전기 저항을 측정하여 전기 전도도를 확인한 다음, 후술하는 에칭 공정과, 전기 도금 공정을 동일 조건하에서 실시하여 관통홀에 전기 도금 상태를 확인한다. 결과의 정확성을 확인하기 위하여 상기 실시예 3을 통해 준비되는 다층 인쇄 회로 기판으로써 양면 인쇄 회로 기판과 4층 인쇄 회로 기판 각각의 시편을 3개씩 준비하여 실험을 진행한다.The electrical resistance was measured for the through holes of the multilayer printed circuit board through Example 3 to confirm the electric conductivity and the electroplating state was confirmed in the through holes by performing the etching process and electroplating process described below under the same conditions . In order to confirm the accuracy of the results, three specimens of the double-sided printed circuit board and the four-layer printed circuit board were prepared as the multilayer printed circuit board prepared in Example 3, and the experiment was conducted.

Figure 112013119778731-pat00003
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도 5에서 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 탄소 코팅액을 사용할 경우 탄소 코팅 공정을 1회만 실시하여도 종래 탄소 코팅액을 사용하여 2회 탄소 코팅 공정을 실시하는 경우(도 4b 참고)보다 더욱 향상된 전기 전도도를 갖는 것을 확인할 수 있다. 5, when the carbon coating liquid according to the present invention is used, even when the carbon coating process is performed only once, the carbon coating process is more improved than the conventional carbon coating process (see FIG. 4B) It can be confirmed that it has electrical conductivity.

따라서 본 발명은 탄소 코팅 공정을 1회만 실시하여도 180㏀ 이하의 낮은 전기 저항성을 확보할 수 있어 전기 전도도를 향상시킴과 동시에 다층 인쇄 회로 기판의 생산성 향상을 도모하고, 불필요한 약품 사용을 절감하여 제조 단가를 절감할 수 있다.Accordingly, the present invention can achieve a low electric resistance of 180 k OMEGA or less even when the carbon coating process is performed only once, thereby improving electric conductivity, improving the productivity of a multilayer printed circuit board, reducing unnecessary use of chemicals The cost can be reduced.

이어서 본 발명은 상기 B) 단계로써, 코팅된 전도성 음이온 탄소로부터 수분을 제거하기 위한 드라이 공정을 더 포함한다.The present invention further includes a dry process for removing water from the coated conductive anion carbon by the above step B).

상기 드라이 공정은 상온에서 건조되는 방식 또는 진공을 이용한 건조 방식 또는 고온의 공기를 이용한 건조 방식이 고려될 수 있으며, 보다 바람직하게는 고온의 공기 건조 방식이 이용된다.The drying process may be a method of drying at room temperature, a drying method using vacuum, or a drying method using high temperature air. More preferably, a high-temperature air drying method is used.

상기 고온의 공기 건조 방식은 5~45분 동안 실시되며, 공기의 온도는 75~120℃로 이루어지고, 보다 바람직하게는 80~98℃로 이루어진다.The high-temperature air drying method is performed for 5 to 45 minutes, and the temperature of the air is 75 to 120 ° C, more preferably 80 to 98 ° C.

상기 드라이 공정을 통해 관통홀(3) 내벽(3A) 표면, 보다 구체적으로는 관통홀(3) 내벽(3A)으로 노출된 부도체(2) 표면에 전도성 음이온 탄소가 완전하게 코팅된다.
The conductive anion carbon is completely coated on the surface of the inner wall 3A of the through hole 3 through the above dry process and more specifically the surface of the nonconductor 2 exposed to the inner wall 3A of the through hole 3.

이어서 본 발명은 상기 C) 단계로써 도 2의 [d]에 도시된 바와 같이, 상기 도체(1) 표면에 남은 전도성 음이온 탄소 입자(탄소층(5))를 제거하기 위한 마이크로 에칭 공정이 실시된다.Next, the present invention carries out a micro-etching process for removing the conductive anion carbon particles (carbon layer 5) remaining on the surface of the conductor 1, as shown in [d] .

상기 마이크로 에칭 공정은 도체(1) 표면의 탄소층(5)에 대하여 가스 플라스마나 이온빔을 이용한 선택적 에칭 방식이 바람직하다.The micro etching process is preferably a selective etching method using a gas plasma or an ion beam for the carbon layer 5 on the surface of the conductor 1.

이는 후술하는 D) 단계에서 전기 도금 시 전도성 음이온 탄소 입자로 인하여 관통홀(3) 내벽(3A)에 탄소층(5)이 형성됨으로써 도전성이 확보되어 부도체(2) 표면을 전기 도금이 가능하도록 하는 반면에, 상기 도체(1) 표면에 소량의 전도성 음이온 탄소 입자가 남았을 경우, 도체(1) 표면과 전기 도금층 사이의 밀착력을 약화시켜 다층 인쇄 회로 기판(10)의 보이드 불량 또는 도금층 접힘 불량 등을 유발하기 때문이다.This is because the carbon layer 5 is formed on the inner wall 3A of the through hole 3 due to the conductive anion carbon particles during electroplating in step D) to ensure the electroconductivity so that the surface of the nonconductor 2 can be electroplated On the other hand, when a small amount of the conductive anionic carbon particles remain on the surface of the conductor 1, the adhesion between the surface of the conductor 1 and the electroplating layer is weakened to prevent the voids in the multilayer printed circuit board 10, .

이에 상기 도체(1) 표면에서 탄소층(5)을 완전하게 제거하기 위하여 마이크로 에칭 용액이 이용된다. 상기 C) 단계의 마이크로 에칭 공정은 마이크로 에칭 용액을 기판(10)에 분사하는 스프레이 방식 또는 마이크로 에칭 용액에 기판(10)을 침지시키는 잠김 방식이 고려될 수 있다.In order to completely remove the carbon layer 5 from the surface of the conductor 1, a micro etching solution is used. The microetching process in the step C) may be a spraying method of spraying the micro etching solution onto the substrate 10 or a locking method of immersing the substrate 10 in the micro etching solution.

이때 상술한 A) 단계의 프리 에칭 공정과, 상기 C) 단계의 마이크로 에칭 공정에 사용되는 용액은 모두 황산과, 과산화수소와, 물 등의 혼합물이 사용된다.At this time, a mixture of sulfuric acid, hydrogen peroxide, water and the like is used as the solution used in the pre-etching step of the step A) and the micro-etching step of the step C).

황산은 구리 도체 층 에칭 반응 시 개시 역할을 하며, 과산화수소는 에칭 촉진 역할을 한다. 황산만을 사용한 구리 도체 에칭 공정은 Cu + H2SO4->CuSO4 + H2의 반응식을 갖는데, 수소기체가 만들어짐으로써 에칭 공정 시 위험하고 처리 시간이 느린 단점이 있다.Sulfuric acid acts as an initiator in the copper conductor layer etching reaction, and hydrogen peroxide acts as an etching promoter. The copper conductor etching process using only sulfuric acid has a reaction formula of Cu + H 2 SO 4 -> CuSO 4 + H 2 , which is dangerous in the etching process and has a disadvantage in that the process time is slow due to the production of hydrogen gas.

상기 공정에서 과산화수소를 혼합하여 사용하면 Cu + H2O2+H2SO4->CuSO4+2H2O의 반응식을 갖고, 이 과정에서 구리는 Cu + H2O2->CuO+H2O의 반응식을 갖는다. 그리고 생성된 과산화수소는 구리와 반응하여 산화구리가 생성되고, 산화구리가 황산과 반응하여 황산구리가 생성된다. 따라서 황산과 과산화수소를 혼합하여 에칭 공정을 실시할 때 위험성이 높은 수소 기체의 생성을 방지할 수 있으며, 처리 시간이 매우 빨라 전체적인 에칭 공정 시간을 단축하는 효과가 있다. In this process, when hydrogen peroxide is mixed, it has a reaction formula of Cu + H 2 O 2 + H 2 SO 4 -> CuSO 4 + 2H 2 O, where copper is Cu + H 2 O 2 -> CuO + H 2 O reaction scheme. The generated hydrogen peroxide reacts with copper to form copper oxide, and copper oxide reacts with sulfuric acid to produce copper sulfate. Therefore, when the etching process is performed by mixing sulfuric acid and hydrogen peroxide, generation of hydrogen gas with high risk can be prevented, and the processing time is very fast, thereby shortening the entire etching process time.

그런데 과산화수소의 사용량이 증가될 경우 처리 후 환경오염을 방지하기 위하여 후처리 공정이 필요하게 되고, 처리 반응 시 과산화수소의 불안정성으로 인하여 안정적이고 균일한 에칭을 보장되지 않는 문제점이 있다.However, if the amount of hydrogen peroxide is increased, a post-treatment process is required to prevent environmental pollution after the treatment, and stable and uniform etching can not be guaranteed due to instability of hydrogen peroxide during the treatment.

이에 본 발명은 상기 A) 단계의 프리 에칭 공정 이전 또는 상기 C) 단계의 마이크로 에칭 공정 이전에 코팅된 기판을 나노 버블을 포함하는 용액에 투입하는 공정을 포함하여 이루어지도록 함으로써, 과산화수소의 사용량을 줄여 과산화수소의 불안정성에 기인한 작업 안정성을 향상시킴과 동시에, 과산화수소의 사용량이 증가되는 경우와 동일하면도 균일한 에칭량을 확보할 수 있도록 하였다.Accordingly, the present invention includes a step of injecting the coated substrate into a solution containing nano bubbles before the pre-etching step of step A) or before the micro-etching step of step C), thereby reducing the amount of hydrogen peroxide The working stability due to the instability of hydrogen peroxide is improved and a uniform etching amount can be ensured even when the amount of hydrogen peroxide is increased.

상기 나노 버블을 포함하는 용액은 나노버블 발생기를 사용하여 제작된다. 나노버블 발생기는 특정 용액 내에 입자 사이즈 10nm~50nm의 나노 버블을 만들어 내어 용존 기체량을 5~80배까지 증가시키고, 기체의 유지시간을 증가시키는 장치로써, 기체가 구리 표면에 작용하여 산화시킴으로써, 과산화수소의 사용량을 줄이더라도 상기한 반응식에 의하여 안정적이고 균일한 에칭량을 확보할 수 있다.The solution containing the nano bubbles is manufactured using a nano bubble generator. The nano bubble generator is a device that generates nano bubbles with a particle size of 10 nm to 50 nm in a specific solution to increase the amount of dissolved gas to 5 to 80 times and increases the holding time of the gas. The gas acts on the copper surface to oxidize, Even if the amount of hydrogen peroxide to be used is reduced, a stable and uniform etching amount can be ensured by the above reaction formula.

상기 기판(10)의 도체(1) 표면에 음이온성 산화막층(4)을 형성하기 위하여 다양한 방식이 고려될 수 있는데, 본 발명의 실시예에서는 오존을 이용하여 도체(1) 표면을 산화시켜 음이온성 산화막층(4)을 형성하도록 하였다.Various methods may be considered to form the anionic oxide film layer 4 on the surface of the conductor 1 of the substrate 10. In the embodiment of the present invention, the surface of the conductor 1 is oxidized using ozone, To form the oxide film layer 4.

보다 상세히 설명하면 산화막층(4) 형성을 위한 용액으로써 물의 용존 오존량을 증가시킨 용액을 사용하여 도체(1) 표면을 산화시킨다. 이때 사용되는 물은 탈이온수(Deionized water)가 사용되는 것이 바람직하다.More specifically, the surface of the conductor 1 is oxidized by using a solution in which dissolved ozone amount of water is increased as a solution for forming the oxide film layer 4. The water used herein is preferably deionized water.

오존은 산화력이 강하여 금속 물질을 산화시키는데, 예를 들어 도체(1)로써 구리가 사용되었을 경우 오존은 도체(1) 구리 표면 위를 산화시켜 얇은 산화구리를 생성하고, 상기 산화구리막은 음이온성을 띄기 때문에 상기 B) 단계에서 전도성 음이온 탄소 입자로 코팅하게 되면, 도체(1) 표면과 탄소 입자가 같은 음이온성을 띄게 되어 탄소 입자의 코팅량을 줄일 수 있다.Ozone oxidizes and oxidizes metallic materials. For example, when copper is used as conductor (1), ozone oxidizes on the surface of copper (1) copper to form thin copper oxide, which is anionic Therefore, if the conductive anion carbon particles are coated with the conductive anion carbon particles in the step B), the surface of the conductor 1 and the carbon particles become the same anion, so that the coating amount of the carbon particles can be reduced.

또 본 발명은 나노버블 발생기에 투입되는 기체를 오존으로 하여 용액의 용존 오존량을 증대시킨다. 상기 B) 단계의 용액에 포함된 오존 농도는 5~10ppm이 바람직하며, 이때 공급되는 오존의 양은 20g/㎥~30g/㎥가 바람직하다.Further, the present invention increases the dissolved ozone amount of the solution by using the gas introduced into the nano bubble generator as ozone. The concentration of ozone in the solution of step B) is preferably 5 to 10 ppm, and the amount of ozone to be supplied is preferably 20 g / m 3 to 30 g / m 3.

산화막층(4) 형성 공정의 처리 온도는 20~30℃가 바람직하고, 용액에 기판(10)을 수직 방식으로 침지시켜 처리하며, 처리 시간은 10초~30초 동안 이루어진다.The treatment temperature of the oxide film layer 4 forming step is preferably 20 to 30 DEG C, and the substrate 10 is immersed in the solution in a vertical manner, and the treatment time is 10 to 30 seconds.

도 6은 본 발명에 따른 B) 단계를 통해 산화막층(4)이 형성되는 것을 확인하기 위한 실험의 결과도로써, 도 6a는 실시예 4의 측정결과, 도 6b는 비교예 4의 측정결과이다. 본 발명의 출원인은 상기 B) 단계를 통해 도체(1) 표면에 음이온성 산화막층(4)이 형성된 것을 확인하였다.
6 is a graph showing the results of an experiment for confirming formation of the oxide layer 4 through the step B according to the present invention. FIG. 6A is a measurement result of Example 4, and FIG. 6B is a measurement result of Comparative Example 4 . The applicant of the present invention confirmed that the anionic oxide film layer 4 was formed on the surface of the conductor 1 through the step B).

실시예 4Example 4

구리 시편을 30초 동안 수세한 후 상기 B) 단계에서의 나노 버블 발생기를 작동시켜 오존 농도 7ppm의 용액 600ml에 수직 침지 방식으로 처리한 후 물로 세정한다.After the copper specimen is washed with water for 30 seconds, the nanobubble generator in the step B) is operated to treat 600 ml of the solution having an ozone concentration of 7 ppm by the vertical immersion method and then washed with water.

비교예 4Comparative Example 4

구리시편을 상기 (B) 공정을 생략하고 단순히 물로만 세정한다.The gypsum piece is simply washed with water only by omitting the step (B).

상기 실시예 4와 상기 비교예 4에 따른 구리 시편 각각의 표면을 EDX 측정한다(일본의 HITACHI사의 S-4300 모델). 여기서 EDX(Energy Dispersive X-ray Spectroscopy; EDS 라고도 함.) 측정이란 전류의 인가에 의하여 생성된 전자를 가속시켜 시료와 충돌시키고, 이때 시료에서 내부 전자가 입사전자에 의해 외부로 배출되면서 전자가 전이되어 원자가 안정화되면서 발산되는 X-ray를 측정하여 정성, 정량 분석함으로써, 원자마다 고유의 값을 갖는 X-ray 에너지를 이용하여 시료를 분석하는 방식이다.
The surface of each of the copper specimens according to Example 4 and Comparative Example 4 was subjected to EDX measurement (S-4300 model of HITACHI Corporation, Japan). Here, EDX (Energy Dispersive X-ray Spectroscopy) measurement is a method in which electrons generated by the application of an electric current are accelerated and collided with a specimen. At this time, internal electrons in the specimen are discharged to the outside by incident electrons, This is a method of analyzing a sample using X-ray energy having a unique value for each atom by measuring and radiating X-ray while stabilizing the atom and qualitatively and quantitatively analyzing it.

상기 EDX 측정의 분석 결과 도 6b에서 상기 비교예 4의 시편에는 오존(산소)을 포함하는 음이온성 산화막층이 형성되지 않은데 비하여, 도 6a에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 구리시편(실시예 4)의 표면에 산화가 진행되어 구리 표면에 오존(산소)을 포함하는 음이온성 산화막층(4; 산화구리막)이 형성되었음을 확인할 수 있었다.
As a result of the EDX measurement, the anisotropic oxide layer containing ozone (oxygen) was not formed in the specimen of Comparative Example 4 in FIG. 6B. On the other hand, as shown in FIG. 6A, 4) was oxidized to form an anionic oxide film layer 4 (copper oxide film) containing ozone (oxygen) on the copper surface.

한편 도 7은 상기한 음이온성 산화막층에 의한 에칭 효과를 확인하기 위한 실험의 결과도로써, 도 7a는 실험예 5의 측정결과이고, 도 7b는 비교예 5의 측정결과이다. 본 발명의 출원인은 상기 음이온성 산화막층 형성 공정을 통해 과산화수소의 사용량을 줄이더라도 과산화수소의 사용량이 증가된 경우보다 에칭 효과가 높은 것을 확인할 수 있었다.
7 is a graph showing the results of an experiment for confirming the etching effect of the anionic oxide layer described above. FIG. 7A is a measurement result of Experimental Example 5, and FIG. 7B is a measurement result of Comparative Example 5. The applicant of the present invention has confirmed that the etching effect is higher than that in the case where the amount of hydrogen peroxide is used through the anionic oxide layer forming step but the amount of hydrogen peroxide is increased.

실시예 5Example 5

오존발생기와 연결된 나노 버블 발생기를 사용하여 오존 농도를 5ppm 이상의 용액을 제조한 다음, 구리시편을 상기 용액에 처리하여 음이온성 산화막층을 형성한 후 황산 1~5 중량%에 과산화수소 1 중량% 및 3 중량%를 각각 혼합한 후, 안정제 1 중량%를 첨가한 에칭용액에 침지시켜, 30초 동안 에칭 처리한 다음 에칭량을 측정한다.
A solution having an ozone concentration of 5 ppm or more was prepared using a nano bubble generator connected to an ozone generator, and then the solution of copper sulfate was treated to form an anionic oxide film layer. Then, 1 wt% of hydrogen peroxide and 1 wt% of hydrogen peroxide By weight, and then immersed in an etching solution containing 1% by weight of a stabilizer, etched for 30 seconds, and then the amount of etching is measured.

비교예 5Comparative Example 5

상기 실시예 5의 음이온성 산화막층 형성 공정을 거치지 않은 구리시편을 상기 실시예 5와 동일한 에칭용액에 동일 시간동안 침지시켜 에칭량을 측정한다.
The copper foil not subjected to the anionic oxide layer forming step of Example 5 was immersed in the same etching solution as in Example 5 for the same time to measure the etching amount.

도 7b에 도시된 바와 같이, 상기 비교예 5에서 과산화수소 1 중량%를 사용하는 경우는 과산화수소 3중량%를 사용하는 경우에 비하여 에칭량이 적어 안정적인 에칭량을 확보하기 위해서 과산화수소의 사용량을 증가시킬 수밖에 없음을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 7B, in the case of using 1 wt% of hydrogen peroxide in Comparative Example 5, the amount of etching was so small as compared with the case of using 3 wt% of hydrogen peroxide and the amount of hydrogen peroxide was increased in order to secure a stable etching amount can confirm.

이에 반하여 도 7a에 도시된 바와 같이, 실시예 5가 비교예 5에 비하여 동일한 과산화수소를 사용할 때 더 높은 에칭량을 갖는 것을 확인할 수 있으며, 나아가 실시예 5에서 과산화수소 1 중량%를 사용한 경우에 비교예 5에서 과산화수소 3 중량%를 사용한 경우와 에칭량에서 큰 차이를 보이지 않아 과산화수소의 사용량을 줄여도 안정적인 에칭량을 확보할 수 있음을 확인할 수 있다.
On the contrary, as shown in FIG. 7A, it can be seen that Example 5 had a higher etching amount when the same hydrogen peroxide was used as compared with Comparative Example 5, and furthermore, when 1 wt% of hydrogen peroxide was used in Example 5, 5 showed no significant difference in the case of using 3 wt% of hydrogen peroxide and the etching amount, and it can be confirmed that a stable etching amount can be secured even if the amount of hydrogen peroxide used is reduced.

이어서 본 발명은 상기 A) 단계와 상기 C) 단계의 에칭 공정에 사용되는 용액으로써, 1 내지 3 중량%의 황산과, 1 내지 3 중량%의 과산화수소와, 1 내지 3 중량%의 안정제와, 0.1 내지 1 중량%의 계면활성제와, 0.005 내지 0.05중량%의 착화제 및 잔량이 물이 혼합되어 이루어진다.1 to 3% by weight of sulfuric acid, 1 to 3% by weight of hydrogen peroxide, 1 to 3% by weight of a stabilizer and 0.1% by weight of a stabilizer. To 1% by weight of a surfactant, 0.005 to 0.05% by weight of a complexing agent, and a balance of water.

상기 안정제는 알킬아민(Alkyl Amine)이 사용되며, 알킬아민은 에칭 표면의 조도 향상에 기여하고, 자극성 유해가스의 발생을 억제하는 역할을 한다. 상기 알킬아민은 Monoethylamine(MEA), Monobuthylamine(MBA), Ethylene diamine(EDA), Triethylamine(TEA), Triethylenetetramine(TETA), Diethylenetriamine(TETA) 등이 사용될 수 있다.Alkyl amines are used as the stabilizer, and alkyl amines contribute to enhancement of the roughness of the etched surface and inhibit generation of irritating harmful gas. The alkylamine may be monoethylamine (MEA), monobuthylamine (MBA), ethylene diamine (EDA), triethylamine (TEA), triethylenetetramine (TETA) or diethylenetriamine (TETA).

그리고 상기 착화제는 구리 표면의 지속적인 에칭으로 인하여 용액 내 구리 이온의 농도가 높아지면서 약품의 안정성이 저하되어 구리 이온의 재석출이 일어나는 것을 방지하고, 고농도의 구리 이온에도 일정 수준의 약품 안정성을 확보할 수 있다. 상기 착화제로는 Ethylenediaminetetraacetic acid(EDTA), Diethylene triamine pentaacetic acid(DTPA), Nitrilotriacetic acid(NTA) 등이 사용될 수 있다.The complexing agent prevents the re-precipitation of copper ions by lowering the stability of the drug due to the high concentration of copper ions in the solution due to the continuous etching of the copper surface and securing a certain level of chemical stability to copper ions at a high concentration. can do. Examples of the complexing agent include ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), diethylene triamine pentaacetic acid (DTPA), and nitrilotriacetic acid (NTA).

그리고 상기 A) 단계와 상기 C) 단계의 에칭 공정에 사용되는 용액은 0.1 내지 2 중량%의 금속염과, 0.1 내지 1 중량%의 유기산이 더 첨가되어 이루어진다.The solution to be used in the etching process in the step A) and the step C) is further added with 0.1 to 2% by weight of a metal salt and 0.1 to 1% by weight of an organic acid.

상기 금속염은 에칭 용액과 구리 표면과의 활성을 높이면서 에칭 개시 및 유지에 지속적인 역할을 한다. 상기 금속염으로는 3가의 철 화합물, Halogen Complexer 등이 사용되는 것이 바람직하다.The metal salt plays an ongoing role in starting and maintaining the etching while increasing the activity of the etching solution and the copper surface. As the metal salt, a trivalent iron compound, a Halogen Complexer and the like are preferably used.

그리고 상기 유기산은 글리콜산, 피콜린산, 아세트산, 구연산, 젖산 등이 사용될 수 있으며, 에칭 처리 시 표면 안정제 역할을 하며, 동시에 표면 개량 역할을 한다.
The organic acid may be glycolic acid, picolinic acid, acetic acid, citric acid, lactic acid, etc., and serves as a surface stabilizer in the etching treatment and at the same time, serves to improve the surface.

이때 본 발명은 상기 A) 단계에서 음이온성 산화막층(4)이 형성된 기판(10)을 2차 세정하면서 부도체(2) 표면을 양이온화 시키는 공정을 포함한다.At this time, the present invention includes a step of cationizing the surface of the nonconductor 2 while the substrate 10 on which the anionic oxide layer 4 is formed is cleaned in the step A).

상기 A) 단계의 2차 세정 및 양이온화 공정은 상기 A) 단계의 1차 세정 공정과 마찬가지로 물 또는 약품 또는 이들 모두를 사용하여 이루어질 수 있는데, 보다 바람직하게는 물에 세정 효과를 갖는 약품을 5%의 농도로 혼합한 클리너 용액이 사용된다. 상기 클리너 용액은 상기 약품으로써 양이온성 계면활성제가 사용되는 것이 바람직하다.The secondary washing and cationization process in the step A) may be carried out using water or a drug or both, as in the primary washing process in the step A), more preferably, % Is used as the cleaning solution. The cleaner solution is preferably a cationic surfactant as the drug.

상기 클리너 용액을 통한 세정 공정은 기판(10)의 도체(1) 및 부도체(2) 표면에 부착될 수 있는 불순물을 제거하여 상기 B)) 단계의 전도성 음이온 탄소 코팅 공정이 원활하게 이루어지도록 함과 동시에, 전하를 띄지 않는 부도체(2)층, 즉 관통홀(3) 내벽으로 노출된 레진층 표면이 플러스전하, 즉 양이온성을 띄도록 하여 상기 B) 단계에서 부도체(2) 표면에 전도성 음이온 탄소 입자가 더욱 완전하게 코팅되도록 하는 촉매제로써 기능하도록 한다.The cleaning process with the cleaner solution removes impurities that may adhere to the surfaces of the conductors 1 and 2 of the substrate 10 so that the conductive anion carbon coating process of step B) At the same time, the nonconductive non-conductive layer 2, that is, the resin layer surface exposed to the inner wall of the through hole 3 has a positive charge, that is, cationic, so that the conductive anion carbon Allowing the particles to function more fully as a catalyst.

상기 양이온성 계면활성제는 비금속 재질의 부도체(2)에만 반응하고, 상기 도체(1) 표면에 코팅된 음이온성 산화막층(4)에 반응하지 않는다.The cationic surfactant reacts only with non-metallic non-conductive material 2 and does not react with the anionic oxide film layer 4 coated on the surface of the conductor 1.

상기 클리너 용액을 통한 세정 단계를 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다. 우선 산화막층(4)이 형성된 기판(10)을 물과 클리너 약품(계면 활성제)의 혼합 용액을 통해 2차 세정한다.The cleaning step through the cleaner solution will be described in more detail as follows. First, the substrate 10 on which the oxide film layer 4 is formed is subjected to secondary cleaning through a mixed solution of water and a cleaning agent (surfactant).

상기 클리너 약품(계면 활성제)의 일례로써, 미국 뉴저지의 웨스트 페이터슨에 위치한 Olin Hunt Specialty Products Inc.에서 시판되고 있는 BH@cleaner가 사용될 수 있으며, 이 용액이 양이온성을 띄어 부도체(2) 표면을 양이온화 시키는 것은 상술한 바와 같다.As an example of the cleaner (surfactant), BH @ cleaner commercially available from Olin Hunt Specialty Products Inc., located in West Jefferson, New Jersey, USA, can be used. The solution is cationic, The cationization is as described above.

다음으로 상기 기판(10)을 세정하고 남은 클리너 용액을 제거한 후(물로 세정) 관통홀(3) 내벽으로 노출된 부도체(2) 표면을 더욱 양이온화 시켜 전도성 음이온 탄소 입자가 부도체(2) 표면에 더욱 완전하게 코팅될 수 있도록 추가 양이온화 공정을 실시한다.Next, the substrate 10 is cleaned, the remaining cleaner solution is removed (washed with water), and the surface of the nonconductor 2 exposed to the inner wall of the through hole 3 is further made cationic so that conductive anionic carbon particles are dispersed on the surface of the nonconductor 2 An additional cationization process is carried out to allow more complete coating.

상기 추가 양이온화 공정은 다양한 약품과 물의 혼합 용액을 사용할 수 있는데, 대표적으로 상기 BH@cleaner의 동일 회사에서 시판되고 있는 BH@stater와 물의 혼합 용액과, BH@conditioner와 물의 혼합 용액이 사용될 수 있다.The additional cationization process may be a mixed solution of various chemicals and water. Typically, a mixed solution of BH @ stater and water commercially available from the same company as BH @ cleaner and a mixed solution of BH @ conditioner and water may be used .

상기 BH@stater와 물의 혼합 용액을 이용하여 상기 기판(10)을 1차 처리한 후, BH@conditioner와 물의 혼합 용액을 이용하여 상기 기판(10)을 2차 처리한 다음, 다시 BH@stater와 물의 혼합 용액을 이용하여 상기 기판(10)을 3차 처리하여, 부도체(2) 표면을 완전하게 양이온화시켜 전도성 음이온 탄소 입자가 부도체(2) 표면에 더욱 완전하게 코팅되어 고정되도록 함으로써, 전기 도금 시 보이드 불량 또는 도금 접힘 불량 등을 방지할 수 있다.
After the substrate 10 is first treated with a mixed solution of BH @ stater and water, the substrate 10 is second treated using a mixed solution of BH @ conditioner and water, The surface of the nonconductor 2 is completely cations so that the conductive anion carbon particles are more completely coated on the surface of the nonconductor 2 to be fixed, It is possible to prevent defects such as voids or plated folding defects.

다음으로 본 발명은 도 2의 [e]에 도시된 바와 같이, D) 상기 C) 단계를 거친 기판(10)을 전기 도금하여 층간 도체(1)를 전기적으로 연결하는 단계;를 포함한다.Next, the present invention includes a step of electrically connecting the interlayer conductor 1 by electroplating the substrate 10 having been subjected to the step C), as shown in [e] of FIG.

본 발명은 상기 단계들을 통해 상기 전도성 음이온 탄소층이 부도체(2) 표면에 형성되면서 관통홀(3) 내벽(3A) 전체에 걸쳐 전도성이 확보되므로, 부도체(2) 사이의 층간 도체(1)가 전기적으로 연결되어 있어 상기 D) 단계에서 전류를 인가하여 관통홀(3)에 노출된 도체(1)와 부도체(2) 표면 모두에 전기 도금층(6)이 형성될 때 보이드 불량이나 도금 접힘 불량 등을 방지함과 동시에 도금의 두께 관리 면에서 매우 큰 장점이 있다.The conductive anion carbon layer is formed on the surface of the nonconductor 2 through the above steps so that the conductivity is secured over the entire inner wall 3A of the through hole 3 so that the interlayer conductor 1 between the non- When the electroplating layer 6 is formed on both the surfaces of the conductor 1 and the nonconductor 2 which are exposed to the through hole 3 by applying a current in the step D) And there is a great advantage in terms of thickness control of the plating.

상기 D) 단계로써의 전기 도금 단계의 구체적 과정 및 효과 등은 본 발명의 본질적인 특징과는 연관성이 적으므로 상세한 설명을 생략한다.
The detailed process and effect of the electroplating step in the step D) are not related to the essential features of the present invention, and a detailed description thereof will be omitted.

이상에서 본 발명을 설명함에 있어 첨부된 도면을 참조하여 특정 형상과 구조를 갖는 도금 처리된 관통홀을 갖는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법을 위주로 설명하였으나 본 발명은 당업자에 의하여 다양한 수정, 변경 및 치환이 가능하고, 이러한 수정, 변경 및 치환은 본 발명의 보호범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다.
While the present invention has been described with reference to the accompanying drawings, it is to be understood that the present invention is not limited to the details of various modifications, permutations, and permutations And such modifications, alterations, and substitutions are to be construed as being within the scope of protection of the present invention.

10 : 다층 인쇄 회로 기판 1 : 도체
2 : 부도체 3 : 관통홀
4 : 음이온성 산화막층 5 : 전도성 음이온 탄소층
6 : 전기 도금층
10: multilayer printed circuit board 1: conductor
2: Non-conductor 3: Through hole
4: anionic oxide layer 5: conductive anion carbon layer
6: Electroplating layer

Claims (10)

A) 다수의 도체와 부도체가 교차 적층되며, 관통홀이 형성된 다층 인쇄 회로 기판에 대하여 프리 에칭 공정을 실시하는 단계;
B) 상기 관통홀을 전도성 음이온 탄소로 코팅하는 단계; 및
C) 상기 관통홀을 통해 노출된 상기 도체 표면에 코팅된 전도성 음이온 탄소를 제거하기 위하여 마이크로 에칭 공정을 실시하는 단계; 및
D) 상기 관통홀을 전기 도금하여 상기 다수의 도체를 전기적으로 연결하는 단계;를 포함하여 이루어지되,
상기 A) 단계의 프리 에칭 공정 이전, 또는 상기 C) 단계의 마이크로 에칭 공정 이전에, 나노 버블을 포함하는 용액에 상기 다층 인쇄 회로 기판을 투입하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법.
A) performing a pre-etching process on a multi-layer printed circuit board on which a plurality of conductors and non-conductors are stacked and through holes are formed;
B) coating the through hole with conductive anion carbon; And
C) performing a micro-etching process to remove the conductive anion carbon coated on the surface of the conductor exposed through the through-hole; And
D) electroplating the through holes to electrically connect the plurality of conductors,
Further comprising the step of injecting the multilayer printed circuit board into a solution containing nano bubbles prior to the pre-etching step of step A) or before the micro-etching step of step C) ≪ / RTI >
제 1 항에 있어서,
상기 나노 버블을 포함하는 용액은 나노 발생기를 이용하여 용존 오존량을 증가시킨 용액인 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the solution containing the nano bubbles is a solution in which the amount of dissolved ozone is increased by using a nano generator.
제 2 항에 있어서,
상기 용존 오존량을 증가시킨 용액은 5 내지 10 ppm의 오존 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법.
3. The method of claim 2,
Wherein the solution in which the amount of dissolved ozone is increased has an ozone concentration of 5 to 10 ppm.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 A) 단계의 프리 에칭 공정, 또는 상기 C) 단계의 마이크로 에칭 공정에 사용되는 에칭 용액은 1 내지 3 중량%의 황산과, 1 내지 3 중량%의 과산화수소와, 1 내지 3 중량%의 안정제와, 0.1 내지 1 중량%의 계면활성제와, 0.005 내지 0.05 중량%의 착화제 및 잔량의 물이 혼합되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The etching solution used in the pre-etching step of step A) or the micro-etching step of step C) may contain 1 to 3% by weight of sulfuric acid, 1 to 3% by weight of hydrogen peroxide, 1 to 3% , 0.1 to 1% by weight of a surfactant, 0.005 to 0.05% by weight of a complexing agent and water in a remaining amount.
제 4 항에 있어서,
상기 안정제는 알킬아민(Alkyl Amine)이 사용되는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the stabilizer is an alkyl amine (Alkyl Amine).
제 4 항에 있어서,
상기 에칭 용액은 0.1 내지 2 중량%의 금속염과, 0.1 내지 1 중량%의 유기산이 더 첨가되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the etching solution comprises 0.1 to 2% by weight of a metal salt and 0.1 to 1% by weight of an organic acid.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 A) 단계는 나노 버블을 포함하는 용액에 기판을 투입하기 이전에 기판을 2차 세정하면서 상기 관통홀을 통해 노출된 상기 부도체 표면을 양이온화 시키는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the step A) includes a step of cationizing the surface of the non-conductive material exposed through the through hole while washing the substrate secondly before the substrate is charged into the solution containing the nano bubbles. / RTI >
제 7 항에 있어서,
상기 B) 단계의 부도체를 양이온화 시키는 공정은 양이온성 계면활성제가 사용되는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법.
8. The method of claim 7,
Wherein the step of cationizing the nonconductor of step (B) comprises using a cationic surfactant.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 B) 단계는 코팅된 음이온 탄소로부터 수분을 제거하기 위한 드라이 공정을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the step B) further comprises a drying step for removing moisture from the coated anion carbon.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 B) 단계는 액상 탄소 분산 방식으로 이루어지며,
상기 액상 탄소 분산 방식의 탄소 분산 용액에 첨가되는 탄소 입자의 지름은0.05㎛~3.0㎛의 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄 회로 기판의 제조방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The step B) is performed by a liquid carbon dispersion method,
Wherein the diameter of the carbon particles added to the carbon-dispersed solution of the liquid carbon dispersion method has a size of 0.05 mu m to 3.0 mu m.
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