KR101407395B1 - Reflector for ingot growth device - Google Patents
Reflector for ingot growth device Download PDFInfo
- Publication number
- KR101407395B1 KR101407395B1 KR1020120126683A KR20120126683A KR101407395B1 KR 101407395 B1 KR101407395 B1 KR 101407395B1 KR 1020120126683 A KR1020120126683 A KR 1020120126683A KR 20120126683 A KR20120126683 A KR 20120126683A KR 101407395 B1 KR101407395 B1 KR 101407395B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- divided
- reflector
- outer ring
- holes
- contact
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B35/00—Apparatus not otherwise provided for, specially adapted for the growth, production or after-treatment of single crystals or of a homogeneous polycrystalline material with defined structure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/10—Crucibles or containers for supporting the melt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
본 발명은 잉곳 성장장치의 리플렉터에 관한 것으로, 원통형의 이너와 아우터 및 아우터 하부에 결합되어 상기 이너의 하단을 지지하는 아우터링을 포함하는 잉곳 성장장치의 리플렉터에 있어서, 상기 아우터링은, 적어도 2분할 이상으로 분할되는 분할부들을 포함하며, 상하로 공기의 유동을 방지하기 위하여 상기 분할부들의 상호 결합되는 부분은 상하로 중첩된다. 본 발명은 아우터링을 분할된 구조로 함과 아울러 각 분할 부분에 상하 통공 및 상하 통공을 덮는 덮개를 포함하는 구조로 하여, 잉곳 성장시 열에 의하여 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a reflector of an ingot growing apparatus, comprising: a cylindrical inner, an outer and an outer ring, and an outer ring coupled to a lower portion of the outer and supporting the lower end of the inner, And the divided parts are divided into upper and lower parts so as to prevent the air from flowing up and down. The present invention has a structure in which the outer ring has a divided structure, and includes a cover covering upper and lower holes and upper and lower through-holes in each divided portion, thereby preventing cracks from being generated due to heat during ingot growth.
Description
본 발명은 잉곳 성장장치의 리플렉터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 아우터 링의 손상을 방지할 수 있는 잉곳 성장장치의 리플렉터에 관한 것이다.
The present invention relates to a reflector of an ingot growing apparatus, and more particularly to a reflector of an ingot growing apparatus capable of preventing damage to an outer ring.
일반적으로 실리콘 기판이나 사파이어 기판을 제조하는 방법으로 실리콘 또는 사파이어 용융물의 표면에 단결정 시드(seed)를 접촉시킨 상태에서, 그 시드를 상방으로 회전 인상하여 실리콘 또는 사파이어 잉곳(ingot)을 성장시키는 방법이 사용되고 있다.
In general, a method of growing a silicon or sapphire ingot by rotating a seed in a state in which a single crystal seed is in contact with the surface of a silicon or sapphire melt by rotating the seed upwardly by a method of manufacturing a silicon substrate or a sapphire substrate .
이러한 잉곳 성장장치에는 성장되는 잉곳의 단열을 위하여 그 잉곳이 상향으로 통과하는 상하 통공이 마련된 리플렉터(reflector)를 사용하고 있다. 리플렉터는 열차폐를 위한 부품으로 경우에 따라서는 선행 출원 문헌들에서는 열차폐수단으로 기재된 경우가 있다. 이러한 리플렉터는 몰리브덴이 함유된 합금 등을 사용하여 제작될 수 있다.In order to insulate the ingot to be grown, a reflector having upper and lower through holes through which the ingot passes upward is used in such an ingot growing apparatus. The reflector is a component for heat dissipation. In some cases, the reflector may be described as a train wastewater stage in the prior application documents. Such a reflector can be manufactured using an alloy containing molybdenum or the like.
이러한 리플렉터 또는 열차폐수단에 대하여 언급된 선행기술들은 매우 많으며 대표적으로 잉곳 성장장치에 설치된 상태를 확인할 수 있는 선행기술로서 공개특허 10-2011-0093341호를 예로 들 수 있다. 공개특허 10-2011-0093341호에는 잉곳 성장장치에서 열차폐수단이 용융물에 근접한 위치에서부터 상향으로 마련되어 있으며, 그 열차폐수단의 중앙통공을 통해 상향으로 잉곳을 성장시키는 예를 구체적으로 도시하고 있다.
The prior art mentioned above regarding the reflector or the train wastewater stage is very many and is exemplified as a prior art which can represent the state of being installed in the ingot growing apparatus. The patent document 10-2011-0093341 specifically shows an example of the ingot growing apparatus in which the end of the train wastewater is provided upward from the position close to the melt and the ingot is grown upward through the central through hole of the end of the train wastewater.
그러나 위의 공개특허 10-2011-0093341호를 비롯하여 공개된 문헌에는 리플렉터가 아우터와 이너로 분리된 것으로 도시하고 설명하고 있다. 아우터와 이너 각각은 일체의 형상을 가지는 것이나, 아우터의 하부에 링을 별도로 설치하는 구조도 있다.
However, in the above-described publication including the patent document 10-2011-0093341, the reflector is shown as being separated into an outer and an inner. Each of the outer and inner members may have an integral shape, but a ring may be separately provided at the lower portion of the outer member.
상기와 같은 형상의 종래 리플렉터는 잉곳의 성장공정이 진행되면서 규소화가 진행되며, 높은 온도의 영향으로 크랙이 발생하게 된다. 이러한 규소화 및 크랙의 발생은 주로 외면을 이루는 아우터 또는 아우터 하부의 링에 발생하게 되며, 크랙의 일부가 박리되어 리플렉터 하부의 용융물에 낙하 될 수 있다.In the conventional reflector having the above-described shape, the siliconization proceeds as the ingot growth process proceeds, and cracks are generated due to the influence of the high temperature. The occurrence of such silicification and cracking occurs mainly in the ring of the outer or outer portion which forms the outer surface, and a part of the crack may be peeled off and fall on the melted material in the lower portion of the reflector.
상기와 같이 리플렉터에 크랙이 발생하여, 리플렉터의 일부가 잉곳 성장을 위한 용융물에 투입되는 경우, 불순물로 작용하여 잉곳의 수율을 저하시키는 문제점이 있었다.As described above, when a crack occurs in the reflector and a part of the reflector is injected into the melt for ingot growth, there is a problem that the yield of the ingot is lowered by acting as an impurity.
또한 크랙의 발생에 의하여 열차폐의 기능이 저하되어 불량이 발생할 수 있는 문제점이 있었다.
In addition, there is a problem that the function of the heat shield is deteriorated due to the occurrence of cracks, thereby causing defects.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 과제는, 아우터 링에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있는 잉곳 성장장치의 리플렉터를 제공함에 있다.
In order to solve the above problems, the present invention provides a reflector of an ingot growing apparatus capable of preventing cracks from occurring in an outer ring.
상기와 같은 과제를 달성하기 위한 본 발명 잉곳 성장장치의 리플렉터는, 원통형의 이너와 아우터 및 아우터 하부에 결합되어 상기 이너의 하단을 지지하는 아우터링을 포함하는 잉곳 성장장치의 리플렉터에 있어서, 상기 아우터링은, 적어도 2분할 이상으로 분할되는 분할부들을 포함하며, 상하로 공기의 유동을 방지하기 위하여 상기 분할부들의 상호 결합되는 부분은 상하로 중첩되도록 구성된다.
In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a reflector of an ingot growing apparatus including a cylindrical inner and outer and an outer ring coupled to a lower portion of the outer and supporting the lower end of the inner, The ring includes dividing portions divided into at least two or more divisions, and the mutually coupled portions of the dividing portions are vertically overlapped to prevent the air from flowing up and down.
본 발명은, 아우터링을 분할된 구조로 함과 아울러 각 분할 부분에 상하 통공 및 상하 통공을 덮는 덮개를 포함하는 구조로 하여, 잉곳 성장시 열에 의하여 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
The present invention has a structure in which the outer ring has a divided structure and includes a lid covering upper and lower through-holes and upper and lower through-holes in each divided portion, thereby preventing cracks from being generated by heat during ingot growth .
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 잉곳 성장장치의 리플렉터 아우터의 분리 사시도이다.
도 2는 도 1에서 아우터 링의 결합상태 일부 단면도이다.
도 3은 도 1에서 아우터 링의 다른 실시예의 구성도이다.1 is an exploded perspective view of a reflector outer of an ingot growing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a partial sectional view of the outer ring in the engaged state in FIG.
Fig. 3 is a configuration diagram of another embodiment of the outer ring in Fig. 1. Fig.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 잉곳 성장장치 리플렉터의 구성을 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the structure of a reflector of an ingot growing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 잉곳 성장장치 리플렉터 아우터의 분리 사시도이고, 도 2는 도 1에서 아우터 링의 결합상태 일부 단면도이다.FIG. 1 is an exploded perspective view of a reflector outer of an ingot growing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partial sectional view of the outer ring in a coupled state in FIG.
도 1과 도 2를 각각 참조하면 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 잉곳 성장장치의 리플렉터는, 잉곳 성장장치의 안착부(도면 미도시)에 안착될 수 있도록 상단에서 외측으로 돌출된 상부단(210)을 포함하는 원통형의 아우터(200)와, 상기 상부 아우터(200)의 내측 하단에서 돌출되는 하부단(220) 상에 올려져 상기 아우터(200)와 함께 리플렉터의 외형을 이루는 아우터링(300)과, 상기 아우터링(300)의 상부에 하부측이 지지되며, 상기 아우터(200)의 내측에 삽입되어 아우터(200)와의 사이에서 단열재(도면 미도시) 충진 공간을 제공하는 이너(100)를 포함하여 구성된다.
Referring to FIGS. 1 and 2, the reflector of the ingot growing apparatus according to the preferred embodiment of the present invention includes an upper end 210 protruding outward from the upper end so as to be seated in a seating portion (not shown) And an
상기 아우터링(300)은 적어도 2분할 되어 상호 수평 상태에서 결합되어 링형상을 이루는 제1분할부(310) 및 제2분할부(320)를 포함한다.The
상기 제1분할부(310)와 제2분할부(320)는 각각이 접하는 부분에서 외측으로의 노출을 방지하기 위하여 상호 반대 형상의 결합단턱부(311,321)를 구비하고 있으며, 내측 가장자리에는 상기 이너(100)의 내측에 삽입 결합되는 상부 돌출단(312,322)과, 상기 아우터(200)의 하부단(220)에 걸쳐질 수 있도록 저면 외측 가장자리에 마련된 오목단턱부(313,323)를 포함하여 구성된다.
The first divided
이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 잉곳 성장장치의 리플렉터의 구성과 작용을 보다 상세하게 설명한다.
Hereinafter, the structure and operation of the reflector of the ingot growing apparatus according to the preferred embodiment of the present invention will be described in more detail.
먼저, 아우터(200)는 원통형의 구조이며, 상부측에는 잉곳 성장장치의 내에 마련된 링 형상의 안착부 상에 걸쳐질 수 있도록 외측으로 돌출되는 상부단(210)이 마련되어 있으며, 하부측에는 상기 아우터링(300)을 수용하기 위하여 내측으로 돌출되는 하부단(220)을 포함하는 형상이다.
First, the
상기 아우터(200)의 하부단(220)의 상부에 아우터링(300)이 올려지며, 그 아우터링(330)의 상부에 접하도록 원통형의 이너(100)가 상기 아우터(200)의 내측에 삽입되며, 상기 아우터(200)와 이너(100) 사이에 단열재가 충진 된다.
An
상기 아우터링(300)은 좌우로 적어도 제1분할부(310)와 제2분할부(320)로 2분할 되어 표면의 규소화와 팽창계수의 차이에 의한 크랙 발생이 완화된다. 이때 제1분할부(310)와 제2분할부(320)는 실질적으로 분할된 구조이기는 하지만, 열차폐 성능의 저하를 방지하기 위하여 각각이 접하는 부분에서 결합단턱부(311,321)가 마련되어 있다.The
상기 제1분할부(310)의 결합단턱부(311)는 상부측이 돌출된 구조이며, 제2분할부(320)의 결합단턱부(321)는 하부측이 돌출된 구조로서, 각각의 돌출된 부분이 교차하도록 결합됨과 아울러 돌출된 부분의 하부와 상부가 서로 접하여 열차폐 성능의 저하를 방지할 수 있게 된다.The coupling
이때 제1분할부(310)의 결합단턱부(311) 돌출부분의 끝단은 제2분할부(320)의 결합단턱부(321)의 돌출되지 않은 부분에 접하지 않으며, 역시 제2분할부(320)의 결합단턱부(321)의 돌출된 부분의 끝단은 제1분할부(310)의 결합단턱부(311)에 접하지 않은 상태가 되는 것이 바람직하다.
At this time, the end of the protruded portion of the coupling
상기 제1분할부(310)와 제2분할부(320)의 내측 가장자리에는 상기 이너(100)의 하단 내측에 삽입되어 이너(100)가 유동되지 않도록 하는 상부 돌출단(312,322)이 각각 마련되어 있으며, 저면 외측 가장자리에는 오목단턱부(313,323)가 마련되어 아우터(200)의 하부단(220)에 결합되도록 한다.
The inner edge of the first divided
이와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 잉곳 성장장치의 리플렉터는 아우터링(300)을 분할된 구조로 하여, 크랙이 발생되는 것을 방지할 수 있다. 또한 아우터링(300)을 분할하되 상하로 공기가 순환할 수 없도록 제1분할부(310)와 제2분할부(320)의 결합단턱부(311,321)가 상하로 중첩되도록 구성하여 열차폐 성능의 저하를 방지하게 된다.
As described above, the reflector of the ingot growing apparatus according to the preferred embodiment of the present invention has a structure in which the
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 아우터링의 구성도이다.3 is a configuration diagram of an outer ring according to another embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면 본 발명의 다른 실시에에 따른 아우터링(300)은 제1분할부(310)와 제2분할부(320)로 분할되되, 제1분할부(310)와 제2분할부(320) 각각에 상하 통공(314,324)을 마련하고, 그 상하 통공(314,324)을 덮는 덮개부(315,325)를 포함하여 구성된다.
Referring to FIG. 3, the
상기 상하 통공(314,324)은 제1분할부(310)와 제2분할부(320)의 외측면에서 내측으로 절개된 것일 수 있으며, 덮개(315,325)가 덮였을 때 덮개(315,325)의 상하면이 제1분할부(310) 및 제2분할부(320) 각각의 상부면과 하부면과 일치하게 된다.The upper and
즉, 덮개(315,325)의 측면 상부에서 돌출되는 돌출부가 마련되며, 상하 통공(314,324)의 내측면은 하부에 돌출부가 마련되어 양측의 돌출부의 저면과 상면이 서로 접하여 열차폐가 가능하게 된다. 덮개(315,325)의 돌출부 끝단이 상하 통공(314,324)의 측면에 접하지 않도록 하여 열팽창에 따른 크랙 발생을 더욱 방지할 수 있다.
In other words, protrusions protruding from upper side surfaces of the
전술한 바와 같이 본 발명에 대하여 바람직한 실시예를 들어 상세히 설명하였지만, 본 발명은 전술한 실시예들에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, And this also belongs to the present invention.
100:이너 200:아우터
210:상부단 220:하부단
300:아우터링 310:제1분할부
320:제2분할부 311,321:결합단턱부
312,322:상부 돌출단 313,323:오목단턱부
314,324:상하 통공 315,325:덮개100: Inner 200: Outer
210: upper end 220: lower end
300: outer ring 310: first division
320: second divided
312, 322:
314, 324: upper and
Claims (4)
상기 아우터링은,
적어도 2분할 이상으로 분할되는 분할부들을 포함하며, 상하로 공기의 유동을 방지하기 위하여 상기 분할부들의 상호 결합되는 부분은 상하로 중첩되고,
상기 분할부들 각각에는 상하 통공이 마련되어 있으며, 상기 상하 통공을 덮는 덮개부를 포함하는 것을 특징으로 하는 잉곳 성장장치의 리플렉터.
1. A reflector of an ingot growing apparatus, comprising: a cylindrical inner and outer rings; and an outer ring coupled to a lower portion of the outer and supporting the lower ends of the inner,
Wherein the outer ring comprises:
Wherein at least two of the divided parts are vertically overlapped with each other to prevent the air from flowing upward and downward,
Wherein each of the dividing portions includes an upper and lower through-holes, and a lid portion covering the upper and lower through-holes.
상기 분할부들이 상호 결합되는 부분에는 상호 상하 접촉되는 돌출부가 마련되어 있으며, 상기 돌출부의 끝단은 상대 분할부에 접촉되지 않는 것을 특징으로 하는 잉곳 성장장치의 리플렉터.
The method according to claim 1,
Wherein the protrusions are in contact with each other at portions where the divided portions are mutually coupled, and the ends of the protrusions are not in contact with the counterparts.
상기 상하 통공의 내측 하부에 돌출부가 마련되어 있으며, 상기 덮개는 측면 상부에 돌출부가 마련되어, 상기 덮개의 돌출부의 저면과 상기 상하 통공의 돌출부 상부가 접하고,
상기 덮개의 돌출부 끝단은 상기 상하 통공의 내측면에 접하지 않으며, 상기 상하 통공의 하부에 마련된 돌출부의 끝단은 덮개의 측면에 접하지 않는 것을 특징으로 하는 잉곳 성장장치의 리플렉터.
The method according to claim 1,
Wherein the lid has a protruding portion on an upper side of the lid, the bottom surface of the protrusion of the lid is in contact with the upper portion of the protrusion of the upper and lower holes,
Wherein the end of the projection of the lid is not in contact with the inner surface of the upper and lower holes and the end of the projection provided in the lower portion of the upper and lower holes is not in contact with the side of the lid.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120126683A KR101407395B1 (en) | 2012-11-09 | 2012-11-09 | Reflector for ingot growth device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120126683A KR101407395B1 (en) | 2012-11-09 | 2012-11-09 | Reflector for ingot growth device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140060057A KR20140060057A (en) | 2014-05-19 |
KR101407395B1 true KR101407395B1 (en) | 2014-06-17 |
Family
ID=50889628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020120126683A KR101407395B1 (en) | 2012-11-09 | 2012-11-09 | Reflector for ingot growth device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101407395B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101691306B1 (en) * | 2015-10-20 | 2016-12-30 | 주식회사 티씨케이 | Top ring for ingot growth device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007254162A (en) | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Toshiba Ceramics Co Ltd | Single crystal manufacturing device and recharge method |
KR20070119738A (en) * | 2005-06-20 | 2007-12-20 | 가부시키가이샤 사무코 | Method of growing silicon single crystal and silicon single crystal grown by the method |
KR20110099481A (en) * | 2010-03-02 | 2011-09-08 | 주식회사 엘지실트론 | Single crystal cooling apparatus and single crystal grower including the same |
KR20120043813A (en) * | 2010-10-27 | 2012-05-07 | 주식회사 티씨케이 | Heat shield structure for silicon ingot grower |
-
2012
- 2012-11-09 KR KR1020120126683A patent/KR101407395B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070119738A (en) * | 2005-06-20 | 2007-12-20 | 가부시키가이샤 사무코 | Method of growing silicon single crystal and silicon single crystal grown by the method |
JP2007254162A (en) | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Toshiba Ceramics Co Ltd | Single crystal manufacturing device and recharge method |
KR20110099481A (en) * | 2010-03-02 | 2011-09-08 | 주식회사 엘지실트론 | Single crystal cooling apparatus and single crystal grower including the same |
KR20120043813A (en) * | 2010-10-27 | 2012-05-07 | 주식회사 티씨케이 | Heat shield structure for silicon ingot grower |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140060057A (en) | 2014-05-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5432573B2 (en) | Silicon carbide single crystal manufacturing apparatus and silicon carbide single crystal manufacturing method | |
US20110107961A1 (en) | Single crystal manufacturing device and manufacturing method | |
CN108149315B (en) | Crucible for crystal growth and method for releasing thermal stress of silicon carbide crystal | |
KR101392240B1 (en) | Reflector for ingot growth device | |
KR20030046483A (en) | Heat shield assembly for crystal pulling apparatus | |
KR101407395B1 (en) | Reflector for ingot growth device | |
JP2011184208A (en) | Apparatus and method for producing silicon carbide single crystal | |
KR101494521B1 (en) | Heat shield structure | |
EP3198061A1 (en) | Crucible for directional solidification of multicrystalline or quasi-monocrystalline silicon by growth on a seed | |
JP4894717B2 (en) | Method for manufacturing silicon carbide single crystal substrate | |
JP2012036035A (en) | Method for manufacturing silicon carbide single crystal | |
KR101136930B1 (en) | Crucible for manufacturing silicon ingot with detachable crucible | |
KR102122668B1 (en) | Apparatus for ingot and preparation method of silicon carbide ingot with the same | |
JP4926633B2 (en) | Single crystal pulling method | |
KR102138455B1 (en) | A heat shield member for single crystal growth and single crystal growth apparatus using the same | |
JP2010180117A (en) | Apparatus for manufacturing silicon carbide single crystal | |
KR101691306B1 (en) | Top ring for ingot growth device | |
JP4500186B2 (en) | Group III nitride crystal growth equipment | |
JP2018150181A (en) | Crucible for single crystal growth, and single crystal growth method | |
KR101532266B1 (en) | An apparatus for growing a single crystal | |
KR20160014362A (en) | The single crystal ingot growing apparatus | |
KR101392238B1 (en) | Reflector for ingot growth device | |
JP2014210672A (en) | Method for manufacturing silicon carbide single crystal | |
KR101671593B1 (en) | Reflector for ingot growth device | |
JP6204500B2 (en) | Single crystal growth equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180328 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190402 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200224 Year of fee payment: 7 |