KR101390106B1 - Liquid crystal display device and repairing method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치 및 그 리페어방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 액정표시장치는 기판 상에 형성되는 다수의 신호배선과, 상기 다수의 신호배선의 교차배열에 의해 정의되는 다수의 화소영역을 포함하는 액정표시장치에 있어서, 상기 신호배선 중 단선된 결함영역을 가지는 신호배선; 상기 신호배선과 동일층에 형성되는 투명 구동전극; 및, 상기 투명 구동전극과 동일 재질로 상기 투명 구동전극과 동시에 형성되며, 상기 결함영역에만 충진되어 상기 단선된 결함영역을 가지는 신호배선을 리페어하는 리페어 패턴;을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 네거티브타입 포토레지스트용 노광마스크를 이용하여 투명 구동전극 형성시 신호배선의 결함영역만을 충진하여 신호배선을 리페어할 수 있고, 신호배선의 단선영역만을 정확하게 리페어함으로써 화소영역에 형성되는 투명 구동전극과의 쇼트현상 방지 및 단차증가의 방지로 인한 빛샘방지까지 할 수 있으며, 신호배선을 형성한 후에 동일층에 네거티브타입 포토레지스트용 노광마스크를 이용하여 투명 구동전극 및 리페어패턴을 형성하므로 리페어를 위한 추가적인 공정이 필요없는 액정표시장치 및 그 리페어방법이 제공된다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display and a repair method thereof. The liquid crystal display according to the present invention includes a plurality of signal lines formed on a substrate and a plurality of pixel regions defined by cross arrays of the plurality of signal lines. A liquid crystal display comprising: a signal wiring having a defective region disconnected among the signal wirings; A transparent driving electrode formed on the same layer as the signal line; And a repair pattern formed at the same time as the transparent driving electrode and made of the same material as the transparent driving electrode, and configured to repair a signal wiring filled in only the defective area and having the disconnected defective area. Accordingly, when the transparent driving electrode is formed using a negative type photoresist exposure mask, only the defective region of the signal wiring can be repaired to repair the signal wiring, and only the disconnection region of the signal wiring can be repaired accurately, thereby forming the transparent driving formed in the pixel region. It is possible to prevent light leakage due to the short phenomenon with the electrode and to prevent the increase of the step, and after the signal wiring is formed, the transparent driving electrode and the repair pattern are formed on the same layer by using the exposure mask for negative type photoresist, thereby repairing the repair. There is provided a liquid crystal display device and a repair method thereof that do not require any further processing.

Description

액정표시장치 및 그 리페어방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND REPAIRING METHOD THEREOF}Liquid crystal display and its repair method {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND REPAIRING METHOD THEREOF}

본 발명은 액정표시장치 및 그 리페어방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판 상에 형성되는 신호배선 중 단선된 결함영역을 갖는 신호배선이 있는 경우, 투명 구동전극 형성시 상기 결함영역에만 충진되는 리페어패턴을 투명 구동전극과 동일층에 동일재질로 동시에 형성하여 신호배선을 리페어하는 액정표시장치 및 그 리페어방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device and a repair method thereof, and more particularly, in the case where there is a signal wiring having a disconnected defect region among the signal wirings formed on the substrate, the repair is filled only in the defect region when the transparent driving electrode is formed. The present invention relates to a liquid crystal display and a repair method for repairing signal wiring by simultaneously forming a pattern on the same layer as the transparent driving electrode.

일반적으로, 액정표시장치는 기판 상에 교차배열되는 게이트라인과 데이터라인에 의해 화소영역이 정의되고, 화소영역에는 투명 구동전극이 형성된다.In general, in a liquid crystal display device, a pixel region is defined by gate lines and data lines intersected on a substrate, and a transparent driving electrode is formed in the pixel region.

또한, 게이트라인과 데이터라인의 교차영역에는 투명 구동전극인 화소전극에 선택적으로 구동신호를 인가하도록 상기 화소전극에 전기적으로 연결되는 박막트랜지스터가 형성된다.In addition, a thin film transistor is electrically connected to the pixel electrode to selectively apply a driving signal to the pixel electrode, which is a transparent driving electrode, at an intersection of the gate line and the data line.

상기된 바와 같은 액정표시장치를 제조함에 있어서공정 중 게이트라인 또는 데이터라인과 같은 신호배선을 형성시에 단선 등의 결함이 발생하는 경우가 빈번하였다.In the manufacturing of the liquid crystal display device as described above, defects such as disconnection are frequently generated during the formation of signal wiring such as gate lines or data lines.

도 1은 액정표시장치의 제조공정도이다. 도 1을 참조하면, 액정표시장치의 제조공정 중 기판 상에 게이트라인(110)과 게이트절연막(미도시)을 형성한 후, 그 상부에 데이터라인(120)을 형성한다.1 is a manufacturing process diagram of a liquid crystal display device. Referring to FIG. 1, a gate line 110 and a gate insulating layer (not shown) are formed on a substrate during a manufacturing process of a liquid crystal display, and then a data line 120 is formed thereon.

그런데, 데이터라인(120) 형성시에 a부분과 같은 단선 등의 결함이 발생하는 것을 대비하기 위해, 비교적 크기가 큰 패널의 경우에는 패널 외곽에 별도의 리페어패턴을 형성하는 방법을 사용하고, 작은 크기의 패널의 경우에는 별도의 단선을 리페어하기 위한 방법은 없었다.However, in order to prepare for the occurrence of defects such as disconnection such as part a when forming the data line 120, in the case of a relatively large panel, a separate repair pattern is formed on the outside of the panel. In the case of panels of size, there was no way to repair separate disconnections.

그런데, 패널 외곽에 별도의 리페어패턴을 형성하는 방법을 이용하여 데이터라인(120)을 리페어하는 경우에도 리페어패턴의 길이 등에 의한 저항문제로 리페어 성공율이 현저하게 낮은 문제점이 있었다.However, even when the data line 120 is repaired by using a method of forming a separate repair pattern on the outside of the panel, there is a problem in that the repair success rate is remarkably low due to a resistance problem caused by the length of the repair pattern.

이를 보완하기 위해, 도 2에서와 같이, 게이트라인(110) 및 데이터라인(120)을 형성한 이후에 화소영역에 형성되는 투명 구동전극(130)과 동일한 재질의 ITO막(140)으로 데이터라인(120) 전체를 덮어 데이터라인(120)을 전기적으로 연결되도록 하는 방법이 있다.To compensate for this, as shown in FIG. 2, after the gate line 110 and the data line 120 are formed, the data line is made of the ITO layer 140 made of the same material as the transparent driving electrode 130 formed in the pixel region. There is a method of covering the entirety of the 120 to electrically connect the data line 120.

그러나, 이 방법은 데이터라인(120)의 상부에 ITO막(140)이 적층됨으로써 ITO막(140) 두께만큼의 단차가 발생하여 러빙공정시 빛샘 불량이 발생하게 되는 문제점이 있었다.However, this method has a problem in that light leakage defects are generated during the rubbing process due to the stepped thickness of the ITO film 140 due to the ITO film 140 stacked on the data line 120.

또한, 데이터라인(120)의 상부 전체를 ITO막(140)으로 커버하여야 하므로 도 2의 b부분에서와 같이 투명 구동전극(130)과 쇼트(short) 발생이 증가하는 문제점이 있었다.In addition, since the entire upper portion of the data line 120 needs to be covered with the ITO film 140, there is a problem in that a short generation occurs with the transparent driving electrode 130 as shown in part b of FIG. 2.

본 발명의 과제는 상술한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 네거티브타입 포토레지스트용 노광마스크를 이용하여 투명 구동전극 형성시 신호배선의 결함영역만을 충진하여 신호배선을 리페어하는 액정표시장치 및 그 리페어방법을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the conventional problems as described above, a liquid crystal display device for repairing the signal wiring by filling only the defective region of the signal wiring when forming a transparent driving electrode using a negative type photoresist exposure mask and It is to provide a repair method.

또한, 신호배선의 단선영역만을 정확하게 리페어함으로써 화소영역에 형성되는 투명 구동전극과의 쇼트현상 방지 및 단차증가의 방지로 인한 빛샘방지까지 할 수 있는 리페어패턴을 포함하는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공함에 있다.In addition, a liquid crystal display including a repair pattern capable of preventing short-circuit with the transparent driving electrode formed in the pixel region and preventing light leakage due to the prevention of an increase of the step by accurately repairing only the disconnection region of the signal wiring and a manufacturing method thereof In providing.

또한, 신호배선을 형성한 후에 동일층에 네거티브타입 포토레지스트용 노광마스크를 이용하여 투명 구동전극 및 리페어패턴을 형성하므로 리페어를 위한 추가적인 공정이 필요없는 액정표시장치 및 그 리페어방법을 제공함에 있다.In addition, since the transparent driving electrode and the repair pattern are formed on the same layer using an exposure mask for negative type photoresist after forming the signal wiring, there is provided a liquid crystal display device and a repair method that do not require an additional process for repair.

상기 과제는, 본 발명에 따라, 기판 상에 형성되는 다수의 신호배선과, 상기 다수의 신호배선의 교차배열에 의해 정의되는 다수의 화소영역을 포함하는 액정표시장치에 있어서, 상기 신호배선 중 단선된 결함영역을 가지는 신호배선; 상기 신호배선과 동일층에 형성되는 투명 구동전극; 상기 투명 구동전극과 동일 재질로 상기 투명 구동전극과 동시에 형성되며, 상기 결함영역에만 충진되어 상기 단선된 결함영역을 가지는 신호배선을 리페어하는 리페어 패턴;을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치에 의해 달성될 수 있다.According to the present invention, a liquid crystal display device comprising a plurality of signal wirings formed on a substrate and a plurality of pixel regions defined by a cross arrangement of the plurality of signal wirings, wherein the disconnection of the signal wirings is performed. Signal wiring having a defective region; A transparent driving electrode formed on the same layer as the signal line; And a repair pattern formed of the same material as the transparent driving electrode and simultaneously with the transparent driving electrode, and configured to repair a signal wiring filled in only the defective area and having the disconnected defective area. Can be achieved.

여기서, 상기 리페어 패턴은, 상기 단선된 결함영역을 가진 신호배선이 형성된 기판 상에 투명도전막 및 네거티브타입 포토레지스트가 순차적으로 적층되고, 상기 신호배선 및 상기 투명 구동전극과 대응되는 영역은 투과영역으로 구획되고, 나머지 영역은 비투과영역으로 구획되는 노광마스크를 이용하여, 상기 결함영역에 위치하는 상기 네거티브타입 포토레지스트가 노광되도록 상기 기판의 배면에서 상기 네거티브타입 포토레지스트를 노광한 후, 현상하여 형성된 식각마스크를 통해 상기 투명도전막을 패터닝하여 형성되는 것이 바람직하다.Here, in the repair pattern, a transparent conductive film and a negative type photoresist are sequentially stacked on a substrate on which a signal wiring having the disconnected defect region is formed, and a region corresponding to the signal wiring and the transparent driving electrode is a transmission region. Etching is formed by exposing the negative photoresist on the back surface of the substrate so that the negative photoresist positioned in the defect area is exposed using an exposure mask partitioned into the non-transmissive area. Preferably, the transparent conductive film is patterned through a mask.

또한, 상기 신호배선이 데이터라인인 경우에는 상기 투명 구동전극이 화소전극이며, 상기 신호배선이 게이트라인인 경우에는 상기 투명 구동전극이 공통전극일 수 있다.The transparent driving electrode may be a pixel electrode when the signal line is a data line, and the transparent driving electrode may be a common electrode when the signal line is a gate line.

한편, 상기 액정표시장치의 리페어방법은, 기판 상에 일정간격으로 신호배선을 패터닝하는 단계; 상기 신호배선이 형성된 기판 상에 투명 구동전극 형성을 위한 투명도전막을 성막하는 단계; 상기 투명도전막이 형성된 기판 상에 네거티브타입 포토레지스트를 도포하는 단계; 상기 신호배선이 형성된 영역 및 상기 투명 구동전극이 형성될 영역은 투과영역으로 구획되고, 나머지 영역은 비투과영역으로 구획되는 노광마스크를 이용하여, 상기 결함영역에 위치하는 상기 네거티브타입 포토레지스트가 노광되도록 상기 기판의 배면에서 상기 네거티브타입 포토레지스트를 노광한 후, 현상하여 상기 투명 구동전극이 형성될 영역 및 상기 신호배선이 단선된 결함영역을 가지는 경우 상기 신호배선의 결함영역에 식각마스크를 형성하는 단계; 및, 상기 식각마스크를 마스크로 하여 상기 투명도전막을 식각하여, 상기 투명 구동전극이 형성될 영역에는 투명 구동전극을 형성하고, 상기 신호배선이 형성된 영역 중 상기 결함영역만을 충진하여 리페어되도록 하는 리페어패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것이 바람직하다.On the other hand, the repair method of the liquid crystal display device, patterning the signal wiring on the substrate at a predetermined interval; Depositing a transparent conductive film for forming a transparent driving electrode on the substrate on which the signal wiring is formed; Applying a negative photoresist on the substrate on which the transparent conductive film is formed; The negative type photoresist positioned in the defective area is exposed by using an exposure mask in which the signal wiring area and the transparent driving electrode are formed, and the remaining area is divided into a transmissive area and the remaining area is divided into a non-transmissive area. Exposing the negative photoresist on the back surface of the substrate and then developing to form an etch mask in the defect region of the signal wiring when the transparent driving electrode is formed and the defect region is disconnected from the signal wiring. ; And a repair pattern for etching the transparent conductive layer using the etching mask as a mask to form a transparent driving electrode in a region where the transparent driving electrode is to be formed, and to fill and repair only the defective region among the regions where the signal wiring is formed. It is preferable to include; forming a.

여기서, 상기 신호배선이 데이터라인인 경우에는 상기 투명 구동전극이 화소전극이며, 상기 신호배선이 게이트라인인 경우에는 상기 투명 구동전극이 공통전극일 수 있다.The transparent driving electrode may be a pixel electrode when the signal line is a data line, and the transparent driving electrode may be a common electrode when the signal line is a gate line.

본 발명에 따르면, 네거티브타입 포토레지스트용 노광마스크를 이용하여 투명 구동전극 형성시 신호배선의 결함영역만을 충진하여 신호배선을 리페어하는 액정표시장치 및 그 리페어방법이 제공된다.According to the present invention, a liquid crystal display and a repair method for repairing signal wiring by filling only a defective region of the signal wiring when forming a transparent driving electrode using an exposure mask for negative photoresist are provided.

또한, 신호배선의 단선영역만을 정확하게 리페어함으로써 화소영역에 형성되는 투명 구동전극과의 쇼트현상 방지 및 단차증가의 방지로 인한 빛샘방지까지 할 수 있는 액정표시장치 및 그 리페어방법이 제공된다.In addition, a liquid crystal display and a repair method for preventing light leakage due to prevention of short-circuit with the transparent driving electrode formed in the pixel region and prevention of step increase by accurately repairing only the disconnection region of the signal wiring are provided.

또한, 신호배선을 형성한 후에 동일층에 네거티브타입 포토레지스트용 노광마스크를 이용하여 투명 구동전극 및 리페어패턴을 형성하므로 리페어를 위한 추가적인 공정이 필요없는 액정표시장치 및 그 리페어방법이 제공된다.In addition, since the transparent driving electrode and the repair pattern are formed on the same layer using an exposure mask for negative type photoresist after forming the signal wiring, there is provided a liquid crystal display device and a repair method that do not require an additional process for repair.

도 1은 액정표시장치의 제조공정도,
도 2는 종래 리페어방법에 따른 액정표시장치의 평면도,
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시장치의 평면도,
도 4 내지 도 6은 도 3의 Ｉ-Ｉ' 및 Ⅱ-Ⅱ'의 단면에서 보는 제조공정도,
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시장치의 제조시 이용되는 노광마스크의 평면도,
도 8 내지 도 10은 도 6 이후의 제조공정도,
도 11은 도 10의 평면도이다.1 is a manufacturing process diagram of a liquid crystal display device;
2 is a plan view of a liquid crystal display according to a conventional repair method;
3 is a plan view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention,
4 to 6 is a manufacturing process diagram seen in the cross section of II 'and II-II' of FIG.
7 is a plan view of an exposure mask used in the manufacture of a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention;
8 to 10 is a manufacturing process diagram after FIG.
FIG. 11 is a plan view of FIG. 10.

설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1실시예와 다른 구성에 대해서 설명하기로 한다.Prior to the description, components having the same configuration are denoted by the same reference numerals as those in the first embodiment. In other embodiments, configurations different from those of the first embodiment will be described do.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 액정표시장치의 리페어방법에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a repair method of a liquid crystal display according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에서는 기판 상에 형성되는 신호배선 중 어느 하나와 투명 구동전극 중 어느 하나가 동일층에 형성되며, 여기서 신호배선은 게이트라인 또는 데이터라인이며, 화소영역에 형성되는 투명 구동전극은 공통전극 또는 화소전극일 수 있다.In the present invention, any one of the signal wiring formed on the substrate and one of the transparent driving electrodes are formed on the same layer, wherein the signal wiring is a gate line or a data line, and the transparent driving electrode formed in the pixel region is a common electrode or It may be a pixel electrode.

본 발명의 제1실시예에서는 신호배선이 데이터라인이고 투명 구동전극이 화소전극인 경우에 대해 설명하기로 한다.In the first embodiment of the present invention, the case where the signal wiring is a data line and the transparent driving electrode is a pixel electrode will be described.

도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시장치의 평면도이다. 도 3을 참조하면, 먼저, 기판(1) 상에 화소영역이 정의되도록 게이트라인(10)을 패터닝하고, 그 상부에 게이트 절연막(11)을 형성한 후, 게이트라인(10)과 교차배열되도록 데이터라인(20)을 패터닝한다.3 is a plan view of a liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, first, a gate line 10 is patterned to define a pixel region on a substrate 1, a gate insulating layer 11 is formed on the gate line 10, and then cross-arranged with the gate line 10. The data line 20 is patterned.

여기서, 게이트라인(10)과 데이터라인(20)은 소정의 도전막을 기판(1) 상에 성막하여 형성한다.Here, the gate line 10 and the data line 20 are formed by depositing a predetermined conductive film on the substrate 1.

이때, 공정상의 오류 등으로 인해 데이터라인(20)에 단선 등의 결함이 발생할 수 있다.In this case, a defect such as disconnection may occur in the data line 20 due to a process error or the like.

도 4와 도 5는 도 3의 Ｉ-Ｉ' 및 Ⅱ-Ⅱ'을 따라 절단한 단면도이다. 도 4와 같이 기판(1) 상에 데이터라인(20)을 형성하였을 때, 단선 등의 결함이 발생하면 데이터라인(20)이 형성되지 않은 결함영역(A)이 발생한다.4 and 5 are cross-sectional views taken along lines II ′ and II-II ′ of FIG. 3. When the data line 20 is formed on the substrate 1 as shown in FIG. 4, if a defect such as disconnection occurs, a defect area A in which the data line 20 is not formed is generated.

이때, 도 5와 같이 데이터라인(20)이 형성된 기판(1) 상에 화소전극과 같은 투명 구동전극 형성물질(30)을 도포하여 투명도전막을 형성한다.In this case, as shown in FIG. 5, a transparent conductive film forming material 30 such as a pixel electrode is coated on the substrate 1 on which the data line 20 is formed to form a transparent conductive film.

이어, 도 6과 같이 투명 구동전극 형성물질(30)의 상부에 네거티브타입 포토레지스트(40)를 적층한다.Subsequently, as shown in FIG. 6, a negative type photoresist 40 is stacked on the transparent driving electrode forming material 30.

그리고, 도 7과 같이, 데이터라인(20)과 화소전극(도 11의 31)이 형성될 영역의 사이영역에 대응되는 영역 및 게이트라인(10)과 대응되는 영역은 차폐된 비투과영역(51)으로 형성되고, 그 나머지 영역 즉, 화소전극이 형성될 영역과 데이터라인(20)에 대응되는 영역은 투과영역(52)으로 형성된 노광마스크(50)를 준비한다.As shown in FIG. 7, the region corresponding to the region between the data line 20 and the region in which the pixel electrode 31 of FIG. 11 is to be formed and the region corresponding to the gate line 10 are shielded non-transmissive region 51. The exposure mask 50 formed of the transmission region 52 is prepared in the remaining region, that is, the region where the pixel electrode is to be formed and the region corresponding to the data line 20.

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상기와 같은 노광마스크(50)를 준비하여, 도 8에서와 같이, 기판(1)의 배면에 위치시킨다. 이때, 비투과영역(51)은 데이터라인(20)과 화소전극(31)이 형성될 영역의 사이영역에 대응되도록 하고, 제1투과영역(도 7의 52A)은 데이터라인(20)과 대응되도록 하며, 제2투과영역(도 7의 52B)은 화소전극(31)이 형성될 영역과 대응되도록 위치시킨다.The exposure mask 50 as described above is prepared and placed on the back surface of the substrate 1 as shown in FIG. In this case, the non-transmissive region 51 corresponds to a region between the data line 20 and the region where the pixel electrode 31 is to be formed, and the first transmissive region 52A of FIG. 7 corresponds to the data line 20. The second transmission area 52B of FIG. 7 is positioned to correspond to the area where the pixel electrode 31 is to be formed.

그리고, 자외선을 하부로부터 조사하여 네거티브타입 포토레지스트(40)를 노광한다.Ultraviolet rays are irradiated from below to expose the negative photoresist 40.

이를 통해, 제1투과영역(52A)과 제2투과영역(52B)은 개방되어 있으므로 이와 대응되는 영역의 네거티브타입 포토레지스트(40)는 노광되고, 비투과영역(51)은 차폐되어 있으므로 이와 대응되는 영역인 데이터라인(20)의 각각의 단부와 인접한 화소전극(31)의 단부 사이의 영역은 노광되지 않는다.As a result, since the first transmission region 52A and the second transmission region 52B are open, the negative photoresist 40 of the corresponding region is exposed, and the non-transmissive region 51 is shielded so that the corresponding Of the pixel electrode 31 adjacent to each end of the data line 20 as an area. The area between the ends is not exposed.

이때, 데이터라인(20)이 형성된 영역은 데이터라인(20)에 의해 차폐된 것과 동일해져 데이터라인(20)의 상부에 위치하는 네거티브타입 포토레지스트(40)도 노광이 되지 않는다.In this case, the area where the data line 20 is formed is the same as that of the shielded by the data line 20 so that the negative type photoresist 40 positioned on the data line 20 is not exposed.

결과적으로, 데이터라인(20)의 상부의 네거티브타입 포토레지스트(40)는 노광되지 않고, 데이터라인(20)에서 결함(A)이 발생된 부분의 네거티브타입 포토레지스트(40)는 노광된다.As a result, the negative type photoresist 40 on the upper portion of the data line 20 is not exposed, and the negative type photoresist 40 of the portion where the defect A is generated in the data line 20 is exposed.

이어, 현상공정을 통해 노광된 영역의 네거티브타입 포토레지스트(40)만 잔류하도록 식각마스크(41)를 형성한 후, 도 9에서와 같이, 식각마스크(41)를 마스크로 하여 투명 구동전극 형성물질(30)에 의해 형성된 투명도전막을 식각하여 화소전극(31)을 형성한다.Subsequently, the etching mask 41 is formed such that only the negative photoresist 40 in the exposed region is left through the developing process, and as shown in FIG. 9, the transparent driving electrode forming material using the etching mask 41 as a mask. The transparent conductive film formed by 30 is etched to form the pixel electrode 31.

이때, 데이터라인(20)에 단선된 결함영역(A)이 있는 경우, 도 10 및 도 11에서와 같이, 해당 결함영역(A)을 충진하는 투명도전막이 패터닝된 리페어패턴(32)이 형성되어 결함영역(A)이 리페어될 수 있다.In this case, when the defective region A is disconnected from the data line 20, as illustrated in FIGS. 10 and 11, the repair pattern 32 in which the transparent conductive film filling the defective region A is patterned is formed. The defective area A may be repaired.

다음으로 본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시장치의 리페어방법 및 이를 이용한 액정표시장치에 대하여 설명한다.Next, a repair method of a liquid crystal display device and a liquid crystal display device using the same according to a second embodiment of the present invention will be described.

제2실시예에서는 신호배선인 게이트라인과 투명 구동전극인 공통전극이 동일층에 형성하는 경우에 대해 설명한다.In the second embodiment, a description will be given of the case where the gate line serving as the signal wiring and the common electrode serving as the transparent driving electrode are formed on the same layer.

기판 상에 게이트라인을 형성한 후, 게이트라인에서 결함이 발생하면 상술한 바와 같이 게이트라인과 공통전극 사이영역과 대응되는 영역은 차폐되고, 공통전극 및 게이트라인과 대응되는 영역은 개방된 노광마스크를 준비한다.After the gate line is formed on the substrate, if a defect occurs in the gate line, as described above, the region corresponding to the region between the gate line and the common electrode is shielded, and the region corresponding to the common electrode and the gate line is opened an exposure mask. Prepare.

그리고, 제1실시예에서와 같은 방법으로, 기판 상에 네거티브타입 포토레지스트를 도포하고, 노광마스크를 기판의 하부에 위치시키되 비투과영역은 게이트라인과 공통전극이 형성될 영역의 사이영역과 대응되도록 위치시킨다.Then, in the same manner as in the first embodiment, a negative photoresist is applied on the substrate, and the exposure mask is positioned below the substrate, but the non-transmissive region corresponds to the region between the gate line and the region where the common electrode is to be formed. Position it.

이어, 기판의 하부로부터 상향으로 광을 조사(노광)하고, 현상 공정 및 식각 공정을 통해 공통전극을 형성함과 동시에 게이트라인의 결함부분에 공통전극과 동일한 물질의 리페어패턴이 형성될 수 있다.Subsequently, light is irradiated (exposured) upward from the bottom of the substrate, and a common electrode is formed through a developing process and an etching process, and a repair pattern of the same material as that of the common electrode may be formed at a defective portion of the gate line.

상기와 같은 방법으로, 신호배선과 투명 구동전극을 동일층에 형성하는 경우에 투명 구동전극을 형성하는 공정을 이용하여 신호배선을 리페어할 수 있다.In the same manner as described above, when the signal wiring and the transparent driving electrode are formed on the same layer, the signal wiring can be repaired by using a process of forming the transparent driving electrode.

이와 같은 리페어방법을 이용하면, 투명 구동전극 형성시 신호배선의 결함을 동시에 리페어할 수 있어 리페어를 위한 별도의 공정이 불필요하여 제조공정상 제조비용을 절감할 수 있다.By using such a repair method, defects in the signal wiring can be repaired at the same time when the transparent driving electrode is formed, so that a separate process for repair is unnecessary and manufacturing cost in the manufacturing process can be reduced.

아울러, 신호배선의 단선영역만을 정확하게 리페어함으로써 화소영역에 형성되는 투명 구동전극과의 쇼트현상 방지 및 단차증가의 방지로 인한 빛샘방지까지 할 수 있게 된다.In addition, by accurately repairing only the disconnection region of the signal wiring, it is possible to prevent light leakage due to prevention of short-circuit with the transparent driving electrode formed in the pixel region and prevention of increase of the step difference.

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.The scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, but may be embodied in various forms of embodiments within the scope of the appended claims. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention as defined by the appended claims.

※도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명※
10 : 게이트라인 11 : 게이트라인 절연막
20 : 데이터라인 30 : 화소전극 형성물질
31 : 화소전극 32 : 리페어패턴 [Description of Reference Numerals]
10 gate line 11 gate line insulating film
20: data line 30: pixel electrode forming material
31 pixel electrode 32 repair pattern

Claims (5)

기판 상에 형성되는 다수의 신호배선과, 상기 다수의 신호배선의 교차배열에 의해 정의되는 다수의 화소영역을 포함하는 액정표시장치에 있어서,
상기 신호배선 중 단선된 결함영역을 가지는 신호배선;
상기 신호배선과 동일층에 형성되는 투명 구동전극;
상기 투명 구동전극과 동일 재질로 상기 투명 구동전극과 동시에 형성되며, 상기 결함영역에만 충진되어 상기 단선된 결함영역을 가지는 신호배선을 리페어하는 리페어 패턴;을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.A liquid crystal display device comprising a plurality of signal wirings formed on a substrate and a plurality of pixel regions defined by the cross arrangement of the plurality of signal wirings.
A signal wiring having a defective region disconnected among the signal wirings;
A transparent driving electrode formed on the same layer as the signal line;
And a repair pattern which is formed of the same material as the transparent driving electrode and simultaneously with the transparent driving electrode, and repairs a signal wiring filled in only the defective area and having the disconnected defective area. 제 1항에 있어서,
상기 리페어 패턴은,
상기 단선된 결함영역을 가진 신호배선이 형성된 기판 상에 투명도전막 및 네거티브타입 포토레지스트가 순차적으로 적층되고,
상기 신호배선 및 상기 투명 구동전극과 대응되는 영역은 투과영역으로 구획되고, 나머지 영역은 비투과영역으로 구획되는 노광마스크를 이용하여,
상기 결함영역에 위치하는 상기 네거티브타입 포토레지스트가 노광되도록 상기 기판의 배면에서 상기 네거티브타입 포토레지스트를 노광한 후, 현상하여 형성된 식각마스크를 통해 상기 투명도전막을 패터닝하여 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The method of claim 1,
The repair pattern is,
The transparent conductive film and the negative type photoresist are sequentially stacked on the substrate on which the signal wiring having the disconnected defect area is formed,
An area corresponding to the signal line and the transparent driving electrode is divided into a transmissive area, and the remaining area is divided into a non-transmissive area by using an exposure mask.
And forming the transparent conductive film by exposing the negative type photoresist on the back surface of the substrate so that the negative type photoresist positioned in the defect region is exposed and then developing and patterning the transparent conductive film. Device. 제 1항에 있어서,
상기 신호배선이 데이터라인인 경우에는 상기 투명 구동전극이 화소전극이고, 상기 신호배선이 게이트라인인 경우에는 상기 투명 구동전극이 공통전극인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The method of claim 1,
The transparent driving electrode is a pixel electrode when the signal line is a data line, and the transparent driving electrode is a common electrode when the signal line is a gate line. 액정표시장치의 리페어방법에 있어서,
기판 상에 일정간격으로 신호배선을 패터닝하는 단계;
상기 신호배선이 형성된 기판 상에 투명 구동전극 형성을 위한 투명도전막을 성막하는 단계;
상기 투명도전막이 형성된 기판 상에 네거티브타입 포토레지스트를 도포하는 단계;
상기 신호배선이 형성된 영역 및 상기 투명 구동전극이 형성될 영역은 투과영역으로 구획되고, 나머지 영역은 비투과영역으로 구획되는 노광마스크를 이용하여 배면에서 노광한 후, 현상하여 상기 투명 구동전극이 형성될 영역에 식각마스크를 형성하되, 상기 신호배선에 단선된 결함영역이 있는 경우, 상기 신호배선의 단선된 결함영역에도 식각마스크를 동시에 형성하는 단계; 및,
상기 식각마스크를 마스크로 하여 상기 투명도전막을 식각하여, 상기 투명 구동전극이 형성될 영역에는 투명 구동전극을 형성하고, 상기 신호배선이 형성된 영역 중 상기 신호배선의 단선된 결함영역만을 충진하여 리페어되도록 하는 리페어패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어방법.In the repair method of the liquid crystal display device,
Patterning the signal wiring on the substrate at a predetermined interval;
Depositing a transparent conductive film for forming a transparent driving electrode on the substrate on which the signal wiring is formed;
Applying a negative photoresist on the substrate on which the transparent conductive film is formed;
The area where the signal wiring is formed and the area where the transparent driving electrode is to be formed are partitioned into a transmissive area, and the remaining area is exposed on the back using an exposure mask partitioned into a non-transmissive area, and then developed to form the transparent driving electrode. Forming an etch mask in an area, and simultaneously forming an etch mask in the disconnected defect area of the signal wire when there is a defective area in the signal wire; And
The transparent conductive film is etched using the etching mask as a mask to form a transparent driving electrode in a region where the transparent driving electrode is to be formed, and to be repaired by filling only a defective defect region of the signal wiring in the region where the signal wiring is formed. And forming a repair pattern to repair the liquid crystal display device. 제 4항에 있어서,
상기 신호배선이 데이터라인인 경우에는 상기 투명 구동전극이 화소전극이며,
상기 신호배선이 게이트라인인 경우에는 상기 투명 구동전극이 공통전극인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 리페어방법.5. The method of claim 4,
When the signal line is a data line, the transparent driving electrode is a pixel electrode.
And when the signal line is a gate line, the transparent driving electrode is a common electrode.
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