KR101373945B1 - Fast Curable Epoxy Adhesive Composition at Low Temperature and Encapsulation Method of Organic Electronic Device Using the Same - Google Patents

Fast Curable Epoxy Adhesive Composition at Low Temperature and Encapsulation Method of Organic Electronic Device Using the Same Download PDF

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Abstract

본 발명의 구현예들은 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물, 접착 필름, 이를 이용한 유기전자장치 봉지 제품, 및 유기전자장치의 봉지 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 에폭시 수지 및 잠재성 경화제를 포함하고, 70℃의 온도에서 3시간 이내의 경화도가 90% 이상이며, 유기전자장치의 봉지 또는 캡슐화에 사용되는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물로서, 저온 속경화 특성을 제공함으로써 유기전자장치의 봉지 시 발생할 수 있는 불량을 최소화한 유기전자장치의 봉지 방법을 제공한다.Embodiments of the present invention relate to a low-temperature fast curing type epoxy adhesive composition, an adhesive film, an organic electronic device encapsulation product, and a method for encapsulating an organic electronic device, more specifically comprising an epoxy resin and a latent curing agent, 70 It is a low-temperature fast curing type epoxy adhesive composition that is used for encapsulation or encapsulation of organic electronic devices with a degree of curing of 90% or more at a temperature of 3 ° C. or more. A defect that may occur during encapsulation of organic electronic devices by providing low temperature fast curing properties. It provides a method of encapsulating an organic electronic device minimized.

Description

저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물 및 이를 이용한 유기전자장치의 봉지 방법 {Fast Curable Epoxy Adhesive Composition at Low Temperature and Encapsulation Method of Organic Electronic Device Using the Same}Fast Curable Epoxy Adhesive Composition at Low Temperature and Encapsulation Method of Organic Electronic Device Using the Same}

본 발명의 구현예들은 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물 및 이를 이용한 유기전자장치의 봉지 방법에 관한 것이다.
Embodiments of the present invention are directed to a method for encapsulating a low temperature fast curing type epoxy adhesive composition and an organic electronic device using the same.

유기전자장치(OED; organic electronic device)는 정공 및 전자를 이용하여 전하의 교류를 발생하는 유기 재료층을 포함하는 장치를 의미하며, 그 예로는, 광전지 장치(photovoltaic device), 정류기(rectifier), 트랜스미터(transmitter) 및 유기발광다이오드(OLED; organic light emitting diode) 등을 들 수 있다.An organic electronic device (OED) refers to an apparatus that includes an organic material layer that generates holes and electrons to generate an alternating current. Examples thereof include a photovoltaic device, a rectifier, A transmitter and an organic light emitting diode (OLED).

상기 유기전자장치 중 유기발광다이오드(OLED: Organic Light Emitting Didoe)는 기존 광원에 비하여, 전력 소모량이 적고, 응답 속도가 빠르며, 표시장치 또는 조명의 박형화에 유리하다. 또한, OLED는 공간 활용성이 우수하여, 각종 휴대용 기기, 모니터, 노트북 및 TV에 걸친 다양한 분야에서 적용될 것으로 기대되고 있다.Organic light emitting diodes (OLEDs) among the organic electronic devices have lower power consumption, faster response speed, and are advantageous for thinning display devices or illumination. In addition, OLEDs are expected to be applied in various fields covering various portable devices, monitors, notebooks, and televisions because of their excellent space utilization.

OLED의 상용화 및 용도 확대에 있어서, 가장 주요한 문제점은 내구성 문제이다. OLED에 포함된 유기재료 및 금속 전극 등은 수분 등의 외부적 요인에 의해 매우 쉽게 산화된다. 따라서, OLED를 포함하는 제품은 환경적 요인에 크게 민감하다. 이에 따라 OLED 등과 같은 유기전자장치에 대한 외부로부터의 산소 또는 수분 등의 침투를 효과적으로 차단하기 위하여 다양한 방법이 제안되어 있다.In commercialization of OLEDs and expansion of applications, the main problem is durability. Organic materials and metal electrodes contained in OLEDs are very easily oxidized by external factors such as moisture. Thus, products containing OLEDs are highly sensitive to environmental factors. Accordingly, various methods have been proposed to effectively block penetration of oxygen or moisture from the outside into organic electronic devices such as OLEDs.

유기전자장치의 대형화 및 박형화에 부응함과 동시에, 보다 간편한 공정으로 유기전자장치를 봉지하여 구조적 이점을 제공할 수 있으면서도, 수분의 침투를 효과적으로 차단하고 유기전자장치의 손상을 줄일 수 있는 봉지재는 여전히 요구된다.
In addition to increasing the size and thickness of organic electronic devices, encapsulation materials that can effectively block the penetration of moisture and reduce damage to organic electronic devices can be provided while encapsulating organic electronic devices in a simpler process to provide structural advantages. Required.

본 발명의 구현예들은 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물, 접착 필름, 이를 이용한 유기전자장치 봉지 제품, 및 유기전자장치의 봉지 방법을 제공한다.
Embodiments of the present invention provide a low temperature fast curing type epoxy adhesive composition, an adhesive film, an organic electronic device encapsulation product using the same, and a method of encapsulating an organic electronic device.

본 발명의 일구현예는 경화 상태에서 투습도가 20 g/m2·day 이하인 에폭시 수지 및 잠재성 경화제를 포함하고, 70℃의 온도에서 3시간 이내의 경화도가 90% 이상이며, 유기전자장치(OED; organic electronic device)의 봉지 또는 캡슐화에 사용되는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물을 제공한다.One embodiment of the present invention includes an epoxy resin and a latent curing agent having a water vapor transmission rate of 20 g / m 2 · day or less in a cured state, and a curing degree of 90% or more within 3 hours at a temperature of 70 ° C. It provides a low temperature fast curing epoxy adhesive composition used for encapsulation or encapsulation of an organic electronic device (OED).

본 발명의 다른 구현예는 유기전자장치를 봉지하는 접착 필름으로서, 상기 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물을 포함하는 접착제층을 가지는 접착 필름을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides an adhesive film encapsulating an organic electronic device, the adhesive film having an adhesive layer comprising the low temperature rapid curing epoxy adhesive composition.

또한, 본 발명의 또 다른 구현예는 기판; 상기 기판 상에 형성된 유기전자장치; 및 상기 유기전자장치의 전면을 커버하도록 유기전자장치를 봉지하는 상기 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물의 경화물을 포함하는 접착 필름을 가지는 유기전자장치 봉지 제품을 제공한다.In addition, another embodiment of the present invention is a substrate; An organic electronic device formed on the substrate; And an adhesive film comprising a cured product of the low temperature fast curing type epoxy adhesive composition encapsulating the organic electronic device so as to cover the entire surface of the organic electronic device.

또한, 본 발명은 상부에 유기전자장치가 형성된 기판에 상기 접착 필름을, 상기 접착 필름의 접착제층이 상기 유기전자장치의 전면을 커버하도록 적용하는 단계; 및 상기 접착제층을 경화하는 단계를 포함하는 유기전자장치의 봉지 방법을 제공한다.
In addition, the present invention comprises the steps of applying the adhesive film on the substrate on which the organic electronic device is formed, the adhesive layer of the adhesive film to cover the entire surface of the organic electronic device; And it provides a method of encapsulating an organic electronic device comprising the step of curing the adhesive layer.

본 발명의 구현예들은 반응성이 빠른 에폭시 수지 및 종래 경화제에 비하여 상대적으로 저온인 70℃에서도 속경화를 진행하되, 상온에서는 반응속도가 느린 잠재성 경화제를 포함함으로써 유기전자장치의 캡슐화에 적용 시 접착 필름의 경화 시 발생하는 층간 열팽창계수 차이 및 접착 필름 수축에 의한 열응력을 감소시켜 유기전자장치에서 발생할 수 있는 컬링(Curling) 불량을 최소화할 수 있다. 또한, 상온에서 필름 형태의 접착 필름으로 유기전자장치를 캡슐화함으로써 액상 접착제에 비하여 유기전자장치의 수명 및 내구성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 접착 필름은 유기전자장치의 상·하부 기판을 지지 및 고정할 수 있는 구조적 이점을 제공함으로써 유기전자장치 봉지방법의 단순화 및 비용 절감이 가능하게 한다.
Embodiments of the present invention are fast curing at 70 ℃, a relatively low temperature compared to the epoxy resin and a fast curing agent, but a latent curing agent at a slow temperature at room temperature, including the latent curing agent when applied to the encapsulation of the organic electronic device It is possible to minimize curling defects that may occur in the organic electronic device by reducing the thermal expansion due to the difference in the coefficient of thermal expansion and the shrinkage of the adhesive film generated during curing of the film. In addition, by encapsulating the organic electronic device in a film-type adhesive film at room temperature, it is possible to improve the life and durability of the organic electronic device compared to the liquid adhesive. In addition, the adhesive film provides a structural advantage of supporting and fixing the upper and lower substrates of the organic electronic device, thereby simplifying the organic electronic device sealing method and reducing the cost.

도 1 및 2는 본 발명의 하나의 예시에 따른 접착 필름을 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 하나의 예시에 따른 유기전자장치의 봉지 제품을 나타내는 단면도이다.
1 and 2 are cross-sectional views showing an adhesive film according to one example of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing an encapsulation product of an organic electronic device according to one example of the present invention.

이하에서 첨부하는 도면을 참조하여 본 발명의 구현예들을 보다 구체적으로 설명하기로 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지의 범용적인 기능 또는 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다. 또한, 첨부되는 도면은 본 발명의 이해를 돕기 위한 개략적인 것으로 본 발명을 보다 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었고, 도면에 표시된 두께, 크기, 비율 등에 의해 본 발명의 범위가 제한되지 아니한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known general functions or configurations will be omitted. In addition, the accompanying drawings are schematic for the purpose of better understanding of the present invention, and in order to more clearly describe the present invention, parts irrelevant to the description are omitted. It is shown, and the scope of the present invention is not limited by the thickness, size, ratio and the like shown in the drawings.

본 발명의 일구현예에 따른 에폭시 접착제 조성물은 유기전자장치의 봉지 또는 캡슐화에 사용되며, 에폭시 수지 및 잠재성 경화제를 포함하고, 저온 속경화 특성을 가지는 것을 특징으로 한다. 구체적으로 반응성이 빠른 에폭시 수지와 종래 경화제에 비하여 상대적으로 저온인 70℃ 내지 90℃에서도 속경화를 진행하되, 상온에서는 반응속도가 느린 잠재성 경화제를 사용함으로써 기존의 경화 온도가 100℃ 이상인 열경화형 에폭시 접착제 조성물과 달리 상대적으로 저온인 70℃의 온도에서 3시간 이내에 경화도 90%를 달성할 수 있다.The epoxy adhesive composition according to one embodiment of the present invention is used for encapsulation or encapsulation of an organic electronic device, and includes an epoxy resin and a latent curing agent, and has low temperature fast curing properties. Specifically, rapid curing is performed at 70 ° C. to 90 ° C., which is relatively low temperature, compared to the epoxy resin and the conventional curing agent. However, at room temperature, a latent curing agent having a slow reaction rate is used. Unlike the epoxy adhesive composition, a degree of curing of 90% can be achieved within 3 hours at a relatively low temperature of 70 ° C.

본 발명의 발명자는 유기전자장치가 유리 기판을 사용하는 경우와 달리 플라스틱 기판을 사용하는 경우에는 기존의 유기전자장치의 봉지 방법에 의하면 컬링(Curling) 불량이 발생하는 문제점이 있음을 인식하였다. 유기전자장치의 봉지 시 발생할 수 있는 컬링 현상은 플라스틱 기판이 불규칙하게 말리게 되면서 유기전자장치 제조 공정성 불량을 야기하는 현상으로 예를 들면, 컬링에 의해 유기전자장치의 자동 이송이 불가능하거나 컴퓨터 및 카메라를 사용하여 유기전자장치의 위치를 파악하고, 수치를 인식하여 다음 공정을 준비하기 위한 자동 비쥬얼 인식이 안되거나 구동 칩 부착 시 문제를 일으킨다. 종래의 유기전자장치의 봉지를 위한 접착 필름은 100℃ 이상의 온도에서 경화를 필요로 하는바, 이때 발생하는 층간 열팽창계수 차이 및 경화에 따른 접착 필름의 수축에 의한 열응력에 의하여 상기와 같은 문제가 발생하게 된다.The inventors of the present invention have recognized that there is a problem in that curling is poor according to the conventional encapsulation method of the organic electronic device when the organic electronic device uses the plastic substrate, unlike when the organic electronic device uses the glass substrate. Curing phenomena that can occur when the organic electronic device is encapsulated are irregular plastic curls, which causes poor manufacturing process of the organic electronic device. For example, curling is impossible to automatically transfer the organic electronic device, or computers and cameras. Using the to locate the organic electronic device, to recognize the numerical value of the automatic visual recognition for the preparation of the next process, or causes a problem when attaching the driving chip. The adhesive film for encapsulation of a conventional organic electronic device needs to be cured at a temperature of 100 ° C. or higher, and the above problems are caused by the difference in thermal expansion coefficient between layers and thermal stress caused by shrinkage of the adhesive film due to curing. Will occur.

따라서, 본 발명의 구현예들은 그러한 종래 접착 필름의 문제점을 해결하기 위하여 저온에서 속경화가 가능한 에폭시 접착제 조성물을 제공하여 경화 시 발생하는 층간 열팽창계수 차이 및 경화에 따른 접착 필름 수축에 의한 열응력을 감소시켜 플라스틱 기판을 사용하는 유기전자장치에서 발생할 수 있는 컬링 불량을 최소화한다.Accordingly, embodiments of the present invention provide an epoxy adhesive composition that can be hardened at a low temperature in order to solve the problems of such a conventional adhesive film to overcome the thermal stress due to the shrinkage of the adhesive film due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the curing and the curing. This minimizes curling defects that can occur in organic electronic devices using plastic substrates.

본 명세서에서, 용어 「유기전자장치」는 서로 대향하는 한 쌍의 전극 사이에 정공 및 전자를 이용하여 전하의 교류를 발생하는 유기재료층을 포함하는 구조를 갖는 물품 또는 장치를 의미하며, 그 예로는, 광전지 장치, 정류기, 트랜스미터 및 유기발광다이오드(OLED) 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 본 발명의 하나의 예시에서 상기 유기전자장치는 OLED일 수 있다.As used herein, the term " organic electronic device " refers to an article or apparatus having a structure including an organic material layer that generates alternating electric charges using holes and electrons between a pair of electrodes facing each other, But are not limited to, photovoltaic devices, rectifiers, transmitters, and organic light emitting diodes (OLEDs). In one example of the present invention, the organic electronic device may be an OLED.

상기 에폭시 접착제 조성물은 경화성 핫멜트형 접착제 조성물일 수 있다. 상기 경화성 핫멜트형 접착제 조성물은 상온에서는 고상(solid) 또는 반 고상(semi-solid)의 상태를 유지하고, 열을 가하면 흐름성이 생겨 기포 없이 평판을 부착시킬 수 있으며, 경화되면 접착제로서 대상물을 단단하게 고정시킬 수 있는 형태의 접착제 조성물을 의미한다. 본 발명의 구현예들에 의한 조성물은 상온에서의 점도가 106 dyne·sec/cm2 이상, 또는 107 dyne·sec/cm2 이상일 수 있다. 용어「상온」은 가온 또는 감온되지 않은 자연 그대로의 온도를 의미하고, 예를 들면, 약 15℃ 내지 35℃, 보다 구체적으로는 약 20℃ 내지 25℃, 더욱 구체적으로는 약 25℃의 온도를 의미할 수 있다. 상기 점도는, ARES(Advanced Rheometric Expansion System)을 사용하여 측정할 수 있다. 접착제 조성물의 점도를 상기 범위로 조절하여, 유기전자장치의 봉지 과정에서, 작업의 공정성이 원활하며 균일한 두께로 평판의 봉지가 가능하다. 또한 수지의 경화 등에 의하여 발생될 수 있는 수축 및 휘발 가스 등의 문제를 대폭 축소시켜, 유기전자장치에 물리적 또는 화학적 손상이 가해지는 것을 방지할 수 있다. 상기 접착제가 상온에서 고상 또는 반 고상의 상태를 유지하는 한, 상기 점도의 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 공정성 등을 고려하여, 약 109 dyne·sec/cm2 이하의 범위에서 제어할 수 있다.The epoxy adhesive composition may be a curable hot melt adhesive composition. The curable hot-melt adhesive composition maintains a solid or semi-solid state at room temperature, and when applied with heat, fluidity can be adhered to the flat plate without bubbles. It means the adhesive composition of the form that can be fixed. Compositions according to embodiments of the present invention may have a viscosity at room temperature of 10 6 dyne sec / cm 2 or more, or 10 7 dyne sec / cm 2 or more. The term "room temperature" means a natural temperature that is not warmed or reduced, for example, about 15 ° C to 35 ° C, more specifically about 20 ° C to 25 ° C, and more specifically about 25 ° C. Can mean. The viscosity can be measured using an Advanced Rheological Expansion System (ARES). By adjusting the viscosity of the adhesive composition in the above range, in the process of encapsulation of the organic electronic device, it is possible to encapsulate the flat plate with smooth process uniformity and uniform thickness. Further, problems such as shrinkage and volatile gas which may be generated by hardening of the resin and the like can be greatly reduced, and physical or chemical damage to the organic electronic device can be prevented. As long as the adhesive maintains a solid or semi-solid state at room temperature, the upper limit of the viscosity is not particularly limited, and is controlled in the range of about 10 9 dynesec / cm 2 or less, for example, in consideration of processability and the like. can do.

상기 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물은 저온 속경화 특성과 함께 상온에서의 안정성을 동시에 가진다. 저온 속경화 특성이란 낮은 가열 온도에서도 빠르게 경화하는 성질을 의미하는 것으로, 여기서 말하는 저온이란 70℃ 내지 90℃로, 일반적인 열경화성 접착제가 경화되는 온도인 100℃ 내지 200℃ 보다 낮은 온도로 유기전자장치나 플라스틱 기판 등에 경화 단계에서 열화로 인한 문제를 일으키지 않고도 경화가 가능하게 하는 것이다. 본 발명의 구현예들에 의한 에폭시 접착제 조성물은 상기와 같은 저온 속경화 특성 뿐만 아니라 상온에서의 안정성도 동시에 가지는 것이 좋다. 즉, 상온에서는 반응성이 낮아서 안정한 상태로 유지되어야 하므로 본 발명의 구현예들에 의한 에폭시 접착제 조성물에 있어서 잠재성 경화제를 사용하는 것이 바람직하며, 추가로 상온 경화지연제 등을 사용할 수도 있다. 본 발명의 구현예들에서 상온안정성은 상온에서 3일 후의 점도 증가율이 10%, 또는 5% 이내임을 의미하며, 그 하한은 특별히 제한되지 않으나, 0% 이상일 수 있다.The low temperature fast curing type epoxy adhesive composition has low temperature fast curing properties and stability at room temperature. The low temperature fast curing property refers to a property that cures rapidly even at a low heating temperature. The low temperature is 70 ° C to 90 ° C, and the temperature is lower than 100 ° C to 200 ° C, which is a temperature at which a general thermosetting adhesive is cured. It is to enable curing without causing problems due to deterioration in the curing step, such as a plastic substrate. Epoxy adhesive composition according to embodiments of the present invention is preferably not only having the low temperature fast curing properties as described above, but also stability at room temperature. That is, it is preferable to use a latent curing agent in the epoxy adhesive composition according to the embodiments of the present invention, since it should be maintained at a stable state because the reactivity is low at room temperature, and may further use a room temperature curing retardant. Room temperature stability in embodiments of the present invention means that the viscosity increase rate after 3 days at room temperature is within 10%, or 5%, the lower limit is not particularly limited, but may be 0% or more.

본 발명의 구현예들에서 사용할 수 있는 에폭시 수지는 상기와 같은 물성을 제공할 수 있는 것이면 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어 에폭시 반응기를 두 개 이상 갖는 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 상기 두 개 이상의 에폭시 반응기를 갖는 에폭시 수지는 분자 내에 두 개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이며, 본 발명의 일 구현예에서는 두 개 이상의 에폭시 반응기를 함유하는 것으로서, 에폭시 당량이 180g/eq 내지 300g/eq인 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 상기 범위의 에폭시 당량을 가지는 에폭시 수지를 사용하여, 저온 속경화 및 상온 안정성 등의 특성을 효과적으로 유지할 수 있다. 이와 같은 에폭시 수지의 예에는, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지와 같은 비스페놀 에폭시 수지; 3 관능성 에폭시 수지, 4 관능성 에폭시 수지, 및 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 비스페놀 A형 노볼락 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지와 같은 노볼락 에폭시 수지의 일종 또는 이종 이상의 혼합을 들 수 있다.The epoxy resin that can be used in the embodiments of the present invention is not particularly limited as long as it can provide the above physical properties. For example, an epoxy resin having two or more epoxy reactors may be used. The epoxy resin having two or more epoxy reactors is a compound having two or more epoxy groups in a molecule, and in one embodiment of the present invention, which contains two or more epoxy reactors, an epoxy equivalent of 180 g / eq to 300 g / eq Epoxy resins can be used. By using an epoxy resin having an epoxy equivalent in the above range, properties such as low temperature fast curing and room temperature stability can be effectively maintained. Examples of such epoxy resins include bisphenol epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, and bisphenol S type epoxy resins; Trifunctional epoxy resin, tetrafunctional epoxy resin, and cresol novolak epoxy resin, a bisphenol A novolak epoxy resin, a kind of novolak epoxy resin such as phenol novolak epoxy resin, or a mixture of two or more kinds thereof may be mentioned.

상기 에폭시 수지로는 열경화성 또는 광경화성 수지를 사용할 수 있다. 용어 「열경화성 수지」는, 적절한 열의 인가 또는 숙성(aging) 공정을 통하여, 경화될 수 있는 수지를 의미하고, 용어 「광경화성 수지」는 전자기파의 조사에 의하여 경화될 수 있는 수지를 의미한다. 또한, 상기에서 전자기파의 범주에는 마이크로파(microwaves), 적외선(IR), 자외선(UV), X선 및 γ선은 물론, α-입자선(α-particle beam), 프로톤빔(proton beam), 뉴트론빔(neutron beam) 및 전자선(electron beam)과 같은 입자빔 등이 포함될 수 있다. 상기 광경화형 수지의 하나의 예로서는 양이온 광경화형 수지를 들 수 있다. 양이온 광경화형 수지는, 전자기파의 조사에 의해 유도된 양이온 중합 또는 양이온 경화 반응에 의해 경화될 수 있는 수지를 의미한다. 또한, 상기 에폭시 수지는 열경화와 광경화의 특성을 모두 포함하는 듀얼 경화형 수지일 수 있다.As the epoxy resin, a thermosetting or photocurable resin may be used. The term " thermosetting resin " means a resin that can be cured through an appropriate heat application or aging process, and the term " photo-curing resin " means a resin that can be cured by irradiation with electromagnetic waves. The category of electromagnetic waves includes microwaves, infrared rays (IR), ultraviolet rays (UV), X-rays and γ-rays, as well as α-particle beams, proton beams, A particle beam such as a neutron beam and an electron beam, and the like. One example of the photocurable resin is a cationic photocurable resin. The cationic photocurable resin means a resin that can be cured by cationic polymerization or cation curing reaction induced by irradiation of electromagnetic waves. In addition, the epoxy resin may be a dual curable resin that includes both thermosetting and photocuring properties.

또한, 본 발명의 구현예들에서는 상기 에폭시 수지로서, 방향족 또는 지방족; 또는 직쇄형 또는 분지쇄형의 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 예를 들어, 분자 구조 내에 환형 구조를 포함하는 에폭시 수지를 사용할 수 있으며, 구체적으로는 방향족기(예를 들어, 페닐기)를 포함하는 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 에폭시 수지가 방향족기를 포함할 경우, 경화물이 우수한 열적 및 화학적 안정성을 가지면서, 낮은 흡습량을 나타내어 유기전자장치 봉지 구조의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 본 발명의 구현예들에서 사용할 수 있는 방향족기 함유 에폭시 수지의 구체적인 예로는, 비페닐형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔 변성 페놀형 에폭시 수지, 크레졸계 에폭시 수지, 비스페놀계 에폭시 수지, 자일록계 에폭시 수지, 다관능 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 트리페놀메탄형 에폭시 수지 및 알킬 변성 트리페놀메탄 에폭시 수지 등의 일종 또는 이종 이상의 혼합일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In addition, in the embodiments of the present invention, the epoxy resin, aromatic or aliphatic; Or a linear or branched epoxy resin may be used. For example, an epoxy resin containing a cyclic structure in a molecular structure can be used, and specifically, an epoxy resin containing an aromatic group (for example, a phenyl group) can be used. When the epoxy resin contains an aromatic group, the cured product has excellent thermal and chemical stability and exhibits a low moisture absorption amount, thereby improving the reliability of the organic electronic device encapsulation structure. Specific examples of the aromatic group-containing epoxy resin that can be used in the embodiments of the present invention include a biphenyl type epoxy resin, a dicyclopentadiene type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, a dicyclopentadiene modified phenol type epoxy resin, and a cresol It may be one kind or a mixture of two or more of the epoxy resin, bisphenol epoxy resin, xylox epoxy resin, polyfunctional epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, triphenol methane-type epoxy resin and alkyl-modified triphenol methane epoxy resin, It is not limited to this.

본 발명의 구현예들에서 상기 에폭시 수지로서, 실란 변성 에폭시 수지, 예를 들어 방향족기를 가지는 실란 변성 에폭시 수지를 사용할 수도 있다. 이와 같이 실란으로 변성되어 구조적으로 실란기를 가지는 에폭시 수지를 사용할 경우, 유기전자장치의 유리 기판 또는 기판 무기재 등과의 접착성을 극대화시키고, 또한 수분 배리어성이나 내구성 및 신뢰성 등을 향상시킬 수 있다. 상기와 같은 에폭시 수지의 구체적인 종류는 특별히 제한되지 않고, 이와 같은 수지는 예를 들면, 국도 화학 등과 같은 구입처로부터 용이하게 입수할 수 있다.As the epoxy resin in the embodiments of the present invention, a silane-modified epoxy resin, for example, a silane-modified epoxy resin having an aromatic group may be used. When an epoxy resin having such a silane-modified structure and having a silane group is used, it is possible to maximize the adhesiveness with the glass substrate or the substrate inorganic material of the organic electronic device, and to improve the moisture barrier property, the durability and the reliability. The specific kind of the above epoxy resin is not particularly limited, and such a resin can be easily obtained from a place of purchase such as Kukdo Chemical.

상기 에폭시 수지는 매트릭스 수지로 경화 시 수지 간 가교(crosslinking)에 의하여 접착 및 수분 차단 특성을 나타낸다. 상기 에폭시 수지는 경화 상태에서의 투습도(WVTR; water vapor transmission rate)가 20 g/m2·day 이하, 또는 10 g/m2·day 이하일 수 있으며, 하한이 특별히 제한되는 것은 아니나, 1 g/m2·day 이상일 수 있다. 상기 용어 「경화 상태」는 경화성 수지인 에폭시 수지가 그 단독 또는 경화제 등의 다른 성분과의 반응 등을 통하여 경화 또는 가교되어, 봉지재로 적용되었을 경우에 수분 흡착제 및 필러 등의 성분을 유지하고, 구조용 접착제로서의 성능을 나타낼 수 있는 상태로 전환된 상태를 의미한다. 본 발명에서는, 상기 투습도는, 에폭시 수지를 경화시키고, 그 경화물을 두께 80 ㎛의 필름 형상으로 한 후에, 38℃ 및 100 %의 상대습도 하에서 상기 경화물의 두께 방향에 대하여 측정한 투습도이다. 상기 투습도는 ASTM F1249에 따라서 측정한다.The epoxy resin exhibits adhesion and moisture barrier properties by crosslinking between resins when cured with a matrix resin. The epoxy resin may have a water vapor transmission rate (WVTR) in a cured state of 20 g / m 2 · day or less, or 10 g / m 2 · day or less, and the lower limit thereof is not particularly limited, but 1 g / It may be m 2 · day or more. The term "cured state" refers to a curable resin, when the epoxy resin is cured or crosslinked alone or through reaction with other components such as a curing agent or the like, and is used as an encapsulant to hold components such as moisture adsorbents and fillers, It means the state converted to the state which can exhibit the performance as a structural adhesive. In this invention, the said water vapor transmission rate is the water vapor transmission rate measured with respect to the thickness direction of the said hardened | cured material under 38 degreeC and 100% of relative humidity, after hardening an epoxy resin and making the hardened | cured material into the film form of thickness 80micrometer. The water vapor transmission rate is measured according to ASTM F1249.

투습도를 상기 범위로 제어하여, 유기전자장치 봉지 제품으로의 수분, 습기 또는 산소 등의 침투를 효과적으로 억제할 수 있다.By controlling the moisture permeability within the above range, it is possible to effectively suppress the penetration of moisture, moisture or oxygen into the organic electronic device encapsulation product.

본 발명에서, 수지의 경화 상태에서의 투습도는 그 수치가 낮을수록 봉지 구조가 우수한 성능을 나타내는 것으로 그 하한은 특별히 제한되지 않는다.In the present invention, the moisture permeability in the cured state of the resin is such that the lower the numerical value, the better the sealing structure is. The lower limit is not particularly limited.

본 발명의 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물은 상기 에폭시 수지와 반응하여 가교 구조 등과 같은 매트릭스를 형성할 수 있는 경화제를 포함하며, 그러한 경화제로는 저온에서 경화반응을 진행할 수 있는 잠재성 경화제를 사용할 수 있다.The low temperature fast curing type epoxy adhesive composition of the present invention includes a curing agent capable of reacting with the epoxy resin to form a matrix such as a crosslinked structure, and such a curing agent may use a latent curing agent capable of performing a curing reaction at a low temperature. .

본 발명의 구현예들에서는 상기 잠재성 경화제로 이미다졸과 에폭시의 부가반응물(adduct)과 같은 부가반응물을 단독으로 사용하거나, 액상의 이미다졸계 경화제 또는 용제에 용해성을 가지는 이미다졸계 경화제를 상온 경화지연제와 병용하여 사용할 수 있다.In the embodiments of the present invention, as the latent curing agent, an addition reactant such as an adduct of imidazole and epoxy may be used alone, or an imidazole curing agent having a solubility in a liquid imidazole curing agent or a solvent at room temperature. It can be used in combination with a curing retardant.

상기 잠재성 경화제는 상기 에폭시 수지와 반응하여 경화 반응을 진행할 수 있으며, 70℃에서의 경화 시간이 3시간 이하이며, 상온 안정성이 3일 이상으로, 저온 속경화 특성 및 상온 안정성 특성을 모두 제공할 수 있다.The latent curing agent may proceed with the curing reaction by reacting with the epoxy resin, the curing time at 70 ℃ 3 hours or less, room temperature stability of 3 days or more, to provide both low temperature fast curing properties and room temperature stability characteristics Can be.

상기 이미다졸과 에폭시의 부가반응물은 잠재성 경화제로서, 이미다졸계 화합물과 에폭시 수지를 반응시킴으로써 고분자량화한 화합물로, 일반적으로 에폭시 수지에 대한 상온에서의 용해도가 낮아 잠재성을 나타내게 된다. 이러한 잠재성 경화제의 경우, 조성물 내의 수분량이 많아지면 보존 안정성이 저하되므로, 상기 에폭시 수지 조성물의 취급에 대한 주의가 요구된다. 상기 부가반응물은 에폭시 수지 이외에도 아크릴로니트릴, 산화에틸렌 등을 이미다졸 또는 아민 화합물에 부가하여 사용할 수도 있다.The addition reactant of the imidazole and the epoxy is a latent curing agent, a compound obtained by high molecular weight by reacting an imidazole compound and an epoxy resin, and generally exhibits a low solubility at room temperature in an epoxy resin. In the case of such a latent hardener, when the amount of moisture in the composition increases, preservation stability decreases, so attention to handling of the epoxy resin composition is required. In addition to the epoxy resin, the addition reaction product may be used by adding acrylonitrile, ethylene oxide, or the like to an imidazole or amine compound.

본 발명의 다른 구현예에서는 상기와 달리 일반적인 열경화성 경화제를 사용하는 경우에는 반드시 상온 경화지연제를 병용하여 사용함으로써 저온 속경화와 상온 안정성의 특성을 동시에 갖는 에폭시 수지 조성물을 제공할 수 있다. 이러한 열경화성 경화제의 예로는 각종 아민계 화합물, 이미다졸계 화합물, 페놀계 화합물, 인계 화합물 또는 산무수물계 화합물 등의 일종 또는 이종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.According to another embodiment of the present invention, when using a general thermosetting curing agent, by using a room temperature curing retardant in combination, it is possible to provide an epoxy resin composition having both low temperature rapid curing and room temperature stability at the same time. Examples of such a thermosetting curing agent may be one kind or two or more kinds of various amine compounds, imidazole compounds, phenol compounds, phosphorus compounds, or acid anhydride compounds, but are not limited thereto.

상기 상온 경화지연제로는 예를 들면 붕산, 페닐붕산, 살리실릭산, 염산, 황산, 옥삼산, 테트라프탈릭산, 이소프탈릭산, 인산, 아세트산, 및 락트산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 종 이상을 사용할 수 있다. As the room temperature curing retardant, for example, at least one selected from the group consisting of boric acid, phenylboric acid, salicylic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, oxamic acid, tetraphthalic acid, isophthalic acid, phosphoric acid, acetic acid, and lactic acid Can be used.

상기 잠재성 경화제는 상기 에폭시 수지 100 중량부를 기준으로 5 내지 30 중량부로 포함될 수 있으며, 상기 잠재성 경화제의 함량을 상기 범위로 제어함으로써 경화 속도를 조절하고 경화 수지의 Tg를 제어할 수 있다.The latent curing agent may be included in 5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin, by controlling the content of the latent curing agent in the above range can adjust the curing rate and control the Tg of the cured resin.

상기 상온 경화지연제를 병용하는 경우에 상기 상온 경화지연제는 상기 에폭시 수지 100 중량부를 기준으로 5 내지 20 중량부로 포함될 수 있으며, 상기 범위로 사용함으로써 저장안정성 및 경화 속도 조절이 가능하다.When the room temperature curing retardant is used in combination, the room temperature curing retardant may be included in an amount of 5 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin, and storage stability and curing rate may be controlled by using the above range.

본 명세서에서는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 단위 「중량부」는 각 성분간의 중량 비율을 의미한다.In the present specification, unless otherwise specified, the unit " weight part " means a weight ratio between the respective components.

본 발명의 접착제 조성물은 상기 에폭시 수지 및 잠재성 경화제 외에 수분 흡착제를 추가로 포함할 수 있다. 용어 「수분 흡착제」는 수분과 화학적 반응 등을 통해, 외부로부터 유입되는 수분 또는 습기를 흡착 또는 제거할 수 있는 성분을 총칭하는 의미로 사용될 수 있으며, 수분 반응성 흡착제라고도 한다.The adhesive composition of the present invention may further include a moisture adsorbent in addition to the epoxy resin and the latent curing agent. The term " moisture adsorbent " can be used to collectively refer to components capable of adsorbing or removing moisture or moisture introduced from the outside through moisture and chemical reaction, and is also referred to as a moisture-reactive adsorbent.

상기 수분 반응성 흡착제는 접착제층 내부로 유입된 습기, 수분 또는 산소 등과 화학적으로 반응하여 수분 또는 습기를 흡착한다. 본 발명의 구현예들에서 사용할 수 있는 수분 흡착제의 구체적인 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 수분 반응성 흡착제의 경우, 알루미나 등의 금속분말, 금속산화물, 유기금속산화물, 금속염 또는 오산화인(P2O5) 등의 1종 또는 2종 이상의 혼합물을 들 수 있고, 물리적 흡착제의 경우, 실리카, 제올라이트, 티타니아, 지르코니아 또는 몬모릴로나이트 등을 들 수 있다.The moisture reactive adsorbent chemically reacts with moisture, moisture, or oxygen introduced into the adhesive layer to adsorb moisture or moisture. The specific kind of moisture adsorbent that can be used in the embodiments of the present invention is not particularly limited. For example, in the case of the water reactive adsorbent, metal powder such as alumina, metal oxide, organometal oxide, metal salt or phosphorus pentoxide (P 2 O 5) may be mentioned one kind or as mixtures of two or more thereof, such as, there may be mentioned the case of the physical adsorbent, silica, zeolite, titania, zirconia, montmorillonite or the like.

상기에서 금속산화물의 구체적인 예로는, 산화리튬(Li2O), 산화나트륨(Na2O), 산화바륨(BaO), 산화칼슘(CaO) 또는 산화마그네슘(MgO) 등을 들 수 있고, 금속염의 예로는, 황산리튬(Li2SO4), 황산나트륨(Na2SO4), 황산칼슘(CaSO4), 황산마그네슘(MgSO4), 황산코발트(CoSO4), 황산갈륨(Ga2(SO4)3), 황산티탄(Ti(SO4)2) 또는 황산니켈(NiSO4) 등과 같은 황산염, 염화칼슘(CaCl2), 염화마그네슘(MgCl2), 염화스트론튬(SrCl2), 염화이트륨(YCl3), 염화구리(CuCl2), 불화세슘(CsF), 불화탄탈륨(TaF5), 불화니오븀(NbF5), 브롬화리튬(LiBr), 브롬화칼슘(CaBr2), 브롬화세슘(CeBr3), 브롬화셀레늄(SeBr4), 브롬화바나듐(VBr3), 브롬화마그네슘(MgBr2), 요오드화바륨(BaI2) 또는 요오드화마그네슘(MgI2) 등과 같은 금속할로겐화물; 또는 과염소산바륨(Ba(ClO4)2) 또는 과염소산마그네슘(Mg(ClO4)2) 등과 같은 금속염소산염 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Specific examples of the metal oxide include lithium oxide (Li 2 O), sodium oxide (Na 2 O), barium oxide (BaO), calcium oxide (CaO) and magnesium oxide (MgO) Examples include lithium sulfate (Li 2 SO 4), sodium sulfate (Na 2 SO 4), calcium sulfate (CaSO 4), magnesium sulfate (MgSO 4), cobalt sulfate (CoSO 4), sulfate, gallium (Ga 2 (SO 4) 3), titanium sulfate (Ti (SO 4) 2) or nickel sulfate (a sulfate such as NiSO 4), calcium chloride (CaCl 2), magnesium chloride (MgCl 2), strontium chloride (SrCl 2), chloride, yttrium (YCl 3) , Cobalt chloride (CuCl 2 ), cesium fluoride (CsF), tantalum fluoride (TaF 5 ), niobium fluoride (NbF 5 ), lithium bromide (LiBr), calcium bromide (CaBr 2 ), cesium bromide (CeBr 3 ) (SeBr 4), vanadium bromide (VBr 3), a metal halide such as magnesium bromide (MgBr 2), barium iodide (BaI 2), or magnesium iodide (MgI 2); Or metal chlorates such as barium perchlorate (Ba (ClO 4 ) 2 ) or magnesium perchlorate (Mg (ClO 4 ) 2 ), and the like.

본 발명의 구현예들에서는, 상기 금속산화물 등과 같은 수분 흡착제를 적절히 가공한 상태로 조성물에 배합할 수 있다. 예를 들어, 접착제 조성물을 적용하고자 하는 유기전자장치의 종류에 따라 접착제층의 두께가 30 ㎛ 이하의 박막일 수 있고, 이 경우 수분 흡착제의 분쇄 공정이 필요할 수 있다. 수분 흡착제의 분쇄에는, 3롤 밀, 비드 밀 또는 볼 밀 등의 공정이 이용될 수 있다. 또한, 본 발명의 접착제 조성물이 상부 발광(top emission)형의 유기전자장치 등에 사용될 경우, 접착제층 자체의 투과도가 매우 중요하게 되고, 따라서 수분 흡착제의 크기가 작을 필요가 있다. 따라서, 이와 같은 용도에서도 분쇄 공정은 요구될 수 있다.In embodiments of the present invention, the moisture adsorbent, such as the metal oxide, etc., may be blended into the composition in a suitably processed state. For example, the thickness of the adhesive layer may be a thin film of 30 μm or less according to the type of organic electronic device to which the adhesive composition is to be applied, and in this case, a grinding process of the moisture absorbent may be required. For pulverizing the moisture adsorbent, a process such as a three-roll mill, a bead mill or a ball mill may be used. In addition, when the adhesive composition of the present invention is used for organic light emitting devices of the top emission type, the permeability of the adhesive layer itself becomes very important, and thus the size of the moisture adsorbent needs to be small. Therefore, the grinding process may be required even in such applications.

상기 접착제 조성물은, 수분 흡착제를 상기 에폭시 수지 100 중량부에 대하여, 5 중량부 내지 50 중량부, 또는 10 중량부 내지 25 중량부의 양으로 포함할 수 있다. 수분 흡착제의 함량을 상기 범위로 제어하여, 유기전자장치에 손상을 가하지 않는 범위 내에서 수분 차단 특성을 극대화할 수 있다.The adhesive composition may include a moisture adsorbent in an amount of 5 parts by weight to 50 parts by weight, or 10 parts by weight to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. By controlling the content of the moisture adsorbent within the above range, it is possible to maximize the moisture barrier property within a range that does not damage the organic electronic device.

본 발명의 구현예들에 따른 접착제 조성물은, 필러, 예를 들어 무기 필러를 포함할 수 있다. 필러는, 봉지 구조로 침투하는 수분 또는 습기의 이동 경로를 길게 하여 그 침투를 억제할 수 있고, 에폭시 수지의 매트릭스 구조 및 수분 흡착제 등과의 상호 작용을 통해 수분 및 습기에 대한 차단성을 극대화할 수 있다. 본 발명의 구현예들에서 사용할 수 있는 필러의 구체적인 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 클레이, 탈크, 실리카, 황산바륨, 수산화알루미늄, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 제올라이트, 지르코니아, 티타니아 또는 몬모릴로나이트 등의 1종 또는 2종 이상의 혼합을 사용할 수 있다.Adhesive composition according to embodiments of the present invention may include a filler, for example an inorganic filler. The filler can suppress the penetration by lengthening the movement path of moisture or moisture that penetrates into the encapsulation structure, and maximize the barrier to moisture and moisture through interaction with the matrix structure of the epoxy resin and the moisture adsorbent. have. Specific examples of the filler that can be used in the embodiments of the present invention are not particularly limited and include clay, talc, silica, barium sulfate, aluminum hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, zeolite, zirconia, titania or montmorillonite Or a mixture of two or more of them may be used.

또한, 필러 및 에폭시 수지의 결합 효율을 높이기 위하여, 상기 필러로서 유기 물질로 표면 처리된 제품을 사용하거나, 추가적으로 커플링제를 첨가하여 사용할 수 있다.In addition, in order to increase the coupling efficiency of the filler and the epoxy resin, a product surface-treated with an organic material may be used as the filler, or a coupling agent may be additionally added.

상기 접착제 조성물은, 상기 에폭시 수지 100 중량부에 대하여 1 중량부 내지 100 중량부, 1 중량부 내지 50 중량부 또는 5 중량부 내지 30 중량부의 필러를 포함할 수 있다. 필러 함량을 1 중량부 이상으로 제어하여, 우수한 수분 또는 습기 차단성 및 기계적 물성을 가지는 경화물을 제공할 수 있으며, 수분 흡착제의 침강을 방지할 수 있다. 또한, 필러 함량을 100 중량부 이하로 제어함으로써, 필름 형태의 제조가 가능하며, 박막으로 형성된 경우에도 접착 특성을 나타내는 경화물을 제공할 수 있다.The adhesive composition may include a filler in an amount of 1 part by weight to 100 parts by weight, 1 part by weight to 50 parts by weight, or 5 parts by weight to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin. By controlling the filler content to 1 part by weight or more, it is possible to provide a cured product having excellent moisture or moisture barrier properties and mechanical properties, and to prevent sedimentation of the moisture adsorbent. In addition, by controlling the filler content to 100 parts by weight or less, it is possible to manufacture in the form of a film, it is possible to provide a cured product exhibiting adhesive properties even when formed into a thin film.

상기 접착제 조성물은, 상기 에폭시 수지의 경화 반응을 개시시킬 수 있는 개시제, 예를 들면, 양이온 광중합 개시제 등을 추가로 포함할 수 있다. 본 발명의 구현예들에서 사용할 수 있는 상기 개시제, 예를 들면, 양이온 광중합 개시제의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 방향족 디아조늄염, 방향족 요오드 알루미늄염, 방향족 설포늄염 또는 철-아렌 착체 등의 공지의 양이온 중합 개시제를 사용할 수 있고, 이 중 방향족 설포늄염을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The adhesive composition may further include an initiator capable of initiating a curing reaction of the epoxy resin, for example, a cationic photopolymerization initiator. The kind of the initiator, for example, the cationic photopolymerization initiator, which can be used in the embodiments of the present invention is not particularly limited, and for example, aromatic diazonium salts, aromatic iodine aluminum salts, aromatic sulfonium salts or iron-arene complexes Known cationic polymerization initiators such as and the like can be used, among which an aromatic sulfonium salt can be used, but is not limited thereto.

이 경우, 개시제의 함량은, 예를 들면, 상기 에폭시 수지 100 중량부에 대하여, 0.01 중량부 내지 10 중량부, 또는 0.1 중량부 내지 3 중량부일 수 있다. 상기 양이온 광중합 개시제의 함량이 지나치게 작으면, 충분한 경화가 진행되지 않을 우려가 있고, 지나치게 많아지면, 경화 후 이온성 물질의 함량이 증가되어, 접착제의 내구성이 떨어지거나, 개시제의 특성상 짝산(conjugate acid)이 형성되어, 광학 내구성 측면에서 불리하게 되고, 또한 기재에 따라서는 부식이 발생할 수 있으므로, 이러한 점을 고려하여 적절한 함량 범위를 선택할 수 있다.In this case, the content of the initiator may be, for example, 0.01 part by weight to 10 parts by weight, or 0.1 part by weight to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. If the content of the cationic photopolymerization initiator is too small, there is a fear that sufficient curing will not proceed. If the content is too large, the content of the ionic substance after curing will increase to lower the durability of the adhesive, ) Is formed, which is disadvantageous from the viewpoint of optical durability, and corrosion may occur depending on the base material. Therefore, an appropriate content range can be selected in consideration of this point.

상기 에폭시 접착제 조성물은, 고분자량 수지를 추가로 포함할 수 있다. 상기 고분자량 수지는 상기 조성물을 필름 또는 시트 형상으로 성형하는 경우 등에, 성형성을 개선하는 역할을 할 수 있다. 또한 핫멜팅 공정 중에 흐름성을 조점하는 고온 점도조절제로서의 역할을 할 수 있다.The epoxy adhesive composition may further include a high molecular weight resin. The high molecular weight resin may serve to improve moldability, such as when molding the composition into a film or sheet shape. In addition, it may serve as a high temperature viscosity regulator to control the flowability during the hot-melting process.

본 발명의 구현예들에서 사용할 수 있는 고분자량 수지의 종류는 상기 에폭시 수지 등의 다른 성분과 상용성을 가지는 것이라면, 특별히 제한되지 않는다. 사용할 수 있는 고분자량 수지의 구체적인 예로는, 중량평균 분자량이 2만 이상인 수지로서, 페녹시 수지, 아크릴레이트 수지, 고분자량 에폭시 수지, 초고분자량 에폭시 수지, 고극성(high polarity) 관능기 함유 고무 및 고극성(high polarity) 관능기 함유 반응성 고무 등의 1종 또는 2종 이상의 혼합을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The type of high molecular weight resin that can be used in the embodiments of the present invention is not particularly limited as long as it has compatibility with other components such as the epoxy resin. Specific examples of the high molecular weight resin that can be used include resins having a weight average molecular weight of 20,000 or more such as phenoxy resin, acrylate resin, high molecular weight epoxy resin, ultra high molecular weight epoxy resin, high polarity functional group- A high polarity functional group-containing reactive rubber, and the like, but is not limited thereto.

본 발명의 조성물에 고분자량 수지가 포함될 경우, 그 함량은 목적하는 물성에 따라 조절되는 것으로 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 본 발명에서, 고분자량 수지는, 상기 에폭시 수지 100 중량부에 대하여, 약 200 중량부 이하, 150 중량부 이하, 또는 약 10 내지 100 중량부 이하의 양으로 포함될 수 있다. 상기 고분자량 수지의 함량을 200 중량부 이하로 제어하여, 수지 조성물의 각 성분과의 상용성을 효과적으로 유지하며, 접착제로서의 역할도 수행할 수 있다.When the high molecular weight resin is included in the composition of the present invention, the content is not particularly limited to be adjusted according to the desired physical properties. For example, in the present invention, the high molecular weight resin may be included in an amount of about 200 parts by weight or less, 150 parts by weight or less, or about 10 to 100 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the epoxy resin. By controlling the content of the high molecular weight resin to 200 parts by weight or less, it can effectively maintain the compatibility with each component of the resin composition, it can also serve as an adhesive.

본 발명의 구현예들에 의한 조성물은 또한, 발명의 효과에 영향을 미치지 않는 범위에서, 경화물의 내구성 향상을 위한 추가적인 필러, 기계적 강도, 접착력 향상을 위한 커플링제, 가소제, 자외선 안정제 및 산화 방지제와 같은 첨가제를 추가적으로 포함할 수 있다.The composition according to the embodiments of the present invention may also contain additional fillers for improving the durability of the cured product, mechanical strength, coupling agents for improving adhesion, plasticizers, UV stabilizers and antioxidants, without affecting the effects of the present invention. The same additive may additionally be included.

본 발명의 다른 구현예들은 또한, 전술한 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물을 포함하는 접착제층을 가지는 유기전자장치를 봉지하는 접착 필름에 관한 것이다.Other embodiments of the present invention also relate to an adhesive film encapsulating an organic electronic device having an adhesive layer comprising the above-mentioned low temperature fast curing epoxy adhesive composition.

본 발명의 구현예들에 따른 접착 필름의 구조는 상기 접착제층을 포함하는 것이라면, 특별히 제한되는 것은 아니나, 일례로, 기재 필름 또는 이형 필름(이하, 「제 1 필름」이라 칭하는 경우가 있다.); 및 상기 기재 필름 또는 이형 필름 상에 형성되는 상기 접착제층을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 상기 접착 필름은, 또한 상기 접착제층 상에 형성된 기재 필름 또는 이형 필름(이하, 「제 2 필름」이라 칭하는 경우가 있다.)을 추가로 포함할 수 있다.The structure of the adhesive film according to the embodiments of the present invention is not particularly limited as long as it includes the above adhesive layer. For example, a substrate film or a release film (hereinafter also referred to as " first film "; And a structure including the adhesive layer formed on the base film or the release film. The adhesive film may further include a base film or release film (hereinafter sometimes referred to as " second film ") formed on the adhesive layer.

도 1 내지 2는 본 발명의 하나의 예시에 따른 접착 필름의 단면도를 나타내는 도면이다. 도 1에 나타난 바와 같이, 본 발명의 구현예들에 따른 접착 필름은 기재 필름 또는 이형 필름(21) 상에 형성된 접착제층(22)을 포함할 수 있다.1 and 2 are cross-sectional views of adhesive films according to one example of the present invention. As shown in FIG. 1, the adhesive film according to embodiments of the present invention may include an adhesive layer 22 formed on a base film or a release film 21.

본 발명의 다른 태양에서는, 도 2에 나타난 바와 같이, 접착 필름은, 상기 접착제층(22) 상에 형성된 기재 필름 또는 이형 필름(23)을 추가로 포함할 수 있다. 일 예로 플렉서블 디스플레이 구현을 위한 가스 배리어층이 기재 필름의 일면에 위치하여 사용될 수도 있다. 그러나, 상기 도면에 나타난 접착 필름은 본 발명의 일 태양에 불과하다. 본 발명의 구현예들에 따른 접착 필름은, 예를 들면, 지지 기재 없이 본 발명의 조성물을 포함하여, 상온에서 고상 또는 반 고상을 유지하는 접착제층이 단일층으로 포함되는 형태를 가질 수 있으며, 경우에 따라서는 양면 접착 필름의 형태로 구성될 수도 있다.In another aspect of the present invention, as shown in FIG. 2, the adhesive film may further include a base film or a release film 23 formed on the adhesive layer 22. For example, a gas barrier layer for a flexible display implementation may be placed on one side of the substrate film. However, the adhesive film shown in the drawings is only an aspect of the present invention. The adhesive film according to the embodiments of the present invention may have a form including a composition of the present invention without a supporting substrate and an adhesive layer that maintains a solid or semi-solid state at room temperature, In some cases, it may be formed in the form of a double-sided adhesive film.

본 발명의 구현예들에서 사용할 수 있는 상기 제 1 필름의 구체적인 종류는 특별히 한정되지 않는다. 상기 제 1 필름으로서, 예를 들면, 이 분야의 일반적인 고분자 필름을 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 기재 또는 이형 필름으로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리테트라플루오르에틸렌 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-비닐 아세테이트 필름, 에틸렌-프로필렌 공중합체 필름, 에틸렌-아크릴산 에틸 공중합체 필름, 에틸렌-아크릴산 메틸 공중합체 필름 또는 폴리이미드 필름 등을 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 상기 기재 필름 또는 이형 필름의 일면 또는 양면에는 적절한 이형 처리가 수행되어 있을 수도 있다. 기재 필름의 이형 처리에 사용되는 이형제의 예로는 알키드계, 실리콘계, 불소계, 불포화에스테르계, 폴리올레핀계 또는 왁스계 등을 사용할 수 있고, 이 중 내열성 측면에서 알키드계, 실리콘계 또는 불소계 이형제를 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The specific kind of the first film that can be used in the embodiments of the present invention is not particularly limited. As the first film, for example, a general polymer film in this field can be used. Examples of the substrate or release film include a polyethylene terephthalate film, a polytetrafluoroethylene film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polybutene film, a polybutadiene film, a polyvinyl chloride film, a polyurethane film, Acetate film, an ethylene-propylene copolymer film, an ethylene-ethyl acrylate copolymer film, an ethylene-methyl acrylate copolymer film, or a polyimide film. In addition, a suitable mold release treatment may be performed on one or both sides of the base film or release film of the present invention. Examples of the releasing agent used in the releasing treatment of the base film include an alkyd type, a silicone type, a fluorine type, an unsaturated ester type, a polyolefin type or a wax type. Among them, an alkyd type, a silicone type or a fluorine type releasing agent can be used from the viewpoint of heat resistance , But is not limited thereto.

또한, 본 발명의 구현예들에서 사용될 수 있는 제 2 필름(이하, 「커버 필름」이라 칭하는 경우가 있다.)의 종류 역시 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 상기 제 2 필름으로서, 전술한 제 1 필름에서 예시된 범주 내에서, 제 1 필름과 동일하거나, 상이한 종류를 사용할 수 있다. 또한, 상기 제 2 필름에도 역시 적절한 이형 처리가 수행되어 사용될 수 있다.Also, the kind of the second film (hereinafter sometimes referred to as " cover film ") that can be used in the embodiments of the present invention is not particularly limited either. For example, as the second film, within the scope exemplified in the first film described above, the same or different kinds of the first film may be used. In addition, the second film may also be subjected to appropriate mold release treatment.

상기와 같은 기재 필름 또는 이형 필름의 두께는 특별히 한정되지 않고, 적용되는 용도에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 필름의 두께는 10 ㎛ 내지 500 ㎛, 또는 20 ㎛ 내지 200 ㎛ 정도일 수 있다. 상기 두께가 10 ㎛ 미만이면 제조 과정에서 기재 필름의 변형이 쉽게 발생할 우려가 있고, 500 ㎛를 초과하면, 경제성이 떨어진다.The thickness of the base film or the release film is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the application to which it is applied. For example, the thickness of the first film may be about 10 탆 to 500 탆, or about 20 탆 to 200 탆. If the thickness is less than 10 mu m, the base film may be easily deformed during the manufacturing process. If the thickness exceeds 500 mu m, the economical efficiency is lowered.

상기 제 2 필름의 두께 역시 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 상기 제 2 필름의 두께를 제 1 필름과 동일하게 설정할 수도 있다. 또한, 공정성 등을 고려하여 제 2 필름의 두께를 제 1 필름에 비하여 상대적으로 얇게 설정할 수도 있다.The thickness of the second film is also not particularly limited. For example, the thickness of the second film may be set to be the same as that of the first film. Further, the thickness of the second film may be set to be relatively thin in comparison with the first film in consideration of the processability and the like.

본 발명의 구현예들에 따른 접착 필름에 포함되는 접착제층의 두께는 특별히 제한되지 않고, 상기 필름이 적용되는 용도를 고려하여 하기의 조건에 따라 적절하게 선택할 수 있다. 상기 접착제층은, 예를 들면, 5 ㎛ 내지 200 ㎛, 또는 5 ㎛ 내지 100 ㎛ 정도일 수 있다. 접착제층의 두께는, 유기전자장치의 봉지재로 사용 시의 매립성 및 공정성이나 경제성 등을 고려하여 조절할 수 있다.The thickness of the adhesive layer included in the adhesive film according to embodiments of the present invention is not particularly limited and can be appropriately selected in accordance with the following conditions in consideration of the application to which the film is applied. The adhesive layer may be, for example, about 5 탆 to 200 탆, or about 5 탆 to 100 탆. The thickness of the adhesive layer can be adjusted in consideration of embedding properties, fairness and economical efficiency when used as an encapsulant of an organic electronic device.

본 발명의 구현예들에서, 상기와 같은 접착 필름을 제조하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 접착제층의 조성물을 포함하는 코팅액을 기재 필름 또는 이형 필름 상에 코팅하는 제 1 단계; 및 제 1 단계에서 코팅된 코팅액을 건조하는 제 2 단계를 포함하는 방법으로 접착 필름을 제조할 수 있다. 상기와 같은 접착 필름의 제조 방법에서는, 또한, 상기 제 2 단계에서 건조된 코팅액 상에 기재 필름 또는 이형 필름을 추가적으로 압착하는 제 3 단계를 추가로 수행할 수도 있다.In the embodiments of the present invention, the method for producing such an adhesive film is not particularly limited. For example, a first step of coating a coating solution containing a composition of an adhesive layer on a base film or a release film; And a second step of drying the coating liquid coated in the first step. In the method for producing an adhesive film as described above, a third step of additionally pressing the base film or the release film on the coating liquid dried in the second step may be further performed.

상기 제 1 단계는 전술한 조성물을 적절한 용매에 용해 또는 분산시켜 코팅액을 제조하는 단계이다. 이 과정에서 코팅액 내에 포함되는 상기 에폭시 수지 등의 함량은 목적하는 수분 차단성 및 필름 성형성에 따라 적절히 제어될 수 있다.The first step is to prepare a coating solution by dissolving or dispersing the above-described composition in a suitable solvent. In this process, the content of the epoxy resin and the like contained in the coating liquid may be appropriately controlled according to the desired moisture barrier properties and film formability.

코팅액 제조에 사용되는 용매의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 다만, 용매의 건조 시간이 지나치게 길어지거나, 혹은 고온에서의 건조가 필요할 경우, 작업성 또는 접착 필름의 내구성 측면에서 문제가 발생할 수 있으므로, 휘발 온도가 100℃ 이하인 용매를 사용할 수 있다. 또한, 필름 성형성 등을 고려하여, 상기 범위 이상의 휘발 온도를 가지는 용매를 소량 혼합하여 사용할 수 있다. 상기와 같은 용매의 예로는, 메틸에틸케톤(MEK), 아세톤, 톨루엔, 디메틸포름아미드(DMF), 메틸셀로솔브(MCS), 테트라히드로퓨란(THF) 또는 N-메틸피롤리돈(NMP) 등의 일종 또는 이종 이상의 혼합을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The kind of the solvent used for preparing the coating liquid is not particularly limited. However, when the drying time of the solvent is excessively long or when drying at a high temperature is required, a problem may arise in terms of workability or durability of the adhesive film, so that a solvent having a volatilization temperature of 100 ° C or lower can be used. In view of film formability and the like, a small amount of a solvent having a volatilization temperature higher than the above range may be mixed and used. Examples of such solvents include methyl ethyl ketone (MEK), acetone, toluene, dimethylformamide (DMF), methyl cellosolve (MCS), tetrahydrofuran (THF) or N-methylpyrrolidone (NMP) Or a mixture of two or more kinds thereof, but is not limited thereto.

제 1 단계에서 상기와 같은 코팅액을 기재 필름 또는 이형 필름에 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 나이프 코트, 롤 코트, 스프레이 코트, 그라비어 코트, 커튼 코트, 콤마 코트 또는 립 코트 등과 같은 공지의 방법이 제한없이 사용될 수 있다. The method of applying the coating liquid as described above to the base film or the release film in the first step is not particularly limited, and examples thereof include a knife coat, a roll coat, a spray coat, a gravure coat, a curtain coat, a comma coat or a lip coat A known method can be used without limitation.

제 2 단계는 제 1 단계에서 코팅된 코팅액을 건조하여, 접착제층을 형성하는 단계이다. 즉, 제 2 단계에서는, 필름에 도포된 코팅액을 가열하여 용매를 건조 및 제거함으로써, 접착제층을 형성할 수 있다. 이때, 건조 조건은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 상기 건조는 70℃ 내지 150℃의 온도에서 1분 내지 10분 동안 수행될 수 있다.The second step is to dry the coating solution coated in the first step, to form an adhesive layer. That is, in the second step, the coating liquid applied to the film is heated to dry and remove the solvent, whereby an adhesive layer can be formed. The drying conditions are not particularly limited. For example, the drying may be performed at a temperature of 70 to 150 캜 for 1 to 10 minutes.

상기 접착 필름의 제조 방법에서는 또한, 상기 제 2 단계에 이어서, 필름 상에 형성된 접착제층 상에 추가적인 기재 필름 또는 이형 필름을 압착하는 제 3 단계가 추가로 수행될 수 있다. 이와 같은 제 3 단계는, 필름에 코팅된 후, 건조된 접착제층에 추가적인 이형 필름 또는 기재 필름(커버 필름 또는 제 2 필름)을 핫 롤 라미네이트 또는 프레스 공정에 의해 압착하여 수행될 수 있다. 이때, 상기 제 3 단계는, 연속 공정의 가능성 및 효율 측면에서 핫 롤 라미네이트법에 의해 수행될 수 있고, 이때 상기 공정은 약 10℃ 내지 100℃의 온도에서 약 0.1 kgf/cm2 내지 10 kgf/cm2의 압력으로 수행될 수 있다.
In the method of manufacturing the adhesive film, a third step of pressing the additional base film or the release film on the adhesive layer formed on the film may be further performed after the second step. Such a third step may be carried out by coating the film and then pressing the additional release film or the base film (cover film or second film) on the dried adhesive layer by a hot roll laminate or a pressing process. At this time, the third step may be performed by hot roll lamination in terms of the possibility and efficiency of the continuous process, wherein the process is performed at a temperature of about 10 캜 to 100 캜 at a pressure of about 0.1 kgf / cm 2 to 10 kgf / cm < 2 >.

도 3은 본 발명의 하나의 예시에 따른 유기전자장치의 봉지 제품을 나타내는 단면도이다. 본 발명의 다른 구현예는 기판(31); 상기 기판(31) 상에 형성된 유기전자장치(33); 및 상기 유기전자장치(33)의 전면을 커버하도록 유기전자장치(33)를 봉지하는 전술한 조성물의 경화물을 포함하는 접착 필름(32)을 포함하는 유기전자장치 봉지 제품에 관한 것이다. 여기서, 유기전자장치(33)의 전면을 커버한다는 것은 상기 접착 필름(32)이 갭 없이 유기전자장치(33)의 전체 면적(상부, 측면 등 기판와 접하지 않는 모든 면)에 부착되는 것을 의미한다.3 is a cross-sectional view illustrating an encapsulation product of an organic electronic device according to an exemplary embodiment of the present disclosure. Another embodiment of the present invention includes a substrate 31; An organic electronic device (33) formed on the substrate (31); And an adhesive film 32 including a cured product of the above-described composition for encapsulating the organic electronic device 33 to cover the entire surface of the organic electronic device 33. Here, covering the front surface of the organic electronic device 33 means that the adhesive film 32 is attached to the entire surface of the organic electronic device 33 without any gap (all surfaces not in contact with the substrate such as the top, side, etc.) .

상기 유기전자장치 봉지 제품은 상기 접착 필름(32)의 상부에 제 2 기판(커버 기판)(34)을 추가로 포함할 수도 있으며, 이때 상기 접착 필름(32)은 상기 제 2 기판(34)과 상기 기판(31)을 접착하는 역할을 한다. 본 발명의 구현예들에 따른 접착제 조성물은, 우수한 수분 차단 특성을 가지며, 광학적 특성이 우수하고, 상기 기판 및 커버 기판을 고정 및 지지하는 구조용 접착제로서 작용하여 봉지층의 역할을 하는 접착 필름을 제공할 수 있다.The organic electronic device encapsulation product may further include a second substrate (cover substrate) 34 on the adhesive film 32, wherein the adhesive film 32 is bonded to the second substrate 34 And serves to adhere the substrate 31. Adhesive composition according to embodiments of the present invention, has an excellent moisture barrier properties, excellent optical properties, and serves as a structural adhesive for fixing and supporting the substrate and the cover substrate to provide an adhesive film acting as an encapsulation layer can do.

상기 유기전자장치(33)는 예를 들면, 유기발광다이오드일 수 있다.The organic electronic device 33 may be, for example, an organic light emitting diode.

상기 유기전자장치 봉지 제품은 상기 접착 필름(32) 및 유기전자장치(33)의 사이에 상기 유기전자장치(33)를 보호하는 보호막(미도시)을 추가로 포함할 수 있다.The organic electronic device encapsulation product may further include a protective film (not shown) for protecting the organic electronic device 33 between the adhesive film 32 and the organic electronic device 33.

본 발명에 의한 유기전자장치 봉지 제품은 제조 공정의 단순화 및 공정 단가의 절감이 가능한 이점이 있으며, 유기전자장치의 설계 방식에 무관하게 사용이 가능하며, 유기전자장치에 우수한 기계적 내구성을 부여할 수 있는 이점이 있다.The organic electronic device encapsulation product according to the present invention has the advantage of simplifying the manufacturing process and reducing the process cost, and can be used regardless of the design method of the organic electronic device, and can provide excellent mechanical durability to the organic electronic device. There is an advantage to that.

본 발명의 또 다른 구현예는 상부에 유기전자장치가 형성된 기판에 전술한 접착 필름의 접착제층이 상기 유기전자장치의 전면을 커버하도록 적용하는 단계; 및 상기 접착제층을 경화하는 단계를 포함하는 유기전자장치의 봉지 방법에 관계한다.In another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing an organic electronic device, comprising the steps of: applying an adhesive layer of the above-mentioned adhesive film to a substrate on which an organic electronic device is formed to cover the front surface of the organic electronic device; And a step of curing the adhesive layer.

상기 접착 필름을 상기 유기전자장치에 적용하는 단계는 접착 필름의 핫롤 라미네이트, 열압착(hot press) 또는 진공압착 방법으로 수행할 수 있으며, 특별히 제한되지 않는다.The step of applying the adhesive film to the organic electronic device may be performed by a hot roll laminate, a hot press, or a vacuum press method of an adhesive film, and is not particularly limited.

상기 접착 필름을 상기 유기전자장치에 적용하는 단계는, 50℃ 내지 70℃의 온도에서 수행할 수 있고, 상기 경화 단계는, 70℃ 내지 90℃의 온도 범위로 가열하거나 UV를 조사하여 수행할 수 있다.The applying of the adhesive film to the organic electronic device may be performed at a temperature of 50 ° C. to 70 ° C., and the curing step may be performed by heating to a temperature range of 70 ° C. to 90 ° C. or by irradiating UV. have.

또한, 추가 봉지 재료인 글라스나 금속 등에 상기 접착 필름이 맞닿도록 부착하는 단계를 추가할 수도 있다.It is also possible to add a step of attaching the adhesive film so as to be in contact with glass or metal which is an additional sealing material.

상기 유기전자장치의 봉지 방법은 예를 들어, 글라스 또는 고분자 필름과 같은 기판 상에 진공 증착 또는 스퍼터링 등의 방법으로 투명 전극을 형성하고, 상기 투명 전극 상에 유기재료층을 형성한다. 상기 유기재료층은 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 주입층 및/또는 전자 수송층을 포함할 수 있다. 이어서, 상기 유기재료층 상에 제 2 전극을 추가로 형성한다. 그런 뒤, 상기 기판 상의 유기전자장치 상부에 상기 유기전자장치를 모두 커버하도록 전술한 접착 필름을 적용한다. 이때, 상기 접착 필름을 적용하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 기판 상에 형성된 유기전자장치의 상부로, 전술한 접착 필름의 접착제층을 미리 전사하여 둔 커버 기판(ex. 글라스 또는 고분자 필름)을 가열, 압착 등의 방법으로 적용할 수 있다. 상기 단계에서는 예를 들면, 커버 기판 상에 접착 필름을 전사할 때, 전술한 접착 필름을 사용하여, 상기 필름에 형성된 기재 또는 이형 필름을 박리한 후, 열을 가하면서, 진공 프레스 또는 진공 라미테이터 등을 사용하여 커버 기판 상으로 전사할 수 있다. 이 과정에서, 접착 필름의 경화 반응이 일정 범위 이상 이루어지면, 접착 필름의 밀착력 내지 접착력이 감소할 우려가 있으므로, 공정 온도를 약 70℃ 내지 90℃, 공정 시간을 5분 이내로 제어할 수 있다. 유사하게, 접착 필름이 전사된 커버 기판을 유기전자장치에 가열 압착할 경우에도, 진공 프레스 또는 진공 라미네이터를 이용할 수 있다. 이 단계에서의 온도 조건은 전술한 바와 같이 설정할 수 있고, 공정 시간은 10분 이내일 수 있다.The sealing method of the organic electronic device includes forming a transparent electrode on a substrate such as a glass or a polymer film by vacuum deposition or sputtering, and forming an organic material layer on the transparent electrode. The organic material layer may include a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron injecting layer, and / or an electron transporting layer. Then, a second electrode is further formed on the organic material layer. The adhesive film described above is then applied to cover all of the organic electronic devices on top of the organic electronic device on the substrate. The method of applying the adhesive film is not particularly limited and may be applied to an organic electronic device formed on a substrate, for example, a cover substrate (e.g., a glass or a polymer Film) can be applied by heating, pressing or the like. In this step, for example, when the adhesive film is transferred onto the cover substrate, the substrate or the release film formed on the film is peeled off by using the above-mentioned adhesive film, and then heat is applied to the vacuum press or vacuum laminate Or the like can be transferred onto the cover substrate. In this process, when the curing reaction of the adhesive film is made in a certain range or more, the adhesive force or the adhesive force of the adhesive film may decrease, so that the process temperature may be controlled to about 70 ° C. to 90 ° C., and the process time may be controlled within 5 minutes. Similarly, a vacuum press or a vacuum laminator can be used when the cover substrate onto which the adhesive film is transferred is heated and pressed onto the organic electronic device. The temperature condition at this stage can be set as described above, and the process time can be within 10 minutes.

또한, 유기전자장치를 압착한 접착 필름에 대해 추가적인 경화 공정을 수행할 수도 있는데, 이러한 경화 공정(본 경화)은 예를 들면, 가열 챔버 또는 UV 챔버에서 진행될 수 있다. 본 경화 시의 조건은 유기전자장치의 안정성 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다.Further, an additional curing process may be performed on the adhesive film to which the organic electronic device is pressed. This curing process (final curing) may be performed, for example, in a heating chamber or a UV chamber. The conditions for the final curing can be appropriately selected in consideration of the stability of the organic electronic device and the like.

그러나, 전술한 제조 공정은 상기 유기전자장치를 봉지하기 위한 일 예에 불과하며, 상기 공정 순서 내지는 공정 조건 등은 자유롭게 변형될 수 있다. 예를 들면, 상기 전사 및 압착 공정의 순서를 접착 필름을 기판 위의 유기전자장치에 먼저 전사한 다음, 커버 기판을 압착하는 방식으로 변경할 수 있다. 또한, 유기전자장치 위에 보호층을 형성한 뒤 접착 필름을 적용한 뒤 커버 기판을 생략하고 경화시켜 사용할 수도 있다.
However, the above-described manufacturing process is merely an example for encapsulating the organic electronic device, and the process order, process conditions, and the like can be freely modified. For example, the order of the transfer and the pressing process may be changed by first transferring the adhesive film to the organic electronic device on the substrate and then pressing the cover substrate. Alternatively, after a protective layer is formed on the organic electronic device, an adhesive film may be applied and the cover substrate may be omitted and cured.

이하 본 발명에 따르는 실시예 및 본 발명에 따르지 않는 비교예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples and comparative examples, but the scope of the present invention is not limited by the following examples.

실시예Example 1 One

수분 흡착제로서 CaO(Aldrich) 50g을 메틸에틸케톤에 30wt%의 농도로 투입하여 수분 흡착제 용액을 제조하고, 상기 용액을 볼 밀 공정에 의하여 24 시간 밀링하였다. 또한, 이와는 별도로 상온에서 반응기에 비스페놀 에폭시 수지(RE-310, 일본화약) 200g 및 페녹시 수지(YP-50, 동도 화성) 150g을 투입하고, 메틸에틸케톤으로 희석하였다. 그 후, 반응기의 내부를 질소로 치환하고, 제조된 용액을 균질화하였다. 상기 균질화된 용액에 미리 준비한 수분 흡착제 용액을 투입하고, 경화제인 이미다졸-에폭시 부가물(PN-40, Ajinomoto) 40g을 투입한 후, 1 시간 동안 고속 교반하였다.50 g of CaO (Aldrich) as a water adsorbent was added to methyl ethyl ketone at a concentration of 30 wt% to prepare a water adsorbent solution, and the solution was milled for 24 hours by a ball mill process. Separately, 200 g of bisphenol epoxy resin (RE-310, Nippon Kayaku) and 150 g of phenoxy resin (YP-50, Hwado Chemical) were added to the reactor at room temperature, and diluted with methyl ethyl ketone. Thereafter, the inside of the reactor was replaced with nitrogen, and the prepared solution was homogenized. A water adsorbent solution prepared in advance was added to the homogenized solution, and 40 g of imidazole-epoxy adduct (PN-40, Ajinomoto) as a curing agent was added thereto, followed by rapid stirring for 1 hour.

상기에서 교반된 용액을 홀(hole) 사이즈가 20 ㎛인 필터로 여과하였다. 이어서, 여과된 용액을 두께가 50 ㎛인 이형 PET 상에 콤마 코터를 사용하여 도포하고, 건조기에서 110℃로 1분 동안 건조하여, 두께가 20㎛인 접착제층이 형성된 접착 필름을 제조하였다. 그 후, 제조된 접착 필름을 라미네이터를 이용하여, 상기 이형 필름과 동일한 재질의 커버 이형 필름에 라미네이트하여 유기전자장치 봉지용 접착 필름을 얻었다.
The stirred solution was filtered through a filter having a hole size of 20 μm. Subsequently, the filtered solution was applied on a release PET having a thickness of 50 μm using a comma coater and dried at 110 ° C. for 1 minute in a dryer to prepare an adhesive film having an adhesive layer having a thickness of 20 μm. Thereafter, the prepared adhesive film was laminated on a cover release film of the same material as the release film using a laminator to obtain an adhesive film for sealing an organic electronic device.

실시예Example 2  2

상기 실시예 1에서 사용한 비스페놀 에폭시 수지(RE-310, 일본화약) 200g 대신 실란 변성 에폭시 수지(KSR177, 국도화학) 100g 및 4관능성 비스페놀 에폭시 수지(HP-4710, DIC) 100g을 사용하고, 경화제로 이미다졸-에폭시 부가물(PN-40, Ajinomoto) 40g 대신 이미다졸-에폭시 부가물(P0505, 시코쿠 화학) 40g 및 에폭시-페놀 붕산 에스테르(L-07N) 20g을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 유기전자장치 봉지용 접착 필름을 얻었다.
Instead of 200 g of bisphenol epoxy resin (RE-310, Nippon Kayaku) used in Example 1, 100 g of silane-modified epoxy resin (KSR177, Kukdo Chemical) and 100 g of tetrafunctional bisphenol epoxy resin (HP-4710, DIC) were used. Example 1 except that 40 g of imidazole-epoxy adduct (P0505, Shikoku Chemical) and 20 g of epoxy-phenol boric ester (L-07N) were used instead of 40 g of rho imidazole-epoxy adduct (PN-40, Ajinomoto) In the same manner as in the above, an adhesive film for sealing an organic electronic device was obtained.

실시예Example 3  3

상기 실시예 1에서 사용한 비스페놀 에폭시 수지(RE-310, 일본화약) 200g 대신 실란 변성 에폭시 수지(KSR177, 국도화학) 150g 및 지환족 에폭시 수지(Celloxide 2021P, 다이셀 화학) 50g을 사용하고, 경화제인 이미다졸-에폭시 부가물(PN-40, Ajinomoto) 40g 대신 UV 양이온 광개시제인 트리아릴설포늄 헥사플루오로 포스페이트염(Aldrich) 10g을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 유기전자장치 봉지용 접착 필름을 얻었다.
Instead of 200 g of bisphenol epoxy resin (RE-310, Nippon Kayaku) used in Example 1, 150 g of silane-modified epoxy resin (KSR177, Kukdo Chemical) and 50 g of cycloaliphatic epoxy resin (Celloxide 2021P, Daicel Chemical) were used. An organic electronic device was encapsulated in the same manner as in Example 1 except that 10 g of triarylsulfonium hexafluoro phosphate salt (Aldrich), a UV cationic photoinitiator, was used instead of 40 g of imidazole-epoxy adduct (PN-40, Ajinomoto). The adhesive film for was obtained.

비교예Comparative Example 1  One

상기 실시예 1에서 사용한 비스페놀 에폭시 수지(RE-310, 일본화약) 200g 대신 아크릴 변성 수지(KR-628, 국도화학) 200g을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 유기전자장치 봉지용 접착 필름을 얻었다.
Except for using 200 g of the acrylic modified resin (KR-628, Kukdo Chemical) instead of 200 g of the bisphenol epoxy resin (RE-310, Nippon Kayaku) used in Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1 for encapsulating organic electronic devices An adhesive film was obtained.

비교예Comparative Example 2 2

상기 실시예 1에서 사용한 이미다졸-에폭시 부가물(PN-40, Ajinomoto) 40g 대신 경화제로 2-에틸-4-메틸이미다졸(2E4MZ, 시코쿠 화학) 40g을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 유기전자장치 봉지용 접착 필름을 얻었다.
Example 1 except that 40g of 2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ, Shikoku Chemical) was used as a curing agent instead of 40g of the imidazole-epoxy adduct (PN-40, Ajinomoto) used in Example 1 above. In the same manner, an adhesive film for sealing an organic electronic device was obtained.

실험예Experimental Example

1. 칼슘 테스트1. Calcium test

글라스 기판에 칼슘(Ca)을 8mm×8mm×100nm(가로×세로×두께)의 크기로 증착하였다. 이어서, 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 2에서 제조한 접착제층을 전사시킨 커버 글라스를 베젤(bezel)이 3 mm가 되도록 상기 글라스 기판의 칼슘 상에 라미네이트하고, 진공 프레스(vacuum press)를 사용하여, 70℃에서 2분 동안 가열 압착하고, 70℃에서 3 시간 동안 경화시켜 봉지층을 형성하고, 시편을 제조하였다. 실시예 3의 경우에는 70℃에서 2분 동안 가열 압착 후, 5mW/cm2 강도의 UV를 약 5분 동안 조사하고, 70℃에서 1시간 후경화하였다. 상기 시편을 80℃ 및 90% 상대습도의 항온 항습 챔버에서 유지하면서, 상기 칼슘 증착 부분의 단부가 산화되어 투명하게 변화하는 시간을 측정하였다.Calcium (Ca) was deposited on the glass substrate in the size of 8 mm x 8 mm x 100 nm (width x length x thickness). Subsequently, the cover glass on which the adhesive layers prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were transferred was laminated on calcium on the glass substrate so that the bezel was 3 mm, and a vacuum press was applied. Using, heat pressing at 70 ° C. for 2 minutes, curing at 70 ° C. for 3 hours to form an encapsulation layer, and prepared specimens. In the case of Example 3, after heating and pressing for 2 minutes at 70 ℃, UV of 5mW / cm 2 intensity was irradiated for about 5 minutes, and cured after 1 hour at 70 ℃. While maintaining the specimen in a constant temperature and humidity chamber at 80 ° C. and 90% relative humidity, the time at which the end of the calcium deposited portion was oxidized and changed transparently was measured.

상기와 같은 측정 결과를 하기 표 1에 정리하여 기재하였다.The measurement results as described above are summarized in Table 1 below.

구분division 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 투명화 시작시간(h)Invisibility start time (h) <205<205 <250<250 <220<220 <40<40 <155<155

2. 2. 투습도Moisture permeability , 경화도 및 상온안정성 테스트, Hardness and room temperature stability test

실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 2에서 사용한 에폭시 수지(흡착제 제외)를 경화시키고, 그 경화물을 두께 80 ㎛의 필름 형상으로 한 후에, 38℃ 및 100 %의 상대습도 하에서 상기 경화물의 두께 방향에 대하여 ASTM F1249에 따라서 투습도를 측정하였다. 또한, DSC 분석으로 경화반응으로 인한 발열 피크를 확인하고 경화도 확인을 위하여 70℃에서 3시간 동안 경화한 샘플을 준비하고 미경화 분의 발열 피크를 확인하였다. 또한, 상온안정성 확인을 위하여 점탄성 측정기를 사용하여 상온에서 3일 방치 후 점도 변화 정도를 증가율로 비교하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.After curing the epoxy resin (except adsorbent) used in Examples 1-3 and Comparative Examples 1-2, the cured product was made into a film shape having a thickness of 80 μm, the thickness of the cured product under 38 ° C. and 100% relative humidity. The moisture vapor permeability was measured according to ASTM F1249 with respect to the direction. In addition, the exothermic peak due to the curing reaction was confirmed by DSC analysis, and a sample cured for 3 hours at 70 ° C. was prepared to confirm the degree of curing, and the exothermic peak of the uncured powder was confirmed. In addition, after confirming the stability of the room temperature using a viscoelasticity measuring instrument at room temperature for 3 days after comparing the degree of change in viscosity as shown in Table 2 the results.

구분division 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 투습도(g/m2·day)Water vapor permeability (g / m 2 · day) 1818 1010 1313 240240 2727 경화도(%)Hardness (%) 9191 9393 -- 6666 7272 상온안정성(%)Room temperature stability (%) 88 66 1One 3535 4242

상기에서 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명의 구현예들에 의한 실시예 1 내지 3의 접착 필름은 수지의 투습도를 20 g/m2·day 이하로 제어함으로써, 유기전자장치의 봉지 제품의 내습내구성을 향상시킬 수 있고, 70℃ 이하의 온도에서 3시간 이내에 경화도가 90% 이상이며, 상온에서 3일 방치 후의 점도 증가율이 10% 이하로 상온안정성이 3일 이상이 되도록 제어함으로써 유기전자장치의 컬링 불량을 최소화하여 공정성을 보장할 수 있다. 그러나, 비교예와 같이 투습도가 높거나, 공정 조건에서의 경화도가 낮거나, 상온안정성이 불량한 경우, 유기전자장치의 효과적인 봉지가 달성되지 않음을 확인할 수 있다.
As can be seen above, the adhesive films of Examples 1 to 3 according to the embodiments of the present invention control moisture permeability of the resin to 20 g / m 2 · day or less, thereby resisting moisture resistance of the encapsulation product of the organic electronic device. Curing of the organic electronic device by controlling so that the curing degree is 90% or more within 3 hours at a temperature of 70 ° C. or lower, and the room temperature stability is 3 days or more with a viscosity increase rate of 10% or less after 3 days of standing at room temperature. The defect can be minimized to ensure fairness. However, when the moisture permeability, the curing degree under the process conditions, or the room temperature stability is poor as in the comparative example, it can be confirmed that the effective encapsulation of the organic electronic device is not achieved.

이상에서 본 발명의 예시적인 실시예를 참고로 본 발명에 대해서 상세하게 설명하였으나, 이들은 단지 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be appreciated that other embodiments are possible. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

21, 23: 기재 필름 또는 이형 필름
22: 접착제층
31: 기판
32: 접착 필름
33: 유기전자장치
34: 제 2 기판(커버 기판)
21, 23: base film or release film
22: Adhesive layer
31: substrate
32: Adhesive film
33: organic electronic device
34: second substrate (cover substrate)

Claims (23)

경화 상태에서 투습도가 20 g/m2·day 이하인 에폭시 수지 및 잠재성 경화제를 포함하고, 70℃ 이하의 온도에서 3시간 이내에 경화도 90% 이상이며, 상온안정성이 3일 이상인 유기전자장치의 봉지 또는 캡슐화에 사용되는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.An encapsulation of an organic electronic device containing an epoxy resin having a moisture permeability of 20 g / m 2 · day or less in a cured state and a latent curing agent, having a degree of curing of 90% or more within 3 hours at a temperature of 70 ° C. or less, and having a room temperature stability of 3 days or more. Or low temperature rapid curing epoxy adhesive compositions used for encapsulation. 제 1 항에 있어서, 상기 상온안정성은 상온에서 3일 후의 점도 증가율이 10% 이하인 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.According to claim 1, wherein the room temperature stability is the viscosity increase after 3 days at room temperature is 10% or less Low temperature fast curing epoxy adhesive composition. 제 1 항에 있어서, 상기 에폭시 수지는 관능기를 두 개 이상 포함하는 당량 300 이하의 액상 에폭시 수지를 포함하는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature rapid curing epoxy adhesive composition according to claim 1, wherein the epoxy resin comprises a liquid epoxy resin having an equivalent weight of 300 or less including two or more functional groups. 제 1 항에 있어서, 상기 잠재성 경화제는 액상 이미다졸계 또는 용제에 용해성을 가지는 이미다졸계와 상온 경화지연제의 조합, 또는 에폭시와 이미다졸의 부가반응물 단독 또는 경화지연제와의 조합인 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature of claim 1, wherein the latent curing agent is a liquid imidazole compound or a combination of an imidazole compound having a solubility in a solvent and a room temperature curing retardant, or an addition reactant of epoxy and imidazole alone, or a combination of a curing retardant. Fast curing epoxy adhesive composition. 제 4 항에 있어서, 상기 잠재성 경화제는 70℃에서의 경화 시간이 3시간 이하이며, 상온 안정성이 3일 이상인 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature rapid curing epoxy adhesive composition according to claim 4, wherein the latent curing agent has a curing time of 70 hours or less and 3 hours or less, and a room temperature stability of 3 days or more. 제 1 항에 있어서, 상기 잠재성 경화제는 상기 에폭시 수지 100 중량부를 기준으로 5 내지 30 중량부로 포함되는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature fast curing type epoxy adhesive composition according to claim 1, wherein the latent curing agent is included in an amount of 5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. 제 4 항에 있어서, 상기 경화지연제는 상기 에폭시 수지 100 중량부를 기준으로 5 내지 20 중량부로 포함되는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature fast curing type epoxy adhesive composition according to claim 4, wherein the curing retardant is included in an amount of 5 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. 제 1 항에 있어서, 상기 에폭시 접착제 조성물이 수분 반응성 흡착제를 추가로 포함하는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature rapid curing epoxy adhesive composition of claim 1, wherein the epoxy adhesive composition further comprises a moisture reactive adsorbent. 제 8 항에 있어서, 상기 수분 반응성 흡착제가 알루미나, 금속산화물, 유기금속산화물, 금속염 또는 오산화인인 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature rapid curing epoxy adhesive composition according to claim 8, wherein the moisture reactive adsorbent is alumina, metal oxide, organometal oxide, metal salt or phosphorus pentoxide. 제 8 항에 있어서, 상기 수분 반응성 흡착제가 P2O5, Li2O, Na2O, BaO, CaO, MgO, Li2SO4, Na2SO4, CaSO4, MgSO4, CoSO4, Ga2(SO4)3, Ti(SO4)2, NiSO4, CaCl2, MgCl2, SrCl2, YCl3, CuCl2, CsF, TaF5, NbF5, LiBr, CaBr2, CeBr3, SeBr4, VBr3, MgBr2, BaI2, MgI2, Ba(ClO4)2 및 Mg(ClO4)2로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The method of claim 8, wherein the water reactive adsorbent is P 2 O 5 , Li 2 O, Na 2 O, BaO, CaO, MgO, Li 2 SO 4 , Na 2 SO 4 , CaSO 4 , MgSO 4 , CoSO 4 , Ga 2 (SO 4) 3, Ti (SO 4) 2, NiSO 4, CaCl 2, MgCl 2, SrCl 2, YCl 3, CuCl 2, CsF, TaF 5, NbF 5, LiBr, CaBr 2, CeBr 3, SeBr 4 At least one selected from the group consisting of VBr 3 , MgBr 2 , BaI 2 , MgI 2 , Ba (ClO 4 ) 2 and Mg (ClO 4 ) 2 . 제 8 항에 있어서, 상기 수분 흡착제는 상기 에폭시 수지 100 중량부에 대하여, 5 중량부 내지 50 중량부로 포함되는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature fast curing type epoxy adhesive composition according to claim 8, wherein the moisture adsorbent is included in an amount of 5 parts by weight to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. 제 1 항에 있어서, 상기 에폭시 접착제 조성물이 필러를 추가로 포함하는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature rapid curing epoxy adhesive composition of claim 1, wherein the epoxy adhesive composition further comprises a filler. 제 12 항에 있어서, 상기 필러가 클레이, 탈크, 실리카, 황산바륨, 수산화알루미늄, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 제올라이트, 지르코니아, 티타니아 또는 몬모릴로나이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature rapid curing epoxy adhesive composition according to claim 12, wherein the filler is at least one selected from the group consisting of clay, talc, silica, barium sulfate, aluminum hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, zeolite, zirconia, titania or montmorillonite. 제 12 항에 있어서, 상기 필러가 에폭시 수지 100 중량부에 대하여, 1 중량부 내지 50 중량부로 포함되는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature fast curing type epoxy adhesive composition according to claim 12, wherein the filler is included in an amount of 1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. 제 1 항에 있어서, 상기 에폭시 접착제 조성물이 개시제를 추가로 포함하는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature rapid curing epoxy adhesive composition of claim 1, wherein the epoxy adhesive composition further comprises an initiator. 제 1 항에 있어서, 상기 에폭시 접착제 조성물이 고분자량 수지를 추가로 포함하는 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물.The low temperature rapid curing epoxy adhesive composition of claim 1, wherein the epoxy adhesive composition further comprises a high molecular weight resin. 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 따른 저온 속경화형 에폭시 접착제 조성물을 포함하는 접착제층을 가지는 유기전자장치를 봉지하는 접착 필름.An adhesive film for encapsulating an organic electronic device having an adhesive layer comprising the low temperature fast curing epoxy adhesive composition according to any one of claims 1 to 16. 기판; 상기 기판 상에 형성된 유기전자장치; 및 상기 유기전자장치의 전면을 커버하도록 유기전자장치를 봉지하는 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 따른 조성물의 경화물을 포함하는 접착 필름을 가지는 유기전자장치 봉지 제품.Board; An organic electronic device formed on the substrate; And an adhesive film comprising a cured product of the composition according to any one of claims 1 to 16, wherein the organic electronic device is encapsulated to cover the entire surface of the organic electronic device. 제 18 항에 있어서, 상기 접착 필름 상부에 제 2 기판을 추가로 포함하며, 상기 접착 필름이 상기 제 2 기판과 상기 기판을 접착하는 유기전자장치 봉지 제품.The organic electronic device encapsulation product of claim 18, further comprising a second substrate on the adhesive film, wherein the adhesive film adheres the second substrate to the substrate. 상부에 유기전자장치가 형성된 기판에 제 17 항에 따른 접착 필름을, 상기 접착 필름의 접착제층이 상기 유기전자장치의 전면을 커버하도록 적용하는 단계; 및 상기 접착제층을 경화하는 단계를 포함하는 유기전자장치의 봉지 방법.Applying the adhesive film according to claim 17 to a substrate having an organic electronic device formed thereon such that the adhesive layer of the adhesive film covers the entire surface of the organic electronic device; And curing the adhesive layer. 제 20 항에 있어서, 상기 접착 필름을 상기 유기전자장치에 적용하는 단계는 접착 필름의 핫롤 라미네이트, 열압착(hot press) 또는 진공압착 방법으로 수행하는 유기전자장치의 봉지 방법.The method of claim 20, wherein applying the adhesive film to the organic electronic device is performed by hot roll lamination, hot pressing, or vacuum pressing of the adhesive film. 제 20 항에 있어서, 상기 접착 필름을 상기 유기전자장치에 적용하는 단계는, 50℃ 내지 90℃의 온도에서 수행하는 유기전자장치의 봉지 방법.The method of claim 20, wherein applying the adhesive film to the organic electronic device is performed at a temperature of 50 ° C. to 90 ° C. 21. 제 21 항에 있어서, 상기 경화 단계는, 50℃ 내지 70℃의 온도 범위로 가열하거나 UV를 조사하여 수행하는 유기전자장치의 봉지 방법.
The method of claim 21, wherein the curing step is performed by heating to 50 ° C. to 70 ° C. or irradiating UV.
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