KR101367268B1 - Plasma fluid spray device - Google Patents

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Abstract

One embodiment of the present invention provides a plasma fluid spray device which atomizes or sprays supplied liquid or gas at a high pressure by causing electrolysis or plasma reaction. The plasma fluid spray device according to one embodiment of the present invention comprises: a fluid spray unit for spraying a pressurized fluid; a liquid plasma generating unit for generating electrolyzed water by electrolyzing a liquid or applying a plasma reaction to the liquid; an electrolyzed water supplying unit for pressurizing and supplying the electrolyzed water from the liquid plasma generating unit to the fluid spray unit; a gas plasma generating unit for applying a plasma reaction to gas to generate gas plasma; and a gas plasma supplying unit for pressurizing and supplying the gas plasma from the gas plasma generating unit to the fluid spray unit. [Reference numerals] (AA) Air; (BB) Water, additives

Description

플라즈마 유체 분사장치 {PLASMA FLUID SPRAY DEVICE}Plasma Fluid Injector {PLASMA FLUID SPRAY DEVICE}

본 발명은 전기분해 또는 플라즈마 반응을 일으켜 액체 또는 기체를 미립화 하거나 가압 분사하는 플라즈마 유체 분사장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma fluid injector for electrolytic or plasma reaction to atomize or pressurize a liquid or gas.

일반적인 미립화 분사장치는 공급 액체를 직접 가압하여 토출하거나 공급 액체에 가압 공기를 충돌함에 따라 공급 액체를 미립화 분사하여 도장, 코팅, 조립 및 가습 등에 사용된다.A general atomization injector is used for painting, coating, assembly and humidification by directly spraying the supply liquid or atomizing the supply liquid as the pressurized air collides with the supply liquid.

그러나 일반적인 미립화 분사장치는 분사되는 공간의 공기 중에 있는 세균 제거, 탈취, 휘발성 유기물질(VOCs) 분해 및 항균 등의 용도의 기능을 갖지 못한다.However, the general atomization injector does not have a function of removing bacteria, deodorizing, volatile organic substances (VOCs) and antibacterial in the air of the space to be injected.

예를 들면, 분사장치에 공급되는 기체나 액체에 포함되어 있는 세균을 제거할 수 있는 마이크로 필터가 사용되어 세균을 제거한다.For example, a micro filter capable of removing the bacteria contained in the gas or liquid supplied to the injector is used to remove the bacteria.

그러나 유지 비용이 많이 들고, 시간 경과에 따라 세균이 증식되어 오염된 상태로 분사시, 오히려 세균이 마이크로 필터에서 토출될 수 있다.However, maintenance costs are high, and when bacteria are grown and contaminated in time, the bacteria may be discharged from the micro filter.

또한, 마이크로 필터는 단순히 거르는 역할만 하므로 이후 외기에 대한 지속적인 살균, 항균 및 탈취 등의 기능을 수행할 수 없다.In addition, the micro filter simply serves as a filter and thus cannot perform functions such as continuous sterilization, antibacterial and deodorization of the outside air.

본 발명의 일 실시예는 전기분해 또는 플라즈마 반응을 일으켜 공급되는 액체 또는 기체를 미립화 하거나 가압 분사하는 플라즈마 유체 분사장치를 제공하는 것이다.One embodiment of the present invention is to provide a plasma fluid injector that atomizes or pressurizes the liquid or gas supplied by electrolysis or plasma reaction.

본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 유체 분사장치는, 가압된 유체를 분사하는 유체분사부, 액체에 전기분해 또는 플라즈마 반응을 가하여 전해수를 생성하는 액체 플라즈마 발생부, 상기 액체 플라즈마 발생부에서 상기 유체분사부로 상기 전해수를 가압하여 공급하는 전해수 공급부, 기체에 플라즈마 반응을 가하여 기체 플라즈마를 생성하는 기체 플라즈마 발생부, 및 상기 기체 플라즈마 발생부에서 상기 유체분사부로 상기 기체 플라즈마를 가압하여 공급하는 기체 플라즈마 공급부를 포함한다.Plasma fluid injector according to an embodiment of the present invention, the fluid injection unit for injecting the pressurized fluid, a liquid plasma generating unit for generating electrolytic water by applying electrolysis or plasma reaction to the liquid, the fluid in the liquid plasma generating unit An electrolytic water supply unit pressurizing and supplying the electrolyzed water to a spraying unit, a gas plasma generating unit generating a plasma plasma by applying a plasma reaction to a gas, and a gas plasma supply pressurizing and supplying the gas plasma from the gas plasma generating unit to the fluid spraying unit Contains wealth.

상기 액체 플라즈마 발생부는, 공급되는 액체를 수용하는 수조, 및 상기 수조에 내장되어 액체에 전기분해 또는 플라즈마 반응을 가하는 전기분해기 또는 액체 플라즈마 발생기를 포함할 수 있다.The liquid plasma generating unit may include a water tank accommodating a liquid to be supplied, and an electrolysis machine or a liquid plasma generator embedded in the water tank to apply an electrolysis or plasma reaction to the liquid.

상기 전해수 공급부는, 상기 액체 플라즈마 발생부와 상기 유체분사부를 연결하는 제1액체 관로에 설치되는 액체 정량펌프, 및 상기 액체 플라즈마 발생부와 상기 유체분사부를 연결하는 제2액체 관로에 설치되는 액체 개폐밸브와 액체 유량 조절밸브 중 적어도 어느 일 측을 포함할 수 있다.The electrolytic water supply unit, the liquid metering pump installed in the first liquid conduit connecting the liquid plasma generating unit and the fluid injection unit, and the liquid opening and closing installed in the second liquid conduit connecting the liquid plasma generating unit and the fluid injection unit At least one side of the valve and the liquid flow control valve may be included.

상기 기체 플라즈마 발생부는, 공급되는 기체를 수용하는 챔버, 및 상기 챔버에 내장되어 기체에 플라즈마 반응을 가하는 기체 플라즈마 발생기를 포함할 수 있다.The gas plasma generator may include a chamber for receiving a gas to be supplied, and a gas plasma generator built in the chamber to apply a plasma reaction to the gas.

상기 기체 플라즈마 공급부는, 상기 기체 플라즈마 발생부와 상기 유체분사부를 연결하는 제1기체 관로에 설치되는 기체 가압기를 포함할 수 있다.The gas plasma supply unit may include a gas pressurizer installed in a first gas pipe connecting the gas plasma generator and the fluid injection unit.

상기 기체 플라즈마 발생부에 직접 연결되거나, 상기 기체 플라즈마 발생부에 상기 기체 플라즈마 공급부를 개재하여 연결되어 이온 클러스터 기체를 분사하는 이온 클러스터 분사부를 더 포함할 수 있다.The method may further include an ion cluster spraying unit directly connected to the gas plasma generating unit or connected to the gas plasma generating unit via the gas plasma supply unit to spray ion cluster gas.

상기 기체 플라즈마 공급부는, 상기 기체 플라즈마 발생부와 상기 이온 클러스터 분사부를 연결하도록 상기 제1기체 관로에서 상기 기체 가압기와 상기 유체분사부 사이에 설치되는 기체 개폐밸브, 상기 기체 개폐밸브와 상기 기체 가압기 사이의 제1기체 관로를 상기 이온 클러스터 분사부에 연결하는 제2기체 관로, 및 상기 제2기체 관로에 설치되는 기체 유량 조절밸브를 더 포함할 수 있다.The gas plasma supply unit may include a gas open / close valve installed between the gas pressurizer and the fluid injection unit in the first gas conduit to connect the gas plasma generator and the ion cluster injection unit, between the gas open / close valve and the gas pressurizer. It may further include a second gas pipe connecting the first gas pipe of the ion cluster injection unit, and a gas flow rate control valve installed in the second gas pipe.

본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 유체 분사장치는, 가압된 유체를 분사하는 유체분사부, 상기 유체분사부의 토출 반대측에 구비되어 공급되는 액체에 전기분해 또는 플라즈마 반응을 가하여 전해수를 생성하는 액체 플라즈마 발생부, 상기 액체 플라즈마 발생부에 액체를 가압하여 공급하는 액체 공급부, 기체에 플라즈마 반응을 가하여 기체 플라즈마를 생성하는 기체 플라즈마 발생부, 및 상기 기체 플라즈마 발생부에서 상기 유체분사부로 상기 기체 플라즈마를 가압하여 공급하는 기체 플라즈마 공급부를 포함한다.Plasma fluid injector according to an embodiment of the present invention, the liquid injection unit for injecting the pressurized fluid, the liquid plasma generating electrolytic water by applying an electrolysis or plasma reaction to the liquid supplied provided on the opposite side to the discharge of the fluid injection unit A generation unit, a liquid supply unit for pressurizing and supplying liquid to the liquid plasma generating unit, a gas plasma generating unit for generating a gas plasma by applying a plasma reaction to the gas, and pressurizing the gas plasma from the gas plasma generating unit to the fluid spraying unit It includes a gas plasma supply unit for supplying.

상기 액체 공급부는, 물에 첨가제를 혼합하는 첨가제 혼합기, 상기 첨가제 혼합기에 연결되어 액체를 저장하는 수조, 및 상기 수조와 상기 액체 플라즈마 발생부를 연결하는 제1액체 관로에 설치되는 액체 정량펌프, 및 상기 수조와 상기 액체 플라즈마 발생부를 연결하는 제2액체 관로에 설치되는 액체 개폐밸브와 액체 유량 조절밸브를 포함할 수 있다.The liquid supply unit, an additive mixer for mixing the additives in water, a tank connected to the additive mixer to store the liquid, and a liquid metering pump installed in the first liquid conduit connecting the tank and the liquid plasma generating unit, and the It may include a liquid on-off valve and a liquid flow control valve installed in the second liquid pipe connecting the water tank and the liquid plasma generating unit.

이와 같이 본 발명의 일 실시예에 따르면, 전기분해 또는 플라즈마 반응이 가해진 전해수와 플라즈마 반응된 기체 플라즈마를 유체분사부를 통하여 분사하는 효과가 있다.Thus, according to one embodiment of the present invention, there is an effect of injecting the electrolytic water subjected to the electrolysis or the plasma reaction and the gas plasma reacted plasma through the fluid injection unit.

전기분해 또는 플라즈마 반응에 의하여, 옥시던트, 수산기 라디칼, 이온클러스터가 생성되므로 액체 및 기체 중에 포함되어 있는 세균이 제거되고, 액체 및 기체가 유체분사부를 통해 외부로 분사된다.By electrolysis or plasma reaction, oxidants, hydroxyl radicals, and ion clusters are generated, so that the bacteria contained in the liquid and gas are removed, and the liquid and gas are injected to the outside through the fluid injection unit.

따라서 외부에 분사된 옥시던트, 수산기 라디칼, 이온 클러스터는 외기 중에서 세균 제거, 탈취 효과, 항균 작용 및 휘발성 유기물 분해 등을 지속적으로 작용할 수 있다.Therefore, oxidants, hydroxyl radicals, and ion clusters injected to the outside may continuously act to remove bacteria, deodorant effect, antibacterial action, and volatile organic matter decomposition from the outside air.

이와 같이, 액체 및 기체에 전기분해 또는 플라즈마 반응을 일으켜 공급하므로 유체분사부는 본래 기능인 유체 공급, 제습 및 냉각 기능에 살균, 탈취, 항균 및 유기물 분해 등의 기능을 추가로 수행할 수 있다. 즉 유체분사부의 응용 범위가 확대된다.As such, since the electrolytic or plasma reaction is supplied to the liquid and the gas, the fluid spray unit may further perform functions such as sterilization, deodorization, antibacterial and organic decomposition in addition to the fluid supply, dehumidification, and cooling functions which are inherently functions. That is, the application range of the fluid injection unit is expanded.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 유체 분사장치의 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 유체 분사장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a plasma fluid injector according to a first embodiment of the present invention.
2 is a block diagram of a plasma fluid injector according to a second embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.

일 실시예의 플라즈마 유체 분사장치는 세균 제거를 위한 미세 필터를 별도로 구비하지 않으면서, 공급되는 액체에 대해서 전기분해 또는 플라즈마로, 공급되는 기체에 대해서 플라즈마로 수산기 라디칼 및 이온 클러스터를 작용시켜, 공급되는 액체와 기체에 포함되어 있는 세균을 제거할 수 있다. 반응 후 외기로 토출되는 액체와 기체는 공기 중에 있는 세균 제거, 탈취, 휘발성 유기물질(VOCs) 분해 및 항균 등의 작용을 지속적으로 수행할 수 있다.The plasma fluid injector of one embodiment is provided with electrolytic or plasma for the liquid supplied and the hydroxyl radicals and ion clusters with the plasma for the supplied gas, without having a separate micro filter for removing bacteria. It can remove bacteria contained in liquids and gases. The liquid and gas discharged to the outside after the reaction can continuously perform the action of removing bacteria in the air, deodorizing, decomposition of volatile organic substances (VOCs) and antibacterial.

예를 들면, 공급되는 액체 및 기체가 물과 공기일 수 있다. 플라즈마 유체 분사장치에서 일어나는 반응 및 효과에 대해 설명한다. 일반적인 물의 전기분해 식은 다음과 같다.For example, the liquids and gases supplied may be water and air. The reaction and effects occurring in the plasma fluid injector will be described. The general formula of water electrolysis is as follows.

2H2O → O2 + 4H+ + 4e-(양극에서) 2H 2 O → O 2 + 4H + + 4e - ( from the cathode)

2H2O + 2e- → H2 + 2OH-(음극에서) 2H 2 O + 2e - → H 2 + 2OH - ( from the cathode)

따라서 양극과 음극 사이에 분리막을 구비하는 경우, 산성수 및 알칼리수는 살균 및 음용에 이용될 수 있다. 양극과 음극 사이에 분리막이 없는 경우, 수소이온(4H+)과 알칼리이온(2OH-)이 재빨리 반응해 물이 되지만, 이러한 이온은 거의 살균 작용하지 않는다.Therefore, when a separator is provided between the positive electrode and the negative electrode, acidic water and alkaline water may be used for sterilization and drinking. If there is no separation membrane between the anode and the cathode, the hydrogen ions (4H +) and alkali ions (2OH -), but the water to a quick response, and does not act on the ion is almost sterile.

그러나 액체 플라즈마 발생부를 통해 더 높은 에너지가 액체에 가해지면 산소분자(O2)가 전자(e-)를 받아들여 초과산화이온라디칼(O2·-)이 되며, 그 결과 수산화라디칼(2OH-)이 생성된다. 그 반응식은 다음과 같다.However, the liquid plasma generating portion higher energy electrons (e -) is applied to the liquid oxygen molecules (O 2) by - and this, as a result hydroxyl radical (2OH -) to let excess oxide ion radical received (O 2 ·) Is generated. The scheme is as follows.

2H2O → O2 + 4H+ + 4e-2H 2 O → O 2 + 4H + + 4e-

O2 + e- → O2·- O 2 + e - → O 2 · -

중간 과정에 형성되는 초과산화이온라디칼(O2·-), 과산화수소는 모두 살균력을 가지고 있다. 이 물질들, 즉 초과산화이온라디칼(O2·-), 과산화수소는 거의 석출되지 않지만 물질 자체로도 불안정하여 재빨리 살균시키고, 산소 또는 물로 변하여 다른 부분에 영향을 끼치지 않는다.The excess oxide ions (O 2 · - ) and hydrogen peroxide formed in the intermediate process are all bactericidal. These substances, i.e., superoxide ions (O 2 · - ), hydrogen peroxide are hardly precipitated, but they are also unstable by the substance itself and quickly sterilize, and do not affect other parts by changing to oxygen or water.

또한, 살균 및 탈취 등의 효율을 증가시키기 위하여, 물에 염산 및 염화나트륨 등을 혼합한다. 이 혼합물을 전기분해 하여 발생되는 차아염소산수 또는 차아염소나트륨은 살균 및 탈취 효율을 증가시킨다.In addition, in order to increase the efficiency of sterilization and deodorization, hydrochloric acid, sodium chloride and the like are mixed with water. Hypochlorite water or sodium hypochlorite from the electrolysis of this mixture increases the sterilization and deodorization efficiency.

기체 플라즈마 발생부에서 고전압이 흐르는 전극 사이에 공기를 통과시키면, 공기 중의 수증기가 수소이온과 수산화이온으로 분해되며, 동시에 오존발생기와 같은 원리로 오존이 생성되고, 그 오존들이 전자를 받아 오존음이온이 생성된다.When air is passed between the electrodes with high voltage in the gas plasma generating unit, water vapor in the air is decomposed into hydrogen ions and hydroxide ions, and at the same time, ozone is generated on the same principle as the ozone generator, and the ozone receives electrons to generate ozone anion. Is generated.

이때, 수산화이온은 오존음이온과 반응하여 수산기음이온과 강산화성음이온을 만들어낸다. 이렇게 생성된 음이온들은 핵 역할을 하여 주변의 기체를 끌어 모아, 이온 클러스터를 형성한다.At this time, the hydroxide ion reacts with the ozone anion to produce hydroxyl anion and a strong oxidizing anion. The negative ions thus formed act as a nucleus to attract the surrounding gas and form ion clusters.

이온 클러스터는 공기 중에 있는 바이러스, 박테리아 및 곰팡이균 등과 같은 부유 세균의 주변을 감싸 반응하여 불황성화는 세균작용, 암모니아 및 담배 냄새 등과 같은 냄새 또는 악취물질과 반응하여 분해하는 탈취작용, 또한 휘발성 유기화합물과 같은 유해물질과 결합하면 표면에서 OH라디칼이 생성되면서 유해물질을 분해한다.Ion clusters react around airborne bacteria, such as viruses, bacteria, and fungi, so that saturation can decompose and react with odors or odorous substances, such as ammonia and tobacco odors, and volatile organic compounds. When combined with harmful substances such as OH radicals are generated on the surface to decompose harmful substances.

따라서 깨끗한 공기일수록 음이온이 많으며, 음이온이 많을수록 먼지나 유해물질이 적어진다. 강산화성 음이온은 물과도 쉽게 반응하여 이온 클러스터를 형성하기 때문에, 분사기술과 결합하여 더욱 증대된 효과를 기대할 수 있다. 이와 같은 작용 효과를 구현하는 일 실시예의 플라즈마 유체 분사장치에 대하여 설명한다.Therefore, the more clean air, the more negative ions, the more negative ions, less dust and harmful substances. Strongly oxidizing anions easily react with water to form ionic clusters, and thus can be expected to have an increased effect in combination with injection techniques. A plasma fluid injector according to an embodiment for implementing such an operation and effect will be described.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 유체 분사장치의 구성도이다. 도 1을 참조하면, 제1 실시예의 플라즈마 유체 분사장치(1)는 가압된 유체를 분사하는 유체분사부(10), 액체 플라즈마 발생부(20), 전해수 공급부(30), 기체 플라즈마 발생부(40) 및 기체 플라즈마 공급부(50)를 포함한다.1 is a block diagram of a plasma fluid injector according to a first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the plasma fluid injector 1 of the first embodiment may include a fluid spray unit 10 for injecting pressurized fluid, a liquid plasma generator 20, an electrolytic water supply unit 30, and a gas plasma generator ( 40 and a gas plasma supply 50.

또한, 제1 실시예의 플라즈마 유체 분사장치(1)는 기체 플라즈마 발생부(40)에 직접 연결되거나, 기체 플라즈마 발생부(40)에 기체 플라즈마 공급부(50)를 개재하여 연결되어 이온 클러스터 기체를 분사하는 이온 클러스터 분사부(60)를 더 포함할 수 있다.In addition, the plasma fluid injector 1 of the first embodiment is directly connected to the gas plasma generating unit 40 or connected to the gas plasma generating unit 40 via the gas plasma supply unit 50 to inject the ion cluster gas. The ion cluster injection unit 60 may further include.

유체분사부(10)는 가압된 1유체 또는 2유체를 혼합하여 분사하도록 형성된다. 예를 들면, 유체분사부(10)는 액체, 기체, 또는 액체와 기체를 혼합하여 분사하도록 구성된다. 유체분사부(10)는 공지의 노즐로 구성될 수 있다. 제1 실시예에서 유체분사부(10)는 전해수와 기체 플라즈마를 혼합하여 분사한다.The fluid injection unit 10 is formed to mix and spray a pressurized one or two fluids. For example, the fluid injection unit 10 is configured to spray a liquid, a gas, or a mixture of a liquid and a gas. The fluid injection unit 10 may be configured of a known nozzle. In the first embodiment, the fluid spray unit 10 mixes and sprays electrolytic water and gas plasma.

액체 플라즈마 발생부(20)는 액체에 전기분해 또는 플라즈마 반응을 가하여 전해수를 생성하도록 구성된다. 예를 들면, 액체 플라즈마 발생부(20)는 공급되는 액체를 수용하는 수조(21), 및 수조(21)에 내장되어 액체에 전기분해 또는 플라즈마 반응을 가하는 전기분해기 또는 액체 플라즈마 발생기(22)를 포함한다.The liquid plasma generating unit 20 is configured to generate electrolytic water by applying electrolysis or plasma reaction to the liquid. For example, the liquid plasma generator 20 includes a water tank 21 containing a liquid to be supplied, and an electrolyzer or liquid plasma generator 22 embedded in the water tank 21 to apply electrolysis or plasma reaction to the liquid. Include.

수조(21)의 일측에 물 또는 첨가제가 공급된다. 전기분해기 또는 액체 플라즈마 발생기(22)는 수조(21)에 내장되어 물을 전기분해하거나 물에 플라즈마를 가하여 전해수를 생성한다. 전해수는 수조(21)의 다른 일측을 통하여 전해수 공급부(30)로 공급된다.One side of the water tank 21 is supplied with water or additives. The electrolyzer or liquid plasma generator 22 is embedded in the water tank 21 to electrolyze water or apply plasma to the water to generate electrolytic water. The electrolyzed water is supplied to the electrolyzed water supply unit 30 through the other side of the water tank 21.

전해수 공급부(30)는 액체 플라즈마 발생부(20)에서 유체분사부(10)로 전해수를 가압하여 공급하도록 구성된다. 예를 들면, 전해수 공급부(30)는 액체 플라즈마 발생부(20)와 유체분사부(10)를 연결하는 제1액체 관로(W1)에 설치되는 액체 정량펌프(31)를 구비하거나, 액체 플라즈마 발생부(20)와 유체분사부(10)를 연결하는 제2액체 관로(W2)에 설치되는 액체 개폐밸브(32)와 액체 유량 조절밸브(33)을 포함할 수 있다.The electrolytic water supply unit 30 is configured to pressurize and supply the electrolytic water from the liquid plasma generating unit 20 to the fluid injection unit 10. For example, the electrolytic water supply unit 30 includes a liquid metering pump 31 installed in the first liquid conduit W1 connecting the liquid plasma generating unit 20 and the fluid spraying unit 10 to generate the liquid plasma. It may include a liquid on-off valve 32 and a liquid flow rate control valve 33 is installed in the second liquid pipe (W2) connecting the portion 20 and the fluid spray unit 10.

액체 정량펌프(31)는 제1액체 관로(W1)를 통하여 수조(21)에서 유체분사부(10)로 공급되는 전해수의 가압 정도 및 전해수의 유량을 조절한다. 액체 개폐밸브(32)는 제1액체 관로(W1) 사용시 제2액체 관로(W2)를 차단한다. 그리고 액체 정량펌프(31)가 구동되지 않을 때, 액체 개폐밸브(32)는 개방되어, 액체 유량 조절밸브(33)에서 유량 조절된 전해수를 유체분사부(10)로 공급한다. 이를 위하여, 제2액체 관로(W2)에 가압 펌프(미도시)를 더 구비할 수 있다.The liquid metering pump 31 adjusts the degree of pressurization of the electrolyzed water and the flow rate of the electrolyzed water supplied from the water tank 21 to the fluid injection unit 10 through the first liquid pipe W1. The liquid open / close valve 32 blocks the second liquid pipe W2 when the first liquid pipe W1 is used. When the liquid metering pump 31 is not driven, the liquid open / close valve 32 is opened to supply the electrolytic water flow rate regulated by the liquid flow rate control valve 33 to the fluid injection unit 10. To this end, a pressure pump (not shown) may be further provided in the second liquid conduit W2.

기체 플라즈마 발생부(40)는 기체에 플라즈마 반응을 가하여 기체 플라즈마를 생성하도록 구성된다. 예를 들면, 기체 플라즈마 발생부(40)는 공급되는 기체를 수용하는 챔버(41), 및 챔버(41)에 내장되어 기체에 플라즈마 반응을 가하는 기체 플라즈마 발생기(42)를 포함한다.The gas plasma generator 40 And apply a plasma reaction to the gas to produce a gas plasma. For example, the gas plasma generating unit 40 includes a chamber 41 containing a gas to be supplied, and a gas plasma generator 42 embedded in the chamber 41 to apply a plasma reaction to the gas.

챔버(41)의 일측에 공기가 공급되며, 챔버(41)는 일측에 구비된 필터(43)를 통하여, 공기에 포함된 이물질을 필터링 한다. 생성된 기체 플라즈마는 챔버(41)의 다른 일측을 통하여 기체 플라즈마 공급부(50)로 공급된다.Air is supplied to one side of the chamber 41, and the chamber 41 filters foreign substances contained in the air through the filter 43 provided at one side. The generated gas plasma is supplied to the gas plasma supply unit 50 through the other side of the chamber 41.

기체 플라즈마 공급부(50)는 기체 플라즈마 발생부(40)에서 유체분사부(10)로 기체 플라즈마를 가압하여 공급하도록 구성된다. 예를 들면, 기체 플라즈마 공급부(50)는 기체 플라즈마 발생부(40)와 유체분사부(10)를 연결하는 제1기체 관로(G1)에 설치되는 기체 가압기(51)를 포함한다.The gas plasma supply unit 50 is configured to pressurize and supply the gas plasma from the gas plasma generation unit 40 to the fluid injection unit 10. For example, the gas plasma supply unit 50 includes a gas pressurizer 51 installed in the first gas pipeline G1 connecting the gas plasma generator 40 and the fluid injection unit 10.

기체 가압기(51)는 컴프레서 또는 블로어로 구성되어, 제1기체 관로(G1)를 통하여 기체 플라즈마를 유체분사부(10)로 공급한다. 기체 가압기(51)의 토출측에 기체 레귤레이터(511)가 구비될 수 있다. 기체 레귤레이터(511)는 기체 가압기(51)에서 토출되는 기체 플라즈마의 토출 압력을 조정한다.The gas pressurizer 51 is configured as a compressor or a blower, and supplies a gas plasma to the fluid injection unit 10 through the first gas pipeline G1. The gas regulator 511 may be provided on the discharge side of the gas pressurizer 51. The gas regulator 511 adjusts the discharge pressure of the gas plasma discharged from the gas pressurizer 51.

또한, 기체 플라즈마 공급부(50)는 기체 개폐밸브(52), 제2기체 관로(G2), 및 기체 유량 조절밸브(53)을 더 포함할 수 있다. 기체 개폐밸브(52)는 제1기체 관로(G1)에서 기체 가압기(51)와 유체분사부(10) 사이에 설치되어, 제2, 제3기체 관로(G2, G3) 사용시 제1기체 관로(G1)를 차단할 수 있다. In addition, the gas plasma supply unit 50 may further include a gas open / close valve 52, a second gas pipeline G2, and a gas flow rate control valve 53. The gas opening / closing valve 52 is installed between the gas pressurizer 51 and the fluid injection part 10 in the first gas pipeline G1, so that when the second and third gas pipelines G2 and G3 are used, the first gas pipeline ( G1) can be blocked.

기체 개폐밸브(52)는 개방되어 기체 가압기(51)에서 공급되는 기체 플라즈마를 유체분사부(10)로 공급하고, 폐쇄되어 기체 플라즈마를 이온 클러스터 분사부(60)로 공급한다. 즉 기체 개폐밸브(52)는 기체 가압기(51)를 제1, 제2기체 관로(G1, G2)에 선택적으로 연결한다.The gas open / close valve 52 is opened to supply the gas plasma supplied from the gas pressurizer 51 to the fluid injection unit 10, and close to supply the gas plasma to the ion cluster injection unit 60. That is, the gas open / close valve 52 selectively connects the gas pressurizer 51 to the first and second gas pipelines G1 and G2.

제2기체 관로(G2)는 기체 개폐밸브(52)와 기체 가압기(51) 사이의 제1기체 관로(G1)를 이온 클러스터 분사부(60)에 연결한다. 기체 유량 조절밸브(53)는 제2기체 관로(G2)에 설치되어, 이온 클러스터 분사부(60)로 공급되는 기체 플라즈마의 유량을 제어한다. 또한, 기체 유량 조절밸브(53)는 제3기체 관로(G3)로 챔버(41)에 직접 연결되어, 공급되는 기체 플라즈마의 유량을 조절할 수도 있다. 이를 위하여, 제3기체 관로(G3)에 가압 펌프(미도시)를 더 구비할 수 있다.The second gas pipeline G2 connects the first gas pipeline G1 between the gas open / close valve 52 and the gas pressurizer 51 to the ion cluster injection unit 60. The gas flow rate control valve 53 is installed in the second gas pipeline G2 to control the flow rate of the gas plasma supplied to the ion cluster injection unit 60. In addition, the gas flow rate control valve 53 may be directly connected to the chamber 41 by the third gas pipeline G3 to adjust the flow rate of the supplied gas plasma. To this end, the third gas pipe (G3) may be further provided with a pressure pump (not shown).

이하에서 본 발명의 제2 실시예에 대하여 설명한다. 제1 실시예와 비교하여 동일한 구성을 생략하고, 서로 다른 구성을 설명한다. 제1 실시예의 플라즈마 유체 분사장치(1)는 이온 클러스터 분사부(60)와 제2, 제3기체 관로(G2, G3) 및 기체 유량 조절밸브(53)를 구비하고, 제2 실시예의 플라즈마 유체 분사장치(2)는 이들을 구비하지 않는다.A second embodiment of the present invention will be described below. Compared with the first embodiment, the same configuration is omitted, and different configurations will be described. The plasma fluid injector 1 of the first embodiment includes an ion cluster ejection unit 60, second and third gas pipelines G2 and G3, and a gas flow control valve 53, and the plasma fluid of the second embodiment. The injector 2 does not have them.

도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 유체 분사장치의 구성도이다. 도 2를 참조하면, 제2 실시예의 플라즈마 유체 분사장치(2)는 액체 플라즈마 발생부(220)를 유체분사부(10)의 토출 반대측에 구비된다. 즉 액체 플라즈마 발생부(220)는 전기분해기 또는 액체 플라즈마 발생기로 형성되어, 유체분사부(10)의 유입측에 장착된다.2 is a block diagram of a plasma fluid injector according to a second embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the plasma fluid injector 2 of the second embodiment is provided with a liquid plasma generator 220 on the opposite side of the fluid spray unit 10. That is, the liquid plasma generation unit 220 is formed as an electrolysis device or a liquid plasma generator, and is mounted on the inflow side of the fluid injection unit 10.

액체 공급부(230)는 액체 플라즈마 발생부(220)에 액체를 가압하여 공급한다. 즉 제2 실시예에서는 액체 공급부(230)가 액체를 공급하고, 액체 플라즈마 발생부(220)에서 공급되는 액체에 전기분해 또는 플라즈마 반응을 가하여 전해수를 생성하여, 유체분사부(10)에서 바로 분사될 수 있게 한다.The liquid supply unit 230 pressurizes and supplies the liquid to the liquid plasma generator 220. That is, in the second embodiment, the liquid supply unit 230 supplies the liquid, generates electrolytic water by applying electrolysis or plasma reaction to the liquid supplied from the liquid plasma generator 220, and directly sprays the fluid from the fluid spray unit 10. To be possible.

또한 액체 공급부(230)는 물에 첨가제를 혼합하는 첨가제 혼합기(231), 첨가제 혼합기(231)에 연결되어 액체를 저장하는 수조(232), 및 수조(232)와 액체 플라즈마 발생부(220)를 연결하는 제1액체 관로(W1)에 설치되는 액체 정량펌프(31), 및 수조(232)와 액체 플라즈마 발생부(220)를 연결하는 제2액체 관로(W2)에 설치되는 액체 개폐밸브(32)와 액체 유량 조절밸브(33)를 포함한다.In addition, the liquid supply unit 230 may include an additive mixer 231 for mixing additives with water, a water tank 232 connected to the additive mixer 231 to store liquid, and a water tank 232 and a liquid plasma generator 220. The liquid metering pump 31 installed in the first liquid conduit W1 to be connected, and the liquid on / off valve 32 installed in the second liquid conduit W2 connecting the water tank 232 and the liquid plasma generator 220. ) And a liquid flow control valve 33.

첨가제 혼합기(231)는 물에 희석 염산이나 염화나트륨 등의 참가제를 혼합시켜, 공급함으로써 액체 플라즈마 발생부(220)에서 생성되는 전해수로 세균을 제거하고, 탈취 및 항균 등에 대하여, 더욱 효율적인 작용을 기대할 수 있게 한다.The additive mixer 231 mixes and supplies a participant such as dilute hydrochloric acid or sodium chloride to water to remove bacteria with electrolyzed water generated in the liquid plasma generating unit 220, and expects a more efficient action against deodorization and antibacterial. To be able.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, And it goes without saying that the invention belongs to the scope of the invention.

1, 2: 플라즈마 유체 분사장치 10: 유체분사부
20, 220: 액체 플라즈마 발생부 21: 수조
22: 전기분해기 또는 액체 플라즈마 발생기
30: 전해수 공급부 31: 액체 정량펌프
32: 액체 개폐밸브 33: 액체 유량 조절밸브
40: 기체 플라즈마 발생부 41: 챔버
42: 기체 플라즈마 발생기 43: 필터
50: 기체 플라즈마 공급부 51: 기체 가압기
52: 기체 개폐밸브 53: 기체 유량 조절밸브
60: 이온 클러스터 분사부 230: 액체 공급부
231: 첨가제 혼합기 232: 수조
511: 기체 레귤레이터 G1: 제1기체 관로
G2: 제2기체 관로 G3: 제3기체 관로
W1: 제1액체 관로 W2: 제2액체 관로1, 2: plasma fluid injector 10: fluid injection unit
20, 220: liquid plasma generator 21: water tank
22: electrolyzer or liquid plasma generator
30: electrolytic water supply unit 31: liquid metering pump
32: liquid open / close valve 33: liquid flow control valve
40: gas plasma generating unit 41: chamber
42: gas plasma generator 43: filter
50: gas plasma supply unit 51: gas pressurizer
52: gas opening and closing valve 53: gas flow control valve
60: ion cluster injection unit 230: liquid supply unit
231: additive mixer 232: water bath
511: gas regulator G1: first gas pipeline
G2: second gas pipeline G3: third gas pipeline
W1: first liquid pipeline W2: second liquid pipeline

Claims (9)

가압된 유체를 분사하는 유체분사부;
액체에 전기분해 또는 플라즈마 반응을 가하여 전해수를 생성하는 액체 플라즈마 발생부;
상기 액체 플라즈마 발생부에서 상기 유체분사부로 상기 전해수를 가압하여 공급하는 전해수 공급부;
기체에 플라즈마 반응을 가하여 기체 플라즈마를 생성하는 기체 플라즈마 발생부; 및
상기 기체 플라즈마 발생부에서 상기 유체분사부로 상기 기체 플라즈마를 가압하여 공급하는 기체 플라즈마 공급부
를 포함하며,
상기 기체 플라즈마 발생부에 직접 연결되거나,
상기 기체 플라즈마 발생부에 상기 기체 플라즈마 공급부를 개재하여 연결되어 이온 클러스터 기체를 분사하는 이온 클러스터 분사부
를 더 포함하는 플라즈마 유체 분사장치.
A fluid injection unit for injecting pressurized fluid;
A liquid plasma generating unit generating electrolytic water by applying electrolysis or plasma reaction to the liquid;
An electrolytic water supply unit configured to pressurize and supply the electrolytic water from the liquid plasma generation unit to the fluid injection unit;
A gas plasma generator for generating a gas plasma by applying a plasma reaction to the gas; And
A gas plasma supply unit for pressurizing and supplying the gas plasma from the gas plasma generation unit to the fluid injection unit
Including;
Directly connected to the gas plasma generating unit;
An ion cluster injection unit connected to the gas plasma generation unit via the gas plasma supply unit to inject an ion cluster gas
Plasma fluid injector further comprising.
제1항에 있어서,
상기 액체 플라즈마 발생부는,
공급되는 액체를 수용하는 수조, 및
상기 수조에 내장되어 액체에 전기분해 또는 플라즈마 반응을 가하는 전기분해기 또는 액체 플라즈마 발생기
를 포함하는 플라즈마 유체 분사장치.
The method of claim 1,
The liquid plasma generator,
A tank containing liquid to be supplied, and
Electrolyzer or liquid plasma generator which is embedded in the tank and applies electrolysis or plasma reaction to the liquid
Plasma fluid injector comprising a.
제2항에 있어서,
상기 전해수 공급부는,
상기 액체 플라즈마 발생부와 상기 유체분사부를 연결하는 제1액체 관로에 설치되는 액체 정량펌프, 및
상기 액체 플라즈마 발생부와 상기 유체분사부를 연결하는 제2액체 관로에 설치되는 액체 개폐밸브와 액체 유량 조절밸브
중 적어도 어느 일 측을 포함하는 플라즈마 유체 분사장치.
3. The method of claim 2,
The electrolytic water supply unit,
A liquid metering pump installed in a first liquid conduit connecting the liquid plasma generating unit and the fluid injection unit;
A liquid on / off valve and a liquid flow rate control valve installed in a second liquid conduit connecting the liquid plasma generating unit and the fluid injection unit
Plasma fluid injector comprising at least any one side.
제1항에 있어서,
상기 기체 플라즈마 발생부는,
공급되는 기체를 수용하는 챔버, 및
상기 챔버에 내장되어 기체에 플라즈마 반응을 가하는 기체 플라즈마 발생기
를 포함하는 플라즈마 유체 분사장치.
The method of claim 1,
The gas plasma generating unit,
A chamber containing a gas to be supplied, and
Gas plasma generator embedded in the chamber to apply a plasma reaction to the gas
Plasma fluid injector comprising a.
제4항에 있어서,
상기 기체 플라즈마 공급부는,
상기 기체 플라즈마 발생부와 상기 유체분사부를 연결하는 제1기체 관로에 설치되는 기체 가압기
를 포함하는 플라즈마 유체 분사장치.
5. The method of claim 4,
The gas plasma supply unit,
Gas pressurizer installed in the first gas pipe connecting the gas plasma generating unit and the fluid injection unit
Plasma fluid injector comprising a.
삭제delete 제5항에 있어서,
상기 기체 플라즈마 공급부는,
상기 기체 플라즈마 발생부와 상기 이온 클러스터 분사부를 연결하도록 상기 제1기체 관로에서 상기 기체 가압기와 상기 유체분사부 사이에 설치되는 기체 개폐밸브,
상기 기체 개폐밸브와 상기 기체 가압기 사이의 제1기체 관로를 상기 이온 클러스터 분사부에 연결하는 제2기체 관로, 및
상기 제2기체 관로에 설치되는 기체 유량 조절밸브
를 더 포함하는 플라즈마 유체 분사장치.
The method of claim 5,
The gas plasma supply unit,
A gas on / off valve installed between the gas pressurizer and the fluid injection unit in the first gas pipeline to connect the gas plasma generator and the ion cluster injection unit;
A second gas conduit connecting the first gas conduit between the gas open / close valve and the gas pressurizer to the ion cluster injection unit; and
Gas flow rate control valve installed in the second gas pipeline
Plasma fluid injector further comprising.
가압된 유체를 분사하는 유체분사부;
상기 유체분사부의 토출 반대측에 구비되어 공급되는 액체에 전기분해 또는 플라즈마 반응을 가하여 전해수를 생성하는 액체 플라즈마 발생부;
상기 액체 플라즈마 발생부에 액체를 가압하여 공급하는 액체 공급부;
기체에 플라즈마 반응을 가하여 기체 플라즈마를 생성하는 기체 플라즈마 발생부; 및
상기 기체 플라즈마 발생부에서 상기 유체분사부로 상기 기체 플라즈마를 가압하여 공급하는 기체 플라즈마 공급부
를 포함하며,
상기 액체 공급부는,
물에 첨가제를 혼합하는 첨가제 혼합기
를 포함하는 플라즈마 유체 분사장치.
A fluid injection unit for injecting pressurized fluid;
A liquid plasma generator for generating electrolytic water by applying electrolysis or a plasma reaction to a liquid supplied and provided on the opposite side of the fluid injection unit;
A liquid supply unit pressurizing and supplying a liquid to the liquid plasma generating unit;
A gas plasma generator for generating a gas plasma by applying a plasma reaction to the gas; And
A gas plasma supply unit for pressurizing and supplying the gas plasma from the gas plasma generation unit to the fluid injection unit
Including;
Wherein the liquid supply portion includes:
Additive Mixer for Mixing Additives to Water
Plasma fluid injector comprising a.
제8항에 있어서,
상기 액체 공급부는,
상기 첨가제 혼합기에 연결되어 액체를 저장하는 수조, 및
상기 수조와 상기 액체 플라즈마 발생부를 연결하는 제1액체 관로에 설치되는 액체 정량펌프, 및
상기 수조와 상기 액체 플라즈마 발생부를 연결하는 제2액체 관로에 설치되는 액체 개폐밸브와 액체 유량 조절밸브
를 더 포함하는 플라즈마 유체 분사장치.9. The method of claim 8,
Wherein the liquid supply portion includes:
A tank connected to the additive mixer to store a liquid, and
A liquid metering pump installed in a first liquid conduit connecting the water tank and the liquid plasma generator;
A liquid on / off valve and a liquid flow rate control valve installed in a second liquid pipe connecting the water tank and the liquid plasma generator.
Plasma fluid injector further comprising.
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