KR101329408B1 - Apparatus for directionally solidfying silicion - Google Patents
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Abstract
본 발명은 실리콘의 일방향 응고장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 신속한 용해가 가능하면서도 응고시 불순물 혼입이 방지될 수 있는 실리콘의 일방향 응고장치에 관한 것이다.
본 발명의 일측면에 따른 일방향 응고장치는 하우징, 상기 하우징 내에 포함되고 중공의 내부를 가지는 유도가열부, 상기 하우징 내에 포함되고, 상기 유도가열부의 중공의 내부와 연통되는 중공의 내부를 가지는 일방향 응고부, 및 상기 유도가열부와 상기 일방향 응고부의 연통되는 중공의 내부를 승강기에 의해 승하강하는 몰드를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a unidirectional coagulation device of silicon, and more particularly, to a unidirectional coagulation device of silicon capable of rapid dissolution while preventing impurities from being mixed during coagulation.
One-way solidification apparatus according to an aspect of the present invention is a one-way solidification device having a housing, an induction heating part contained in the housing and having a hollow interior, the inside of the hollow, which is contained in the housing and communicates with the interior of the hollow of the induction heating unit And a mold for elevating the inside of the hollow in communication with the induction heating unit and the one-way solidification unit by an elevator.
Description
본 발명은 실리콘의 일방향 응고장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 신속한 용해가 가능하면서도 응고시 불순물 혼입이 방지될 수 있는 실리콘의 일방향 응고장치에 관한 것이다.The present invention relates to a unidirectional coagulation device of silicon, and more particularly, to a unidirectional coagulation device of silicon which is capable of rapid dissolution and prevents impurities from mixing during coagulation.
실리콘은 태양전지나 반도체용 웨이퍼 등으로 사용되는 재료로서 높은 순도를 요구받고 있다. 통상 6N(99.9999중량%) 이상의 순도를 요구받는 경우가 많으며 때에 따라서는 10N까지의 높은 순도도 요구받고 있다.
Silicon is required for high purity as a material used for solar cells, semiconductor wafers and the like. In general, a purity of 6N (99.9999% by weight) or more is often required, and a high purity of up to 10N is sometimes required.
이를 위해서는 원료로부터 제조된 실리콘은 진공정련, 슬래그 정련 등의 다양한 과정을 거쳐서 고순도 실리콘으로 제조될 수 있다. 이때, 태양전지와 같은 다결정 실리콘들은 일방향 응고과정을 거쳐서 제조되게 되는데, 일방향 응고를 위해서 분위기가 유지되는 챔버내에서 온도 구배를 제어하게 된다.
To this end, the silicon produced from the raw material may be made of high purity silicon through various processes such as vacuum refining and slag refining. In this case, polycrystalline silicon such as solar cells are manufactured through a one-way solidification process, and the temperature gradient is controlled in a chamber in which an atmosphere is maintained for one-way solidification.
이를 위해서, 통상 정련된 실리콘을 그대로 장입시키는 것이 아니라, 일단 응고시킨 후, 다시 상기 응고된 실리콘을 적당한 크기로 파쇄한 후 도가니 속에서 재용해시키고 상기 재용해된 실리콘을 일방향 응고하게 된다.
For this purpose, instead of charging the refined silicon as it is, after solidifying once, the solidified silicon is crushed to an appropriate size, and then re-dissolved in the crucible, and the re-dissolved silicon is unidirectionally solidified.
그런데, 이때 실리콘의 재용해와 응고를 위해서는 통상 동일한 가열 수단을 사용하는 것이 일반적이며, 이때 일방향 응고시의 온도구배를 제어하기 위하여 저항가열을 사용하는 것이 보통이다. 그런데, 저항가열은 온도 구배는 정밀하게 제어할 수 있다는 장점이 있으나, 단시간에 빠른 속도로 대상물을 용해시키기 어렵다는 문제가 있다.By the way, it is common to use the same heating means for the re-dissolution and solidification of silicon, it is common to use resistance heating to control the temperature gradient during one-way solidification. By the way, resistance heating has the advantage that the temperature gradient can be precisely controlled, but there is a problem that it is difficult to dissolve the object at a high speed in a short time.
본 발명의 한가지 측면에 따르면, 빠른 용해와 정밀한 온도구배에 따른 일방향 응고가 모두 가능한 일방향 응고장치가 제공될 수 있다.
According to one aspect of the present invention, there can be provided a one-way solidification apparatus capable of both rapid dissolution and one-way solidification according to a precise temperature gradient.
또한, 본 발명의 또한가지 측면에 따르면, 불순물의 혼입이 최소화된 일방향 응고장치가 제공된다.
In addition, according to another aspect of the present invention, there is provided a one-way coagulation apparatus with minimal incorporation of impurities.
또한, 본 발명의 또다른 한가지 측면에 따르면, 단시간에 다량의 실리콘을 일방향 응고시킬 수 있는 일방향 응고장치가 제공된다.
In addition, according to another aspect of the present invention, there is provided a one-way solidification apparatus capable of one-way solidification of a large amount of silicon in a short time.
본 발명의 과제는 상술한 내용에 한정되지 않는다. 본 발명의 또다른 과제는 본 발명 명세서에 기재된 사항으로부터 이해될 수 있을 것이다.The subject of this invention is not limited to what was mentioned above. Another object of the present invention will be understood from the matter described in the present specification.
본 발명의 일측면에 따른 일방향 응고장치는 하우징, 상기 하우징 내에 포함되고 중공의 내부를 가지는 유도가열부, 상기 하우징 내에 포함되고, 상기 유도가열부의 중공의 내부와 연통되는 중공의 내부를 가지는 일방향 응고부, 및 상기 유도가열부와 상기 일방향 응고부의 연통되는 중공의 내부를 승강기에 의해 승하강하는 몰드를 포함하는 것을 특징으로 한다.
One-way solidification apparatus according to an aspect of the present invention is a one-way solidification device having a housing, an induction heating part contained in the housing and having a hollow interior, the inside of the hollow, which is contained in the housing and communicates with the interior of the hollow of the induction heating unit And a mold for elevating the inside of the hollow in communication with the induction heating unit and the one-way solidification unit by an elevator.
이때, 상기 하우징은 상부 하우징과 하부 하우징으로 이루어지고, 상기 유도가열부가 상기 상부 하우징과 하부 하우징 중 하나인 유도가열부 하우징에 수용되며, 상기 일방향 응고부가 상기 상부 하우징과 하부 하우징 중 상기 유도가열부가 수용되지 않은 나머지 하나인 일방향 응고부 하우징에 수용될 수 있다.
In this case, the housing is composed of an upper housing and a lower housing, the induction heating unit is accommodated in the induction heating unit housing which is one of the upper housing and the lower housing, the one-way solidification portion of the upper housing and the lower housing of the induction heating portion The other one, which is not received, may be accommodated in the one-way solidification housing.
또한, 상기 유도가열부 하우징과 상기 일방향 응고부 하우징은 분리가 가능한 것이 유리하다.
In addition, the induction heating unit housing and the one-way solidification unit housing is advantageously separable.
그리고, 상기 일방향 응고부 하우징이 복수개인 것이 바람직하다.
And, it is preferable that there are a plurality of one-way solidification part housings.
또한, 상기 상부 하우징에는 승하강 가능한 덮개가 구비되는 것이 효과적이다.In addition, it is effective that the upper housing is provided with a lid capable of lifting up and down.
본 발명은 상술한 바와 같이 실리콘의 용해에는 유도용해로를 이용하고, 응고는 저항가열을 이용함으로써 빠른 시간에 가열을 마칠 수 있다는 효과를 가진다. 뿐만 아니라, 용해에 사용한 도가니를 그대로 일방향 응고하여 잉곳을 제조하기 때문에 도가니 교체에 따른 불순물에 의한 오염도 방지할 수 있으며, 하나의 유도로를 통하여 여러개의 잉곳을 동시에 생산가능하므로 생산성이 향상된다.As described above, the induction melting furnace is used for dissolving silicon, and the solidification has the effect of being able to finish the heating in a short time by using resistance heating. In addition, since the ingot is manufactured by solidifying the crucible used for melting in one direction as it is, it is possible to prevent contamination by impurities due to the crucible replacement, and it is possible to produce several ingots simultaneously through one induction furnace, thereby improving productivity.
도 1은 본 발명의 한가지 측면에 따른 일방향 응고장치를 나타낸 단면도, 그리고
도 2는 본 발명의 또한가지 측면에 따른 일방향 응고장치를 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a one-way solidification apparatus according to an aspect of the present invention, and
2 is a cross-sectional view showing a one-way solidification apparatus according to another aspect of the present invention.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1에 본 발명의 일방향 응고장치의 한가지 측면이 도시되어 있다. 도면으로부터 알 수 있듯이, 본 발명의 일측면에 따른 일방향 응고장치(100)는 하우징(10) 내에 포함된 유도가열부(1), 상기 유도가열부(1)의 하부에 형성되는 일방향 응고부(2)를 포함한다. 상기 유도가열부(1)와 일방향 응고부는(2) 중공의 내부를 가지며, 상호 연통된다. 상기 상호 연통되는 내부에는 승강기(3)에 의하여 승하강 가능한 몰드(4)가 구비된다. 상기 승하강 가능한 몰드(4)는 승강기(3) 상부에 위치할 수 있다.
One aspect of the one-way solidification apparatus of the present invention is shown in FIG. 1. As can be seen from the figure, the one-
상기 승하강 가능한 몰드(4)에는 실리콘이 장입될 수 있으며, 상기 장입된 실리콘은 상기 몰드(4)가 유도가열부(1)의 높이에 위치할 경우에는 유도가열부의 유도가열 작용에 의하여 용해(鎔解)될 수 있다. 이때, 유도가열부의 유도가열에 의해서 빠른 속도로 용해가 가능하므로 수분 내지 수십분 내로 완전히 용해가 완료될 수 있다.
Silicon may be loaded into the lifting and lowering
상기 몰드는 내화물 재질(예를 들면, 질화규소(Si3N4)가 코팅(라이닝)된 실리카(SiO2)) 또는 그라파이트 재질로 이루어지는 것이 바람직하다. 몰드(4) 내의 실리콘이 완전히 용해된 이후, 상기 승하강 가능한 몰드(4)는 하강하여 일방향 응고부(2) 내에 위치하게 된다. 일방향 응고부는 몰드(4) 내의 실리콘이 바닥부터 응고되기 시작하여 상부를 향하여 균일하게 응고가 진행될 수 있도록 온도구배를 갖출 수 있다. 일방향 응고부(2)의 온도구배는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자라면 누구라도 용이하게 설정할 수 있는 것이므로 본 발명에서 특별히 언급하지 않는다. 시간에 따라 응고가 진행되는 것이므로 상기 일방향 응고부(2)의 온도구배는 정해진 스케쥴에 따라 변화할 수 있으며, 몰드(4) 내의 온도구배를 제어하기 위하여 몰드의 위치를 시간에 따라 변경할 수도 있으며, 본 발명에서는 상기 온도구배 제어방법에 대해서는 특별히 제한하지 않는다.
The mold may be made of a refractory material (for example, silica (SiO 2 ) coated with silicon nitride (Si 3 N 4 )) or graphite material. After the silicon in the
이때, 일방향 응고부의 균일 응고를 촉진하기 위하여 상기 몰드(4)의 하부에 위치하는 승강기(3)에는 수냉부가 존재할 수도 있다. 본 발명의 일방향 응고장치(100)는 몰드(4) 내에서 실리콘을 용해한 후 몰드(4)에 수용된 실리콘 용탕을 응고를 위한 추가적인 용기로 옮기는 것이 아니라 바로 몰드(4) 자체를 일방향 응고부로 이송하여 응고시키는 것이므로 용탕의 이동과정에서 생길 수도 있는 불순물의 혼입을 방지할 수 있다. 그 결과 정련 과정에서 얻어진 실리콘의 높은 순도를 그대로 유지할 수 있다. 상술한 본 발명의 일방향 응고장치(100)의 내부는 진공 또는 환원성 분위기로 유지될 수 있다. 뿐만 아니라, 플라즈마 장치나 가스 버블링 장치(랜스나 노즐 등을 통하여 가스를 내부로 취입하는 장치)를 통하여 탈린이나 탈B 등의 불순물 제거작업을 더 수행할 수 있다.
In this case, in order to promote uniform solidification of the one-way solidification part, a water cooling part may be present in the
도 2에 본 발명의 일방향 응고장치(101)의 또한가지 측면을 나타내었다. 도 2에서 도 1과 동일한 도면부호는 도 1에서 나타낸 요소와 동일한 요소를 나타낸다. 도면에서 상기 하우징(10)은 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)으로 구획될 수 있으며, 상기 상부 하우징(11)에는 유도가열부(1)가 위치하고 하부 하우징에는 일방향 응고장치(2)가 위치할 수 있다. 상기 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)은 서로 분리가 가능하여, 몰드(4)가 하강하여 일방향 응고장치(2) 내부로 이동하고 바람직하게는 응고가 완료된 이후에는 상기 유도가열부(1)를 수용하는 상부 하우징(11)은 또다른 일방향 응고장치(2)가 수용된 하부 하우징(12)과 체결될 수 있다.
Figure 2 shows another aspect of the one-
이는 상부 하우징에 수용된 유도가열부(1)가 빠른 속도로 가열하여 실리콘을 용해시킬 수 있는 반면, 실리콘이 상온까지 냉각되어 몰드(4)로부터 취출되는데까지 소요되는 시간이 장시간이기 때문에, 하나의 유도가열부(1)를 복수개의 일방향 응고부(2)와 연계하여 사용할 수 있는 것이다. 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12) 사이에는 격벽(7)이 존재하여 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)에 의해 구획되는 공간을 보다 명확히 구분하고, 구조적으로 견고하게 할 수 있다.
This is because the
이때, 유도가열부(1)가 수용된 상부 하우징(11)이 다른 일방향 응고부(2)가 수용된 다른 하부 하우징(12)으로 이동할 때는, 공지된 어떠한 형태의 이동수단이라도 사용할 수 있다. 예를 들면, 크레인, 호이스트, 레일 등을 이용할 수 있으며, 반드시 상부 하우징(11)이 이동할 필요는 없으며, 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)을 분리시킨 후 하부 하우징(12)이 레일이나 기타 이동수단 등을 통하여 유도가열부(1)가 위치하는 상부 하우징(11) 쪽으로 이동할 수도 있다. 이동 후에 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)은 서로 체결되어 일체의 하우징(10)을 구성할 수 있으며, 체결을 위하여 공지된 어떠한 체결수단이라도 사용될 수 있다. 또한, 바람직한 한가지 측면에서 상기 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)은 분위기 제어를 위하여 기밀체결되는 것이 좋다.
At this time, when the
이때, 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)를 분리하기 전에 일방향 응고부(2)내에 위치하는 몰드(4)에는 덮개(5)가 장착될 수 있다. 상기 덮개는 일방향 응고부(2)와 연통하는 유도가열부(1) 내의 중공부를 통하여 상부 하우징(11)으로부터 하강하여 몰드(4)의 상부에 장착될 수 있다. 따라서, 상부 하우징(11) 내 유도가열부(1)의 상부에는 덮개의 승하강이 가능한 승하강 기구(6)가 더 포함될 수 있다. 상기 승하강 기구는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상 사용되는 것이라면 어떠한 것이라도 사용가능하며, 본 발명에서 특별히 제한하지는 않는다.
In this case, the
상기 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)는 실리콘 용탕이 일방향 응고부로 하강한 이후에는 언제라도 분리가능하나, 본 발명의 바람직한 한가지 측면에서는 상기 실리콘 용탕의 표면이 응고된 후에 분리될 수 있다. 응고가 완료된 이후에는 본 발명에서 목적하는 조직의 실리콘을 얻을 수 있기 때문에 분리가 가능하며, 이후 장시간에 걸친 냉각과정 동안 다른 몰드를 이용하여 추가적인 용해가 가능하므로 생산성이 향상될 수 있는 것이다. 물론, 실리콘의 응고가 완전히 완료되기 전이라도 표면 산화 등의 이유로 약간의 실수율 저하가 있을 뿐 분리는 가능하다는 점에 유의할 필요가 있다. 특히, 덮개(5)가 몰드에 장착된다면 상기 분리 시점은 특별히 제한되지 않을 수 있다.
The
다만, 상술한 바와 같이 본 발명의 하우징(10)이 분리가 가능한 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)으로 구성된다 하더라도 반드시 하부 하우징이 복수개 존재할 필요는 없으며, 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)이 각각 하나씩 또는 복수개 존재하는 것을 배제하는 것은 아닐 뿐 아니라, 오히려 상부 하우징(11)이 하부 하우징(12) 보다도 다수 사용될 수도 있다는 점에 유의할 필요가 있다(그 반대의 경우도 전술하였듯이 당연히 가능하다). 이러한 하우징의 배열은 본 발명의 본지에 벗어나지 않는 범위 내에서 필요에 따라 변형하여 사용할 수 있는 것이기 때문이다. 뿐만 아니라, 상기 하우징(10)은 유도가열부(1)과 일방향 응고부(2)를 분리수용하기 위하여 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)로 나뉘는 것 뿐만 아니라, 원료의 장입이나, 장치의 수리, 운전, 유지 등을 위하여 내부에 접근할 수 있도록 별도의 분리부를 가질 수도 있음은 물론이다.
However, as described above, even if the
뿐만 아니라, 본 발명과 각 도면에서는 상기 유도가열부(1)가 일방향 응고부(2)의 상부에 위치하는 형태만 기술하였지만, 반드시 이에 한정하지는 않는다. 즉, 유도가열부(1)가 하부에 위치하고 일방향 응고부(2)가 그 상부에 위치하는 경우도 충분히 고려할 수 있으며, 이 역시 본 발명의 본지에서 벗어나는 개념은 아니며, 따라서, 상부 하우징(10)과 하부 하우징(11)으로 분리되는 경우에도 유도가열부(1)가 하부 하우징(12)에 포함되고 일방향 응고부(2)가 상부 하우징(11)에 포함되는 구성도 포함될 수 있다. 이러한 경우에는 하부에서 용해된 용탕을 수용하는 몰드(4)가 승강기(3)을 통하여 상부로 상승할 수 있다.
In addition, in the present invention and each drawing, only the form in which the
본 발명에서 상부 하우징과 하부 하우징의 관계없이 유도가열부가 수용된 하우징을 유도가열부 하우징이라 칭하고, 일방향 응고부가 수용된 하우징을 일방향 응고부 하우징이라 칭할 수도 있다.In the present invention, a housing in which the induction heating unit is accommodated may be referred to as an induction heating unit housing, and a housing in which the one-way solidification unit is accommodated may be referred to as a one-way solidification unit housing regardless of the upper housing and the lower housing.
1 : 유도가열부
2 : 일방향 응고부
3 : 승강기
4 : 몰드
5 : 덮개
6 : 승하강 기구
7 : 격벽
10 : 하우징
11 : 상부 하우징
12 : 하부 하우징
100, 101 : 일방향 응고장치1: Induction heating part
2: one-way solidification unit
3: lift
4: mold
5: cover
6: lifting mechanism
7: bulkhead
10: Housing
11: upper housing
12: lower housing
100, 101: one-way solidification device
Claims (5)
상기 하우징 내에 포함되고 중공의 내부를 가지는 유도가열부,
상기 하우징 내에 포함되고, 상기 유도가열부의 중공의 내부와 연통되는 중공의 내부를 가지는 일방향 응고부, 및
상기 유도가열부와 상기 일방향 응고부의 연통되는 중공의 내부를 승강기에 의해 승하강하는 몰드를 포함하고,
상기 하우징은 상부 하우징과 하부 하우징으로 이루어지고, 상기 유도가열부가 상기 상부 하우징과 하부 하우징 중 하나인 유도가열부 하우징에 수용되며, 상기 일방향 응고부가 상기 상부 하우징과 하부 하우징 중 상기 유도가열부가 수용되지 않은 나머지 하나인 일방향 응고부 하우징에 수용되며,
상기 유도가열부 하우징과 상기 일방향 응고부 하우징은 분리가 가능한 일방향 응고장치.
housing,
An induction heating part included in the housing and having a hollow interior;
A one-way solidification part included in the housing and having a hollow interior in communication with the interior of the hollow of the induction heating unit, and
It includes a mold for elevating the inside of the hollow in communication with the induction heating unit and the one-way solidification unit by a lift,
The housing is composed of an upper housing and a lower housing, wherein the induction heating unit is accommodated in the induction heating unit housing, which is one of the upper housing and the lower housing, and the one-way solidification unit does not receive the induction heating unit of the upper housing and the lower housing. In one-way solidification housing,
The induction heating unit housing and the one-way solidification unit housing is a one-way solidification device that can be separated.
The one-way solidification apparatus of claim 1, wherein the one-way solidification unit housing is provided in plurality.
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KR (1) | KR101329408B1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH09183606A (en) * | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Sharp Corp | Production of polycrystalline semiconductor and apparatus for production therefor |
JP2828118B2 (en) | 1990-08-14 | 1998-11-25 | 株式会社ジャパンエナジー | Single crystal manufacturing method and single crystal pulling apparatus |
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KR20100137098A (en) * | 2009-06-22 | 2010-12-30 | (주)포티조 | The oxidation device of ceramic crucible furnace for crystal growth |
-
2011
- 2011-12-23 KR KR1020110141538A patent/KR101329408B1/en active IP Right Grant
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