KR101320835B1 - Thermosetting resin composition - Google Patents

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Abstract

본 발명은 열경화성 수지 조성물 및 이 조성물로 제조된 보호막에 관한 것으로서, 광디바이스용 컬러필터에 사용되는 보호막을 형성하기 위한 재료로 바람직한 열경화성 조성물 및 이 조성물로 제조된 보호막에 관한 것으로서, 우수한 표면경도, 평탄화성, 기계적 물성, 내UV성 및 내열성을 갖고, 동시에 기판과의 충분한 밀착성과 내산성 및 내알칼리성을 갖는 보호막을 제조할 수 있어 고온에서도 황변현상이 나타나지 않으므로, 광디바이스용 보호막 형성 재료로서 매우 적합한 열경화성 수지 조성물을 제공할 수 있다.The present invention relates to a thermosetting resin composition and a protective film made of the composition, and to a thermosetting composition and a protective film made of the composition, which are preferable as a material for forming a protective film used for a color filter for an optical device, and having excellent surface hardness, A protective film having planarization, mechanical properties, UV resistance and heat resistance, and at the same time having sufficient adhesion with a substrate, acid resistance and alkali resistance, and no yellowing phenomenon at high temperature, thus is very suitable as a protective film forming material for an optical device. A thermosetting resin composition can be provided.

Description

열경화성 수지 조성물{Thermosetting resin composition}Thermosetting resin composition

본 발명은 열경화성 수지 조성물 및 이 조성물로 제조된 보호막에 관한 것으로서, 광디바이스용 컬러필터에 사용되는 보호막을 형성하기 위한 재료로 바람직한 열경화성 조성물 및 이 조성물로 제조된 보호막에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermosetting resin composition and a protective film made of the composition, and more particularly to a thermosetting composition and a protective film made of the composition as a material for forming a protective film used for a color filter for an optical device.

액정 표시 소자(LCD)와 같은 광 디바이스(device)는 제조공정 중 유기용제, 산, 알칼리 용액 등에 의해 침지 처리되거나, 배선 전극층을 제막할 경우 스퍼터링에 의한 표면의 국부적 고온 가열을 받는 등 가혹한 처리를 받게 된다. 따라서 이들 소자에는 제조시의 변질을 막기 위하여 그 표면에 보호막이 설치되는 경우가 있다. Optical devices such as liquid crystal display devices (LCDs) are subjected to harsh processing such as immersion treatment with organic solvents, acids, alkali solutions, etc. during the manufacturing process, or localized high-temperature heating of the surface by sputtering when forming wiring electrode layers. Will receive. Therefore, in order to prevent the deterioration at the time of manufacture, these elements may provide a protective film in the surface.

상기 보호막은 착색층을 보호하고, 컬러필터를 평탄화하는 역할을 하고 있다. 따라서 상기 보호막은 상기와 같은 가혹한 처리에 견디는 동시에 기판 또는 하층과의 밀착성이 우수하여야 하고, 높은 평탄도, 표면경도, 투명성과 장기에 걸쳐 착색, 황변, 백화 등의 변질이 없이 우수한 내열성 및 내광성이 요구된다. 또한 내용제성, 내산성, 내알칼리성 등의 내약품성이나 내수성 등이 뛰어난 것이 요구된다. 또한 이와 같은 보호막을 컬러 액정 표시 소자의 컬러 필터에 적용할 경우에는 기판으로 일반적인 컬러 필터의 단차를 평탄화할 수 있는 것이 바람직하다.The protective film protects the colored layer and serves to planarize the color filter. Therefore, the protective film must withstand such harsh treatments and at the same time have excellent adhesion to the substrate or lower layer, and have high flatness, surface hardness, transparency and excellent heat resistance and light resistance without deterioration such as coloring, yellowing and whitening over a long period of time. Required. Moreover, what is excellent in chemical-resistance, such as solvent resistance, acid resistance, and alkali resistance, water resistance, etc. is calculated | required. In addition, when applying such a protective film to the color filter of a color liquid crystal display element, it is preferable that the level | step difference of a general color filter can be planarized with a board | substrate.

상기와 같은 조건을 만족하도록 보호막 조성물은 경화성 수지 조성물의 형태로 제조되며, 크게 열경화성과 광경화성(감광성)으로 분류된다. 보호막의 패턴 형성이 필요할 경우에는 감광성 수지 조성물이 요구되지만, 그렇지 않을 경우에는 열경화성 수지 조성물이 사용되는데, 이는 공정상 편리하고 가교 밀도를 높일 수 있어 기계적 물성 및 내열성이 우수하기 때문이다.The protective film composition is manufactured in the form of a curable resin composition so as to satisfy the above conditions, and largely classified into thermosetting and photocurable (photosensitive). When the patterning of the protective film is required, a photosensitive resin composition is required, but otherwise, a thermosetting resin composition is used, because it is convenient in the process and can increase the crosslinking density, thereby providing excellent mechanical properties and heat resistance.

일본 특허공개공보 제2000-103937호, 동 공보 제2000-119472호 및 동 공보 제2000-143772호에는 보호막을 구성하는 조성물로써 열경화성 수지 조성물이 기재되어 있다. 즉, 카르복실기나 에폭시기를 함유하는 아크릴 수지, 가교제 역할을 하는 에틸렌성 불포화기를 함유하는 다관능성 모노머 및 열중합개시제로 구성된 조성물이 사용되고 있다.Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2000-103937, 2000-119472 and 2000-143772 describe thermosetting resin compositions as compositions constituting a protective film. That is, the composition which consists of an acrylic resin containing a carboxyl group or an epoxy group, the polyfunctional monomer containing the ethylenically unsaturated group which functions as a crosslinking agent, and a thermal polymerization initiator is used.

그러나 이들 조성물을 사용하여 보호막을 제조하는 경우 기계적 물성이 우수하지 못하고, 특히 고온에서 내열성이 좋지 않아 황변 현상을 나타내는 경우가 많았다. 이에 기계적 물성을 고려하여 에틸렌성 불포화기를 함유하는 다관능성 모노머를 과다하게 사용할 수는 있는데, 이 경우에는 고온에서의 황변 현상이 더욱 심해지는 문제가 있다.However, when the protective film is prepared using these compositions, mechanical properties are not excellent, and in particular, yellowing phenomenon is often exhibited due to poor heat resistance at high temperatures. In consideration of the mechanical properties, the polyfunctional monomer containing an ethylenically unsaturated group can be used excessively. In this case, there is a problem that the yellowing phenomenon at a high temperature becomes more severe.

본 발명은 가교밀도를 효과적으로 향상시켜 기계적 물성 및 내열성이 우수한 열경화성 수지 조성물 및 이 조성물로 제조된 보호막을 제공하고자 한다.The present invention is to provide a thermosetting resin composition excellent in mechanical properties and heat resistance by effectively improving the crosslinking density and a protective film made of the composition.

또한 본 발명은 고온에서도 황변현상이 나타나지 않는 열경화성 수지 조성물 및 이 조성물로 제조된 보호막을 제공하고자 한다.In addition, the present invention is to provide a thermosetting resin composition and a protective film made of the composition that does not appear yellowing at high temperatures.

본 발명은 바람직한 일 구현예로서, 불포화 카르복시산 또는 그 무수물(a1), 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2), 올레핀계 불포화 화합물(a3)의 공중합체[A1] 및 공중합체[A2]를 포함하는 열경화성 수지 조성물에 있어서, 상기 공중합체[A1]은 수평균 분자량이 1,000~10,000이며, 상기 공중합체[A2]는 수평균 분자량이 10,000~100,000인 것임을 특징으로 하는 열경화성 수지 조성물을 제공한다.As a preferred embodiment of the present invention, a thermosetting resin comprising an unsaturated carboxylic acid or anhydride thereof (a1), an epoxy group-containing unsaturated compound (a2), a copolymer [A1] and a copolymer [A2] of an olefinically unsaturated compound (a3) In the composition, the copolymer [A1] has a number average molecular weight of 1,000 to 10,000, the copolymer [A2] provides a thermosetting resin composition, characterized in that the number average molecular weight of 10,000 to 100,000.

상기 구현예에서, 상기 공중합체[A1]은 상기 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 10~200중량부 함유하는 것일 수 있다.In the above embodiment, the copolymer [A1] may contain 10 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer [A2].

상기 구현예에서, 경화성 화합물[B]로서 멜라민 수지를 더 포함하며, 상기 경화성 화합물[B]는 상기 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 0.1~10중량부 함유하는 것일 수 있다.In the above embodiment, it may further comprise a melamine resin as the curable compound [B], wherein the curable compound [B] may contain 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer [A2].

상기 구현예에 따른 열경화성 수지 조성물은 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물[C]를 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 150중량부 이하의 함량으로 더 포함하는 것일 수 있다.The thermosetting resin composition according to the embodiment may further include a polymerizable compound [C] having an ethylenically unsaturated bond in an amount of 150 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the copolymer [A2].

상기 구현예에 따른 상기 열경화성 수지 조성물은 열 라디칼 중합개시제를 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 20중량부 이하의 함량으로 더 포함하는 것일 수 있다.The thermosetting resin composition according to the embodiment may further include a thermal radical polymerization initiator in an amount of 20 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the copolymer [A2].

본 발명은 바람직한 다른 구현예로서, 상기 열경화성 수지 조성물로 형성된 보호막을 제공한다.As another preferred embodiment of the present invention, a protective film formed of the thermosetting resin composition is provided.

본 발명의 열경화성 수지는 우수한 평탄화성, 기계적 물성을 가지며, 내UV성 및 내열성을 가져 고온에서도 황변현상이 나타나지 않으며, 동시에 기판과의 충분한 밀착성과 내산성 및 내알칼리성을 갖는 보호막을 제조할 수 있어 광디바이스용 보호막 형성 재료로서 매우 적합한 열경화성 수지 조성물을 제공할 수 있다.The thermosetting resin of the present invention has excellent planarization and mechanical properties, has no UV resistance and heat resistance, does not exhibit yellowing at high temperatures, and at the same time, a protective film having sufficient adhesion with a substrate, acid resistance and alkali resistance can be prepared. The thermosetting resin composition which is very suitable as a protective film formation material for devices can be provided.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명은 불포화 카르복시산 또는 그 무수물(a1), 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2), 올레핀계 불포화 화합물(a3)의 공중합체[A1]를 포함하는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 열경화성 수지 조성물을 제공한다.The present invention provides a thermosetting resin composition comprising a thermosetting resin composition comprising a copolymer [A1] of an unsaturated carboxylic acid or an anhydride thereof (a1), an epoxy group-containing unsaturated compound (a2), and an olefinically unsaturated compound (a3).

상기 공중합체[A1]는 종래의 공지되어 있는 중합방법에 의하여 얻어지는데, 즉 화합물 (a1), (a2) 및 (a3)을 용매 중에서 중합개시제의 존재 하에 라디칼 중합을 행함으로써 합성할 수 있다. The copolymer [A1] is obtained by a conventionally known polymerization method, that is, it can be synthesized by carrying out radical polymerization of compounds (a1), (a2) and (a3) in the presence of a polymerization initiator in a solvent.

특히 본 발명의 공중합체[A1]는 수평균분자량이 1,000~10,000의 범위에 있는 것이 바람직하다. 이는 추후 제조되는 보호막의 표면 평탄도를 고려한 것이다.In particular, it is preferable that the copolymer [A1] of this invention exists in the range of the number average molecular weight 1,000-10,000. This takes into account the surface flatness of the protective film to be manufactured later.

상기 공중합체[A1]는 화합물(a1)로부터 유도되는 구성단위를 바람직하게는 5~40중량%, 더욱 바람직하게는 10~30중량%를 함유하는 것이다. 이 구성단위가 5중량% 미만인 경우에는 추후 제조되는 보호막의 내열성, 내약품성 및 표면경도가 저하되는 경향이 있고, 40중량%를 초과하는 경우에는 보존안전성이 저하되는 문제가 있다. 화합물 (a1)로는, 예컨대 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산 등의 모노카르복시산; 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복시산; 및 이들 디카르복시산의 무수물을 들 수 있으며, 이들 중 선택된 1종의 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이 중 아크릴산, 메타크릴산, 무수말레산 등이 공중합 반응성과 내열성이 우수하고 입수가 용이하여 주로 사용된다. The copolymer [A1] preferably contains 5 to 40% by weight, more preferably 10 to 30% by weight of the structural unit derived from the compound (a1). When this structural unit is less than 5 weight%, the heat resistance, chemical resistance, and surface hardness of the protective film manufactured later tend to fall, and when it exceeds 40 weight%, there exists a problem that storage safety falls. Examples of the compound (a1) include monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and crotonic acid; Dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid and itaconic acid; And anhydrides of these dicarboxylic acids. One of these dicarboxylic acids may be used alone, or two or more dicarboxylic acids may be used in combination. Among them, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and the like are mainly used because of their excellent copolymerization reactivity and heat resistance and easy availability.

또한 공중합체[A1]은 화합물 (a2)로부터 유도되는 구성단위를 바람직하게는 10~70중량%, 더욱 바람직하게는 20~60중량%를 함유하는 것이다. 이 구성단위가 10중량% 미만인 경우 후에 제조된 보호막의 내열성 및 표면경도가 저하되는 경향이 있고, 70중량%를 초과하는 경우에는 보존안전성이 저하되는 경향이 있다. 화합물 (a2)로는, 예컨대 아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, α-에틸 아크릴산 글리시딜, α-n-프로필 아크릴산 글리시딜, α-n-부틸 아크릴산 글리시딜, 아크릴산-3,4-에폭시 부틸, 메타크릴산-3,4-에폭시 부틸, 아크릴산-6,7-에폭시 헵틸, 메타크릴산-6,7-에폭시 헵틸, α-에틸 아크릴산-6,7-에폭시 헵틸, o-비닐 벤질 글리시딜 에테르, m-비닐 벤질 글리시딜 에테르, p-비닐 벤질 글리시딜 에테르 중 선택된 1종 단독 또는 2종 이상의 조합으로 사용되며, 공중합 반응성 및 얻어지는 보호막의 내열성과 경도를 높인다는 점에서 바람직하게 사용된다.In addition, the copolymer [A1] preferably contains 10 to 70% by weight, more preferably 20 to 60% by weight of the structural unit derived from the compound (a2). When this structural unit is less than 10 weight%, the heat resistance and surface hardness of the protective film produced later tend to fall, and when it exceeds 70 weight%, storage safety tends to fall. Examples of the compound (a2) include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, α-ethyl acrylate glycidyl, α-n-propyl acrylate glycidyl, α-n-butyl acrylate glycidyl, and acrylic acid-3. , 4-epoxy butyl, methacrylic acid-3,4-epoxy butyl, acrylic acid-6,7-epoxy heptyl, methacrylic acid-6,7-epoxy heptyl, α-ethyl acrylic acid-6,7-epoxy heptyl, o It is used alone or in combination of two or more selected from -vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, and p-vinyl benzyl glycidyl ether to improve the copolymerization reactivity and the heat resistance and hardness of the resulting protective film. It is preferably used in that point.

공중합체[A1]는 화합물 (a3)로부터 유도되는 구성단위를 바람직하게는 10~70중량%, 더욱 바람직하게는 20~50중량%를 함유하는 것이다. 이 구성단위가 10중량% 미만인 경우 보존안전성이 저하되는 경향이 있고, 70중량%를 초과하는 경우에는 후에 제조된 보호막의 내열성 및 표면경도가 저하되는 경향이 있다. 화합물 (a3)로는, 예컨대 메틸 메타크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, sec-부틸 메타크릴레이트, t-부틸 메타크릴레이트 등의 메타크릴산 알킬 에스테르; 메틸 아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트 등의 아크릴산 알킬 에스테르; 시클로헥실 메타크릴레이트, 2-메틸시클로헥실 메타크릴레이트, 디시클로펜테닐 메타크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸 메타크릴레이트, 이소보로닐 메타크릴레이트 등의 메타크릴산 시클로 알킬 에스테르; 시클로헥실 아크릴레이트, 2-메틸 시클로헥실 아크릴레이트, 디시클로펜테닐 아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸 아크릴레이트, 이소보로닐 아크릴레이트 등의 아크릴산 시클로알킬 에스테르; 페닐메타크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트 등의 메타크릴산 아릴 에스테르; 페닐 아크릴레이트, 벤질 아크릴레이트 등의 아크릴산 아릴 에스테르; 말레산 디에틸, 푸마르산 디에틸, 이타콘산 디에틸 등의 디카르복시산 디에스테르; 2-히드록시 에틸 메타크릴레이트, 2-히드록시 프로필 메타크릴레이트 등의 히드록시 알킬 에스테르; 및 스티렌, o-메틸 스티렌, m-메틸 스티렌, p-메틸 스티렌, 비닐 톨루엔, p-메톡시 스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화 비닐, 염화 비닐 리덴, 아크릴 아미드, 메타크릴아미드, 초산 비닐, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디 엔 중 선택된 1종 단독 또는 2종 이상의 조합으로 사용된다. 이 중 스티렌, t-부틸메타크릴레이트, 디시클로펜테닐 메타크릴레이트, p-메톡시 스티렌, 2-메틸 시클로헥실 아크릴레이트, 1,3-부타디엔 등이 공중합 반응성 및 내열성의 관점에서 바람직하다.The copolymer [A1] preferably contains 10 to 70% by weight of the structural unit derived from the compound (a3), more preferably 20 to 50% by weight. When this structural unit is less than 10 weight%, storage stability tends to fall, and when it exceeds 70 weight%, the heat resistance and surface hardness of the protective film produced later tend to fall. Examples of the compound (a3) include methacrylic acid alkyl esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate and t-butyl methacrylate; Acrylic acid alkyl esters such as methyl acrylate and isopropyl acrylate; Methacrylic acid cycloalkyl esters such as cyclohexyl methacrylate, 2-methylcyclohexyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate and isoboroyl methacrylate; Acrylic acid cycloalkyl esters such as cyclohexyl acrylate, 2-methyl cyclohexyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate and isoboroyl acrylate; Methacrylic acid aryl esters such as phenyl methacrylate and benzyl methacrylate; Acrylic acid aryl esters such as phenyl acrylate and benzyl acrylate; Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate and diethyl itaconic acid; Hydroxy alkyl esters such as 2-hydroxy ethyl methacrylate and 2-hydroxy propyl methacrylate; And styrene, o-methyl styrene, m-methyl styrene, p-methyl styrene, vinyl toluene, p-methoxy styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, Vinyl acetate, 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, or a combination of two or more thereof. Among them, styrene, t-butyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, p-methoxy styrene, 2-methyl cyclohexyl acrylate, 1,3-butadiene and the like are preferred from the viewpoint of copolymerization reactivity and heat resistance.

본 발명에서 사용된 상기와 같은 공중합체[A1]는 카르복시기 및/또는 카르복시산 무수물 및 에폭시기를 갖고 있으며, 특별한 경화제를 병용하지 않더라도 가열에 의하여 용이하게 경화시키는 것이 가능하지만, 상술한 경화성 화합물[B]를 사용하는 경우에는 충분히 가교밀도를 높일 수 있다.The copolymer [A1] as used in the present invention has a carboxyl group and / or a carboxylic anhydride and an epoxy group, and can be easily cured by heating without using a special curing agent, but the above-mentioned curable compound [B] In the case of using, the crosslinking density can be sufficiently increased.

공중합체[A1]의 합성에 사용되는 용매로는 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 테트라하이드로퓨란, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 에테르류; 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필 에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬 에테르 아세테이트류 중 선택된 1종 단독 또는 2종 이상의 조합이 바람직하다.As a solvent used for the synthesis | combination of a copolymer [A1], Alcohol, such as methanol and ethanol; Ethers such as tetrahydrofuran, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; One or a combination of two or more selected from propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, and propylene glycol butyl ether acetate is preferred.

공중합체[A1]의 합성에 사용되는 중합개시제로는 일반적으로 라디칼 중합개시제로서 알려져 있는 것을 사용할 수 있다. 예컨대 2,2′-아조비스 이소부티로니트릴, 2,2′-아조비스-(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2′-아조비스-(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴) 등의 아조 화합물; 벤조일 퍼옥시드, t-부틸 퍼옥시 피바레이트, 1,1′-비스-(t-부틸 퍼옥시) 시클로헥산 등의 유기 과산화물; 및 과산화수소를 들 수 있다. 라디칼 중합개시제로서 과산화물을 이용한 경우 과산화물을 환원제와 함께 이용하여 레독스형 개시제로 사용할 수 있다.As a polymerization initiator used for synthesis | combination of a copolymer [A1], what is generally known as a radical polymerization initiator can be used. Azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis- (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis- (4-methoxy- Dimethylvaleronitrile); and the like; Organic peroxides such as benzoyl peroxide, t-butyl peroxypivalate, and 1,1'-bis- (t-butylperoxy) cyclohexane; And hydrogen peroxide. When a peroxide is used as a radical polymerization initiator, a peroxide can be used together with a reducing agent as a redox type initiator.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 상기 공중합체[A1]와 같은 방법으로 얻어지며, 분자량이 10,000~100,000인 공중합체[A2]를 더 포함할 수 있다. 즉, 공중합체[A2]는 상술한 화합물 (a1), (a2) 및 (a3)을 용매 중에서 중합개시제의 존재 하에 라디칼 중합을 행함으로써 합성할 수 있다. 공중합체[A2]의 함량은 상기 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 상기 공중합체[A1]가 10~200중량부 함유되도록 하는 것이 보호막의 표면 코팅성을 고려하여 바람직하다.The thermosetting resin composition of the present invention is obtained by the same method as the copolymer [A1], and may further include a copolymer [A2] having a molecular weight of 10,000 to 100,000. That is, copolymer [A2] can synthesize | combine the compound (a1), (a2), and (a3) mentioned above by carrying out radical polymerization in presence of a polymerization initiator in a solvent. The content of the copolymer [A2] is preferably 10 to 200 parts by weight of the copolymer [A1] with respect to 100 parts by weight of the copolymer [A2] in consideration of the surface coating property of the protective film.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 경화성 화합물[B]를 더 포함할 수 있는데, 이러한 경화성 화합물[B]은 특별히 한정되는 것은 아니며, 멜라민 수지를 포함하는 경화성 화합물중 선택된 것일 수 있다. The thermosetting resin composition of the present invention may further include a curable compound [B], such a curable compound [B] is not particularly limited, it may be selected from a curable compound containing a melamine resin.

상기 경화성 화합물[B]는 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 0.1~10중량부 포함하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 3~10중량부 함유하는 것이 좋다. 경화성 화합물[B]의 함량이 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 0.1중량부 미만 함유하는 경우 충분히 높은 가교밀도를 갖는 보호막을 얻기 어렵고, 보호막의 각종 내성이 저하될 수 있는 문제가 있다. 또한 10중량부를 초과하는 경우에는 얻어지는 보호막의 막 내부에 미반응 경화성 화합물[B]가 다량 잔존하기 쉽고, 그 결과 보호막의 성질이 불안정해지거나 밀착성이 저하되기 쉽다.It is preferable to contain 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of copolymers [A2], and, as for the said curable compound [B], it is preferable to contain 3-10 weight part more preferably. When the content of the curable compound [B] is less than 0.1 part by weight based on 100 parts by weight of the copolymer [A2], it is difficult to obtain a protective film having a sufficiently high crosslink density, and there is a problem that various resistances of the protective film may be lowered. When the amount exceeds 10 parts by weight, a large amount of unreacted curable compound [B] is likely to remain in the film of the protective film to be obtained, and as a result, the property of the protective film is unstable or the adhesiveness tends to be lowered.

한편, 본 발명의 열경화성 수지 조성물은 공중합체[A1], 경화성 화합물[B] 이외에 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물[C]를 더 포함할 수 있다.Meanwhile, the thermosetting resin composition of the present invention may further include a polymerizable compound [C] having an ethylenically unsaturated bond in addition to the copolymer [A1] and the curable compound [B].

상기 중합성 화합물[C]는 단관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트가 중합성이 양호하고, 추후 얻어지는 보호막의 내열성, 표면경도가 향상된다는 관점에서 바람직하다.The said polymeric compound [C] is preferable from a viewpoint that a monofunctional, bifunctional, or trifunctional or more (meth) acrylate has favorable polymerizability, and the heat resistance and surface hardness of the protective film obtained later improve.

상기 단관능(메타)아크릴레이트로는, 예컨대 2-히드록시 에틸(메타)아크릴레이트, 카비톨(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시 에틸 2-히드록시 프로필 프탈레이트 등을 들 수 있다.As said monofunctional (meth) acrylate, 2-hydroxy ethyl (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxy ethyl 2-hydroxy propyl phthalate etc. are mentioned.

상기 2관능(메타)아크릴레이트로는, 예컨대 에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 비스페녹시 에틸알콜 플루오렌 디아크릴레이트 등을 들 수 있다.As said bifunctional (meth) acrylate, ethylene glycol (meth) acrylate, 1, 6- hexanediol (meth) acrylate, 1, 9- nonanediol (meth) acrylate, propylene glycol (meth) acryl The rate, tetraethylene glycol (meth) acrylate, bisphenoxy ethyl alcohol fluorene diacrylate, etc. are mentioned.

상기 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트로는, 예컨대 트리스히드록시에틸이소시아뉴레이트 트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the above (meth) acrylate having three or more functional groups include (meth) acrylic esters such as trishydroxyethylisocyanurate tri (meth) acrylate, trimethylpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like.

이러한 단관능, 2관능 또는 3관능 이상의 (메타)아크릴레이트 중 선택된 1종 단독 또는 2종 이상을 조합하여 중합성 화합물[C]로 사용할 수 있다. It can be used as a polymeric compound [C] by 1 type or in combination of 2 or more types selected from such monofunctional, bifunctional, or trifunctional or more than (meth) acrylate.

상기 중합성 화합물[C]는 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 150중량부 이하의 함량으로 포함하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 120중량부 이하로 함유 하는 것이 좋다. 중합성 화합물[C]의 함량이 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 150중량부를 초과하는 경우에는 얻어지는 보호막의 밀착성이 저하되기 쉽다.The polymerizable compound [C] is preferably contained in an amount of 150 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the copolymer [A2], and more preferably 120 parts by weight or less. When content of polymeric compound [C] exceeds 150 weight part with respect to 100 weight part of copolymers [A2], the adhesiveness of the protective film obtained will fall easily.

또한 본 발명의 열경화성 수지 조성물은 열라디칼 중합개시제를 더 포함할 수 있는데, 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 20중량부 이하, 보다 바람직하게는 15중량부 이하의 비율로 함유한다. 열라디칼 중합개시제가 20중량부를 초과하게 되면 추후 얻게되는 보호막의 내열성 및 평탄화성이 저하되기 쉽다.In addition, the thermosetting resin composition of the present invention may further include a thermal radical polymerization initiator, but is contained in a proportion of 20 parts by weight or less, more preferably 15 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the copolymer [A2]. When the thermal radical polymerization initiator exceeds 20 parts by weight, the heat resistance and planarization property of the protective film obtained later are likely to be lowered.

상기 열라디칼 중합개시제는 일반적으로 라디칼 중합개시제로서 알려져 있는 것을 사용할 수 있으며, 상술한 공중합체[A1]의 중합을 위하여 사용되는 중합개시제를 사용할 수 있다.The thermal radical polymerization initiator may be one commonly known as a radical polymerization initiator, and may be a polymerization initiator used for polymerization of the copolymer [A1] described above.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 상술한 공중합체[A1] 및 경화성 화합물[B]와 함께 선택적으로 중합성 화합물[C] 및 열라디칼 중합개시제를 용매에 용해하여 제조할 수 있다. 이 때 사용하는 용매는 어느 한 성분과도 반응하지 않는 것이 사용된다. 예컨대, 상기 공중합체[A1]의 중합을 위하여 사용된 용매를 사용할 수 있으며, 그 중에서도 용해성, 반응성 및 도막 형성의 편리성의 관점에서 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 및 프로필렌글리콜 메틸에테르 아세테이트가 바람직하다. 또한 상기 용매와 함께 고비등점 용매를 병용하는 것도 가능하다. 상기 고비등점 용매로는 예컨대, N-메틸 포름아미드, N,N-디메틸 포름아미드, N-메틸 아세트아미드, N,N-디메틸 아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸 설폭시드, 벤질에틸에테르 등을 들 수 있다. 이와 같은 고비등점 용매를 병용하는 경우 상기 용매와의 혼합 비율은 "(상기 용매) : (고비등점 용매) = 100 : 0~40"인 것이 바람직하다.The thermosetting resin composition of this invention can be manufactured by melt | dissolving a polymeric compound [C] and a thermal radical polymerization initiator selectively with a copolymer [A1] and curable compound [B] mentioned above in a solvent. The solvent used at this time does not react with any component. For example, a solvent used for the polymerization of the copolymer [A1] can be used, and among them, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and propylene glycol methyl ether in view of solubility, reactivity, and convenience of coating film formation. Acetate is preferred. It is also possible to use a high boiling point solvent together with the above solvent. Examples of the high boiling point solvent include N, N-dimethylformamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, And the like. When using such a high boiling point solvent together, it is preferable that the mixing ratio with the said solvent is "(the said solvent): (high boiling point solvent) = 100: 0-40".

이외에도 본 발명의 열경화성 수지 조성물은 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 필요에 의하여 다른 성분을 함유하여도 좋다. 여기서의 다른 성분이라 함은 예컨대, 도포성을 향상시키기 위한 계면활성제를 들 수 있다. 계면활성제로는 불소 또는 실리콘계 계면활성제를 들 수 있으며, 예컨대 3M사의 FC-129, FC-170C, FC-430 등을 들 수 있다. 이는 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 5중량부 이하, 더욱 바람직하게는 2중량부 이하의 양을 사용할 수 있다. 계면활성제를 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 5중량부를 초과하여 사용하는 경우 도포시 거품이 발생하기 쉬운 문제가 있다.In addition, the thermosetting resin composition of this invention may contain another component as needed within the scope of the technical idea of this invention. Other components herein include, for example, a surfactant for improving applicability. Examples of the surfactant include fluorine or silicone-based surfactants, and examples thereof include FC-129, FC-170C, and FC-430 from 3M. This can be used in an amount of 5 parts by weight or less, more preferably 2 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the copolymer [A2]. When using surfactant more than 5 weight part with respect to 100 weight part of copolymers [A2], there exists a problem which foams easily at the time of application | coating.

상기와 같이 혼합된 열경화성 수지 조성물은 지름 0.1~5㎛ 정도의 필터 등을 이용하여 여과한 후 사용될 수 있다.The thermosetting resin composition mixed as described above may be used after filtering using a filter having a diameter of about 0.1 ~ 5㎛.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은, 예를 들어 다음과 같은 방법으로 보호막을 형성할 수 있다.The thermosetting resin composition of this invention can form a protective film by the following method, for example.

열경화성 수지 조성물을 기판에 도포하고, 용제를 제거하여 열경화성 수지 조성물의 도포막을 형성한 후, 열처리하여 보호막을 얻을 수 있다.After applying a thermosetting resin composition to a board | substrate, removing a solvent and forming the coating film of a thermosetting resin composition, it can heat-process and can obtain a protective film.

상기 기판으로는, 예컨대 유리, 석영, 실리콘, 수지 등을 사용할 수 있으며, 상기 수지로는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트, 폴리이미드 및 환상 올레핀의 개환 중합체 및 그의 수소 첨가물 등을 들 수 있다.As the substrate, glass, quartz, silicon, resin, or the like can be used, and examples of the resin include a ring-opening polymer of polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate, polyimide and cyclic olefin, Hydrogenated products, and the like.

상기 열경화성 수지 조성물 용액의 도포 방법으로는 특별히 한정되지 않으 며, 예를 들어 스프레이법, 롤코팅법, 회전도포법 등이 사용될 수 있다.The method of applying the thermosetting resin composition solution is not particularly limited, and for example, a spray method, a roll coating method, a rotary coating method, or the like may be used.

용매의 제거는 가열처리(예비 소성)에 의하여 행해지는 것이 바람직하다. 이러한 예비 소성의 조건은 조성물 용액의 각 성분의 종류, 비율 등에 따라 상이하지만, 60~120℃에서 0.5~20분정도 소성하는 것이 바람직하다. The removal of the solvent is preferably performed by a heat treatment (preliminary firing). Although the conditions of such preliminary baking differ with kinds, ratios, etc. of each component of a composition solution, it is preferable to bake about 0.5 to 20 minutes at 60-120 degreeC.

이어서 열처리하는데, 이때의 처리 온도는 150~300℃로 10~100분간 처리하여 광디바이스용 보호막을 제조할 수 있다.Subsequent heat treatment, the treatment temperature at this time can be treated for 10 to 100 minutes at 150 ~ 300 ℃ to produce a protective film for an optical device.

상기와 같이 형성되는 보호막의 두께는 0.1~6㎛가 바람직하고, 보호막을 형성하는 기판 상에 요철이 있는 경우에는 상기 값은 요철의 가장 윗면에서의 값으로서 이해되어야 한다.The thickness of the protective film formed as described above is preferably 0.1 to 6 µm, and when the unevenness is formed on the substrate forming the protective film, the value should be understood as the value at the top of the unevenness.

이하, 본 발명을 실시예를 참조하여 보다 상세히 설명하나, 본 발명이 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

냉각관과 교반기가 구비된 반응용기에 2,2′-아조비스 이소부티로니트릴 5 중량부 및 디에틸렌글리콜디메틸에테르 200중량부를 넣었다. 이어 스티렌 20중량부, 메타크릴산 30중량부, 메타크릴산 글리시딜 40중량부 및 디시클로펜테닐옥시에틸 메타크릴레이트 10중량부를 투입하고 질소치환한 후 서서히 교반을 개시하였다. 용액의 온도를 80℃로 상승시키고 이 온도를 4시간동안 유지하여 공중합체[A1]을 포함하는 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 공중합체[A1]은 분자량이 5000이었고, 공중합체 용액의 고형분 농도는 33.0 중량%였다. 5 parts by weight of 2,2'-azobis isobutyronitrile and 200 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether were added to a reaction vessel equipped with a cooling tube and a stirrer. Subsequently, 20 parts by weight of styrene, 30 parts by weight of methacrylic acid, 40 parts by weight of glycidyl methacrylate, and 10 parts by weight of dicyclopentenyloxyethyl methacrylate were added thereto, followed by nitrogen replacement, and stirring was gradually started. The temperature of the solution was raised to 80 ° C. and maintained at this temperature for 4 hours to obtain a polymer solution containing copolymer [A1]. Obtained copolymer [A1] had a molecular weight of 5000 and solid content concentration of the copolymer solution was 33.0 weight%.

그리고 다른 냉각관과 교반기가 구비된 반응용기에 2,2′-아조비스 이소부티로니트릴 10 중량부 및 디에틸렌글리콜디메틸에테르 200중량부를 넣었다. 이어 스티렌 20중량부, 메타크릴산 30중량부, 메타크릴산 글리시딜 40중량부 및 디시클로펜테닐옥시에틸 메타크릴레이트 10중량부를 투입하고 질소치환한 후 서서히 교반을 개시하였다. 용액의 온도를 80℃로 상승시키고 이 온도를 4시간동안 유지하여 공중합체[A2]를 포함하는 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 공중합체[A2]은 분자량이 20000이었고, 공중합체 용액의 고형분 농도는 33.0 중량%였다. Then, 10 parts by weight of 2,2'-azobis isobutyronitrile and 200 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether were added to a reaction vessel equipped with another cooling tube and a stirrer. Subsequently, 20 parts by weight of styrene, 30 parts by weight of methacrylic acid, 40 parts by weight of glycidyl methacrylate, and 10 parts by weight of dicyclopentenyloxyethyl methacrylate were added thereto, followed by nitrogen replacement, and stirring was gradually started. The temperature of the solution was raised to 80 ° C. and maintained at this temperature for 4 hours to obtain a polymer solution containing copolymer [A2]. Obtained copolymer [A2] had a molecular weight of 20000 and a solid content concentration of the copolymer solution was 33.0% by weight.

얻어진 공중합체[A1] 67중량부(고형분), 공중합체[A2] 100중량부(고형분), 경화성 화합물[B]로서 애경화학社 L-110-60 5중량부 및 계면활성제로서 3M社의 FC-430(불소계 계면활성제) 0.1 중량부를 혼합하고, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 100g과 N-메틸 피롤리돈 10g에 용해시켜 고형분 농도가 25% 되도록 하였다. 그 후 구멍 지름 0.45㎛의 필터로 여과하여 열경화성 수지 조성물 용액을 제조하였다.67 weight part (solid content) of copolymer [A1] obtained, 100 weight part (solid content) of copolymer [A2], 5 weight part of L-110-60 as a curable compound [B], and 3M FC as surfactant. 0.1 parts by weight of -430 (fluorine-based surfactant) was mixed and dissolved in 100 g of diethylene glycol dimethyl ether and 10 g of N-methyl pyrrolidone to give a solid concentration of 25%. Then, it filtered by the filter of 0.45 micrometers of pore diameters, and manufactured the thermosetting resin composition solution.

유리기판 위에 스핀코터를 이용하여 상기 열경화성 수지 조성물 용액을 막두께가 2㎛가 되도록 도포하고 이를 클린 오븐에서 220℃로 30분 동안 소성하여 유리기판 위에 보호막을 형성하였다.The thermosetting resin composition solution was coated on the glass substrate using a spin coater to have a thickness of 2 μm, and then fired at 220 ° C. for 30 minutes in a clean oven to form a protective film on the glass substrate.

<실시예 2><Example 2>

상기 실시예 1에서 공중합체[A2] 제조시 2,2′-아조비스 이소부티로니트릴 15 중량부 포함하여 분자량 20000인 공중합체 [A2]를 얻은 것을 제외하고 동일한 방법으로 열경화성 수지 조성물 용액을 제조하였으며, 유리기판 위에 동일한 방법으로 보호막을 형성하였다.A thermosetting resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 15, by weight of 2,2′-azobis isobutyronitrile was obtained to prepare a copolymer [A2] having a molecular weight of 20000. A protective film was formed on the glass substrate in the same manner.

<실시예 3><Example 3>

상기 실시예 1에서 공중합체[A1] 제조시 2,2′-아조비스 이소부티로니트릴 20중량부 포함하여 분자량 5000인 공중합체[A1]을 얻은 것을 제외하고 동일한 방법으로 열경화성 수지 조성물 용액을 제조하였으며, 유리기판 위에 동일한 방법으로 보호막을 형성하였다.A thermosetting resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that 20, by weight of 2,2′-azobis isobutyronitrile was prepared to obtain a copolymer [A1] having a molecular weight of 5,000. A protective film was formed on the glass substrate in the same manner.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

실시예 1에서 공중합체[A2]을 사용하지 않은 것을 제외하고 동일한 방법으로 열경화성 수지 조성물 용액을 제조하였으며, 유리기판 위에 동일한 방법으로 보호막을 형성하였다.A thermosetting resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1, except that copolymer [A2] was not used, and a protective film was formed on the glass substrate by the same method.

<비교예 2>Comparative Example 2

상기 실시예 3에서 공중합체[A2]를 사용하지 않은 것을 제외하고 동일한 방법으로 열경화성 수지 조성물 용액을 제조하였으며, 유리기판 위에 동일한 방법으로 보호막을 형성하였다.A thermosetting resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 3, except that copolymer [A2] was not used, and a protective film was formed on the glass substrate by the same method.

<비교예 3>&Lt; Comparative Example 3 &

상기 실시예 1에서 공중합체[A1]을 사용하지 않은 것을 제외하고 동일한 방법으로 열경화성 수지 조성물 용액을 제조하였으며, 유리기판 위에 동일한 방법으로 보호막을 형성하였다.A thermosetting resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the copolymer [A1] was not used, and a protective film was formed on the glass substrate in the same manner.

본 발명에서 사용된 보호막에 대한 평가방법은 하기와 같으며, 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 보호막에 대한 평가결과는 하기 표 1과 같다.The evaluation method of the protective film used in the present invention is as follows, and the evaluation results of the protective film prepared in the above Examples and Comparative Examples are shown in Table 1 below.

(1) 밀착성(1) Adhesiveness

바둑판 무늬 테이프 법(프레셔 쿠커 시험법, 150℃, 상대습도 100%, 2시간)에 따라 보호막에 100개의 바둑판 눈금을 커터 나이프로 형성하여 밀착성 시험을 행하였다. 박리된 바둑판 눈금의 수를 측정하고, 다음 기준에 의하여 보호막의 밀착성을 평가하였다.According to the checkered tape method (Pressure Cooker test method, 150 degreeC, 100% of relative humidity, 2 hours), 100 checkerboard scales were formed in the protective film by the cutter knife, and the adhesive test was done. The number of the checkerboard scales which peeled was measured, and the adhesiveness of a protective film was evaluated by the following criteria.

○ : 박리된 바둑판 무늬의 수 5개 이하○: Number of peeled checkered patterns No more than 5

△ : 박리된 바둑판 무늬의 수 6~49개B: Number of peeled checkered patterns 6 to 49

× : 박리된 바둑판 무늬의 수 50개 이상×: 50 or more pieces of checkered patterns

(2) 표면경도(2) Surface hardness

연필경도법에 따라 보호막에 대하여 연필경도 시험법을 행하여 보호막의 표면경도를 평가하였다.The surface hardness of the protective film was evaluated by performing a pencil hardness test method on the protective film according to the pencil hardness method.

(3) 코팅성(3) coating property

보호막의 표면을 광학현미경을 통해 2 inch × 2 inch 영역 내 9 부위에서 입자의 개수를 측정하고 다음 기준에 의하여 보호막의 코팅성을 평가하였다.The number of particles was measured on the surface of the protective film at 9 sites in a 2 inch x 2 inch area through an optical microscope, and the coating property of the protective film was evaluated according to the following criteria.

○ : 총 입자 개수 10개 이하○: 10 or less particles

△ : 총 입자 개수 10~30개△: total particle number 10-30

× : 총 입자 개수 30개 이상×: 30 or more total particles

(4) 투명성(4) transparency

분광 광도계(시마츠社, UV-3101)를 이용하여 400~700㎚에서 보호막의 투과율 을 측정하고 다음 기준에 의하여 보호막의 투명성을 평가하였다.The transmittance of the protective film was measured at 400-700 nm using a spectrophotometer (UV-3101, Shimadzu Corp.), and the transparency of the protective film was evaluated according to the following criteria.

○ : 최저 투과율 95% 초과○: Minimum transmittance exceeded 95%

△ : 최저 투과율 90~95%?: Minimum transmittance: 90 to 95%

× : 최저 투과율 90% 미만X: less than 90% of the lowest transmittance

(5) 평탄화성(5) flatness

보호막의 표면 요철을 α 스텝을 이용하여 조사하고 기판의 단차를 측정하였다.The surface irregularities of the protective film were irradiated using the α step, and the step difference of the substrate was measured.

(6) 내UV성(6) UV resistance

보호막에 UV를 조사(24mW, 40초)하였다. UV 조사 전후의 보호막의 투과 스펙트럼을 측정하고, 다음 기준에 의하여 보호막의 내UV성을 평가하였다.The protective film was irradiated with UV (24 mW, 40 seconds). The transmission spectrum of the protective film before and after UV irradiation was measured, and UV resistance of the protective film was evaluated by the following criteria.

○ : 투과 스펙트럼의 변화가 1% 이내?: Transmission spectrum change within 1%

× : 투과 스펙트럼의 변화가 1% 이상X: 1% or more of change in transmission spectrum

(7) 내열성(황변 정도)(7) Heat resistance (degree of yellowing)

보호막을 클린 오븐에서 240℃, 60분 동안 가열하고, 가열 전후의 투과 스펙트럼을 측정하고, 다음 기준에 의하여 보호막의 내열성 및 황변 정도를 평가하였다.The protective film was heated in a clean oven at 240 ° C. for 60 minutes, the transmission spectrum before and after heating was measured, and the heat resistance and the degree of yellowing of the protective film were evaluated by the following criteria.

○ : 투과 스펙트럼의 변화가 1% 이내(황변현상 무)○: Transmission spectrum change within 1% (no yellowing phenomenon)

× : 투과 스펙트럼의 변화가 1% 이상(황변현상 유)X: 1% or more of change in transmission spectrum (with yellowing)

(8) 내산성(8) acid resistance

보호막이 형성된 유리기판을 25중량% 염산 수용액 중에 30℃, 20분간 침지한 후, 보호막의 외관 변화를 관찰하여 보호막의 내산성을 평가하였다.After the glass substrate on which the protective film was formed was immersed in a 25 wt% aqueous hydrochloric acid solution for 30 minutes at 30 ° C., the appearance change of the protective film was observed to evaluate the acid resistance of the protective film.

(9) 내알칼리성(9) alkali resistance

보호막이 형성된 유리기판을 10중량% 수산화나트륨 수용액 중에 30℃, 60분간 침지한 후, 보호막의 외관 변화를 관찰하여 보호막의 내알칼리성을 평가하였다.After the glass substrate on which the protective film was formed was immersed in a 10 wt% sodium hydroxide aqueous solution for 30 ° C. for 60 minutes, the appearance change of the protective film was observed to evaluate the alkali resistance of the protective film.

구분division 밀착성Adhesiveness 표면경도Surface hardness 코팅성Coating property 투명성Transparency 평탄화성Flatness 내UV성UV resistance 내열성Heat resistance 내산성Acid resistance 내알칼리성Alkali resistance 실시예1Example 1 5H5H 0.1㎛0.1 μm 변화없음No change 변화없음No change 실시예2Example 2 5H5H 0.1㎛0.1 μm 변화없음No change 변화없음No change 실시예3Example 3 5H5H 0.1㎛0.1 μm 변화없음No change 변화없음No change 비교예1Comparative Example 1 3H3H ×× 0.3㎛0.3 μm ×× ×× 변화없음No change 변화없음No change 비교예2Comparative Example 2 3H3H ×× 0.3㎛0.3 μm ×× ×× 변화없음No change 변화없음No change 비교예3Comparative Example 3 3H3H ×× 0.3㎛0.3 μm ×× ×× 변화없음No change 변화없음No change

상기 물성 측정 결과, 기판 상에 컬러필터 보호막을 형성할 때, 본 발명의 열경화성 수지를 사용한 경우, 표면경도, 평탄화성, 내UV성 및 내열성이 비교예에 비하여 특히 우수한 것을 볼 수 있다. 따라서 본 발명의 열경화성 수지를 보호막에 적용하는 경우, 보호막으로서의 특성을 만족시키면서 내열성이 우수하여 황변현상이 방지될 수 있으며, 기계적 물성이 우수한 보호막을 제공할 수 있음을 알 수 있다.As a result of the physical property measurement, when the thermosetting resin of the present invention is used to form the color filter protective film on the substrate, it can be seen that surface hardness, planarization, UV resistance and heat resistance are particularly superior to the comparative example. Therefore, when the thermosetting resin of the present invention is applied to a protective film, it can be seen that yellowing phenomenon can be prevented due to excellent heat resistance while satisfying the characteristics as a protective film, and can provide a protective film having excellent mechanical properties.

Claims (6)

불포화 카르복시산 또는 그 무수물(a1), 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2), 올레핀계 불포화 화합물(a3)의 공중합체[A1] 및 공중합체[A2]를 포함하는 열경화성 수지 조성물에 있어서,In the thermosetting resin composition containing an unsaturated carboxylic acid or its anhydride (a1), an epoxy group containing unsaturated compound (a2), a copolymer [A1] and a copolymer [A2] of an olefinic unsaturated compound (a3), 상기 공중합체[A1]은 수평균 분자량이 1,000~10,000이며, 상기 공중합체[A2]는 수평균 분자량이 10,000~100,000이고, 상기 공중합체[A1]은 상기 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 10~200중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 열경화성 수지 조성물.The copolymer [A1] has a number average molecular weight of 1,000 to 10,000, the copolymer [A2] has a number average molecular weight of 10,000 to 100,000, and the copolymer [A1] is based on 100 parts by weight of the copolymer [A2]. It contains 10-200 weight part, The thermosetting resin composition characterized by the above-mentioned. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 경화성 화합물[B]로서 멜라민 수지를 더 포함하며, 상기 경화성 화합물[B]는 상기 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 0.1~10중량부 함유하는 것임을 특징으로 하는 열경화성 수지 조성물.Melamine resin is further contained as curable compound [B], The said curable compound [B] is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of said copolymers [A2], The thermosetting resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 열경화성 수지 조성물은 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합 물[C]를 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 150중량부 이하의 함량으로 더 포함하는 것임을 특징으로 하는 열경화성 수지 조성물.The thermosetting resin composition further comprises a polymerizable compound [C] having an ethylenically unsaturated bond in an amount of 150 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the copolymer [A2]. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 열경화성 수지 조성물은 열 라디칼 중합개시제를 공중합체[A2] 100중량부에 대하여 20중량부 이하의 함량으로 더 포함하는 것임을 특징으로 하는 열경화성 수지 조성물.The thermosetting resin composition further comprises a thermal radical polymerization initiator in an amount of 20 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the copolymer [A2]. 제 1 항, 제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항의 조성물로 형성된 광디바이스용 보호막.The protective film for optical devices formed from the composition of any one of Claims 1-5.
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