KR101320497B1 - Apparatus for rubbing and method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 액정표시장치에 있어 배향막을 러빙하는 러빙장치와 러빙방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 러빙장치는, 기판이 안착되는 테이블과, 제1러빙포가 권포되어 상기 기판을 러빙하는 제1러빙롤과, 상기 제1러빙롤에 후행하며 제2러빙포가 권포되어 상기 기판을 러빙하는 제2러빙롤로 구성되며, 상기 제1러빙포 및 제2러빙포 중 적어도 하나는 나노러빙포인 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a rubbing device and a rubbing method for rubbing an alignment film in a liquid crystal display device. The rubbing device according to the present invention includes a table on which a substrate is seated, a first rubbing roll wound around a first rubbing cloth, and a second rubbing cloth wound on the first rubbing roll and rubbing the substrate. It is composed of a second rubbing roll, characterized in that at least one of the first rubbing cloth and the second rubbing cloth is a nano rubbing cloth.
본 발명에 따른 러빙방법은, 기판 표면에 배향막을 형성하는 단계와, 적어도 어느 한 러빙롤에 나노러빙포가 권포된 제1러빙롤과 제2러빙롤을 준비하는 단계와, 제1러빙롤과 제2러빙롤의 기판에서의 높이를 조절하여 마크 폭을 조절하는 단계와, 제1러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제1러빙을 진행하는 단계, 및 제1러빙롤을 이용하여 러빙한 후 순차적으로 제2러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제2러빙을 진행하는 단계를 포함한다.The rubbing method according to the present invention comprises the steps of: forming an alignment film on the surface of the substrate, preparing a first rubbing roll and a second rubbing roll on which at least one of the nano-rubbing cloths are wound on the rubbing roll; Adjusting the mark width by adjusting the height of the rubbing roll on the substrate, performing the first rubbing on the alignment layer using the first rubbing roll, and rubbing using the first rubbing roll, and then sequentially Performing a second rubbing on the alignment layer using a second rubbing roll.
나노러빙포, 러빙, 러빙롤러, 포털 Nano Loving Cloth, Loving, Loving Roller, Portal
Description
도 1은 일반적인 액정표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 분해사시도.1 is an exploded perspective view schematically illustrating a structure of a general liquid crystal display device.
도 2는 일반적인 러빙공정을 개략적으로 나타내는 사시도.2 is a perspective view schematically showing a general rubbing process.
도 3은 종래 기술에 따른 러빙포의 포털을 확대 촬영한 SEM 사진.3 is an enlarged SEM photograph of a portal of a rubbing cloth according to the prior art.
도 4는 본 발명에 따른 러빙장치를 나타낸 단면도. 4 is a sectional view showing a rubbing device according to the present invention.
도 5는 러빙포가 기판에 닿는 정도를 나타낸 마크 폭을 나타낸 도면.5 is a view showing a mark width indicating the extent to which the rubbing cloth touches the substrate.
<도면의 주요 부분의 부호에 대한 설명>DESCRIPTION OF THE RELATED ART [0002]
121 : 기판 126 : 테이블121: substrate 126: table
130 : 제1러빙롤 130' : 제2러빙롤130: first rubbing roll 130 ': second rubbing roll
131 : 본체 133, 133' : 러빙롤 본체131:
135, 135' : 러빙포135, 135 ': Loving gun
본 발명은 액정표시장치의 제조공정에서 이용되는 러빙장치와 러빙방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 나노러빙포를 구비한 러빙장치와 러빙방법에 관한 것이다.The present invention relates to a rubbing device and a rubbing method used in the manufacturing process of a liquid crystal display device, and more particularly to a rubbing device and a rubbing method provided with a nano rubbing cloth.
근래, 핸드폰(Mobile Phone), PDA, 컴퓨터, 대형 TV와 같은 각종 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 평판표시장비(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. Recently, with the development of various electronic devices such as mobile phones, PDAs, computers, and large TVs, the demand for flat panel display devices that can be applied thereto is gradually increasing.
이러한 평판표시장치로는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 이유로 인해 현재에는 액정표시장치(LCD)가 각광을 받고 있다.Such flat panel displays are being actively researched, such as LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel), FED (Field Emission Display), VFD (Vacuum Fluorescent Display), but mass production technology, ease of driving means, Liquid crystal displays (LCDs) are in the spotlight for reasons of implementation.
일반적으로, 액정표시장치는 매트릭스(matrix) 형태로 배열된 액정셀들에 화상정보에 따른 데이터신호를 개별적으로 공급하여, 상기 액정셀들의 광투과율을 조절함으로써 원하는 화상을 표시할 수 있도록 한 표시장치이다.In general, a liquid crystal display device displays a desired image by individually supplying data signals according to image information to liquid crystal cells arranged in a matrix form to adjust a light transmittance of the liquid crystal cells. to be.
이하, 도 1을 참조하여 액정표시장치에 대해서 상세히 설명한다.Hereinafter, a liquid crystal display will be described in detail with reference to FIG. 1.
도 1은 일반적인 액정표시장치의 구조를 개략적으로 나타내는 분해사시도이다.1 is an exploded perspective view schematically showing a structure of a general liquid crystal display device.
도면에 도시한 바와 같이, 액정표시장치는 액정패널(1)을 포함하여 구성되는데, 액정패널(1)은 어레이 기판(21)과 이에 대향하는 컬러필터 기판(23) 및 상기 어레이 기판(21)과 컬러필터 기판(23) 사이에 형성된 액정층(22)으로 구성되어 있다. As shown in the figure, the liquid crystal display device includes a
상기 액정층(22)을 형성하는 액정은 광학적 이방성을 가진 물질로서, 인가되는 전압에 따라 배향성이 달라지므로, 광투과율을 조절할 수 있다. 따라서 액정층(22)의 광투과율에 따라 이에 대응되어 정지된 화상이나 움직이는 화상이 액 정표시장치 상에 표현된다. The liquid crystal forming the
어레이 기판(21)은 투명한 기판(10) 상에 게이트라인(4) 및 데이터라인(5)이 종횡으로 배열되어 화소를 정의한다. 상기 게이트라인(4) 및 데이터라인(5)의 교차점에는 상기 화소를 구동하는 스위칭 소자인 박막트랜지스터(TFT : Thin Film Transistor, 9)가 형성되어 있다. 상기 박막트랜지스터(9)에는 화소전극(7)이 연결되어 컬러필터 기판(23)에 형성된 공통전극(16)과 전계를 형성하여 액정을 배향시킨다.The
컬러필터 기판(23)은, 컬러를 구현하기 위한 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러필터층(44)과 컬러필터층의 경계부에 블랙매트릭스(2)이 형성되어 있으며, 컬러필터 기판(23)의 전면에는 공통전극(16)이 형성되어 있다.The
상기 어레이 기판(21) 및 컬러필터 기판(23)은 실링재(Sealing material, 미도시)에 의해 합착되어 있으며, 상기 어레이 기판(5)에 형성된 박막트랜지스터(9)에 의해 액정분자를 구동하여 액정층(22)을 투과하는 광량을 제어함으로써 정보를 표시하게 된다.The
상기한 바와 같은 액정표시장치를 제조하는 공정에 있어서, 액정분자를 일정한 방향으로 배향시키기 위해 러빙공정을 수행한다. 러빙공정이란 러빙포에 의하여 액정이 일정한 방향으로 배열되도록 소성된 고분자막을 일정한 방향으로 분자를 배열하는 공정으로, 벨벳 등과 같은 러빙포(rubbing cloth)를 러빙롤에 감아 배향막 표면을 문지르는 과정을 거친다. 상기 과정을 거쳐 배향막에 선경사각(pretilt angle)을 갖는 배향막을 형성한다.In the process of manufacturing the liquid crystal display device as described above, a rubbing process is performed to orient the liquid crystal molecules in a predetermined direction. The rubbing process is a process of arranging molecules in a certain direction in a polymer film fired so that the liquid crystals are arranged in a predetermined direction by a rubbing cloth. A rubbing cloth such as velvet is wound around a rubbing roll to rub the surface of the alignment film. Through the above process, an alignment layer having a pretilt angle is formed on the alignment layer.
상기 배향막은 배향막이 형성된 기판들은 액정이 일정한 방향으로 배열될 수 있도록 러빙(rubbing)됨으로써 일정한 방향의 홈들이 형성된다.In the alignment layer, the substrates on which the alignment layer is formed are rubbed to form liquid crystals in a predetermined direction, thereby forming grooves in a predetermined direction.
도 2은 일반적인 러빙공정을 개략적으로 나타내는 사시도이다.2 is a perspective view schematically showing a general rubbing process.
도면에 도시된 바와 같이, 상기 배향막(21)은 표면에 홈(36)을 주기 위한 러빙처리를 하게 되며, 이러한 러빙공정은 러빙포(35)를 롤러(33)에 감아 이를 이용하여 배향막(21)의 표면을 일정한 방향으로 문질러주는 것을 말한다. 상기 배향막(21)의 표면을 러빙 처리하게 되면, 상기 배향막(21)의 표면은 미세한 홈(36)을 갖는 형상이 된다.As shown in the figure, the
상기 러빙포(35)는 포털이 형성된 부드러운 섬유의 포를 사용하며, 상기 롤러(33)를 포함한 러빙장비는 비교적 간단하다. 러빙공정 조건 설정시 가장 기본이 되는 것은 적당한 세기의 러빙조건을 설정하는 것과 러빙세기를 대면적에 걸쳐 균일하게 하는 것이다.The
그런데, 러빙이 균일하지 않으면 액정분자의 정렬도가 공간적으로 일정하지 않아 국소적으로 다른 광학 특성을 나타내는 불량을 일으킨다. 러빙의 균일성을 저해하는 요소는 여러 가지가 있을 수 있으나, 러빙포 자체의 포털에 기인하기도 한다.However, if the rubbing is not uniform, the alignment degree of the liquid crystal molecules is not spatially constant, resulting in a defect showing locally different optical characteristics. There may be a number of factors that hinder the uniformity of rubbing, but also due to the portal of the rubbing cloth itself.
도 3은 종래 기술에 따른 러빙포의 포털을 확대 촬영한 SEM 사진으로, 일반적으로 사용하고 있는 러빙포의 포털은 직경이 약 10㎛에 이른다. 도시한 정도의 크기의 포털이 배향막을 러빙하게 되면 ㎛ 수준의 국부적인 러빙각도 오차가 발생하게 된다. 상기 오차는 곧바로 배향 불균형으로 이어져 광학적 균일성을 떨어뜨리 게 된다.3 is an SEM photograph of an enlarged photograph of a portal of a rubbing cloth according to the prior art, and a portal of a rubbing cloth generally used reaches about 10 μm in diameter. When a portal of the size shown in the figure rubs the alignment layer, a local rubbing angle error of about μm occurs. The error immediately leads to an orientation imbalance that degrades the optical uniformity.
또한 상기한 직경의 포털이 여러 개 뭉친 상태로 러빙하게 되면 10~20㎛ 수준의 스크래치가 발생하게 된다.In addition, when rubbed in a state in which a plurality of the portal of the above diameter is agglomerated, scratches of the level of 10 ~ 20㎛ occurs.
상기한 스크래치 및 국부적인 배향 불균일은 블랙 휘도를 상승시켜 화상의 콘트라스트 비를 저하시키고 암실에서의 블랙이 회색처럼 보이게 하는 원인이 된다.The scratches and local non-uniform orientation described above cause the black brightness to rise, thereby lowering the contrast ratio of the image and causing the black in the dark room to look like gray.
상기한 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명은 기판의 배향막을 러빙하는 데 있어, 러빙포에 의한 스크래치 및 배향불균일을 감소시킨 러빙장치와 러빙방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a rubbing device and a rubbing method for reducing scratches and orientation unevenness caused by the rubbing cloth in rubbing the alignment film of the substrate.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 러빙장치는, 기판이 안착되는 테이블과, 제1러빙포가 권포되어 상기 기판을 러빙하는 제1러빙롤과, 상기 제1러빙롤에 후행하며 제2러빙포가 권포되어 상기 기판을 러빙하는 제2러빙롤로 구성되며, 상기 제1러빙포 및 제2러빙포 중 적어도 하나는 나노러빙포인 것을 특징으로 한다.A rubbing device according to the present invention for achieving the above object, a table on which a substrate is seated, a first rubbing roll is rolled around the first rubbing cloth and rubbing the substrate, and the second rubbing after the first rubbing roll The fabric is rolled up and composed of a second rubbing roll for rubbing the substrate, wherein at least one of the first rubbing cloth and the second rubbing cloth is characterized in that the nano rubbing cloth.
이때, 상기 러빙장치는, 포털의 직경과 포털 간의 거리가 400nm 이하인 것을 특징으로 한다. At this time, the rubbing device is characterized in that the distance between the diameter of the portal and the portal is 400nm or less.
또한 상기 러빙롤에 권포되는 러빙포, 러빙롤의 직경, 마크폭, 또는 회전 방향 등을 달리하는 것을 특징으로 한다.In addition, it is characterized in that the rubbing cloth wound on the rubbing roll, the diameter of the rubbing roll, mark width, or the direction of rotation.
본 발명은 상기 러빙장치를 이용하여 러빙하는 방법을 포함하며, 본 발명에 따른 러빙방법은, 기판 표면에 배향막을 형성하는 단계와, 적어도 어느 한 러빙롤에 나노러빙포가 권포된 제1러빙롤과 제2러빙롤을 준비하는 단계와, 제1러빙롤과 제2러빙롤의 기판에서의 높이를 조절하여 마크 폭을 조절하는 단계와, 제1러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제1러빙을 진행하는 단계, 및 제1러빙롤을 이용하여 러빙한 후 순차적으로 제2러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제2러빙을 진행하는 단계를 포함한다.The present invention includes a method of rubbing using the rubbing device, and a rubbing method according to the present invention comprises the steps of forming an alignment film on the surface of the substrate; Preparing a second rubbing roll, adjusting a mark width by adjusting heights of the first rubbing roll and the second rubbing roll on the substrate, and performing a first rubbing on the alignment layer using the first rubbing roll. And rubbing using the first rubbing roll and sequentially performing a second rubbing on the alignment layer using a second rubbing roll.
이때, 상기 제1러빙롤과 제2러빙롤을 이용하여 러빙하는 단계는 두 러빙롤의 마크폭이나 회전방향을 달리하여 러빙하는 것을 포함한다.At this time, the rubbing using the first rubbing roll and the second rubbing roll includes rubbing by varying the mark width or rotational direction of the two rubbing rolls.
그리고, 본 발명은 상기한 러빙방법으로 액정표시장치를 제조하는 방법을 포함하며, 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은, 제1기판과 상기 제1기판에 대향하는 제2기판을 준비하는 단계와, 상기 제1기판과 상기 제2기판의 표면에 배향막을 형성하는 단계와, 상기 배향막 중 적어도 하나의 배향막을 나노러빙포가 권포된 러빙장치로 러빙하는 단계, 및 상기 제1기판 및 상기 제2기판을 합착하고 액정층을 형성하는 단계를 포함한다.In addition, the present invention includes a method of manufacturing a liquid crystal display device by the above rubbing method, and a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes preparing a first substrate and a second substrate facing the first substrate. Forming an alignment layer on surfaces of the first substrate and the second substrate, rubbing at least one alignment layer among the alignment layers with a rubbing device in which a nano rubbing cloth is wrapped, and the first substrate and the second substrate. Bonding the two substrates together to form a liquid crystal layer;
일반적으로, 액정표시장치는 제1기판과 제2기판 및 상기 제1기판과 제2기판 사이에 형성된 액정층으로 구성되어 있다. 상기 액정층을 형성하는 액정은 광학적 이방성을 가진 물질로서, 인가되는 전압에 따라 배향성이 달라지므로, 광투과율을 조절할 수 있다. 따라서 액정층의 광투과율에 따라 이에 대응되어 정지된 화상이나 움직이는 화상이 액정표시장치 상에 표현된다. In general, a liquid crystal display device is composed of a first substrate and a second substrate and a liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate. The liquid crystal forming the liquid crystal layer is a material having optical anisotropy, and since the orientation varies depending on the applied voltage, light transmittance may be adjusted. Accordingly, a still image or a moving image corresponding to the light transmittance of the liquid crystal layer is displayed on the liquid crystal display device.
제1기판은 구동소자인 박막트랜지스터(TFT : Thin Film Transistor)가 형성 된 기판으로서, 복수의 화소가 형성되어 있다. 각각의 화소에는 박막트랜지스터가 형성되어 있다. 제2기판은 컬러필터(Color Filter)기판으로서, 컬러를 구현하기 위한 컬러필터층이 형성되어 있다. The first substrate is a substrate on which a thin film transistor (TFT), which is a driving element, is formed, and a plurality of pixels are formed. Each pixel is formed with a thin film transistor. The second substrate is a color filter substrate, and a color filter layer for realizing color is formed.
또한, 상기 제1기판 및 제2기판에는 각각 화소전극 및 공통전극이 형성되어 있으며 액정층의 액정분자를 배향하기 위한 배향막이 도포되어 있다.In addition, a pixel electrode and a common electrode are formed on the first substrate and the second substrate, respectively, and an alignment film for aligning liquid crystal molecules of the liquid crystal layer is coated.
상기 제1기판 및 제2기판은 실링재(Sealing material)에 의해 합착되어 있으며, 그 사이에 액정층이 형성되어 상기 제1기판에 형성된 박막트랜지스터에 의해 액정분자를 구동하여 액정층을 투과하는 광량을 제어함으로써 정보를 표시하게 된다.The first substrate and the second substrate are bonded by a sealing material, and a liquid crystal layer is formed therebetween to drive the liquid crystal molecules by means of a thin film transistor formed on the first substrate to transmit the amount of light that passes through the liquid crystal layer. By controlling, information is displayed.
상기한 액정표시장치의 제조공정에 있어서 배향막은 액정분자의 배향을 결정하고 표시특성을 향상시키는 데 있어 매우 중요하다. In the manufacturing process of the liquid crystal display device described above, the alignment film is very important for determining the alignment of liquid crystal molecules and improving display characteristics.
보통 배향막 형성용 물질은 유기고분자인 폴리이미드(polyimide)나 폴리아믹산(polyamic acid) 계열의 고분자로, 이를 도포 후 건조, 가열, 및 경화의 과정을 거쳐 배향막이 형성된다. 상기 배향막은 이후 액정분자의 선경사각을 얻기 러빙(rubbing)의 공정을 진행한다.Usually, the alignment layer forming material is an organic polymer of polyimide or polyamic acid-based polymer, and after the coating, the alignment layer is formed through drying, heating, and curing. The alignment layer is then subjected to a rubbing process to obtain a pretilt angle of the liquid crystal molecules.
상기 러빙의 공정은 벨벳과 같은 러빙천을 적당한 크기에 맞추어 절단한 다음 러빙롤(rubbing roller)에 권포한 후, 상기 러빙롤를 배향막이 형성된 기판에 문지름으로써 행해진다. 러빙천을 러빙롤에 부착하는 과정은, 러빙천을 기판 및 러빙롤의 크기에 맞추어 절단한 다음, 절단한 러빙천을 러빙롤의 외주면에 권포하는 과정으로 이루어진다. 이때, 상기 러빙포가 권포된 러빙롤를 필요에 따라 에이징(aging)하는 과정이 추가로 포함될 수 있다.The rubbing process is performed by cutting a rubbing cloth such as velvet to an appropriate size, winding it on a rubbing roller, and then rubbing the rubbing roll onto a substrate on which an alignment film is formed. The process of attaching the rubbing cloth to the rubbing roll consists of cutting the rubbing cloth to the size of the substrate and the rubbing roll, and then winding the cut rubbing cloth to the outer circumferential surface of the rubbing roll. In this case, a process of aging the rubbing roll in which the rubbing cloth is wound may be further included.
본 발명은 러빙장치와 러빙방법에 관한 것으로, 나노포가 권포된 러빙롤을 이용하여 기판의 배향막을 러빙하고, 러빙롤을 복수 개 구비하여 러빙 조건을 달리함으로써 러빙품질을 높이고자 하는 것이다.The present invention relates to a rubbing device and a rubbing method, and to improve rubbing quality by rubbing an alignment layer of a substrate using a rubbing roll on which nano-foams are wound, and by varying rubbing conditions by providing a plurality of rubbing rolls.
이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 러빙장치와 러빙방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a rubbing device and a rubbing method according to the present invention will be described with reference to the drawings.
도 4은 본 발명에 따른 러빙장치를 나타낸 단면도이다. 4 is a sectional view showing a rubbing device according to the present invention.
본 발명에 따른 러빙장치는 기판(121)이 안착되는 테이블(126)과, 제1러빙포(135)가 권포되어 상기 기판(121)을 러빙하는 제1러빙롤(130)과, 상기 제1러빙롤(130)에 후행하며 제2러빙포(135')가 권포되어 상기 기판(121)을 러빙하는 제2러빙롤(130')로 구성되며, 상기 제1러빙포(135) 및 제2러빙포(135') 중 적어도 하나는 나노러빙포인 것을 특징으로 한다.The rubbing device according to the present invention includes a table 126 on which the
상기 기판(121)의 상면에는 배향막(미도시)이 형성되어 있으며, 러빙은 러빙롤 본체(133, 133')에 권포된 러빙포(135, 135')가 배향막이 형성된 기판(121)에 닿아 배향막을 문질러 일정방향으로 홈을 형성함으로써 수행된다. 이러한 러빙은 러빙롤(130, 130')과 기판(121)이 닿는 정도에 따라 배향력의 정도가 달라지게 되는데, 기판(121)과 닿는 면적이 넓을수록, 즉, 러빙롤(130, 130')이 기판(121)을 누르는 힘이 클수록, 배향막을 문지르는 강도가 세지게 된다. 이에 따라 배향막에 깊은 홈을 형성하게 되어, 이후 액정분자에 강한 배향력을 준다. An alignment layer (not shown) is formed on an upper surface of the
이때, 러빙롤(130, 130')이 기판(121)에 닿는 정도를 마크 폭(W)이라고 하며, 도 5에 도시되어 있다. In this case, the extent to which the rubbing
상기 마크 폭(W)은 러빙롤(130, 130')을 기판(121)에 접촉시켰을 때 닿는 정도이기 때문에 마크 폭(W)에 따라 액정이 배향되는 폭이 달라진다. 마크 폭(W)은 러빙포(135)의 상태와 기판(121)의 모델에 따라 다른 값을 갖도록 구비되며, 마크 폭(W)의 변화는 러빙롤(130, 130')과 기판(121) 사이의 높이(H)의 변화를 가져온다. 러빙 조건이 변경되어 기판(121)과 러빙롤(130, 130') 사이의 높이(H)를 조정할 필요가 있는 경우에는 러빙롤(130, 130')의 마크 폭(W)을 기준으로 조정하게 된다.Since the mark width W is in contact with the rubbing
현재 일반적으로 사용되는 포털 길이가 1mm 정도이고, 러빙롤의 마크 폭(W)은 10~15mm 정도이다. 그런데, 이 정도 수준의 마크 폭(W)은 배향막에 강한 배향력을 주기에는 좋지만 닿는 정도가 크기 때문에 그만큼 스크래치에는 취약한 면이 있다.Currently, the portal length generally used is about 1 mm, and the mark width W of the rubbing roll is about 10 to 15 mm. By the way, this level of mark width (W) is good to give a strong orientation force to the alignment film, but because it is large enough to touch, there is a side that is vulnerable to scratches.
따라서, 도 3과 도 4를 참조하면, 본 발명에서는 제1러빙롤(130)로 스크래치가 발생하지 않도록 약한 러빙을 할 수 있도록 하되, 제2러빙롤(130')로 다시 한 번 러빙할 수 있게 한 것이 특징이다. 제2러빙롤(130')로 두 번째 러빙을 수행함으로써, 충분한 배향력을 얻을 수 있도록 한 것으로, 2개의 러빙롤(130, 130')이 마련되는 것이 특징이다. 이때, 제2러빙롤(130')은 제1러빙롤(130)에 후행하게, 제1러빙롤(130)의 일측에 형성되며, 두 러빙롤(130, 130')은 중심축과 외주면을 가진 원기둥의 형태로 마련된다.Therefore, referring to FIGS. 3 and 4, in the present invention, the first rubbing
상기 제1러빙롤(130)과 제2러빙롤(130')은 같은 크기로 직경이 같게 형성될 수 있으나, 도시한 바와 같이 직경이 달리 형성될 수도 있다.The first rubbing
상기 두 러빙롤(130, 130')의 상부에는 두 러빙롤(130, 130')을 고정하는 본체(131)가 구비된다. 제1러빙롤(130)과 제2러빙롤(130')에는 각각 중심축에 연결된 지지대(137, 137')가 형성되어 본체(131)에 두 러빙롤(130, 130')을 고정시킨다.The upper part of the two rubbing
도면에 도시하지는 않았으나, 제1러빙롤(130)과 제2러빙롤(130')의 주변에는 각각 제1구동장치와 제2구동장치가 구비된다. 제1, 제2구동장치는 각각 제1러빙롤(130)과 제2러빙롤(130')의 적어도 일측에 형성이 가능하며, 각각의 러빙롤러(130, 130')에 회전구동력을 전달하는 역할을 한다. Although not shown in the drawings, a first driving device and a second driving device are provided around the first rubbing
상기 구동장치에 의해 제1러빙롤(130)과 제2러빙롤(130')은 중심축을 기준으로 회전이 가능하다. 이때, 두 러빙롤(130, 130')의 회전 방향이 같도록 구비될 수 있으며, 다르게 구비될 수도 있다. 즉, 한 러빙롤이 일방향으로 회전할 때, 다른 러빙롤이 일방향 또는 일방향과 반대의 타방향으로 회전이 가능하다. 이때, 상기 제1구동장치와 제2구동장치는 회전구동력을 낼 수 있는 것이면 되며, 그 종류가 특별히 한정되는 것은 아니다. The first rubbing
상기 두 러빙롤(130, 130')의 주변에는 상기 제1러빙롤(130)의 주변에 구비되며 제1러빙롤(130)의 기판(121)에서의 높이를 조절하는 제1이동장치(미도시)와, 상기 제2러빙롤(130')의 주변에 구비되며 상기 제2러빙롤(130')의 기판(121)에서의 높이를 조절하는 제2이동장치(미도시)가 더 구비된다. 이때, 제1이동장치와 상기 제2이동장치는 독립적으로 구동되거나 또는 일체로 구동될 수 있다.A first moving device (not shown) provided around the first rubbing
제1, 제2이동장치에 의해 제1러빙롤(130)과 제2러빙롤(130')의 기판(121)에 서의 높이는 마크 폭과 관련이 있다. 러빙롤(130, 130')의 기판(121)에서의 높이가 작은 경우에는 러빙롤(130, 130')이 기판(121)에 닿는 면적이 커지게 되어 마크 폭이 커지게 되며, 러빙롤(130, 130')의 기판(121)에서의 높이가 큰 경우에는 마크 폭이 작아지게 된다.The height of the first rubbing
한편, 제1러빙롤 본체(133)과 제2러빙롤 본체(133')의 외주면에는 각각 러빙포(135, 135')가 권포되며, 본 발명에서는 상기 제1러빙롤 본체(133)과 제2러빙롤 본체(133') 중 적어도 하나에 나노러빙포가 권포된 것을 특징으로 한다. 상기 제1러빙롤 본체(133)와 제2러빙롤 본체(133') 중 어느 한 곳에 나노러빙포가 권포되는 경우 다른 러빙롤에는 종래의 일반적인 러빙포가 권포된다. Meanwhile, rubbing
나노러빙포는 러빙포를 이루는 포털 하나하나의 크기 및 각 포털 간의 거리가 나노미터(nm) 수준으로 이루어진 러빙포를 말하며, 나노섬유로 직조한 천의 형태로 마련된다. Nano-rubbing cloth refers to a rubbing cloth consisting of the size of each portal constituting the rubbing cloth and the distance between each portal nanometer (nm), it is provided in the form of cloth woven from nanofibers.
이러한 나노러빙포는 포털 하나의 크기 및 포털 간의 거리가 가시광의 파장보다 짧은 것이 바람직하다. 가시광선의 파장은 약 400nm 내지 800nm 정도에 해당하는데, 나노러빙포를 이루는 포털 하나의 크기 및 포털 간의 거리가 400nm 이하인 것이 바람직하다. 따라서, 나노러빙포의 1㎛ 당 포털의 개수는 약 4~5개 이상으로 형성되는 것이 적절하다.Such nano-rubbing cloths preferably have a size of one portal and a distance between the portals is shorter than the wavelength of visible light. The wavelength of visible light corresponds to about 400 nm to about 800 nm. It is preferable that the size of one portal and the distance between the portals forming the nano-rubbing cloth be 400 nm or less. Therefore, the number of portals per 1 μm of the nano-rubbing cloth is appropriately formed to about 4-5 or more.
상기한 나노러빙포를 이용하여 배향막을 러빙하는 경우, 각각의 포털에 의한 스크래치가 생긴다고 하더라도 가시광의 파장보다 작은 영역에 형성되기 때문에 육안으로 보이는 스크래치에 의한 불량이 최소화되는 장점이 있다.When the alignment layer is rubbed using the nano-rubbing cloth, even if scratches are generated by the respective portals, the defects due to visible scratches are minimized because they are formed in a region smaller than the wavelength of visible light.
나노러빙포는 장변과 단변을 가지는 사각형의 형태로 커팅되어 러빙롤 본체(133, 133')에 권포된다. 이때, 러빙포의 마주보는 한 쌍의 변은 러빙롤 본체(133, 133')의 원주면의 길이와 일치하고, 다른 쌍의 변은 러빙롤 본체(133, 133')의 중심축 방향 길이와 일치한다. The nano rubbing cloth is cut into a rectangular shape having a long side and a short side and wound on the rubbing
상기 나노러빙포의 한 변의 연장선 방향을 x축 방향, 이에 수직한 방향을 y축 방향이라 하고, x축과 y축이 이루는 면과 수직한 방향을 z축 방향이라고 하면, 상기 나노러빙포의 포털은 각각의 축과 이루는 각도를 달리하여 형성이 가능하다. 상기한 x, y, z축과의 포털의 각도는 배향막의 종류나 상태, 러빙의 정도 등에 따라 적절하게 조절하는 것이 바람직하다.The extension direction of one side of the nano-rubbing cloth is referred to as the x-axis direction, and the direction perpendicular thereto is referred to as the y-axis direction, and the direction perpendicular to the plane formed by the x-axis and the y-axis is referred to as the z-axis direction. Can be formed by varying the angle of each axis. It is preferable to adjust the angle of the portal with said x, y, z axis suitably according to the kind and state of an orientation film, the degree of rubbing, etc.
이때, 나노러빙포의 포털의 길이는 수 ㎛에서 수 ㎝까지 다양한 길이로 구비될 수 있다.At this time, the length of the portal of the nano-rubbing cloth may be provided in various lengths from several ㎛ to several cm.
한편, 테이블(126)은 단변과 장변을 가진 대략 사각형의 형상을 가진 판상으로 마련되며, 상부에 배향막이 형성된 기판(121)이 안착된다. 배향막은 기판(121) 위에 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리아믹산(polyamic acid) 계열의 물질을 슬릿코터나 인쇄롤러로 도포하는 방식 등으로 형성된다. On the other hand, the table 126 is provided in a plate shape having a substantially rectangular shape having a short side and a long side, and the
도시하지는 않았으나 테이블(126)의 하부에는 테이블(126)을 이동시킬 수 있는 구동수단 및/또는 높이 조절수단이 구비될 수 있으며, 이러한 경우 테이블(126)이 설정된 방향으로 수평/상하 이동하게 된다.Although not shown, a driving means and / or height adjusting means for moving the table 126 may be provided below the table 126, and in this case, the table 126 may move horizontally and vertically in a set direction.
상기한 러빙장치와, 상기 러빙장치를 이용한 러빙방법은 필요에 따라 발명의 범위 내에서 다양하게 변용이 가능하므로, 이하, 바람직한 실시예에 대해서 설명한 다. 각 실시예에서는 상기한 제1실시예와 구별되는 부분만 설명하기로 하며, 설명이 생략되거나 요약된 부분은 제1실시예 및 공지의 기술에 따른다. Since the rubbing device and the rubbing method using the rubbing device can be variously modified within the scope of the invention as necessary, the following describes the preferred embodiment. Each embodiment will be described only the parts that are different from the above-described first embodiment, the description is omitted or summarized according to the first embodiment and known techniques.
본 발명의 제1실시예에 따른 러빙장치에서는 제1러빙롤과 제2러빙롤에 포털의 길이가 다른 나노러빙포가 권포되는 것을 특징으로 한다. In the rubbing device according to the first embodiment of the present invention, the first rubbing roll and the second rubbing roll are characterized in that nano-rubbing cloths having different lengths of portals are wound.
본 실시예에서는 제1러빙포와 제2러빙포가 모두 나노러빙포로 권포되며, 제1러빙포의 포털의 길이는 제2러빙포의 포털의 길이보다 짧은 것을 특징으로 한다. 바람직하게는 제1러빙포의 포털은 1mm 정도로, 제2러빙포의 포털은 수 cm인 것이 바람직하다. 이때, 제1러빙롤과 제2러빙롤의 직경의 크기는 같다. In the present embodiment, both the first rubbing cloth and the second rubbing cloth are wound with a nano rubbing cloth, and the length of the portal of the first rubbing cloth is shorter than the length of the portal of the second rubbing cloth. Preferably, the portal of the first rubbing cloth is about 1 mm, and the portal of the second rubbing cloth is preferably several cm. At this time, the size of the diameter of the first rubbing roll and the second rubbing roll is the same.
본 실시예에 따른 러빙장치를 이용하여 러빙하는 방법은 다음과 같다.The rubbing method using the rubbing device according to the present embodiment is as follows.
먼저, 기판 표면에 배향막을 형성하고, 제1러빙포와 제2러빙포를 권포하여 제1러빙롤과 제2러빙롤을 준비한 다음, 상기 제1러빙롤과 제2러빙롤의 기판에서의 높이를 조절하여 마크 폭을 같게 조절한다. 이후, 제1러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제1러빙을 진행하고, 순차적으로 제2러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제2러빙을 진행한다.First, an alignment film is formed on the surface of the substrate, and the first rubbing roll and the second rubbing roll are wound to prepare a first rubbing roll and a second rubbing roll, and then the height of the first rubbing roll and the second rubbing roll on the substrate is measured. Adjust the mark width equally. Thereafter, first rubbing is performed on the alignment layer using a first rubbing roll, and second rubbing is performed on the alignment layer using a second rubbing roll.
이때, 제2러빙포의 포털의 길이가 제1러빙포의 포털의 길이보다 길게 형성되어 있으므로, 제2러빙롤의 높이를 포털의 길이의 차이에 대응하는 만큼 높게 배치한다. 이는 포털의 길이가 긴 제2러빙롤과 기판 사이에 적절한 간격을 두어 러빙포의 포털이 눌리는 효과를 제거하기 위함이다. At this time, since the length of the portal of the second rubbing cloth is formed longer than the length of the portal of the first rubbing cloth, the height of the second rubbing roll is placed as high as corresponding to the difference in the length of the portal. This is for eliminating the effect of the portal of the rubbing cloth being pressed at an appropriate interval between the second rubbing roll having a long length of the portal and the substrate.
상기한 바와 같이 제1러빙롤과 제2러빙롤의 높이를 다르게 형성함으로써, 두 러빙롤의 마크 폭은 같게 유지할 수 있으며, 제1러빙롤과 제2러빙롤은 같은 정도의 압력으로 기판을 러빙하며, 포털의 길이의 차이로 인해 배향력을 다르게 조절할 수 있게 된다.By forming different heights of the first rubbing roll and the second rubbing roll as described above, the mark widths of the two rubbing rolls can be kept the same, and the first rubbing roll and the second rubbing roll rub the substrate at the same pressure. And, the orientation force can be adjusted differently due to the difference in the length of the portal.
본 발명의 제2실시예에 따른 러빙장치는 제1러빙롤과 제2러빙롤의 기판에서의 높이가 다른 것을 특징으로 한다. The rubbing device according to the second embodiment of the present invention is characterized in that the height of the first rubbing roll and the second rubbing roll on the substrate is different.
이때, 제1러빙롤과 제2러빙롤의 직경의 크기는 같으며, 제1러빙롤과 제2러빙롤은 같은 종류의 나노러빙포로 권포된다. 여기서, 나노러빙포의 포털은 1mm 정도로 짧은 것이 바람직하다.At this time, the size of the diameter of the first rubbing roll and the second rubbing roll is the same, the first rubbing roll and the second rubbing roll is wound in the same kind of nano rubbing cloth. Here, it is preferable that the portal of a nano rubbing cloth is as short as about 1 mm.
본 실시예에 따른 러빙장치를 이용하여 러빙하는 방법은 제1러빙롤과 제2러빙롤의 기판에서부터의 높이를 조절하여 마크 폭을 다르게 형성하여 러빙하는 것을 특징으로 한다. The rubbing method using the rubbing device according to the present embodiment is characterized in that the rubbing is formed by varying the mark width by adjusting the height of the first rubbing roll and the second rubbing roll from the substrate.
본 실시예에 따른 러빙방법은, 먼저, 기판 표면에 배향막을 형성하고, 나노러빙포가 권포된 제1러빙롤과 제2러빙롤을 준비한 다음, 상기 제1러빙롤과 제2러빙롤의 기판에서의 높이를 조절하여 마크 폭을 조절한다. 이때, 제1러빙롤의 마크 폭은 좁게 형성하고 제2러빙롤의 마크 폭은 넓게 형성하는 것이 바람직하다. 이후, 제1러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제1러빙을 진행하고, 순차적으로 제2러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제2러빙을 진행한다.In the rubbing method according to the present embodiment, first, an alignment layer is formed on a surface of a substrate, and a first rubbing roll and a second rubbing roll on which a nano rubbing cloth is wound are prepared, and then, on the substrate of the first rubbing roll and the second rubbing roll. Adjust the mark width by adjusting the height of the mark. At this time, it is preferable that the mark width of the first rubbing roll is formed narrow and the mark width of the second rubbing roll is formed wide. Thereafter, first rubbing is performed on the alignment layer using a first rubbing roll, and second rubbing is performed on the alignment layer using a second rubbing roll.
상기한 바와 같이 제1러빙롤의 마크폭이 제2러빙롤의 마크폭보다 작으므로, 제1러빙롤에 의한 러빙은 기판에 가하는 압력이 작아 제2러빙롤에 의한 러빙보다 상대적으로 약하게 러빙된다. 따라서, 마크 폭이 작은 제1러빙롤에 의해 스크래치의 발생이 없이 약하게 배향된 후 제2러빙롤에 의해 강하게 러빙되어 필요한 정도 의 배향력이 형성된다.As described above, since the mark width of the first rubbing roll is smaller than the mark width of the second rubbing roll, rubbing by the first rubbing roll is relatively weaker than rubbing by the second rubbing roll due to the small pressure applied to the substrate. . Therefore, the first rubbing roll having a small mark width is weakly oriented without generation of scratches, and then strongly rubbed by the second rubbing roll to form the necessary alignment force.
본 발명의 제3실시예에 따른 러빙장치는 제1러빙롤과 제2러빙롤의 직경이 다른 것을 특징으로 한다. 이때, 제1러빙롤과 제2러빙롤에 권포되는 러빙포는 특별히 한정되지 않으며, 적어도 한 러빙포는 나노러빙포가 권포된다.The rubbing device according to the third embodiment of the present invention is characterized in that the diameter of the first rubbing roll and the second rubbing roll is different. At this time, the rubbing cloth wound on the first rubbing roll and the second rubbing roll is not particularly limited, and at least one rubbing cloth is wound with a nano rubbing cloth.
상기 러빙장치를 이용하여 러빙하는 방법을 설명하면, 먼저, 기판 표면에 배향막을 형성하고, 제1러빙포와 제2러빙포를 권포하여 제1러빙롤과 제2러빙롤을 준비한다. 이때, 제1러빙롤과 제2러빙롤은 직경이 다른 것으로 준비하며, 상기 제1러빙포와 제2러빙포 중 적어도 어느 한 러빙롤에 나노러빙포인 것이 바람직하다. 그 다음, 상기 제1러빙롤과 제2러빙롤의 기판에서의 높이를 조절하여 마크 폭을 조절한다. 이후, 제1러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제1러빙을 진행하고, 순차적으로 제2러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제2러빙을 진행한다.Referring to the method of rubbing using the above rubbing device, first, an alignment film is formed on a substrate surface, and a first rubbing roll and a second rubbing roll are prepared by winding a first rubbing cloth and a second rubbing cloth. At this time, the first rubbing roll and the second rubbing roll is prepared in a different diameter, preferably at least one of the first rubbing cloth and the second rubbing cloth is a nano rubbing cloth. Then, the mark width is adjusted by adjusting the height of the first rubbing roll and the second rubbing roll on the substrate. Thereafter, first rubbing is performed on the alignment layer using a first rubbing roll, and second rubbing is performed on the alignment layer using a second rubbing roll.
여기에서, 본 실시예에 따르면 제1러빙롤과 제2러빙롤의 직경이 다르므로, 각 러빙롤과 기판 사이의 높이를 같게 조절하더라도 마크 폭이 다른 것이 특징이다. 또한, 이때, 기판 사이의 높이를 조절하여 마크 폭을 같게 한다고 하면, 마크 폭은 같지만, 각각의 러빙롤이 기판에 가하는 압력 차이가 생기게 되므로 제1러빙롤과 제2러빙롤의 러빙 환경을 달리할 수 있는 장점이 있다.Here, according to the present embodiment, since the diameters of the first rubbing roll and the second rubbing roll are different, the mark width is different even if the height between each rubbing roll and the substrate is adjusted to be the same. In this case, when the height between the substrates is adjusted to make the mark widths the same, the mark widths are the same, but since the pressure difference applied to each substrate by the rubbing rolls is different, the rubbing environment of the first and second rubbing rolls is different. There is an advantage to this.
본 실시예에 따른 러빙장치를 이용해 러빙할 때에는 제1구동장치와 제2구동장치에 의한 각각의 러빙롤의 회전 수를 달리할 수 있다.When rubbing using the rubbing device according to the present embodiment, the number of rotations of the respective rubbing rolls by the first driving device and the second driving device may be varied.
본 발명의 제4실시예에 따른 러빙장치는 제1러빙롤과 제2러빙롤의 회전의 방향이 다르게 구비된 것을 한다. 이는 제1러빙롤과 제2러빙롤을 회전구동하는 제1구 동장치와 제2구동장치가 두 러빙롤의 회전방향이 반대 방향으로 구동되도록 배치된 것을 의미한다.The rubbing device according to the fourth embodiment of the present invention is provided with different directions of rotation of the first rubbing roll and the second rubbing roll. This means that the first driving device and the second driving device for rotating the first rubbing roll and the second rubbing roll are arranged such that the rotation directions of the two rubbing rolls are driven in opposite directions.
따라서, 제1러빙롤과 제2러빙롤의 동일한 측을 기준으로 하여 제1러빙롤이 시계방향으로 회전할 때, 제2러빙롤은 반시계방향으로 회전하도록 구동장치가 구비되며, 제1러빙롤이 반시계방향으로 회전할 때, 제2러빙롤은 시계방향으로 회전하도록 구동장치가 구비된다. Therefore, when the first rubbing roll rotates in the clockwise direction with respect to the same side of the first rubbing roll and the second rubbing roll, the second rubbing roll is provided with a driving device to rotate in the counterclockwise direction, and the first rubbing When the roll rotates counterclockwise, the second rubbing roll is provided with a driving device to rotate clockwise.
이때, 제1러빙롤과 제2러빙롤에 권포되는 러빙포는 특별히 한정되지 않으며, 적어도 한 러빙포는 나노러빙포가 권포된다.At this time, the rubbing cloth wound on the first rubbing roll and the second rubbing roll is not particularly limited, and at least one rubbing cloth is wound with a nano rubbing cloth.
상기 러빙장치를 이용하여 러빙하는 방법을 설명하면, 먼저, 기판 표면에 배향막을 형성하고, 제1러빙포와 제2러빙포를 권포하여 제1러빙롤과 제2러빙롤을 준비한다. 이때, 제1러빙롤과 제2러빙롤은 서로 다른 방향으로 회전하도록 준비한다. 그 다음, 상기 제1러빙롤과 제2러빙롤의 기판에서의 높이를 조절하여 마크 폭을 조절한다. 이후, 제1러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제1러빙을 진행하고, 순차적으로 제2러빙롤을 이용하여 상기 배향막에 제2러빙을 진행한다.Referring to the method of rubbing using the above rubbing device, first, an alignment film is formed on a substrate surface, and a first rubbing roll and a second rubbing roll are prepared by winding a first rubbing cloth and a second rubbing cloth. At this time, the first rubbing roll and the second rubbing roll are prepared to rotate in different directions. Then, the mark width is adjusted by adjusting the height of the first rubbing roll and the second rubbing roll on the substrate. Thereafter, first rubbing is performed on the alignment layer using a first rubbing roll, and second rubbing is performed on the alignment layer using a second rubbing roll.
여기에서, 본 실시예에 따르면 제1러빙롤과 제2러빙롤의 회전방향이 다르므로, 러빙의 정도와 방향이 다른 것이 특징이다. Here, according to the present embodiment, since the rotation directions of the first rubbing roll and the second rubbing roll are different, the degree and direction of rubbing are different.
러빙될 기판 상에는 여러 가지 패턴이 형성되어 있으므로, 기판에 형성된 배향막의 표면은 패턴에 의해 어느 정도의 요철이 있다. 따라서 러빙이 진행될 때 상기 요철에 의해 러빙되지 않은 부분이 있을 수 있으며, 또한 러빙이 균일하게 되지 않을 경우도 생긴다. 본 발명의 실시예에 따르면 이러한 경우 다른 방향으로 러빙 을 함으로써 러빙의 균일성을 향상시킬 수 있다.Since various patterns are formed on the substrate to be rubbed, the surface of the alignment film formed on the substrate has some unevenness by the pattern. Therefore, when rubbing proceeds, there may be a portion that is not rubbed by the unevenness, and in some cases rubbing does not become uniform. According to an embodiment of the present invention in this case it is possible to improve the uniformity of the rubbing by rubbing in different directions.
상술한 바와 같은 본 발명에 따른 러빙장치를 이용하여 러빙한 경우에는 제1러빙롤과 제2러빙롤을 이용하여 두 번의 러빙을 하며, 첫 번째 러빙을 약한 배향력을 주는 약한 러빙으로 할 수 있기 때문에 스크래치나 배향불량을 최소화할 수 있는 장점이 있다. 이때, 두 번째의 러빙으로 배향력을 강화시킬 수 있어 배향력도 높아진다.In the case of rubbing using the rubbing device according to the present invention as described above, rubbing is performed twice using the first rubbing roll and the second rubbing roll, and the first rubbing may be a weak rubbing giving a weak orientation force. Because of this, there is an advantage to minimize scratches and misalignment. At this time, the orientation force can be strengthened by the second rubbing, and the orientation force is also increased.
또한, 상기 러빙롤에 사용하는 러빙포를 매우 미세한 포털을 가지는 나노러빙포로 마련함으로써 미세한 러빙이 가능해진다. 나노러빙포를 이용하여 러빙을 할 경우에는 스크래치가 최소화되며, 국부적인 배향불균일이 감소한다. 따라서, 본 발명에 따라 러빙한 액정표시장치에 있어서 블랙휘도가 낮아져 화상의 콘트라스트 비가 증가한다.Moreover, fine rubbing is attained by providing the rubbing cloth used for the said rubbing roll with the nano rubbing cloth which has a very fine portal. When rubbing with a nano-rubbing cloth, scratches are minimized and local orientation irregularities are reduced. Therefore, the black luminance decreases in the rubbed liquid crystal display according to the present invention, and the contrast ratio of the image increases.
그리고, 만약 스크래치가 생기게 되더라도 가시광선의 파장보다 작은 포털에 의한 스크래치에 해당하므로 육안으로 확인할 수 없어 배향불량이 최소화된다.And, even if a scratch is generated, since it corresponds to a scratch caused by a portal smaller than the wavelength of visible light, it cannot be visually confirmed, thereby minimizing orientation defects.
본 발명은 상기한 바와 같은 실시예를 이용하여 액정표시장치를 제조하는 방법을 포함한다. The present invention includes a method of manufacturing a liquid crystal display device using the embodiment as described above.
본 발명에 따른 액정표시장치 제조방법은, 먼저 제1기판과 상기 제1기판에 대향하는 제2기판을 준비하고, 그 다음, 상기 제1기판과 상기 제2기판의 표면에 배향막을 형성한다. 이후, 본 발명의 실시예에 따라 상기 배향막 중 적어도 하나의 배향막을 나노러빙포가 권포된 러빙장치로 러빙한다. 마지막으로, 상기 제1기판 및 상기 제2기판을 합착하고 액정층을 형성함으로써 액정표시장치를 제조할 수 있다.In the method of manufacturing a liquid crystal display according to the present invention, first, a first substrate and a second substrate facing the first substrate are prepared, and then an alignment layer is formed on the surfaces of the first substrate and the second substrate. Thereafter, at least one of the alignment layers is rubbed with a rubbing device in which a nano rubbing cloth is wound, according to an embodiment of the present invention. Finally, the liquid crystal display device may be manufactured by bonding the first substrate and the second substrate together to form a liquid crystal layer.
본 발명은 상기한 바와 같은 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 상술한 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 하나의 예에 불과한 것이다. 따라서, 각각의 실시예는 별개로 실시가능하지만 각 실시예를 혼합하여 실시할 수도 있다. 예를 들어, 상기한 제1실시예와 제4실시예를 동시에 실시하여 포털의 길이가 다른 나노러빙포를 권포한 제1러빙롤과 제2러빙롤을 서로 다른 방향으로 회전시켜 러빙할 수 있을 것이다.The present invention is not limited to the above embodiments. The above-described embodiment is only one example for explaining the present invention. Thus, each embodiment may be implemented separately, but may be implemented by mixing each embodiment. For example, by carrying out the first embodiment and the fourth embodiment described above, the first rubbing roll and the second rubbing roll, which wrap the nano rubbing cloth having different portal lengths, may be rotated and rubbed in different directions. will be.
따라서, 본 발명의 권리의 범위는 상술한 상세한 설명에 의해 정의되는 것이 아니라 첨부한 특허청구범위와 이러한 청구범위와 균등한 것에 의해 정의되어야만 할 것이다.Accordingly, the scope of the present invention should not be defined by the detailed description given above, but should be defined by the appended claims and their equivalents.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 기판의 배향막을 러빙하는 데 있어, 러빙포에 의한 스크래치 및 배향불균일을 감소시킨 러빙장치와 러빙방법을 제공한다. 이에 따라 블랙휘도와 콘트라스트비가 향상된 액정표시장치를 제공한다.According to the present invention as described above, in rubbing the alignment film of the substrate, there is provided a rubbing device and a rubbing method which reduces scratches and orientation unevenness caused by the rubbing cloth. Accordingly, a liquid crystal display device having improved black luminance and contrast ratio is provided.
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05142542A (en) * | 1991-11-20 | 1993-06-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Rubbing orientation treatment of liquid crystal display element |
JP2000098392A (en) * | 1998-07-31 | 2000-04-07 | Merck Patent Gmbh | Method for rubbing substrate |
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