KR101254171B1 - 온열 치료 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 온열 치료 장치로서, 밀리미터파를 발생시키는 밀리미터파 발생부와, 밀리미터파 발생부에 전력을 공급하는 전원부와, 밀리미터파 발생부에서 발생되는 밀리미터파의 출력을 제어하는 제어부 및 밀리미터파 발생부에서 발생된 밀리미터파를 피부 표피로 조사하는 밀리미터파 조사부를 포함하여 이루어짐으로써 피부에 자국이 남거나 화상을 입을 우려가 없으며 편리하게 뜸 치료를 받는 것이 가능하다.
Description
본 발명은 온열 치료 장치에 관한 것으로서, 상세하게는 피부에 접촉함이 없이도 뜸 치료를 하는 것이 가능한 온열 치료 장치에 관한 것이다.
일반적으로 뜸 시술은 뜸쑥을 피부에 직접 붙여 연소시켜 체표로부터 온열자극을 주는 방법으로 피부에 자국이 남거나 화상을 입을 수도 있는 우려가 있다.
또한 뜸 시술은 뜸쑥을 직접 붙여야 하므로 탈의를 하고 특정 자세를 유지한 채 시술을 받아야 하며 모발이 있는 두피에는 사용이 어렵다.
아울러 뜸 치료 부위의 크기는 뜸쑥의 크기에 의해 결정되고 한번 붙이면 연소가 끝날 때까지 열의 세기를 조절할 수 없다.
본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 안출된 것으로서, 피부에 자국이 남거나 화상을 입을 우려가 없는 온열 치료 장치를 제공한다.
또한 본 발명은 탈의를 하지 않고도 시술이 가능하고 모발이 있는 두피에도 적용이 가능하며 시술 시 열의 세기, 치료 시간, 치료 부위의 크기 등을 쉽고 다양하게 조절하는 것이 가능한 온열 치료 장치를 제공한다.
본 발명의 일 특징에 따른 온열 치료 장치는, 밀리미터파를 발생시키는 밀리미터파 발생부와, 상기 밀리미터파 발생부에 전력을 공급하는 전원부와, 상기 밀리미터파 발생부에서 발생되는 밀리미터파의 출력을 제어하는 제어부 및 상기 밀리미터파 발생부에서 발생된 밀리미터파를 피부 표피로 조사하는 밀리미터파 조사부를 포함하여 이루어진다.
상기 온열 치료 장치는, 상기 밀리미터파 발생부가, 진공튜브형 밀리미터파 발생원을 포함하여 이루어지고 와트(W) 단위의 밀리미터파를 발생시킬 수 있다.
상기 온열 치료 장치는, 상기 발생되는 밀리미터의 파장이 2 mm 내지 4 mm인 것을 특징으로 하는 온열 치료 장치.
상기 온열 치료 장치는, 상기 밀리미터파 발생부가, 전자빔을 발생시키는 전자빔 발생부와, 상기 전자빔 발생부에서 발생된 전자빔의 에너지를 밀리미터파로 변환시키는 밀리미터파 생성부와, 사용된 후의 전자빔을 흡수하는 전자빔 회수부를 포함할 수 있다.
상기 온열 치료 장치는, 상기 밀리미터파 발생부가, 전자빔 발생부에서 발생된 전자빔을 집속하는 전자빔 집속부를 더 포함할 수 있다.
상기 온열 치료 장치는, 상기 전자빔 집속부가, 전자빔 발생부에서 발생된 같은 극성의 전자들이 퍼지지 않고 모아져서 튜브의 축 방향으로 진행하도록 자기장을 만들어 줄 수 있다.
상기 온열 치료 장치는, 상기 밀리미터파 발생부 내부를 진공으로 유지시켜 전자빔 발생과 밀리미터파 발생을 촉진시키는 진공 생성부를 더 포함할 수 있다.
상기 온열 치료 장치는, 상기 제어부는, 상기 밀리미터파 발생부에 인가되는 전압의 세기와 시간을 변경함으로써 상기 밀리미터파 발생부의 출력의 세기, 발생 시간을 조절할 수 있다.
상기 온열 치료 장치는, 상기 제어부의 제어 결과를 표시하는 디스플레이를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 온열 치료 장치에 의하면, 피부에 직접 접촉함이 없고 일정 거리 이격된 경우에도 충분한 출력의 밀리미터파를 방사하는 것이 가능하므로 탈의를 하지 않고도 뜸 시술과 동일한 효과를 얻을 수 있고 모발이 있는 두피에도 적용이 가능하다.
또한, 장치의 전기적 제어를 통하여 시술 시 열의 세기, 치료 시간, 치료 부위의 크기 등을 쉽고 다양하게 조절하는 것이 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 온열 치료 장치를 나타내는 블록도.
도 2는 도 1의 밀리미터파 발생부를 상세하게 나타낸 블록도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 온열 치료 장치를 이용하여 피부에 치료를 실시하는 개념도.
도 2는 도 1의 밀리미터파 발생부를 상세하게 나타낸 블록도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 온열 치료 장치를 이용하여 피부에 치료를 실시하는 개념도.
상술한 본 발명의 특징 및 효과는 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이며, 그에 따라 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예들을 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다.
이하, 본 발명과 관련된 치료 장치를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 온열 치료 장치를 나타내는 블록도이다.
상기 온열 치료 장치(100)는 전원부(120), 제어부(130), 밀리미터파 발생부(110) 및 밀리미터파 조사부(140)를 포함하여 이루어진다.
상기 전원부(120)는 상기 밀리미터파 발생부(110)에 전력을 공급하고 밀리미터파 발생부(110)가 동작하도록 한다. 공급하는 전력은 일반 전자회로에서 쓰이는 전력을 공급할 수 있다.
상기 제어부(130)는 상기 밀리미터파 발생부(110)에 제어신호를 인가하고 상기 밀리미터파 발생부(110)에서 발생하는 밀리미터파의 출력을 제어한다.
상기 제어부(130)는, 상기 밀리미터파 발생부(110)에 인가되는 전압의 세기와 시간을 변경함으로써 상기 밀리미터파 발생부(110)의 출력의 세기, 발생 시간 등을 조절하고 이에 따라 인체 표피(300)에 일으키는 온열 자극의 강도와 지속 시간을 임의로 조절할 수 있다. 상기 제어부(130)의 제어 결과는 디스플레이를 통해 표시될 수 있다.
또한 상기 제어부(130)는, 밀리미터파 조사부(140)의 이득 및 방사패턴 특성을 변화시키는 것이 가능하다.
시술자는 상기와 같이 제어부(130)를 이용하여 밀리미터파 조사부(140)의 이득 및 방사패턴을 제어함과 아울러 밀리미터파 조사부(140)와 피부의 이격 거리를 조절함으로써 치료 범위를 조절할 수 있다.
상기 밀리미터파 발생부(110)는 밀리미터파를 발생시키고 밀리미터파 조사부(140)로 밀리미터파를 전달한다. 상기 밀리미터파 발생부(110)는 전원부(120)로부터 전력을 입력받아 치료에 사용될 밀리미터파를 발생시킨다.
이 때 발생되는 밀리미터파는 파장이 3 mm 내외인 특정 세기의 밀리미터파가 되도록 함이 바람직하고 상세하게는 2 mm 에서 4 mm로 함이 바람직하다. 상기와 같이 파장이 2 mm 에서 4 mm 내외인 밀리미터파를 인체 피부 표피(300)에 조사하면 표피(300)에 대한 침투 깊이가 약 0.2 mm 에서 0.4 mm로 한정되어 피부에 큰 자극을 주지 않으면서 높은 치료 효과를 얻을 수 있다.
본 실시예의 온열 치료 장치(100)가 비접촉식으로서 뜸과 같은 치료 효과를 얻기 위해서는 발생되는 밀리미터파 세기가 와트(W)급으로 높아야 가능하다. 이에 따라 상기 밀리미터파 발생부(110)는 진공튜브형임이 바람직하다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 온열 치료 장치의 밀리미터파 발생부를 상세하게 나타낸 블록도로서, 진공튜브형 밀리미터파 발생부가 도시되어 있다.
도면을 참조하면 상기 진공튜브형 밀리미터파 발생부(110)는 전자빔 발생부(111), 밀리미터파 생성부(113) 및 전자빔 회수부(115)를 포함하여 이루어진다.
상기 전자빔 발생부(111)은 밀리미터파의 에너지원인 전자빔을 발생시킨다. 상기 전자빔 발생부(111)은 전원부(120)로부터 고전압을 인가받아 밀리미터파 생성부(113)로 전자빔을 인가시킨다.
상기 밀리미터파 생성부(113)는 상기 전자빔 발생부(111)에서 발생된 전자빔의 에너지를 밀리미터파로 변환시킨다. 상기 밀리미터파 생성부(113)는 전자빔과의 상호작용을 통해 밀리미터파를 발생시키고 발생된 밀리미터파는 도파관으로 이루어지는 밀리미터파 전달부(117)를 통해 밀리미터파 조사부(140)로 전달된다.
상기 전자빔 회수부(115)는 사용된 후의 전자빔을 흡수한다. 전자빔을 흡수하여 접지로 돌림으로써 밀리미터파 생성부(113)가 일정한 전류, 전압을 유지하도록 할 수 있다.
상기 밀리미터파 발생부(110)는 전자빔 발생부(111)에서 발생된 전자빔을 집속하는 전자빔 집속부(112)를 포함하여 이루어질 수 있다.
이 때 상기 전자빔 집속부(112)는 전자빔 발생부(111)에서 발생된 같은 극성의 전자들이 퍼지지 않고 모아져서 튜브의 축 방향으로 진행하도록 자기장을 만들어 줌으로써 전자빔이 집속되도록 할 수 있다.
전자빔 발생부(111)에서 생성된 전자빔은 전하를 가지고 있으므로 상기 전자빔 집속부(112)가 구비되는 경우 전자빔이 균일한 밀도로 일정방향으로 진행하도록 집속되고 밀리미터파 생성부(113)로 인가된다. 이에 따라 밀리미터파의 생성이 촉진된다.
상기와 같은 진공 튜브형 밀리미터파 발생부(110)는 수십 mW급의 밀리미터파를 발생하는 반도체 타입의 건 다이오드 등에 비하여 출력이 수 W급으로 높으므로 밀리미터파 조사부(140)가 피부와 이격되어 밀리미터파가 피부로 조사되는 도중 대기 중에서 감쇄되더라도 피부 표피(300)에 원하는 온도를 가할 수 있는 효과가 있다.
상기 밀리미터파 조사부(140)는 밀리미터파 발생부(110)에서 발생된 밀리미터파를 치료 대상인 피부의 표피(300)로 방사한다. 사용자는 상기 밀리미터파 조사부(140)를 치료 부위에 근접하여 위치시키고 밀리미터파 발생부(110)를 작동시킴으로써 밀리미터파를 대기를 통해 치료 부위로 방사한다.
방사되는 밀리미터파는 피부 표피(300)의 물 분자를 진동시켜 온열 자극을 일으키고 이에 따라 뜸 치료와 같은 효과를 얻을 수 있다.
아울러 상기 온열 치료 장치(100)에는 상기 밀리미터파 발생부(110) 내부를 진공으로 유지시키는 진공 생성부가 구비될 수 있다. 상기 진공 생성부는 진공펌프 등을 이용하여 밀리미터파 발생부(110) 내부의 기체를 뽑아내어 밀리미터파 발생부(110)를 진공으로 유지한다. 이에 따라 더욱 안정적인 밀리미터파의 생성이 가능하다.
다음으로 본 발명의 일 실시예에 따른 치료 장치의 작동에 대하여 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 온열 치료 장치를 이용하여 피부에 뜸 치료를 하는 개념도이다.
도면을 참조하면, 먼저 상기 치료 장치의 밀리미터파(200) 조사부(140)를 치료하고자 하는 인체 표피(300)에 일정거리 이격시켜 위치시키고 밀리미터파(200)를 방사한다.
방사된 밀리미터파(200)는 대기를 통해 피부 표피(300)에 전달되고 전달된 밀리미터파(200)는 피부 표피(300)의 물 분자를 진동시켜 온열 자극을 일으킨다.
이에 따라 뜸을 피부에 직접 부착하는 방식에 의하지 않고도 뜸 치료가 가능하다.
또한 밀리미터파(200)의 투과 특성에 의해 피복 위에 직접 시술이 가능하며 모발 속의 두피와 같이 뜸을 직접 붙이기 힘든 부위에도 사용이 가능하다.
아울러 신체에 치료 장치를 붙이지 않으므로 열 전달에 의한 화상이나 장치의 동작 전원에 의한 감전 등에 대해서도 안전하며 피시술자의 거부감을 줄이는 효과가 있다.
이상에서 설명된 실시예들은 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명한 것에 불과하고, 본 발명의 권리범위는 설명된 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상과 특허청구 범위 내에서 다양한 변경, 변형 또는 치환이 가능할 것이며, 그와 같은 실시예들은 본 발명의 범위에 속하는 것으로 이해되어야 한다.
Claims (9)
- 와트(W)단위의 밀리미터파를 발생시키는 진공튜브형 밀리미터파 발생부;
상기 밀리미터파 발생부에 전력을 공급하는 전원부;
상기 밀리미터파 발생부에서 발생되는 밀리미터파의 출력을 제어하는 제어부;
상기 밀리미터파 발생부에서 발생된 밀리미터파를 피부 표피로 조사하는 밀리미터파 조사부; 및
상기 밀리미터파 발생부 내부를 진공으로 유지시켜 전자빔 발생과 밀리미터파 발생을 촉진시키는 진공 생성부를 포함하고,
상기 진공튜브형 밀리미터파 발생부는,
전원부로부터 전력을 인가받아 전자빔을 발생시키는 전자빔 발생부;
상기 전자빔 발생부에서 발생된 전자빔의 에너지를 밀리미터파로 변환시키는 밀리미터파 생성부;
사용된 후의 전자빔을 흡수하는 전자빔 회수부; 및
전자빔 발생부에서 발생된 전자빔이 일방향으로 진행하도록 자기장을 형성하여 상기 전자빔을 집속하는 전자빔 집속부를 포함하는 것을 특징으로 하는 온열 치료 장치. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 발생되는 밀리미터의 파장은 2 mm 내지 4 mm인 것을 특징으로 하는 온열 치료 장치. - 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 전자빔 집속부는, 전자빔 발생부에서 발생된 같은 극성의 전자들이 퍼지지 않고 모아져서 튜브의 축 방향으로 진행하도록 자기장을 만들어 주는 것을 특징으로 하는 온열 치료 장치. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 밀리미터파 발생부에 인가되는 전압의 세기와 시간을 변경함으로써 상기 밀리미터파 발생부의 출력의 세기, 발생 시간을 조절하는 것을 특징으로 하는 온열 치료 장치. - 제8항에 있어서,
상기 제어부의 제어 결과를 표시하는 디스플레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 온열 치료 장치.
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E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
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