KR101249615B1 - Multy-layer light detection - Google Patents

Multy-layer light detection Download PDF

Info

Publication number
KR101249615B1
KR101249615B1 KR1020110074684A KR20110074684A KR101249615B1 KR 101249615 B1 KR101249615 B1 KR 101249615B1 KR 1020110074684 A KR1020110074684 A KR 1020110074684A KR 20110074684 A KR20110074684 A KR 20110074684A KR 101249615 B1 KR101249615 B1 KR 101249615B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
light source
coating surface
reflected
coating
Prior art date
Application number
KR1020110074684A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20130013188A (en
Inventor
이준우
이길수
최종립
탕 알룬
Original Assignee
(주)오로스 테크놀로지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)오로스 테크놀로지 filed Critical (주)오로스 테크놀로지
Priority to KR1020110074684A priority Critical patent/KR101249615B1/en
Publication of KR20130013188A publication Critical patent/KR20130013188A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101249615B1 publication Critical patent/KR101249615B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • G01B11/0625Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/0002Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004Industrial image inspection
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/2403Layers; Shape, structure or physical properties thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

본 발명은 멀티 레이어 검출용 광원에 관한 것으로, 제 1표면에 주로 영향을 미치는 제 1광을 조사하는 제 1광원, 제 2표면에 주로 영향을 미치는 여 제 2광을 조사하는 제 2광원 및 상기 제 1광원에서 출사되는 광에서 임의의 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 일측면으로 제 1코팅면을 가지며, 상기 제 2광원에서 출사되는 광에서 임의의 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 타측면으로 제 2코팅면을 가지는 빔스플리터를 포함하며, 상기 제 1코팅면을 투과한 제 1광과 제 2코팅면에서 반사된 제 2광이 합쳐져 측정광원을 만들고 상기 측정광원이 동시에 제1표면과 2표면에 조사된 후 제 1표면과 제 2표면에서 반사되는 검출값이 임의의 값 이상이 되도록 상기 1코팅면과 제 2코팅면이 투과 및 반사 특성을 결정하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a multi-layer detection light source, comprising: a first light source for irradiating a first light mainly affecting a first surface; a second light source for irradiating a second light mainly affecting a second surface; and Arbitrary wavelengths are transmitted in the light emitted from the first light source and have a first coating surface on one side to reflect the rest, and arbitrary wavelengths are transmitted in the light emitted from the second light source, and the other is reflected. And a beam splitter having a second coating surface on a side thereof, wherein the first light transmitted through the first coating surface and the second light reflected from the second coating surface are combined to form a measurement light source, and the measurement light source simultaneously has a first surface. And the first coating surface and the second coating surface determine transmission and reflection characteristics such that the detected values reflected from the first surface and the second surface after being irradiated to the second and second surfaces are equal to or greater than a predetermined value.

Description

멀티 레이어 검출용 광원{Multy-layer light detection}Light source for multi-layer detection

본 발명은 멀티 레이어 검출용 광원에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 광 파장별 특성을 이용하여 다층 구조의 이미지를 효과적으로 검출하는 멀티 레이어 검출용 광원에 관한 것이다.
The present invention relates to a multi-layer detection light source, and more particularly, to a multi-layer detection light source that effectively detects an image of a multilayer structure using characteristics of light wavelength.

산업기술의 급속한 발전으로 인하여 전자, 기계, 바이오 등 다양한 산업분야에서는 수백 내지 수십 나노급의 초정밀 기술에 이어 수 나노급 이하로 기술의 첨단성을 높아지고 있다. 초정밀 기술의 개발로 인해 생산되는 제품은 보다 작아지고 있으며, 이러한 기술 개발로 인하여 다양하고 편리한 제품이 양산되고 있는 실정이다.Due to the rapid development of industrial technology, various industrial fields such as electronics, machinery, and biotechnology are increasing the cutting edge of technology to several nanoscale or less, following ultra-precision technologies of hundreds to tens of nanoscales. Due to the development of ultra-precision technology, products produced are becoming smaller, and various and convenient products are being mass-produced due to such technology development.

전자 분야에서는 기초적으로 나노급 반도체 개발을 통해 보다 작고 다양한 기능이 부가된 전자제품이 많이 출시되고 있는데, 여기서 반도체 소자의 경우 매우 높은 정밀도와 정확성을 요구하는 대표적인 전자부품으로써 생산과정에서 매우 까다로운게 현실이다. 따라서, 제품 생산과정이나 최종 제품 완성 후에는 검사과정이 필수적인 공정으로써 이를 통해 제품의 신뢰성을 높인다.In the field of electronics, the development of nano-class semiconductors has led to the introduction of many smaller and more versatile electronic products. In the case of semiconductor devices, it is a typical electronic component that requires very high precision and accuracy. to be. Therefore, after the product production process or final product completion, the inspection process is an essential process, thereby increasing the reliability of the product.

일예로 부품의 표면 이상여부를 검사하는 과정에서 적외선 등의 투과 특성을 갖는 광을 이용하여 투과 후 반사된 광을 검출함으로써 내부 특성을 검출할 수 있다. 하지만, 멀티 레이어 검출에 있어, 복잡하고 다층 구조로 이루어진 표면을 검출하기 위해 하나의 파장값을 가지는 광원을 통해 검출하면 노이즈가 많이 발생하기 때문에 내부 표면을 검출하는데 정밀도가 떨어지는 단점이 있다.For example, in the process of inspecting an abnormality of the surface of the part, internal characteristics may be detected by detecting light reflected after transmission by using light having transmission characteristics such as infrared rays. However, in the multi-layer detection, when detecting through a light source having a single wavelength value to detect a complex and multi-layered surface, a lot of noise is generated, which results in a low accuracy in detecting an inner surface.

도 1은 종래기술에 따라 멀티 레이어 검출 시 파장값 결과를 도시한 도면이다. 도시된 바와 같이 하나의 광원을 통해 제 1층의 표면(ex. 얼라인 마크)과 제 1층보다 깊은 제 2층 표면을 검출할 때 서로 다른 깊이 차이로 인하여 제 1층의 표면은 정확하기 검출할 수 있겠지만, 제 2층의 경우는 반사광 노이즈로 인하여 정확하게 검출할 수 없는 문제점이 있는 것이다.1 is a view showing a wavelength value results when detecting a multilayer according to the prior art. As shown, when detecting the surface of the first layer (ex. Align mark) and the second layer surface deeper than the first layer through one light source, the surface of the first layer is accurately detected due to the different depth difference. Although it can be done, there is a problem in that the second layer cannot be accurately detected due to the reflected light noise.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 광원의 파장대역에 따라 투과 특성이 다른 성질을 이용하여 깊이가 서로 다른 멀티 레이어 구조물의 표면에 다파장의 광원을 조사하여 검사함으로써 신속하고 정확하게 표면을 검사할 수 있는 광원을 제공하고자 하는데 그 목적이 있다.The present invention for solving the above problems is to inspect the surface quickly and accurately by irradiating a multi-wavelength light source to the surface of the multi-layer structure having different depths by using properties of different transmission characteristics according to the wavelength band of the light source The purpose is to provide a light source that can be.

이를 위해 짧은 파장을 갖는 광원과 긴 파장을 갖는 광원을 합쳐 하나의 광원으로 만들어, 짧은 파장을 통해 멀티 레이어의 표면 또는 얇은층의 레이어 특성을 관찰하고, 긴 파장을 통해서 멀티레이어의 깊은층의 특성을 관찰하고자 한다.
To this end, the light source having a short wavelength and the light source having a long wavelength are combined to form a single light source, and the surface characteristics of the multilayer or the layer of the layer are observed through the short wavelength, and the characteristics of the deep layer of the multilayer are observed through the long wavelength. I want to observe.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 제 1표면에 주로 영향을 미치는 제 1광을 조사하는 제 1광원, 제 2표면에 주로 영향을 미치는 여 제 2광을 조사하는 제 2광원 및 상기 제 1광원에서 출사되는 광에서 임의의 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 일측면으로 제 1코팅면을 가지며, 상기 제 2광원에서 출사되는 광에서 임의의 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 타측면으로 제 2코팅면을 가지는 빔스플리터를 포함하며, 상기 제 1코팅면을 투과한 제 1광과 제 2코팅면에서 반사된 제 2광이 합쳐져 측정광원을 만들고 상기 측정광원이 동시에 제1표면과 2표면에 조사된 후 제 1표면과 제 2표면에서 반사되는 검출값이 임의의 값 이상이 되도록 상기 1코팅면과 제 2코팅면이 투과 및 반사 특성을 결정하는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is the first light source for irradiating the first light mainly affecting the first surface, the second light source for irradiating the second light mainly affecting the second surface and the second In the light emitted from one light source, an arbitrary wavelength is transmitted, and the rest has a first coating surface on one side so as to be reflected, and an arbitrary wavelength is transmitted in the light emitted from the second light source, and the other side is reflected. And a beam splitter having a second coating surface, wherein the first light transmitted through the first coating surface and the second light reflected from the second coating surface are combined to form a measurement light source, and the measurement light source simultaneously with the first surface. The first coating surface and the second coating surface determine transmission and reflection characteristics such that the detection values reflected from the first surface and the second surface after being irradiated on the two surfaces become a predetermined value or more.

또한, 상기 빔스플리터의 제 1코팅면과 제 2코팅면은, 상기 제 1표면에 조사된 후 반사되는 제 1광의 검출값과, 상기 제 2표면에 조사된 후 반사되는 제 2광의 검출값은 반사광 세기(intensity)가 임의의 값 이상이 되도록 파장이 조절되는 코팅 특성을 가지는 것을 특징으로 한다.In addition, the first coating surface and the second coating surface of the beam splitter, the detection value of the first light reflected after being irradiated to the first surface, and the detection value of the second light reflected after being irradiated to the second surface is It is characterized by having a coating characteristic that the wavelength is adjusted so that the reflected light intensity is greater than a predetermined value.

또한, 제 1표면에 주로 영향을 미치는 제 1광을 조사하는 제 1광원, 제 2표면에 주로 영향을 미치는 여 제 2광을 조사하는 제 2광원 및 상기 제 1광원에서 출사되는 광에서 임의의 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 일측면으로 제 1코팅면을 가지며, 상기 제 2광원에서 출사되는 광에서 임의의 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 타측면으로 제 2코팅면을 가지는 빔스플리터;를 포함하며, 상기 제 1코팅면을 투과한 제 1광과 제 2코팅면에서 반사된 제 2광이 동시에 제 1표면과 제 2표면에 조사된 후 반사되는 제 1 표면에 주된 영향을 미치는 제 1광의 검출값과 제 1표면에 주된 영향을 미치는 제 2광 검출값이 임의의 값 이상이 되도록 상기 1코팅면과 제 2코팅면이 투과 및 반사 특성을 갖되, 상기 제 1광의 검출값과 제 2광의 검출값이 일정값 이상이 되도록 컷오프 프리퀀시(cut off frequency) 값을 결정하고, 상기 컷오프 프리퀀시 값을 기준으로 제 1코팅면과 제 2코팅면의 투과 특성을 결정하는 것을 특징으로 한다.
In addition, the first light source for irradiating the first light mainly affecting the first surface, the second light source for irradiating the second light mainly affecting the second surface and the light emitted from the first light source A beam splitter having a first coating surface on one side so that the wavelength is transmitted, and the rest is reflected, and an arbitrary wavelength is transmitted from the light emitted from the second light source, and a second coating surface on the other side so that the rest is reflected. It includes, wherein the first light transmitted through the first coating surface and the second light reflected from the second coating surface has a major effect on the first surface reflected after being irradiated to the first surface and the second surface at the same time The first coating surface and the second coating surface have transmission and reflection characteristics such that the detection value of the first light and the second light detection value having a major influence on the first surface are equal to or greater than a predetermined value, and the detection value of the first light and The detected value of the second light becomes a certain value or more Determining a lock cut-off frequency (cut off frequency) value, characterized by determining the transmission characteristics of the first coating surface and a second surface coating on the basis of the cutoff frequency value.

상기와 같이 구성되고 작용되는 본 발명은 광원을 파장별 특성을 이용하여 깊이가 서로 다른 대상물의 표면을 측정함으로써 정확하면서도 고속으로 표면을 측정할 수 있기 때문에 정밀 산업에 이용할 수 있는 이점이 있다.
The present invention constructed and operated as described above has an advantage that the light source can be used in the precision industry because the surface can be measured accurately and at high speed by measuring surfaces of objects having different depths by using wavelength-specific characteristics.

도 1은 종래기술에 따라 멀티 레이어 검출 시 파장값 결과를 도시한 도면,
도 2는 본 발명에 따른 멀티 레이어 검출용 광원의 개략적인 구성도,
도 3과 도 4는 본 발명에 따른 멀티 레이어 검출용 광원을 통한 제 1광과 제 2광의 파장 분포도,
도 5는 본 발명에 따른 제 1광과 제 2광의 검출값에서 제 2광의 검출값이 더 크게 제어한 파장 분포도,
도 6은 본 발명에 따른 광원을 통해 일예로 실제 검출되는 파장 분포도.
1 is a view showing a wavelength value results when detecting a multilayer according to the prior art,
2 is a schematic configuration diagram of a light source for multilayer detection according to the present invention;
3 and 4 are wavelength distribution diagrams of the first light and the second light through the multi-layer detection light source according to the present invention,
5 is a wavelength distribution diagram in which the detection value of the second light is larger than the detection value of the first light and the second light according to the present invention;
6 is a wavelength distribution diagram actually detected as an example through a light source according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 멀티 레이어 검출용 광원의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of a light source for detecting a multilayer according to the present invention in detail.

본 발명에 따른 멀티 레이어 검출용 광원은, 제 1표면에 주로 영향을 미치는 제 1광을 조사하는 제 1광원, 제 2표면에 주로 영향을 미치는 여 제 2광을 조사하는 제 2광원 및 상기 제 1광원에서 출사되는 광에서 임의의 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 일측면으로 제 1코팅면을 가지며, 상기 제 2광원에서 출사되는 광에서 임의의 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 타측면으로 제 2코팅면을 가지는 빔스플리터를 포함하며, 상기 제 1코팅면을 투과한 제 1광과 제 2코팅면에서 반사된 제 2광이 합쳐져 측정광원을 만들고 상기 측정광원이 동시에 제1표면과 2표면에 조사된 후 제 1표면과 제 2표면에서 반사되는 검출값이 임의의 값 이상이 되도록 상기 1코팅면과 제 2코팅면이 투과 및 반사 특성을 결정하는 것을 특징으로 한다. The multi-layer detection light source according to the present invention includes a first light source for irradiating a first light mainly affecting the first surface, a second light source for irradiating a second light mainly affecting the second surface, and the second light source. In the light emitted from one light source, an arbitrary wavelength is transmitted, and the rest has a first coating surface on one side so as to be reflected, and an arbitrary wavelength is transmitted in the light emitted from the second light source, and the other side is reflected. And a beam splitter having a second coating surface, wherein the first light transmitted through the first coating surface and the second light reflected from the second coating surface are combined to form a measurement light source, and the measurement light source simultaneously with the first surface. The first coating surface and the second coating surface determine transmission and reflection characteristics such that the detection values reflected from the first surface and the second surface after being irradiated on the two surfaces become a predetermined value or more.

본 발명에 따른 멀티 레이어 검출용 광원은, 서로 다른 파장을 갖도록 광원에서 출사되는 광을 필터링하여 검출광을 조사함으로써 광원의 파장대역에 따라 투과 특성이 다른 성질을 이용하여 깊이가 다른 두 개 이상의 타겟에 대해 표면을 용이하게 검출할 수 있는 것을 주요 기술적 요지로 한다. 또한, 하나의 빔스플리터 양쪽면으로 필터링값을 다르게 코팅하여 두 개의 광을 검출광을 조사하여 구조적으로 매우 간소한 검출용 광원을 제공하고자 하는데 그 목적이 있다.Multi-layer detection light source according to the present invention, by filtering the light emitted from the light source to have a different wavelength and irradiating the detection light to the two or more targets having different depths by using a property that is different in transmission characteristics according to the wavelength band of the light source It is a main technical gist that the surface can be easily detected. Another object of the present invention is to provide a light source for structurally simple detection by irradiating detection light to two beams by coating different filtering values on both sides of one beam splitter.

도 2는 본 발명에 따른 멀티 레이어 검출용 광원의 개략적인 구성도이다. 도시된 바와 같이 본 발명의 검출용 광원은 제 1광을 출사하는 제 1광원(100), 제 2광을 출사하는 제 2광원(110), 상기 제 1광의 파장을 필터링하는 제 1코팅면과 제 2광의 파장을 필터링하는 제 2코팅면을 통해 파장이 서로 다른 하나의 검출광을 생성하는 빔스플리터(120)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.2 is a schematic configuration diagram of a light source for multilayer detection according to the present invention. As shown, the detection light source of the present invention includes a first light source 100 for emitting the first light, a second light source 110 for emitting the second light, and a first coating surface for filtering the wavelength of the first light; And a beam splitter 120 for generating one detection light having a different wavelength from the second coating surface for filtering the wavelength of the second light.

본 발명에 따른 제 1광원(100)과 제 2광원(110)은 투과 특성을 갖는 적외선 이하의 파장이 짧은 광원을 선택적으로 사용할 수 있다. 상기 제 1광원과 제 2광원을 이용하여 깊이가 다른 구조물에 각각 표면을 측정하고자 할 때 구조물의 재료학적 투과특성과 깊이에 따라 노이즈에 의한 반사광의 특성이 달라진다.The first light source 100 and the second light source 110 according to the present invention may selectively use a light source having a short wavelength of infrared rays or less having transmission characteristics. When the surface of each of the structures having different depths is to be measured using the first light source and the second light source, characteristics of the reflected light due to noise vary depending on the material transmission characteristics and the depth of the structure.

따라서, 본 발명에서는 투과특성에 따른 검출값(반사율) 노이즈를 해결하기 위하여 하나의 빔스플리터 표면으로 광 필터를 위한 코팅면을 각각 형성하고, 코팅면을 통해 최종 출사되는 검출광(L1, L2)을 측정 대상물의 제 1표면과 제 2표면에 동시에 조사되도록 한다. 즉 다시 설명하면 제 1표면보다 반사특성(투과특성)이 다른 제 2표면에 광을 조사한 후 검출값을 용이하게 획득하기 위하여 제 2표면으로 파장이 다른 광을 조사한다.Therefore, in the present invention, in order to solve the detection value (reflectance) noise according to the transmission characteristics, the coating surface for the optical filter is formed on the surface of one beam splitter, respectively, and the detection light (L 1 , L) finally emitted through the coating surface. 2 ) are irradiated simultaneously on the first surface and the second surface of the measurement object. In other words, after irradiating light to a second surface having a different reflection characteristic (transmission characteristic) than the first surface, light having a different wavelength is irradiated onto the second surface in order to easily obtain a detection value.

즉, 검출광(L1, L2)에서 L1의 파장 대역은 제 1표면에서 반사 특성이 효과적으로 나타나면, L2의 파장 대역은 제 2표면에서 반사 특성이 효과적으로 나타나게 된다.That is, in the detection light L 1 , L 2 , the wavelength band of L 1 effectively exhibits reflection characteristics on the first surface, and the wavelength band of L 2 effectively exhibits reflection characteristics on the second surface.

이를 위해 본 발명에서는 제 1표면에 주로 영향을 미치는 제 1광은 빔스플리터의 제 1코팅면을 통해 필터링되고, 제 2표면에 주로 영향을 미치는 제 2광은 제 2코팅면을 통해 필터링된다. 각각 필터링된 광은 하나의 검출광을 생성하게 되고, 상기 검출광은 두 개의 파장을 가지고 있기 때문에 제 1광에 의해 제 1표면에서 검출값이 높게 나타날 것이며, 제 2광에 의해 제 2표면에서 검출값이 높게 나타나는 것이다.To this end, in the present invention, the first light mainly affecting the first surface is filtered through the first coating surface of the beam splitter, and the second light mainly affecting the second surface is filtered through the second coating surface. Each filtered light generates one detection light, and since the detection light has two wavelengths, the detection value will be high at the first surface by the first light, and at the second surface by the second light. The detection value is high.

따라서, 상기 제 1광원에서 출사되는 광에서 제 1표면 검출에 적합한 파장대역으로 필터링되도록 제 1코팅면이 투과시키고 나머지는 반사시키는 필터 특성을 가지며, 제 2광원에서 출사되는 광에서 제 2표면 검출에 적합한 파장대역으로 필터링되도록 2코팅면이 반사시키고 나머지는 투과시키는 필터 특성을 갖는다.Accordingly, the first coating surface has a filter characteristic for transmitting the first coating surface and reflecting the rest of the light from the light emitted from the first light source to a wavelength band suitable for detecting the first surface, and detecting the second surface from the light emitted from the second light source. It has a filter characteristic that the two coating surfaces reflect and filter the rest so as to filter in a wavelength band suitable for.

도 3과 도 4는 본 발명에 따른 멀티 레이어 검출용 광원을 통한 제 1광과 제 2광이 포함된 측정광의 파장 분포도이다. 상기 제 1코팅면과 제 2코팅면의 필터 특성은 컷-오프 프리퀀시(cut off frequency)에 의해 결정된다. 상기 제 1광의 검출값과 제 2광의 검출값은 일정 레벨의 컷오프 프리퀀시(cut off frequency ;

Figure 112011058158610-pat00001
) 값을 결정하고, 상기 컷오프 프리퀀시 값을 기준으로 제 1코팅면과 제 2코팅면의 투과 또는 반사 특성을 결정하게 된다.3 and 4 are wavelength distribution diagrams of measurement light including the first light and the second light through the multilayer detection light source according to the present invention. The filter characteristics of the first coating surface and the second coating surface are determined by a cut-off frequency. The detection value of the first light and the detection value of the second light may include a cutoff frequency at a predetermined level;
Figure 112011058158610-pat00001
), And the transmission or reflection characteristics of the first coating surface and the second coating surface based on the cutoff frequency value.

즉, 제 1표면의 검출값과 제 2표면의 검출값을 일정 레벨 이상값으로 제공받아 표면을 검출하기 위하여 광의 파장값을 상기 제 1, 2코팅면의 필터 특성을 제어함으로써 검출값을 일정 레벨로 설정할 수 있다. 다시 말해, 검출값에 해당하는 반사광의 세기(intensity)가 일정 레벨에 도달하도록 조절하는 것이다. 예를 들어 제 1표면 보다 깊이가 깊은 제 2표면으로 조사되는 제 2광의 파장을 짧게 제어하는 투과율을 높임으로써 반사되는 검출광(반사광)을 제 1표면의 검출광과 일정 레벨 이상 또는 이하가 되도록 조절하는 것이다.That is, in order to detect the surface by receiving the detection value of the first surface and the detection value of the second surface at a predetermined level or more, the detection value is set to a predetermined level by controlling the filter characteristics of the first and second coating surfaces. Can be set to In other words, the intensity of the reflected light corresponding to the detection value is adjusted to reach a certain level. For example, by increasing the transmittance for controlling the wavelength of the second light irradiated to the second surface deeper than the first surface, the reflected detection light (reflected light) may be above or below a predetermined level with the detection light of the first surface. To adjust.

도 5는 본 발명에 따른 제 1광과 제 2광의 검출값에서 제 2광의 검출값이 더 크게 제어한 파장 분포도, 도 6은 본 발명에 따른 광원을 통해 일예로 실제 검출되는 파장 분포도이다. 도 5의 경우 제 1표면으로 조사되는 광의 차단범위를 도 3이나 도 4에 도시된 것보다 파장값이 작도록 컷 오프 프리퀀시를 결정한 것이다. 도 6은 실제 검출되는 것으로, 검출광 L1과 L2가 도 6과 같이 연속적으로 검출됨에 따라 제 1표면과 제 2표면을 용이하게 검출할 수 있다.5 is a wavelength distribution diagram in which the detection value of the second light is larger than the detection value of the first light and the second light according to the present invention, and FIG. 6 is a wavelength distribution diagram actually detected as an example through the light source according to the present invention. In the case of FIG. 5, the cut-off frequency is determined so that the wavelength range of the light irradiated to the first surface is smaller than that shown in FIG. 3 or 4. 6 is actually detected. As the detection lights L 1 and L 2 are continuously detected as shown in FIG. 6, the first surface and the second surface can be easily detected.

이와 같이 구성되는 본 발명은 제 1표면과 제 2표면의 깊이에 따라 제 1광원과 제 2광원에서 출사되는 광의 투과 및 반사 특성을 결정하여 타겟에 조사함으로써 정확하게 표면을 검출할 수 있는 이점이 있다.The present invention configured as described above has an advantage that the surface can be accurately detected by determining the transmission and reflection characteristics of the light emitted from the first and second light sources according to the depth of the first surface and the second surface and irradiating the target. .

이상, 본 발명의 원리를 예시하기 위한 바람직한 실시예와 관련하여 설명하고 도시하였지만, 본 발명은 그와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되는 것이 아니다. 오히려, 첨부된 청구범위의 사상 및 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능함을 당업자들은 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 그러한 모든 적절한 변경 및 수정과 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. On the contrary, those skilled in the art will appreciate that many modifications and variations of the present invention are possible without departing from the spirit and scope of the appended claims. And all such modifications and changes as fall within the scope of the present invention are therefore to be regarded as being within the scope of the present invention.

100 : 제 1광원
110 : 제 2광원
120 : 빔스플리터
121 : 제 1코팅면
121 : 제 2코팅면
130 : 제 1타켓
131 : 제 2타켓
100: first light source
110: second light source
120: beam splitter
121: first coating surface
121: second coating surface
130: the first target
131: second target

Claims (3)

제 1표면에 주로 영향을 미치는 제 1광을 조사하는 제 1광원;
제 2표면에 주로 영향을 미치는 제 2광을 조사하는 제 2광원; 및
상기 제 1광원에서 출사되는 광에서 일부 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 일측면으로 제 1코팅면을 가지며, 상기 제 2광원에서 출사되는 광에서 일부 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 타측면으로 제 2코팅면을 가지는 빔스플리터;를 포함하며,
상기 제 1코팅면을 투과한 제 1광과 제 2코팅면에서 반사된 제 2광이 합쳐져 측정광원을 만들고 상기 측정광원이 동시에 제1표면과 2표면에 조사된 후 제 1표면과 제 2표면에서 반사되는 검출값이 컷-오프 프리퀀시(cut off frequency) 값 이상이 되도록 상기 1코팅면과 제 2코팅면의 투과 및 반사 특성을 결정하며,
상기 빔스플리터의 제 1코팅면과 제 2코팅면은 상기 제 1표면에 조사된 후 반사되는 제 1광의 검출값과, 상기 제 2표면에 조사된 후 반사되는 제 2광의 검출값은 반사광 세기(intensity)가 컷-오프 프리퀀시(cut off frequency) 값 이상이 되도록 파장이 조절되는 코팅 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 멀티 레이어 검출용 광원.
A first light source for irradiating a first light mainly affecting the first surface;
A second light source for irradiating a second light mainly affecting the second surface; And
In the light emitted from the first light source, some wavelengths are transmitted, and the rest has a first coating surface on one side to be reflected. In the light emitted from the second light source, some wavelengths are transmitted, and the other side is reflected. And a beam splitter having a second coating surface.
The first light transmitted through the first coating surface and the second light reflected from the second coating surface are combined to form a measurement light source, and the first and second surfaces are simultaneously irradiated on the first and second surfaces. Transmitting and reflecting characteristics of the first coating surface and the second coating surface is determined such that the detected value reflected from the cutoff frequency is equal to or greater than the cut off frequency value.
The first coating surface and the second coating surface of the beam splitter are detected values of the first light reflected after being irradiated to the first surface, and detected values of the second light reflected after being irradiated to the second surface are reflected light intensity ( and a coating characteristic in which the wavelength is adjusted such that intensity is equal to or greater than a cut-off frequency value.
삭제delete 제 1표면에 주로 영향을 미치는 제 1광을 조사하는 제 1광원;
제 2표면에 주로 영향을 미치는 제 2광을 조사하는 제 2광원; 및
상기 제 1광원에서 출사되는 광에서 일부 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 일측면으로 제 1코팅면을 가지며, 상기 제 2광원에서 출사되는 광에서 일부 파장은 투과되고, 나머지는 반사되도록 타측면으로 제 2코팅면을 가지는 빔스플리터;를 포함하며,
상기 제 1코팅면을 투과한 제 1광과 제 2코팅면에서 반사된 제 2광이 동시에 제 1표면과 제 2표면에 조사된 후 반사되는 제 1 표면에 주된 영향을 미치는 제 1광의 검출값과 제 2표면에 주된 영향을 미치는 제 2광 검출값이 컷-오프 프리퀀시(cut off frequency) 값 이상이 되도록 상기 1코팅면과 제 2코팅면이 투과 및 반사 특성을 갖되,
상기 제 1광의 검출값과 제 2광의 검출값이 일정값 이상이 되도록 컷오프 프리퀀시(cut off frequency) 값을 결정하고, 상기 컷-오프 프리퀀시 값을 기준으로 제 1코팅면과 제 2코팅면의 투과 특성을 결정하는 것을 특징으로 하는 멀티 레이어 검출용 광원.
A first light source for irradiating a first light mainly affecting the first surface;
A second light source for irradiating a second light mainly affecting the second surface; And
In the light emitted from the first light source, some wavelengths are transmitted, and the rest has a first coating surface on one side to be reflected. In the light emitted from the second light source, some wavelengths are transmitted, and the other side is reflected. And a beam splitter having a second coating surface.
The detection value of the first light having a major influence on the first surface reflected after the first light transmitted through the first coating surface and the second light reflected from the second coating surface are simultaneously irradiated on the first surface and the second surface The first and second coating surfaces have transmission and reflection characteristics such that the second light detection value having a major influence on the second and second surfaces is equal to or greater than a cut-off frequency value.
The cutoff frequency value is determined so that the detected value of the first light and the detected value of the second light are equal to or greater than a predetermined value, and the transmission of the first coating surface and the second coating surface based on the cut-off frequency value. A light source for multilayer detection, characterized in that the characteristic is determined.
KR1020110074684A 2011-07-27 2011-07-27 Multy-layer light detection KR101249615B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110074684A KR101249615B1 (en) 2011-07-27 2011-07-27 Multy-layer light detection

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110074684A KR101249615B1 (en) 2011-07-27 2011-07-27 Multy-layer light detection

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130013188A KR20130013188A (en) 2013-02-06
KR101249615B1 true KR101249615B1 (en) 2013-04-01

Family

ID=47893677

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110074684A KR101249615B1 (en) 2011-07-27 2011-07-27 Multy-layer light detection

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101249615B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5587792A (en) 1993-06-21 1996-12-24 Nishizawa; Seiji Apparatus and method for measuring thickness of thin semiconductor multi-layer film
US5900976A (en) 1998-02-20 1999-05-04 Displaytech, Inc. Display system including a polarizing beam splitter
US20020036979A1 (en) 2000-08-01 2002-03-28 Tdk Corporation Optical information medium
KR20020066666A (en) * 2001-02-13 2002-08-21 삼성전자 주식회사 Plate type beam splitter and method for manufacturing it and optical pickup apparatus employing it

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5587792A (en) 1993-06-21 1996-12-24 Nishizawa; Seiji Apparatus and method for measuring thickness of thin semiconductor multi-layer film
US5900976A (en) 1998-02-20 1999-05-04 Displaytech, Inc. Display system including a polarizing beam splitter
US20020036979A1 (en) 2000-08-01 2002-03-28 Tdk Corporation Optical information medium
KR20020066666A (en) * 2001-02-13 2002-08-21 삼성전자 주식회사 Plate type beam splitter and method for manufacturing it and optical pickup apparatus employing it

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130013188A (en) 2013-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA201800304A1 (en) DISTRIBUTED OPTOELECTRONIC MEASURING DEVICE BASED ON BRILLIANE SCATTERING
KR101493310B1 (en) Sensor and method for optically measuring a distance, a position, and/or a profile
JP2010203813A (en) Apparatus and method for testing thin film
WO2012141544A3 (en) Interferometer for tsv measurement and measurement method using same
JP2015010834A (en) Method for estimating emission wavelength of luminous body and device therefore
JP2015072175A (en) Inspection equipment
KR101958403B1 (en) The Metal corrosion monitoring system
KR101830785B1 (en) Apparatus for measuring three dimensional shape
KR101249615B1 (en) Multy-layer light detection
US10020234B2 (en) Method of inspecting device using first measurement and second measurement lights
JP2010066273A5 (en)
JP2007027478A (en) Etching method and etching device
JP6748427B2 (en) Concrete measuring method, concrete measuring device
KR101423122B1 (en) Vision inspection method and vision inspection apparatus for light emitting diod comprising translucent fluorescent substance
ITBO20080691A1 (en) EQUIPMENT AND METHOD FOR THE OPTICAL MEASUREMENT BY INTERFEROMETRY OF THE THICKNESS OF AN OBJECT
JP2015059858A (en) Semiconductor resistivity inspection apparatus and semiconductor resistivity inspection method
JP2018054392A (en) Inspection device and inspection method
JP6119784B2 (en) Foreign object inspection method
WO2023081937A8 (en) Apparatus and method for non-contact detection of hydrocarbon and other fluorescence materials on a surface
KR101664470B1 (en) Multiple beam path optical system using rear surface reflection of beam splitter
JP2011169782A (en) Defect inspection device
ATE450789T1 (en) DEVICE AND METHOD FOR DETERMINING THE REFRACTIVE INDEX OF A FLUID
JP2018044828A (en) Object recognition method, program, and optical system
KR101394436B1 (en) Apparatus and method for measuring 3d surface shape
JP2017058217A5 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160302

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170220

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180305

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190306

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200309

Year of fee payment: 8