KR101249245B1 - Method for marking image pattern of security film using laser marking method - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법으로서, 일면에 미세 렌즈가 배열되어 형성된 베이스층의 타면에 광 흡수체 물질을 포함하는 지지층을 형성시키는 지지층 형성 단계; 상기 베이스층의 상부로부터 상기 미세 렌즈를 통과하여 상기 지지층 상에 레이저 빔을 조사하는 레이저 빔 조사 단계; 및 상기 레이저 빔 조사를 통해 상기 지지층 상에 이미지 패턴이 마킹되는 이미지 패턴 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법이며, 이와 같은 본 발명에 의하면 레이저 마킹한 통해 쉽고 간단한 공정으로 입체 보안 필름이 적용되는 보안 은선에 다양한 이미지 패턴을 형성시킬 수 있게 된다.The present invention provides a method of forming an image pattern of a stereoscopic security film by laser marking, comprising: forming a support layer including a light absorber material on the other surface of a base layer formed by arranging microlenses on one surface; A laser beam irradiation step of irradiating a laser beam onto the support layer through the microlenses from an upper portion of the base layer; And an image pattern forming step of marking an image pattern on the support layer through the laser beam irradiation. The method includes forming an image pattern of a stereoscopic security film by laser marking. Through the easy and simple process, it is possible to form various image patterns on the security hidden line to which the three-dimensional security film is applied.

Description

레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법{Method for marking image pattern of security film using laser marking method}Method for marking image pattern of security film using laser marking method}

본 발명은, 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 입체 보안 필름의 지지층에 레이저 감응 물질을 주입하고 레이저를 조사하여 이미지 패턴을 마킹하는 입체 보안 필름의 제조 방법에 대한 것이다.The present invention relates to a method for forming an image pattern of a three-dimensional security film by laser marking, and more particularly, to a three-dimensional security film for injecting a laser sensitive material into the support layer of the three-dimensional security film and irradiating a laser to mark the image pattern. It is about a manufacturing method.

일반적으로 은행권, 유가 증권, 신분증 등과 같은 보안 문서에는 위조 및 변조를 방지하기 위하여 다양한 보안 요소들이 적용되고 있는데, 이와 같은 보안 요소 중 대표적인 것으로서 육안으로 용이하게 진위 여부를 식별할 수 있는 홀로그램 보안 필름, 식별 장비를 통해 진위 여부를 식별할 수 있는 특수 은선 보안 필름 등을 들 수 있다.In general, various security factors are applied to security documents such as banknotes, securities, identification cards, etc. to prevent forgery and tampering, such as hologram security films that can easily identify authenticity with the naked eye, A special hidden line security film can be used to identify authenticity through identification equipment.

특히, 은행권이나 수표 등의 유가증권의 제조시에는 위조방지를 위하여 종이 내부에 전부 은폐되거나 일부 노출되는 형식으로 특수 은선을 삽입하여 왔다.In particular, in the manufacture of securities such as banknotes and checks, special hidden wires have been inserted in the form of total concealment or partial exposure inside paper to prevent counterfeiting.

도 1은 특수 은선에 적용되는 입체 보안 필름에 대한 구성도를 나타내며, 상기 도 1을 통해 입체 보안 필름의 구성에 대하여 살펴보면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephtalate, PET) 등의 투명한 고분자 물질로 이루어진 베이스층(10)의 상부에 미세 렌즈 어레이(11)가 형성되고, 베이스층(10)의 하부에는 이미지 패턴(21)이 위치되는 지지층(20)이 형성된다.Figure 1 shows a block diagram of a three-dimensional security film applied to a special hidden line, when looking at the configuration of the three-dimensional security film through the Figure 1, a base layer made of a transparent polymer material such as polyethylene terephtalate (PET) The microlens array 11 is formed on the upper portion 10, and the support layer 20 on which the image pattern 21 is positioned is formed on the lower portion of the base layer 10.

상기의 입체 보안 필름은, 베이스층(10)에 형성된 미세 렌즈 어레이(11)를 통해 이미지 패턴(21)을 보았을 때, 모아레 확대 현상에 의하여 확대된 합성 이미지가 관찰되며, 각도 변화에 따라 특정 이미지가 이동되어 보이는 효과를 가지며, 특히 가시광선 영역에서는 빛을 반사하고 근적외선 영역에서는 빛을 흡수하는 특성을 보이는 근적외선 흡수층을 포함함으로써 위조 방지용 보안 요소로써 기능한다.In the stereoscopic security film, when the image pattern 21 is viewed through the microlens array 11 formed on the base layer 10, the composite image enlarged by the moiré magnification phenomenon is observed, and the specific image is changed according to the angle change. Has a moving effect, and in particular, it functions as a security element for preventing forgery by including a near-infrared absorbing layer that reflects light in the visible region and absorbs light in the near-infrared region.

상기와 같은 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 종래 방법으로는, 잉크젯, 레이저젯, 활판인쇄(letterpress), 플렉소(flexo), 그라비어(gravure), 요판인쇄(intaglio) 등을 이용하는 다양한 방법이 적용되고 있다.As a conventional method of forming the image pattern of the three-dimensional security film as described above, various methods using inkjet, laserjet, letterpress, flexo, gravure, intaglio, etc. are applied. It is becoming.

도 2는 상기와 같은 종래 방법으로 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시킨 실시예을 도시하는데, 상기 도 2의 (a)는 측면에서의 단면도를 도시하고 (b)는 상부에서의 평면도를 도시한다.Figure 2 shows an embodiment in which the image pattern of the security film is formed by the conventional method as described above, Figure 2 (a) shows a cross-sectional view from the side and (b) shows a plan view from the top.

상기 도 2에 도시된 바와 같이 종래 방법으로 보안 필름의 이미지 패턴을 형성하는 경우에 각각의 미세 렌즈(11)의 초점 위치에 형성되어야 효과적인 이미지 패턴(21a)이 실제적으로는 초점 위치를 벗어나서 지점(21b)에 형성되고 있으며, 이와 같이 미세 렌즈(11)의 초점 위치를 벗어나서 이미지 패턴(21b)이 형성되므로 미세 렌즈(11)를 통해 관찰되는 이미지 패턴이 찌그러지거나 왜곡되어 관찰되게 되는 문제점을 가지고 있다.In the case of forming the image pattern of the security film by the conventional method as shown in FIG. 2, the effective image pattern 21a must be formed at the focal position of each microlens 11. 21b), the image pattern 21b is formed out of the focal position of the microlens 11, and thus the image pattern observed through the microlens 11 is distorted or distorted. .

상기와 같이 종래 기술에 따른 이미지 패턴을 형성시키는 방법을 통해 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 경우에 각각의 미세 렌즈의 초점에 맞춰서 미세한 이미지 패턴을 형성시키는 것이 상당히 어려운 문제점을 가지고 있다.As described above, in the case of forming the image pattern of the stereoscopic security film through the method of forming the image pattern according to the prior art, it is difficult to form the fine image pattern in accordance with the focus of each fine lens.

나아가서 상기의 종래 기술에 따라 이미지 패턴을 형성시키는 경우에 이미지 패턴 형성 과정 중에 발생되는 유해 물질로 인한 환경 오염 문제가 발생된다.Furthermore, in the case of forming the image pattern according to the prior art, there is a problem of environmental pollution due to harmful substances generated during the image pattern formation process.

본 발명은 상술한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하고자 하는 것으로서, 보안 은선 등의 입체 보안 필름에서 이미지 패턴을 미세 렌즈의 초점 위치에 정확하게 맞춰서 형성시키기 어려운 문제점을 해결하고자 한다. The present invention is to solve the problems of the prior art as described above, it is to solve the problem that it is difficult to form the image pattern to accurately match the focal position of the fine lens in the three-dimensional security film, such as security hidden lines.

특히 본 발명은, 레이저 마킹을 통한 쉽고 간단한 공정으로 미세 렌즈의 정확한 초점위치에 맞춰서 이미지 패턴을 형성시키는 입체 보안 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.In particular, the present invention is to provide a method for producing a three-dimensional security film for forming an image pattern in accordance with the exact focusing position of the fine lens by an easy and simple process through laser marking.

나아가서 종래의 인쇄방법으로 이미지 패턴을 형성하는 과정 중에 발생되는 오염물질로 인하여 환경오염이 발생되는 문제점을 해결하고자 한다.Furthermore, to solve the problem of environmental pollution caused by the contaminants generated during the process of forming an image pattern by a conventional printing method.

상기 기술적 과제를 달성하고자 본 발명은, 일면에 미세 렌즈가 배열되어 형성된 베이스층의 타면에 광 흡수체 물질을 포함하는 지지층을 형성시키는 지지층 형성 단계; 상기 베이스층의 상부로부터 상기 미세 렌즈를 통과하여 상기 지지층 상에 레이저 빔을 조사하는 레이저 빔 조사 단계; 및 상기 레이저 빔 조사를 통해 상기 지지층 상에 이미지 패턴이 마킹되는 이미지 패턴 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법이다.According to an aspect of the present invention, there is provided a support layer forming step of forming a support layer including a light absorber material on the other surface of a base layer in which microlenses are arranged on one surface; A laser beam irradiation step of irradiating a laser beam onto the support layer through the microlenses from an upper portion of the base layer; And an image pattern forming step of marking an image pattern on the support layer through the laser beam irradiation.

바람직하게는 상기 레이저 빔 조사 단계는, 상기 베이스층의 상부로부터 상기 지지층에 수직하게 상기 미세 렌즈의 초점위치로 레이저 빔을 조사할 수 있다.Preferably, in the laser beam irradiation step, the laser beam may be irradiated from the top of the base layer to the focal position of the microlenses perpendicular to the support layer.

보다 바람직하게는 상기 레이저 빔 조사 단계는, 상기 미세 렌즈의 초점위치를 지나며 상기 지지층에 수직한 법선을 따라 레이저 빔을 조사하며, 상기 이미지 패턴 형성 단계는, 상기 지지층 상에서 상기 법선이 지나는 위치에 이미지 패턴이 형성될 수 있다.More preferably, the step of irradiating the laser beam irradiates a laser beam along a normal line perpendicular to the support layer while passing through the focal position of the microlens, and the forming of the image pattern comprises: an image at a position where the normal line passes on the support layer. A pattern can be formed.

나아가서 상기 미세 렌즈의 상부 평면을 관측하여 상기 지지층의 상부면에서 상기 미세 렌즈의 중심점을 검색하는 중심점 검색 단계를 더 포함하며, 상기 레이저 빔 조사 단계는, 상기 베이스층 상부로부터 상기 지지층 상의 검색된 중심점을 향하여 상기 지지층에 수직하게 레이저 빔을 조사하는 것이 바람직하다.Furthermore, the method further includes a center point searching step of observing an upper plane of the microlens to search for a center point of the microlens on an upper surface of the support layer, wherein the laser beam irradiation step includes searching for a center point found on the support layer from an upper portion of the base layer. It is preferable to irradiate a laser beam perpendicularly to said support layer.

여기서 상기 이미지 패턴 형성 단계는, 상기 레이저 빔의 조사에 의해 상기 지지층에 포함된 광 흡수체 물질의 변색 또는 식각으로 상기 지지층 상에 이미지 패턴이 형성될 수 있다.In the forming of the image pattern, an image pattern may be formed on the support layer by discoloration or etching of the light absorber material included in the support layer by irradiation of the laser beam.

또한 상기 베이스층의 일면에 복수의 초첨위치를 갖는 미세 렌즈를 형성시키는 단계를 더 포함하며, 상기 레이저 빔 조사 단계는, 상기 베이스층의 상부로부터 상기 미세 렌즈의 각각의 초점 위치를 향하여 상기 지지층으로 레이저 빔을 조사할 수도 있다.The method may further include forming a microlens having a plurality of focusing positions on one surface of the base layer, wherein the laser beam irradiation step is performed from the top of the base layer toward the respective focal positions of the microlenses to the support layer. The laser beam may be irradiated.

이와 같은 본 발명에 따르면, 레이저 마킹을 통한 쉽고 간단한 공정으로 입체 보안 필름이 적용되는 보안 은선의 다양한 이미지로 형성시킬 수 있게 된다.According to the present invention, it is possible to form a variety of images of the security hidden line to which the three-dimensional security film is applied in an easy and simple process through laser marking.

특히, 본 발명에 의하면 보안 은선 등의 입체 보안 필름에서의 이미지 패턴을 미세 렌즈의 초점 위치에 정확하게 맞춰서 형성시킬 수 있으므로, 미세 렌즈를 통해 관찰되는 이미지 패턴이 찌그러지거나 왜곡되는 문제점을 해결할 수 있게 된다.In particular, according to the present invention, since the image pattern in the three-dimensional security film such as a security hidden line can be accurately formed at the focal position of the microlens, the problem that the image pattern observed through the microlens is distorted or distorted can be solved. .

나아가서 기존의 인쇄 방법에 따라 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성하는 경우에 발생되는 환경 오염 문제를 제거할 수 있다.Furthermore, it is possible to eliminate the problem of environmental pollution generated when forming the image pattern of the three-dimensional security film according to the existing printing method.

도 1은 특수 은선에 적용되는 입체 보안 필름에 대한 구성도를 나타내며,
도 2는 상기와 같은 종래 방법으로 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시킨 실시예을 도시하며,
도 3은 본 발명에 따른 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법에 대한 실시예의 개략적인 흐름도를 도시하며,
도 4는 본 발명에 따른 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법의 실시예에 대한 공정을 도시하며,
도 5는 본 발명에 따른 레이저 빔을 조사하는 개념을 도시하며,
도 6은 상기 도 4에 도시된 본 발명에 따른 실시예 공정을 통해 이미지 패턴을 형성시킨 결과를 도시한다.1 shows a block diagram of a three-dimensional security film applied to a special hidden line,
Figure 2 shows an embodiment in which the image pattern of the security film is formed by the conventional method as described above,
3 shows a schematic flowchart of an embodiment of a method for forming an image pattern of a three-dimensional security film with laser marking according to the present invention,
4 shows a process for an embodiment of a method of forming an image pattern of a stereoscopic security film with a laser marking according to the invention,
5 shows a concept of irradiating a laser beam according to the present invention,
FIG. 6 illustrates a result of forming an image pattern through an exemplary process according to the present invention illustrated in FIG. 4.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 설명하기 위하여 이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하고 이를 참조하여 살펴본다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the present invention when taken in conjunction with the accompanying drawings.

먼저, 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니며, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함할 수 있다. 또한 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.First, the terminology used in the present application is used only to describe a specific embodiment, and is not intended to limit the present invention, and the singular expressions may include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. Also in this application, terms such as "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described on the specification, one or more other It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of features, numbers, steps, operations, components, parts, or a combination thereof.

본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

본 발명은, 입체 보안 필름의 지지층에 레이저 감응 물질을 주입하고 레이저를 조사하여 이미지 패턴을 마킹하는 입체 보안 필름의 제조 방법에 대한 것이다.The present invention relates to a method for producing a three-dimensional security film for injecting a laser sensitive material into the support layer of the three-dimensional security film and irradiating a laser to mark the image pattern.

도 3은 본 발명에 따른 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법에 대한 실시예의 개략적인 흐름도를 도시한다.3 shows a schematic flowchart of an embodiment of a method for forming an image pattern of a stereoscopic security film with laser marking in accordance with the present invention.

우선 베이스층의 상부에 미세 렌즈가 배열되는 미세 렌즈 어레이를 형성(S110)시키고, 상기 베이스층의 하부에 광 흡수체 물질을 포함하는 지지층을 형성(S120)시킨다.First, a microlens array in which microlenses are arranged on the base layer is formed (S110), and a support layer including a light absorber material is formed below the base layer (S120).

그리고, 상기 베이스층 상부에서 상기 지지층을 향하여 레이저 빔을 조사(S130)하는데, 이때 바람직하게는 상기 베이스층 상부에 형성된 미세 렌즈의 초점 위치를 향하여 레이저 빔을 조사하게 된다.In addition, the laser beam is irradiated from the upper portion of the base layer toward the support layer (S130). In this case, the laser beam is irradiated toward the focal position of the microlens formed on the base layer.

그러면, 상기 레이저 빔의 조사에 의해 상기 지지층에 포함된 광 흡수체 물질이 반응하게 되고 그로 인하여 해당 위치에 소정의 이미지 패턴이 형성(S140)되게 된다.
Then, the light absorber material included in the support layer reacts by irradiation of the laser beam, thereby forming a predetermined image pattern at the corresponding position (S140).

이와 같은 레이저 마킹을 위하여 본 발명에서 사용될 수 있는 광 흡수체 물질은 레이저 파장 범위에서 적절한 정도로 레이저 광 에너지를 흡수하고 이를 열 에너지로 전환시키는 모든 물질이 적용될 수 있을 것이다.The light absorber material that can be used in the present invention for such laser marking may be applied to any material that absorbs laser light energy to an appropriate degree in the laser wavelength range and converts it into thermal energy.

가령 예시적으로는, 레이저 마킹에 적절한 광 흡수체 물질로, 탄소, 산화금속이 적용될 수 있는데 예를 들면, Sn(Sb)O2, TiO2, 카본 블랙이 이용될 수 있으며, 또한 안트라센, IR-흡수성 착색제가 적용될 수 있는데, 예를 들면, 페릴렌, 릴렌, 펜타에리트리톨, 수산화구리 포스페이트, 몰리브덴 다이설파이드, 산화안티몬(III), 비스무트 옥시클로라이드 등이 적용될 수 있다. For example, as the light absorber material suitable for laser marking, carbon and metal oxides may be applied. For example, Sn (Sb) O 2 , TiO 2 , carbon black may be used, and anthracene, IR- Absorbent colorants may be applied, for example, perylene, reylene, pentaerythritol, copper hydroxide phosphate, molybdenum disulfide, antimony (III) oxide, bismuth oxychloride, and the like.

이외에도 플레이크형이 적용될 수 있는데 예를 들면, 합성 또는 천연 운모, 활석, 카올린, 유리 플레이크, SiO2 플레이크, 합성 지지체가 부재한 플레이크를 포함하는 투명하거나 반투명한 기판이 적용될 수도 있을 것이다.In addition, flake type may be applied, for example, a transparent or translucent substrate may be applied including synthetic or natural mica, talc, kaolin, glass flakes, SiO 2 flakes, flakes without synthetic support.

또한 플레이크형 산화 금속으로 플레이크형 산화철, 산화알루미늄, 이산화티탄, 이산화규소, 액정 중합체, 홀로그램 안료, 전도성 안료, 코팅된 흑연 플레이크 등도 적용될 수 있다.Flake-type iron oxide, aluminum oxide, titanium dioxide, silicon dioxide, liquid crystal polymers, hologram pigments, conductive pigments, coated graphite flakes and the like may also be applied to the flake metal oxide.

나아가서 사용될 수 있는 플레이크형 안료는, 코팅되지 않거나 또는 하나 이상의 산화금속층으로 덮힐 수 있는 금속 분말로서, Al, Cu, Cr, Fe, Au, Ag 또는 강철 플레이크 등이 적용될 수도 있다. 부식되기 쉬운 금속 플레이크로서 Al, Fe 또는 강철 플레이크가 코팅되지 않은 형태로 사용되는 경우에 상기 플레이크를 보호 중합체층으로 코팅시키는 것이 바람직하다.The flake pigments which can be further used may be Al, Cu, Cr, Fe, Au, Ag or steel flakes or the like, as a metal powder which may be uncoated or covered with one or more metal oxide layers. It is preferable to coat the flakes with a protective polymer layer when Al, Fe or steel flakes are used in an uncoated form as the metal flakes which are susceptible to corrosion.

또한 Al, Cu, Cr, Fe, Au, Ag 또는 Fe 등을 포함하는 구형 안료도 적용될 수도 있다.In addition, spherical pigments containing Al, Cu, Cr, Fe, Au, Ag or Fe may also be applied.

바람직하게는 하나 이상의 산화금속으로 코팅된 운모 플레이크가 적용될 수 있는데, 산화금속은 무색의 고굴절률 산화금속으로, 예를 들면 산화티타늄, 산화안티몬(III), 산화아연, 산화주석 또는 이산화지르코늄 등이 있으며, 착색된 산화 금속으로, 예를 들면 산화크롬, 산화니켈, 산화구리, 산화코발트 또는 산화철(Fe2O3, Fe3O4) 등이 있다.Preferably, mica flakes coated with one or more metal oxides can be applied. The metal oxides are colorless high refractive index metal oxides such as titanium oxide, antimony (III) oxide, zinc oxide, tin oxide, or zirconium dioxide. The colored metal oxides include, for example, chromium oxide, nickel oxide, copper oxide, cobalt oxide or iron oxide (Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 ).

이와 같은 상기의 물질들은 이미 공지되어 있으므로, 이를 제조하거나 얻기 위한 방법은 생략하며, 본 발명에서는 이와 같은 광 흡수체 물질을 이용한 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성하게 된다.
Since the above materials are already known, a method for manufacturing or obtaining them is omitted, and in the present invention, the image pattern of the three-dimensional security film is formed by laser marking using such a light absorber material.

이하에서는 본 발명에 따른 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법의 실시예에 대한 공정을 통해 본 발명에 대하여 좀 더 살펴보기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail through a process for an embodiment of a method of forming an image pattern of a stereoscopic security film by laser marking according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법의 실시예에 대한 공정을 도시한다.4 shows a process for an embodiment of a method of forming an image pattern of a stereoscopic security film with laser marking in accordance with the present invention.

우선 도 4의 (a)에 도시된 바와 같이 베이스층(100)의 상부에 미세 렌즈(110) 어레이를 형성시키는데, 베이스층(100) 상부에 형성된 미세 렌즈 어레이(110)는 자외선 엠보싱(UV embossing), 열적 재유동(thermal reflow) 등 해당 기술 분야에서 이미 공지된 방법을 통해 형성시킬 수 있으며, 상기 도 4에 도시된 실시예에서는 반원의 엠보싱 형태로 도시되었으나 이는 실시예를 위해 예시에 불과한 것으로서 이에 국한되지 않고 다양한 모양의 미세 렌즈가 배열될 수 있을 것이다. 또한 이와 같은 미세 렌즈의 형성과정은 본 발명의 요지가 아니므로 자세한 설명은 생략하기로 한다.First, as shown in FIG. 4A, the microlens 110 array is formed on the base layer 100, and the microlens array 110 formed on the base layer 100 is UV embossed. ), Thermal reflow, and the like, may be formed by a method already known in the art, and the embodiment shown in FIG. 4 is illustrated in the form of a semicircle embossing, but this is only an example for the embodiment. Without being limited thereto, fine lenses having various shapes may be arranged. In addition, since the formation of such a fine lens is not the gist of the present invention, a detailed description thereof will be omitted.

베이스층(100)에 미세 렌즈(110) 어레이를 형성한 후에 상기 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이 지지층(200)을 형성시키는데, 이때 본 발명에서는 광 흡수체 물질을 포함하여 지지층(200)을 형성시키며 상기 광 흡수체 물질은 상기에서 살펴본 바와 같이 다양한 물질이 이용될 수 있다.After forming the array of microlenses 110 on the base layer 100, the support layer 200 is formed as shown in FIG. 4 (b), wherein the support layer 200 including the light absorber material in the present invention. As the light absorber material is formed as described above, various materials may be used.

그리고 베이스층(100) 상부로부터 미세 렌즈(110)를 통과하여 지지층(200)으로 레이저 빔을 조사하는데, 상기 도 4의 (c)에 도시된 바와 같이 레이저 빔의 조사에 의해 지지층(200)에 포함된 광 흡수체 물질은 반응하게 되고 이로 인하여 레이저 빔이 조사된 지지층(200) 상의 위치에 이미지 패턴(210)이 마킹되게 된다.
The laser beam is irradiated to the support layer 200 through the microlens 110 from the base layer 100, and as shown in FIG. 4C, the support layer 200 is irradiated with the laser beam. The included light absorber material reacts, thereby causing the image pattern 210 to be marked at a position on the support layer 200 to which the laser beam is irradiated.

상기 도 4의 (c)에 도시된 레이저를 조사하는 공정은 베이스층(100)의 상부로부터 지지층(200)에 수직하게 미세 렌즈(110)의 초점위치로 레이저 빔을 조사하는 것이 바람직한데, 도 5는 본 발명에 따른 레이저 빔을 조사하는 개념을 도시한다.In the process of irradiating the laser shown in FIG. 4C, it is preferable to irradiate the laser beam to the focal position of the microlens 110 perpendicularly to the support layer 200 from the top of the base layer 100. 5 shows the concept of irradiating a laser beam according to the present invention.

상기 도 5의 (a)에는 원형의 미세 렌즈(110)의 초점 위치(B)가 지지층(200)에 존재하며, 지지층(200)과 수직하면서 미세 렌즈(110)의 초점 위치(B)를 지나는 법선(A)을 따라 레이저 빔을 조사하는 경우에 미세 렌즈(110)의 초점 위치(B)가 존재하는 지지층(200) 상에 이미지 패턴이 형성되게 된다.In FIG. 5A, the focal position B of the circular microlens 110 is present in the support layer 200, and is perpendicular to the support layer 200 while passing through the focal position B of the microlens 110. When irradiating a laser beam along the normal line A, an image pattern is formed on the support layer 200 where the focal position B of the microlens 110 exists.

상기 도 5의 (b)는 미세 렌즈(110) 어레이가 형성된 베이스층(100)을 상부에서 바라본 평면도를 도시하며, 베이스층(100)의 상부에서 원형으로 형성된 각각의 미세 렌즈(110)를 관찰하면 각각의 미세 렌즈(110) 원형마다 중심점을 찾아 낼 수 있으며, 실제적으로 상기 중심점에 미세 렌즈(110)의 초점 위치(B)가 존재하게 된다.FIG. 5B illustrates a plan view of the base layer 100 on which the array of fine lenses 110 is formed, and observes each of the fine lenses 110 formed in a circular shape on the top of the base layer 100. The center point can be found for each microlens 110 circle, and the focal position B of the microlens 110 is actually present at the center point.

따라서 본 발명에서는 이미지 패턴을 마킹하기 위하여 레이저 빔의 조사하기 이전에, 베이스층의 상부에서 미세 렌즈(110) 어레이를 관측하여 각각의 이미지 렌즈(110)의 원형들의 중심점(B)을 찾아내고, 레이저 빔을 지지층(200)에 수직하게 각각의 중심점(B)을 향하여 조사함으로써 정확한 미세 렌즈의 초점 위치에 이미지를 마킹할 수 있게 된다.Therefore, in the present invention, before irradiating the laser beam to mark the image pattern, by observing the array of the fine lens 110 from the top of the base layer to find the center point (B) of the circles of each image lens 110, By irradiating the laser beam toward each center point B perpendicular to the support layer 200, the image can be marked at the focal position of the fine lens.

나아가서 상기 도 5에 도시된 본 발명의 개념을 통해 살펴본 바와 같이 미세 렌즈(110)를 통과하여 조사되는 레이저 빔의 초점 위치(B)가 지지층(200)의 표면 상에 위치되도록 하는 것이 바람직하나, 상황에 따라서는 미세 렌즈(110)를 통과하여 조사되는 레이저 빔의 초점 위치가 정확하게 지지층(200)의 표면 상에 위치되지 않고 지지층(200) 내부나 또는 상부에 위치될 수도 있다. 이와 같은 경우라도 본 발명에 따라 초점 위치를 지나면서 지지층과 수직한 법선을 따라 레이저 빔을 조사하여 지지층 상에 이미지 패턴을 형성시키면, 비록 정확한 레이저 빔이 조사되는 초점 위치 상에 이미지 패턴이 형성되지는 않지만 그 오차범위는 극소하며 미세 렌즈를 통해 형성된 이미지 패턴을 관찰할 때 이미지 패턴이 찌그러지거나 왜곡되어 관찰되는 현상은 제거되게 된다.
Furthermore, as described through the concept of the present invention illustrated in FIG. 5, the focal position B of the laser beam irradiated through the microlens 110 is preferably positioned on the surface of the support layer 200. In some cases, the focal position of the laser beam irradiated through the microlens 110 may not be accurately positioned on the surface of the support layer 200, but may be located inside or on the support layer 200. Even in such a case, when the laser beam is irradiated along a normal line perpendicular to the support layer while passing through the focal position, the image pattern is formed on the support layer, even though the image pattern is not formed on the focal position where the correct laser beam is irradiated. Although the error range is very small, when the image pattern formed through the micro lens is observed, the phenomenon that the image pattern is distorted or distorted is eliminated.

도 6은 상기 도 4에 도시된 본 발명에 따른 실시예 공정을 통해 이미지 패턴을 형성시킨 결과를 도시한다.FIG. 6 illustrates a result of forming an image pattern through an exemplary process according to the present invention illustrated in FIG. 4.

상기 도 6의 (a)는 본 발명에 따라 제조된 입체 보안 필름의 중요 부분에 대한 단면도를 도시하며, 상기 도 6의 (b)는 본 발명에 따라 제조된 입체 보안 필름의 일부분을 상부에서 관찰한 모습을 도시한다.6 (a) shows a cross-sectional view of an important part of the three-dimensional security film prepared according to the present invention, Figure 6 (b) is a part of the three-dimensional security film prepared according to the present invention observed from the top Show a look.

상기 도 6의 (a)에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 입체 보안 필름의 이미지 패턴 마킹 방법으로 지지층(200)에 형성된 이미지 패턴(210)은 각각의 미세 렌즈(110)의 초점 위치에 정확하게 형성되어 있으며, 이는 미세 렌즈의 초점위치를 지나는 법선(A)을 통해 알 수 있다.As shown in (a) of FIG. 6, the image pattern 210 formed on the support layer 200 by the image pattern marking method of the stereoscopic security film according to the present invention is accurately formed at the focal position of each microlens 110. This can be seen through the normal line A passing through the focal position of the microlens.

또한 상기 도 6의 (b)에 도시된 바와 같이 미세 렌즈(110) 어레이가 형성된 베이스층(100)의 상부에서 관찰해보아도 각각의 미세 렌즈(110)의 원형 중심점에 정확하게 이미지 패턴(210)이 형성되었음을 볼 수 있다.
In addition, as shown in (b) of FIG. 6, the image pattern 210 is accurately located at the circular center point of each microlens 110 even when observed from the top of the base layer 100 on which the microlens 110 array is formed. It can be seen that formed.

이와 같이 본 발명에 따른 레이저 마킹 방식은, 간단하고 쉬운 공정으로 미세 렌즈의 정확한 초점 위치에 이미지 패턴을 형성시킴으로써 미세 렌즈를 통해 이미지 패턴을 관찰하는 경우에 이미지 패턴이 찌그러지거나 왜곡되는 현상이 전혀 나타나지 않게 된다.As described above, the laser marking method according to the present invention does not show any distortion or distortion of the image pattern when the image pattern is observed through the microlens by forming the image pattern at the exact focus position of the microlens in a simple and easy process. Will not.

특히, 본 발명에 따른 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법은, 레이저 광에 의한 비접촉 마킹 방식으로 정전기 발생이 없고, 초당 천자까지의 고속 마킹으로 높은 생산성을 보장하며, 장비의 콤팩트화(compact) 및 자동화가 용이하다. In particular, the method of forming the image pattern of the three-dimensional security film by the laser marking according to the present invention, there is no static electricity generated by the non-contact marking method by the laser light, ensures high productivity by high-speed marking up to a thousand per second, compact equipment It is easy to compact and automate.

또한 본 발명에 따른 마킹 공정시 작업 현장이 청결하고 잉크에 의한 공해 발생을 억제할 수 있다는 장점을 가지고 있다.
In addition, the marking process according to the present invention has the advantage that the work site is clean and can suppress the generation of pollution by ink.

나아가서 상기에서는 본 발명에 따른 상기의 실시예들을 통해 단초점을 갖는 원형의 미세 렌즈의 경우에 대하여 설명하였으나, 본 발명은 이에 국한되지 않고 복수의 초점을 갖는 미세 렌즈에도 적용될 수 있으며, 이 경우에도 미세 렌즈의 각각의 초점 위치를 향하여 지지층으로 레이저 빔을 조사하여 각각의 초점 위치에 맞춰서 이미지 패턴이 형성되므로, 미세 렌즈를 통해 이미지 패턴을 관찰하는 경우에 전혀 찌그러지는 현상이나 왜곡되는 현상이 발생되지 않는다.
Furthermore, in the above, the case of the circular microlens having a short focal point is described through the above embodiments according to the present invention. However, the present invention is not limited thereto, and the present invention can be applied to a microlens having a plurality of focal points. Since the image pattern is formed by irradiating the laser beam to the support layer toward each focal position of the microlenses, the image pattern is not formed at all when the image pattern is observed through the microlenses. Do not.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명에 기재된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상이 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의해서 해석되어야하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments of the present invention are not intended to limit the scope of the present invention but to limit the scope of the present invention. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents thereof should be construed as being included in the scope of the present invention.

100 : 베이스층, 110 : 미세 렌즈,
200 : 지지층, 210 : 이미지 패턴.100: base layer, 110: fine lens,
200: support layer, 210: image pattern.

Claims (7)

일면에 미세 렌즈가 배열되어 형성된 베이스층의 타면에 광 흡수체 물질을 포함하는 지지층을 형성시키는 지지층 형성 단계;
상기 베이스층의 상부로부터 상기 미세 렌즈를 통과하여 상기 지지층 상의 상기 미세 렌즈의 초점 위치로 레이저 빔을 조사하는 레이저 빔 조사 단계; 및
상기 레이저 빔 조사를 통해 상기 지지층 상에 이미지 패턴이 마킹되는 이미지 패턴 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법.A support layer forming step of forming a support layer including a light absorber material on the other surface of the base layer on which one side of the base lens is formed;
A laser beam irradiation step of irradiating a laser beam from the top of the base layer through the microlenses to a focal position of the microlens on the support layer; And
And an image pattern forming step of marking an image pattern on the support layer through the laser beam irradiation. 제 1 항에 있어서,
상기 레이저 빔 조사 단계는,
상기 베이스층의 상부로부터 상기 지지층에 수직하게 상기 미세 렌즈의 초점위치로 레이저 빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법.The method of claim 1,
The laser beam irradiation step,
And irradiating a laser beam to a focal position of the microlenses perpendicularly to the support layer from an upper portion of the base layer. 제 2 항에 있어서,
상기 레이저 빔 조사 단계는,
상기 미세 렌즈의 초점위치를 지나며 상기 지지층에 수직한 법선을 따라 레이저 빔을 조사하며,
상기 이미지 패턴 형성 단계는,
상기 지지층 상에서 상기 법선이 지나는 위치에 이미지 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법.The method of claim 2,
The laser beam irradiation step,
Irradiating a laser beam along a normal line perpendicular to the support layer while passing through a focal position of the microlens,
The image pattern forming step,
And an image pattern is formed at a position at which the normal passes on the support layer. 제 1 항에 있어서,
상기 미세 렌즈의 상부 평면을 관측하여 상기 지지층의 상부면에서 상기 미세 렌즈의 중심점을 검색하는 중심점 검색 단계를 더 포함하며,
상기 레이저 빔 조사 단계는,
상기 베이스층 상부로부터 상기 지지층 상의 검색된 중심점을 향하여 상기 지지층에 수직하게 레이저 빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법. The method of claim 1,
A center point search step of searching for a center point of the microlens on the upper surface of the support layer by observing an upper plane of the microlens;
The laser beam irradiation step,
And irradiating a laser beam perpendicularly to the support layer from the top of the base layer toward a searched center point on the support layer. 제 1 항에 있어서,
상기 이미지 패턴 형성 단계는,
상기 레이저 빔의 조사에 의해 상기 지지층에 포함된 광 흡수체 물질의 변색 또는 식각으로 상기 지지층 상에 이미지 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법. The method of claim 1,
The image pattern forming step,
And discoloring or etching the light absorber material included in the support layer by irradiation of the laser beam, thereby forming an image pattern on the support layer. 제 1 항에 있어서,
상기 베이스층의 일면에 복수의 초첨위치를 갖는 미세 렌즈를 형성시키는 단계를 더 포함하며,
상기 레이저 빔 조사 단계는,
상기 베이스층의 상부로부터 상기 미세 렌즈의 각각의 초점 위치를 향하여 상기 지지층으로 레이저 빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 레이저 마킹으로 입체 보안 필름의 이미지 패턴을 형성시키는 방법.The method of claim 1,
Forming a microlens having a plurality of focusing positions on one surface of the base layer,
The laser beam irradiation step,
And irradiating a laser beam onto the support layer from the top of the base layer toward the respective focal position of the microlenses. 삭제delete
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