KR101245234B1 - Filtering apparatus with the function of self-washing - Google Patents

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KR101245234B1
KR101245234B1 KR1020120069526A KR20120069526A KR101245234B1 KR 101245234 B1 KR101245234 B1 KR 101245234B1 KR 1020120069526 A KR1020120069526 A KR 1020120069526A KR 20120069526 A KR20120069526 A KR 20120069526A KR 101245234 B1 KR101245234 B1 KR 101245234B1
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KR1020120069526A
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김상민
강균석
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주식회사 동신이엔텍
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Abstract

PURPOSE: A continuous rotary equational filtering apparatus is provided to be able to be used continuously without periodical maintenance and to perform a decomposition process to organic/inorganic compounds and an extinction process to bacteria by first filtering relatively large particles and second plasma discharge, and to have an automatic washing function and a plasma discharge function. CONSTITUTION: A continuous rotary equational filtering apparatus comprises a casing(100), a first chamber(110), a second chamber(120), a third chamber(130), a first partition plate(140), a second partition plate(150), plural inner casings(160), a filtering member(170), a cover plate(180), a drain member(190) and an actuator(200). In filtering, water positioned between said inner casing and said filtering member is flowed into the filtering member while passing the filtering surface of the filtering member, and accumulates foreign substances on the filtering surface of the filtering member. In washing, foreign substances accumulated on the filtering surface of the filtering member are separated by a first flow that water positioned within the filtering member passes the filtering surface of the filtering member toward the outside of the filtering member, and a second flow that water in the third chamber passes a third through-hole(161) and then, between the inner casings and the filtering member.

Description

자동세척기능 및 플라즈마 방전 기능을 가지는 연속 회전식 여과장치{Filtering Apparatus with the function of self-washing}Filtering Apparatus with the function of self-washing with automatic washing and plasma discharge

본 발명은 처리 대상인 물을 처리하기 위한 여과장치로서 특히 필터링부재에 대한 자동 세척기능이 구비되며, 1차로 비교적 큰 입자의 이물질을 여과한 후 2차로 수중 플라즈마 방전을 이용하여 수중의 난분해성 유기물 내지 무기물을 분해하고 각종 세균을 사멸 처리하는 여과장치에 대한 기술이다.
The present invention is a filtration device for treating the water to be treated, in particular equipped with an automatic cleaning function for the filtering member, the first to filter the foreign matter of relatively large particles and then secondly to the decomposable organic matter in the water by using the plasma discharge underwater It is a technology for a filtration device that decomposes inorganic substances and kills various bacteria.

모든 생명체의 생존에 가장 중요한 요소중 하나가 물이며, 크게 해수와 담수로 구분될 수 있다. 지구환경의 변화로 인해 인간이 실제 사용 가능한 물의 양은 줄어들고 있고 한국의 경우도 물부족국가로 인식되고 있다.One of the most important factors for the survival of all living things is water, which can be divided into seawater and freshwater. Due to changes in the global environment, the amount of water actually available to humans is decreasing, and Korea is also recognized as a water shortage country.

인간의 산업활동에 의해 물의 자정기능을 초과하여 해수나 담수는 계속 오염되고 있는 실정이고 이로 인해 생태계 파괴는 가속화된다. 국가간 교역의 증가로 대부분의 수출입 물동량은 선박을 통해 운송되고 있으며, 대형 콘테이너 선박들의 경우 필요에 따라 해수나 담수를 저장하였다가 배출할 수 있는 밸러스트 탱크가 구비된다. 어느 한 지역의 해수나 담수를 담은 선박이 타 지역으로 이동 후 밸러스트 탱크에 담긴 물을 배출시키게 되면 다양한 외래 생명체가 유입되어 생태계의 교란을 유발하게 된다.Because of the industrial activity of humans, seawater and fresh water continue to be contaminated beyond the self-cleaning function of the water, thereby accelerating the destruction of ecosystems. Due to increased trade between countries, most imports and exports are transported by ship, and large container ships are equipped with ballast tanks to store and discharge seawater or fresh water as needed. When a vessel containing seawater or freshwater from one region moves to another region and releases the water contained in the ballast tank, various foreign organisms are introduced, causing ecosystem disturbances.

이와 같은 문제점을 인식한 미국에서는 이미 오래전부터 밸러스트수에 대한 관리와 통제를 의무화하고 있으며, 호주에서는 밸러스트수를 검역 대상이 되는 수입화물로 규정하고 직접 검역을 실시하고 있는 실정이다. 또한, 국제해사기구(IMO, International Maritime Organization)에서는 2004년에 국제협약을 체결하여 2009년부터 순차적으로 밸러스트수 살균처리장치를 선박에 탑재하도록 강제하고 있다.Recognizing these problems, the United States has long mandated the management and control of ballast water. In Australia, ballast water is defined as imported cargo to be quarantined and directly quarantined. In addition, the International Maritime Organization (IMO) signed an international agreement in 2004 and has been compulsory to ship ballast water sterilizers on board since 2009.

이에 따라 다양한 밸러스트수 처리장치들이 개발되고 있지만 여과를 위한 각종 필터링부재를 이용하는 처리장치의 경우 시간이 지날수록 필터링부재에 각종 이물질이 침적되어 그 기능이 약화되기 때문에 주기적인 점검과 세척작업을 해주어야 한다. 하지만 필터링부재에 대한 세척작업을 위해서는 밸러스트수 처리장치를 부분적으로라도 분해한 후 작업자가 일일이 세척작업을 해야했기 때문에 상당히 곤혹스러운 작업이 되고 있다.Accordingly, various ballast water treatment devices have been developed. However, in the case of a treatment device using various filtering members for filtration, various checks have been made over time, so that its function is weakened and its function is weakened. . However, in order to clean the filtering member, the ballast water treatment device has been partially dismantled, and thus, the worker has to perform the cleaning work one by one, which is becoming a very embarrassing task.

이러한 문제는 밸러스트수 처리시뿐 아니라 육상에서의 오폐수에 대한 여과처리 작업시에도 봉착하는 문제점 중 하나가 된다.
This problem becomes one of the problems encountered not only in the ballast water treatment but also in the filtration treatment for wastewater on land.

즉 육상이나 해상에서는 이물질을 여과하기 위한 각종 여과장치들이 개발되고 있으며, 본 발명은 이러한 각종 여과장치(혹은 스트레이너(strainer)라고도 함.)에 관한 기술이다.That is, various filtration apparatuses for filtering foreign matters have been developed on land and at sea, and the present invention relates to such various filtration apparatuses (or also called strainers).

한편 일본 공개특허 소57-209616호 "자동역세식 스트레이너"가 제안된 바 있다.On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-209616 "Automatic Backwash Strainer" has been proposed.

상기와 같은 종래 기술의 자동역세식 여과장치는, 여과시에는 여과부재의 일면에서 여과부재의 타면으로 물이 통과하도록 하여 여과부재의 일면에 이물질이 누적되며, 세척시(역세시)에는 여과부재의 타면에서 여과부재의 일면으로 물이 통과하도록 하여 여과부재의 일면에 누적된 이물질이 여과부재로부터 이탈되도록 하는 것이다. In the conventional automatic backwashing filtration device as described above, foreign matter accumulates on one side of the filtration member so that water passes from one side of the filtration member to the other side of the filtration member during filtration, and the filtration member during washing (backwashing). By passing water from one side of the filtering member to the other side of the foreign matter accumulated on one side of the filtering member is to be separated from the filtering member.

상기와 같은 종래 기술은 본 명세서에 일체화된 것으로 본다.Such prior art is considered to be incorporated herein.

그러나 상기와 같은 종래 기술은 다음과 같은 문제가 발생한다.However, the prior art as described above has the following problems.

여과부재에 누적되는 이물질은 여과부재의 전면에 대하여 고르게 누적되지는 않는다. 즉 어떤 위치에서는 많은 이물질이 누적되는 한편 다른 위치에서는 적은 양의 이물질이 누적될 수 있다. 즉 여과부재의 전면에 걸쳐 불균일하게 이물질이 누적되는 것이다.Foreign matter accumulated on the filtration member is not evenly accumulated with respect to the front surface of the filtration member. In other words, a large amount of foreign matter may accumulate at one location while a small amount of foreign matter may accumulate at another location. That is, foreign matter accumulates unevenly over the entire surface of the filtration member.

이와 같은 경우 많은 양이 누적된 이물질은 여과부재에 대한 고착력이 매우 강한 반면, 작은 양이 누적된 이물질은 여과부재에 대한 고착력이 매우 약하다.In this case, a large amount of accumulated foreign matter has a very strong adhesion to the filter member, while a small amount of accumulated foreign matter is very weak to the filtering member.

즉 이물질이 많이 누적되어 있을수록 이물질과 여과부재가 서로 접촉하는 면적은 넓어지게 되며, 이 경우 이물질의 여과부재에 대한 고착력이 증가하게 된다.That is, the more foreign matter accumulates, the wider the area where the foreign matter and the filtration member contact each other, and in this case, the adhesion of the foreign matter to the filtration member increases.

따라서 여과장치의 세척시, 고착력이 약한 부위, 즉 작은 양의 이물질이 누적된 부위에서 이물질이 여과부재로부터 먼저 이탈된다.
Therefore, when washing the filtration apparatus, foreign matter is first separated from the filtering member at a portion where the adhesion is weak, that is, a small amount of foreign matter accumulated.

아울러 작은 양의 이물질이 누적된 부위에서 이물질의 이탈이 발생하면 유체는 주로 이물질이 이탈한 부위에서 유동하려고 하며, 많은 양의 이물질이 누적된 부위로는 거의 유동이 일어나지 않게 된다.In addition, when the separation of foreign matter occurs in the site where a small amount of foreign matter accumulates, the fluid mainly tries to flow in the site where the foreign matter has escaped, and almost no flow occurs to the site where a large amount of foreign matter accumulates.

즉 많은 양의 이물질이 누적된 부위는 세척의 초기 단계에서 이물질이 이탈하지 않으면 여과부재로부터 이탈되는 것이 매우 어렵게 된다.That is, the site where a large amount of foreign matter accumulates is very difficult to be separated from the filtering member unless foreign matter is released from the initial stage of washing.

이러한 경향으로 인하여 많은 양의 이물질이 누적된 부위에서는 이물질의 이탈이 발생하지 않게 되어, 이물질의 누적된 양이 점차적으로 증가하게 되며, 결과적으로 여과부재의 모든 여과공극이 이러한 이물질의 누적(성장)에 의하여 막히게 된다.Due to this tendency, foreign matters do not occur in areas where a large amount of foreign matter accumulates, and the accumulated amount of foreign matter gradually increases, and as a result, all the filter pores of the filtering member accumulate (growth) of such foreign matter. To be blocked.

따라서 자동역세식 여과장치의 경우에도 이러한 문제로 인하여 장시간 사용할 경우 여과공극이 점차로 막히게 되어, 결과적으로 여과부재를 직접 보수하지 않고서는 계속적인 사용이 불가능하게 된다.
Therefore, even in the case of the automatic backwash filtration device, due to this problem, the filtration pores gradually become clogged when used for a long time, and as a result, it is impossible to continuously use the filter without directly repairing the filtration member.

한편 일반적으로 수(水)처리 기술은 크게 물리ㆍ화학적 처리와 생물학적 처리, 다단계 처리로 대별할 수 있다. 그러나 현재 이러한 기술을 뛰어넘어 더 나은 수처리 효과를 보기 위해 많은 연구가 진행되고 있는데, 소위 첨단 수처리 기술이라 불리는 기술을 중심으로 많은 연구가 행해지고 있다. 이에 상술한 첨단 수처리 기술의 종류를 살펴보면, 1) 전기화학적 방법에 의한 기술, 2) 전기ㆍ자기를 이용한 수처리 기술, 3) 자외선을 이용한 수처리 기술, 4) 플라즈마를 이용한 수처리 기술이 있는데 본 발명은 플라즈마를 이용한 수처리 기술에 속한다.In general, water treatment technology can be roughly divided into physical and chemical treatment, biological treatment, and multi-stage treatment. However, a lot of researches are currently being carried out to see a better water treatment effect beyond these technologies, and a lot of research is being conducted around a so-called advanced water treatment technology. In view of the above-described types of advanced water treatment technology, there are 1) an electrochemical method, 2) an electric and magnetic water treatment technology, 3) an ultraviolet water treatment technology, and 4) a plasma water treatment technology. It belongs to water treatment technology using plasma.

한편, 기존의 수(水)처리 기술로는 응집처리, 오존을 이용한 오존산화처리, 용해성 유기물과 화합물을 흡착하는 활성탄 흡착, 미생물들에 의한 생물학처리, 펜톤산화공정 등이 많이 이용되고 있다. 이 중 가장 일반적으로 사용되는 것은 오존이며, 산업폐수, 매립지 침출수 등의 사업장내 환경개선과 질병예방에 오존을 응용하려는 노력을 하고 있다. 이는 오존이 강력한 산화력을 가지고 있어 이론적으로 유기물을 CO2 및 H2O로 완전 분해할 수 있는 잠재력이 있고 부산물을 생성하지 않는 장점이 부각되고 있기 때문이지만, 차츰 오존의 화학적 특성과 분해메커니즘이 밝혀지면서 오존과 일부 유기물과의 반응이 선택적으로 나타나거나 반응속도가 느리다는 단점이 알려지고 있다.On the other hand, the conventional water treatment technology is agglomeration treatment, ozone oxidation treatment using ozone, activated carbon adsorption to adsorb soluble organic compounds and compounds, biological treatment by microorganisms, fenton oxidation process and the like are widely used. Among them, ozone is the most commonly used, and efforts are being made to apply ozone to environment improvement and disease prevention in workplaces such as industrial wastewater and landfill leachate. This is because ozone has strong oxidizing power, which theoretically has the potential to completely decompose organic matter into CO2 and H2O, and produces no by-products.However, as the chemical properties and decomposition mechanism of ozone are revealed, ozone and It is known that the reaction with some organic matters occurs selectively or the reaction rate is slow.

최근 이러한 오존처리의 단점과 재래식 산화처리 공정의 한계를 극복하기 위한 방안으로 수중에서 일반 산화제보다 훨씬 강력한 산화력을 지닌 OH라디칼의 생성을 촉진시켜 오염된 물을 정수할 수 있는 처리법인 고급산화처리법(AOP: Advanced Oxidation Process)이 수처리에 매우 효과적인 것으로 평가받고 있다.In order to overcome the shortcomings of the ozone treatment and the limitations of the conventional oxidation treatment process, an advanced oxidation treatment method which promotes the generation of OH radicals having much stronger oxidation power in water than other ordinary oxidizing agents to purify contaminated water The Advanced Oxidation Process (AOP) is considered to be very effective for water treatment.

고급산화공정이란 오존, 과산화수소, 자외선 등 직접 주입한 산화제로부터 직접적으로 유기물을 분해하는 기존 처리법의 한계를 넘어 몇 가지 단위공정을 조합하여 상호 복합적인 반응에 의해 인위적으로 산화력이 강한 OH라디칼을 수중에서 생성시켜 수처리 효과를 기대하는 진보된 산화처리방법이다. OH Radical은 오존이 분해되는 과정에서 중간물질로 생성된 것으로서 오존 그 자체보다 높은 산화 환원 전위차(2.80[V])를 가지며, 불포화 탄화수소, 방향족 화합물을 쉽게 공략하고 할로겐족 화합물의 경우는 할로겐 원소를 치환하는 경로를 통하여 분해에 관여하기도 한다. 결국 AOP의 최종목표는 이러한 OH Radical의 생성 농도를 극대화하는 것이다.The advanced oxidation process goes beyond the limitations of the conventional treatment method that directly decomposes organic substances from oxidants directly injected such as ozone, hydrogen peroxide, and ultraviolet light, and combines several unit processes. It is an advanced oxidation treatment that produces and expects water treatment effects. OH Radical is an intermediate produced during the decomposition of ozone, and has a higher redox potential difference (2.80 [V]) than ozone itself. It readily targets unsaturated hydrocarbons and aromatic compounds, and in the case of halogenated compounds, replaces halogen elements. It may also be involved in degradation via pathways. After all, the ultimate goal of AOP is to maximize the concentration of these OH Radicals.

또한, 복합공정으로 수처리에 응용될 수 있는 AOP의 종류로는 O3/high pH, O3/H2O2(Peroxone), O3/UV, H2O2/UV 등이 있으며, 이러한 고급산화법의 분야 중 하나로 수중 고전압 플라즈마 방전이 활발히 연구되고 있다.In addition, the types of AOP that can be applied to water treatment in a complex process include O3 / high pH, O3 / H2O2 (Peroxone), O3 / UV, and H2O2 / UV. This is being actively researched.

또한, 첨단 수처리 기술 중 플라즈마를 이용한 수처리 기술은 주로 저온 플라즈마공정으로서 과거 대기환경 분야에서 유해가스 제거에 사용되었지만, 종전의 수처리 기술과는 달리 약품투입이 필요 없고 처리공정도 간편하며, 2차오염도 발생시키지 않는 장점으로 최근 새로운 개념의 수처리 기술로 부각되고 있으며, 저온 플라즈마를 형성하는 방전에는 펄스 스트리머방전, 무성방전, 부분방전, 연면방전 및 코로나방전 등이 있다. 수질 오염물질처리를 위한 전기방전에 관한 연구들은 1980년대 후반부터 미국, 일본, 네덜란드, 체코, 러시아, 캐나다 등에서 활발하게 진행되어 왔다. 수중 또는 수표면에서 고전압 펄스방전을 발생시키면 다양한 물리ㆍ화학적 과정들이 시작되어 UV, shock waves, 그리고 H, O, OH, H2O2 등과 같은 화학적 활성종들을 생성시키며, 수표면에 근접하여 발생하는 기체중의 방전에서는 배경기체에 산소가 존재할 때, 고농도의 오존과 활성라디칼들이 생성되어 쉽게 물에 용해되어 오염물질 제거과정에 참여할 수 있는 것으로 알려져 있다.In addition, among the advanced water treatment technologies, water treatment technology using plasma is mainly used for removing harmful gases in the air environment field in the past as a low temperature plasma process, but unlike the conventional water treatment technology, it does not require chemical input, and the treatment process is simple, and the second pollution Recently, a new concept of water treatment technology has emerged as an advantage that does not occur, and discharges forming low temperature plasma include pulse streamer discharge, silent discharge, partial discharge, creepage discharge and corona discharge. Electric discharges for water pollutant treatment have been actively conducted in the United States, Japan, the Netherlands, the Czech Republic, Russia and Canada since the late 1980s. The generation of high voltage pulse discharges in water or on the surface initiates a variety of physical and chemical processes, producing UV, shock waves, and chemically active species such as H, O, OH, and H2O2. In the discharge of, it is known that when oxygen is present in the background gas, high concentrations of ozone and active radicals are generated and easily dissolved in water to participate in the process of removing pollutants.

현재, 수(水)처리를 위한 플라즈마 방전 기법은 너무도 많이 연구되어져 왔으며, 물에 플라즈마를 투입할 경우 매우 좋은 효과가 있다는 것은 이미 많은 학술적 실험으로 증명이 되어 그 가치를 인정받고 있다.At present, the plasma discharge technique for water treatment has been studied so much, and it is already proved by many academic experiments that it is very good effect when the plasma is added to the water has been recognized.

이와 관련된 종래의 기술로서 국내 공개특허 제10-2006-0124864호 "수중 플라즈마 방전장치 및 그것을 이용한 수중 방전방법"(2006.12.6. 공개), 국내 등록특허 제10-0924649호 "고밀도 수중 플라즈마 토치의 발생장치 및 방법"(2009.10.26. 등록) 등이 제안된 바 있으며, 상기의 종래 기술들은 본 명세서에 일체화된 것으로 본다.
In the related art, Korean Patent Publication No. 10-2006-0124864 "Underwater Plasma Discharge Apparatus and Submersible Discharge Method Using Them" (2006.12.6. Publication), Korean Patent No. 10-0924649 "Dense Underwater Plasma Torch Generation apparatus and method "(October 26, 2009) and the like have been proposed, and the above prior arts are considered to be incorporated herein.

일본 공개특허 소57-209616호 "자동역세식 스트레이너"(1982년 12월 23일 공개)Japanese Laid-Open Patent No. 57-209616 "Automatic Backwash Strainer" (published December 23, 1982) 국내 공개특허 제10-2006-0124864호 "수중 플라즈마 방전장치 및 그것을 이용한 수중 방전방법"(2006.12.6. 공개)Korean Patent Publication No. 10-2006-0124864 "Underwater Plasma Discharge Apparatus and Underwater Discharge Method Using the Same" (2006.12.6. Publication) 국내 등록특허 제10-0924649호 "고밀도 수중 플라즈마 토치의 발생장치 및 방법"(2009.10.26. 등록)Domestic Patent No. 10-0924649 "Generation device and method of high density underwater plasma torch" (2009.10.26. Registration)

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 필터링부재에 누적되는 이물질에 대하여 두 가지 유동을 동시에 가하여 많은 양의 이물질이 누적된 경우에도 이물질이 쉽게 필터링부재로부터 이탈될 수 있도록 하여 정기적인 보수 없이도 지속적인 사용이 가능하며, 아울러 1차로 비교적 큰 입자에 대하여 여과한 후 2차로 플라즈마 방전에 의한 유기물/무기물의 분해 및 세균의 사멸 처리가 가능한 여과장치를 제공하고자 한다.
The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, even when a large amount of foreign matter accumulated by applying two flows at the same time to the foreign matter accumulated in the filtering member can be easily separated from the filtering member. The present invention provides a filtration device that can be used continuously without regular maintenance, and can filter organic particles / minerals and kill bacteria by secondary plasma discharge after filtering on relatively large particles.

상기의 과제를 해결하기 위하여 본 발명은, 유입구가 형성되는 제1챔버 ; 유출구가 형성되는 제2챔버 ; 상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이에 마련되는 제3챔버 ; 상기 제1챔버와 상기 제3챔버를 구획하며 복수의 제1통과홀이 형성된 제1구획판 ; 상기 제2챔버와 상기 제3챔버를 구획하며 복수의 제2통과홀이 형성된 제2구획판 ; 상기 제3챔버 내부에 복수로 마련되되 일단이 상기 제1통과홀과 연통되게 마련되며 타단이 상기 제2통과홀과 연통되게 마련되며 타단부측 주면에는 상기 제3챔버와 연통되는 제3통과홀이 형성되는 내부 케이싱 ; 상기 내부 케이싱의 내면과 이격되며 마련되되 상기 내부 케이싱의 내부를 따라 상기 내부 케이싱과 동심으로 길게 마련되며 내부가 비어있는 형태이되 길이방향 일단이 상기 제2통과홀과 연통되게 마련되며 주면을 통하여 여과작용이 이루어지는 필터링부재 ; 상기 필터링부재의 길이방향 타단에 마련되어 상기 필터링 부재의 길이방향 타단을 막아주는 커버판 ; 상기 필터링부재의 내부를 따라 상기 필터링부재와 동심으로 길게 마련되며 상기 필터링부재의 주면과 이격되어 마련되는 접지관 ; 상기 접지관의 상단부와 상기 필터링부재의 상단부를 결합시키는 접지관 고정부재 ; 상기 접지관의 내부 중앙을 따라 마련되어 상기 접지관과 플라즈마 방전 반응을 일으키는 방전극 ; 상기 접지관과 상기 방전극에 플라즈마 방전 반응을 위한 전원을 인가하는 전원인가부 ; 상기 제1챔버에 회전가능하게 마련되어 상기 제1구획판의 복수의 제1통과홀 중 일부의 제1통과홀과 연통되는 드레인라인이 형성되며, 회전에 의하여 상기 드레인라인이 다른 제1통과홀과 연통될 수 있는 드레인부재 ; 상기 드레인부재가 회전되게 구동시키는 액츄에이터 ; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The present invention to solve the above problems, the first chamber is formed inlet; A second chamber in which an outlet is formed; A third chamber provided between the first chamber and the second chamber; A first partition plate partitioning the first chamber and the third chamber and having a plurality of first through holes formed therein; A second partition plate partitioning the second chamber and the third chamber and having a plurality of second through holes formed therein; A third passage hole is provided in plurality in the third chamber, one end of which is in communication with the first passage hole, the other end of which is in communication with the second passage hole, and the other end side surface of the third passage hole in communication with the third chamber. Inner casing is formed; The inner casing is spaced apart from the inner surface of the inner casing and is provided concentrically with the inner casing. The inner end is empty, and one end in the longitudinal direction is provided to communicate with the second through hole and is filtered through the main surface. Filtering member is made; A cover plate provided at the other end in the longitudinal direction of the filtering member to block the other end in the longitudinal direction of the filtering member; A ground pipe provided concentrically with the filtering member along the inside of the filtering member and spaced apart from a main surface of the filtering member; A ground pipe fixing member coupling an upper end of the ground pipe to an upper end of the filtering member; A discharge electrode provided along an inner center of the ground pipe to cause a plasma discharge reaction with the ground pipe; A power supply unit for supplying power for the plasma discharge reaction to the ground tube and the discharge electrode; A drain line rotatably provided in the first chamber to communicate with a first through hole of a portion of the plurality of first through holes of the first partition plate; A drain member capable of communicating; An actuator for driving the drain member to rotate; And a control unit.

상기에 있어서, 상기 내부 케이싱과 상기 필터링부재 사이에 코일 형태의 유로 안내 부재가 마련되는 것이 바람직하다.In the above, it is preferable that a flow path guide member in the form of a coil is provided between the inner casing and the filtering member.

상기에 있어서, 상기 방전극의 양단에 각각 마련되어 상기 방전극을 상기 접지관에 고정하는 절연재질의 방전극 고정부재가 마련되는 것이 바람직하다.
In the above, it is preferable that the discharge electrode fixing member made of an insulating material provided on both ends of the discharge electrode to fix the discharge electrode to the ground pipe.

상기와 같이 본 발명은, 필터링부재에 누적되는 이물질에 대하여 두 가지 유동을 동시에 가하여 많은 양의 이물질이 누적된 경우에도 이물질이 쉽게 필터링부재로부터 이탈될 수 있도록 하여 정기적인 보수 없이도 지속적인 사용이 가능하며, 아울러 1차로 비교적 큰 입자에 대하여 여과한 후 2차로 플라즈마 방전에 의한 유기물/무기물의 분해 및 세균의 사멸 처리가 가능한 여과장치를 제공하게 된다.
As described above, the present invention, by applying two flows to the foreign matter accumulated in the filtering member at the same time, even if a large amount of foreign matter accumulated so that the foreign matter can easily be separated from the filtering member can be used continuously without regular maintenance. In addition, the present invention provides a filtration apparatus capable of firstly filtering a relatively large particle and secondly decomposing organic matter / inorganic matter and killing bacteria by plasma discharge.

도 1은 본 발명에 의한 일 실시예인 여과장치의 개략 단면도,
도 2는 도 1의 제2구획판의 평면도,
도 3은 도 1의 내부 케이싱의 사시도,
도 4는 도 1의 내부 케이싱의 단면도,
도 5는 도 1의 필터링부재의 단면도,
도 6은 도 1의 필터링부재의 사시도,
도 7은 도 5에서 지지바와 여과링의 조립 상태를 보이는 개략 단면 사시도,
도 8은 도 1의 접지관 및 방전극 관련 구성의 단면도,
도 9는 도 8의 사시도,
도 10은 도 1의 작동 상태를 보이는 도면.
1 is a schematic cross-sectional view of a filtration device according to an embodiment of the present invention;
2 is a plan view of the second partition plate of FIG.
3 is a perspective view of the inner casing of FIG. 1, FIG.
4 is a cross-sectional view of the inner casing of FIG. 1, FIG.
5 is a cross-sectional view of the filtering member of FIG.
6 is a perspective view of the filtering member of FIG. 1, FIG.
Figure 7 is a schematic cross-sectional perspective view showing an assembly state of the support bar and the filtering ring in Figure 5,
8 is a cross-sectional view of the ground pipe and discharge electrode related configuration of FIG.
9 is a perspective view of FIG. 8;
10 is a view showing the operating state of FIG.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 부여하였다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention in the drawings, portions not related to the description are omitted, and like reference numerals are given to similar portions throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to "include" a certain component, it means that it can further include other components, except to exclude other components unless otherwise stated.

도 1은 본 발명에 의한 일 실시예인 여과장치의 개략 단면도이며, 도 2는 도 1의 제2구획판의 평면도이며, 도 3은 도 1의 내부 케이싱의 사시도이며, 도 4는 도 1의 내부 케이싱의 단면도이며, 도 5는 도 1의 필터링부재의 단면도이며, 도 6은 도 1의 필터링부재의 사시도이며, 도 7은 도 5에서 지지바와 여과링의 조립 상태를 보이는 개략 단면 사시도이며, 도 8은 도 1의 접지관 및 방전극 관련 구성의 단면도이며, 도 9는 도 8의 사시도이며, 도 10은 도 1의 작동 상태를 보이는 도면이다.1 is a schematic cross-sectional view of a filtration device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the second partition plate of FIG. 1, FIG. 3 is a perspective view of the inner casing of FIG. 1, and FIG. 4 is an interior of FIG. 1. 5 is a cross-sectional view of the filtering member of FIG. 1, FIG. 6 is a perspective view of the filtering member of FIG. 1, and FIG. 7 is a schematic cross-sectional perspective view showing an assembled state of the support bar and the filtering ring in FIG. 5, and FIG. 8 is a cross-sectional view of the ground tube and discharge electrode related configuration of FIG. 1, FIG. 9 is a perspective view of FIG. 8, FIG. 10 is a view showing the operating state of FIG.

본 실시예는 크게 케이싱(100), 제1챔버(110), 제2챔버(120), 제3챔버(130), 제1구획판(140), 제2구획판(150), 복수의 내부 케이싱(160), 필터링부재(170), 커버판(180), 드레인부재(190), 액츄에이터(200)로 이루어진다.This embodiment is largely the casing 100, the first chamber 110, the second chamber 120, the third chamber 130, the first partition plate 140, the second partition plate 150, a plurality of interior The casing 160, the filtering member 170, the cover plate 180, the drain member 190, and the actuator 200 are formed.

케이싱(100)의 내부에 제1챔버(110), 제2챔버(120), 제3챔버(130)가 각각 서로 구획되면서 형성된다. 케이싱(100)의 형태는 다양하게 변형될 수 있다.The first chamber 110, the second chamber 120, and the third chamber 130 are respectively partitioned inside the casing 100. The shape of the casing 100 may be variously modified.

제1챔버(110)에 처리 대상인 물이 유입되는 유입구(111)가 형성되어 있다.An inlet 111 through which water to be treated is introduced is formed in the first chamber 110.

아울러 제2챔버(120)에는 정화된 물, 즉 여과된 물이 배출되는 유출구(121)가 형성되어 있다.In addition, the second chamber 120 is formed with an outlet 121 through which purified water, that is, filtered water, is discharged.

제1챔버(110)와 제2챔버(120) 사이에 제3챔버(130)가 마련되어 있다.The third chamber 130 is provided between the first chamber 110 and the second chamber 120.

제1챔버(110)와 제3챔버(130)를 구획하기 위하여 제1구획판(140)이 마련된다.The first partition plate 140 is provided to partition the first chamber 110 and the third chamber 130.

제1구획판(140)에는 복수의 제1통과홀(141)(본 실시예에서는 4개의 제1통과홀(141))이 형성되어 있다.A plurality of first through holes 141 (four first through holes 141 in this embodiment) are formed in the first partition plate 140.

제2챔버(120)와 제3챔버(130)를 구획하기 위하여 제2구획판(150)이 마련된다.The second partition plate 150 is provided to partition the second chamber 120 and the third chamber 130.

제2구획판(150)에는 복수의 제2통과홀(151)(본 실시예에서는 4개의 제2통과홀(151))이 형성되어 있다.A plurality of second through holes 151 (four second through holes 151 in this embodiment) are formed in the second partition plate 150.

본 실시예에서 제1통과홀(141)과 제2통과홀(151)은 서로 마주보게 배치되며 서로 동일한 형태로 배치된다.In this embodiment, the first through hole 141 and the second through hole 151 are disposed to face each other and are disposed in the same form.

제3챔버(130) 내부에 복수의 내부 케이싱(160)이 마련된다.A plurality of inner casings 160 are provided in the third chamber 130.

내부 케이싱(160)은 각각의 제1통과홀(141)(혹은 각각의 제2통과홀(151))마다 마련된다. 즉 본 실시예에서 내부 케이싱(160)은 4개가 마련된다.The inner casing 160 is provided for each first through hole 141 (or each second through hole 151). That is, four inner casings 160 are provided in this embodiment.

내부 케이싱(160)은 일단이 제1구획판(140)에 고정되며, 아울러 타단이 제2구획판(150)에 고정된다.One end of the inner casing 160 is fixed to the first compartment plate 140, and the other end thereof is fixed to the second compartment plate 150.

각각의 내부 케이싱(160)은 일단이 제1통과홀(141)과 연통되게 마련되며 타단이 제2통과홀(151)과 연통되게 마련된다.Each inner casing 160 is provided so that one end is in communication with the first through hole 141 and the other end is in communication with the second through hole 151.

아울러 내부 케이싱(160)의 타단부측(즉 제2구획판(150)측) 주면에는 제3챔버(130)와 연통되는 복수의 제3통과홀(161)이 형성되어 있다.In addition, a plurality of third through holes 161 communicating with the third chamber 130 are formed on the main surface of the other end side of the inner casing 160 (ie, the second partition plate 150 side).

각각의 내부 케이싱(160)마다 필터링부재(170)가 마련된다.The filtering member 170 is provided for each inner casing 160.

본 실시예에서 각각의 필터링부재(170)는 플랜지(171), 복수의 지지바(172), 복수의 여과링(173)으로 이루어진다.In the present embodiment, each filtering member 170 includes a flange 171, a plurality of support bars 172, and a plurality of filtration rings 173.

지지바(172)는 내부 케이싱(160)의 길이 방향을 따라 길게 마련되며, 서로 평행하게 배치되며 아울러 이격되면서 배치된다.Support bar 172 is provided along the longitudinal direction of the inner casing 160, are arranged parallel to each other and are spaced apart.

복수의 지지바(172)에 복수의 여과링(173)이 고정된다.A plurality of filtration rings 173 are fixed to the plurality of support bars 172.

각각의 여과링(173)은 링 형태로서 복수의 지지바(172)에 고정된다.Each filtration ring 173 is fixed to the plurality of support bars 172 in the form of a ring.

본 실시예에서 여과링(173)의 단면은 삼각형 형태를 이룬다.In this embodiment, the cross section of the filtration ring 173 has a triangular shape.

아울러 복수의 여과링(173)은 지지바(172)의 길이방향을 따라 서로 이격되게 배치되어 여과공극을 형성한다. 즉 여과링(173)이 서로 이격된 공간이 여과공극으로 작용하게 된다.In addition, the plurality of filtration rings 173 are spaced apart from each other along the longitudinal direction of the support bar 172 to form a filtration void. That is, the spaces in which the filtration rings 173 are spaced apart from each other serve as filtration pores.

또한 복수의 여과링(173)들이 이격되게 배치되어 이룬 필터링부재(170)의 주면이 여과면을 이루게 되는 것이다.In addition, the main surface of the filtering member 170 formed by forming the plurality of filtration rings 173 are spaced apart to form a filtration surface.

아울러 지지바(172)의 일단에는 중공이 형성된 플랜지(171)가 결합되어 있다.In addition, one end of the support bar 172 is coupled to the flange 171 is formed hollow.

필터링부재(170)의 플랜지(171)는 제2구획판(150)의 제2통과홀(151)이 형성된 부위에 고정된다. The flange 171 of the filtering member 170 is fixed to a portion where the second through hole 151 of the second partition plate 150 is formed.

상기와 같이 필터링부재(170)는 길이방향 일단부(구체적으로는 플랜지(171))가 제2구획판(150)에 고정된다.As described above, the filtering member 170 has one end in the longitudinal direction (specifically, the flange 171) is fixed to the second partition plate 150.

아울러 필터링부재(170)의 여과면은 내부 케이싱(160)의 내면과 이격되며(구체적으로는 여과링(173)이 내부 케이싱(160)의 내면과 이격되며), 필터링부재(170)는 내부 케이싱(160)의 내부를 따라 내부 케이싱(160)과 동심으로 길게 마련된다.In addition, the filtering surface of the filtering member 170 is spaced apart from the inner surface of the inner casing 160 (specifically, the filtration ring 173 is spaced apart from the inner surface of the inner casing 160), the filtering member 170 is the inner casing Along the inside of the 160 is provided long concentric with the inner casing (160).

또한 필터링부재(170)는 내부가 비어있는 형태로서, 지지바(172)와 여과링(173)에 의하여 일종의 관 형태를 가진다.In addition, the filtering member 170 has a hollow shape, and has a kind of tube by the support bar 172 and the filtering ring 173.

또한 필터링부재(170)는 길이방향 일단이 제2통과홀(151)과 연통되게 마련되며 주면(본 실시예의 경우 여과링과 여과링 사이의 여과공극)을 통하여 여과작용이 이루어진다. 이와 같은 필터링부재(170)의 형태는 하나의 예시일 뿐이며 이에 한정되지 않는다.In addition, the filtering member 170 is provided so that the longitudinal end is in communication with the second through hole 151, and the filtering action is performed through the main surface (filtering gap between the filtering ring and the filtering ring in this embodiment). The shape of the filtering member 170 is just one example and is not limited thereto.

한편 필터링부재(170)의 길이방향 타단은 개방되어 있으며, 이 개방된 길이방향 타단에 커버판(180)이 장착되어 필터링 부재(170)의 길이방향 타단을 막아준다. 이에 의하여 필터링부재(170)의 주면으로만 유체가 유동할 수 있으며, 필터링부재(170)의 주면이 여과면으로 작용하게 된다.On the other hand, the other end of the longitudinal direction of the filtering member 170 is open, the cover plate 180 is mounted on the other end of the open longitudinal direction to prevent the other end of the longitudinal direction of the filtering member 170. As a result, the fluid may flow only to the main surface of the filtering member 170, and the main surface of the filtering member 170 serves as the filtering surface.

또한 내부 케이싱(160)과 필터링부재(170) 사이에는 코일 형태의 유로 안내 부재(162)가 마련되어 있다.In addition, a coil flow path guide member 162 is provided between the inner casing 160 and the filtering member 170.

본 실시예의 경우 코일 형태의 유로 안내 부재(162)가 내부 케이싱(160)의 내주면에 고정되어 있다.In this embodiment, the coil-shaped flow guide member 162 is fixed to the inner peripheral surface of the inner casing (160).

필터링부재(170)에 접지관 고정부재(311)를 매개하여 접지관(310)이 마련된다.The ground pipe 310 is provided to the filtering member 170 through the ground pipe fixing member 311.

접지관(310)은 필터링부재(170)의 내부를 따라 필터링부재(170)와 동심으로 길게 마련된다.The ground tube 310 is provided to be concentric with the filtering member 170 along the inside of the filtering member 170.

아울러 접지관(310)은 필터링부재(170)의 주면(여과면)과 이격되어 마련된다.In addition, the ground tube 310 is provided spaced apart from the main surface (filtration surface) of the filtering member 170.

접지관(310)의 외주면 상단부에는 접지관 고정부재(311)가 마련되며, 접지관 고정부재(311)에 의하여 접지관(310)이 필터링부재(170)에 고정 마련된다.A ground tube fixing member 311 is provided at an upper end of the outer circumferential surface of the ground tube 310, and the ground tube 310 is fixed to the filtering member 170 by the ground tube fixing member 311.

접지관 고정부재(311)는 접지관(310)을 필터링부재(170)에 고정시키는 역할을 할 뿐만 아니라, 필터링부재(170)와 접지관(310) 사이의 상부 공간의 유로를 차단하는 역할을 한다.The ground pipe fixing member 311 serves to fix the ground pipe 310 to the filtering member 170 as well as to block a flow path in the upper space between the filtering member 170 and the ground pipe 310. do.

접지관(310)과 플라즈마 방전 반응을 일으키도록 봉 형태의 방전극(320)이 마련된다.A rod-shaped discharge electrode 320 is provided to cause a plasma discharge reaction with the ground tube 310.

방전극(320)은 접지관(310)의 내부 중앙을 따라 배치된다.The discharge electrode 320 is disposed along the inner center of the ground tube 310.

아울러 접지관(310)과 방전극(320) 사이에는 처리 대상인 물이 지나가며, 접지관(310)과 방전극(320) 사이를 지나는 물은 접지관(310)과 방전극(320) 사이에서 발생하는 플라즈마 방전 반응에 의하여 미생물 내지 유기물이 사멸 내지 분해된다.In addition, water to be treated passes between the ground tube 310 and the discharge electrode 320, and water passing between the ground tube 310 and the discharge electrode 320 is plasma generated between the ground tube 310 and the discharge electrode 320. By the discharge reaction, microorganisms and organic matter are killed or decomposed.

아울러 접지관(310)과 방전극(320)에 전원을 인가하는 전원인가부(미도시)가 마련된다. 전원인가부(미도시)는 접지관(310)과 방전극(320) 사이에 플라즈마 방전 반응을 위한 전원을 인가하게 되며, 이때 접지관(310)과 방전극(320) 사이에는 20 ~ 40 KV범위의 전압이 인가된다.In addition, a power supply unit (not shown) for applying power to the ground tube 310 and the discharge electrode 320 is provided. The power supply unit (not shown) applies the power for the plasma discharge reaction between the ground tube 310 and the discharge electrode 320, wherein the ground tube 310 and the discharge electrode 320 in the range of 20 ~ 40 KV Voltage is applied.

한편 방전극(320)과 접지관(310)은 플라즈마의 생성을 위하여 서로 절연된 상태를 유지할 수 있어야 한다. 이를 위하여 방전극(320)의 양단부에는 바 형태의 방전극 고정부재(321)가 각각 마련되며, 방전극 고정부재(321)는 그 중앙부에 방전극(320)이 고정되는 한편, 그 양단부가 접지관(310)에 고정될 수 있는 구조를 가지며, 방전극 고정부재(321)는 절연재질로 이루어진다.Meanwhile, the discharge electrode 320 and the ground tube 310 should be insulated from each other to generate plasma. To this end, both ends of the discharge electrode 320 are provided with a bar-shaped discharge electrode fixing member 321, respectively, the discharge electrode fixing member 321 is fixed to the discharge electrode 320 in the center thereof, while both ends of the ground pipe 310 It has a structure that can be fixed to, the discharge electrode fixing member 321 is made of an insulating material.

본 실시예에서 방전극(320)의 양단에는 수나사가 형성되며, 방전극(320)의 양단에 방전극 고정부재(321)가 장착된 후, 상기 수나사에 고정너트(322)가 체결됨으로써 방전극(320)과 방전극 고정부재(321) 및 접지관(310)이 일체화된다.In this embodiment, male threads are formed at both ends of the discharge electrode 320, and the discharge electrode fixing member 321 is mounted at both ends of the discharge electrode 320, and then the fixing nut 322 is fastened to the male screw, thereby discharging the discharge electrode 320. The discharge electrode fixing member 321 and the ground tube 310 are integrated.

한편, 제1챔버(110)에는 드레인부재(190)가 마련된다.Meanwhile, the drain member 190 is provided in the first chamber 110.

드레인부재(190)는 제1챔버(110)에 회전가능하게 마련되며, 아울러 제1구획판(140)의 복수의 제1통과홀(141) 중 일부의 제1통과홀(141)과 연통되는 드레인라인(191)이 형성되어 있다. 본 실시예의 경우 드레인라인(191)은 4개의 제1통과홀(141) 중 하나의 제1통과홀(141)과 연통된다.The drain member 190 is rotatably provided in the first chamber 110, and communicates with some of the first through holes 141 of the plurality of first through holes 141 of the first partition plate 140. The drain line 191 is formed. In the present embodiment, the drain line 191 communicates with one of the four first through holes 141.

한편 드레인부재(190)의 회전에 의하여 드레인라인(191)은 다른 제1통과홀(141)과 연통될 수 있다.Meanwhile, the drain line 191 may communicate with another first through hole 141 by the rotation of the drain member 190.

따라서 본 실시예의 경우 드레인부재(190)가 4번 회전을 하게 되면 드레인라인(191)은 4개의 제1통과홀(141) 모두와 순차적으로 연통되게 된다.Therefore, in the present exemplary embodiment, when the drain member 190 rotates four times, the drain line 191 is sequentially communicated with all four first through holes 141.

아울러 드레인부재(190)를 회전 구동시키기 위하여 액츄에이터(200)가 마련된다.In addition, the actuator 200 is provided to rotate the drain member 190.

본 실시예의 경우 액츄에이터(200)는 케이싱(100)의 상부에 마련된다.In the present embodiment, the actuator 200 is provided on the casing 100.

아울러 액츄에이터(200)에 의하여 구동축(210)이 회전되며, 케이싱(100)의 내부 중앙을 따라 배치된 구동축(210)의 하단은 드레인부재(190)와 축결합되어 있다.In addition, the drive shaft 210 is rotated by the actuator 200, and the lower end of the drive shaft 210 disposed along the inner center of the casing 100 is axially coupled with the drain member 190.

또한 드레인부재(190)는 케이싱(100)의 하부 중앙에 고정 마련된 고정용 드레인배관(101)에 회전가능하게 장착된다.
In addition, the drain member 190 is rotatably mounted to the fixing drain pipe 101 is fixed to the lower center of the casing (100).

따라서 드레인라인(191)은 고정용 드레인배관(101)과 연통되며, 아울러 드레인부재(190)는 고정용 드레인배관(101)을 중심으로 회전가능하다.Therefore, the drain line 191 communicates with the fixing drain pipe 101, and the drain member 190 is rotatable about the fixing drain pipe 101.

이와 같은 액츄에이터 및 드레인부재 등의 구성은 종래 기술인 일본 특개소 57-209616호의 기술이 그대로 적용될 수도 있을 것이다.Such a configuration of the actuator, the drain member and the like may be applied as is the technique of Japanese Patent Laid-Open No. 57-209616.

상기와 같이 본 실시예는 드레인부재(190)의 연속 회전에 의하여 모든 필터링부재(170)의 세척이 가능하게 된다.As described above, in this embodiment, all the filtering members 170 may be washed by the continuous rotation of the drain member 190.

한편 본 실시예에서 부재와 부재가 결합되는 부위 등에는 수밀 등을 위하여 패킹, 가스켓 등이 장착될 수 있으며, 아울러 부재와 부재를 결합하기 위하여 볼트 및 너트 등이 채택될 수 있지만, 이러한 구성은 매우 일반화된 것이므로 별도의 설명을 생략하며 아울러 도면에서도 표시하지 않았다.
On the other hand, in the present embodiment, the parts and the like where the member is coupled may be equipped with a packing, a gasket, etc. for watertightness, etc. In addition, bolts and nuts may be adopted to join the member and the member, but such a configuration is very Since it is generalized, a separate description is omitted and also not shown in the drawings.

본 실시예의 작용을 도 10을 참조하여 설명한다.The operation of this embodiment will be described with reference to FIG.

먼저 여과작용을 설명한다.First, the filtration is explained.

유입구(111)를 통하여 처리대상인 물이 제1챔버(110)로 유입된다.Water to be treated is introduced into the first chamber 110 through the inlet 111.

제1챔버(110)로 유입된 물은 제1구획판(140)의 제1통과홀(141)을 통과한 후 내부 케이싱(160)과 필터링부재(170)의 여과면 사이로 유입되어 내부 케이싱(160)의 제3통과홀(161)을 지나 제3챔버(130)로 유입(유동 A)된다.The water introduced into the first chamber 110 passes through the first through hole 141 of the first partition plate 140 and then flows between the inner casing 160 and the filtration surface of the filtering member 170 to allow the inner casing ( Passing through the third passage hole 161 of 160, the third chamber 130 is introduced (flow A).

제3챔버(130)는 밀폐된 공간이므로, 내부에 물이 가득 차면 더이상 제3챔버(130)로의 유입은 발생하지 않는다. 그러나 아래에서 서술하는 유동 D에 의하여 유동 A는 지속적으로 혹은 간헐적으로 발생하게 된다.Since the third chamber 130 is an enclosed space, when water is filled inside, the third chamber 130 no longer flows into the third chamber 130. However, flow A described below causes flow A to occur continuously or intermittently.

따라서 내부 케이싱(160)과 필터링부재(170) 사이에 위치한 물은 필터링부재(170)의 여과면을 거쳐 필터링부재(170)의 내부로 유입(유동 B)되면서 여과된다.Therefore, the water located between the inner casing 160 and the filtering member 170 is filtered while flowing (flow B) into the filtering member 170 through the filtering surface of the filtering member 170.

즉 여과링(173)과 여과링(173) 사이의 여과공극을 거쳐 물이 필터링부재(170) 내부로 유입되며, 이물질은 여과링(173)과 여과링(173) 사이의 여과공극에 의하여 여과되면서 누적된다.That is, water is introduced into the filtering member 170 through the filtration gap between the filtration ring 173 and the filtration ring 173, and foreign matter is filtered by the filtration gap between the filtration ring 173 and the filtration ring 173. Accumulate

필터링부재(170) 내부로 유입된 물, 즉 정화수는 접지관(310)의 내부로 유입되어 접지관(310)과 방전극(320) 사이에서 발생하는 플라즈마 방전 반응에 의하여 잔여 유기물/무기물 내지 세균에 대한 분해/소멸이 이루어진다.Water introduced into the filtering member 170, that is, purified water is introduced into the ground tube 310 to the remaining organic matter / inorganic substances or bacteria by a plasma discharge reaction generated between the ground tube 310 and the discharge electrode 320. Disintegration / disappearance occurs.

이후 접지관(310)을 지난 정화수는 제2통과홀(151)을 지나 제2챔버(120)로 유입된 후 유출구(121)로 빠져나가게 된다.Thereafter, the purified water passing through the ground tube 310 passes through the second passage hole 151 to the second chamber 120 and then exits to the outlet 121.

상기와 같은 여과작용은 드레인부재(190)의 드레인라인(191)과 연통되지 않은 제1통과홀(141)에서 발생한다. 본 실시예에서 도 1의 좌측에 위치한 필터링부재(170)는 여과작용이 발생한다.Such filtration occurs in the first passage hole 141 that is not in communication with the drain line 191 of the drain member 190. In the present embodiment, the filtering member 170 located on the left side of FIG. 1 generates a filtration action.

즉 본 실시예는 여과 작용에 의하여 비교적 큰 입자의 이물질 내지 미생물을 여과한 후, 플라즈마 방전 반응에 의하여 비교적 작은 입자의 이물질 내지 미생물을 분해 내지 사멸시키고 있음을 알 수 있다.
That is, in the present embodiment, it is understood that foreign matters or microorganisms of relatively large particles are filtered and then decomposed or killed by relatively small particles or foreign matters by a plasma discharge reaction.

다음으로 필터링부재의 세척 작용을 설명한다.Next, the washing action of the filtering member will be described.

필터링부재의 세척 작용은 드레인부재(190)의 드레인라인(191)과 연통된 제1통과홀(141)에서 발생한다. 본 실시예에서 도 1의 우측에 위치한 필터링부재(170)는 세척작용이 발생한다.The cleaning action of the filtering member occurs in the first through hole 141 communicating with the drain line 191 of the drain member 190. In the present embodiment, the filtering member 170 located on the right side of FIG. 1 has a washing action.

세척작용이 일어나는 경우에도 제1챔버(110), 제2챔버(120), 제3챔버(130)는 물이 가득차 있는 상태이며, 아울러 유입구(111)를 통하여 정화 대상인 물이 계속 유입되고 있다.Even when a washing operation occurs, the first chamber 110, the second chamber 120, and the third chamber 130 are filled with water, and water to be purified continues to flow through the inlet 111.

먼저 세척 작용을 위한 제1유동(유동 C)을 설명한다.First, the first flow (flow C) for the washing action will be described.

제2챔버(120)의 물은 제2통과홀(151)을 지나 접지관(310)의 내부를 지나 필터링부재(170)의 내부에 유입되며, 이후 필터링부재(170)의 여과공극을 지나면서(유동 C) 여과공극에 누적된 이물질을 이탈시키게 된다. The water of the second chamber 120 passes through the second through hole 151, passes through the inside of the ground pipe 310, and flows into the inside of the filtering member 170, and then passes through the filtration pores of the filtering member 170. (Flow C) foreign matter accumulated in the filter pores is released.

이후 이물질과 세척용 물은 제1통과홀(141)을 지나 드레인라인(191)으로 유입된 후 고정용 드레인배관(101)을 통하여 외부로 배출된다.Thereafter, the foreign matter and the water for washing are introduced into the drain line 191 through the first through hole 141 and then discharged to the outside through the fixing drain pipe 101.

이러한 세척 작용을 위한 제1유동(유동 C)은 종래의 역세와 유사한 면이 있다.The first flow (flow C) for this washing action is similar to conventional backwashing.

한편 세척 작용을 위한 제2유동(유동 D)을 설명한다.Meanwhile, the second flow (flow D) for the washing action will be described.

제3챔버(130)의 물이 제3통과홀(161)을 지나 내부 케이싱(160)의 내부 상부로 유입(유동 D)된다. Water of the third chamber 130 flows into the upper portion of the inner casing 160 through the third through hole 161 (flow D).

내부 케이싱(160)의 내부 상부로 유입된 물은 제1통과홀(141)을 지나 드레인라인(191)으로 유입된 후 고정용 드레인배관(101)을 통하여 외부로 배출된다.Water introduced into the inner upper portion of the inner casing 160 flows into the drain line 191 after passing through the first through hole 141 and is discharged to the outside through the fixing drain pipe 101.

이때 내부 케이싱(160)의 제3통과홀(161)부터 제1통과홀(141)을 지나는 물은 매우 빠른 유속을 가지게 된다. 왜냐하면 제3챔버(130) 내부는 다른 내부 케이싱(160)의 제3통과홀(161)로부터 유입되는 물로 인하여 지속적으로 압력이 상승하며, 이 압력에 의하여 내부 케이싱(160)의 제3통과홀(161)로 빠져나가려는 흐름이 발생하기 때문이다.At this time, the water passing from the third through hole 161 to the first through hole 141 of the inner casing 160 has a very fast flow rate. Because the pressure inside the third chamber 130 is continuously increased due to the water flowing from the third through hole 161 of the other inner casing 160, by this pressure the third through hole of the inner casing 160 ( 161) flows to exit.

또한 내부 케이싱(160)과 필터링부재(170) 사이에 마련되는 코일 형태의 유로 안내 부재(162)는, 이동하는 물의 회전을 유발하며 아울러 필터링부재(170)의 여과면 중 거의 모든 면이 회전되는 물에 영향을 받도록 한다.In addition, the coil-shaped flow path guide member 162 provided between the inner casing 160 and the filtering member 170 causes rotation of moving water, and almost all surfaces of the filtering surface of the filtering member 170 are rotated. Be affected by water.

따라서 이러한 세척 작용을 위한 제2유동으로 인하여 많은 양이 누적된 이물질의 경우에도 쉽게 필터링부재(170)로부터 이탈된다. Therefore, the second flow for the washing action is easily separated from the filtering member 170 even in the case of a large amount of accumulated foreign matter.

제2유동의 장점은, 이물질의 누적된 양이 많을수록 제2유동으로부터 보다 많은 이탈력을 받게 된다는 점이다. 즉 이물질이 제2유동으로부터 받는 저항은 이물질의 유로 면적과 비례 관계를 가진다.The advantage of the second flow is that the greater the cumulative amount of foreign matter, the greater the release force from the second flow. That is, the resistance that the foreign material receives from the second flow has a proportional relationship with the flow area of the foreign material.

이에 반하여 제1유동의 경우 여과공극에 비례하는 이탈력을 이물질에 제공할 수 있는 반면, 이물질의 누적된 양이 많을 수록 이물질의 고착력이 상승하기 때문에 실질적으로 이물질의 누적된 양이 많을 경우 이물질이 이탈할 가능성이 작아진다.On the other hand, in the case of the first flow, it is possible to provide the foreign body with a detachment force proportional to the filtration pores, while the larger the accumulated amount of foreign matter, the higher the adhesion force of the foreign matter increases. The likelihood of this deviation is reduced.

그러나 제2유동은 이물질의 누적된 양이 많은수록 이물질에 대하여 보다 많은 이탈력을 제공할 수 있게 된다.However, in the second flow, the greater the accumulated amount of foreign matter, the more the separation force can be provided for the foreign matter.

상기와 같이 본 장치는 제1유동과 제2유동의 조합에 의하여 이물질을 이탈시키므로 이물질이 누적 및 성장하지 않게 되어 여과장치의 장시간 사용에도 지속적인 사용이 가능하게 된다.
As described above, since the apparatus separates foreign substances by the combination of the first flow and the second flow, the foreign substances do not accumulate and grow, and thus the continuous use is possible even for a long time use of the filtration apparatus.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것일 뿐 한정적이 아닌 것으로 이해되어야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The foregoing description of the present invention is intended for illustration, and it will be understood by those skilled in the art that the present invention may be easily modified in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the embodiments described above are intended to be illustrative, but not limiting, in all respects. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.

100 : 케이싱 101 : 고정용 드레인배관
110 : 제1챔버 111 : 유입구
120 : 제2챔버 121 : 유출구
130 : 제3챔버
140 : 제1구획판 141 : 제1통과홀
150 : 제2구획판 151 : 제2통과홀
160 : 내부 케이싱
161 : 제3통과홀 162 : 유로 안내 부재
170 : 필터링부재 171 : 플랜지
172 : 지지바 173 : 여과링
180 : 커버판
190 : 드레인부재 191 : 드레인라인
200 : 액츄에이터 210 : 구동축
310 : 접지관 320 : 방전극
100: casing 101: fixing drain pipe
110: first chamber 111: inlet
120: second chamber 121: outlet
130: third chamber
140: first compartment 141: first passage hole
150: second compartment 151: second passage hole
160: inner casing
161: third passage hole 162: flow guide member
170: filtering member 171: flange
172: support bar 173: filtration ring
180: cover plate
190: drain member 191: drain line
200: actuator 210: drive shaft
310: grounding tube 320: discharge electrode

Claims (3)

유입구가 형성되는 제1챔버 ;
유출구가 형성되는 제2챔버 ;
상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이에 마련되는 제3챔버 ;
상기 제1챔버와 상기 제3챔버를 구획하며 복수의 제1통과홀이 형성된 제1구획판 ;
상기 제2챔버와 상기 제3챔버를 구획하며 복수의 제2통과홀이 형성된 제2구획판 ;
상기 제3챔버 내부에 복수로 마련되되 일단이 상기 제1통과홀과 연통되게 마련되며 타단이 상기 제2통과홀과 연통되게 마련되며 타단부측 주면에는 상기 제3챔버와 연통되는 제3통과홀이 형성되는 내부 케이싱 ;
상기 내부 케이싱의 내면과 이격되며 마련되되 상기 내부 케이싱의 내부를 따라 상기 내부 케이싱과 동심으로 길게 마련되며 내부가 비어있는 형태이되 길이방향 일단이 상기 제2통과홀과 연통되게 마련되며 주면을 통하여 여과작용이 이루어지는 필터링부재 ;
상기 필터링부재의 길이방향 타단에 마련되어 상기 필터링 부재의 길이방향 타단을 막아주는 커버판 ;
상기 필터링부재의 내부를 따라 상기 필터링부재와 동심으로 길게 마련되며 상기 필터링부재의 주면과 이격되어 마련되는 접지관 ;
상기 접지관의 상단부와 상기 필터링부재의 상단부를 결합시키는 접지관 고정부재 ;
상기 접지관의 내부 중앙을 따라 마련되어 상기 접지관과 플라즈마 방전 반응을 일으키는 방전극 ;
상기 접지관과 상기 방전극에 플라즈마 방전 반응을 위한 전원을 인가하는 전원인가부 ;
상기 제1챔버에 회전가능하게 마련되어 상기 제1구획판의 복수의 제1통과홀 중 일부의 제1통과홀과 연통되는 드레인라인이 형성되며, 회전에 의하여 상기 드레인라인이 다른 제1통과홀과 연통될 수 있는 드레인부재 ;
상기 드레인부재가 회전되게 구동시키는 액츄에이터 ;
를 포함하여 이루어지며,
여과시 상기 내부 케이싱과 상기 필터링부재 사이에 위치한 물이 상기 필터링부재의 여과면을 지나면서 상기 필터링부재의 내부로 유입되어 상기 필터링부재의 여과면에 이물질이 누적되며,
세척시 상기 필터링부재 내부에 위치한 물이 상기 필터링부재의 여과면을 지나 상기 필터링부재의 외부로 유동하는 제1유동과 상기 제3챔버의 물이 상기 제3통과홀을 지나 상기 내부 케이싱과 상기 필터링부재 사이를 지나는 제2유동에 의하여 상기 필터링부재의 여과면에 누적된 이물질이 이탈되는 것
을 특징으로 하는 자동세척기능 및 플라즈마 방전 기능을 가지는 연속 회전식 여과장치.
A first chamber in which an inlet is formed;
A second chamber in which an outlet is formed;
A third chamber provided between the first chamber and the second chamber;
A first partition plate partitioning the first chamber and the third chamber and having a plurality of first through holes formed therein;
A second partition plate partitioning the second chamber and the third chamber and having a plurality of second through holes formed therein;
A third passage hole is provided in plurality in the third chamber, one end of which is in communication with the first through hole, the other end of which is in communication with the second passage hole, and the other end side surface of the third passage hole in communication with the third chamber. Inner casing is formed;
The inner casing is spaced apart from the inner surface of the inner casing and is provided concentrically with the inner casing. The inner end is empty, and one end in the longitudinal direction is provided to communicate with the second through hole and is filtered through the main surface. Filtering member is made;
A cover plate provided at the other end in the longitudinal direction of the filtering member to block the other end in the longitudinal direction of the filtering member;
A ground pipe provided concentrically with the filtering member along the inside of the filtering member and spaced apart from a main surface of the filtering member;
A ground pipe fixing member coupling an upper end of the ground pipe to an upper end of the filtering member;
A discharge electrode provided along an inner center of the ground pipe to cause a plasma discharge reaction with the ground pipe;
A power supply unit for supplying power for the plasma discharge reaction to the ground tube and the discharge electrode;
A drain line rotatably provided in the first chamber to communicate with a first through hole of a portion of the plurality of first through holes of the first partition plate; A drain member capable of communicating;
An actuator for driving the drain member to rotate;
And,
During filtration, water located between the inner casing and the filtering member flows into the filtering member while passing through the filtering surface of the filtering member, and foreign matter accumulates on the filtering surface of the filtering member.
The first flow and the third chamber of the water flows through the filtering surface of the filtering member to the outside of the filtering member during the washing, the water of the third chamber passes through the third passage hole and the inner casing and the filtering The foreign matter accumulated on the filtering surface of the filtering member is separated by the second flow passing between the members
Continuous rotary filtration device having an automatic washing function and a plasma discharge function.
제 1 항에 있어서,
상기 내부 케이싱과 상기 필터링부재 사이에 코일 형태의 유로 안내 부재가 마련되는 것을 특징으로 하는 자동세척기능 및 플라즈마 방전 기능을 가지는 연속 회전식 여과장치.
The method of claim 1,
A continuous rotary filtration device having an automatic washing function and a plasma discharge function, wherein a flow path guide member in the form of a coil is provided between the inner casing and the filtering member.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 방전극의 양단에 각각 마련되어 상기 방전극을 상기 접지관에 고정하는 절연재질의 방전극 고정부재가 마련되는 것을 특징으로 하는 자동세척기능 및 플라즈마 방전 기능을 가지는 연속 회전식 여과장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
A continuous rotary filtration device having an automatic washing function and a plasma discharge function, each of which is provided at both ends of the discharge electrode and has a discharge electrode fixing member made of an insulating material for fixing the discharge electrode to the ground pipe.
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