KR101243385B1 - Testing device of semiconductor device improving the accuracy - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치에 관한 것으로서, 특히 회로 구성 시 각각의 테스트 대상 장치(Device Under Test; 이하 ‘DUT’라고 함)의 그라운드(GND)를 보상하여 정확도를 개선하도록 한 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a semiconductor test apparatus with improved accuracy. In particular, the present invention relates to a semiconductor test apparatus that compensates the ground (GND) of each device under test (hereinafter referred to as a 'DUT') to improve accuracy. It is related with the improved semiconductor test apparatus.
일반적으로 반도체 시험 장치는, DUT에 인가되는 전원전압을 만들어 주는 전원전압 생성 모듈인 프로그램 가능한 전원(Programmable Power Supply; 이하 ‘PPS’라고 함), 전력을 증폭시켜 PPS에 입력하는 전력 증폭기(Power Amplifier), 및 전압 증폭을 위하여 통상적으로 사용되는 연산 증폭기(Operational Amplifier; 이하 ‘OP AMP’라고 함)를 포함하여 구성된다.
In general, a semiconductor test apparatus includes a programmable power supply (hereinafter, referred to as a 'PPS'), a power supply voltage generation module that generates a power supply voltage applied to a DUT, and a power amplifier that amplifies and inputs the power to the PPS. ), And an operational amplifier (hereinafter, referred to as an "OP AMP") commonly used for voltage amplification.
기존의 반도체 시험 장치는 설계 시 필요 DUT의 수를 고려하여 PPS의 채널(channel) 수를 선정하게 되는데, 이 경우 채널의 수를 확장하는 개념을 대입할 경우에는 PPS 채널수의 부족 현상이 발생하게 된다.
The existing semiconductor test apparatus selects the number of channels of the PPS in consideration of the number of DUTs required in the design. In this case, if the concept of extending the number of channels is substituted, the shortage of the number of PPS channels may occur. do.
이러한 문제점을 해결하기 위하여 종래에는 외부적으로 PPS 채널 증가를 위한 보드(board)를 설계하였다. 그러나 각각의 장치 특정 어댑터(Device Specific Adaptor; 이하 ‘DSA’라고 함) 또는 소켓 보드(Socket Board)에 대한 그라운드(GND)의 차이로 인하여 PPS의 정확도가 심하게 틀어지는 현상이 발생하였다. 이때 틀어지는 수치는 크게는 수십 ㎽에 이른다.
In order to solve this problem, a board for externally increasing a PPS channel has been designed. However, due to the difference in the ground (GND) for each device specific adapter (hereinafter referred to as 'DSA') or a socket board, the accuracy of the PPS is severely distorted. At this time, the figures are largely dozens of ㎽.
또한, 종래 사용되던 반도체 시험 장치는 HGND가 1개 내지 2개에 불과하여 소켓 보드 간의 편차를 보상할 수 없는 구조인 바, PPS의 정확도를 높이지 못하는 문제점이 있었다.In addition, the semiconductor test apparatus used in the prior art is a structure that can not compensate for the deviation between the socket board because only one or two HGND, there is a problem that does not increase the accuracy of the PPS.
본 발명은 기존에 제안된 방법들의 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 사용자가 시험을 위하여 설정하거나 또는 미리 설정된 설정(SET) 전압 외에 HGND 전압과 DUT GND 전압도 함께 입력하여 사용함으로써, 각 DSA의 GND를 입력받아 정확도를 향상시키는 회로를 구현하도록 하는 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
The present invention has been proposed to solve the above problems of the conventionally proposed methods, by setting the user for the test or by using the HGND voltage and the DUT GND voltage in addition to the preset SET voltage, It is an object of the present invention to provide a semiconductor test apparatus having an improved accuracy for receiving a GND of each DSA to implement a circuit for improving accuracy.
또한, 본 발명은, 종래의 반도체 시험 장치에 사용되는 SW 또는 EWS(Engineer Work Station)를 적용할 수 없는 환경에서 HGND 전압과 DUT GND 전압의 차이를 극복하여, 모든 DSA의 PPS 전압 정밀도를 향상시킬 수 있는 대안으로서, 가격 대비 성능 면에서 탁월한 면을 보일 수 있는 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.In addition, the present invention overcomes the difference between the HGND voltage and the DUT GND voltage in an environment where SW or EWS (Engineer Work Station), which is used in a conventional semiconductor test apparatus, cannot be applied, thereby improving PPS voltage accuracy of all DSAs. As an alternative, it is another object of the present invention to provide a semiconductor test apparatus with improved accuracy that can be excellent in price / performance.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른, 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치는,According to a feature of the present invention for achieving the above object, a semiconductor test device having improved accuracy,
테스트 대상 장치(Device Under Test; 이하 ‘DUT’라고 함)에 인가되는 전원전압을 생성하는 전원전압 생성 모듈; 및A power supply voltage generation module configured to generate a power supply voltage applied to a device under test (hereinafter, referred to as a “DUT”); And
전압과 전력을 증폭하여 상기 전원전압 생성 모듈에 공급하는 증폭 모듈을 포함하되,Including an amplification module for amplifying a voltage and power supply to the power supply voltage generation module,
상기 증폭 모듈은, 대표 그라운드인 HGND의 전압, 사용자가 시험을 위하여 설정하거나 또는 미리 설정된 설정(SET) 전압, 및 상기 DUT의 그라운드인 DUT GND의 전압을 모두 입력받아 증폭함으로써, DUT GND에 대한 보상을 통해 정확한 전압을 상기 전원전압 생성 모듈에 공급하는 것을 그 구성상의 특징으로 한다.
The amplification module compensates for the DUT GND by receiving and amplifying all the voltages of the HGND which is the representative ground, the set or preset voltage set by the user, and the voltage of the DUT GND which is the ground of the DUT. Through the supply of the correct voltage to the power supply voltage generation module is characterized by its configuration.
바람직하게는, 상기 전원전압 생성 모듈은,Preferably, the power supply voltage generation module,
프로그램 가능한 전원(Programmable Power Supply; 이하 ‘PPS’라고 함)을 포함할 수 있다.
It may include a programmable power supply (hereinafter, referred to as a 'PPS').
바람직하게는, 상기 증폭 모듈은,Preferably, the amplification module,
전력을 증폭하여 상기 전원전압 생성 모듈에 공급하는 전력 증폭기(Power Amplifier); 및A power amplifier for amplifying and supplying power to the power supply voltage generation module; And
전압을 증폭하여 상기 전력 증폭기에 입력하는 연산 증폭기(Operational Amplifier; 이하 ‘OP AMP’라고 함)를 포함할 수 있다.
It may include an operational amplifier (hereinafter referred to as "OP AMP") to amplify a voltage and input it to the power amplifier.
더욱 바람직하게는, 상기 OP AMP는,More preferably, the OP AMP is,
반전 입력단자에 상기 HGND 전압과 상기 DUT로부터의 피드백(feedback) 전압이 입력되며, 비반전 입력단자에 상기 설정(SET) 전압과 상기 DUT GND 전압이 입력될 수 있다.
The HGND voltage and the feedback voltage from the DUT may be input to an inverting input terminal, and the SET voltage and the DUT GND voltage may be input to a non-inverting input terminal.
더더욱 바람직하게는,Even more preferably,
상기 OP AMP에 전압이 입력되는 도선에는 저항이 연결되어 전류를 조절할 수 있다.A resistor is connected to the conductive line through which the voltage is input to the OP AMP to adjust the current.
본 발명에서 제안하고 있는 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치에 따르면, 사용자가 시험을 위하여 설정하거나 또는 미리 설정된 설정 전압 외에 HGND 전압과 DUT GND 전압도 함께 입력하여 사용함으로써, 각각의 DSA의 GND를 입력받아 정확도를 향상시킨 회로를 구현할 수 있다.
According to the semiconductor test apparatus which improves the accuracy proposed by the present invention, the user receives the GND of each DSA by using the HGND voltage and the DUT GND voltage in addition to the preset voltage or the preset voltage. Implement circuits with improved accuracy.
또한, 본 발명에 따르면, 종래의 반도체 시험 장치에 사용되는 SW 또는 EWS(Engineer Work Station)를 적용할 수 없는 환경에서 HGND 전압과 DUT GND 전압의 차이를 극복하여, 모든 DSA의 전원전압 생성 모듈의 전압 정밀도를 향상시킬 수 있는 대안으로서, 가격 대비 성능 면에서 탁월한 면을 보일 수 있다.In addition, according to the present invention, by overcoming the difference between the HGND voltage and the DUT GND voltage in an environment where SW or EWS (Engineer Work Station) used in the conventional semiconductor test apparatus is not applicable, As an alternative to improve the voltage accuracy, it can be excellent in terms of price / performance.
도 1은 기존의 반도체 시험 장치의 구성을 도시한 도면.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치의 구성을 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치에서의 프로세스 순서도.
도 4는 전압과 전력이 증폭되는 단계(S200)의 세부 흐름도.1 is a diagram illustrating a configuration of a conventional semiconductor test apparatus.
2 is a diagram illustrating a configuration of a semiconductor test apparatus having improved accuracy according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 is a process flowchart of a semiconductor test apparatus having improved accuracy according to an embodiment of the present invention.
4 is a detailed flowchart of the step (S200) of amplifying voltage and power.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, in order that those skilled in the art can easily carry out the present invention. In the following detailed description of the preferred embodiments of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. In the drawings, like reference numerals are used throughout the drawings.
덧붙여, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 ‘연결’ 되어 있다고 할 때, 이는 ‘직접적으로 연결’ 되어 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 ‘간접적으로 연결’ 되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성요소를 ‘포함’ 한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
In addition, in the entire specification, when a part is referred to as being 'connected' to another part, it may be referred to as 'indirectly connected' not only with 'directly connected' . In addition, the term 'comprising' of an element means that the element may further include other elements, not to exclude other elements unless specifically stated otherwise.
도 1은 기존의 반도체 시험 장치의 구성을 도시한 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 기존의 반도체 시험 장치(10)는, 테스트 대상 장치인 DUT(300)에 인가되는 전원전압을 생성하는 전원전압 생성 모듈(200), 및 전력을 증폭시켜 전원전압생성 모듈(200)에 입력하는 전력 증폭기(Power Amplifier)(130)와 전압 증폭을 위하여 통상적으로 사용되는 연산 증폭기(OP AMP)(110)로 구성된 증폭 모듈(100)을 포함하여 구성된다. 이 경우, OP AMP(110)의 반전 입력단자에는 DUT(300)로부터의 피드백 전압, 즉 DUT의 대표 GND(HGND) 전압이 입력되며, 비반전 입력단자에는 사용자가 시험을 위하여 설정하거나 또는 미리 설정된 설정(SET) 전압만을 입력하여 사용하여 왔다. 그 결과, 종래 기술에서는 각 DSA의 GND를 보상할 수 없으므로 인해 전원전압 생성 모듈(200)로 주로 사용되는 PPS(도시하지 않음)의 정확도가 심하게 틀어지는 문제점이 있었다.
1 is a diagram illustrating a configuration of a conventional semiconductor test apparatus. As illustrated in FIG. 1, the conventional
이를 해결하기 위하여, 본 발명에서는 OP AMP(110)에 설정 전압만을 입력하는 것이 아니라, 대표 GND인 HGND 전압과 테스트 대상 장치(DUT)의 GND인 DUT GND 전압을 함께 입력하여 이용한다. 본 발명에 대하여, 도 2와 도 3을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
In order to solve this problem, the present invention not only inputs a set voltage to the
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치의 구성을 도시한 도면이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치(20)는, 테스트 대상 장치인 DUT(300)에 인가되는 전원전압을 생성하는 전원전압 생성 모듈(200), 및 전압과 전력을 증폭하여 전원전압 생성 모듈(200)에 공급하는 증폭 모듈(100)로 구성될 수 있다.
2 is a diagram illustrating a configuration of a semiconductor test apparatus having improved accuracy according to an exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the
전원전압 생성 모듈(200)은, 증폭 모듈(100)로부터의 전기신호를 입력받아 DUT(300)에 인가하기 위한 전원전압을 생성하는 장치이다. 전원전압 생성 모듈(200)은 PPS(도시하지 않음)를 포함할 수 있으며, 증폭 모듈(100)로부터 전기신호를 입력받아 PPS를 통하여 정확도가 높은 전압을 DUT(300)에 인가하는 것이 가능하다.
The power supply
증폭 모듈(100)은, 전압을 증폭하는 OP AMP(110)와 전력을 증폭하는 전력 증폭기(Power Amplifier)(130)로 구성될 수 있다. 이때 사용될 수 있는 OP AMP(110)는 양전원 OP AMP로 한정되지 않으며, 단전원 OP AMP의 사용도 가능하다.
The
연산 증폭기(OP AMP)(110)는, 사용자가 시험을 위하여 설정하거나 또는 미리 설정된 설정(SET) 전압과, 대표 GND인 HGND 전압과 테스트 대상 장치의 GND인 DUT GND 전압을 모두 입력받을 수 있다. 이 경우, DUT GND 전압과 SET 전압은 OP AMP(110)의 비반전 입력단자에 입력될 수 있고, HGND 전압은 반전 입력단자에 입력될 수 있다. 또한, DUT(300)로부터의 피드백 전압이 OP AMP(110)의 반전 입력단자에 입력될 수 있다. 이때, OP AMP(110)에 전압이 입력되는 도선에는 저항이 연결되어 전류를 조절할 수 있다. HGND 전압과 DUT GND 전압을 함께 입력받아 사용함으로써 정확도 높은 전압을 DUT(300)에 인가하는 원리는, 추후 예시를 통하여 상세히 설명하도록 한다.
The operational amplifier (OP AMP) 110 may receive both a preset or preset voltage set by the user for a test, a HGND voltage that is a representative GND, and a DUT GND voltage that is a GND of a test target device. In this case, the DUT GND voltage and the SET voltage may be input to the non-inverting input terminal of the
전력 증폭기(Power Amplifier)(130)는, 전력을 증폭하는 장치로서, OP AMP(110)를 통하여 전압이 증폭된 전기신호의 전력을 증폭할 수 있다. 증폭된 전압과 전력을 갖는 전기신호는 전원전압 생성 모듈(200)에서 사용될 수 있다. 물론, 증폭 모듈(100)은 OP AMP(110)와 Power Amplifier(130)로 구성이 한정되지 않으며, 전압과 전력을 증폭하는 역할을 할 수만 있다면 어떠한 장치라도 모두 포함될 수 있다.
The
테스트 대상 장치인 DUT(300)는, 시험을 위하여 전원전압 생성 모듈(200)로부터 전원전압을 입력받는다. 입력받는 전압에 따라 DUT(300)의 성능, 이상 유무 등을 파악할 수 있으며, 전원전압 생성 모듈(200)이 정확도 높은 전압을 제공함에 따라 신뢰성이 높은 시험 결과를 얻을 수 있다.
The test
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치에서의 프로세스 순서도이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치는, HGND 전압과 SET 전압, DUT GND전압이 입력되는 프로세스(S100), 전압과 전력이 증폭되는 프로세스(S200), 전원전압 생성 모듈에서 DUT에 인가할 전원전압이 생성되는 프로세스(S300), 및 DUT에 전원전압이 입력되어 시험이 수행되는 프로세스(S400)를 포함하여 구성될 수 있다.
3 is a process flowchart of a semiconductor test apparatus having improved accuracy according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the semiconductor test apparatus having improved accuracy according to an embodiment of the present invention includes a process of inputting an HGND voltage, a SET voltage, and a DUT GND voltage (S100), and a process of amplifying the voltage and power ( S200), a process of generating a power supply voltage to be applied to the DUT in the power supply voltage generation module (S300), and a process of inputting the power supply voltage to the DUT to perform a test (S400).
프로세스 S100은, 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치에 필요한 전압이 입력되는 프로세스로서, 본 프로세스에서는 HGND 전압과 테스트 대상 장치의 GND인 DUT GND 전압, 사용자가 시험을 위하여 설정하거나 또는 미리 설정된 설정(SET) 전압이 입력된다. 도 2에서 설명한 바와 같이, DUT GND 전압과 SET 전압은 증폭 모듈(100)에 포함되는 OP AMP(110)의 비반전 입력단자에 입력될 수 있고, HGND 전압은 OP AMP(110)의 반전 입력단자에 입력될 수 있다. 또한 DUT로부터의 피드백 전압이 OP AMP(110)의 반전 입력단자에 입력될 수 있다. 이때, OP AMP(110)에 전압이 입력되는 도선에 연결된 저항을 통하여 전류의 양이 조절될 수 있다.
Process S100 is a process for inputting a voltage required for a semiconductor test apparatus with improved accuracy. In this process, the HGND voltage and the DUT GND voltage, which is the GND of the device under test, are set by the user for the test or a preset value (SET). The voltage is input. As described in FIG. 2, the DUT GND voltage and the SET voltage may be input to the non-inverting input terminal of the
프로세스 S200에서는, 증폭 모듈(100)을 통하여 전압과 전력이 증폭되고, 증폭된 전압과 전력이 전원전압 생성 모듈(200)에 입력된다. 본 프로세스는, 전압이 증폭되는 프로세스(S210)와 전력이 증폭되는 프로세스(S230)로 구성될 수 있다. 프로세스 S200의 세부 프로세스에 대하여, 도 4를 참조하여 상세히 설명한다.
In process S200, the voltage and power are amplified through the
도 4는 전압과 전력이 증폭되는 단계(S200)의 세부 흐름도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 프로세스 S210에서는, OP AMP(110)에 의하여 입력된 전압이 증폭된다. 이 경우 사용되는 OP AMP(110)는 양전원 OP AMP로 한정되지 않으며, 단전원 OP AMP의 사용도 가능하다. 증폭되어 출력된 전기신호는 프로세스 S230에서 사용될 수 있다.
4 is a detailed flowchart of step S200 of amplifying voltage and power. As shown in FIG. 4, in process S210, the voltage input by the
프로세스 S230에서는, 전력 증폭기(Power Amplifier)(130)에 의하여 전기신호의 전력이 증폭된다. 전력이 증폭됨으로써, 프로세스 S300에서 전원전압 생성 모듈(200)로부터 DUT(300)로 전원전압이 공급될 수 있다.
In process S230, the power of the electrical signal is amplified by the
프로세스 S300에서는, 전원전압 생성 모듈(200)로부터 DUT(300)로 인가되는 전원전압이 생성된다. 이때 전원전압 생성 모듈(200)로 사용될 수 있는 PPS는, DUT(300)에 인가되는 전원전압을 생성하는 역할을 하는 장치로서, 증폭 모듈(100)을 거치며 증폭된 전기신호를 이용하여, 실험을 위하여 DUT(300)에 인가하고자 하는 전원전압을 높은 정확도로 제공할 수 있다.
In process S300, a power supply voltage applied from the power supply
프로세스 S400에서는, DUT(300)에 전압이 입력되어 시험이 수행된다. 본 프로세스에서는, 프로세스 S300에서 PPS에 의해 생성된 전원전압이 DUT(300)에 입력되며, 입력된 전원전압에 따른 DUT(300)의 반응을 통하여 해당 DUT(300)의 성능이나 이상 유무 등을 시험하게 된다.
In process S400, a voltage is input to the
[실험 예][Experimental Example]
표 1은 DSA에 대한 표이다. 계산상의 편의를 위하여 수치를 높은 값으로 바꾸어 설명하였으나, 실제로는 수십 ㎽에 해당한다. 각각의 DUT GND는 아래와 같다고 가정한다.Table 1 is a table for the DSA. For convenience of calculation, the numerical value was changed to a high value, but it is actually several tens of microseconds. Assume that each DUT GND is as follows.
대표 GND인 HGND는 다음과 같이 계산할 수 있다.The representative GND, HGND, can be calculated as follows.
HGND = Σ(DUT GND)/16 = 1.0V
HGND = Σ (DUT GND) / 16 = 1.0 V
상기 표 1의 DUT #6을 기준으로 설명하도록 한다. 이때 HGND 전압은 1V이고, #6의 DUT GND 전압은 2V이다. SET 전압은 3V로 가정한다.
It will be described based on the DUT # 6 of Table 1. At this time, the HGND voltage is 1V and the DUT GND voltage of # 6 is 2V. Assume that the SET voltage is 3V.
(1) 기존 구성을 적용할 경우(1) When applying an existing configuration
PPS = SET + HGND = 3V + 1V = 4V
PPS = SET + HGND = 3V + 1V = 4V
도 1에 도시된 바와 같은 기존의 반도체 시험 장치의 구성에서는, DUT로부터의 feedback 전압, 즉 HGND 전압의 영향을 받아 이값을 보상하기 때문에, PPS에서는 1V가 더해진 4V의 전압이 출력되게 된다. DUT #6의 DUT GND 전압이 2V이므로 실제로 테스트 대상 장치(DUT)인 DUT #6에 인가되는 전압은 4V - 2V = 2V가 되며, 3V를 예상하였으므로 1V의 오차가 발생한다.
In the configuration of the conventional semiconductor test apparatus as shown in FIG. 1, since the value is compensated under the influence of the feedback voltage from the DUT, that is, the HGND voltage, the voltage of 4V plus 1V is output in the PPS. Since the DUT GND voltage of DUT # 6 is 2V, the voltage applied to DUT # 6, which is the device under test (DUT), becomes 4V-2V = 2V. Since 3V is expected, an error of 1V occurs.
(2) 본 발명에서 제안하고 있는 구성을 적용할 경우(2) When applying the configuration proposed in the present invention
PPS = (SET+HGND) + (DUT GND-HGHD) = (3V+1V) + (2V-1V) = 5V
PPS = (SET + HGND) + (DUT GND-HGHD) = (3V + 1V) + (2V-1V) = 5V
도 2에 도시된 바와 같은 본 발명의 일실시예에 따른 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치의 구성에서는, DUT GND와 HGND의 차이(DUT GND-HGND=1V)를 더 보상하기 때문에, PPS에서는 기존의 반도체 시험 장치에서보다 1V가 더 보상된 5V의 전압이 출력되게 된다. DUT #6의 DUT GND 전압이 2V이므로 실제로 테스트 대상 장치(DUT)인 DUT #6에 인가되는 전압은 5V - 2V = 3V가 되며, 3V를 예상하였으므로 오차가 발생하지 않는다.
In the configuration of the semiconductor test apparatus with the improved accuracy according to the embodiment of the present invention as shown in FIG. 2, since the difference between the DUT GND and HGND (DUT GND-HGND = 1V) is further compensated, the conventional PPS device is known. The voltage of 5V, which is compensated 1V more than in the semiconductor test apparatus, is output. Since the DUT GND voltage of DUT # 6 is 2V, the voltage applied to DUT # 6, which is the device under test (DUT), is 5V-2V = 3V. Since 3V is expected, no error occurs.
결과를 정리하면, 본 계산에 따라 설정(SET) 전압 값을 3V로 했을 때 DUT로부터의 feedback 전압인 HGND 전압이 1V 이므로 장비는 4V를 출력하게 된다. 기존 구성에서는 DUT GND에 대한 보상이 들어가지 않으므로 4V가 그대로 출력되게 된다. 이 경우, DUT #6의 DUT GND 전압이 2V이므로 실제 테스트 대상 장치(DUT)인 DUT #6이 인식하는 전압은 4V - 2V = 2V가 되며, 의도하였던 3V와는 1V의 오차가 발생하게 된다. 이에 비하여, 본 발명에서 제안하고 있는 구성에서는 DUT GND에 대한 보상이 들어가므로, DUT로부터의 feedback 전압인 HGND 전압인 1V에, DUT GND와 HGND의 차이인 1V를 더 보상하여 5V가 출력되게 되며, DUT #6의 DUT GND 전압이 2V이므로 실제 테스트 대상 장치(DUT)인 DUT #6이 인식하는 전압은 5V - 2V = 3V가 되어, 의도하였던 3V와 정확히 일치하게 된다.
In summary, when the SET voltage is set to 3V according to this calculation, the equipment outputs 4V because the HGND voltage, which is the feedback voltage from the DUT, is 1V. In the previous configuration, 4V is output as it is because the compensation for DUT GND is not included. In this case, since the DUT GND voltage of DUT # 6 is 2V, the voltage recognized by DUT # 6, which is the actual device under test (DUT), becomes 4V-2V = 2V, and an error of 1V occurs with the intended 3V. On the other hand, in the configuration proposed in the present invention, since the compensation for the DUT GND enters, 5V is output by further compensating 1V, which is the difference between the DUT GND and HGND, to 1V, which is the HGND voltage that is the feedback voltage from the DUT. Since the DUT GND voltage of DUT # 6 is 2V, the voltage recognized by the actual device under test (DUT) DUT # 6 is 5V-2V = 3V, which is exactly the intended 3V.
이와 같이 본 발명은 개별 DUT에서 GND를 센싱(sensing)하여 정확한 값을 인가하는 것이 가능하다. 또한, 이런 회로가 모든 DSA에 개별적으로 존재하므로, 모든 DSA는 정확도(accuracy)가 향상된 PPS 전압을 입력받을 수 있다. 더 나아가, HGND가 모든 DSA GND를 와이어(wire) 처리할 경우, PPS뿐만 아니라 PMU(Parametric Measurement Unit)와 신호에 대한 보상까지 가능하다.
As described above, the present invention can apply the correct value by sensing the GND in the individual DUT. In addition, since these circuits are present individually on every DSA, every DSA can receive a PPS voltage with improved accuracy. Furthermore, when HGND wires all DSA GNDs, not only PPS, but also parametric measurement units (PMUs) and signals can be compensated.
이상 설명한 본 발명은 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 다양한 변형이나 응용이 가능하며, 본 발명에 따른 기술적 사상의 범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.The present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics of the invention.
10: 기존의 반도체 시험 장치
20: 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치
100: 증폭 모듈 110: 연산 증폭기(OP AMP)
130: 전력 증폭기(Power Amplifier) 200: 전원전압 생성 모듈
300: 테스트 대상 장치(DUT)
S100: 전압이 입력되는 프로세스
S200: 전압과 전력이 증폭되는 프로세스
S210: OP AMP에 의하여 전압이 증폭되는 프로세스
S230: Power Amplifier에 의하여 전력이 증폭되는 프로세스
S300: 전원전압 생성 모듈로부터 DUT로 인가될 전원전압이 생성되는 프로세스
S400: 전원전압이 인가된 DUT에 대하여, 시험이 수행되는 프로세스10: Conventional Semiconductor Test Equipment
20: Semiconductor Test Equipment Improves Accuracy
100: amplification module 110: operational amplifier (OP AMP)
130: power amplifier 200: power supply voltage generation module
300: device under test (DUT)
S100: Process in which voltage is input
S200: Process of Boosting Voltage and Power
S210: Process where the voltage is amplified by OP AMP
S230: Process in which power is amplified by the Power Amplifier
S300: Process for generating a power supply voltage to be applied to the DUT from the power supply voltage generation module
S400: a process in which a test is performed on a DUT to which a power voltage is applied
Claims (5)
테스트 대상 장치(Device Under Test; 이하 ‘DUT’라고 함)에 인가되는 전원전압을 생성하는 전원전압 생성 모듈; 및
전압과 전력을 증폭하여 상기 전원전압 생성 모듈에 공급하는 증폭 모듈을 포함하되,
상기 증폭 모듈은, 대표 그라운드인 HGND의 전압, 사용자가 시험을 위하여 설정하거나 또는 미리 설정된 설정(SET) 전압, 및 상기 DUT의 그라운드인 DUT GND의 전압을 모두 입력받아 증폭함으로써, DUT GND에 대한 보상을 통해 정확한 전압을 상기 전원전압 생성 모듈에 공급하며,
상기 증폭 모듈은,
전력을 증폭하여 상기 전원전압 생성 모듈에 공급하는 전력 증폭기(Power Amplifier); 및
전압을 증폭하여 상기 전력 증폭기에 입력하는 연산 증폭기(Operational Amplifier; 이하 ‘OP AMP’라고 함)를 포함하는 것을 특징으로 하는 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치.
In the semiconductor test apparatus,
A power supply voltage generation module configured to generate a power supply voltage applied to a device under test (hereinafter, referred to as a 'DUT'); And
Including an amplification module for amplifying a voltage and power supply to the power supply voltage generation module,
The amplification module compensates for the DUT GND by receiving and amplifying all the voltages of the HGND which is the representative ground, the set or preset voltage set by the user, and the voltage of the DUT GND which is the ground of the DUT. Through supplying the correct voltage to the power supply voltage generation module,
The amplification module,
A power amplifier for amplifying and supplying power to the power supply voltage generation module; And
And an operational amplifier (hereinafter referred to as "OP AMP") for amplifying a voltage and inputting the voltage to the power amplifier.
프로그램 가능한 전원(Programmable Power Supply; 이하 ‘PPS’라고 함)을 포함하는 것을 특징으로 하는 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치.
The method of claim 1, wherein the power supply voltage generation module,
A semiconductor test device with improved accuracy, comprising a programmable power supply (hereinafter, referred to as a 'PPS').
반전 입력단자에 상기 HGND 전압과 상기 DUT로부터의 피드백(feedback) 전압이 입력되며, 비반전 입력단자에 상기 설정(SET) 전압과 상기 DUT GND 전압이 입력되는 것을 특징으로 하는 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치.
The method of claim 1, wherein the OP AMP,
The HGND voltage and the feedback voltage from the DUT are input to an inverting input terminal, and the SET voltage and the DUT GND voltage are input to a non-inverting input terminal. Device.
상기 OP AMP에 전압이 입력되는 도선에는 저항이 연결되어 전류를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 정확도를 향상시킨 반도체 시험 장치.5. The method of claim 4,
The semiconductor test device with improved accuracy, characterized in that the resistance is connected to the conductive wire is a voltage input to the OP AMP to adjust the current.
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KR1020120128440A KR101243385B1 (en) | 2012-11-13 | 2012-11-13 | Testing device of semiconductor device improving the accuracy |
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JP2001004692A (en) | 1999-01-01 | 2001-01-12 | Advantest Corp | Semiconductor test device |
JP3196756B2 (en) | 1999-02-24 | 2001-08-06 | 日本電気株式会社 | Semiconductor integrated circuit measuring device |
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Patent Citations (2)
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