KR101243123B1 - Apparatus for removing foreign substance of plating liquid strainer - Google Patents
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Abstract
본 발명은 도금용액 스트레이너 이물질 제거장치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 원주 방향으로 다수의 관통홀이 형성되고, 상기 각 관통홀에는 스트레이너가 구비되어 있는 필터링부, 필터링부를 회전 이동 가능하게 하는 구동부와, 관통홀의 적어도 어느 하나에 연통되도록 설치되어진 도금을 하기 위하여 용액을 공급하기 위한 용액 공급부 및, 관통홀의 적어도 어느 하나에 연통되도록 설치되어진 스트레이너 이물질을 제거하기 위하여 이물질 제거액을 공급하기 위한 이물질 제거액 공급부를 포함하는 도금용액 스트레이너 이물질 제거장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plating solution strainer foreign material removal apparatus. More specifically, a plurality of through holes are formed in the circumferential direction, and each of the through holes includes a filtering unit having a strainer, a driving unit for allowing the filtering unit to rotate and a plating installed to communicate with at least one of the through holes. The present invention relates to a plating solution strainer debris removal apparatus including a solution supply unit for supplying a solution, and a foreign substance removal solution supply unit for supplying a foreign substance removal solution for removing a foreign substance of a strainer installed to communicate with at least one of the through holes.
Description
본 발명은 도금액 스트레이너 이물질 제거장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 스트레이너에 있는 도금액 이물질을 자동으로 제거함으로써, 생산성 향상 및 도금 품질 개선을 위한 도금액 스트레이너 이물질 제거장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a plating liquid strainer debris removal device. More specifically, the present invention relates to a plating liquid strainer debris removal device for improving productivity and plating quality by automatically removing plating liquid debris in a strainer.
수평셀 타입 전기도금 공정은 황산욕 도금용액을 사용하며 도금아노드(5)는 불용성으로 길이 1500~2000mm이며, 전류밀도는 약 200A/dm, 도금 셀당 전류는 50 kA 를 사용함으로써, 고 전류밀도로 조업가능하다. 수평셀 타입 전기도금 공정은 아노드정압노즐(12)인 용액공급노즐을 통해 도금용액을 공급하여 스트립(1)에 상,하 도금을 하는 것으로, 아노드정압노즐(12)에 연결된 정압노즐배관(3)에는 스트레이너(4)가 설치되어 도금 용액내 이물질(11)을 걸러준다. 스트레이너(4)는 이물질(11)이 도금롤(7)에 부착되어 덴트(Dent) 형상결함 발생되는 것을 방지하는 기능을 하는데, 연속적인 도금용액 공급으로 스트레이너(4)에 이물질(11)이 많이 쌓이게 되면, 스트레이너(4)를 수작업으로 수입해야 한다는 문제가 있다. 스트레이너(4)를 적당한 주기로 수입하지 않으면, 도금얼룩(53)이나 덴트 형상 결함 등이 발생할 수 있다. 하지만, 스트레이너(4)를 수입은 수작업으로 진행되고, 라인을 정지 시킨 후 진행하여야 하기 때문에, 생산성 및 작업 효율이 떨어진다는 문제가 있다.
In the horizontal cell type electroplating process, sulfuric acid bath plating solution is used. The plating
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 도금용액을 펌핑 중에 스트레이너 수입을 자동으로 가능하게 함으로써, 도금얼룩 등의 표면결함 발생을 방지하며 주기적으로 라인을 정지한 후, 수작업으로 스트레이너를 수입하던 것을 자동으로 함으로써, 도금 생산성이 향상되고 작업능률이 향상되는 것을 그 목적으로 한다.
The present invention is to solve the above problems, by automatically importing the strainer during the pumping of the plating solution, to prevent the occurrence of surface defects such as plating stains and to stop the line periodically, import the strainer manually It is an object of the present invention to improve plating performance and improve work efficiency by automatically doing what is used.
본 발명인 도금용액 스트레이너 이물질 제거장치는 원주 방향으로 배열되어, 관통된 다수의 구멍 각각에 스트레이너가 구비되어 있는 필터링부와, 필터링부를 회전 이동 가능하게 하는 구동부와, 구멍의 적어도 어느 하나에 연통되도록 설치되어지고, 도금 용액을 공급하는 용액 공급부 및, 용액 공급부와 연통되는 구멍을 제외한 상기 구멍의 적어도 어느 하나에 연통되도록 설치되어지고, 스트레이너 이물질을 제거하기 위하여 이물질 제거액을 공급하기 위한 이물질 제거액 공급부를 포함한다. 상기 필터링부는 원주 방향으로 상기 스트레이너가 8개 구비되고, 필터링부의 중심에 위치하는 링축을 구동시키는 모터의 작동에 의해서 필터링부를 회전 이동시키는 것이 바람직하고, 상기 구동부에 의한 필터링부의 회전 이동의 정지는, 모터의 작동 중에 베어링블록하우징 양 단부에 고정 연결된 고정 브라켓트의 내부에 설치된 리미트 스위치와 상기 링축의 외주면에 설치된 다수의 리미트 스위치 중의 어느 하나가 접촉 센스 감지되면 모터 작동이 중지되어 상기 필터링부가 반시계 방향으로 원주 배열상의 이 후 스트레이너로 회전 이동 후에 정지될 수 있다. 또한, 이물질 제거액 공급부는 상기 용액 공급부와 연통되는 구멍과 대응되는 위치의 구멍에 연통되도록 설치되고, 이물질 제거액 공급부의 이물질 제거액은 순수인 것에 특징이 있다. 또한, 이물질 제거액의 흐름 방향은 상기 용액공급부에 공급되어지는 도금 용액이 흐르는 방향의 역방향인 것이 바람직하다.
Plating solution strainer debris removal device of the present invention is arranged in the circumferential direction, the filtering portion having a strainer is provided in each of the plurality of through holes, the drive unit for rotating the filtering portion, and installed to communicate with at least one of the holes And a solution supply part for supplying a plating solution, and installed to communicate with at least one of the holes except for a hole communicating with the solution supply part, and a foreign material removal solution supply part for supplying a foreign material removal liquid to remove the strainer foreign material. do. The filtering unit is provided with eight strainers in the circumferential direction, it is preferable to rotate the filtering unit by the operation of a motor for driving a ring shaft located in the center of the filtering unit, the stop of the rotational movement of the filtering unit by the drive unit, If any one of the limit switch installed inside the fixed bracket fixedly connected to both ends of the bearing block housing and the plurality of limit switches installed on the outer circumferential surface of the ring shaft is sensed in contact with the motor, the motor is stopped and the filtering unit is turned counterclockwise. Can then be stopped after rotational movement to the strainer on the circumferential array. In addition, the foreign matter removal liquid supply unit is installed so as to communicate with a hole at a position corresponding to the hole communicating with the solution supply unit, the foreign material removal liquid is a pure water. In addition, the flow direction of the foreign matter removal liquid is preferably in the reverse direction of the flow direction of the plating solution supplied to the solution supply portion.
본 발명은 도금용액을 펌핑 중에 스트레이너 수입을 자동으로 가능하게 함으로써, 도금얼룩 등의 표면결함 발생을 방지하고, 도금 생산성 및 작업 능률의 향상 시키는 효과가 있다.
The present invention is capable of automatically importing the strainer during the pumping of the plating solution, thereby preventing the occurrence of surface defects, such as plating stains, and has the effect of improving the plating productivity and work efficiency.
도 1은 종래의 문제점을 나타내는 단면도.
도 2는 본 발명의 일실시 예에 따른 단면도
도 3은 도 2의 ``A``화살표 방향에서 본 절단부 측면도
도 4는 도 2의 ``B``화살표 방향에서 본 절단부 측면도
도 5는 도 2의 ``C``화살표 방향에서 본 절단부 측면도
도 6(a)는 용액공급펌프에 의해 공급된 도금용액이 스트레이너를 통해 이물질이 걸러지는 상태를 나타낸 상태 단면도, 도 6(b)는 스트레이너가 화살표 방향으로 한 칸 이동되는 작용을 나타내는 상태 단면도, 도 6(c)는 스트레이너에 순수가 공급되어 이물질이 탈락하여 외부로 배출 제거되는 상태를 나타낸 상태 단면도.
도 7은 본 발명의 일실시 예에 따른 작동상태를 나타내는 단면도.1 is a cross-sectional view showing a conventional problem.
2 is a cross-sectional view according to an embodiment of the present invention
FIG. 3 is a side view of the cutout viewed from the arrow direction `` A '' of FIG. 2
4 is a side view of the cutaway viewed from the direction of arrow `` B '' of FIG.
FIG. 5 is a side view of the cutaway viewed from the direction of arrow `` C '' of FIG. 2
Figure 6 (a) is a cross-sectional view showing a state in which the plating solution supplied by the solution supply pump to filter foreign matter through the strainer, Figure 6 (b) is a cross-sectional view showing the action that the strainer is moved one space in the direction of the arrow, Figure 6 (c) is a cross-sectional view showing a state in which pure water is supplied to the strainer and foreign substances are eliminated and discharged to the outside.
7 is a cross-sectional view showing an operating state according to an embodiment of the present invention.
이하, 본 발명을 상세하기 설명하기 위해서 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 도 2는 본 발명의 일실시 예에 따른 평면도이고, 도 3은 도 2의 ``A``화살표 방향에서 본 절단부 측면도이고, 도 4는 도 2의 ``B``화살표 방향에서 본 절단부 측면도이고, 도 5는 도 2의 ``C``화살표 방향에서 본 절단부 측면도이다. 도 2 내지 도 5를 참조하면, 필터링부는 원주 방향으로 배열되어, 관통된 다수의 구멍 각각에 스트레이너가 구비되어 있다. 상기 구멍은 하기에서 설명하는 원형구멍 a,b,c,d,e,f(17,18,23,28,33,47) 및 관통구멍(42)을 포함한다. 필터링부는 도금용액이 필터링될 뿐만 아니라, 필터링되어 이물질이 있는 스트레이너의 이물질을 제거하는 기능을 한다. 필터링부의 중심에는 원형의 베어링블록하우징(40)이 위치하고, 베어링블록하우징(40) 내부에는 베어링(36)이 끼워져 연결되며 그 내측으로 링축(37)이 접해 연결된다. 베어링블록하우징(40) 외측으로 베어링블록커버a(22)가 볼팅 조립 연결된다. 베어링블록하우징(40) 내측에 접해 위치한 원형링프레임(39)의 내측에는 링축(37)이 연결되며 원형링프레임(39)은 스트레이너하우징(41)과 고정 연결된다. 다른 쪽 베어링블록하우징(40)에는 링축(37) 끝 부분이 연결되며 이것은 베어링, 베어링블록커버b(38)에 연결되며 각각의 베어링블록하우징(40) 외경으로 매인링프레임(46)과 고정 연결된다. 또한, 매인링프레임(46) 상, 하부에는 각각 원형구멍b(18), 원형구멍c(23)가 제작 설치된다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Figure 2 is a plan view according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a side view of the cut portion in the `` A '' arrow direction of Figure 2, Figure 4 is a side view of the cut portion seen in the `` B '' arrow direction of Figure 2 FIG. 5 is a side view of the cutout viewed from the `` C '' arrow direction of FIG. 2. 2 to 5, the filtering unit is arranged in the circumferential direction, the strainer is provided in each of the plurality of through holes. The hole includes circular holes a, b, c, d, e, and f (17, 18, 23, 28, 33, 47) and through
구동부는 모터(20)의 구동에 의해서 필터링부를 회전 이동시킬 수 있다. 모터 축(20')은 베어링(36)이 연결된 링축(37)과 커플링에 의해 연결된다. 또한, 모터(20)는 각각의 고정브라켓트(21)에 의해 베어링블록하우징(40)과 고정 연결된다. 모터 축(20') 외주면에는 리미트접촉대(51)가 각각 8개 고정 연결될 수 있다. 리미트접촉대(51)는 고정브라켓트(21)에 고정 연결된 리미트스위치(52)를 감지할 수 있다. 상기 구동부에 의한 상기 필터링부의 회전 이동의 정지는, 상기 모터의 작동 중에 베어링블록하우징(40) 양 단부에 고정 연결된 고정 브라켓트(21)의 내부에 설치된 리미트 스위치와 상기 모터축의 외주면에 고정 연결된 다수의 리미트 접촉대 중의 어느 하나가 접촉 센스 감지되면 모터 작동이 중지되어 상기 필터링부의 회전 이동이 정지된다. The driving unit may rotate the filtering unit by driving the
용액 공급부와 이물질 제거액 공급부는 구멍과 연통되도록 설치된다. 이물질 제거액으로는 주로 순수를 사용한다. 순수는 통상적으로 공업 용수로 사용되는 물 중에서 이물질이 거의 없는 깨끗한 물을 지칭한다. 이러한 용액 공급과 순수의 공급은 배관을 통해서 흐르게 된다. 구조를 간략하게 설명하면, 원형구멍의 바깥쪽에는 각각 연결배관a,b,c,d(15, 27, 32, 48)가 볼팅 고정 연결되고, 연결배관a(15)는 커플링에 의해 자동밸브a(14), 드레인배관(13)과 연결된다. 드레인배관(13)은 폐수탱크(미도시)와 연결되며 연결배관d(48)는 커플링에 의해 자동밸브b(44), 순수공급배관(45)과 연결되며 순수공급배관(45)은 순수 공급펌프(미도시)와 연결된다. 연결배관b(27)는 커플링에 의해 용액공급배관(26)과 연결되며 이것은 용액공급펌프(미도시)와 연결된다. 또한, 연결배관c(32)는 커플링에 의해 정압노즐배관(3)과 연결되며 이것은 아노드정압노즐(12)과 연결되며 베어링블록하우징(40)에 연결된 매인링프레임(46)의 장치 내측 각각에는 외부뎀프링브라켓트(34)가 접시형 볼트에 의해 고정 연결된다. 또한, 한 쪽의 외부뎀프링브라켓트(34) 상,하부에는 원형구멍a(17), 원형구멍d(28)가 제작 설치되며 다른 쪽 외부뎀프링브라켓트(34) 상,하부에는 원형구멍f(47), 원형구멍e(33)가 제작 설치된다. 각각의 외부뎀프링브라켓트(34)에는 외부뎀프플래트a,b(31,35)가 고정 연결되며 원형링프레임(39)에 고정 연결된 스트레이너하우징(41)에는 8개의 원형구멍이 제작 설치되어 있으며 각각의 원형구멍 내에 깔대기형스트레이너(19)가 끼워져 스트레이너하우징(41)과 볼팅 연결된다. 깔대기형스트레이너(19) 내측 안 부분은 링브라켓트(43)와 볼팅 연결되며 링브라켓트(43)는 여러 개의 링연결브라켓트(50)와 연결되며 이것은 스트레이너하우징(41)과 고정 연결된다. 이러한 링연결브라켓트(50) 공간 부분이 관통구멍(42)이 되며 스트레이너하우징(41) 양 옆에는 각각 뎀프가이딩링플래트b(29)가 고정 연결된 링브라켓트b(30)가 볼팅 연결되며 안 쪽에는 뎀프가이딩링플래트a(25)가 고정 연결된 링브라켓트a(24)와 볼팅 연결된다. 뎀프가이딩링플래트a,b(25,29) 사이에는 뎀핑가이딩플래트(49)가 각각 8개씩 볼팅 연결되게 구성되며 각각 양 옆의 매인링프레임(46) 외측에는 매인링커버(54)가 볼팅 조립 연결되게 구성된다. The solution supply part and the foreign matter removal liquid supply part are installed to communicate with the holes. Pure water is mainly used for the removal of foreign substances. Pure water generally refers to clean water that is almost free of foreign substances in water used as industrial water. This solution supply and pure water supply flow through the pipe. Briefly explaining the structure, the connection pipe a, b, c, d (15, 27, 32, 48) is bolted fixedly connected to the outside of the circular hole, respectively, the connection pipe a (15) is automatically It is connected to the valve a (14), the drain pipe (13). The
연속 전기도금 작업 중 도금용액 공급펌프(미도시)에 의해 공급된 도금용액이 용액공급배관(26)을 통해 도금용액이 공급되면, 도금용액은 연결배관b(27), 원형구멍c,d(23,28), 깔대기형스트레이너(19)를 통해 흐르고, 도금 용액 내의 이물질은 스트레이너(19)에 의해 걸러진다. 필터링된 도금용액이 관통구멍(42), 원형구멍e(33)을 통해 연결배관c(32), 정압노즐배관(3)를 통해 아노드정압노즐(12)에 공급되어져 정상적인 도금 작업이 진행된다. 도 6(a)는 용액공급펌프에 의해 공급된 도금용액이 스트레이너를 통해 이물질이 걸러지는 상태를 나타낸 상태 단면도이고, 도 6(b)는 스트레이너가 화살표 방향으로 한 칸 이동되는 작용을 나타내는 상태 단면도이고, 도 6(c)는 스트레이너에 순수가 공급되어 이물질이 탈락하여 외부로 배출 제거되는 상태를 나타낸 상태 단면도이며, 도 7은 본 발명의 일실시 예에 따른 작동상태를 나타내는 단면도이다. 도 6(a)를 참조하면, 연속 용접된 스트립(1)의 용접부(미도시)가 플레이팅셀(2)의 해당 도금아노드(5)를 통과 할 때, 모터(20)가 작동되며, 모터(20)의 작동은 리미트접촉대(51)가 리미트스위치(52)에 접촉 센스 감지되면 중지된다. 이러한 작용에 의해 깔대기형스트레이너(19)가 화살표 방향으로 한 칸씩 이동되는 작용이 발생하며 도 6의 (c)와 같이, 깔대기형스트레이너(19)가 화살표 방향으로 한 칸 이동 작용이 발생된 상태에서 자동밸브a(14)가 오픈 되고 동시에 자동밸브b(44)가 오픈 되어 순수가 원형구멍f(47), 관통구멍(42)를 통해 깔대기형스트레이너(19)의 역 방향으로 유량이 흐르게 된다. 순수가 흐르면, 플러싱(Flushing) 작용이 발생하여 스트레이너(19)에 있는 이물질(11)이 탈락하여 자동밸브a(14), 드레인배관(13)을 통해 외부로 이물질(11)이 배출 제거된다. 뎀프가이딩링플래트 a,b(25,29), 뎀핑가이딩플래트(49)가 외부뎀프링브라켓트(34), 외부뎀프플래트 a,b(31,35)에 접촉되어 밀폐 작용을 하므로, 순수와 도금용액은 혼합되지 않는다. 상기와 같은 작용에 의해 도금용액이 연속적으로 깔대기형스트레이너(19)를 통과하여 자동 이물질이 걸러지는 필터링 작용이 발생되며 일정 시간이 경과되면 원형 위치로 조립 설치된 깔대기형스트레이너(19)가 화살표 방향으로 한 칸씩 이동하게 된다. 순수가 도금용액이 흐르는 방향과 역방향으로 공급됨으로써, 역세, 플러싱(Flushing) 작용이 발생하여서, 깔대기형스트레이너(19) 내 이물질을 제거할 수 있다. When the plating solution supplied by the plating solution supply pump (not shown) is supplied through the
1; 스트립 2; 플레이팅셀(Plating CELL)
3; 정압노즐배관 4; 스트레이너
5; 도금아노드(Anode) 6; 버스바(Bus Bar)
7; 도금롤 8; 롤폴리셔패드
9; 백업롤 10; 닥터블래이드
11; 스트레이너이물질 12; 아노드정압노즐
13; 드레인배관 14; 자동밸브 a
15; 연결배관 a 16; 링프레임커버
17; 원형구멍 a 18; 원형구멍 b
19; 깔대기형스트레이너 20; 모터
20'; 모터축 21; 고정브라켓트 22; 베어링블록커버 a
23; 원형구멍 c 24; 링브라켓트 a
25; 뎀프가이딩링플래트 a 26; 용액공급배관
27; 연결배관 b 28; 원형구멍 d
29; 뎀프가이딩링플래트 b 30; 링브라켓트 b
31; 외부뎀프플래트 a 32; 연결배관 c
33; 원형구멍 e 34; 외부뎀프링브라켓트
35; 외부뎀프플래트 b 36; 베어링
37; 링축 38; 베어링블록커버 b
39; 원형링프레임 40; 베어링블록하우징
41; 스트레이너하우징 42; 관통구멍
43; 링브라켓트 44; 자동밸브 b
45; 순수공급배관 46; 매인링프레임
47; 원형구멍f 48; 연결배관 d
49; 뎀핑가이딩플래트 50; 링연결브라켓트
51; 리미트접촉대 52; 리미트스위치
53; 도금얼룩 54; 매인링커버One;
3; Static pressure nozzle piping 4; Strainer
5; Plating anode (Anode) 6; Bus Bar
7;
9;
11; Strainer
13;
15; Connecting piping a 16; Ring frame cover
17; Circular hole a 18; Circular hole b
19;
20 ';
23;
25; Damping guiding ring a 26; Solution supply piping
27; Connecting
29; Damp guiding
31; External dampplate a 32; Connection pipe c
33;
35;
37;
39;
41;
43;
45; Pure
47;
49; Damping guiding
51;
53; Plated
Claims (6)
상기 필터링부를 회전 이동 가능하게 하는 구동부;
상기 구멍의 적어도 어느 하나에 연통되도록 설치되어지고, 도금 용액을 공급하는 용액 공급부; 및,
상기 용액 공급부와 연통되는 구멍을 제외한 상기 구멍의 적어도 어느 하나에 연통되도록 설치되어지고, 상기 스트레이너 이물질을 제거하기 위하여 이물질 제거액을 공급하기 위한 이물질 제거액 공급부; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 도금용액 스트레이너 이물질 제거장치.A filtering unit arranged in the circumferential direction and provided with a strainer in each of the plurality of holes;
A driving unit to rotate the filtering unit;
A solution supply unit installed to communicate with at least one of the holes and supplying a plating solution; And
A foreign material removal liquid supply unit installed to communicate with at least one of the holes except for a hole communicating with the solution supply unit, and configured to supply a foreign material removal liquid to remove the strainer foreign matter; Plating solution strainer foreign material removal apparatus comprising a.
상기 필터링부는 원주 방향으로 상기 스트레이너가 8개 구비되고, 상기 필터링부의 중심에 위치하는 링축을 구동시키는 모터의 작동에 의해서 상기 필터링부를 회전 이동시키는 것을 특징으로 하는 도금용액 스트레이너 이물질 제거장치.The method according to claim 1,
The filtering unit is provided with eight strainers in the circumferential direction, plating solution strainer foreign material removal apparatus, characterized in that for rotating the filtering unit by the operation of a motor for driving a ring shaft located in the center of the filtering unit.
상기 구동부에 의한 상기 필터링부의 회전 이동의 정지는, 상기 모터의 작동 중에 베어링블록하우징 양 단부에 고정 연결된 고정 브라켓트의 내부에 설치된 리미트 스위치와 상기 모터의 축의 외주면에 고정 연결된 다수의 리미트 접촉대 중의 어느 하나가 접촉 센스 감지되면 모터 작동이 중지되어 상기 필터링부의 회전 이동이 정지되는 것을 특징으로 하는 도금용액 스트레이너 이물질 제거장치. The method of claim 2,
The stop of the rotational movement of the filtering unit by the driving unit may include: a limit switch installed inside a fixing bracket fixedly connected to both ends of a bearing block housing during operation of the motor and a plurality of limit contact blocks fixedly connected to an outer circumferential surface of the shaft of the motor; The plating solution strainer debris removal device, characterized in that the motor is stopped when one of the contact sense is detected to stop the rotational movement of the filtering unit.
상기 이물질 제거액 공급부는 상기 용액 공급부와 구멍으로 연통되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 도금용액 스트레이너 이물질 제거장치.The method according to claim 1,
The foreign matter removal liquid supply unit is a foreign matter removal device, characterized in that the installation solution is installed so as to communicate with the hole through the solution supply.
상기 이물질 제거부의 이물질 제거액은 순수인 것을 특징으로 하는 도금용액 스트레이너 이물질 제거장치.The method according to claim 1,
The foreign material removal device of the plating solution strainer, characterized in that the foreign material removal liquid of the foreign material removal unit.
상기 이물질 제거액의 흐름 방향은 상기 용액공급부에 공급되어지는 도금 용액이 흐르는 방향의 역방향인 것을 특징으로 하는 도금용액 스트레이너 이물질 제거장치.The method according to claim 1,
The foreign matter removal apparatus for plating solution strainer, characterized in that the flow direction of the foreign matter removal liquid is the reverse direction of the flow direction of the plating solution supplied to the solution supply.
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