KR101234216B1 - Slit coater - Google Patents

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Abstract

본 발명은 포토레지스트 도포장치의 세정기에 있어서, 세정부와 건조부를 분리하여 형성함으로써 슬릿노즐에 세정되지 않는 이물질 또는 불순물을 남기지 않게 하여 포토레지스트의 도포할 때 기판에 형성되는 결함을 감소시키는 것에 관한 것이다.The present invention relates to reducing the defects formed in the substrate during application of the photoresist by forming the cleaning part and the drying part separately so as not to leave foreign substances or impurities in the slit nozzle. will be.

슬릿코터, 슬릿노즐, 세정, 분사구 Slit Coater, Slit Nozzle, Cleaning, Injection Hole

Description

슬릿코터{SLIT COATER}Slit Coater {SLIT COATER}

도 1은 일반적인 포토레지스트 도포장치의 구성을 나타내는 사시도.1 is a perspective view showing the configuration of a general photoresist coating device.

도 2는 종래의 세정기를 나타낸 사시도.2 is a perspective view showing a conventional cleaner.

도 3은 도 2의 I-I'에 따른 단면도.3 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 2;

도 4a는 본 발명의 실시예에 의한 포토레지스트 도포장치에서의 세정기를 도시한 사시도.4A is a perspective view showing a cleaner in a photoresist application apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4b는 도4a의 II-II'에 따른 단면도.4b is a sectional view taken along line II-II 'of FIG. 4a;

도 4c는 도 4a의 측면도.4C is a side view of FIG. 4A.

<도면의 주요 부분에 대한 설명>Description of the main parts of the drawing

210 : 공기 분사구 211 : 세정액 분사구210: air jet 211: cleaning liquid jet

220 : 건조부 221 : 세정부220: drying unit 221: washing unit

230 : 세정부재230: cleaning member

본 발명의 유리기판이나 웨이퍼 등의 표면에 포토레지스트를 도포하는 장치에 관한 것으로 특히, 노즐분사방식을 사용하는 슬릿(slit) 코터(coater)에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for applying a photoresist to a surface of a glass substrate, a wafer, or the like, and more particularly, to a slit coater using a nozzle spray method.

액정표시소자 또는 반도체 소자 제조공정에는 다수의 포토리소그래피 공정이 적용되고, 포토리소그래피공정을 위하여 노광공정이 진행되는데, 상기 노광공정을 위해 감광물질인 포토레지스트가 사용된다. A plurality of photolithography processes are applied to a liquid crystal display device or a semiconductor device manufacturing process, and an exposure process is performed for a photolithography process, and a photoresist as a photosensitive material is used for the exposure process.

노광공정은 기판 또는 웨이퍼에 감광성의 포토레지스트를 도포하고 소정의 패턴이 형성된 마스크를 이용하여 노광하는 순서로 진행된다.The exposure process is performed by applying a photosensitive photoresist to the substrate or the wafer and exposing using a mask having a predetermined pattern.

이러한 포토레지스트를 도포하기 위해서는 포토레지스트를 코팅하는 장치가 필요하며 통상 소정의 점도를 가지는 포토레지스트는 스핀 코터(spin coater) 또는 스피너(spinner)라 불리는 도포 장치를 이용하여 도포된다. In order to apply such a photoresist, an apparatus for coating a photoresist is required, and a photoresist having a predetermined viscosity is usually applied by using a coating apparatus called a spin coater or a spinner.

그러나 상기 스핀 코팅 방법은 코팅에 사용되는 포토레지스트의 양에 비해 버려지는 양이 너무 많아 포토레지스트의 낭비가 심하고, 액정표시패널이 형성되는 대형의 기판에 포토레지스트 코팅방법으로 사용되기에는 기판의 크기가 너무 커 스핀공정이 어렵다.However, in the spin coating method, the amount of discarded photoresist is excessively large compared to the amount of photoresist used for coating, and the size of the substrate is not sufficient for the photoresist coating method on a large substrate on which a liquid crystal display panel is formed. Is too large to make the spin process difficult.

스핀코팅 방법은 스핀시 발생하는 원심력을 이용한 코팅방법인데, 그 과정을 살펴보면, 소정의 점도를 가지는 포토레지스트를 스피너(spinner) 상에 안착된 기판에 적하하는 단계와, 상기 스피너(spinner)를 고속으로 회전시켜 포토레지스트를 균일하게 코팅하는 단계로 구분될 수 있다.The spin coating method is a coating method using a centrifugal force generated during spin. Looking at the process, dropping a photoresist having a predetermined viscosity on a substrate seated on a spinner, and spinner (spinner) at high speed It can be divided into a step of uniformly coating the photoresist by rotating to.

그러므로 회전하는 스피너 상에서 도포된 포토레지스트는 기판에 도포될 뿐 아니라 스피너(spinner) 밖으로 비산되는 양도 상당량에 이른다. 실제, 감광을 위해 사용되는 포토레지스트의 량보다 낭비되는 포토레지스트의 량이 훨씬 많다. 뿐 만 아니라, 상기 스피너(spinner)의 회전시 비산되는 포토레지스트 파편은 이후 박막 형성공정에서 이물로 작용되기가 쉽고, 환경 오염원이 되기도 한다.Therefore, the photoresist applied on the spinning spinner is not only applied to the substrate, but also a considerable amount of scattered out of the spinner. In fact, the amount of photoresist wasted is much higher than the amount of photoresist used for photosensitization. In addition, the photoresist fragments scattered during the rotation of the spinner are easily acted as foreign materials in the thin film formation process, and also become an environmental pollution source.

상기 문제를 해결하고자, 스피너(spinner)를 사용하지 않고 소정의 포토레지스트를 슬릿노즐을 사용하여 분사하는 노즐 방식의 코팅장치가 제안되었다. 상기 코팅장치는 슬릿노즐을 포함하는 슬릿코터와 상기 슬릿노즐을 세정하는 세정기로 이루어져 있다. In order to solve the problem, a nozzle type coating apparatus for spraying a predetermined photoresist using a slit nozzle without using a spinner has been proposed. The coating apparatus includes a slit coater including a slit nozzle and a cleaner for cleaning the slit nozzle.

이때 상기 노즐방식을 스피너(spinner)를 이용하지 않기 때문에 스핀리스 코터(spinless coater) 또는 슬릿을 통해 포토레지스트가 분사되므로 슬릿코터(slit coater)라 부른다. 상기 슬릿코터는 특히, 대형의 액정표시패널 상에 포토레지스트를 도포하는데 적합하다. 상기 슬릿코터는 소정량의 포토레지스트를 바(bar)형의 긴 슬릿노즐을 통해 유리기판 등에 도포하는 포토레지스트 도포장치로, 미세한 슬릿을 통해 일정량의 포토레지스트를 일정한 속도로 이동하면서 도포한다.In this case, since the nozzle method does not use a spinner, the photoresist is sprayed through a spinless coater or a slit, so it is called a slit coater. The slit coater is particularly suitable for applying a photoresist on a large liquid crystal display panel. The slit coater is a photoresist coating apparatus for applying a predetermined amount of photoresist to a glass substrate through a long bar-shaped slit nozzle, and applying a predetermined amount of photoresist at a constant speed through a fine slit.

도 1을 통하여 통상의 코팅장치의 개략적인 구조를 살펴본다. 도 1은 일반적인 슬릿코터의 사시도로서, 포토레지스트를 기판(102)상에 도포하는 슬릿형의 노즐(101)과 상기 슬릿노즐에 공급되는 포토레지스트가 저장되는 저장탱크(105)와, 상기 저장탱크(105)로부터 상기 슬릿노즐(101)로 포토레지스트가 이동하는 포토레지스트 공급라인(106)과, 상기 저장탱크(105)와 슬릿노즐(101)사이에 형성되며 일정한 압력으로 포토레지스트를 공급하는 펌핑수단(107)을 구비한다. 상기 슬릿노즐은 노즐의 양단에 구비된 이동레일을 따라 일정 속도로 이동하면서 포토레지스트를 도포하게 된다.Looking at a schematic structure of a conventional coating apparatus through FIG. 1 is a perspective view of a general slit coater, a slit nozzle 101 for applying photoresist onto a substrate 102, a storage tank 105 for storing a photoresist supplied to the slit nozzle, and the storage tank. Pumping for supplying the photoresist at a constant pressure formed between the photoresist supply line 106 and the storage tank 105 and the slit nozzle 101 to move the photoresist from the 105 to the slit nozzle 101 Means 107 are provided. The slit nozzle is applied to the photoresist while moving at a constant speed along the moving rails provided at both ends of the nozzle.

상기 슬릿노즐(101)은 긴 바(bar)형으로, 슬릿노즐의 팁에는 미세한 슬릿형상의 분사구가 형성되어 있으며 상기 분사구를 통해 포토레지스트가 일정량 기판에 분사된다.The slit nozzle 101 has a long bar shape, and a fine slit-shaped injection hole is formed at the tip of the slit nozzle, and a photoresist is injected to a substrate through the injection hole.

상기 저장탱크(105)는 슬릿노즐(101)에 공급되는 포토레지스트가 저장되며 노즐구동부에 부착되어 있을 수 있다. 또한 상기 펌핑수단(107)은 일정한 압력을 슬릿노즐(101)에 가하고 그 압력에 의해 슬릿노즐에 저장된 포토레지스트가 분사되게 한다. The storage tank 105 may store a photoresist supplied to the slit nozzle 101 and may be attached to the nozzle driver. In addition, the pumping means 107 applies a constant pressure to the slit nozzle 101, and the photoresist stored in the slit nozzle is injected by the pressure.

상기 슬릿코터의 슬릿노즐(101)은 포토레지스트가 공급되는 곳으로, 슬릿코터를 장시간 사용하지 않거나 일정 시간 사용하고 난 후에는 슬릿노즐(101) 내부의 기포를 제거하기 위해 포토레지스트를 제거하는 과정을 진행한다. 이때 상기 슬릿노즐(101)의 포토레지스트를 제거하고 나서 이후 다시 포토레지스트를 코팅하기 전에 슬릿노즐을 세정한다. 이는 이후 공정에서 불순물이나 얼룩이 지는 등의 불량을 방지하기 위해서인데 포토레지스트가 세정이 되지 않은 상태에서 남아있게 되면 도포 중에 상기 포토레지스트 불순물이 기판에 함께 코팅되어 얼룩이나 돌기 등으로 작용할 수 있기 때문이다. 따라서, 도면에 도시하지는 않았지만 슬릿코터의 일측에는 슬릿노즐(101)을 세정하는 세정기가 추가로 구비되며, 슬릿노즐은 세정기에 의해 세정된다.The slit nozzle 101 of the slit coater is a place where the photoresist is supplied. After the slit coater is not used for a long time or after a predetermined time, a process of removing the photoresist to remove bubbles in the slit nozzle 101 is performed. Proceed. At this time, after removing the photoresist of the slit nozzle 101, the slit nozzle is cleaned before coating the photoresist again. This is to prevent defects such as impurities or stains in the subsequent process, because if the photoresist remains in an uncleaned state, the photoresist impurities may be coated together on the substrate during application to act as stains or protrusions. . Therefore, although not shown in the drawings, a cleaner for cleaning the slit nozzle 101 is provided on one side of the slit coater, and the slit nozzle is cleaned by the cleaner.

도 2는 종래의 세정기를 나타낸 사시도이며, 도 3은 도 2의 I-I'에 따른 단면도로 슬릿노즐(101)을 세정할 때의 모습을 나타낸 것이다.FIG. 2 is a perspective view showing a conventional cleaner, and FIG. 3 shows a state when the slit nozzle 101 is cleaned in a sectional view taken along the line II ′ of FIG. 2.

상기 세정기(109)는 상기 슬릿노즐(101)이 안착할 수 있는 가이드부가 형성 되어 있으며 상기 가이드의 내부 경사면에는 슬릿노즐 부분을 세정할 수 있도록 세정액이 분사되는 분사구(111)와 세정 후 건조를 위한 공기가 분사되는 분사구(110) 및 슬릿노즐과 접촉하여 슬릿노즐에 부착된 이물질을 물리적으로 제거하는 세정부재(130)이 함께 구비되어 있다. The scrubber 109 is formed with a guide portion on which the slit nozzle 101 can be seated, and an injection hole 111 through which a cleaning liquid is injected to clean the slit nozzle portion on the inner inclined surface of the guide, and for drying after washing. The cleaning member 130 is provided with the injection port 110 through which air is injected and the cleaning member 130 to physically remove the foreign matter attached to the slit nozzle in contact with the slit nozzle.

그러나 종래의 세정기의 경우 세정액 분사구(111)와 공기 분사구(110)이 같은 경사면에 구비되어 있어 슬릿노즐의 포토레지스트가 완전히 제거되지 않은 상태에서 건조가 되는 문제점이 있었다. 즉, 세정액으로 포토레지스트를 세정할 때 남아있는 포토레지스트와 세정액 완전히 제거되지 않은 채 슬릿노즐 부분에 부착된 상태에서 공기가 분사되어 건조가 되는 경우가 있을 수 있었다. 이러한 경우 슬릿노즐에 부착된 포토레지스트와 세정액은 건조되게 되고, 이후 슬릿노즐이 다시 포토레지스트를 도포하게 되면 이전 단계에서 세정되지 않은 상기 포토레지스트가 기판에 떨어져 불량으로 작용하게 되는 문제가 있었다. 상기 세정되지 않은 포토레지스트는 슬릿노즐의 이동방향(또는 기판의 이동방향)에 따라 선을 길게 만들거나 돌기를 형성하는 등 여러 가지 문제를 야기시킨다.However, in the case of the conventional cleaner, the cleaning liquid injection port 111 and the air injection port 110 are provided on the same inclined surface, and thus there is a problem in that the photoresist of the slit nozzle is dried without being completely removed. That is, when the photoresist is washed with the cleaning liquid, air may be sprayed and dried in a state where the remaining photoresist and the cleaning liquid adhere to the slit nozzle portion without being completely removed. In this case, the photoresist and the cleaning solution attached to the slit nozzle are dried, and when the slit nozzle is applied to the photoresist again, the photoresist, which has not been cleaned in the previous step, falls on the substrate and acts as a defect. The uncleaned photoresist causes various problems such as lengthening lines or forming protrusions according to the moving direction of the slit nozzle (or the moving direction of the substrate).

본 발명은 상기한 점을 감안하여 이루어진 것으로 포토레지스트 도포장치의 세정기에 있어서, 세정부와 건조부를 분리하여 형성함으로써 슬릿노즐에 세정되지 않는 이물질 또는 불순물을 남기지 않게 하여 포토레지스트의 도포할 때 기판에 형성되는 결함을 줄일 수 있는 도포장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above. In the washing machine of the photoresist coating apparatus, the cleaning unit and the drying unit are formed separately so that foreign substances or impurities that are not cleaned in the slit nozzle are not left on the substrate when the photoresist is applied. An object of the present invention is to provide an application apparatus that can reduce defects formed.

또한 본 발명은 상기한 바와 같이 이물질 또는 불순물을 제거하여 포토레지 스트를 도포할 때 균일하게 도포할 수 있는 도포장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a coating apparatus that can be uniformly applied when applying a photoresist by removing foreign matter or impurities as described above.

상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 포토레지스트 도포장치는 기판을 지지하기 위한 지지부재와 포토레지스트가 유출되는 유출구가 형성된 슬릿노즐을 구비하며 상기 기판 상에 포토레지스트를 코팅하기 위한 슬릿코터 및 상기 슬릿노즐을 세정하기 위한 세정기를 포함하여 구성된다. 상기 세정기는 상기 슬릿노즐이 안착되는 가이드부와, 상기 가이드부의 양측에 구비되며, 세정액을 분사하는 한 개 이상의 분사구가 구비된 세정부, 및 상기 가이드부의 양측에 구비되며, 공기를 분사하는 한 개 이상의 분사구가 구비된 건조부를 포함하여 구성된다.In order to achieve the above object, a photoresist coating apparatus according to the present invention includes a slit nozzle for supporting a substrate and a slit nozzle having an outlet for outflow of the photoresist, and for coating a photoresist on the substrate; And a scrubber for cleaning the slit nozzle. The scrubber is provided on both sides of the guide part on which the slit nozzle is seated, on both sides of the guide part, and provided on both sides of the guide part, and a cleaning part equipped with one or more injection holes for spraying a cleaning liquid. It is comprised including the drying part provided with the above injection port.

도 3에서 도시한 바와 같이 종래의 발명에 의한 포토레지스트 도포장치에 있어서 세정기의 분사구는 세정용 분사구와 건조용 분사구가 같은 영역에 형성되어 있었다. 따라서 세정액이 분사되어 슬릿노즐 부분의 포토레지스트를 세정할 때 남아있는 포토레지스트가 건조되어 불량을 야기시킴은 이미 살펴 보았다.As shown in Fig. 3, in the conventional photoresist coating apparatus according to the present invention, the jetting port of the washing machine was formed in the same region as the jetting port for cleaning. Therefore, when the cleaning solution is sprayed to clean the photoresist of the slit nozzle portion, the remaining photoresist is dried and causes defects.

이러한 문제점을 해결하기 위해 본 발명에서는 슬릿노즐을 세정액으로 세정하는 세정부와 슬릿노즐을 공기로 건조하는 건조부를 분리하여 형성하는 것을 특징으로 한다. 이하 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 의한 포토레지스트 도포장치를 설명하기로 한다.In order to solve this problem, the present invention is characterized by separating the cleaning unit for cleaning the slit nozzle with the cleaning liquid and the drying unit for drying the slit nozzle with air. Hereinafter, a photoresist coating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 4a는 본 발명의 실시예에 의한 포토레지스트 도포장치에서의 세정기를 도시한 사시도이며, 도 4b는 도4a의 II-II'에 따른 단면을 나타낸 것이다. 도 4c는 도 4a의 측면도로, 설명의 편의를 위해 분사구의 위치를 나타낸 것이다. 4A is a perspective view illustrating a cleaner in a photoresist coating apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line II-II 'of FIG. 4A. FIG. 4C is a side view of FIG. 4A and illustrates the position of the jet port for convenience of description.

세정기는 상기 슬릿노즐이 안착되는 가이드부(212)와, 상기 가이드부(212)의 양측에 구비되며, 세정액을 분사하는 한 개 이상의 분사구(211)가 구비된 세정부(221), 및 상기 가이드부(212)의 양측에 구비되며, 공기를 분사하는 한 개 이상의 분사구(210)가 구비된 건조부(220)를 포함하여 구성된다. The washing machine includes a guide part 212 on which the slit nozzle is mounted, a cleaning part 221 provided at both sides of the guide part 212, and provided with at least one injection hole 211 for spraying a cleaning liquid, and the guide. It is provided on both sides of the unit 212, and comprises a drying unit 220 having one or more injection holes 210 for injecting air.

상기 슬릿노즐을 세정하기 위한 장치이므로 상기 슬릿노즐이 세정될 수 있도록 안착될 수 있어야 한다. 따라서 상기 가이드부(212)는 슬릿노즐이 안착될 수 있도록 슬릿노즐의 형태와 유사하게 형성되는 것이 바람직하다. 따라서 슬릿노즐의 측면이 경사지게 형성되는 것이 보통이므로 상기 가이드부는 경사진 면을 가지는 것이 바람직하다. 상기 가이드부의 양측에는 슬릿노즐의 양면을 세정하기 위한 세정부(221)와 건조부(220)가 구비된다. Since the slit nozzle is a device for cleaning the slit nozzle, it should be able to be seated so that the slit nozzle can be cleaned. Therefore, the guide portion 212 is preferably formed similar to the shape of the slit nozzle so that the slit nozzle is seated. Therefore, since the side surface of the slit nozzle is generally formed to be inclined, the guide portion preferably has an inclined surface. Both sides of the guide part are provided with a cleaning part 221 and a drying part 220 for cleaning both sides of the slit nozzle.

슬릿노즐의 슬릿에서는 포토레지스트가 분사되어 기판 상에 도포하게 되는데, 세정하기 전에는 슬릿노즐 부분에 도포 과정에서 남은 포토레지스트가 존재하게 된다. 상기 도포과정에서 남은 포토레지스트는 세정액으로 세정하게 된다. 상기 세정액은 슬릿노즐의 유출구 주변에 굳어져 있는 포토레지스트와 같은 이물질을 적셔 용해시키는 등의 방법으로 남아있는 포토레지스트를 제거하게 된다. In the slit of the slit nozzle, the photoresist is sprayed and applied onto the substrate. Before cleaning, the photoresist remaining in the slit nozzle portion during the coating process is present. The remaining photoresist in the coating process is cleaned with a cleaning solution. The cleaning solution removes the remaining photoresist by wetting and dissolving foreign substances such as photoresist solidified around the outlet of the slit nozzle.

상기한 바와 같이 포토레지스트를 세정하기 위해 세정기에는 세정액을 분사할 수 있는 적어도 한 개의 분사구가 구비된 세정부를 포함하게 된다. 상기 세정액은 시너를 포함하여 포토레지스트를 용해시켜 제거할 수 있는 물질을 포함한다.As described above, in order to clean the photoresist, the cleaner includes a cleaning unit having at least one injection hole for spraying the cleaning liquid. The cleaning solution includes a material that can be removed by dissolving the photoresist including the thinner.

상기 세정부(221)에서 세정액에 의해 포토레지스트가 씻겨지면 세정부(221)에서 세정액이 남아있는 슬릿노즐을 건조하는 과정을 거치게 되는데, 이때 공기를 분사하여 슬릿노즐을 건조시킨다. 따라서 본 발명에 의한 세정기는 공기를 분사할 수 있는 적어도 한 개 이상의 분사구(210)를 가진 건조부(220)를 포함한다.When the photoresist is washed by the cleaning liquid in the cleaning part 221, the cleaning part 221 undergoes a process of drying the slit nozzle in which the cleaning liquid remains. At this time, air is sprayed to dry the slit nozzle. Therefore, the scrubber according to the present invention includes a drying unit 220 having at least one or more injection holes 210 capable of injecting air.

상기한 바와 같이 본 발명의 실시예에 의한 도포장치에 있어서 세정기는 상기 세정부(221)와 건조부(220)는 분리되어 형성되는 것이 특징이다. 기존의 발명에 의한 세정기는 세정액이 분사되는 분사구와 공기가 분사되는 분사구가 같은 영역에 위치함으로써 포토레지스트의 세정이 완벽하게 되지 않을 경우 이물질로 남아 불량을 일으키는 원인이 되었다. 본 발명에서는 먼저 슬릿노즐을 세정액으로 세정하고 나서 공기로 건조하는 과정을 거칠 수 있도록 하는 세정부와 건조부를 따로 구성함으로써 이러한 문제점을 해결하려고 한다.As described above, in the coating apparatus according to the embodiment of the present invention, the washing machine is characterized in that the washing unit 221 and the drying unit 220 are formed separately. The washing machine according to the existing invention is located in the same region as the injection port and the injection port is sprayed with the cleaning liquid is a foreign matter when the cleaning of the photoresist is not complete, causing a defect. In the present invention, first, to solve this problem by separately cleaning the slit nozzle with a cleaning solution and then the cleaning unit and the drying unit to be subjected to the drying process with air.

상기 세정기는 슬릿노즐의 유출구가 형성된 길이 방향(이하, 노즐방향)으로 세정부(221)와 건조부(220)가 분리되어 구비된다. 세정기로 슬릿노즐을 세정할 때에는 슬릿노즐을 고정한 상태에서 세정기가 한 방향으로 움직이며 스캔하듯이 슬릿노즐 부분을 훑어가며 세정하게 된다. 따라서 먼저 세정액으로 포토레지스트를 세정할 수 있도록 세정부를 슬릿노즐의 양측에 구비시킨 후 그 다음 영역에 건조부를 위치시켜 슬릿노즐을 건조시키도록 한다.The scrubber is provided with the cleaning part 221 and the drying part 220 separated in the longitudinal direction (hereinafter, the nozzle direction) in which the outlet of the slit nozzle is formed. When cleaning the slit nozzle with the cleaner, the cleaner is moved in one direction while the slit nozzle is fixed. Therefore, first, the cleaning parts are provided on both sides of the slit nozzle so that the photoresist can be cleaned with the cleaning liquid, and then the drying parts are placed in the next area to dry the slit nozzle.

세정기를 세정할 때는 세정기를 한 방향(D1)으로 움직이게 하여 슬릿노즐을 세정액에 의해 세정한다. 그 다음 다시 원위치로 되돌리는 과정(D2)에서 건조시키게 된다. When washing the washing machine, the washing machine is moved in one direction D1 to wash the slit nozzle with the washing liquid. It is then dried in the process of returning to the original position (D2).

상기한 바와 같이 세정기에 세정부와 건조부를 분리하여 구비되는 경우 세정부에서 남은 포토레지스트 이물질이 곧바로 건조되는 일이 줄어드는 효과가 있다. 기존의 발명에서는 세정액의 분사구와 공기 분사구가 같은 영역에 위치함으로써 세정액을 분사한 후 바로 상태에서 공기로 건조시키기 때문에 상기한 바와 같이 포토레지스트가 세정되지 않고 남아 건조되는 경우가 있을 수 있었다. 이러한 남은 포토레지스트 이물질은 슬릿노즐에 남아 이후 도포과정에서 기판에 떨어짐으로써 도포불량을 일으킬 수 있었으나, 상기한 바와 같이 세정액 분사구와 공기 분사구를 따로 배치하여 세정액으로 슬릿노즐을 세정한 다음 위치를 움직여 공기에 의해 건조되도록 하였으므로 상기한 포토레지스트 이물질을 줄일 수 있게 된다.As described above, when the cleaning unit is provided separately from the cleaning unit and the drying unit, there is an effect that the photoresist foreign matter remaining in the cleaning unit is immediately dried. In the existing invention, since the injection hole of the cleaning liquid and the air injection hole are located in the same region, the cleaning liquid may be dried in the air immediately after the injection of the cleaning liquid, so that the photoresist may be left without drying as described above. The remaining photoresist foreign substances remained in the slit nozzle, which could cause coating defects by dropping onto the substrate in the subsequent application process.However, as described above, the cleaning liquid injection hole and the air injection hole were separately disposed to clean the slit nozzle with the cleaning liquid, and then moved to an air position. Since it is to be dried by the photoresist foreign matter can be reduced.

이때 세정용액은 슬릿노즐이 움직이는 동안 복수 개의 분사구에서 연속적으로 분사할 수 있게 되므로 포토레지스트가 세정되지 않고 남아있는 경우도 줄어들게 된다. 결과적으로, 상기 포토레지스트의 이물질이 줄어들게 되면 이후 도포하는 과정에서의 불량이 줄어들게 되므로 이후 액정표시소자의 불량을 줄일 수 있게 된다.At this time, since the cleaning solution can be continuously sprayed from the plurality of injection holes while the slit nozzle is moving, the case where the photoresist remains uncleaned is also reduced. As a result, when the foreign matter of the photoresist is reduced, defects in the subsequent coating process are reduced, thereby reducing the defects of the liquid crystal display device.

본 발명에 의한 포토레지스트 도포장치의 세정부(221)와 건조부(220)는 적어도 한 개 이상의 분사구를 포함하는 것을 특징으로 한다. 도시한 도면에서는 복수 개의 세정부와 건조부를 나타내었으나 필요에 따라 개수를 조절할 수 있다. 또한 세정액을 분사하는 분사구 또는 공기를 분사하는 분사구는 슬릿노즐의 모양이나 크기를 다르게 형성할 수 있다. 즉, 분사구의 형태는 구형뿐만 아니라 슬릿의 형태나 다각형의 형태 등 다양하게 변화시킬 수 있을 것이다. The cleaning unit 221 and the drying unit 220 of the photoresist coating apparatus according to the present invention is characterized in that it comprises at least one injection hole. Although the drawings show a plurality of washing units and drying units, the number may be adjusted as necessary. In addition, the injection hole for injecting the cleaning liquid or the injection hole for injecting air may form a different shape or size of the slit nozzle. That is, the shape of the injection hole may be variously changed, such as the shape of the slit or the shape of the polygon as well as the sphere.

상기 분사구가 복수 개일 때, 도시한 바와 같이 슬릿노즐의 양측면을 효율적으로 세정하기 위해서 각 분사구의 높이를 같거나 다르게 형성할 수 있다. 특히, 각 분사구의 높이를 경사지게 형성하는 경우 슬릿노즐의 양측면의 넓은 부위를 세정할 수 있는 장점이 있으므로 각 분사구의 높이를 변화시켜 차례로 높아지거나 낮아지는 형태로, 경사지게 형성하는 것이 바람직하다. When there are a plurality of injection holes, in order to efficiently clean both sides of the slit nozzle as shown, the height of each injection hole may be the same or different. In particular, when the height of each injection port is formed to be inclined, since there is an advantage of cleaning a wide area on both sides of the slit nozzle, it is preferable to form the inclined form in such a manner that the height of each injection hole is increased or decreased in turn.

본 발명은 상기 세정부(221)와 건조부(220) 사이에는 슬릿노즐과 접촉하여 슬릿노즐에 부착된 이물질을 제거하기 위한 세정부재(230)를 추가로 포함하는 것 특징으로 한다. 상기 세정기의 세정부(221)와 건조부(220)는 슬릿노즐과 접촉하여 세정하는 것이 아니라 슬릿노즐과 소정의 거리에서 이격되어 슬릿노즐에 세정액과 공기를 분사하여 세정한다. 따라서 슬릿노즐의 유출구 근처에 부착된 이물질을 상기한 세정방식으로 제거하지 못하는 경우가 생길 수 있다. 따라서 포토레지스트가 분사되는 슬릿노즐 부분에 부착된 이물질을 접촉하여 제거하기 위한 세정부재(230)를 추가로 따로 형성하여 구비할 수 있다. 이때, 상기 세정부재(230)는 고무 또는 테플론으로 형성할 수 있으며, 슬릿노즐이 직접적으로 접촉할 수 있도록 가이드부의 하단, 즉 슬릿노즐이 세정기에 안착할 때 유출구가 위치하는 영역에 구비할 수 있다. The present invention is characterized in that it further comprises a cleaning member 230 between the cleaning unit 221 and the drying unit 220 to contact the slit nozzle to remove the foreign matter attached to the slit nozzle. The cleaning unit 221 and the drying unit 220 of the cleaner do not clean by contacting with the slit nozzle, but are separated from the slit nozzle at a predetermined distance and sprayed with a cleaning liquid and air to the slit nozzle. Therefore, the foreign matter adhering to the outlet of the slit nozzle may not be able to be removed by the above cleaning method. Therefore, the cleaning member 230 for contacting and removing the foreign matter attached to the slit nozzle portion in which the photoresist is injected may be additionally formed. In this case, the cleaning member 230 may be formed of rubber or Teflon, and may be provided in the region where the outlet is located when the slit nozzle is seated in the cleaner so that the slit nozzle is in direct contact. .

본 발명의 실시예에 의한 세정기를 이용하여 슬릿노즐을 세정하기 위해서는 먼저 세정하고자 하는 슬릿노즐을 가이드부에 위치시킨다. 그 다음 세정기를 어느 한 방향(D1)으로 움직이면서 세정액을 분사하여 슬릿노즐에 부착된 이물질을 세정액으로 적셔 떨어지게 한다. 슬릿노즐의 끝까지 세정기가 움직이면서 세정액의 분 사가 끝나면 원 위치로 돌아가기 위한 방향(D2)으로 세정기를 다시 이동시키게 되며 이와 동시에 공기를 분사하여 슬릿노즐에 남은 세정액을 건조시키게 된다.In order to clean the slit nozzle using the cleaner according to the embodiment of the present invention, first, the slit nozzle to be cleaned is placed in the guide part. Then, the cleaning liquid is sprayed while moving the cleaner in one direction (D1), and the foreign matter attached to the slit nozzle is wetted with the cleaning liquid to fall off. As the cleaner moves to the end of the slit nozzle, when the cleaning solution is sprayed, the cleaner is moved again in the direction (D2) to return to the original position. At the same time, air is blown to dry the cleaning solution remaining in the slit nozzle.

이때 슬릿노즐의 끝단은 세정부재에 직접적으로 접촉하게 하여 포토레지스트 유출구에 부착된 이물질을 직접적으로 떼어낼 수 있다. At this time, the end of the slit nozzle is in direct contact with the cleaning member to directly remove the foreign matter attached to the photoresist outlet.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 사상의 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당연하다. 예를 들어 슬릿노즐을 세정하고자 할 때 상기 실시예에서는 슬릿노즐은 고정된 상태로 세정기를 이동시켜 슬릿노즐을 세정하였으나 슬릿노즐이 고정된 상태에서 슬릿노즐을 이동시키는 것도 가능할 것이다. 또한 상기 실시예에서는 분사구의 형태를 구형 구멍으로 표현하였으나 분사구의 모양은 타원의 형태나 다각형의 형태 또는 슬릿의 형태로 형성하는 등 다양하게 변화시킬 수 있을 것이다. 또한 상기 실시예에서는 분사를 세정액과 공기의 경우를 예로 들었으나 필요한 경우 세정에 필요한 다른 액체나 기체 분사구를 추가로 구비할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the spirit of the present invention. For example, when the slit nozzle is to be cleaned, in the above embodiment, the slit nozzle is cleaned by moving the cleaner in a fixed state, but the slit nozzle may be moved while the slit nozzle is fixed. In addition, in the above embodiment, the shape of the injection hole is represented by a spherical hole, but the shape of the injection hole may be variously changed, such as forming an ellipse, a polygonal shape, or a slit. In addition, in the above embodiment, the injection is given in the case of the cleaning liquid and air, but if necessary, it may be further provided with another liquid or gas injection port required for cleaning.

따라서, 본 발명의 실시예는 상기한 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 권리 범위는 상세한 설명에 기재된 내용이 아니라 청구 범위에 기재된 범위에 의해 정해져야 할 것이다.Accordingly, embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and the scope of the present invention should be defined by the scope of the claims rather than the contents of the detailed description.

본 발명은 포토레지스트 도포장치의 세정기에 있어서, 세정부와 건조부를 분리하여 형성함으로써 슬릿노즐에 세정되지 않는 이물질 또는 불순물을 남기지 않게 하여 포토레지스트의 도포할 때 기판에 형성되는 결함을 줄일 수 있다. 따라서, 이물질 또는 불순물을 제거하여 포토레지스트를 도포할 때 균일하게 도포할 수 있게 된다.According to the present invention, in the washing machine of the photoresist coating apparatus, by forming the washing unit and the drying unit separately, defects formed on the substrate when the photoresist is applied can be reduced by not leaving foreign substances or impurities which are not cleaned in the slit nozzle. Therefore, it is possible to uniformly apply when removing the foreign matter or impurities to apply the photoresist.

Claims (9)

기판을 지지하기 위한 지지부재;A support member for supporting the substrate; 포토레지스트가 유출되는 유출구가 형성된 슬릿노즐을 구비하며 상기 기판 상에 포토레지스트를 코팅하기 위한 슬릿코터; 및A slit coater having a slit nozzle having an outlet through which the photoresist flows out and for coating the photoresist on the substrate; And 상기 슬릿노즐을 세정하기 위한 세정기를 포함하며,A cleaner for cleaning the slit nozzle, 상기 세정기는,The washing machine, 상기 슬릿노즐이 안착되는 가이드부와,A guide part on which the slit nozzle is seated; 상기 가이드부의 양측에 구비되며, 세정액을 분사하는 한 개 이상의 분사구가 구비된 세정부, 및 Cleaning parts provided on both sides of the guide part and provided with one or more injection holes for spraying the cleaning solution; 상기 가이드부의 양측에 구비되며, 공기를 분사하는 한 개 이상의 분사구가 구비된 건조부를 포함하여 구성되며,It is provided on both sides of the guide portion, and comprises a drying unit having one or more injection holes for injecting air, 상기 세정부와 건조부는 분리되어 형성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.The photoresist coating apparatus, characterized in that the cleaning portion and the drying portion is formed separately. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 세정부와 건조부 사이에 위치하며, 슬릿노즐과 접촉하여 슬릿노즐에 부착된 이물질을 제거하기 위한 세정부재를 추가로 포함하는 것 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.Located between the cleaning unit and the drying unit, in contact with the slit nozzle further comprises a cleaning member for removing the foreign matter attached to the slit nozzle. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 세정부재는 고무 또는 테플론으로 형성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.The cleaning member is a photoresist coating apparatus, characterized in that formed of rubber or Teflon. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 세정액은 시너인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.The cleaning liquid is a photoresist coating apparatus, characterized in that the thinner. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 세정기에 있어서, 복수 개의 분사구를 가질 때, 각 분사구의 높이가 다른 위치에 형성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.In the washer, when having a plurality of injection holes, the height of each injection hole is formed in a different position. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 분사구의 높이는 차례로 높아지거나 낮아지는 형태로 배열되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 코팅장치.The height of the injection port is a photoresist coating apparatus, characterized in that arranged in the form of increasing or decreasing in turn. 슬릿노즐을 세정기의 가이드 부에 안착시키는 단계;Seating the slit nozzle in the guide portion of the cleaner; 상기 세정기를 한 방향으로 이동시키는 동시에 세정부의 분사구에서 세정액을 분사하는 단계; 및Moving the cleaner in one direction and simultaneously spraying a cleaning liquid from a spray hole of the cleaning unit; And 상기 세정기를 원래의 위치로 이동시키는 동시에 건조부의 분사구에서 공기를 분사하는 단계로 이루어지는 슬릿코터의 슬릿노즐 세정방법.A method of cleaning a slit nozzle of a slit coater comprising moving the cleaner to its original position and simultaneously injecting air from an injection hole of a drying unit. 제8항에 있어서,9. The method of claim 8, 상기 세정기를 이동시키는 단계는 슬릿노즐을 세정부재에 접촉시키면서 이동시키는 것을 특징으로 하는 슬릿코터의 슬릿노즐 세정방법.The slit nozzle cleaning method of the slit coater, characterized in that for moving the slit nozzle while contacting the cleaning member.
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