KR101227444B1 - 고온 가스의 냉각 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 고온 가스 매체의 냉각 장치로서, 여러 개의 관 다발이 냉각 매체실 내에 배치되어 있고, 사용시 액상 냉각 매체가 관 다발 주위를 흐르는 용기를 포함하며; (i) 적어도 상기 관의 상류 단부 또는 상류 단부 근방이 열차폐막 내에 설치되어 있고, (ii) 상기 관은, 냉각 매체실로부터 떨어져 있으면서 열차폐막과 지지판 사이에 있는 용기 내의 전면 공간을 결정하게 되는 열차폐막으로부터 거리를 두고설치된 지지판을 관통하여 더 연장되며, (iii) 액상 냉매를 상기 전면 공간에 첨가하는 수단이 있고, (iv) 지지판의 개구는 상기 관보다 더 크고, 관과 지지판 사이의 환형 공간을 규정하며, 이 환형 공간은 전면 공간을 냉각 매체실과 유동적으로 연결시켜, 사용시 액상 냉매가 전면 공간으로부터 냉각 매체실에 이르기까지 상기 관 내의 고온의 가스 매체와 병류로 흐를 수 있게 되며, (v) 스커트형 연장부는 지지판에 고정된 전면 공간 내의 관 주변에 위치하고 있고, 열차폐막에서 개구를 갖는, 고온 가스 매체의 냉각 장치에 관한 것이다.

고온 가스의 냉각 장치, 열교환기.

Description

고온 가스의 냉각 장치 {APPARATUS FOR COOLING A HOT GAS}

본 발명은 액상 냉각 매체(liquid coolant medium) 를 이용한 간접적 열교환에 의한 고온 가스 매체의 냉각 장치에 관한 것이다.

그와 같은 열교환 장치는, 많은 산업 분야, 예를 들면 석유 산업에 있어서, 천연가스, 석유, 석탄 등과 같은 탄소(탄화수소) 함유 연료의 부분 산화를 위한 수소 첨가 분해기 및 반응기에서 얻어진 생성물의 냉각용으로 대규모로 사용된다.

고온 가스를 관을 통해 통과시키고 관 외부와 냉각 매체를 접촉시킴으로서 전형적으로 열교환이 발생한다. 만약 냉각 매체가 물인 경우, 장치 내에서 열교환 처리의 부산물로서 증기가 발생하는 이점이 있다.

냉각 목적으로 고온 가스가 외부의 냉각 매체로 냉각된 관을 통과하면, 관 벽은 고온 가스로부터 관 금속으로의 열전달에 의해 고온이 되고, 이후 냉각 매체로 그 열은 전달되어 나간다.

냉각되는 고온 가스 매체의 예로는, 탄소(탄화수소) 함유 연료의 부분 산화에 의한 고온 합성 가스가 있으며, 일반적으로 가스화 장치 옆에 위치한 열교환기 내에서 냉각되어 고압 증기를 생성한다. 중요 영역은, 고온의 합성 가스가 열교환 장치의 관으로 들어가는 열교환기의 가스 유입구이다. 유입구 영역의 벽두께는 최소화될 수 있지만, 압력과 열적 부하에 근거한 기계적 무결성(integrity)을 확신하기에 충분한 정도로는 두꺼워야 한다. 유입구 영역에서의 가스 속도는 파울링(fouling) 을 방지할 정도로 충분히 높아야 하지만(약 12 m/s), 반면 충분히 낮은 가스측 열전달 계수를 확보하기 위해서는 가스 속도는 충분히 낮아야 한다. 특히, 파울링과 속도 사이의 최적값을 얻는 것이 바람직하다.

US-A-3610329 에서는 가스화 처리로부터 발생하는 고온 가스의 냉각을 위한 열교환기가 설명되어 있다. 수직으로 위치한 유입 구역은 지지판 및 고온 가스가 흘러나오는 공간 사이에 위치한 벽돌들에 의하여 과도한 열로부터 보호된다. 고온 가스가 통과해 흐르는 관들은 벽돌들을 통과해 가로지른다. US-A-3610329 의 도 4 에 나타난 실시형태에서는, 관의 유입 구역은 저온의 냉매를 사용하여 냉각된다. 사용된 냉매는 분리된 도관을 통해 유입 구역 밖으로 배출된다. 이러한 구성의 단점은 사용시에 무너져 내릴 수도 있는 벽돌을 사용하는 점이다.

벽돌을 사용하지 않아도 되는 개선된 구성은, US-A-5671807 및 US-A-4245696 에 설명되어 있다. 이 공보들에서는, 본 명세서 내에서는 열차폐막(thermal shield) 으로 부르기도 하는 부가적 관 판 및 지지판 내에 관의 상류 단부가 설치되어 있는 그러한 열전달 장치의 유입 구역을 설명하고 있다. 열차폐막과 지지판 사이에는 냉각 매체가 추가되는 공간이 존재한다. 이 냉각 매체는 열차폐막 및 관 외부를 냉각시키게 되며, 지지판을 지나가면 관 주위의 환형 공간을 통하여 상기 공간으로부터 배출된다. 상기 환형 공간에서 냉각 매체는 관 내를 흐르는 고온 가스와 병류(co-current) 로 흐른다.

EP-A-290812 에서는 지지판 내에 관의 상류 단부가 설치되어 있고 유입 구역을 갖는 열교환 용기가 설명되어 있다. 유입 구역 냉각에 사용된 냉매는 관의 전체 길이를 둘러싸고 있는 제 2 의 관을 통하여 관의 하류 단부를 연속적으로 지나간다. 이러한 자켓 형태의 외부 관들은, 관을 둘러싸는 공간으로 냉매가 배출되도록 하고, 단일 유출 개구를 통해 용기 밖으로 배출되도록 하는 개구를 가진다.

EP-A-774103 에서는 열차폐막과 지지판 내에 관의 상류 단부가 설치되어 있고, 유입 구역을 갖는 열교환 장치가 설명되어 있다. 열차폐막과 지지판 사이에는 공간이 존재한다. 상기 참조문헌들에서처럼, 관 주위에는 냉각 매체가 지지판을 통과하는 환형 공간이 존재한다. 상기 환형 공간으로 냉각 매체가 추가되어, 관 내를 흐르는 고온 가스에 역류하는 방향으로 지지판을 지나가게 된다. 또한, 냉각 매체를 관 외부를 따라 열차폐막 및 지지판 사이의 공간으로 안내하는 스커트(skirt) 가 존재한다. 냉매는 열차폐막 부근의 위치에서 배출되고, 개구를 통하여 지지판 내에서 메인 냉각실 쪽으로 배출된다.

상기 종래 기술의 냉각 장치들의 단점은 관의 상류 단부 및 열차폐막의 냉각이 충분하지 못하다는 점이다. 본 발명은 상기 단점의 극복을 목표로 한 구성에 관한 것이다.

좀 더 개선된 장치로서 다음의 장치가 제공된다. 고온 가스 매체의 냉각 장치 (1) 로서, 여러 개의 관 (4) 으로 이루어진 다발 (3) 이 냉각 매체실(coolant medium compartment) (5) 내에 배치되어 있고, 사용시 액상 냉각 매체 (6) 이 관 다발 (3) 주위를 흐르는 용기 (2) 를 포함하고;

(i) 적어도 상기 관 (4) 의 상류 단부 또는 상류 단부 근방이 열차폐막 (7) 내에 설치되어 있고,

(ii) 상기 관 (4) 은, 냉각 매체실 (5) 로부터 떨어져 있으면서 열차폐막 (7) 과 지지판 (8) 사이에 있는 용기 (2) 내의 전면 공간 (9) 을 결정하게 되는 열차폐막 (7) 으로부터 거리를 두고 설치된 지지판 (8) 을 관통하여 더 연장되며,

(iii) 액상 매체를 상기 전면 공간 (9) 에 첨가하는 수단 (10) 이 있고,

(iv) 지지판 (8) 의 개구 (11) 는 상기 관 (4) 보다 크고, 관과 지지판 사이의 환형 공간 (12) 을 규정하며, 환형 공간 (12) 은 전면 공간 (9) 을 냉각 매체실 (5) 과 유동적으로(fluidly) 연결시켜, 사용시 액상 냉매가 전면 공간 (9) 으로부터 냉각 매체실 (5) 에 이르기까지 상기 관 (4) 내의 고온의 가스 매체와 병류로 흐를 수 있게 되며,

(v) 스커트형 연장부 (13) 는 지지판 (8) 에 고정된 전면 공간 (9) 내의 관 (4) 주변에 위치하고 있고, 열차폐막 (7) 에서 개구 (14) 를 가지며, 열차폐막 (7) 에 있는 관의 유입 개구는 원뿔 형태이고, 스커트형 연장부 (13) 는 원뿔 부분의 직경이 증가하게 되는 관내의 지점부터 측정했을 때, 원뿔 형상의 유입 부분을 따른 길이 (d) 의 30% 내지 70% 만큼 연장되고, 길이 (d) 는 관의 면을 따라 가스 유동 방향으로 측정했을 때 원뿔 부분의 총 길이가 된다.

관 상류 단부를 따라 특정 스커트의 조합 및 상기 냉각 매체의 병류 유동이 열교환기 유입 구역의 개선된 냉각을 제공해 준다는 것이 발견되었다.

도 1 은 반응기에 연결된 본 발명의 열교환기의 개략적인 단면도.

도 2 는 본 발명의 열교환기의 냉각되는 전면의 상세도.

도 3 은 본 발명의 열교환기의 또 다른 실시형태의 냉각되는 전면의 상세도.

도 1 은 본 발명에 따른 고온의 가스 매체의 냉각을 위한 열교환 장치 (1) 의 일부를 도시하고 있다. 또한, 장치 (1) 에 의해 적절히 냉각된 고온 합성 가스가 생성되는 부분 산화 또는 가스화 반응기 (20) 의 하단부가 나타나 있다. 장치 (1) 는 여러 개의 관 (4) 으로 이루어진 다발 (3) 이 냉각 매체실 내에 배치되어 있는 용기 (2) 를 포함한다. 장치 내의 관 수는 4 개 이상이 적절하다. 관 수의 최대값은 장치당 요구되는 냉각 용량에 의해 결정되며, 최대 24개 까지 가능하고, 6 개 내지 20 개가 적절하다. 관 다발은 똑바로 평행하게 위치한 관 세트로서 배열될 수 있고, 예를 들면 관의 가스 출구 단부에서는 열교환 장치의 통상의 가스 출구에 유동적으로 연결된 제 2 의 관 판 차폐막 내에 배열된다. 공간 절약의 이유 때문에 도 1 에 나타난 바와 같이 나선형으로 감긴 관이 적용되는 것이 유리하다. 도 1 은 또한 관 (4) 의 가스 출구 단부 (17) 를 나타내고 있다.

사용시 액상 냉각 매체 (6) 는 관 다발 (3) 주변에 자유롭게 흐른다. 냉각 매체로는 물이 적절하다. 사용시에 물은 증발하여 증기를 만든다. 상세한 설명의 나머지 부분에서도 냉각 매체는 물을 의미한다. 이하의 실시 형태에서 물 대신 다른 냉각 매체 또한 사용될 수 있음을 이해해야 한다. 본 발명에 따른 장치에 있어서 장차 소개될, 용기 (2) 상단에서 증기를 배출하는 수단 및 새로운 냉각 매체, 바람직하게는 물을 냉각 매체실 (5) 로 직접 추가하는 선택적 수단은 도 1 에 나타나 있지는 않다. 하지만, 실질적으로 모든 물, 적절하게는 90 wt% 이상, 바람직하게는 100% 의 새로운 냉각수가 수단 (10), 전면 공간 (9) 및 환형 공간 (12) 을 통하여 냉각 매체실 (5) 로 공급된다.

도 1 에서, 상기 관 (4) 은 그 상류 단부가 열차폐막 (7) 내에 설치된 것으로 나타나 있다. 고온 가스 유동 방향의 하류에는, 상기 관 (4) 이 지지판 (8) 을 통과하여 더 연장된다. 열차폐막 (7) 은 지지판 (8) 으로부터 거리를 두고 설치되어, 용기 (2) 내의 전술한 열차폐막 (7) 과 전술한 지지판 (8) 사이의 전면 공간 (9) 을 결정한다. 지지판은 전면 공간 (9) 을 냉각 매체실 (5) 과 분리한다. 이러한 전면 공간은, 상기 수단 (10) 에 의해 추가된 물이, 열차폐막 및 관의 상류 단부를 충분히 냉각시킬 수 있을 만큼 충분히 커야 한다. 하지만 이 공간 내에서 물이 증발하는 것을 피하기 위해서는 이 공간이 너무 커서도 안된다. 상기 참조된 US-A-5671807, US-A-4245696 및 EP-A-774103 에 적절한 규모의 예가 공개되어 있다.

열차폐막 및 지지판은 도 1 에 나타난 바와 같이 수직으로 위치하는 것이 바람직하다. 이러한 위치는 가스화 반응기 (20) 와의 연결을 가능하게 하고 열교환 장치 (1) 를 보다 효율적이게 한다. 내화성 라이닝 처리를 필요로 하는 표면 영역이 최소화됨으로써 효율적이게 된다.

이제 도 1 의 유입 구역의 좀 더 상세한 모습을 나타내는 도 2 를 참조하기로 한다. 수단 (10) 에 의하여 물은 전면 공간 (9) 에 추가된다. 수단 (10) 은, 용기 외부의 물 저장소에서부터 지지판 (8) 을 통해 전면 공간 (9) 에 다수의 유출 개구를 갖는 냉각 매체 분배기 (19) 로 흘러가는 물의 수송에 대한 배관인 것이 바람직하다. 유출 개구 (18) 는 전술한 지지판의 최적 냉각을 달성하기 위해서, 열차폐막 쪽으로의 바람직한 유출 유동 방향을 가진 다양한 관 유입 개구 사이에 분포되는 것이 바람직하다. 만약 사용시 수단 (10) 에 의해 추가된 물의 양이 메인 냉각 매체실 (5) 내부에서 증발한 물의 양을 보상하기에 충분하지 않은 경우에는, 메인 냉각실 (5) 에 물을 추가하기 위한 추가 수단이 적절하게 존재하는 것이 적절하다.

도 2 에서는 지지판 (8) 내의 개구 (11) 가, 관 및 지지판 사이의 환형 공간 (12) 을 규정하는 관 (4) 보다 더 크게 나타나 있다. 이 환형 공간 (12) 을 통하여 액상 냉매는, 관 (4) 내에서 전면 공간 (9) 으로부터 냉각 매체실 (5) 까지, 고온의 가스 매체와 병류로 흐를 수 있다. EP-A-774103 에 공개된 것처럼 냉매가 역류로 흐를 때보다, 열차폐막 (7) 및 관 (4) 의 유입 단부의 좀 더 효과적인 냉각을 얻을 수 있기 때문에, 냉매의 병류 유동이 유리하다. 이러한 중요한 부분의 냉각은 스커트형 연장부 (13) 를 전면 공간 (9)의 관 (4) 주변에 위치시킴으로써 좀 더 향상된다. 스커트 (13) 는 지지판 (8) 에 고정된다. 스커트 연장부는 냉각 매체의 유입을 위한 개구 (14) 를 가진다. 개구 (14) 는 도 2 에 나타난 바와 같이 완전한 원형 개구인 것이 바람직하다. 상기 중요한 부분의 최적화된 냉각을 달성하기 위하여, 개구 (14) 는 도 1 에 나타난 바와 같이 열차폐막 (7) 에 있어야 한다. 스커트는 예를 들어 도 2 에 나타난 바와 같은 슬리브처럼 회전 대칭인 것이 유리하다.

열차폐막 (7) 에 있는 관 (4) 의 유입 개구는 도 1 및 도 2 에 나타난 바와 같이 원뿔 형태인 것이 바람직하다. 이는 열차폐막 (7) 을 통과할 때의 관 (4) 의 내부 개구가, 지지판 (8) 을 통과할 때의 관 (4) 의 개구보다 더 크다는 것을 의미한다. 상기 관의 원뿔대(frusto conical) 부분의 관 (4) 내부 유입 면과 관의 축선 사이의 각 α 는 30°보다 작은 것이 바람직하고, 5° 내지 25°인 것이 좀 더 바람직하며, 10° 내지 25°가 가장 바람직하다. 관 (4) 내부의 원뿔형 면과 열차폐막의 면 사이의 코너는, 그 지점을 통과하는 고온 가스의 난류 유동을 피하기 위하여, 매끄러운 것이 바람직하다. 이러한 구성은 상기 온도가 과도해질 수 있는 장치내의 지점에서, 국소적인 고온의 금속면을 더욱 피할 수 있게 해준다는 것을 알게 되었다. 스커트형 연장부 (13) 의 형상은 관 (4) 의 유입 단부의 형상과 평행하게 되는 것이 바람직하다. 따라서 스커트형 연장부의 형상은 결국 도 2 에 나타난 바와 같이 원뿔대 부분에 고정된 관형부로 구성되는 것이 바람직하다고 할 것이다. 좀 더 바람직하게는, 원뿔형 유입구 길이가 전면 공간의 깊이와 실질적으로 동일해질 수 있다. 그러면 스커트형 연장부 (13) 는 단지 원뿔대 형상만을 가지게 된다. 더욱 더 바람직하게는, 스커트는 이 스커트의 직경이 증가하기 시작하는 지점에서부터 길이 (d1) 만큼 연장되어 있다. 이 길이 (d1) 는, 원뿔 부분의 직경이 증가하게 되는 관 내의 지점으로부터 측정했을 때, 원뿔형 유입 부분을 따른 길이 (d) 의 30% 내지 70% 의 값이다. 길이 (d) 는, 관의 면을 따라 가스 유동 방향으로 측정했을 때, 원뿔 부분의 총 길이이다. 그러한 바람직한 구성 및 더욱 바람직한 구성이 열차폐막 (7) 및 관 (4) 의 유입 단부에 대한 최적의 냉각 효과를 얻는다는 것은 그동안 컴퓨터 시뮬레이션으로 증명되었다.

도 2 에서는 또한 지지판 (8) 내의 관 (4) 을 고정하기 위한 스페이서링(spacer ring) (15) 을 볼 수 있다. 스페이서링 (15) 에는 개구 (16) 가 형성되어, 전면 공간으로부터 흐르는 물이 이 개구 (16) 를 통해 냉각 매체실 (5) 로 흐를 수 있게 된다. 전술한 스페이서링 (15) 은 US-A-5671807 및 US-A-4245696 에 도시된 바와 같이 환형 공간 (12) 내의 어떤 지점에도 위치할 수 있다. 스페이서링 (15) 은 냉각 매체실 (5) 과 마주하는 지지판 (8) 의 측면의 개구 (11) 내에 위치하는 것이 바람직하다. 이 지점은, 과열되는 경우에, 도면에 나타나 있지는 않지만 예를 들어 열 사이펀 시스템(thermo siphon system) 을 통하여 전면 공간 (9) 으로 자유로이 빠져나갈 수 있어, 환형 공간 (12) 내의 증기의 형성을 피할 수 있기 때문에 유리하다. 이것은 US-A-5671807 의 구성의 단점으로서, 환형 공간 내에 증기가 형성될 수 있으며, 이는 증기가 전면 공간으로 쉽게 흐를 수 없고, 단순화를 위해 도면에 나타나 있지는 않지만 해제 밸브(relieve valve) 를 통하여 용기 밖으로 빠져나올 수 없기 때문이다. 실질적으로 관 (4) 의 모든 외부 영역은 냉각 매체실 (5) 의 물과 직접적으로 접촉하고 있음이 명백하다. 실질적으로 모든 외부영역이라 함은 관 (4) 의 외부 표면 영역의 적어도 90% 이상을 의미한다.

도 3 은 도 2 와 유사하다. 도 3 의 바람직한 실시 형태에서, 스커트는 지지판 (8) 을 관통하고 있으므로, 도 2 에서와 같은 부가적인 지지 스페이서링이 필요없게 된다. 환형 공간 (12) 으로부터 냉각 매체실 (5) 로 물이 흐르게 하기 위한 하나 이상의 개구 (22) 를 제외하고는, 스커트형 연장부 (20) 는 냉각 매체실 쪽 단부가 닫혀 있다. 도 3 에 도시된 바와 같이, 스커트형 연장부 (20) 와 지지판 (8) 사이 및 스커트형 연장부 (20) 와 관 (4) 사이에, 용접부 (21) 에 의하여 이러한 스커트형 연장부 (20) 는 관 (4) 을 지지판 (8) 에 고정시키는 것이 바람직하다.

본 발명은 또한 700 ℃ 내지 1600 ℃ 의 온도, 바람직하게는 1000 ℃ 내지 1600 ℃ 의 온도를 갖는 고온 가스를 냉각 매체로서 물을 사용해 냉각하여 15 MPa 에 이르는 압력의 증기를 만들어내기 위한 상기 냉각 장치의 사용에 관한 것이다.

Claims (10)

1. 고온 가스 매체의 냉각 장치 (1) 로서, 여러 개의 관 (4) 으로 이루어진 다발 (3) 이 냉각 매체실 (5) 내에 배치되어 있고, 사용시 액상 냉각 매체 (6) 가 관 다발 (3) 주위를 흐르는 용기 (2) 를 포함하고;

   (i) 적어도 상기 관 (4) 의 상류 단부 또는 상류 단부 근방이 열차폐막 (7) 내에 설치되어 있고,

   (ii) 상기 관 (4) 은, 냉각 매체실 (5) 로부터 떨어져 있으면서 열차폐막 (7) 과 지지판 (8) 사이에 있는 용기 (2) 내의 전면 공간 (9) 을 결정하게 되는 열차폐막 (7) 으로부터 거리를 두고 설치된 지지판 (8) 을 관통하여 더 연장되며,

   (iii) 액상 냉매를 상기 전면 공간 (9) 에 첨가하는 수단 (10) 이 있고,

   (iv) 지지판 (8) 의 개구 (11) 는 상기 관 (4) 보다 더 크고, 관과 지지판 사이의 환형 공간 (12) 을 규정하며, 이 환형 공간 (12) 은 전면 공간 (9) 을 냉각 매체실 (5) 과 유동적으로 연결시켜, 사용시 액상 냉매가 전면 공간 (9) 으로부터 냉각 매체실 (5) 에 이르기까지 상기 관 (4) 내의 고온의 가스 매체와 병류로 흐를 수 있게 되며,

   (v) 스커트형 연장부 (13) 는 지지판 (8) 에 고정된 전면 공간 (9) 내의 관 (4) 주변에 위치하고 있고, 개구 (14) 를 가지며, 열차폐막 (7) 에 있는 관의 유입 개구는 원뿔 형태이고, 스커트형 연장부 (13) 는 원뿔 부분의 직경이 증가하게 되는 관내의 지점부터 측정했을 때, 원뿔 형상의 유입 부분을 따른 길이 (d) 의 30% 내지 70% 만큼 연장되고, 길이 (d) 는 관의 면을 따라 가스 유동 방향으로 측정했을 때 원뿔 부분의 총 길이가 되는 고온 가스 매체의 냉각 장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 관 (4) 은 스페이서링 (15) 에 의해 상기 지지판 (8) 에 고정되고, 상기 스페이서링 (15) 에는 환형 공간 (12) 을 냉각 매체실 (5) 과 유동적으로 연결시키는 개구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 고온 가스 매체의 냉각 장치.
3. 제 2 항에 있어서, 상기 스페이서링 (15) 은 상기 냉각 매체실 (5) 과 마주하는 상기 지지판 (8) 의 측면의 개구 (11) 내에 위치하는 것을 특징으로 하는 고온 가스 매체의 냉각 장치.
4. 제 1 항에 있어서, 상기 스커트형 연장부는, 냉각 매체가 환형 공간 (12) 으로부터 상기 냉각 매체실 (5) 로 흐를 수 있도록 하는 하나 이상의 개구 (22) 를 제외하고는, 냉각 매체실 쪽 단부가 닫혀 있는 것을 특징으로 하는 고온 가스 매체의 냉각 장치.
5. 제 4 항에 있어서, 상기 스커트형 연장부는, 그 스커트형 연장부 (20) 와 상기 지지판 (8) 사이 및 스커트형 연장부와 상기 관 (4) 사이에, 용접부 (21) 에 의하여 관 (4) 을 지지판 (8) 에 고정시키는 것을 특징으로 하는 고온 가스 매체의 냉각 장치.
6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 관 (4) 의 원뿔대 부분의 관의 내부 유입 면과 관 (4) 의 축선 사이의 각 (α) 은 30°미만인 것을 특징으로 하는 고온 가스 매체의 냉각 장치.
7. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 관 (4) 의 개수는 6 개 이상 24 개 이하인 것을 특징으로 하는 고온 가스 매체의 냉각 장치.
8. 700 ℃ 내지 1600 ℃ 의 온도를 갖는 고온 가스를 냉각 매체로서 물을 사용하여 15 MPa 에 이르는 압력의 증기를 만들기 위한, 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 고온 가스 매체의 냉각 장치의 사용 방법.
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